JP2003117340A - ガス中の有害成分除去剤および有害成分含有ガスの処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有害成分含有ガスを処理するにあたって、高
温による反応効率の低下や除去剤の劣化を防ぎ、除去処
理効率を高く維持することができる有害成分除去剤を提
供する。 【解決手段】 金属水酸化物を主成分とし、不純物の含
有率が、１つの不純物成分あたり０.５ｗｔ％以下とさ
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程な
どから排出されるガス中の有害成分、例えば揮発性無機
水素化物、揮発性無機ハロゲン化物、有機金属化合物を
除去する除去剤、およびこれを用いた有害成分含有ガス
の処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工程においては、揮発性無機
水素化物（モノシラン（ＳiＨ₄）、アルシン（Ａs
Ｈ₃）、ホスフィン（ＰＨ₃）、ジボラン、セレン化水
素、ゲルマン、ジシラン等）、揮発性無機ハロゲン化物
（ジクロルシラン（ＳiＨ₂Ｃl₂）、トリクロルシラン、
四塩化ケイ素、四フッ化珪素、三塩化ホウ素、三フッ化
ホウ素（ＢＦ₃）等）、有機金属化合物（ジメチル亜
鉛、ジエチル亜鉛、トリメチルアルミニウム、トリエチ
ルガリウム、トリエチルアルミニウム、トリメチルガリ
ウム、ターシャリーブチルアルシン、ターシャリーブイ
ルホスフィン等）などが用いられている。これらは、人
体に対して有毒であったり、空気中で自然発火する性質
をもつ有害成分であるため、排ガス中の濃度が許容値未
満となるまで排ガスを処理する必要がある。

【０００３】有害成分を含む排ガスを処理する方法とし
て最も多用されているのは、有害成分を除去剤と呼ばれ
る固形物に吸着して除去する方法、すなわち乾式処理法
である。この他には、シラン等の自然発火性をもつガス
を強制的に燃焼させて酸化ケイ素（ＳiＯ₂）等の無害な
物質に転化させて処理する燃焼式処理法があり、これは
地球温暖化物質として規制対象に挙げられているパーフ
ルオロコンパウンド（ＰＦＣ）の処理にも利用されてい
る。また、加水分解または中和処理が可能な有害成分を
含むガスについては、このガスを酸、アルカリの水溶液
や、水と接触させて処理するスクラバー方式、別称湿式
処理法が用いられている。

【０００４】上記乾式処理法では、処理対象とするガス
によって、また使用されるガス条件によって多種多様の
除去剤が使用されている。例えば、珪藻土に水酸化ナト
リウム水溶液と過マンガン酸カリウムとを担持させた除
去剤や、珪藻土に塩化第二鉄水溶液を担持させた除去剤
が広く用いられている。これら除去剤は水分を多く含む
ため、これらを用いた処理方法は、半乾式と呼ばれる場
合もある。これらの除去剤は、安価であり、ランニング
コストが安い利点があるが、水分が揮散しやすい性質を
有するため、除去性能を長期間維持するのが難しい問題
がある。

【０００５】最近よく使用される除去剤としては、鉄
（Ｆe）、銅（Ｃu）、アルミニウム（Ａl）、マンガン
（Ｍn）、カルシウム（Ｃa）等の金属の酸化物を含むも
のがある。この金属酸化物系の除去剤の特徴としては、
単位体積当りの処理量が多いこと、ガスと除去剤との接
触効率が高く、除害装置をコンパクトにできること、除
去剤自身が不燃性であるため使用時の安全性が高いこと
などが挙げられる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記除
去剤では、除去剤の単価が高いためランニングコストが
高くなること、反応熱が大きいため処理時の温度が高く
なり、有害成分除去反応が阻害されることがあることな
どの問題があった。また半導体製造工程などでは、キャ
リアガスとして水素が用いられることがある。被処理ガ
スが水素を含む場合には、除去剤が還元されて発熱し、
除去性能が低下することがあった。これに対応するた
め、金属水酸化物系の除去剤が提案されている。金属水
酸化物系の除去剤は、金属酸化物系の除去剤に比べて反
応熱が小さく、反応時の発熱が低いこと、除去剤の処理
能力が大きいこと、水素還元しにくいことなどの利点を
有する。

【０００７】しかしながら、金属水酸化物系の除去剤に
おいても、反応時の発熱量を十分に低くすることは難し
く、除去反応時の発熱により除去性能が劣化することが
あった。また水素還元性についても十分であるとはいえ
ず、還元反応による発熱により除去性能が低下すること
があった。特に金属水酸化物として水酸化第二銅を含む
除去剤は、高温になると化学的に不安定となり経時的に
劣化しやすい問題があった。また被処理ガス中の有害成
分濃度が高い場合や、空塔速度が高い場合には、除去効
率が低下しやすくなる問題があった。除去剤が高温とな
るのを防ぐために、除去剤が充填されている充填塔を水
冷したり、充填塔内に設けた冷却管に冷却水を流すこと
が行われているが、除去剤を十分に冷却するのは難しい
のが現状である。

【０００８】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、有害成分含有ガスを処理するにあたって、高温によ
る反応効率の低下や除去剤の劣化を防ぎ、除去処理効率
を高く維持することができる有害成分除去剤および有害
成分含有ガスの処理方法を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、従来の金属
水酸化物系の除去剤が、不純物を多量に含んでおり、不
純物含有量の少ない高純度品に比べ、除害反応時の発熱
が高く、かつ嵩密度が小さく、単位体積当たりの除去剤
の充填量が小さくなることを見出した。本発明は、この
知見に基づいてなされたもので、金属水酸化物を主成分
とし、不純物の含有率が、１つの不純物成分あたり０.
５ｗｔ％以下であることを特徴とする。不純物成分とし
ては、Ｎa、Ｋ、Ｍg、Ａl、Ｃa、Ｆe、Ｎi、Ｚn、Ｃd、
Ｐb、Ｓi、リン、硫黄、塩素を挙げることができる。こ
れら不純物成分のなかでも特に、リン、硫黄、塩素のうち
少なくとも１つの単体またはその化合物については、そ
の含有率が低い方が好ましい。本発明の除去剤には、ベ
リリウム、マグネシウム、バナジウム、モリブデン、コ
バルト、ニッケル、銅、亜鉛、ホウ素、アルミニウム、
ケイ素、鉛、アンチモン、ビスマスからなる群から選ば
れた少なくとも１種の単体またはその化合物（水酸化銅
および酸化銅を除く）を安定化剤として含有させるのが
好ましい。金属水酸化物は、結晶性の水酸化第二銅とす
るのが好ましい。本発明の有害成分除去剤は、粒状に形
成し、その平均粒径を１ｍｍ以上とするのが好ましい。
本発明の有害成分含有ガスの処理方法は、上記有害成分
除去剤に、有害成分含有ガスを接触させて処理すること
を特徴とする。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明のガス中の有害成分除去剤
は、金属水酸化物を主成分とし、不純物の含有率が、１
つの不純物成分あたり０.５ｗｔ％以下（好ましくは０.
２ｗｔ％以下）とされている。主成分となる金属水酸化
物としては、水酸化第二銅、水酸化第二鉄、水酸化アル
ミニウム、水酸化カルシウム、水酸化マンガンを挙げる
ことができる。なかでも、水酸化第二銅、特に結晶性水
酸化第二銅を使用することが好ましい。例えば、低不純
物含有率（１つの不純物成分あたり０.５ｗｔ％以下）
の高純度水酸化第二銅を主成分とする除去剤を用いて、
シランを除害処理する場合には、一般的な工業用水酸化
第二銅を用いた場合に比べて処理能力を６倍程度まで高
めることができる。またホスフィンを除害処理する場合
には発熱温度を低くすることができる。上記高純度水酸
化第二銅では、銅含有率が６０％以上であり、水酸化第
二銅の一般品（銅含有率５５〜８５％程度）に比べて高
く、カラム内に充填して使用したときの単位量当たりの
水酸化第二銅量を１０％程度増加させることができる。
また高純度水酸化第二銅は、一般品（タップ密度０．４
〜０．５ｇ／ｍＬ）に比べ、タップ密度を高くできるた
め（０．８ｇ／ｍＬ以上）、充填密度を２０〜３０％高
め、圧壊強度も数１０％向上させることができる。した
がって、除去剤としての処理能力を高めるとともに、取
り扱い性を向上させることができる。特に、結晶性水酸
化第二銅は、他の金属水酸化物に比べて温度に対する安
定性が高いため、被処理ガスの有害成分の濃度が高く、
反応熱が高い場合でも、除去性能の劣化が起こりにく
い。従って、反応熱によって除去剤の温度が常温以上に
上昇するような場合でも、冷却を行うことなく、安定し
た処理を行うことができる。

【００１１】不純物成分としては、Ｎa、Ｋ、Ｍg、Ａ
l、Ｃa、Ｆe、Ｎi、Ｚn、Ｃd、Ｐb、Ｓi、リン、硫黄、
塩素の単体またはその化合物を挙げることができる。こ
れら不純物成分のなかでも特に、リン、硫黄、塩素のうち
少なくとも１つの単体またはその化合物については、そ
の含有率が低い方が好ましい。リンの化合物としてはＰ
Ｏ₃を挙げることができる。硫黄の化合物としてはＳＯ₄
を挙げることができる。特に、りん酸、硫酸、塩酸等の
鉱酸成分の含有率は低い方が良い。不純物の含有率が、
１つの不純物成分あたり０.５ｗｔ％を越える場合に
は、除去反応時の発熱量が大きくなり、除去性能の劣化
が生じる。なお、不純物を低減するための金属水酸化物
の精製処理方法は、特に限定されるものではなく、任意
の方法で行なうことができる。

【００１２】本発明の有害成分除去剤は、ベリリウム、
マグネシウム、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニ
ッケル、銅、亜鉛、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、
鉛、アンチモン、ビスマスからなる群から選ばれた少な
くとも１種の単体またはその化合物（水酸化銅および酸
化銅を除く）を安定化剤として含むことが好ましい。上
記元素の化合物としては、上記元素の酸化物、水酸化
物、炭酸塩、炭酸水素塩、塩基性炭酸塩、酸化水酸化物
を挙げることができる。この安定化剤を用いることによ
って、除去剤の劣化を防ぐとともに、除去反応時の反応
熱を抑制して、初期性能を長時間維持することができ、
安定化した除害処理を行なうことができる。高純度水酸
化第二銅への安定化剤の添加量は、安定化剤の種類によ
って適宜設定されるが、通常は、０．０１〜１重量％程
度が適当である。この添加量が上記範囲を下回ると十分
な安定化効果を得ることができなくなるおそれがある。

【００１３】本発明の除去剤は、粒状に形成するのが好
ましい。粒状にした場合の除去剤の形状は、球状、円板
状、円柱状等とすることができる。粒状の除去剤は、平
均粒径を１ｍｍ以上とするのが好ましい。この平均粒径
が上記範囲未満であると、被処理ガスと除去剤との接触
効率が高くなりすぎ、発熱により局所的に高温部分が現
出し、暴走反応（除去剤が被処理ガス中のＨ₂と反応す
る発熱反応）が起こりやすくなる。また、上記平均粒径
が大きすぎれば、被処理ガスと除去剤との接触効率が低
下するため、平均粒径は１０ｍｍ以下とするのが好まし
い。除去剤を、平均粒径が上記範囲になるように形成す
ることにより、被処理ガスと除去剤との接触効率が適度
に抑制されて反応部分（反応帯）が広くなり、局所的な
発熱を抑えることができるとともに、除去剤全体を十分
に有効利用することが可能となる。

【００１４】以下、上記有害成分除去剤を用いて有害成
分含有ガスを処理する方法について説明する。本発明の
有害成分含有ガスの処理方法の対象となる有害成分とし
ては、揮発性無機水素化物（モノシラン、アルシン、ホ
スフィン、ジボラン、セレン化水素、ゲルマン、ジシラ
ン等）、揮発性無機ハロゲン化物（ジクロルシラン、ト
リクロルシラン、四塩化ケイ素、四フッ化珪素、三塩化
ホウ素、三フッ化ホウ素等）、有機金属化合物（ジメチ
ル亜鉛、ジエチル亜鉛、トリメチルアルミニウム、トリ
エチルガリウム、トリエチルアルミニウム、トリメチル
ガリウム、ターシャリーブチルアルシン、ターシャリー
ブイルホスフィン等）などを挙げることができる。

【００１５】本発明の処理方法では、有害成分含有ガス
を、上述の高純度金属酸化物を主成分とする有害成分除
去剤に接触させることによって除害処理を行う。有害成
分含有ガスを除去剤に接触させる際の温度条件は、３５
℃以下（好ましくは１０〜３５℃、さらに好ましくは１
５〜２５℃）とするのが好ましい。この温度が上記範囲
を越えると水素還元反応が起こりやすくなる。また温度
が上記範囲未満であると処理効率が低下する。

【００１６】

【実施例】以下、具体例に基づいて、本発明の有害成分
除去剤の効果を説明する。 ＜実施例１＞除去剤中の不純物成分含有量が、有害成分
除去処理性能に与える影響を調べた。市販の水酸化第二
銅を原料として、以下に示すサンプル１〜１６を作製し
た。この市販の水酸化第二銅には、Ｃu成分の他にＮa、
Ｋ、Ｍg、Ａl、Ｓi、Ｐ、Ｓ、Ｃl、Ｃa、Ｆe、Ｎi、Ｚ
n、Ｃd、Ｐｂが含有されていた。Ｎａ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆ
ｅ、Ｚｎの含有率はそれぞれ０．１ｗｔ％であり、Ｐ、
Ｓ、Ｃｌの含有率は、それぞれ１〜５ｗｔ％であった。

【００１７】（サンプル１）上記水酸化第二銅中のＣu
以外の各不純物成分の含有率をそれぞれ０.２ｗｔ％以
下に低減して調製し、これを転動造粒機で３ｍｍφの粒
状となるように成形した。

【００１８】（サンプル２〜１５）上記サンプル１と同
様の不純物成分含有量に調整した水酸化第二銅に、以下
の不純物成分を添加して、転動造粒機で３ｍｍφの粒状
となるように成形した。 サンプル２：Ｈ₃ＰＯ₄の添加により、３ｗｔ％Ｐを含有
させた。 サンプル３：Ｈ₂ＳＯ₄の添加により、３ｗｔ％Ｓを含有
させた。 サンプル４：ＨＣｌの添加により、１ｗｔ％Ｃlを含有
させた。 サンプル５：１ｗｔ％Ｍg サンプル６：０.５ｗｔ％Ｎa サンプル７：０.５ｗｔ％Ａl サンプル８：０.５ｗｔ％Ｓi サンプル９：０.５ｗｔ％Ｃa サンプル１０：０.５ｗｔ％Ｆe サンプル１１：０.５ｗｔ％Ｎi サンプル１２：０.５ｗｔ％Ｚn サンプル１３：０.５ｗｔ％Ｋ サンプル１４：０.５ｗｔ％Ｃd サンプル１５：０.５ｗｔ％Ｐb

【００１９】（サンプル１６）上記市販の水酸化第二銅
を不純物成分含有量未調整のまま用いた。

【００２０】これら各サンプルを、内径４０ｍｍのカラ
ムに充填高さ２００ｍｍになるように充填し、ここに窒
素ベースの１％シラン（ＳiＨ₄）を１Ｌ／ｍｉｎの流量
で流通させて破過時間を測定した。カラムの出口にはＳ
iＨ₄の検知器（バイオニクス社製、商品番号「ＴＧ−４
０００ＢＡ」）を設置して、前記カラムを通過した流出
ガス中のＳiＨ₄を検出し、ＳiＨ₄除去処理量（Ｌ／ｋ
g）を算出した。結果を表１に示す。

【００２１】

【表１】

【００２２】表１より、以下の事項が確認された。 （１）不純物を多量に含むサンプル１６の除去剤に比
べ、不純物含有率が低いサンプル１の除去剤は、優れた
除去処理能力を示した。 （２）Ｐ、Ｓ、Ｃｌを添加したサンプル２〜４の除去剤
は、他の不純物を添加したサンプル５〜１５の除去剤と
比べて、除去処理能力が劣っていた。

【００２３】＜実施例２＞実施例１に示したサンプル１
〜１６の除去剤について、ホスフィン（ＰＨ₃）除去処
理反応時のカラム内温度を測定した。結果を表２に示
す。

【００２４】

【表２】

【００２５】表２より、以下の事項が確認された。 （１）不純物を多量に含むサンプル１６の除去剤を用い
た場合に比べ、不純物含有率が低いサンプル１の除去剤
を用いた場合には、カラム内温度が低くなった。 （２）不純物成分含有率が、１つの成分あたり０.２ｗ
ｔ％以下に調製された高純度の水酸化第二銅からなるサ
ンプル１、およびこれにＳiを０.５ｗｔ％添加したサン
プル８では、反応熱による温度上昇を低く抑えることが
できた。 （３）Ｐ、Ｓ、Ｃｌを添加したサンプル２〜４の除去剤
は、他の不純物を添加したサンプル５〜１５の除去剤に
比べて、処理時の発熱量が大きくなった。 （４）Ｍｇ、Ｎａ、Ｋを添加したサンプル５、６、１３
の除去剤は、処理時の発熱量が大きくなった。

【００２６】＜実施例３＞以下に示す除去剤について、
タップ密度を測定した。タップ密度は、除去剤をメスシ
リンダに充填し、メスシリンダに繰り返し軽い衝撃を与
えた後に除去剤の充填密度を測定することにより測定し
た。不純物成分含有量を調整していない市販品の水酸化
第二銅（粉末）は、タップ密度が０.３〜０.６ｇ／ｍＬ
と非常に小さく、これを造粒してもタップ密度は１.０
ｇ／ｍＬを越える値にすることができなかった。一方、
不純物成分を調整して純度を高めた水酸化第二銅の粉末
のタップ密度は、０.７〜１.３ｇ／ｍＬと大きく、これ
を造粒したものはタップ密度を１.２ｇ／ｍＬ以上とす
ることができた。

【００２７】この結果より、不純物成分の少ない水酸化
第二銅を用いた除去剤は、充填密度を大きくすることが
でき、カラム体積当たりの処理量を大きくできることが
わかる。このことから、不純物成分含有率を低くするこ
とによって、破過時間を長くすることができ、除去剤の
交換頻度を低くすることができることがわかる。従っ
て、除去剤の交換にかかる手間やコストを削減できる。

【００２８】＜実施例４＞実施例１に示したサンプル１
〜１６の除去剤について、除去剤の安定性とこれに含有
される不純物成分との関係について調べた。サンプル１
〜１６の除去剤を、１００℃の条件下で大気中に置き、
その色が青色から黒色へ変化するまでの時間を測定し
た。結果を表３に示す。なお、水酸化第二銅は通常青色
であり、高温下では徐々に酸化銅に変化して、黒色を呈
するようになる。

【００２９】

【表３】

【００３０】表３より、以下の事項が確認された。 （１）Ｐ、Ｓ、Ｃｌなどの不純物成分を添加したサンプ
ル２〜４の除去剤では、黒色への変色が早く、劣化しや
すかった。 （２）Ｍg、Ａl、Ｓi、Ｎi、Ｚn、Ｐbを０.５〜１.０ｗ
ｔ％程度含むサンプル５、７、８、１１、１２、１５で
は、黒色への変色時間が６〜１２時間と長く、これらの
除去剤は劣化しにくかった。

【００３１】＜実施例５＞除去剤に添加する安定化剤の
影響を調べた。 （サンプル１７）市販の水酸化第二銅を原料とし、不純
物成分の含有率を、１つの不純物成分あたり０.５ｗｔ
％以下とした高純度結晶性水酸化第二銅を、転動造粒機
で３ｍｍφの粒状となるように成形した。

【００３２】（サンプル１８〜３９）上記サンプル１７
と同様の高純度結晶性水酸化第二銅に、表４に示す各種
物質と水とを加えてよく混合した後、転動造粒機にて直
径３ｍｍの大きさに造粒し、高純度結晶性水酸化第二銅
と各種物質とが共存した状態の除去剤を作成した。な
お、特記した以外の各物質（添加剤）の添加量は０．５
ｗｔ％である。 （サンプル４０）市販の水酸化第二銅を不純物成分含有
量未調整のまま用いた。

【００３３】サンプル１７〜４０の除去剤を、１００℃
の条件下で大気中に置き、その色が青色から黒色へ変化
するまでの時間を測定した。結果を表４に示す。

【００３４】

【表４】

【００３５】表４より、以下の事項が確認された。 （１）不純物成分含有率を１成分あたり０．５ｗｔ％以
下とした高純度結晶性水酸化第二銅からなるサンプル１
７の除去剤は、変色するまでの時間が長く、安定性に優
れていた。 （２）この高純度結晶性水酸化第二銅にＭｇ、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｃｏ、Ｂを添加し
たサンプル１８〜３１の除去剤は、サンプル１７の除去
剤に比べ、変色するまでの時間が長かった。このことか
ら、サンプル１８〜３１で用いた添加剤を安定化剤とし
て添加することによって、除去剤の安定性をさらに高め
ることができることがわかる。

【００３６】＜実施例６＞除去剤の粒径と発熱温度の関
係について調べた。市販の水酸化第二銅の不純物成分含
有率を１成分あたり０.２ｗｔ％以下となるように調製
した除去剤（粉体）を、内径６０ｍｍのカラムに充填し
た。また同様の除去剤を、表５に示す平均粒径となるよ
うに粒状に成形し、これをカラムに充填した。このカラ
ムに、水素ベースガスに１vol％ホスフィン（ＰＨ₃）を
含有させたガスを、１.５Ｌ／ｍｉｎの流量で導入し
た。この際、熱電対をカラムに差し込んで、カラム中心
部の温度を測定した。反応後の除去剤を、Ｘ線回折分析
に供し、除去剤が還元されたかどうかを評価した。結果
を表５に示す。

【００３７】

【表５】

【００３８】表５より、以下の事項が確認された。 （１）粉体の除去剤と、平均粒径０.６ｍｍの除去剤で
は、金属Ｃｕが生成しており、水素還元されていたこと
がわかった。 （２）平均粒径１.０ｍｍと２.０ｍｍの除去剤では、Ｃ
u3Ｐが検出されたが、金属Ｃuは検出されず、水素還元
が起こっていないことが確認された。以上より、平均粒
径を１ｍｍ以上とすることにより、発熱を低く抑えるこ
とができ、水素還元による暴走反応を防ぐことができる
ことがわかる。

【００３９】

【発明の効果】本発明のガス中の有害成分除去剤は、金
属水酸化物を主成分とし、不純物の含有率が、１つの不
純物成分あたり０.５ｗｔ％以下であるので、有害成分
除去処理時の発熱を抑え、処理時の温度条件を低く保つ
ことができる。従って、高温による反応効率の低下や除
去剤の劣化を防ぎ、除去処理効率を高く維持することが
できる。また、充填密度を高め、充填体積あたりの処理
量を高めることができる。さらには、除去剤を粒状に形
成し、その平均粒径を１ｍｍ以上とすることによって、
水素還元による発熱での暴走反応を防止することがで
き、除去効率を高めることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 20/28 Ｂ０１Ｄ 53/34 １３４Ｅ (72)発明者 新田 昭彦 東京都港区西新橋１丁目16番７号 日本酸 素株式会社内 (72)発明者 小関 修一 東京都港区西新橋１丁目16番７号 日本酸 素株式会社内 (72)発明者 万行 大貴 東京都港区西新橋１丁目16番７号 日本酸 素株式会社内 (72)発明者 小野 宏之 東京都港区西新橋１丁目16番７号 日本酸 素株式会社内 Ｆターム(参考） 4D002 AA18 AA22 AA26 AA27 AA40 AC10 BA03 CA07 DA04 DA05 DA08 DA12 DA21 DA22 DA23 GA01 GB08 GB12 HA01 4G066 AA02D AA03D AA15B AA15D AA16D AA18D AA19D AA20D AA21D AA22D AA24D AA25D AA27D BA09 BA20 CA32 CA33 CA45 DA02

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガス中の有害成分を除去する除去剤であ
   って、金属水酸化物を主成分とし、不純物の含有率が、
   １つの不純物成分あたり０.５ｗｔ％以下であることを
   特徴とするガス中の有害成分除去剤。
2. 【請求項２】 不純物成分が、リン、硫黄、塩素のうち
   少なくとも１つの単体またはその化合物であることを特
   徴とする請求項１記載のガス中の有害成分除去剤。
3. 【請求項３】 ベリリウム、マグネシウム、バナジウ
   ム、モリブデン、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ホウ
   素、アルミニウム、ケイ素、鉛、アンチモン、ビスマス
   からなる群から選ばれた少なくとも１種の単体またはそ
   の化合物（水酸化銅および酸化銅を除く）を安定化剤と
   して含むことを特徴とする請求項１または２記載のガス
   中の有害成分除去剤。
4. 【請求項４】 金属水酸化物は、結晶性の水酸化第二銅
   であることを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか１
   項記載のガス中の有害成分除去剤。
5. 【請求項５】 粒状に形成され、その平均粒径が１ｍｍ
   以上とされていることを特徴とする請求項１〜４のうち
   いずれか１項記載のガス中の有害成分除去剤。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のうちいずれか１項記載の
   ガス中の有害成分除去剤に、有害成分含有ガスを接触さ
   せて処理することを特徴とする有害成分含有ガスの処理
   方法。