JP2003140369A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JP2003140369A JP2002240476A JP2002240476A JP2003140369A JP 2003140369 A JP2003140369 A JP 2003140369A JP 2002240476 A JP2002240476 A JP 2002240476A JP 2002240476 A JP2002240476 A JP 2002240476A JP 2003140369 A JP2003140369 A JP 2003140369A
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Chiyoko Sato
ちよ子 佐藤
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章照 藤井
Mamoru Rin
護 臨
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 十分な機械的強度を有し、非ハロゲン系溶媒
にも高溶解性及び溶液安定性を有し、電気的特性、特に
応答性に優れた結着樹脂を含有する感光層を有する電子
写真感光体を提供する。 【解決手段】 導電性基体上に少なくとも感光層を有す
る電子写真感光体において、該感光層の結着樹脂が、下
記一般式(1)で表されるポリアリレート構造を有する
ことを特徴とする電子写真感光体。 一般式(1)中、Xは少なくとも二つの芳香環を有する
特定の2価の基を表す。Aは2価の有機基を表す。ただ
しAはXと同一ではない。また、mおよびnは0<m/
(m+n)<1である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体に関
する。詳しくは、電気的応答性に優れ、且つ、塗布液調
整時の溶解性及び塗布溶液の保存安定性に良好な電子写
真感光体用樹脂を含有する電子写真感光体に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】電子写真技術は、即時性、高品質の画像
が得られることなどから、近年では複写機の分野にとど
まらず、各種プリンターの分野でも広く使われ応用され
てきている。電子写真技術の中核となる感光体について
は、その光導電材料として従来からのセレニウム、ヒ素
−セレニウム合金、硫化カドミウム、酸化亜鉛といった
無機系の光導電体から、最近では、無公害で成膜が容
易、製造が容易である等の利点を有する有機系の光導電
材料を使用した感光体が開発されている。
【0003】有機感光体としては、光導電性微粉末をバ
インダー樹脂中に分散させたいわゆる分散型感光体、電
荷発生層及び電荷移動層を積層した積層型感光体が知ら
れている。積層型感光体は、それぞれ効率の高い電荷発
生物質、及び電荷移動物質を組み合わせることにより高
感度な感光体が得られること、材料選択範囲が広く安全
性の高い感光体が得られること、また塗布の生産性が高
く比較的コスト面でも有利なことから感光体の主流にな
る可能性も高く鋭意開発され実用化されている。
【0004】電子写真感光体は、電子写真プロセスすな
わち帯電、露光、現像、転写、クリーニング、除電等の
サイクルで繰り返し使用されるためその間様々なストレ
スを受け劣化する。この様な劣化としては例えば帯電器
として普通用いられるコロナ帯電器から発生する強酸化
性のオゾンやNOxが感光層に化学的なダメ−ジを与え
たり、像露光で生成したキャリア−(電流)が感光層内
を流れることや除電光、外部からの光によって感光層組
成物が分解するなどによる化学的、電気的劣化がある。
またこれとは別の劣化としてクリ−ニングブレ−ド、磁
気ブラシなどの摺擦や現像剤、紙との接触等による感光
層表面の摩耗や傷の発生、膜の剥がれといった機械的劣
化がある。特にこの様な感光層表面に生じる損傷はコピ
−画像上に現れやすく、直接画像品質を損うため感光体
の寿命を制限する大きな要因となっている。すなわち高
寿命の感光体を開発するためには電気的、化学的耐久性
を高めると同時に機械的強度を高めることも必須条件で
ある。
【0005】一般に積層型感光体の場合このような負荷
を受けるのは電荷移動層である。電荷移動層は通常バイ
ンダー樹脂と電荷移動物質からなっており、実質的に強
度を決めるのはバインダー樹脂であるが、電荷移動物質
のドープ量が相当多いため十分な機械強度を持たせるに
は至っていない。また、高速印刷の要求の高まりから、
より高速の電子写真プロセス対応の材料が求められてい
る。この場合、感光体には高感度、高寿命であることの
他に、露光されてから現像されるまでの時間が短くなる
ために応答性がよいことも必要となる。感光体の応答性
は電荷移動層、なかでも電荷移動物質により支配される
がバインダー樹脂によっても大きく変わることが知られ
ている。
【0006】また、これらの電子写真感光体を構成する
各層は、支持体上に浸漬塗布、スプレー塗布、ノズル塗
布、バーコート、ロールコート、ブレード塗布等により
塗布して形成される。特に、電荷移動層の形成方法とし
ては、層に含有させる物質を溶剤に溶解させて得られる
塗布溶液として、塗布するなどの公知の方法が適用され
ている。これら現行の工程では、予め塗布溶液を調整
し、それを保存することが行われている。そのため、バ
インダー樹脂には、塗布工程に用いられる溶剤に対し、
溶解性が優れること及び溶解後の塗布溶液の安定性も必
要となる。
【0007】これまでの電荷移動層のバインダー樹脂と
しては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル等のビニル重合体、及びその共重合体、ポ
リカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、フェノ
キシ、エポキシ、シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂や種
々の熱硬化性樹脂が用いられてきている。数あるバイン
ダー樹脂のなかではポリカーボネート樹脂が比較的優れ
た性能を有しており、これまで種々のポリカーボネート
樹脂が開発され実用に供されている。例えば特開昭50
−98332号公報にはビスフェノールPタイプのポリ
カーボネートが、特開昭59−71057号公報にはビ
スフェノールZタイプのポリカーボネートが、特開昭5
9−184251号公報にはビスフェノールPおよびビ
スフェノールAの共重合タイプのポリカーボネートが、
特開平5−21478号公報にはビス(4ーヒドロキシ
フェニル)ケトンタイプの構造を含むポリカーボネート
共重合体がバインダー樹脂としてそれぞれ開示されてい
る。しかし従来の有機感光体はトナーによる現像、紙と
の摩擦、クリーニング部材(ブレード)による摩擦など
実用上の負荷によって表面が摩耗してしまったり表面に
傷が生じてしまうなどの欠点を有しているため実用上は
限られた印刷性能にとどまっているのが現状である。
【0008】一方、特開昭56−135844号公報に
は、商品名「U−ポリマー」として市販されているポリ
アリレート樹脂をバインダーとして用いた電子写真用感
光体の技術が開示され、その中でポリカーボネートに比
して特に感度が優れていることが示されている。特開平
3−6567号公報では、ビスフェノール成分にテトラ
メチルビスフェノールF及びビスフェノールAを使用し
た構造のポリアリレート共重合体を含有することを特徴
とする電子写真感光体が開示されている。
【0009】また、特開平10−288845号公報で
は、特定構造のビスフェノール成分を用いたポリアリレ
ート樹脂をバインダー樹脂として用いることで、感光体
製造時の溶液安定性が向上することが開示され、特開平
10―288846号公報には特定の動粘度範囲をもつ
ポリアリレート樹脂を使用した電子写真感光体が機械的
強度、特に耐磨耗性が優れていることが示されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現状用
いられているポリカーボネート樹脂を電子写真プロセス
に使用した場合、耐磨耗性、耐擦傷性、応答性、基盤と
の接着性等で未だ不十分な場合が多い。また、市販のポ
リアリレート樹脂「U−ポリマー」では耐磨耗性、感度
では若干の向上が見られるものの、その塗布液の安定性
が悪く、塗布製造が不能であった。特開平3−6567
号公報に開示されているビスフェノール成分にテトラメ
チルビスフェノールF及びビスフェノールAを使用した
構造のポリアリレート共重合体を使用した場合、機械物
性にやや向上は見られるが、電気特性特に、感度、応答
性の面では十分な性能は得られていない。
【0011】また、特開平10−288845号公報及
び特開平10―288846号公報に開示されている特
定構造のポリアリレート樹脂を用いることで、溶解性/
溶液安定性や機械的強度等は向上するものの、最近の高
速印刷化要求の高まりから、電気的特性、特に応答性に
関して不十分なものであった。そのため、機械的強度お
よび非ハロゲン系溶媒に易溶で溶液安定性に優れ、且つ
応答性に優れたバインダー樹脂が望まれているのが現状
である。
【0012】また、特開昭57−73021号公報に
は、耐熱性に優れた特定構造のポリアリレートが開示さ
れている。しかし、該公報にはこれら特定構造のポリア
リレートを電子写真感光体に適応する概念、要求されて
いる、機械特性、電気的特性などについては何ら開示さ
れてはいない。
【0013】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、感
光層に使用するバインダー樹脂について詳細に検討した
結果、特定構造のポリアリレート樹脂をバインダー樹脂
として用いることにより十分な機械的特性を有し、非ハ
ロゲン系溶媒にも高い溶解性及び優れた溶液安定性を有
し、且つ電気特性、特に応答性に優れることを見いだし
本発明に至った。
【0014】すなわち本発明の第1の要旨は、導電性基
体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体におい
て、該感光層の結着樹脂が、下記一般式(1)で表され
るポリアリレート構造を有することを特徴とする電子写
真感光体、に存する。
【0015】
【化10】
【0016】一般式(1)中、Xは下記一般式(2)で
表されるB、一般式(3)で表されるC、一般式(4)
で表されるDからなる群から選ばれる少なくとも、2種
類である。Aは二価の有機基を表す。ただしAは下記
B、C、Dと同一ではない。また、mおよびnは0<m
/(m+n)<1である。
【0017】
【化11】
【0018】
【化12】
【0019】
【化13】
【0020】Yは、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、単結合、一般式(5)で表される2価の有機基、−
O−、−S−、−CO−、−SO2−もしくは−(C
2s−のいずれかを表す。sは2〜5の整数である。
1〜R24はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜1
0のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシル基、ハ
ロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、炭素数6以上20
以下の置換されてもよい芳香族基を示す。
【0021】
【化14】
【0022】(一般式(5)中、R25〜R28はそれぞれ
独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素
数1〜10のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン
化アルキル基、炭素数6以上20以下の置換されてもよ
い芳香族基を示す。またR25とR26、R27とR28はお互
いに結合して環を形成してもよい。tは0以上の整数で
あり、R29は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜
10のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アル
キル基、炭素数6以上20以下の置換されてもよい芳香
族基を示す。uは0〜4の整数である。) また、一般式(1)中の下記一般式(6)で表される構
造は、下記一般式(7)で表される構造から選ばれる少
なくとも1種である。)
【0023】
【化15】
【0024】
【化16】
【0025】一般式(7)中、aおよびbは0≦a≦
1、0≦b≦1であり、かつa+b=1である。
【0026】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。 <電子写真感光体用樹脂>本発明の電子写真感光体は、
該感光層の結着樹脂が、上記一般式(1)で表されるポ
リアリレート構造を有することを特徴とするものであ
る。
【0027】次に本発明におけるポリアリレート構造に
ついてさらに具体例を示すが、本発明はこれら具体例に
限定されるものではない。上記一般式(1)中の、Xは
一般式(2)、(3)、(4)で表されるB、C、Dか
らなる群から選ばれる少なくとも2種類であり、これら
の構造は本発明で用いられるポリアリレート樹脂を製造
する際に用いられる、ビフェノール成分もしくはビスフ
ェノール成分のp,p’−体、o,p’−体、o,o’
−体に由来する残基である。これらは同一示性式からな
る位置異性体から選ばれるものでも、異なるものから選
ばれるものであってもかまわない。
【0028】一般式(2)、(3)、(4)中、Yはそ
れぞれ同一でも異なっていてもよく、単結合、一般式
(5)で表される2価の有機基、−O−、−S−、−C
O−、−SO2−もしくは−(CH2s−のいずれかを
表す。sは2〜5の整数である。これらの中でも好まし
くは、単結合、一般式(5)で表される2価の有機基で
あり、一般式(5)で表される2価の有機基が特に好ま
しい。また、R1〜R24はそれぞれ独立に、水素原子、
炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコ
キシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、炭素
数6以上20以下の置換されてもよい芳香族基を示す。
これらの中でも好ましくは水素原子、炭素数1〜10の
アルキル基であり、水素原子が特に好ましい。
【0029】一般式(5)中、R25〜R28はそれぞれ独
立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数
1〜10のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化
アルキル基、炭素数6以上20以下の置換されてもよい
芳香族基を示す。またR25とR26、R27とR28はお互い
に結合して環を形成してもよい。これらのうち好ましく
は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜
10のアルコキシル基であり、またR25とR26、R27
28はお互いに結合して環を形成してもよい。また水素
原子であることが特に好ましい。tは0以上の整数であ
り、好ましくは0または1であり、特に好ましくは0で
ある。R29は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜
10のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アル
キル基、炭素数6以上20以下の置換されてもよい芳香
族基を示す。これらのうちで炭素数1〜10のアルキル
基が好ましい。また、uは0〜4の整数であり、uが0
〜2が好ましい。) 一般式(2)で表されるB構造を有するビフェノール成
分もしくはビスフェノール成分の具体例としては、4,
4’−ビフェノール、3,3’−ジメチル−4,4’−
ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル[3,3’−ジメ
チル−{(1,1’−ビ−フェニル)―4,4’―ジオ
ール}]、3,3’−ジ−(t−ブチル)−4,4’−
ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル[3,3’−ジ−
(t−ブチル)−{(1,1’−ビ−フェニル)―4,
4’―ジオール}]、3,3’,5,5’−テトラメチ
ル−4,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル
[3,3’5,5’−テトラメチル−{(1,1’−ビ
−フェニル)―4,4’―ジオール}]、3,3’,
5,5’−テトラ−(t−ブチル)−4,4’−ジヒド
ロキシ−1,1’−ビフェニル[3,3’5,5’−テ
トラ−(t−ブチル)−{(1,1’−ビ−フェニル)
―4,4’―ジオール}]、2,2’,3,3’,5,
5’−ヘキサメチル −4,4’−ジヒドロキシ−1,
1’−ビフェニル[2,2’,3,3’5,5’−ヘキ
サメチル−{(1,1’−ビ−フェニル)―4,4’―
ジオール}]等のビフェノール成分、ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン(BPF)、1,1−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)エタン(BPE)、1,1
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BP
A)、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)ペンタ
ン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−
メチルブタン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−メチルペンタン、1,1−ビス−(4−ヒド
ロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(BPZ)、ビ
ス−(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、1,1−ビス−(3−フェニル−4−ヒドロキシフ
ェニル)エタン、1,1−ビス−(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス−(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BP
Q)、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)エタン(Ce)、2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)プロパン(BPC)、2,
2−ビス−(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3−イソプ
ロピルフェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒド
ロキシ−3−sec−ブチルフェニル)プロパン、1,
1−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)エタン(Xe)、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)プロパン(Tma)、
1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3,6−ジメチルフ
ェニル)エタン、ビス−(4−ヒドロキシ−2,3,5
−トリメチルフェニル)メタン、1,1−ビス−(4−
ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)エタ
ン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−2,3,5−ト
リメチルフェニル)プロパン、ビス−(4−ヒドロキシ
−2,3,5−トリメチルフェニル)フェニルメタン、
1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメ
チルフェニル)フェニルエタン、1,1−ビス−(4−
ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニル)シクロ
ヘキサン、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)フェニル
メタン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−
1−フェニルエタン(BPP)、1,1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−1−フェニルプロパン、ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)ジベンジルメタン、4,
4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデ
ン)]ビス−[フェノール]、4,4’−[1,4−フェニ
レンビスメチレン]ビス−[フェノール]、4,4’−
[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビ
ス−[2,6−ジメチルフェノール]、4,4’−[1,
4−フェニレンビスメチレン]ビス−[2,6−ジメチル
フェノール]、4,4’−[1,4−フェニレンビスメチ
レン]ビス−[2,3,6−トリメチルフェノール]、
4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチ
リデン)]ビス−[2,3,6−トリメチルフェノー
ル]、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチル
エチリデン)]ビス−[2,3,6−トリメチルフェノー
ル]、4,4'−ジヒドロキシジフェニルエーテル(BP
O)、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,
3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキ
シジフェニルエーテル、3,3’,5,5’−テトラメ
チル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、
3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒド
ロキシジフェニルスルフィド、フェノールフタルレイ
ン、4,4'−[1,4−フェニレンビス(1−メチルビ
ニリデン)]ビスフェノール、4,4'−[1,4−フェ
ニレンビス(1−メチルビニリデン)]ビス[2−メチル
フェノール]、等のビスフェノール成分などが挙げられ
る。
【0030】これらの中で好ましい化合物は、ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)メタン(BPF)、1,1
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エタン(BPE)
等のビスフェノール成分が挙げられる。これらの中でも
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)メタンが特に好まし
い。但し、一般式(2)で示されるB構造がビス−(4
−ヒドロキシフェニル)メタン由来である場合、0≦B
量/(A量+B量+C量+D量)≦0.45の範囲であ
ることが好ましく、0≦B量/(A量+B量+C量+D
量)≦0.4の範囲であることが特に好ましい。この範
囲を超えると樹脂成分の溶解性が低下して好ましくな
い。
【0031】一般式(3)で表されるC構造を有するビ
フェノール成分もしくはビスフェノール成分の具体例と
しては、2,4’−ビフェノール、3,3’−ジメチル
−2,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル
[3,3’−ジメチル−{(1,1’−ビ−フェニル)
―2,4’―ジオール}]、3,3’−ジ−(t−ブチ
ル)−2,4’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル
[3,3’−ジ−(t−ブチル)−{(1,1’−ビ−
フェニル)―2,4’―ジオール}]等のビフェノール
成分、(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、2,2−(2−ヒドロキシフェニル)
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、等のビスフェノ
ール成分が挙げられる。これらの中でも、(2−ヒドロ
キシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタンが好
ましい。但し、一般式(3)で示されるC構造が(2−
ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン由来である場合、0≦C量/(A量+B量+C量+D
量)≦0.4の範囲であることが好ましく、0≦C量/
(A量+B量+C量+D量)≦0.35の範囲であるこ
とが特に好ましい。この範囲を超えると樹脂成分の重合
性が低下して好ましくない。
【0032】一般式(4)で表されるD構造を有するビ
フェノール成分もしくはビスフェノール成分の具体例と
しては、2,2’−ビフェノール、3,3’−ジメチル
−2,2’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル
[3,3’−ジメチル−{(1,1’−ビ−フェニル)
―2,2’―ジオール}]、3,3’−ジ−(t−ブチ
ル)−2,2’−ジヒドロキシ−1,1’−ビフェニル
[3,3’−ジ−(t−ブチル)−{(1,1’−ビ−
フェニル)―2,2’―ジオール}]、等のビフェノー
ル成分、ビス−(2−ヒドロキシフェニル)メタン、
2,2−ビス(2−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビ
ス−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メタン、
ビス−(2−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)メタ
ン、1,1−ビス−(2−ヒドロキシ−4−フェニル)
エタン、ビス−(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフ
ェノール)メタン、ビス−(2−ヒドロキシ−3,6−
ジメチルフェノール)メタン、2,2−ビス−(2−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメチルフェノール)プロパン等の
ビスフェノール成分が挙げられる。これらの中でも、ビ
ス−(2−ヒドロキシフェニル)メタンが好ましい。但
し、一般式(4)で示されるD構造がビス−(2−ヒド
ロキシフェニル)メタン由来である場合、0≦D量/
(A量+B量+C量+D量)≦0.4の範囲であること
が好ましく、0≦D量/(A量+B量+C量+D量)≦
0.35の範囲であることが特に好ましい。この範囲を
超えると得られる電子写真感光体の耐摩耗性が低下する
傾向があり好ましくない。
【0033】上記一般式(1)中の、一般式(6)で表
される構造は、本発明で用いられるポリアリレート樹脂
を製造する際に用いられる、芳香族ジカルボン酸成分に
由来する残基である。この芳香族ジカルボン酸成分とし
ては、一般式(7)に表される構造の物が用いられる。
具体的にはテレフタル酸誘導体およびイソフタル酸誘導
体、例えばテレフタル酸クロライドおよびイソフタル酸
クロライドが用いられる。
【0034】一般式(7)中、aおよびbは0≦a/
(a+b)≦1であるが、好ましくは、0.5≦a/
(a+b)≦1の範囲であり、更に好ましくは、0.7
≦a/(a+b)≦1の範囲であり、特に好ましくはa
/(a+b)=1の時である。この範囲に満たないと電
気特性が劣る傾向にあり好ましくない。また、Aは二価
の有機基を表す。但し、これらAは一般式(2)、
(3)、(4)で表されるB、CおよびDと同一ではな
いものである。これらの中でもAは下記一般式(8)で
表される置換基を有してもよい芳香族環を2つ有する2
価の有機基であることが好ましい。ただし、一般式
(8)で表される構造は一般式(2)と同一ではない。
【0035】
【化17】
【0036】一般式(8)中、R30〜R37はそれぞれ独
立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数
1〜10のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化
アルキル基、炭素数6以上20以下の置換されてもよい
芳香族基を示す。これらの中でも水素原子、炭素数1〜
10のアルキル基、炭素数6以上20以下の置換されて
もよい芳香族基が好ましく、特に好ましくは水素原子、
炭素数1〜10のアルキル基であり、具体的にはR31
33、R34、R36が水素原子であり、R30、R 32
35、R37がメチル基のものである。Zは単結合、もし
くは−CR3839−のいずれかを表し、−CR3839
が好ましい。R38、R39は水素原子、炭素数1〜10の
アルキル基、炭素数1〜10のアルコキシル基、ハロゲ
ン原子、ハロゲン化アルキル基、炭素数6以上20以下
の置換されてもよい芳香族基を示し、水素原子、炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6以上20以下の置換さ
れてもよい芳香族基が好ましく、またR38とR39はお互
いに結合して環を形成してもよい。また、特に好ましく
は水素原子の時である。
【0037】上記一般式(1)中の2価の有機基Aを含
む−O−A−O−で表される構造は、本発明の電子写真
感光体に用いられる、樹脂成分を製造する際に用いられ
る二官能性フェノール成分、ビフェノール成分もしくは
ビスフェノール成分に由来する残基である。該二官能性
フェノール成分、ビフェノール成分もしくはビスフェノ
ール成分の具体例としてはハイドロキノン、レゾルシノ
ール、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒ
ドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレ
ン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒド
ロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、
1,5−ジヒドロキシナフタレン等の二官能性フェノー
ル成分、および上記一般式(2)、(3)、(4)の具
体例に挙げたビフェノール成分もしくはビスフェノール
成分が挙げられる。
【0038】これらの中で好ましい化合物は、1,1−
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エタン(BPE)、
2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
(BPA)、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン(BPZ)、2,2−ビス−(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン(BP
Q)、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)エタン(Ce)、2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)プロパン(BPC)、1,
1−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)エタン(Xe)、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)プロパン(Tma)、ビ
ス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メ
タン、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−1
−フェニルエタン(BPP)、等のビスフェノール成分
が挙げられる。これらの中でもビス−(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)メタンが特に好ましい。
【0039】尚、本発明において一般式(1)中のX
(B、CおよびD)とAとが同一でないことが必要であ
り、XとAの構造が同一では、本発明の効果を達成する
ことが出来ない。また、一般式(1)中のmおよびnが
0.1≦m/(m+n)<1である範囲が好ましく、更
に、0.2≦m/(m+n)≦0.7である範囲が特に
好ましい。この範囲に満たないと電気特性の向上効果が
低く、またこの範囲を超えると塗布時の溶解性、溶液安
定性が低下したり、重合時の反応性が低下したりして好
ましくない。 <電子写真感光体用樹脂の製造方法>本発明の電子写真
感光体用樹脂の製造方法として、公知の重合方法を用い
ることができる。例えば界面重合法、溶融重合法、溶液
重合法などが挙げられる。
【0040】例えば、界面重合法による製造の場合は、
ビスフェノール成分をアルカリ水溶液に溶解した溶液
と、芳香族ジカルボン酸クロライド成分を溶解したハロ
ゲン化炭化水素の溶液とを混合する。この際、触媒とし
て、四級アンモニウム塩もしくは四級ホスホニウム塩を
存在させることも可能である。重合温度は0〜40℃の
範囲、重合時間は2〜12時間の範囲であるのが生産性
の点で好ましい。重合終了後、水相と有機相を分離し、
有機相中に溶解しているポリマーを公知の方法で、洗
浄、回収することにより、目的とする樹脂を得られる。
【0041】ここで用いられるアルカリ成分としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の
水酸化物等を挙げることができる。アルカリの使用量と
しては、反応系中に含まれるフェノール性水酸基の1.
01〜3倍当量の範囲が好ましい。また、ここで用いら
れる、ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、
クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、トリクロロエ
タン、テトラクロロエタン、ジクロルベンゼンなどを挙
げることができる。
【0042】触媒として用いられる四級アンモニウム塩
もしくは四級ホスホニウム塩としては、トリブチルアミ
ンやトリオクチルアミン等の三級アルキルアミンの塩
酸、臭素酸、ヨウ素酸等の塩、ベンジルトリエチルアン
モニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウム
クロライド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライ
ド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラブチ
ルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウム
ブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライ
ド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、トリエチル
オクタデシルホスホニウムブロマイド、N−ラウリルピ
リジニウムクロライド、ラウリルピコリニウムクロライ
ドなどが挙げられる。
【0043】また、この重合の際に分子量調節剤として
フェノール、o,m,p−クレゾール、o,m,p−エ
チルフェノール、o,m,p−プロピルフェノール、
o,m,p−tert−ブチルフェノール、ペンチルフェノ
ール、ヘキシルフェノール、オクチルフェノール、ノニ
ルフェノール、および2,6−ジメチルフェノール誘導
体等のアルキルフェノール類、o,m,p−フェニルフ
ェノール等の一官能性のフェノール、酢酸クロリド、酪
酸クロリド、オクチル酸クロリド、塩化ベンゾイル、ベ
ンゼンスルフォニルクロリド、ベンゼンスルフィニルク
ロリド、スルフィニルクロリド、ベンゼンホスホニルク
ロリドやそれらの置換体等の一官能性の酸ハロゲン化物
を存在させても良い。これら分子量調節剤の中でも2,
6ジメチルフェノール誘導体が分子量調節能が高く好ま
しい。2,6−ジメチルフェノール誘導体の具体例とし
ては、2,6−ジメチルフェノール、2,3,6−トリ
メチルフェノール、2,4,6−トリメチルフェノー
ル、2,3,4,6−テトラメチルフェノール、2,6
−ジメチル−4−t−ブチルフェノール、2,6−ジメ
チル−4−ノニルフェノール、2,6−ジメチル−4−
アセチルフェノール、α―トコフェロールなどが揚げら
れる。これらの中でも2,3,6−トリメチルフェノー
ルが、生成したポリマーの溶液安定性の点で好ましい。
【0044】また、一般式(1)に示されるポリアリレ
ート構造を有する樹脂において、上述した分子量調整剤
など、分子鎖末端に存在する基は繰り返し単位に含まれ
るものではない。本発明の一般式(1)で表されるポリ
アリレート構造を有する樹脂は、粘度平均分子量が1
0,000以上300,000以下であるが、好ましく
は15,000以上100,000以下さらに好ましく
は20,000以上50,000以下である。粘度平均
分子量が10,000未満であると樹脂の機械的強度が
低下し実用的でなく、300,000以上であると、適
当な膜厚に塗布する事が困難である。
【0045】また、本発明のポリアリレート構造を有す
る樹脂は、他の樹脂と混合して、電子写真感光体に用い
ることも可能である。ここで混合される他の樹脂として
は、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル等のビニル重合体、及びその共重合体、ポリカ
ーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、フェノキ
シ、エポキシ、シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂や種々
の熱硬化性樹脂などが挙げられる。これら樹脂のなかで
もポリカーボネート樹脂が好ましいものとして挙げられ
る。
【0046】<電子写真感光体>上述した本発明の樹脂
は電子写真感光体に用いられ、該感光体の導電性支持体
上に設けられる感光層中のバインダー樹脂として用いら
れる。導電性支持体としては、例えばアルミニウム、ア
ルミニウム合金、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属
材料や金属、カーボン、酸化錫などの導電性粉体を添加
して導電性を付与した樹脂材料やアルミニウム、ニッケ
ル、ITO(酸化インジウム酸化錫合金)等の導電性材
料をその表面に蒸着又は塗布した樹脂、ガラス、紙など
が主として使用される。形態としては、ドラム状、シー
ト状、ベルト状などのものが用いられる。金属材料の導
電性支持体の上に、導電性・表面性などの制御のためや
欠陥被覆のため、適当な抵抗値を持つ導電性材料を塗布
したものでも良い。
【0047】導電性支持体としてアルミニウム合金等の
金属材料を用いた場合、陽極酸化処理、化成皮膜処理等
を施してから用いても良い。陽極酸化処理を施した場
合、公知の方法により封孔処理を施すのが望ましい。支
持体表面は、平滑であっても良いし、特別な切削方法を
用いたり、研磨処理を施したりすることにより、粗面化
されていても良い。また、支持体を構成する材料に適当
な粒径の粒子を混合することによって、粗面化されたも
のでも良い。
【0048】導電性支持体と感光層との間には、接着性
・ブロッキング性等の改善のため、下引き層を設けても
良い。下引き層としては、樹脂、樹脂に金属酸化物等の
粒子を分散したものなどが用いられる。下引き層に用い
る金属酸化物粒子の例としては、酸化チタン、酸化アル
ミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸
化鉄等の1種の金属元素を含む金属酸化物粒子、チタン
酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリ
ウム等の複数の金属元素を含む金属酸化物粒子が挙げら
れる。一種類の粒子のみを用いても良いし複数の種類の
粒子を混合して用いても良い。これらの金属酸化物粒子
の中で、酸化チタンおよび酸化アルミニウムが好まし
く、特に酸化チタンが好ましい。酸化チタン粒子は、そ
の表面に、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化アンチモ
ン、酸化ジルコニウム、酸化珪素等の無機物、又はステ
アリン酸、ポリオール、シリコーン等の有機物による処
理を施されていても良い。酸化チタン粒子の結晶型とし
ては、ルチル、アナターゼ、ブルックカイト、アモルフ
ァスのいずれも用いることができる。複数の結晶状態の
ものが含まれていても良い。
【0049】また、金属酸化物粒子の粒径としては、種
々のものが利用できるが、中でも特性および液の安定性
の面から、平均一次粒径として10nm以上100nm
以下が好ましく、特に好ましいのは、10nm以上25
nm以下である。下引き層は、金属酸化物粒子をバイン
ダー樹脂に分散した形で形成するのが望ましい。下引き
層に用いられるバインダー樹脂としては、、フェノキ
シ、エポキシ、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアル
コール、カゼイン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼ
ラチン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリア
ミド等が単独あるいは硬化剤とともに硬化した形で使用
できるが、中でも、アルコール可溶性の共重合ポリアミ
ド、変性ポリアミド等は良好な分散性、塗布性を示し好
ましい。
【0050】バインダー樹脂に対する無機粒子の添加比
は任意に選べるが、10重量%から500重量%の範囲
で使用することが、分散液の安定性、塗布性の面で好ま
しい。下引き層の膜厚は、任意に選ぶことができるが、
感光体特性および塗布性から0.1μmから20μmが
好ましい。また下引き層には、公知の酸化防止剤等を添
加しても良い。
【0051】本発明の感光層の具体的な構成として ・導電性支持体上に電荷発生物質を主成分とする電荷発
生層、電荷輸送物質及びバインダ−樹脂を主成分とした
電荷輸送層をこの順に積層した積層型感光体。 ・導電性支持体上に、電荷輸送物質及びバインダ−樹脂
を主成分とした電荷輸送層、電荷発生物質を主成分とす
る電荷発生層をこの順に積層した逆二層型感光体。
【0052】・導電性支持体上に電荷輸送物質及びバイ
ンダ−樹脂を含有する層中に電荷発生物質を分散させた
分散型感光体。 の様な構成が基本的な形の例として挙げられる。積層型
感光体の場合、その電荷発生層に使用される電荷発生材
料としては例えばセレニウム及びその合金、硫化カドミ
ウム、その他無機系光導電材料、フタロシアニン顔料、
アゾ顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン
顔料、多環キノン顔料、アントアントロン顔料、ベンズ
イミダゾール顔料などの有機顔料等各種光導電材料が使
用でき、特に有機顔料、更にフタロシアニン顔料、アゾ
顔料が好ましい。これらの微粒子をたとえばポリエステ
ル樹脂、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニル
プロピオナール、ポリビニルブチラール、フェノキシ樹
脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、セルロースエステ
ル、セルロースエーテルなどの各種バインダー樹脂で結
着した形で使用される。この場合の使用比率はバインダ
ー樹脂100重量部に対して30から500重量部の範
囲より使用され、その膜厚は通常0.1μmから1μ
m、好ましくは0.15μmから0.6μmが好適であ
る。
【0053】電荷発生物質としてフタロシアニン化合物
を用いる場合、具体的には、無金属フタロシアニン、
銅、インジウム、ガリウム、錫、チタン、亜鉛、バナジ
ウム、シリコン、ゲルマニウム等の金属、またはその酸
化物、ハロゲン化物等の配位したフタロシアニン類が使
用される。3価以上の金属原子への配位子の例として
は、上に示した酸素原子、塩素原子の他、水酸基、アル
コキシ基などがあげられる。特に感度の高いX型、τ型
無金属フタロシアニン、A型、B型、D型等のチタニル
フタロシアニン、バナジルフタロシアニン、クロロイン
ジウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニ
ン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン等が好適であ
る。なお、ここで挙げたチタニルフタロシアニンの結晶
型のうち、A型、B型についてはW.Hellerらに
よってそれぞれI相、II相として示されており(Zeit.K
ristallogr.159(1982)173)、A型は安定型として知られ
ているものである。D型は、CuKα線を用いた粉末X
線回折において、回折角2θ±0.2゜が27.3゜に
明瞭なピークを示すことを特徴とする結晶型である。フ
タロシアニン化合物は単一の化合物のもののみを用いて
も良いし、いくつかの混合状態でも良い。ここでのフタ
ロシアニン化合物ないしは結晶状態に置ける混合状態と
して、それぞれの構成要素を後から混合して用いても良
いし、合成、顔料化、結晶化等のフタロシアニン化合物
の製造・処理工程において混合状態を生じせしめたもの
でも良い。このような処理としては、酸ペースト処理・
磨砕処理・溶剤処理等が知られている。
【0054】電荷輸送層に含まれる電荷輸送物質として
は、2,4,7−トリニトロフルオレノンなどの芳香族
ニトロ化合物、テトラシアノキノジメタン等のシアノ化
合物、ジフェノキノン等のキノン類などの電子吸引性物
質、カルバゾール誘導体、インドール誘導体、イミダゾ
ール誘導体、オキサゾール誘導体、ピラゾール誘導体、
オキサジアゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、チアジア
ゾール誘導体などの複素環化合物、アニリン誘導体、ヒ
ドラゾン化合物、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導
体、ブタジエン誘導体、エナミン化合物、これらの化合
物が複数結合されたもの、あるいはこれらの化合物から
なる基を主鎖もしくは側鎖に有する重合体などの電子供
与性物質が挙げられる。これらの中でもカルバゾール誘
導体、ヒドラゾン誘導体、芳香族アミン誘導体、スチル
ベン誘導体、ブタジエン誘導体及びこれらの誘導体が複
数結合されたものが好ましく、芳香族アミン誘導体、ス
チルベン誘導体、ブタジエン誘導体の複数結合されてな
るものが好ましい。
【0055】具体的には、下記一般式(9)で表される
構造を有するものが好ましく用いられる。
【0056】
【化18】
【0057】(一般式(9)中、Ar1〜Ar4は各々独
立して、置換基を有してもよいアリーレン基又は置換基
を有してもよい2価の複素環基を表す。Ar5、Ar
6は、m1=0、m2=0の時はそれぞれ、置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール
基、置換基を有してもよい1価の複素環基を表し、m1
=1、m2=1の時はそれぞれ置換基を有してもよいア
ルキレン基、置換基を有してもよいアリーレン基又は置
換基を有してもよい2価の複素環基を表す。Qは直接結
合または2価の残基を表す。R40〜R47は各々独立して
水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を
有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラル
キル基、置換基を有してもよい複素環基を表す。n1
4は各々独立して0〜4の整数を表す。また、m1、m
2は各々独立して0又は1を表す。また、Ar1〜Ar6
は互いに結合して環状構造を形成してもよい。) 一般式(9)中、R40〜R47は各々独立して水素原子、
置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有して
いても良いアリール基、置換基を有していても良いアラ
ルキル基、置換基を有していても良い複素環基を表す
が、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、へプチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基等が挙げられ、これらの内炭素数1〜6の
アルキル基が好ましい。
【0058】また、アリール基としては、フェニル基、
トリル基、キシリル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙
げられ、炭素数6〜12のアリール基が好ましい。ま
た、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基
等が挙げられ、炭素数7〜12のアラルキル基が好まし
い。また、複素環基は、芳香族性を有する複素環が好ま
しく、例えばフリル基、チエニル基、ピリジル基等のが
挙げられ、単環の芳香族複素環が更に好ましい。
【0059】また、R1〜R8において、最も好ましいも
のは、メチル基及びフェニル基である。また、一般式
(9)中、Ar1〜Ar4は各々独立して、置換基を有し
ていても良いアリーレン基又は置換基を有していても良
い2価の複素環基を表し、Ar5、Ar6は、m1=0、
2=0の時はそれぞれ、置換基を有していても良いア
ルキル基、置換基を有していても良いアリール基、置換
基を有していても良い1価の複素環基を表し、m1
1、m2=1の時はそれぞれ、置換基を有していても良
いアルキレン基、置換基を有していても良いアリーレン
基又は置換基を有していても良い2価の複素環基を表す
が、アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられ、炭素数
6〜14のアリール基が好ましく;アリーレン基として
は、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられ、フェニ
レン基が好ましく;1価の複素環基としては、芳香族性
を有する複素環基が好ましく、例えばフリル基、チエニ
ル基、ピリジル基等が挙げられ、単環の芳香族複素環が
更に好ましく;2価の複素環基としては、芳香族性を有
する複素環が好ましく、例えばピリジレン基、チエニレ
ン基等が挙げられ、単環の芳香族複素環が更に好まし
い。
【0060】これらの内、最も好ましいものは、Ar1
及びAr2はフェニレン基であり、Ar5及びAr6はフ
ェニル基である。これらR40〜R47、Ar1〜Ar6で表
される基の内、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、複素環基はさらに置換基を有していても良いが、そ
の置換基としては、シアノ基;ニトロ基;水酸基;フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等のハロゲン原
子;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等のアルキル基;メトキシ基,エトキシ
基,プロピルオキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ
基、エチルチオ基等のアルキルチオ基;ビニル基、アリ
ル基等のアルケニル基;ベンジル基、ナフチルメチル
基、フェネチル基等のアラルキル基;フェノキシ基、ト
リロキシ基等のアリールオキシ基;ベンジルオキシ基,
フェネチルオキシ基等のアリールアルコキシ基;フェニ
ル基,ナフチル基等のアリール基;スチリル基,ナフチ
ルビニル基等のアリールビニル基;アセチル基、ベンゾ
イル基等のアシル基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基等のジアルキルアミノ基;ジフェニルアミノ基、ジ
ナフチルアミノ基等のジアリールアミノ基;ジベンジル
アミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラルキルアミ
ノ基、ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ基等のジ
複素環アミノ基;ジアリルアミノ基、又、上記のアミノ
基の置換基を組み合わせたジ置換アミノ基等の置換アミ
ノ基等が挙げられる。
【0061】また、これらの置換基は互いに結合して、
単結合、メチレン基、エチレン基、カルボニル基、ビニ
リデン基、エチレニレン基等を介した環状炭化水素基や
複素環基を形成してもよい。これらの内好ましい置換基
としては、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、炭素数1
〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素
数1〜6のアルキルチオ基、炭素数6〜12のアリール
オキシ基、炭素数6〜12のアリールチオ基、炭素数2
〜8のジアルキルアミノ基が挙げられ、ハロゲン原子、
炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基が更に好まし
く、メチル基、フェニル基が特に好ましい。
【0062】一般式(9)中、n1〜n4は各々独立して
0乃至4の整数を表すが、0乃至2が好ましく、1が最
も好ましい。m1、m2は0又は1を表すが、0が好まし
い。一般式(9)中、Qは、直接結合又は2価の残基を
表すが、2価の残基として好ましいものは、16族原
子、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有し
ても良いアリーレン基、置換基を有しても良いシクロア
ルキリデン基、またはこれらが互いに結合した、例えば
[−O−A−O−]、[−A−O−A−]、[−S−A−S
−]、[−A−A−]等が挙げられる(但し、Aは置換基
を有しても良いアリーレン基または置換基を有しても良
いアルキレン基を表す)。
【0063】Qを構成するアルキレン基としては、炭素
数1〜6のものが好ましく、中でもメチレン基及びエチ
レン基が更に好ましい。また、シクロアルキリデン基と
しては、炭素数5〜8のものが好ましく、中でもシクロ
ペンチリデン基及びシクロヘキシリデン基が更に好まし
い。アリーレン基としては、炭素数6〜14のものがこ
のましく、中でもフェニレン基及びナフチレン基が更に
好ましい。
【0064】また、これらアルキレン基、アリーレン
基、シクロアルキリデン基は置換基を有してもよいが、
好ましい置換基としては、水酸基、ニトロ基、シアノ
基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数
1〜6のアルケニル基、炭素数6〜14のアリール基が
挙げられる。これら電荷輸送物質は単独で用いても良い
し、いくつかを混合してもちいてもよい。これらの電荷
輸送材料がバインダー樹脂に結着した形で電荷輸送層が
形成される。電荷輸送層は、単一の層から成っていても
良いし、構成成分あるいは組成比の異なる複数の層を重
ねたものでも良い。
【0065】バインダー樹脂と電荷輸送物質の割合は、
通常、バインダー樹脂100重量部に対して20〜20
0重量部、好ましくは30〜150重量部の範囲で使用
される。また膜厚は一般に5〜50μm、好ましくは1
0〜45μmがよい。なお、電荷輸送層には成膜性、可
撓性、塗布性、耐汚染性、耐ガス性、耐光性などを向上
させるために周知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、電子吸引性化合物、レベリング剤などの添加物を含
有させても良い。
【0066】酸化防止剤の例としては、ヒンダードフェ
ノール化合物、ヒンダードアミン化合物などが挙げられ
る。分散型感光層の場合には、上記のような配合比の電
荷輸送媒体中に、前出の電荷発生物質が分散される。そ
の場合の電荷発生物質の粒子径は充分小さいことが必要
であり、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5
μm以下で使用される。感光層内に分散される電荷発生
物質の量は少なすぎると充分な感度が得られず、多すぎ
ると帯電性の低下、感度の低下などの弊害があり、例え
ば好ましくは0.5〜50重量%の範囲で、より好まし
くは1〜20重量%の範囲で使用される。
【0067】感光層の膜厚は通常5−50μm、より好
ましくは10−45μmで使用される。またこの場合に
も成膜性、可とう性、機械的強度等を改良するための公
知の可塑剤、残留電位を抑制するための添加剤、分散安
定性向上のための分散補助剤、塗布性を改善するための
レベリング剤、界面活性剤、例えばシリコ−ンオイル、
フッ素系オイルその他の添加剤が添加されていても良
い。
【0068】感光層の上に、感光層の損耗を防止した
り、帯電器等から発生する放電生成物等による感光層の
劣化を防止・軽減する目的で保護層を設けても良い。ま
た、感光体表面の摩擦抵抗や、摩耗を軽減する目的で、
表面の層にはフッ素系樹脂、シリコーン樹脂等を含んで
いても良い。また、これらの樹脂からなる粒子や無機化
合物の粒子を含んでいても良い。
【0069】これらの感光体を構成する各層は、支持体
上に浸漬塗布、スプレー塗布、ノズル塗布、バーコー
ト、ロールコート、ブレード塗布等により塗布して形成
される。各層の形成方法としては、層に含有させる物質
を溶剤に溶解又は分散させて得られた塗布液を順次塗布
するなどの公知の方法が適用できる。
【0070】本発明の電子写真感光体を使用する複写機
・プリンター等の電子写真装置は、少なくとも帯電、露
光、現像、転写の各プロセスを含むが、どのプロセスも
通常用いられる方法のいずれを用いても良い。帯電方法
(帯電器)としては、例えばコロナ放電を利用したコロ
トロンあるいはスコロトロン帯電、導電性ローラーある
いはブラシ、フィルムなどによる接触帯電などいずれを
用いても良い。このうち、コロナ放電を利用した帯電方
法では暗部電位を一定に保つためにスコロトロン帯電が
用いられることが多い。現像方法としては、磁性あるい
は非磁性の一成分現像剤、二成分現像剤などを接触ある
いは非接触させて現像する一般的な方法が用いられる。
転写方法としては、コロナ放電によるもの、転写ローラ
ーあるいは転写ベルトを用いた方法等いずれでもよい。
転写は、紙やOHP用フィルム等に対して直接行っても
良いし、一旦中間転写体(ベルト状あるいはドラム状)
に転写したのちに、紙やOHP用フィルム上に転写して
も良い。
【0071】通常、転写の後、現像剤を紙などに定着さ
せる定着プロセスが用いられ、定着手段としては一般的
に用いられる熱定着、圧力定着などを用いることができ
る。これらのプロセスのほかに、通常用いられるクリー
ニング、除電等のプロセスを有しても良い。
【0072】
【実施例】以下、本発明を製造例、実施例及び比較例に
よりさらに詳細に説明する。なお、本発明はここに示し
た製造例による製造法に限定されるものではない。 <ポリアリレート樹脂の製造> [粘度平均分子量]ポリアリレート樹脂をジクロロメタ
ンに溶解し濃度Cが6.00g/Lの溶液を調整した。
溶媒(ジクロロメタン)の流下時間t0が136.16
秒のウベローデ型毛細管粘度計を用いて、20.0℃に
設定した恒温水槽中で試料溶液の流下時間tを測定し
た。以下の式に従って粘度平均分子量Mvを算出した。
【0073】 a=0.438×ηsp+1 ηsp=t/t0−1 b=100×ηsp/C C=6.00(g/L) η=b/a Mv=3207×η1205 製造例1(比較例1のポリアリレート樹脂Aの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(7.26g)と水
(600ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにp−tert−ブチルフェノール
(0.5463g)、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.089g)およびビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン [テトラメチル
ビスフェノールF] (17.86g)を添加、攪拌した
後、このアルカリ水溶液を1L反応槽に移した。
【0074】別途、テレフタル酸クロライド(14.4
5g)をジクロロメタン(300ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.39ml)、ジクロロメ
タン(150ml)を加え30分攪拌した。その後、攪
拌を停止し有機層を分離した。この有機層を0.1N水
酸化ナトリウム水溶液(340ml)にて洗浄を1回行
い、次に0.1N塩酸(340ml)にて洗浄を2回行
い、さらに水(340ml)にて洗浄を2回行った。
【0075】洗浄後の有機層をメタノール(2500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Aを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Aの粘度平均分子量は32,200であ
った。構造式を以下に示す。
【0076】
【化19】
【0077】製造例2(比較例2のポリアリレート樹脂
Bの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(5.20g)と水
(400ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにp−tert−ブチルフェノール
(0.2173g)、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0647g)、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)メタン [テトラメチルビ
スフェノールF] (6.31g)およびビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン[ビスフェノールF](4.93
g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液を1L反
応槽に移した。
【0078】別途、テレフタル酸クロライド(10.1
5g)をジクロロメタン(200ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時
間攪拌を続けた後、酢酸(1.71ml)、ジクロロメ
タン(100ml)を加え30分攪拌した。その後、攪
拌を停止し有機層を分離した。この有機層を0.1N水
酸化ナトリウム水溶液(210ml)にて洗浄を1回行
い、次に0.1N塩酸(210ml)にて洗浄を2回行
い、さらに水(210ml)にて洗浄を2回行った。
【0079】洗浄後の有機層をメタノール(2000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Bを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Bの粘度平均分子量は33,700であ
った。構造式を以下に示す。
【0080】
【化20】
【0081】製造例3(比較例3のポリアリレート樹脂
Cの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(15.62g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1953g)およびビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシ
フェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BP
F]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,
o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17] (2
9.44g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液
を2L反応槽に移した。その後p−tert−ブチルフ
ェノール(0.8833g)を添加した。
【0082】別途、テレフタル酸クロライド(30.4
8g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(5.15ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
【0083】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Cを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Cの粘度平均分子量は19,100であ
った。構造式を以下に示す。
【0084】
【化21】
【0085】製造例4(実施例1のポリアリレート樹脂
Dの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(13.62g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1703g)、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチル
ビスフェノールF](29.58g)およびビス(4−
ヒドロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロ
キシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,
p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタ
ン [o,o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−
D;p,p’:o,p’:o,o’=約35:48:1
7] (2.57g)を添加、攪拌した後、このアルカリ
水溶液を2L反応槽に移した。その後2,3,6−トリ
メチルフェノール(0.6984g)を添加した。
【0086】別途、テレフタル酸クロライド(26.5
8g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(4.49ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
【0087】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Dを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Dの粘度平均分子量は40,700であ
った。構造式を以下に示す。
【0088】
【化22】
【0089】製造例5(実施例2のポリアリレート樹脂
Eの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(6.88g)と水
(560ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.086g)、ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチルビス
フェノールF](13.28g)およびビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシ
フェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BP
F]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,
o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17]
(2.59g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶
液を1L反応槽に移した。その後4−tert−ブチル
−2,6−ジメチルフェノール(0.4617g)を添
加した。
【0090】別途、テレフタル酸クロライド(13.4
3g)をジクロロメタン(280ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに5時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.27ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(280m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(210m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(210ml)にて
洗浄を2回行った。
【0091】洗浄後の有機層をメタノール(1500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Eを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Eの粘度平均分子量は33,800であ
った。構造式を以下に示す。
【0092】
【化23】
【0093】製造例6(実施例3のポリアリレート樹脂
Fの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(14.46g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1791g)、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチル
ビスフェノールF](17.62g)およびビス(4−
ヒドロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロ
キシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,
p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタ
ン [o,o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−
D;p,p’:o,p’:o,o’=約35:48:1
7] (13.76g)を添加、攪拌した後、このアルカ
リ水溶液を2L反応槽に移した。その後p−tert−
ブチルフェノール(0.4129g)を添加した。
【0094】別途、テレフタル酸クロライド(28.2
2g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(4.77ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
【0095】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Fを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Fの粘度平均分子量は29,800であ
った。構造式を以下に示す。
【0096】
【化24】
【0097】製造例7(実施例4のポリアリレート樹脂
Gの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(14.92g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1848g)、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチル
ビスフェノールF](10.91g)およびビス(4−
ヒドロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロ
キシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,
p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタ
ン [o,o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−
D;p,p’:o,p’:o,o’=約35:48:1
7] (19.88g)を添加、攪拌した後、このアルカ
リ水溶液を2L反応槽に移した。その後p−tert−
ブチルフェノール(0.4260g)を添加した。
【0098】別途、テレフタル酸クロライド(29.1
1g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(4.92ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
【0099】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Gを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Gの粘度平均分子量は27,200であ
った。構造式を以下に示す。
【0100】
【化25】
【0101】製造例8(実施例5のポリアリレート樹脂
Hの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(7.19g)と水
(560ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0899g)、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチルビ
スフェノールF](8.68g)、ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)メタン[p,p'-BPF](4.75g)および
(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン[o,p'-BPF](2.03g)を添加、攪拌した
後、このアルカリ水溶液を1L反応槽に移した。その後
4−tert−ブチル−2,6−ジメチルフェノール
(0.4827g)を添加した。
【0102】別途、テレフタル酸クロライド(14.0
4g)をジクロロメタン(280ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.37ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(280m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(210m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(210ml)にて
洗浄を2回行った。
【0103】洗浄後の有機層をメタノール(1500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Hを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Hの粘度平均分子量は33,300であ
った。構造式を以下に示す。
【0104】
【化26】
【0105】製造例9(実施例6のポリアリレート樹脂
Iの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(7.22g)と水
(560ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0894g)、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチルビ
スフェノールF](8.79g)、ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)メタン[p,p'-BPF](3.44g)およびビ
ス(2−ヒドロキシフェニル)メタン[o,o'-BPF](3.
44g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液を1
L反応槽に移した。その後4−tert−ブチル−2,
6−ジメチルフェノール(0.2446g)を添加し
た。
【0106】別途、テレフタル酸クロライド(14.0
9g)をジクロロメタン(280ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.38ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(280m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(210m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(210ml)にて
洗浄を2回行った。
【0107】洗浄後の有機層をメタノール(1500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Hを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Hの粘度平均分子量は46,400であ
った。構造式を以下に示す。
【0108】
【化27】
【0109】製造例10(比較例4のポリアリレート樹
脂Kの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(5.55g)と水
(430ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにp−tert−ブチルフェノール
(0.2321g)、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0.0681g)および2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン [ビスフェノール
A] (12.18g)を添加、攪拌した後、このアルカ
リ水溶液を1L反応槽に移した。
【0110】別途、テレフタル酸クロライド(5.52
g)およびイソフタル酸クロライド(5.52g)をジ
クロロメタン(210ml)に溶解し滴下ロート内に移
した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内のアルカ
リ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジクロロメタ
ン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時間攪拌を続
けた後、酢酸(1.83ml)、ジクロロメタン(10
0ml)を加え30分攪拌した。その後、攪拌を停止し
有機層を分離した。この有機層を0.1N水酸化ナトリ
ウム水溶液(400ml)にて洗浄を行い、次に0.1
N塩酸(400ml)にて洗浄を2回行い、さらに水
(400ml)にて洗浄を2回行った。
【0111】洗浄後の有機層をメタノール(1500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Kを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Kの粘度平均分子量は40,700であ
った。構造式を以下に示す。
【0112】
【化28】
【0113】製造例11(実施例7のポリアリレート樹
脂Lの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(9.02g)と水
(670ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.1117g)、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン[ビスフェノールA](9.
79g)およびビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン
[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン[o,p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキ
シメチルフェニル)メタン [o,o'-BPF]の混合物[本州化
学(株)製 BPF−D;p,p’:o,p’:o,
o’=約35:48:17] (8.59g)を添加、攪
拌した後、このアルカリ水溶液を2L反応槽に移した。
その後p−tert−ブチルフェノール(0.2577
g)を添加した。
【0114】別途、テレフタル酸クロライド(8.80
g)およびイソフタル酸クロライド(8.80g)をジ
クロロメタン(340ml)に溶解し滴下ロート内に移
した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内のアルカ
リ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジクロロメタ
ン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時間攪拌を続
けた後、酢酸(2.97ml)を加え30分攪拌した。
その後、攪拌を停止し有機層を分離した。この有機層を
0.1N水酸化ナトリウム水溶液(340ml)にて洗
浄を1回行い、次に0.1N塩酸(250ml)にて洗
浄を2回行い、さらに水(250ml)にて洗浄を2回
行った。
【0115】洗浄後の有機層をメタノール(2500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Lを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Lの粘度平均分子量は39,100であ
った。構造式を以下に示す。
【0116】
【化29】
【0117】製造例12(比較例5のポリアリレート樹
脂Mの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(4.51g)と水
(400ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにp−tert−ブチルフェノール
(0.3307g)、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0567g)および2,2−ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン
[テトラメチルビスフェノールA] (11.99g)を
添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液を1L反応槽に
移した。
【0118】別途、テレフタル酸クロライド(8.80
g)をジクロロメタン(200ml)に溶解し滴下ロー
ト内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内
のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジク
ロロメタン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時間
攪拌を続けた後、酢酸(1.49ml)、ジクロロメタ
ン(100ml)を加え30分攪拌した。その後、攪拌
を停止し有機層を分離した。この有機層を0.1N水酸
化ナトリウム水溶液(230ml)にて洗浄を行い、次
に0.1N塩酸(230ml)にて洗浄を2回行い、さ
らに水(230ml)にて洗浄を2回行った。
【0119】洗浄後の有機層をメタノール(1500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Mを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Mの粘度平均分子量は23,200であ
った。構造式を以下に示す。
【0120】
【化30】
【0121】製造例13(実施例8のポリアリレート樹
脂Nの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(5.01g)と水
(400ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0621g)、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン[テト
ラメチルビスフェノールA](6.77g)およびビス
(4−ヒドロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−
ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン[o,p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)
メタン [o,o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF
−D;p,p’:o,p’:o,o’=約35:48:
17] (4.77g)を添加、攪拌した後、このアルカ
リ水溶液を2L反応槽に移した。その後p−tert−
ブチルフェノール(0.1431g)を添加した。
【0122】別途、テレフタル酸クロライド(9.78
g)をジクロロメタン(200ml)に溶解し滴下ロー
ト内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内
のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジク
ロロメタン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時間
攪拌を続けた後、酢酸(1.65ml)を加え30分攪
拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。この
有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(200m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(150m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(150ml)にて
洗浄を2回行った。
【0123】洗浄後の有機層をメタノール(1000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Nを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Nの粘度平均分子量は19,400であ
った。構造式を以下に示す。
【0124】
【化31】
【0125】製造例14(比較例6のポリアリレート樹
脂Oの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(4.83g)と水
(400ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにp−tert−ブチルフェノール
(0.2018g)、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0601g)および2,2−ビス(4
−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン [ビスフ
ェノールC] (11.72g)を添加、攪拌した後、こ
のアルカリ水溶液を1L反応槽に移した。
【0126】別途、テレフタル酸クロライド(4.71
g)およびイソフタル酸クロライド(4.71g)をジ
クロロメタン(200ml)に溶解し滴下ロート内に移
した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内のアルカ
リ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジクロロメタ
ン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時間攪拌を続
けた後、酢酸(1.59ml)、ジクロロメタン(10
0ml)を加え30分攪拌した。その後、攪拌を停止し
有機層を分離した。この有機層を0.1N水酸化ナトリ
ウム水溶液(450ml)にて洗浄を行い、次に0.1
N塩酸(450ml)にて洗浄を2回行い、さらに水
(450ml)にて洗浄を2回行った。
【0127】洗浄後の有機層をメタノール(1000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Oを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Oの粘度平均分子量は40,000であ
った。構造式を以下に示す。
【0128】
【化32】
【0129】製造例15(実施例9のポリアリレート樹
脂Pの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(8.67g)と水
(670ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.1078g)、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン[ビスフェノ
ールC](10.51g)およびビス(4−ヒドロキシ
フェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシフェニ
ル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BPF]、ビ
ス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,o'-BP
F]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17]
(8.21g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶
液を2L反応槽に移した。その後p−tert−ブチル
フェノール(0.3694g)を添加した。
【0130】別途、テレフタル酸クロライド(8.46
g)およびイソフタル酸クロライド(8.46g)をジ
クロロメタン(340ml)に溶解し滴下ロート内に移
した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内のアルカ
リ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジクロロメタ
ン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時間攪拌を続
けた後、酢酸(2.86ml)を加え30分攪拌した。
その後、攪拌を停止し有機層を分離した。この有機層を
0.1N水酸化ナトリウム水溶液(340ml)にて洗
浄を1回行い、次に0.1N塩酸(250ml)にて洗
浄を2回行い、さらに水(250ml)にて洗浄を2回
行った。
【0131】洗浄後の有機層をメタノール(1750m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Pを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Pの粘度平均分子量は16,300であ
った。構造式を以下に示す。
【0132】
【化33】
【0133】製造例16(実施例10のポリアリレート
樹脂Qの製造法) 製造例15のテレフタル酸クロライド(8.46g)お
よびイソフタル酸クロライド(8.46g)をテレフタ
ル酸クロライド(16.92g)にかえて同様の重合操
作を行った。得られたポリアリレート樹脂Qの粘度平均
分子量は23,500であった。構造式を以下に示す。
【0134】
【化34】
【0135】製造例17(比較例7のポリアリレート樹
脂Rの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(4.69g)と水
(400ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにp−tert−ブチルフェノール
(0.1958g)、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0583g)および1,1−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン[ビスフェ
ノールZ] (11.90g)を添加、攪拌した後、この
アルカリ水溶液を1L反応槽に移した。
【0136】別途、テレフタル酸クロライド(4.57
g)およびイソフタル酸クロライド(4.57g)をジ
クロロメタン(200ml)に溶解し滴下ロート内に移
した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内のアルカ
リ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジクロロメタ
ン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時間攪拌を続
けた後、酢酸(1.54ml)、ジクロロメタン(10
0ml)を加え30分攪拌した。その後、攪拌を停止し
有機層を分離した。この有機層を0.1N水酸化ナトリ
ウム水溶液(450ml)にて洗浄を行い、次に0.1
N塩酸(450ml)にて洗浄を2回行い、さらにH2
O(450ml)にて洗浄を2回行った。
【0137】洗浄後の有機層をメタノール(1000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Rを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Rの粘度平均分子量は66,600であ
った。構造式を以下に示す。
【0138】
【化35】
【0139】製造例18(実施例11のポリアリレート
樹脂Sの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(14.22g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1762g)、1,1−ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン [ビスフェノー
ルZ](18.14g)およびビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシフェニ
ル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BPF]、ビ
ス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,o'-BP
F]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17] (1
3.54g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液
を2L反応槽に移した。その後p−tert−ブチルフ
ェノール(0.4062g)を添加した。
【0140】別途、テレフタル酸クロライド(13.8
8g)およびイソフタル酸クロライド(13.88g)
をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロート内
に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内のア
ルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジクロロ
メタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時間攪拌
を続けた後、酢酸(4.69ml)を加え30分攪拌し
た。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。この有機
層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560ml)に
て洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420ml)に
て洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて洗浄を
2回行った。
【0141】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Sを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Sの粘度平均分子量は22,400であ
った。構造式を以下に示す。
【0142】
【化36】
【0143】製造例19(実施例12のポリアリレート
樹脂Tの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(13.81g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1711g)、1,1−ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン [ビスフ
ェノールP](19.06g)およびビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシフ
ェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BP
F]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,
o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17] (1
3.15g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液
を2L反応槽に移した。その後p−tert−ブチルフ
ェノール(0.3944g)を添加した。
【0144】別途、テレフタル酸クロライド(13.4
8g)およびイソフタル酸クロライド(13.48g)
をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロート内
に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内のア
ルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジクロロ
メタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時間攪拌
を続けた後、酢酸(4.55ml)を加え30分攪拌し
た。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。この有機
層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560ml)に
て洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420ml)に
て洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて洗浄を
2回行った。
【0145】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Tを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Tの粘度平均分子量は24,500であ
った。構造式を以下に示す。
【0146】
【化37】
【0147】製造例20(実施例13のポリアリレート
樹脂Uの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(8.29g)と水
(670ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.1026g)、1,1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン [ビスフェ
ノールP](11.44g)およびビス(4−ヒドロキ
シフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシフェ
ニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BPF]、
ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,o'-B
PF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17]
(7.89g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶
液を2L反応槽に移した。その後p−tert−ブチル
フェノール(0.2366g)を添加した。
【0148】別途、テレフタル酸クロライド(16.1
7g)をジクロロメタン(340ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.73ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(340m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(250m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(250ml)にて
洗浄を2回行った。
【0149】洗浄後の有機層をメタノール(1750m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Uを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Uの粘度平均分子量は34,800であ
った。構造式を以下に示す。
【0150】
【化38】
【0151】製造例21(実施例14のポリアリレート
樹脂Vの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(7.41g)と水
(670ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0918g)、2,2−ビス−(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン [ビスフ
ェノールQ](13.40g)およびビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシフ
ェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BP
F]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,
o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17]
(7.05g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶
液を2L反応槽に移した。その後p−tert−ブチル
フェノール(0.2116g)を添加した。
【0152】別途、テレフタル酸クロライド(7.23
g)およびイソフタル酸クロライド(7.23g)をジ
クロロメタン(340ml)に溶解し滴下ロート内に移
した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽内のアルカ
リ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジクロロメタ
ン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時間攪拌を続
けた後、酢酸(2.44ml)を加え30分攪拌した。
その後、攪拌を停止し有機層を分離した。この有機層を
0.1N水酸化ナトリウム水溶液(340ml)にて洗
浄を1回行い、次に0.1N塩酸(250ml)にて洗
浄を2回行い、さらに水(250ml)にて洗浄を2回
行った。
【0153】洗浄後の有機層をメタノール(1750m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Vを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Vの粘度平均分子量は28,400であ
った。構造式を以下に示す。
【0154】
【化39】
【0155】<感光体の製造> 実施例1 下記構造を有するβ型オキシチタニウムフタロシアニン
10重量部を、4−メトキシ−4−メチルペンタノン−
2 150重量部に加え、サンドグラインドミルにて粉
砕分散処理を行った。
【0156】
【化40】
【0157】また、ポリビニルブチラール(電気化学工
業(株)製、商品名デンカブチラール#6000C)の
5% 1,2−ジメトキシエタン溶液100部及びフェ
ノキシ樹脂(ユニオンカーバイド社製、商品名PKH
H)の5% 1,2−ジメトキシエタン溶液100部を
混合してバインダー溶液を作製した。先に作製した顔料
分散液160重量部に、バインダー溶液100重量部、
適量の1,2−ジメトキシエタンを加え最終的に固形分
濃度4.0%の分散液を調製した。
【0158】この様にして得られた分散液を表面にアル
ミ蒸着したポリエチレンテレフタレートフィルム上に膜
厚が0.4μmになるように塗布して電荷発生層を設け
た。次にこのフィルム上に、次に示す正孔輸送性化合物
[1]50重量部、
【0159】
【化41】
【0160】および製造例4で製造したポリアリレート
樹脂D100重量部、酸化防止剤(イルガノックス10
76)8重量部、およびレベリング剤としてシリコーン
オイル0.03重量部をテトラヒドロフラン、トルエン
の混合溶媒(テトラヒドロフラン80重量%、トルエン
20重量%)640重量部に溶解させた液を塗布し、1
25℃で20分間乾燥し、乾燥後の膜厚が20μmとな
るように電荷輸送層を設けた。このときポリアリレート
樹脂Dのテトラヒドロフラン、トルエン混合溶媒に対す
る溶解性は良好であった。また、この塗布溶液は室温で
1週間放置後も固化等の変化は見られなかった。これら
溶解性及び溶液安定性の結果を表1に示す。 実施例2〜14、比較例1〜7 実施例1中のポリアリレート樹脂を、各製造例で製造し
たポリアリレート樹脂を用いて、実施例1と同様の操作
を行った。これら溶解性及び溶液安定性の結果を表1に
示す。
【0161】得られた各感光体については以下の評価を
行った。 [摩擦試験]トナーを上記で作成した感光体の上に0.
1mg/cm2となるよう均一に乗せ接触させる面にク
リーニングブレードと同じ材質のウレタンゴムを1cm
幅に切断したものを用い45度の角度で用い、荷重20
0g、速度5mm/sec、ストローク20mmでウレ
タンゴムを100回移動させたときの100回目の動摩
擦係数を協和界面化学(株)社製全自動摩擦摩耗試験機
DFPM−SSで測定した。結果を表2に示す。 [摩耗試験]感光体フィルムを直径10cmの円状に切
断しテーバー摩耗試験機(東洋精機社製)により、摩耗
評価を行った。試験条件は、23℃、50%RHの雰囲
気下、摩耗輪CS−10Fを用いて、荷重なし(摩耗輪
の自重)で1000回回転後の摩耗量を試験前後の重量
を比較することにより測定した。結果を表2に示す。
【0162】[電気特性]電子写真学会測定標準に従っ
て作製された電子写真特性評価装置(続電子写真技術の
基礎と応用、電子写真学会編、コロナ社、404−40
5頁記載)を使用し、上記感光体をアルミニウム製ドラ
ムに貼り付けて円筒状にし、アルミニウム製ドラムと感
光体のアルミニウム基体との導通を取った上で、ドラム
を一定回転数で回転させ、帯電、露光、電位測定、除電
のサイクルによる電気特性評価試験を行った。その際、
初期表面電位を−700Vとし、露光は780nm、除
電は660nmの単色光を用い、780nmの光を2.
4μJ/cm2照射した時点の表面電位(VL)を測定
した。VL測定に際しては、露光−電位測定に要する時
間を139msとした。測定環境は、温度25℃、相対
湿度50%(VL:NN)及び、温度5℃、相対湿度1
0%(VL:LL)下で行った。この表面電位(VL)
の値の絶対値が小さいほど応答性がよいことを示す。結
果を表2に示す。
【0163】
【表1】
【0164】
【表2】
【0165】以上の結果より、特定構造のポリアリレー
ト樹脂は、電気特性、特に応答性に優れ、且つ、非ハロ
ゲン系溶媒にも高い溶解性及び溶液安定性を示す。これ
を用いることにより、応答性に優れ、機械物性、耐磨耗
性、滑り性が良好な電子写真感光体が安定的に得られる
ことがわかる。
【0166】
【発明の効果】本発明の電子写真感光体樹脂は、特定構
造のポリアリレート樹脂を用いることにより、電気特
性、特に応答性に優れ、且つ、非ハロゲン系溶媒にも高
い溶解性を有し十分な機械的特性を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03G 5/06 312 G03G 5/06 312 313 313 315 315C 321 321 (72)発明者 佐藤 ちよ子 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学 株式会社内 (72)発明者 藤井 章照 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学 株式会社内 (72)発明者 臨 護 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学 株式会社内 Fターム(参考) 2H068 AA13 AA20 AA21 AA33 BA12 BA13 BA16 BA21 BB27 BB52 FA03 FA13 FA30 4J002 CF041 CF161 EN056 ER016 ES006 EU116 EU126 EU226 FD206 GF00 GP03 4J029 AA03 AA04 AB01 AB07 AC02 AD01 AE04 AE18 BB09A BB09B BB12A BB12B BB15A BB15B BB18 BE01 BE05A BE05B BF14A BF14B BG06X BH02 CB03A CB05A CB06A DB07 DB13 HB05 JC013 KE05 KE09 KE11

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導電性基体上に少なくとも感光層を有す
    る電子写真感光体において、該感光層の結着樹脂が、下
    記一般式(1)で表されるポリアリレート構造を有する
    ことを特徴とする電子写真感光体。 【化1】 一般式(1)中、Xは下記一般式(2)で表されるB、
    一般式(3)で表されるC、一般式(4)で表されるD
    からなる群から選ばれる少なくとも、2種類である。A
    は二価の有機基を表す。ただしAは下記B、C、Dと同
    一ではない。また、mおよびnは0<m/(m+n)<
    1である。 【化2】 【化3】 【化4】 Yは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、単結合、
    一般式(5)で表される2価の有機基、−O−,−S
    −、−CO−、−SO2−もしくは−(CH2s−のい
    ずれかを表す。sは2〜5の整数である。R1〜R24
    それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル
    基、炭素数1〜10のアルコキシル基、ハロゲン原子、
    ハロゲン化アルキル基、炭素数6以上20以下の置換さ
    れてもよい芳香族基を示す。 【化5】 (一般式(5)中、R25〜R28はそれぞれ独立に、水素
    原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10の
    アルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル
    基、炭素数6以上20以下の置換されてもよい芳香族基
    を示す。またR25とR26、R27とR28はお互いに結合し
    て環を形成してもよい。tは0以上の整数であり、R29
    は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアル
    コキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、炭
    素数6以上20以下の置換されてもよい芳香族基を示
    す。uは0〜4の整数である。) また、一般式(1)中の下記一般式(6)で表される構
    造は、下記一般式(7)で表される構造から選ばれる少
    なくとも1種である。 【化6】 【化7】 一般式(7)中、aおよびbは0≦a≦1、0≦b≦1
    であり、かつa+b=1である。
  2. 【請求項2】一般式(1)中、Aは下記一般式(8)で
    表される置換基を有してもよい芳香族環を2つ有する2
    価の有機基である請求項1に記載の電子写真感光体。 【化8】 (一般式(8)中、R30〜R37はそれぞれ独立に、水素
    原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10の
    アルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル
    基、炭素数6以上20以下の置換されてもよい芳香族基
    を示す。Zは単結合、もしくは−CR3839−のいずれ
    かを表す。R38、R39は水素原子、炭素数1〜10のア
    ルキル基、炭素数1〜10のアルコキシル基、ハロゲン
    原子、ハロゲン化アルキル基、炭素数6以上20以下の
    置換されてもよい芳香族基を示す。またR38とR39はお
    互いに結合して環を形成してもよい。ただし、一般式
    (8)で表される構造は一般式(2)と同一ではな
    い。)
  3. 【請求項3】一般式(1)中、mおよびnが、0.1≦
    m/(m+n)<1である請求項1または2に記載の電
    子写真感光体。
  4. 【請求項4】一般式(1)中、mおよびnが、0.2≦
    m/(m+n)≦0.7である請求項1または2に記載
    の電子写真感光体。
  5. 【請求項5】一般式(7)中、aおよびbが、0.5≦
    a/(a+b)≦1である請求項1〜4のいずれかに記
    載の電子写真感光体。
  6. 【請求項6】一般式(7)中、aおよびbが、a/(a
    +b)=1である請求項1〜4のいずれかに記載の電子
    写真感光体。
  7. 【請求項7】一般式(2)で表されるB、一般式(3)
    で表されるC、一般式(4)で表されるDにおいて、R
    1〜R24は水素原子であり、Yは−CH2−を表すことを
    特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の電子写真
    感光体。
  8. 【請求項8】一般式(2)で示されるB量が、一般式
    (1)で示されるポリアリレート構造を形成するA量、
    B量、C量およびD量中、0≦B量/(A量+B量+C
    量+D量)≦0.45であることを特徴とする請求項6
    または7に記載の電子写真感光体。
  9. 【請求項9】一般式(1)で表されるポリアリレート構
    造を有する樹脂の、粘度平均分子量が15,000〜1
    00,000である請求項1〜8のいずれかに記載の電
    子写真感光体。
  10. 【請求項10】電荷輸送材料として、カルバゾール誘導
    体、ヒドラゾン誘導体、芳香族アミン誘導体、スチルベ
    ン誘導体、ブタジエン誘導体、及びこれらの誘導体が複
    数結合したものからなる群から選ばれる少なくとも一種
    を含有する請求項1〜9のいずれかに記載の電子写真感
    光体。
  11. 【請求項11】電荷輸送材料が、芳香族アミン誘導体、
    スチルベン誘導体及びブタジエン誘導体が複数結合して
    なるのもである請求項10に記載の電子写真感光体。
  12. 【請求項12】電荷輸送材料が、下記一般式(9)で表
    される構造を有するものを含有する請求項10または1
    1に記載の電子写真感光体。 【化9】 (一般式(9)中、Ar1〜Ar4は各々独立して、置換
    基を有してもよいアリーレン基又は置換基を有してもよ
    い2価の複素環基を表す。Ar5,Ar6は、m1=0,
    2=0の時はそれぞれ、置換基を有してもよいアルキ
    ル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有し
    てもよい1価の複素環基を表し、m1=1,m2=1の時
    はそれぞれ置換基を有してもよいアルキレン基、置換基
    を有してもよいアリーレン基又は置換基を有してもよい
    2価の複素環基を表す。Qは直接結合または2価の残基
    を表す。R40〜R47は各々独立して水素原子、置換基を
    有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリー
    ル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有
    してもよい複素環基を表す。n1〜n4は各々独立して0
    〜4の整数を表す。また、m1,m2は各々独立して0又
    は1を表す。また、Ar1〜Ar6は互いに結合して環状
    構造を形成してもよい。)
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