JPS62286525A - 排ガスの浄化方法 - Google Patents
排ガスの浄化方法Info
- Publication number
- JPS62286525A JPS62286525A JP61128217A JP12821786A JPS62286525A JP S62286525 A JPS62286525 A JP S62286525A JP 61128217 A JP61128217 A JP 61128217A JP 12821786 A JP12821786 A JP 12821786A JP S62286525 A JPS62286525 A JP S62286525A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- exhaust gas
- niobium
- purifying agent
- agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000012629 purifying agent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 claims abstract description 20
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 15
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 claims abstract description 6
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-N selane Chemical compound [SeH2] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910000058 selane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 7
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- -1 diborane Chemical compound 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 27
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 5
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 4
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 abstract description 2
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- WPCMRGJTLPITMF-UHFFFAOYSA-I niobium(5+);pentahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Nb+5] WPCMRGJTLPITMF-UHFFFAOYSA-I 0.000 abstract description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000013049 sediment Substances 0.000 abstract 2
- 229910000070 arsenic hydride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 9
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 5
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical group [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052909 inorganic silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 235000007686 potassium Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- JYIFRKSFEGQVTG-UHFFFAOYSA-J tetrachlorotantalum Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)Cl JYIFRKSFEGQVTG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は排ガスの浄化方法に関し、さらに詳細には半導
体製造工程などから排出される有毒成分を含有する排ガ
スの浄化方法に関する。
体製造工程などから排出される有毒成分を含有する排ガ
スの浄化方法に関する。
近年、排ガス工業やオブトエレクトロニクス工業の発展
とともに、アルシン、ホスフィン、ジボラン、およびセ
レン化水素などの極めて毒性の強い水素化物の使用量が
増加している。
とともに、アルシン、ホスフィン、ジボラン、およびセ
レン化水素などの極めて毒性の強い水素化物の使用量が
増加している。
これらの有毒成分は、シリコン半導・体や化合物半導体
製造工業あるいは光フアイバー製造工業などにおいて、
原料あるいはドーピングガスどして不可決な物質である
。
製造工業あるいは光フアイバー製造工業などにおいて、
原料あるいはドーピングガスどして不可決な物質である
。
半導体プロセスあるいは光フアイバー製造プロセスなど
から排出される排ガス中(こは、未反応の有毒成分が含
有される場合が多い。これらの成分はそれぞれ生物にと
って極めて有毒であるから、環境を破壊しないためにガ
スの排出に先立って除去する必要がある。
から排出される排ガス中(こは、未反応の有毒成分が含
有される場合が多い。これらの成分はそれぞれ生物にと
って極めて有毒であるから、環境を破壊しないためにガ
スの排出に先立って除去する必要がある。
これらの有毒成分を除去する方法としては、スクラバー
で吸収分解させる湿式法と吸着剤または酸化剤などの浄
化剤を充填した充填筒内を流して除去する乾式法とが知
られている。一般的に湿式法は、吸収液による腐食や後
処理などの困難性があるため、装置の保守に費用を要す
るという欠点がある。
で吸収分解させる湿式法と吸着剤または酸化剤などの浄
化剤を充填した充填筒内を流して除去する乾式法とが知
られている。一般的に湿式法は、吸収液による腐食や後
処理などの困難性があるため、装置の保守に費用を要す
るという欠点がある。
また、浄化剤を用いる方法としては、硝酸銀などの硝酸
塩類を多孔質担体に担持せしめたもの、あるいは塩化第
二鉄などの金属塩化物を多孔質担体に含浸せしめたもの
を吸着剤として用い、ホスフィン、アルシンを酸化的に
除去する方法(特開昭56−89837号公報)が知ら
れている。
塩類を多孔質担体に担持せしめたもの、あるいは塩化第
二鉄などの金属塩化物を多孔質担体に含浸せしめたもの
を吸着剤として用い、ホスフィン、アルシンを酸化的に
除去する方法(特開昭56−89837号公報)が知ら
れている。
しかしながら、この方法は、湿式法におけるような諸欠
点は解決されるが、CVD (化学蒸着)プロセスなど
の排ガスを、予め湿潤化処理する必要があるため、装置
が複雑になるという欠点を有する。
点は解決されるが、CVD (化学蒸着)プロセスなど
の排ガスを、予め湿潤化処理する必要があるため、装置
が複雑になるという欠点を有する。
さらに、無機珪酸塩にアルカリ水溶液、酸化剤水溶液ま
たはアルカリと酸化剤との水溶液をそざぞれ含浸させた
三種の吸収剤を用いて、アルシン、ホスフィンなどを処
理する方法(特公昭59−49822号公報)も提案さ
れている。この方法も前記した方法と同様に結局は湿潤
状態における処理であっ湿式法と同様な欠点を有してい
る。
たはアルカリと酸化剤との水溶液をそざぞれ含浸させた
三種の吸収剤を用いて、アルシン、ホスフィンなどを処
理する方法(特公昭59−49822号公報)も提案さ
れている。この方法も前記した方法と同様に結局は湿潤
状態における処理であっ湿式法と同様な欠点を有してい
る。
アルシンを乾式で除去する方法として、化学戦争におい
ては活性炭を充填したガスマスクが用いられた。この活
性炭の吸着力を利用し、さらに種々の物質をこれに添加
して、その能力向上をはかる試みは多い。例えば活性炭
を単体とし、それに、銅化合物とアルカリ金属化合物、
−アルカリ土順化合物およびAl5Ti、 V 、 C
r、Mn、Fe、 Co、 Ni、 Zn、 Cd5P
bの化合物の一種以上とを含有させてなるアルシン吸着
剤も出願されている(特開昭59−160535号公報
)。この方法は完全に乾式で行なえるので有利であるが
、アルシンの除去能力が比較的低いという欠点がある。
ては活性炭を充填したガスマスクが用いられた。この活
性炭の吸着力を利用し、さらに種々の物質をこれに添加
して、その能力向上をはかる試みは多い。例えば活性炭
を単体とし、それに、銅化合物とアルカリ金属化合物、
−アルカリ土順化合物およびAl5Ti、 V 、 C
r、Mn、Fe、 Co、 Ni、 Zn、 Cd5P
bの化合物の一種以上とを含有させてなるアルシン吸着
剤も出願されている(特開昭59−160535号公報
)。この方法は完全に乾式で行なえるので有利であるが
、アルシンの除去能力が比較的低いという欠点がある。
またアルシンを吸着させたあと、吸着剤が空気にふれる
と発熱し、条件によっては活性炭が発火する危険がある
ので、工業的に使用するにはその使用条件が限定される
。
と発熱し、条件によっては活性炭が発火する危険がある
ので、工業的に使用するにはその使用条件が限定される
。
本発明者らは、これら従来技術の欠点を補うべく鋭意検
討した結果、(1)酸化第二銅および(2)ニオブ、タ
ンタルなどのそれぞれの酸化物を配合した浄化剤に有毒
成分を含有する排ガスを接触させるとこれらの有毒成分
が効率よく除去されることを見出し、さらに研究を続は
本発明を完成した。
討した結果、(1)酸化第二銅および(2)ニオブ、タ
ンタルなどのそれぞれの酸化物を配合した浄化剤に有毒
成分を含有する排ガスを接触させるとこれらの有毒成分
が効率よく除去されることを見出し、さらに研究を続は
本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
有毒成分としてアルシン、ホスフィン、ジボランおよび
セレン化水素の一種以上を含有するガスと、浄化剤とを
接触させて当該ガスから有毒成分を吸着除去する排ガス
の浄化方法において、浄化剤として (1)酸化第二銅、および(2)ニオブ、タンタルから
なる群から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物を配合
してなり、その組成が金属の原子比M/ (M+Cu) 〔式中、Cuは銅の原子数を示し、Mはニオブまたはタ
ンタルの原子数(これらの成分を二種以上使用するとき
はそれらの原子数の合計)を示す〕 で0.01〜0.7であり、かつその組成物を成形して
なる密度1.5〜3.5g/mlの成形体を用いること
を特徴とする排ガスの浄化方法である。
セレン化水素の一種以上を含有するガスと、浄化剤とを
接触させて当該ガスから有毒成分を吸着除去する排ガス
の浄化方法において、浄化剤として (1)酸化第二銅、および(2)ニオブ、タンタルから
なる群から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物を配合
してなり、その組成が金属の原子比M/ (M+Cu) 〔式中、Cuは銅の原子数を示し、Mはニオブまたはタ
ンタルの原子数(これらの成分を二種以上使用するとき
はそれらの原子数の合計)を示す〕 で0.01〜0.7であり、かつその組成物を成形して
なる密度1.5〜3.5g/mlの成形体を用いること
を特徴とする排ガスの浄化方法である。
本発明に使用する浄化剤は完全に乾燥したガス中の有毒
成分をも何隻支障なく除去することが可能なので、湿潤
処理が不要となり、そのメリットは大きい。
成分をも何隻支障なく除去することが可能なので、湿潤
処理が不要となり、そのメリットは大きい。
また本発明で用いる浄化剤は、従来の浄化剤に比べ、浄
化剤の単位重量当たりに対する有毒成分の除去量および
除去速度が格段に大きいという利点を有する。
化剤の単位重量当たりに対する有毒成分の除去量および
除去速度が格段に大きいという利点を有する。
本発明の浄化剤によれば単なる吸着や吸収と異なり、有
毒ガスは浄化剤と反応して浄化剤に固定されることによ
って排ガスから除去される。
毒ガスは浄化剤と反応して浄化剤に固定されることによ
って排ガスから除去される。
更に本発明の浄化剤は使用後の浄化剤が空気にふれ発熱
することはあっても、発火に到ることはなく、安全性は
高い。
することはあっても、発火に到ることはなく、安全性は
高い。
本発明は、窒素ガス、水素ガスまたは空気などと、アル
シン、ホスフィン、ジボラ/およびセレン化水素などの
水素化物の一種以上を含有するガスに適用される。
シン、ホスフィン、ジボラ/およびセレン化水素などの
水素化物の一種以上を含有するガスに適用される。
本発明で用いる浄化剤は、
(1)酸化第二銅、および(2)ニオブ、タンタルから
なる群から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物を配合
してなり、その組成が金属の原子比M/ (M+Cu) 〔式中、Cuは銅の原子数を示し、Mはニオブまたはタ
ンタルの原子数(これらの成分を二種以上使用するとき
はそれらの原子数の合計)を示す] で0.01〜0,7、好ましくは0.03〜0.55で
あり、かつその組成物を成形してなる密度1.5〜3.
5g/mlの成形体である。原子比が0.01より少な
いと飽和浄化量が少ないばかりでなく成形もてきない。
なる群から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物を配合
してなり、その組成が金属の原子比M/ (M+Cu) 〔式中、Cuは銅の原子数を示し、Mはニオブまたはタ
ンタルの原子数(これらの成分を二種以上使用するとき
はそれらの原子数の合計)を示す] で0.01〜0,7、好ましくは0.03〜0.55で
あり、かつその組成物を成形してなる密度1.5〜3.
5g/mlの成形体である。原子比が0.01より少な
いと飽和浄化量が少ないばかりでなく成形もてきない。
0.7より大きいと飽和浄化量が小さくなる。
本明細書において飽和浄化量とは、浄化剤の最大浄化能
力(除去し得る有毒ガスの最大量)をその浄化剤の重量
または体積で割ったものである。
力(除去し得る有毒ガスの最大量)をその浄化剤の重量
または体積で割ったものである。
浄化剤のa裂刃法としては、種々の方法の適用が可能で
ある。
ある。
例えば、銅の硝酸塩、硫酸塩、塩化物、有機酸塩などの
金属塩に塩化ニオブ(V)または塩化タンタル(IV)
を加え、次いで苛性ソーダ、苛性カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウ
ム、アンモニアなどのアルカリを加えて酸化物の中間体
を 。
金属塩に塩化ニオブ(V)または塩化タンタル(IV)
を加え、次いで苛性ソーダ、苛性カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウ
ム、アンモニアなどのアルカリを加えて酸化物の中間体
を 。
沈澱させ、得られた沈澱物を焼成して酸化物とし、これ
を特定組成となるようにする。
を特定組成となるようにする。
金属塩にアルカリを加えて得られる沈澱物としては水酸
化物または塩基性炭酸塩が好ましい。
化物または塩基性炭酸塩が好ましい。
本発明で用いる浄化剤は組成物をペレットなどに成形し
たものを用いるか、あるいはこの成形物を適当な大きさ
に粉砕するなどして用いる。
たものを用いるか、あるいはこの成形物を適当な大きさ
に粉砕するなどして用いる。
成形する方法としては、乾式法あるいは湿式法を用いる
ことができる。また成形の際には必要に応じて、少量の
水、滑剤などを使用してもよい。
ことができる。また成形の際には必要に応じて、少量の
水、滑剤などを使用してもよい。
成形体の形状には特に制限はないが、球状、円柱状、お
よび筒状などが代表例として挙げられる。
よび筒状などが代表例として挙げられる。
成形物の大きさは、球形であれば直径2mm〜12mm
の範囲が良く、円柱形であれば直径2市〜12mmで、
高さはやはり2mm〜12mmの範囲が適当である。一
般に充填筒では筒径の約1710よりも小さい粒径とす
る必要があるとされているので、その範囲であれば偏流
などがなく好都合である。本発明で用いる浄化剤の粒の
密度は1.5〜3.5g/ml 、好ましくは2〜3.
5g/mlの範囲である。
の範囲が良く、円柱形であれば直径2市〜12mmで、
高さはやはり2mm〜12mmの範囲が適当である。一
般に充填筒では筒径の約1710よりも小さい粒径とす
る必要があるとされているので、その範囲であれば偏流
などがなく好都合である。本発明で用いる浄化剤の粒の
密度は1.5〜3.5g/ml 、好ましくは2〜3.
5g/mlの範囲である。
本明細書において密度とは、成形体(粒)の重さを成形
体の幾何学的体積で割ったものをいう。密度が1.5g
/mlよりも小さい場合には、成形体の密度が弱くなる
ばかりでなく、体積当たりの浄化量が減少することにな
る。また密度が3.5g/mlよりも大きい場合には、
細孔容積の減少によるとみられる重量当たりの浄化量が
減少する。
体の幾何学的体積で割ったものをいう。密度が1.5g
/mlよりも小さい場合には、成形体の密度が弱くなる
ばかりでなく、体積当たりの浄化量が減少することにな
る。また密度が3.5g/mlよりも大きい場合には、
細孔容積の減少によるとみられる重量当たりの浄化量が
減少する。
このような重い浄化剤が低温においても以上に大きい浄
化能力を有することは驚くべきことである。この理由は
多分、浄化剤と水素化物との反応が接触的な脱水素反応
ではなく、水を生成する反応によるためであると思われ
る。このことは水素化物から生成する活性水素が酸化物
の格子酸素と反応し、浄化剤に十分大きな孔が、あくた
め、成形体の内部にまで到達できるようになることを想
像させる。
化能力を有することは驚くべきことである。この理由は
多分、浄化剤と水素化物との反応が接触的な脱水素反応
ではなく、水を生成する反応によるためであると思われ
る。このことは水素化物から生成する活性水素が酸化物
の格子酸素と反応し、浄化剤に十分大きな孔が、あくた
め、成形体の内部にまで到達できるようになることを想
像させる。
本発明で使用される浄化剤は浄化筒内に充填されて固定
床として用いられる。しかし移動床、固定床として用い
ることも可能である。有害成分を含有するガス(以下、
被処理ガスと記す)はこの浄化筒内に流され、浄化剤と
接触せしめられることにより、有毒成分である各種水素
化物が除去され、浄化される。
床として用いられる。しかし移動床、固定床として用い
ることも可能である。有害成分を含有するガス(以下、
被処理ガスと記す)はこの浄化筒内に流され、浄化剤と
接触せしめられることにより、有毒成分である各種水素
化物が除去され、浄化される。
本発明の浄化方法が適用される被処理ガス中の水素化物
の濃度およびガスの流速には特に制限はない。一般に濃
度が高いほど流速が小さくすることが好ましい。すなわ
ち排ガスが浄化筒内を通過する空筒線速度をa cm/
sec 、有毒成分の濃度をbvo1%とするとき、操
作パラメーターをyとして、下式の範囲で操作するのが
好ましい。
の濃度およびガスの流速には特に制限はない。一般に濃
度が高いほど流速が小さくすることが好ましい。すなわ
ち排ガスが浄化筒内を通過する空筒線速度をa cm/
sec 、有毒成分の濃度をbvo1%とするとき、操
作パラメーターをyとして、下式の範囲で操作するのが
好ましい。
0.0005 (y < 200
ただしy=axb
yが0.0005を丁形るような条件では、浄化筒の寸
法が大きくなりすぎて経済的に不利であるし、それが2
00を上形るときには、発熱量が大きくなって、冷却器
などを用いる必要が生じる。
法が大きくなりすぎて経済的に不利であるし、それが2
00を上形るときには、発熱量が大きくなって、冷却器
などを用いる必要が生じる。
例えば、被処理ガスが水素ベースの場合には、含有され
る有毒ガスの濃度が10%以上で、流速が20cm/s
ec以上になると発熱によって浄化剤の水素による還元
が生じ、活性が失われることもあるので、このような場
合には浄化筒を冷却するなどの処置を講じて操作するこ
とが好ましい。
る有毒ガスの濃度が10%以上で、流速が20cm/s
ec以上になると発熱によって浄化剤の水素による還元
が生じ、活性が失われることもあるので、このような場
合には浄化筒を冷却するなどの処置を講じて操作するこ
とが好ましい。
本発明の浄化方法を適用し得る被処理ガスは、通常は乾
燥状態であるが、湿潤状態であっても、浄化筒内で結露
するほど湿っていなければよい。
燥状態であるが、湿潤状態であっても、浄化筒内で結露
するほど湿っていなければよい。
被処理ガスと浄化剤との接触温度(入口ガス温度)は1
50℃以下、好ましくは0〜100℃である。特に水素
をガスのベース(雰囲気ガス)として用いる場合には1
00℃以下とするのが好ましい。通常は常温乃至室温で
よく、特に加熱や冷却をする必要はない。
50℃以下、好ましくは0〜100℃である。特に水素
をガスのベース(雰囲気ガス)として用いる場合には1
00℃以下とするのが好ましい。通常は常温乃至室温で
よく、特に加熱や冷却をする必要はない。
被処理ガスの圧力は常圧、減圧、加圧のいずれでもよい
が、通常は20Kg/cdabs以下であり、好ましく
は0.001〜10Kg/ crd absの範囲であ
る。
が、通常は20Kg/cdabs以下であり、好ましく
は0.001〜10Kg/ crd absの範囲であ
る。
本発明では湿潤化処理(通常浄化筒の前に設けたバブラ
ーによる処理)が不要なので、被処理ガスを吸引する真
空ポンプの上流側に本浄化剤の浄化筒を設置することが
でき、その場合には減圧下で処理することが可能となる
。このようにすることにより、有毒ガスが除去された後
に真空ポンプを通過することになり、ポンプのオイルが
有毒ガスにより汚されないのでメインテナンスが容易に
なる。
ーによる処理)が不要なので、被処理ガスを吸引する真
空ポンプの上流側に本浄化剤の浄化筒を設置することが
でき、その場合には減圧下で処理することが可能となる
。このようにすることにより、有毒ガスが除去された後
に真空ポンプを通過することになり、ポンプのオイルが
有毒ガスにより汚されないのでメインテナンスが容易に
なる。
本発明の浄化方法によれば、半導体製造工程から排出さ
れる各種水素化物を有毒成分として含有するガスを、乾
燥状態で、効率よく浄化しつる。
れる各種水素化物を有毒成分として含有するガスを、乾
燥状態で、効率よく浄化しつる。
実施例1〜2
硝酸銅と塩化ニオブ(V)とをそれぞれ原子比Nb/(
Nb+ [:u)が0.1および0.5の割合になるよ
うに混合したそれぞれの混合物をイオン交換水に20重
量%になるようにそれぞれ溶解した。
Nb+ [:u)が0.1および0.5の割合になるよ
うに混合したそれぞれの混合物をイオン交換水に20重
量%になるようにそれぞれ溶解した。
このとき塩化ニオブは加水分解されゾル状物を生じた。
他方、これらの金属酸化物を得るため、化学量論量の苛
性ソーダを20重量%の水溶液とした。
性ソーダを20重量%の水溶液とした。
金属塩の混合溶液(ゾルを含む)を攪拌槽中で攪拌しな
がら、前記の苛性ソーダ溶液を滴下して塩基性炭酸銅と
水酸化ニオブとの沈澱物をそれぞれ生成させた。
がら、前記の苛性ソーダ溶液を滴下して塩基性炭酸銅と
水酸化ニオブとの沈澱物をそれぞれ生成させた。
これらの沈澱物を濾過、洗浄した後、120℃で10時
間乾燥し、続いて350℃で5時間焼成して酸化第二銅
と酸化ニオブとの割合が異なる二種類の混合物をそれぞ
れ得た。
間乾燥し、続いて350℃で5時間焼成して酸化第二銅
と酸化ニオブとの割合が異なる二種類の混合物をそれぞ
れ得た。
これらの混合物をそれぞれ6mmΦX6+nm1lのベ
レットに打錠成形した。このものの粒の密度は2.8g
/mlであった。このものの充填密度は1.8Kg/l
であった。これを破砕し、ふるいにかけ、12〜28m
eshとしたものを浄化剤として用いた。
レットに打錠成形した。このものの粒の密度は2.8g
/mlであった。このものの充填密度は1.8Kg/l
であった。これを破砕し、ふるいにかけ、12〜28m
eshとしたものを浄化剤として用いた。
内径13mmΦX200Cunllの硬質ポリ塩化ビニ
ル製の浄化筒内に、前記の浄化剤約1gを充填しく充填
高さ約41T1m)、この浄化筒に被処理ガスとしてア
ルシン1vo1%を含有せしめた20℃、lat・ m
の窒素ガスを3β/h「(空塔線速度0.63cm/5
ec)の速度で流して、それぞれの浄化剤を充填した場
合について飽和浄化量を測定した。
ル製の浄化筒内に、前記の浄化剤約1gを充填しく充填
高さ約41T1m)、この浄化筒に被処理ガスとしてア
ルシン1vo1%を含有せしめた20℃、lat・ m
の窒素ガスを3β/h「(空塔線速度0.63cm/5
ec)の速度で流して、それぞれの浄化剤を充填した場
合について飽和浄化量を測定した。
結果を第1表に示す。
比較例1
活性アルミナ(商品名 ネオビードD4.6〜10メツ
シユ) 56g (100+n I)に塩化第二鉄の2
0重量%水溶液20gをスプレーで噴霧し、そのまま吸
収剤とした。この吸収剤はアルミナIg当たり鉄を金属
として0.025g含んでいた。得られた吸収剤1gを
実施例1の浄化剤1gのかわりに用い実施例1と同様に
して飽和浄化量を測定した。結果を第1表に示す。
シユ) 56g (100+n I)に塩化第二鉄の2
0重量%水溶液20gをスプレーで噴霧し、そのまま吸
収剤とした。この吸収剤はアルミナIg当たり鉄を金属
として0.025g含んでいた。得られた吸収剤1gを
実施例1の浄化剤1gのかわりに用い実施例1と同様に
して飽和浄化量を測定した。結果を第1表に示す。
比較例2
活性アルミナ(商品名 ネオビードD4.6〜10メツ
シユ) 56g(100ml)に過マンガン酸カリウム
の5重量%水溶液20gをスプレーで噴霧し120℃で
乾怪させる操作を4回繰り返して吸収剤を調製した。こ
の吸収剤はアルミナ1g当たりマンガンを金属として0
.025g含んでいた。得られた吸収剤1gを実施例1
の浄化剤1gのかわりに用い実施例1と同様にして飽和
浄化量を測定した。結果を第1表に示す。
シユ) 56g(100ml)に過マンガン酸カリウム
の5重量%水溶液20gをスプレーで噴霧し120℃で
乾怪させる操作を4回繰り返して吸収剤を調製した。こ
の吸収剤はアルミナ1g当たりマンガンを金属として0
.025g含んでいた。得られた吸収剤1gを実施例1
の浄化剤1gのかわりに用い実施例1と同様にして飽和
浄化量を測定した。結果を第1表に示す。
第1表
実施例3
実施例1で用いたと同様な条件で、窒素ガスを水素ガス
に変更してアルシンの飽和浄化量を測定した。結果を第
2表に示す。
に変更してアルシンの飽和浄化量を測定した。結果を第
2表に示す。
第2表
実施例4〜6
窒素ガスにホスフィン、シラン、ジボランまたはセレン
化水素をそれぞれ単独に1%含有させたガスをそれぞれ
実施例1と同様な条件で流して、飽和浄化量を測定した
。結果を第3表に示す。
化水素をそれぞれ単独に1%含有させたガスをそれぞれ
実施例1と同様な条件で流して、飽和浄化量を測定した
。結果を第3表に示す。
実施例7
実施例1の塩化ニオブの代わりに塩化タンタル(V)を
用い、実施例1と同様に浄化剤を調製し、活性を調べた
(ガス組成N2+ As1li)。
用い、実施例1と同様に浄化剤を調製し、活性を調べた
(ガス組成N2+ As1li)。
結果を第4表に示す。
第4表
実施例8〜9
実施例1.で使用した浄化剤と同じ寸法の石英製の浄化
筒内に、実施例1および7で用いたのと同じ浄化剤をそ
れぞれ36g(充填容積的20m1)充填し、窒素ガス
中に1%のアルシンをそれぞれ251 /hr (空塔
線速度5.3cm/sec>の速度で通過させ、それぞ
れのガスが破過するまでの時間を測定した。なお破過の
検知は次に示す検知管を用いて行った。
筒内に、実施例1および7で用いたのと同じ浄化剤をそ
れぞれ36g(充填容積的20m1)充填し、窒素ガス
中に1%のアルシンをそれぞれ251 /hr (空塔
線速度5.3cm/sec>の速度で通過させ、それぞ
れのガスが破過するまでの時間を測定した。なお破過の
検知は次に示す検知管を用いて行った。
アルシンニガステック社製No、19L。
検知下限界0. O5ppm
結果を第5表に示す。
第5表
実施例10
実施例8において、アルシンの濃度を窒素ガス中110
0ppに変更し、他は同一の条件で、破過までの時間を
測定した。結果を第6表に示す。
0ppに変更し、他は同一の条件で、破過までの時間を
測定した。結果を第6表に示す。
第6表
比較例3
16〜24メツシユの活性炭に硝酸銅水溶液および水酸
化カリウム水溶液を順次含浸、乾繰させ、窒素ガス中で
300℃で30分焼焼成て吸着剤を調製した。
化カリウム水溶液を順次含浸、乾繰させ、窒素ガス中で
300℃で30分焼焼成て吸着剤を調製した。
調製した吸着剤は活性炭1g当たり金属として銅を0.
063g、カリウムを0.078g含んでいた。
063g、カリウムを0.078g含んでいた。
この添着炭12g(充填容積約20m1)を、実施例9
と同じ反応条件で破過するまでの時間を測定した。結果
を第7表に示す。
と同じ反応条件で破過するまでの時間を測定した。結果
を第7表に示す。
比較例4
比較例1と同様にして調製した吸収剤15g(充填容積
約20m1)を比較例3と同じ条件で破過時間を測定し
た。結果を第7表に示す。
約20m1)を比較例3と同じ条件で破過時間を測定し
た。結果を第7表に示す。
比較例5
比較例2と同様にして調製した吸収剤15g(充填容積
約20m1)を比較例3と同じ条件で破過時間を測定し
た。結果を第7表に示す。
約20m1)を比較例3と同じ条件で破過時間を測定し
た。結果を第7表に示す。
第7表
〔本発明の効果〕
本発明の浄化方法は、下記のような優れた特徴を有して
おり、工業的に極めて有用である。
おり、工業的に極めて有用である。
(1)浄化剤の単位体積当たりに対する有毒成分の除去
量および除去速度が大きい。
量および除去速度が大きい。
(2)各種水素化物をその濃度とは関係なく完全に除去
することができる。
することができる。
(3)常温乃至室温で浄化操作を行うことができ、特に
加熱や冷却を必要としない。
加熱や冷却を必要としない。
(4)浄化剤に水分などが実質的に含有されていないた
め、常に安定した浄化性能が得られる。
め、常に安定した浄化性能が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 有毒成分としてアルシン、ホスフィン、ジボランおよび
セレン化水素の一種以上を含有するガスと、浄化剤とを
接触させて当該ガスから有毒成分を吸着除去する排ガス
の浄化方法において、浄化剤として (1)酸化第二銅、および(2)ニオブ、タンタルから
なる群から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物を配合
してなり、その組成が金属の原子比M/(M+Cu) 〔式中、Cuは銅の原子数を示し、Mはニオブまたはタ
ンタルの原子数(これらの成分を二種以上使用するとき
はそれらの原子数の合計)を示す〕 で0.01〜0.7であり、かつその組成物を成形して
なる密度1.5〜3.5g/mlの成形体を用いること
を特徴とする排ガスの浄化方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61128217A JPH0771615B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 排ガスの浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61128217A JPH0771615B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 排ガスの浄化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62286525A true JPS62286525A (ja) | 1987-12-12 |
JPH0771615B2 JPH0771615B2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=14979390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61128217A Expired - Fee Related JPH0771615B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 排ガスの浄化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0771615B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4869735A (en) * | 1987-04-30 | 1989-09-26 | Mitsubishi Jukogyo K.K. | Adsorbent for arsenic compound and method for removing arsenic compound from combustion gas |
EP1205564A2 (en) | 2000-11-14 | 2002-05-15 | Japan Pionics Co., Ltd. | Method of recovering a copper and/or a manganese component from a particulate gas cleaning agent |
JP2004089778A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Rikogaku Shinkokai | 脱硫脱硝剤および脱硫脱硝方法 |
JP2022015093A (ja) * | 2020-07-08 | 2022-01-21 | 株式会社重松製作所 | ガス吸着材及び防毒マスク |
-
1986
- 1986-06-04 JP JP61128217A patent/JPH0771615B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4869735A (en) * | 1987-04-30 | 1989-09-26 | Mitsubishi Jukogyo K.K. | Adsorbent for arsenic compound and method for removing arsenic compound from combustion gas |
EP1205564A2 (en) | 2000-11-14 | 2002-05-15 | Japan Pionics Co., Ltd. | Method of recovering a copper and/or a manganese component from a particulate gas cleaning agent |
JP2004089778A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Rikogaku Shinkokai | 脱硫脱硝剤および脱硫脱硝方法 |
JP2022015093A (ja) * | 2020-07-08 | 2022-01-21 | 株式会社重松製作所 | ガス吸着材及び防毒マスク |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0771615B2 (ja) | 1995-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0194366B1 (en) | Method of cleaning exhaust gases | |
KR960003147B1 (ko) | 배기가스의 정화법 | |
EP0546464B1 (en) | Process for cleaning harmful gas | |
KR960004610B1 (ko) | 독성 성분-함유 가스 청정 방법 | |
KR920003770B1 (ko) | 배기가스의 세정방법 | |
JPH07308538A (ja) | 有害ガスの浄化剤 | |
JP2633511B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPS62286525A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
US6447576B1 (en) | Cleaning agent and cleaning process of harmful gas | |
JPS62286521A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPS62286522A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPS62286520A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JP2711463B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPS62286523A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPS62286524A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JP3701741B2 (ja) | 有害ガスの浄化剤 | |
JPH074506B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPS61209030A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPH0457368B2 (ja) | ||
JP3362918B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JP3340528B2 (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
JPH07100128B2 (ja) | ガスの浄化方法 | |
JPH057044B2 (ja) | ||
JPH09192450A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JP2668397B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |