JP2003109754A - 有機el素子とその製造方法、及びelディスプレイ、電子機器 - Google Patents

有機el素子とその製造方法、及びelディスプレイ、電子機器

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JP2003109754A
JP2003109754A JP2001296478A JP2001296478A JP2003109754A JP 2003109754 A JP2003109754 A JP 2003109754A JP 2001296478 A JP2001296478 A JP 2001296478A JP 2001296478 A JP2001296478 A JP 2001296478A JP 2003109754 A JP2003109754 A JP 2003109754A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インクジェットヘッドのノズル間での吐出量
のバラツキに起因して起こる、表示品質の低下を軽減し
た有機EL素子とその製造方法、及びELディスプレ
イ、電子機器を提供する。 【解決手段】 インクジェットヘッド10のノズル(ノ
ズル孔)18から基板121上に発光材料を吐出して複
数色の発光層を形成し、これら発光層にそれぞれ対応さ
せて多数の画素1Aを縦横に形成する有機EL素子の製
造方法である。発光層のうちの少なくとも一つの色の発
光層を形成する発光材料を、ノズル18から第1の方向
に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を
形成し、発光層のうちの他の色の発光層を形成する発光
材料を、ノズル18から第1の方向と略直交する第2の
方向に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の
列を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ、表
示光源などに用いられる電気的発光素子である有機EL
素子とその製造方法、及びELディスプレイ、電子機器
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイに替わる自発発
光型ディスプレイとして、発光層に有機物を用いた有機
EL(エレクトロルミネセンス)素子の開発が加速して
いる。有機EL素子における有機物からなる発光層の形
成プロセスとしては、Appl.Phys.Lett.
51(12)、21 September 1987の9
13ページに示されているように低分子材料を蒸着法で
成膜する方法と、 Appl.Phys.Lett.7
1(1)、7 July 1997の34ページから示さ
れているように高分子材料を塗布する方法が主に開発さ
れている。
【0003】カラー化の手段としては、低分子系材料を
用いる場合、所定パターンのマスク越しに異なる発光色
の発光材料を所望の画素対応部分に蒸着し形成する方法
が行われている。一方、高分子系材料を用いる場合に
は、微細かつ容易にパターニングができることから、イ
ンクジェット法を用いたカラー化が注目されている。イ
ンクジェット法による有機EL素子の作製については、
例えば、特開平7−235378、特開平10−123
77、特開平11−40358、特開平11−5427
0に開示されている。また、有機EL素子では、発光効
率、耐久性を向上させるために、正孔注入層または正孔
輸送層を陽極と発光層との間に形成することが提示され
ている(Appl.Phys.Lett.51、21
September 1987の913ページ)。
【0004】ところで、インクジェット法によって正孔
注入層や発光層が形成される有機EL素子では、通常、
各画素はそれぞれインクジェットヘッドの1つのノズル
より吐出される1ドット分の幅を有したものとなってい
る。そして、このような画素として例えば図12に示す
ように発光色が赤となる画素Rと緑となる画素Gと、青
となる画素Bとが、それぞれ同じ方向に配列するととも
にそれぞれの列が規則的に多数配置されることにより、
有機EL素子が形成される。
【0005】このような画素R、G、Bの発光層をイン
クジェット法で形成するには、基板あるいはインクジェ
ットヘッドを移動させることにより、図12に示したよ
うにインクジェットヘッドHの一つのノズル孔Nから、
RGBのうちの一つの画素一列分を吐出するようにす
る。また、全体としては、複数のノズルNから、同一色
の画素複数列分を一度の走査で形成し、以下、同様にし
て他の色の画素についても形成するようにしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、インク
ジェットヘッドHに設けられた複数のノズルNには、そ
の位置などによってインクの供給経路が異なることなど
により吐出量にバラツキが生じることがある。例えば、
図12中の画素R1の列に吐出を行うノズルN1と、画
素R2の列に吐出を行うノズルN2との間で、吐出量に
差が生じてしまうことがあるのである。
【0007】しかし、その場合には、当然形成される発
光層間で吐出量の差に応じて層厚に差が生じてしまい、
これにより画素R1の列とR2の列とで発光の度合いに
むらが生じてしまい、結果として表示品質が損なわれる
ことになってしまう。また、このような傾向は他の色で
も当然起こることから、このような方法で形成された有
機EL素子では、全ての色が図12に示した基板の横方
向(X方向)で、すなわち各列間でそれぞれ発光度にむ
らを生じてしまい、表示品質が低下したものとなってし
まう。
【0008】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、インクジェットヘッドの
ノズル間での吐出量のバラツキに起因して起こる、表示
品質の低下を軽減した有機EL素子とその製造方法、及
びELディスプレイ、電子機器を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明の有機EL素子の製造方法は、インクジェットヘ
ッドのノズルから基板上に発光材料を吐出して複数色の
発光層を形成し、これら発光層にそれぞれ対応させて多
数の画素を縦横に形成する有機EL素子の製造方法であ
って、前記発光層のうちの少なくとも一つの色の発光層
を形成する発光材料を、前記ノズルから第1の方向に断
続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成
し、前記発光層のうちの他の色の発光層を形成する発光
材料を、前記ノズルから第1の方向と略直交する第2の
方向に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の
列を形成することを特徴としている。
【0010】この有機EL素子の製造方法によれば、発
光層のうちの少なくとも一つの色の発光層を形成する発
光材料を、ノズルから第1の方向に断続的に吐出して複
数の発光層からなる発光層の列を形成し、発光層のうち
の他の色の発光層を形成する発光材料を、ノズルから第
1の方向と略直交する第2の方向に断続的に吐出して複
数の発光層からなる発光層の列を形成するので、インク
ジェットヘッドのノズル間での吐出量のバラツキに起因
して吐出方向に形成される発光層の列間での発光むら
を、発光層のうちの少なくとも一つの色と他の色とで略
直交する方向に生じさせることができ、したがって発光
むらの方向を一方向に偏らせないことにより全体として
の表示品質の低下を軽減し、これの向上を図ることがで
きる。
【0011】また、前記有機EL素子の製造方法におい
ては、前記発光層を赤、緑、青の三色に形成するととも
に、これら発光層を形成する画素にそれぞれ正孔注入層
または正孔輸送層を、これらの形成材料をインクジェッ
トヘッドのノズルから吐出することによって形成するに
際して、前記発光層のうちの一つの色と正孔注入層また
は正孔輸送層とを、それぞれの材料を第1の方向に吐出
することによってそれぞれの列を形成し、前記発光層の
うちの他の二つの色を、それぞれの材料を第2の方向に
吐出することによってそれぞれの列を形成するのが好ま
しい。このようにすれば、発光層のうちの一つの色の列
と正孔注入層または正孔輸送層の列とが第1の方向に、
また発光層のうちの他の二つの色の列が第2の方向に形
成されるので、第1の方向の列間で生じる発光むらと第
2の方向の列間で生じる発光むらとが確率的に言って共
に同程度に起こると考えられ、したがって発光むらの方
向の偏りを一層少なくして全体としての表示品質の低下
を軽減し、これの向上を図ることができる。
【0012】また、前記有機EL素子の製造方法におい
ては、各画素に対応する単一の発光層を、形成する発光
層の列方向に対して略直交して配列された複数のノズル
から略同時に発光材料を吐出することにより、形成する
のが好ましい。このようにすれば、単一の発光層を複数
のノズルから吐出することによって形成するので、単一
の発光層を形成するノズルのグループ毎で比較した場合
に、ノズル間での吐出量のバラツキがノズルのグループ
間ではその吐出量のバラツキが平均化されることによ
り、発光層の列間での発光むらが少なくなり、したがっ
て全体としての表示品質の向上を図ることができる。
【0013】また、前記有機EL素子の製造方法におい
ては、各画素に対応する単一の正孔注入層または正孔輸
送層を、形成する正孔注入層または正孔輸送層の列方向
に対して略直交して配列された複数のノズルから略同時
にその材料を吐出することにより、形成するのが好まし
い。このようにすれば、単一の正孔注入層または正孔輸
送層を複数のノズルから吐出することによって形成する
ので、単一の正孔注入層または正孔輸送層を形成するノ
ズルのグループ毎で比較した場合に、ノズル間での吐出
量のバラツキがノズルのグループ間ではその吐出量のバ
ラツキが平均化されることにより、正孔注入層または正
孔輸送層の列間での層厚のむらが少なくなり、したがっ
てこの層厚のむらに起因する表示品質の低下を軽減する
ことができる。
【0014】また、前記有機EL素子の製造方法におい
ては、インクジェトヘッドのノズルの列を、形成する発
光層の列方向に対して所定量傾けた状態で吐出するのが
好ましい。このようにすれば、ノズル間の見かけ上の間
隔を狭くすることにより、単一の発光層に対して吐出す
るノズルの数を増やすことができ、したがって前述した
ようにノズルのグループ間での吐出量のバラツキをより
平均化して発光むらを少なくすることができる。
【0015】また、前記有機EL素子の製造方法におい
ては、インクジェトヘッドのノズルの列を、形成する正
孔注入層または正孔輸送層の列方向に対して所定量傾け
た状態で吐出するのが好ましい。このようにすれば、ノ
ズル間の見かけ上の間隔を狭くすることにより、単一の
正孔注入層または正孔輸送層に対して吐出するノズルの
数を増やすことができ、したがって前述したようにノズ
ルのグループ間での吐出量のバラツキをより平均化して
得られる正孔注入層または正孔輸送層の層厚のむらを少
なくすることができる。
【0016】また、前記有機EL素子の製造方法におい
ては、前記基板上に予め画素間を隔てる隔壁を形成して
おき、該隔壁内に前記発光材料を吐出して発光層を形成
するのが好ましい。このようにすれば、吐出した際、各
材料の着弾位置に少々バラツキがあっても、隔壁内に着
弾すれば所望の位置に発光層等を形成することができ、
したがって発光層等からなる画素をそれぞれ所望位置に
形成することにより、表示品質を高めることができる。
なお、この隔壁の少なくとも頂面については、インクジ
ェットヘッドから吐出される液体材料に対して30°以
上の接触角を持つのが好ましい。このようにすれば、発
光層等が隔壁を越えて隣の画素に流れ出てしまうのを防
ぐことができる。
【0017】本発明の有機EL素子は、前記の製造方法
によって得られてなることを特徴としている。この有機
EL素子によれば、前記の製造方法によって得られてな
ることにより、表示品質の高いものとなる。
【0018】本発明のELディスプレイは、前記有機E
L素子を用いてなることを特徴としている。このELデ
ィスプレイによれば、前記有機EL素子を用いてなるこ
とにより高い表示品質を有するものとなる。
【0019】本発明の電子機器は、前記ELディスプレ
イを表示手段として備えてなることを特徴としている。
この電子機器によれば、前記ELディスプレイを用いて
なることにより高い表示品質を有するものとなる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
まず、本発明の製造方法が適用されることによって得ら
れる本発明の有機EL素子を備えたELディスプレイに
ついて、その概略構成を説明する。図1、図2は本発明
のELディスプレイをアクティブマトリクス型のディス
プレイに適用した場合の一例を示すもので、これらの図
において符号1はELディスプレイである。
【0021】このELディスプレイ1は、回路図である
図1に示すように透明の表示基板上に、複数の走査線1
31と、これら走査線131に対して交差する方向に延
びる複数の信号線132と、これら信号線132に並列
に延びる複数の共通給電線133とがそれぞれ配線され
たもので、走査線131及び信号線132の各交点毎
に、画素(画素領域素)1Aが設けられて構成されたも
のである。
【0022】信号線132に対しては、シフトレジス
タ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを
備えるデータ側駆動回路3が設けられている。一方、走
査線131に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフ
タを備える走査側駆動回路4が設けられている。また、
画素領域1Aの各々には、走査線131を介して走査信
号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジ
スタ142と、このスイッチング薄膜トランジスタ14
2を介して信号線132から供給される画像信号を保持
する保持容量capと、保持容量capによって保持さ
れた画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜ト
ランジスタ143と、このカレント薄膜トランジスタ1
43を介して共通給電線133に電気的に接続したとき
に共通給電線133から駆動電流が流れ込む画素電極1
41と、この画素電極141と反射電極154との間に
挟み込まれる発光部140と、が設けられている。
【0023】このような構成のもとに、走査線131が
駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ142がオン
となると、そのときの信号線132の電位が保持容量c
apに保持され、該保持容量capの状態に応じて、カ
レント薄膜トランジスタ143のオン・オフ状態が決ま
る。そして、カレント薄膜トランジスタ143のチャネ
ルを介して共通給電線133から画素電極141に電流
が流れ、さらに発光部140を通じて反射電極154に
電流が流れることにより、発光部140は、これを流れ
る電流量に応じて発光するようになる。
【0024】ここで、各画素1Aの平面構造は、反射電
極や有機EL素子を取り除いた状態での拡大平面図であ
る図2に示すように、平面形状が長方形の画素電極14
1の四辺が、信号線132、共通給電線133、走査線
131及び図示しない他の画素電極用の走査線によって
囲まれた配置となっている。
【0025】次に、このようなELディスプレイ1に備
えられる有機EL素子の製造方法について、図3〜図5
を用いて説明する。なお、図3〜図5では、説明を簡略
化するべく、単一の画素1Aについてのみ図示する。ま
ず、基板を用意する。ここで、有機EL素子では後述す
る発光層による発光光を基板側から取り出すことも可能
であり、また基板と反対側から取り出す構成とすること
も可能である。発光光を基板側から取り出す構成とする
場合、基板材料としてはガラスや石英、樹脂等の透明な
いし半透明なものが用いられるが、特に安価なソーダガ
ラスが好適に用いられる。ソーダガラスを用いた場合、
これにシリカコートを施すのが、酸アルカリに弱いソー
ダガラスを保護する効果を有し、さらに基板の平坦性を
よくする効果も有するため好ましい。また、基板に色フ
ィルター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電
体反射膜を配置して、発光色を制御するようにしてもよ
い。また、基板と反対側から発光光を取り出す構成の場
合、基板は不透明であってもよく、その場合、アルミナ
等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸
化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑
性樹脂などを用いることができる。
【0026】本例では、基板として図3(a)に示すよ
うにソーダガラス等からなる透明基板121を用意す
る。そして、これに対し、必要に応じてTEOS(テト
ラエトキシシラン)や酸素ガスなどを原料としてプラズ
マCVD法により厚さ約200〜500nmのシリコン
酸化膜からなる下地保護膜(図示せず)を形成する。
【0027】次に、透明基板121の温度を約350℃
に設定して、下地保護膜の表面にプラズマCVD法によ
り厚さ約30〜70nmのアモルファスシリコン膜から
なる半導体膜200を形成する。次いで、この半導体膜
200に対してレーザアニールまたは固相成長法などの
結晶化工程を行い、半導体膜200をポリシリコン膜に
結晶化する。レーザアニール法では、例えばエキシマレ
ーザでビームの長寸が400mmのラインビームを用
い、その出力強度は例えば200mJ/cm2 とする。
ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ
強度のピーク値の90%に相当する部分が各領域毎に重
なるようにラインビームを走査する。
【0028】次いで、図3(b)に示すように、半導体
膜(ポリシリコン膜)200をパターニングして島状の
半導体膜210とし、その表面に対して、TEOSや酸
素ガスなどを原料としてプラズマCVD法により厚さ約
60〜150nmのシリコン酸化膜または窒化膜からな
るゲート絶縁膜220を形成する。なお、半導体膜21
0は、図2に示したカレント薄膜トランジスタ143の
チャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであ
るが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トラ
ンジスタ142のチャネル領域及びソース・ドレイン領
域となる半導体膜も形成されている。つまり、図3〜図
5に示す製造工程では二種類のトランジスタ142、1
43が同時に作られるのであるが、同じ手順で作られる
ため、以下の説明ではトランジスタに関しては、カレン
ト薄膜トランジスタ143についてのみ説明し、スイッ
チング薄膜トランジスタ142についてはその説明を省
略する。
【0029】次いで、図3(c)に示すように、アルミ
ニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステン
などの金属膜からなる導電膜をスパッタ法により形成し
た後、これをパターニングし、ゲート電極143Aを形
成する。次いで、この状態で高濃度のリンイオンを打ち
込み、半導体膜210に、ゲート電極143Aに対して
自己整合的にソース・ドレイン領域143a、143b
を形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチ
ャネル領域143cとなる。
【0030】次いで、図3(d)に示すように、層間絶
縁膜230を形成した後、コンタクトホール232、2
34を形成し、これらコンタクトホール232、234
内に中継電極236、238を埋め込む。次いで、図3
(e)に示すように、層間絶縁膜230上に、信号線1
32、共通給電線133及び走査線(図3に示さず)を
形成する。ここで、中継電極238と各配線とは、同一
工程で形成されていてもよい。このとき、中継電極23
6は、後述するITO膜により形成されることになる。
【0031】そして、各配線の上面をも覆うように層間
絶縁膜240を形成し、中継電極236に対応する位置
にコンタクトホール(図示せず)を形成し、そのコンタ
クトホール内にも埋め込まれるようにITO膜を形成
し、さらにそのITO膜をパターニングして、信号線1
32、共通給電線133及び走査線(図示せず)に囲ま
れた所定位置に、ソース・ドレイン領域143aに電気
的に接続する画素電極141を形成する。ここで、信号
線132及び共通給電線133、さらには走査線(図示
せず)に挟まれた部分が、後述するように正孔注入層や
発光層の形成場所となっている。
【0032】次いで、図4(a)に示すように、前記の
形成場所を囲むように隔壁150を形成する。この隔壁
150は仕切部材として機能するものであり、例えばポ
リイミド等の絶縁性有機材料で形成するのが好ましい。
隔壁150の膜厚については、例えば1〜2μmの高さ
となるように形成する。また、隔壁150は、インクジ
ェットヘッド10から吐出される液体に対して撥インク
性を示すものが好ましく、具体的には、インク(インク
ジェットヘッド10から吐出される液体)の該隔壁15
0に対する接触角が30°以上となるものであるのが好
ましい。隔壁150に撥インク性を発現させるために
は、例えば隔壁150の表面をフッ素系化合物などで表
面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物と
しては、例えばCF4 、SF5 、CHF3 などがあり、
表面処理としては、例えばプラズマ処理、UV照射処理
などが挙げられる。そして、このような構成のもとに、
正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成
材料の塗布位置とその周囲の隔壁150との間には、十
分な高さの段差111が形成されているのである。
【0033】次いで、図4(b)に示すように、表示基
板121の上面を上に向けた状態で、インクジェットヘ
ッド法によって正孔注入層の形成材料をインクジェット
ヘッド10より、前記隔壁150に囲まれた塗布位置に
選択的に塗布する。ここで、インクジェットヘッド10
は、図6(a)に示すように例えばステンレス製のノズ
ルプレート12と振動板13とを備え、両者を仕切部材
(リザーバプレート)14を介して接合したものであ
る。ノズルプレート12と振動板13との間には、仕切
部材14によって複数の空間15と液溜まり16とが形
成されている。各空間15と液溜まり16の内部はイン
クで満たされており、各空間15と液溜まり16とは供
給口17を介して連通したものとなっている。また、ノ
ズルプレート12には、空間15からインクを噴射する
ためのノズル孔18が一列に配列された状態で複数形成
されている。一方、振動板13には、液溜まり16にイ
ンクを供給するための孔19が形成されている。
【0034】また、振動板13の空間15に対向する面
と反対側の面上には、図6(b)に示すように圧電素子
(ピエゾ素子)20が接合されている。この圧電素子2
0は、一対の電極21の間に位置し、通電するとこれが
外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたもの
である。そして、このような構成のもとに圧電素子20
が接合されている振動板13は、圧電素子20と一体に
なって同時に外側へ撓曲するようになっており、これに
よって空間15の容積が増大するようになっている。し
たがって、空間15内に増大した容積分に相当するイン
クが、液溜まり16から供給口17を介して流入する。
また、このような状態から圧電素子20への通電を解除
すると、圧電素子20と振動板13はともに元の形状に
戻る。したがって、空間15も元の容積に戻ることか
ら、空間15内部のインクの圧力が上昇し、ノズル孔1
8から基板に向けてインクの液滴22が吐出される。な
お、インクジェットヘッド10のインクジェット方式と
しては、前記の圧電素子20を用いたピエゾジェットタ
イプ以外の方式でもよく、例えば、エネルギー発生素子
として電気熱変換体を用いた、熱エネルギーを利用して
インクを吐出するヘッド等の方式を採用してもよい。
【0035】このような構成のインクジェットヘッド1
0を用いて、本例では図4(b)に示したように隔壁1
50内に正孔注入層の形成材料をインクとして塗布す
る。正孔注入層の形成材料としては、ポリマー前駆体が
ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフ
ェニレンビニレン、1,1−ビス−(4−N,N−ジト
リルアミノフェニル)シクロヘキサン、トリス(8−ヒ
ドロキシキノリノール)アルミニウム等が挙げられる。
このとき、液状の形成材料114Aは、流動性が高いた
め水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲ん
で隔壁150が形成されているので、形成材料114A
は隔壁150を越えてその外側に広がることが防止され
ている。
【0036】なお、このようなインクジェットヘッド1
0のノズル孔18からの、形成材料114Aの吐出によ
る正孔注入層の形成は、後述するように透明基板121
のX方向に沿って、この方向に配列された画素1A毎に
順次なされるようになっている。また、このような正孔
注入層の形成材料の吐出については、基本的に全ての画
素に対して行うことから、インクジェットヘッド10に
配列された複数のノズル孔18のうち、各画素1Aに対
応するノズル孔18は全て、略同時に吐出をなすように
なっている。
【0037】次いで、図4(c)に示すように加熱ある
いは光照射により液状の前駆体114Aの溶媒を蒸発さ
せて、画素電極141上に、固形の正孔注入層140A
を形成する。次いで、図5(a)に示すように、表示基
板121の上面を上に向けた状態で、インクジェットヘ
ッド10よりインクとして発光層の形成材料(発光材
料)114Bを前記隔壁150内の正孔注入層140A
上に選択的に塗布する。
【0038】発光層の形成材料としては、例えば共役系
高分子有機化合物の前駆体と、得られる発光層の発光特
性を変化させるための蛍光色素とを含んでなるものが好
適に用いられる。共役系高分子有機化合物の前駆体は、
蛍光色素等とともにインクジェットヘッド10から吐出
されて薄膜に成形された後、例えば以下の式(I)に示
すように加熱硬化されることによって共役系高分子有機
EL層となる発光層を生成し得るものをいい、例えば前
駆体のスルホニウム塩の場合、加熱処理されることによ
りスルホニウム基が脱離し、共役系高分子有機化合物と
なるもの等である。
【0039】
【化1】
【0040】このような共役系高分子有機化合物は固体
で強い蛍光を持ち、均質な固体超薄膜を形成することが
できる。しかも形成能に富みITO電極との密着性も高
い。さらに、このような化合物の前駆体は、硬化した後
は強固な共役系高分子膜を形成することから、加熱硬化
前においては前駆体溶液を後述するインクジェットパタ
ーニングに適用可能な所望の粘度に調整することがで
き、簡便かつ短時間で最適条件の膜形成を行うことがで
きる。
【0041】このような前駆体としては、例えばPPV
(ポリ(パラ−フェニレンビニレン))またはその誘導
体の前駆体が好ましい。PPVまたはその誘導体の前駆
体は、水あるいは有機溶媒に可溶であり、また、ポリマ
ー化が可能であるため光学的にも高品質の薄膜を得るこ
とができる。さらに、PPVは強い蛍光を持ち、また二
重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化している導電
性高分子でもあるため、高性能の有機EL素子を得るこ
とができる。
【0042】このようなPPVまたはPPV誘導体の前
駆体として、例えば化学式(II)に示すような、PP
V(ポリ(パラ−フェニレンビニレン))前駆体、MO
−PPV(ポリ(2,5−ジメトキシ−1,4−フェニ
レンビニレン))前駆体、CN−PPV(ポリ(2,5
−ビスヘキシルオキシ−1,4−フェニレン−(1−シ
アノビニレン)))前駆体、MEH−PPV(ポリ[2
−メトキシ−5−(2’−エチルヘキシルオキシ)]−
パラ−フェニレンビニレン)前駆体等が挙げられる。
【0043】
【化2】
【0044】PPVまたはPPV誘導体の前駆体は、前
述したように水に可溶であり、成膜後の加熱により高分
子化してPPV層を形成する。前記PPV前駆体に代表
される前駆体の含有量は、組成物全体に対して0.01
〜10.0wt%が好ましく、0.1〜5.0wt%が
さらに好ましい。前駆体の添加量が少な過ぎると共役系
高分子膜を形成するのに不十分であり、多過ぎると組成
物の粘度が高くなり、インクジェット法による精度の高
いパターニングに適さない場合がある。
【0045】さらに、発光層の形成材料としては、少な
くとも1種の蛍光色素を含むのが好ましい。これによ
り、発光層の発光特性を変化させることができ、例え
ば、発光層の発光効率の向上、または光吸収極大波長
(発光色)を変えるための手段としても有効である。す
なわち、蛍光色素は単に発光層材料としてではなく、発
光機能そのものを担う色素材料として利用することがで
きる。例えば、共役系高分子有機化合物分子上のキャリ
ア再結合で生成したエキシトンのエネルギーをほとんど
蛍光色素分子上に移すことができる。この場合、発光は
蛍光量子効率が高い蛍光色素分子からのみ起こるため、
発光層の電流量子効率も増加する。したがって、発光層
の形成材料中に蛍光色素を加えることにより、同時に発
光層の発光スペクトルも蛍光分子のものとなるので、発
光色を変えるための手段としても有効となる。
【0046】なお、ここでいう電流量子効率とは、発光
機能に基づいて発光性能を考察するための尺度であっ
て、下記式により定義される。ηE =放出されるフォト
ンのエネルギー/入力電気エネルギーそして、蛍光色素
のドープによる光吸収極大波長の変換によって、例えば
赤、青、緑の3原色を発光させることができ、その結果
フルカラー表示体を得ることが可能となる。さらに蛍光
色素をドーピングすることにより、EL素子の発光効率
を大幅に向上させることができる。
【0047】蛍光色素としては、赤色の発色光を発光す
る発光層を形成する場合、赤色の発色光を有するローダ
ミンまたはローダミン誘導体を用いるのが好ましい。こ
れらの蛍光色素は、低分子であるため水溶液に可溶であ
り、またPPVと相溶性がよく、均一で安定した発光層
の形成が容易である。このような蛍光色素として具体的
には、ローダミンB、ローダミンBベース、ローダミン
6G、ローダミン101過塩素酸塩等が挙げられ、これ
らを2種以上混合したものであってもよい。
【0048】また、緑色の発色光を発光する発光層を形
成する場合、緑色の発色光を有するキナクリドンおよび
その誘導体を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素は
前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水溶液に可
溶であり、またPPVと相溶性がよく発光層の形成が容
易である。
【0049】さらに、青色の発色光を発光する発光層を
形成する場合、青色の発色光を有するジスチリルビフェ
ニルおよびその誘導体を用いるのが好ましい。これらの
蛍光色素は前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため
水・アルコール混合溶液に可溶であり、またPPVと相
溶性がよく発光層の形成が容易である。
【0050】また、青色の発色光を有する他の蛍光色素
としては、クマリンおよびその誘導体を挙げることがで
きる。これらの蛍光色素は、前記赤色蛍光色素と同様、
低分子であるため水溶液に可溶であり、またPPVと相
溶性がよく発光層の形成が容易である。このような蛍光
色素として具体的には、クマリン、クマリン−1、クマ
リン−6、クマリン−7、クマリン120、クマリン1
38、クマリン152、クマリン153、クマリン31
1、クマリン314、クマリン334、クマリン33
7、クマリン343等が挙げられる。
【0051】さらに、別の青色の発色光を有する蛍光色
素としては、テトラフェニルブタジエン(TPB)また
はTPB誘導体を挙げることができる。これらの蛍光色
素は、前記赤色蛍光色素等と同様、低分子であるため水
溶液に可溶であり、またPPVと相溶性がよく発光層の
形成が容易である。以上の蛍光色素については、各色と
もに1種のみを用いてもよく、また2種以上を混合して
用いてもよい。
【0052】これらの蛍光色素については、前記共役系
高分子有機化合物の前駆体固型分に対し、0.5〜10
wt%添加するのが好ましく、1.0〜5.0wt%添
加するのがより好ましい。蛍光色素の添加量が多過ぎる
と発光層の耐候性および耐久性の維持が困難となり、一
方、添加量が少な過ぎると、前述したような蛍光色素を
加えることによる効果が十分に得られないからである。
【0053】また、前記前駆体および蛍光色素について
は、極性溶媒に溶解または分散させてインクとし、この
インクをインクジェットヘッド10から吐出するのが好
ましい。極性溶媒は、前記前駆体、蛍光色素等を容易に
溶解または均一に分散させることができるため、インク
ジェットヘッド10のノズル孔18での発光層形成材料
中の固型分が付着したり目詰りを起こすのを防止するこ
とができる。
【0054】このような極性溶媒として具体的には、
水、メタノール、エタノール等の水と相溶性のあるアル
コール、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N
−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルイミダゾリン
(DMI)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の有
機溶媒または無機溶媒が挙げられ、これらの溶媒を2種
以上適宜混合したものであってもよい。
【0055】さらに、前記形成材料中に湿潤剤を添加し
ておくのが好ましい。これにより、形成材料がインクジ
ェットヘッド10のノズル孔18で乾燥・凝固すること
を有効に防止することができる。かかる湿潤剤として
は、例えばグリセリン、ジエチレングリコール等の多価
アルコールが挙げられ、これらを2種以上混合したもの
であってもよい。この湿潤剤の添加量としては、形成材
料の全体量に対し、5〜20wt%程度とするのが好ま
しい。なお、その他の添加剤、被膜安定化材料を添加し
てもよく、例えば、安定剤、、粘度調整剤、老化防止
剤、pH調整剤、防腐剤、樹脂エマルジョン、レベリン
グ剤等を用いることができる。
【0056】このような発光層の形成材料114Bをイ
ンクジェットヘッド10のノズル孔18から吐出する
と、形成材料114Aは隔壁150内の正孔注入層14
0A上に塗布される。ここで、形成材料114Aの吐出
による発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層
の形成材料、緑色の発色光を発光する発光層の形成材
料、青色の発色光を発光する発光層の形成材料を、それ
ぞれ対応する画素1Aに吐出し塗布することによって行
う。なお、各色に対応する画素1Aは、これらが規則的
な配置となるように予め決められている。
【0057】各色の発光層形成のための、形成材料の吐
出例について、図7(a)〜(c)を参照して説明す
る。この例では、前述したように予め前記の正孔注入層
140Aが、図7(b)に示すように透明基板121の
X方向、すなわち図7(b)中の矢印に示す方向にイン
クジェットヘッド10と透明基板121とが相対的に移
動させられたことにより、全ての画素1Aに形成されて
いるものとする。なお、インクジェットヘッド10には
ノズル孔18が、X方向と略直交する方向、すなわちY
方向に配列されており、したがってX方向に並列してい
る各画素列は、それぞれインクジェットヘッド10のう
ちの対応する同じノズル孔18から各画素1A毎に断続
的なインクの吐出がなされることにより、正孔注入層1
40Aを形成したものとなっている。
【0058】このようにして正孔注入層140Aが形成
された各画素1Aに、前述したようにして発光層の形成
材料を吐出し塗布するが、その際、本発明では、前記発
光層形成材料のうちの一つの色(本例では緑色)の発光
層形成材料を、正孔注入層140Aの場合と同様にX方
向に断続的に吐出し塗布する。また、残りの赤色及び青
色の発光層形成材料については、X方向と略直交するY
方向に断続的に吐出し塗布する。
【0059】すなわち、まず図7(a)に示すように透
明基板121のY方向に、赤色の発光層の形成材料を断
続的に吐出し、Y方向に配列された画素1Aのうち予め
赤色の発光層を形成するように設定されている画素(R
1、R2、R3)に形成材料を塗布する。ここで、イン
クジェットヘッド10にはノズル孔18が、Y方向と略
直交する方向、すなわちX方向に配列されており、した
がってY方向に並列している各画素列は、それぞれイン
クジェットヘッド10のうちの対応する同じノズル孔1
8から各画素1A毎に断続的なインクの吐出がなされる
ことにより、赤色の発光層の形成材料が塗布されたもの
となっている。なお、Y方向に並列されたこれら画素列
については、その複数の列(図7(a)では3列)がイ
ンクジェットヘッド10による一回の走査により同時に
形成されるようになっている。
【0060】また、この赤色発光層の形成材料の吐出に
ついては、前述した正孔注入層140Aの形成材料の吐
出(図7(b)参照)に対して90°傾いた方向で行う
ようにしているが、このような吐出方向の変更について
は、透明基板121を載置した基板ステージ(図示せ
ず)を回転させるか、あるいはインクジェットヘッド1
0を90°回転させることによって行う。すなわち、こ
れによって図7(b)に示した正孔注入層の形成の際の
状態から、図7(a)に示した赤色発光層形成の状態に
移行させているのである。
【0061】このようにして赤色発光層の形成材料を塗
布したら、続いて緑色発光層の形成材料を吐出するべ
く、再度基板ステージあるいはインクジェットヘッド1
0を回転させて、図7(b)に示したようにインクジェ
ットヘッド10をそのノズル孔18の列が透明基板12
1のY方向となるように相対的位置関係をセットする。
そして、この状態のもとで緑色の発光層形成材料を透明
基板121のX方向に断続的に吐出し、X方向に配列さ
れた画素1Aのうち予め緑色の発光層を形成するように
設定されている画素(G1、G2、G3、G4)に形成
材料を塗布する。ここで、X方向に配列された画素1A
は、図7(a)に示したようなY方向に形成された画素
列と異なり、列を構成する全ての画素1Aが同一色の発
光層を形成する画素とはなっておらず、複数個毎、本例
では3個の画素毎に1個の緑色の発光層を形成する画素
(G1、G2、G3、G4)となっている。したがっ
て、インクジェットヘッド10からの断続的な吐出を行
う際には、先の赤色発光層形成の場合とは異なり、吐出
間隔をその分長くして行う必要がある。
【0062】このようにして緑色発光層の形成材料を塗
布したら、続いて青色発光層の形成材料を吐出するべ
く、基板ステージあるいはインクジェットヘッド10を
再度回転させて、図7(c)に示したようにインクジェ
ットヘッド10をそのノズル孔18の列が透明基板12
1のX方向となるようにセットする。そして、この状態
のもとで青色の発光層形成材料を透明基板121のX方
向に断続的に吐出し、Y方向に配列された画素1Aのう
ち予め青色の発光層を形成するように設定されている画
素(B1、B2、B3)に形成材料を塗布する。
【0063】このようにして正孔注入層140Aを形成
し、さらに各色の発光層形成材料を吐出塗布すると、同
じノズル孔18からの吐出によりその吐出方向に形成さ
れた画素列は、発光層のうちの緑色の画素列と正孔注入
層140Aの画素列とが透明基板121のX方向に、ま
た発光層のうちの赤色の画素列と青色の画素列とがY方
向に形成されることになる。すると、X方向の列間で生
じる発光むらとY方向の列間で生じる発光むらとが確率
的に言って共に同程度に起こると考えられることから、
正孔注入層140Aと赤色、緑色、青色の全て色の発光
層とを同一の吐出方向で形成し、したがって各色の発光
度のむらが同一の方向に生じる場合に比べ、発光むらと
して視認される方向がX方向とY方向に分散され、これ
により発光むらの偏りが少なくなる。
【0064】このようにして各色の発光層形成材料を吐
出し塗布したら、発光層形成材料114B中の溶媒を蒸
発させることにより、図5(b)に示すように正孔層注
入層140A上に固形の発光層140Bを形成し、これ
により正孔層注入層140Aと発光層140Bとからな
る発光部140を得る。ここで、発光層形成材料114
B中の溶媒の蒸発については、必要に応じて加熱あるい
は減圧等の処理を行うが、発光層の形成材料は通常乾燥
性が良好で速乾性であることから、特にこのような処理
を行うことなく、したがって各色の発光層形成材料を順
次吐出塗布することにより、その塗布順に各色の発光層
140Bを形成することができる。その後、図5(c)
に示すように、透明基板121の表面全体に、あるいは
ストライプ状に反射電極154を形成し、有機EL素子
を得る。
【0065】このように、本例の有機EL素子の製造方
法にあっては、発光層のうちの緑色の画素列と正孔注入
層140Aの画素列とを透明基板121のX方向に、ま
た発光層のうちの赤色の画素列と青色の画素列とをY方
向に形成しているので、正孔注入層140Aと赤色、緑
色、青色の全て色の発光層とを同一の吐出方向で形成
し、したがって各色の発光度のむらが同一の方向に生じ
る場合に比べ、発光むらとして視認される方向をX方向
とY方向に分散することができ、これにより発光むらの
偏りを少なくして全体としての表示品質の低下を軽減
し、これの向上を図ることができる。
【0066】また、透明基板121上に予め隔壁150
を形成しておき、該隔壁150内に正孔注入層の形成材
料や発光層の形成材料を吐出し塗布しているので、吐出
した際、各材料の着弾位置に少々バラツキがあっても、
隔壁150内に着弾すれば所望の位置に発光層等を形成
することができ、したがって発光層等からなる画素をそ
れぞれ所望位置に形成することにより、表示品質を高め
ることができる。
【0067】また、このようにして得られた有機EL素
子にあっては、前記の製造方法によって得られてなるこ
とにより発光むらの偏りが少ないものとなることから、
全体としての表示品質の低下が軽減され、表示品質の向
上されたものとなる。さらに、この有機EL素子を用い
てなるELディスプレイにあっても、高い表示品質を有
するものとなる。
【0068】次に、本発明の有機EL素子の製造方法の
他の例について説明する。この例が先の例と異なるとこ
ろは、インクジェット法で正孔注入層140A及び発光
層140Bを形成する際に、単一の画素に対する各形成
材料の吐出を、単一のノズル孔18からでなく、複数の
ノズル孔18から行う点にある。すなわち、本例では、
図8(a)〜(c)に示すように、一列に配列されたノ
ズル孔18間の間隔が図7(a)〜(c)に示したもの
に比べ狭いインクジェットヘッド10Aを用意し、これ
を用いて正孔注入層140A及び発光層140Bの形成
材料を吐出するようにしている。
【0069】このインクジェットヘッド10Aによって
正孔注入層140A及び発光層140Bを形成するに
は、まず、図8(b)に示すようにインクジェットヘッ
ド10Aを、そのノズル孔18の列が透明基板121の
Y方向となるようにセットし、その状態から図8(b)
中の矢印に示す方向にインクジェットヘッド10Aと透
明基板121とをX方向に相対的に移動させ、これによ
って全ての画素1Aに正孔注入層の形成材料を吐出し塗
布する。このとき、インクジェットヘッド10Aは前述
したようにノズル孔18間の間隔が狭いことにより、単
一の画素1Aに対する正孔注入層形成材料の吐出が、単
一のノズル孔18からでなく、複数のノズル孔18(本
例では二つのノズル孔18)から同時になされる。そし
て、先の例と同様にして塗布した形成材料から正孔注入
層140Aを形成する。
【0070】このように、単一のノズル孔18からでな
く複数のノズル孔18から単一の画素1Aに対して同時
に吐出を行うことにより、この画素1Aに吐出された形
成材料の量は、ここへの吐出を行った複数のノズル孔1
8間のバラツキが平均化された量となる。したがって、
単一の正孔注入層140Aを形成するノズル孔18のグ
ループ毎で比較した場合に、そのグループ間での吐出量
のバラツキも平均化されることになる。
【0071】このようにして正孔注入層140Aを形成
したら、先の例と同様にして発光層の形成材料を吐出し
塗布する。すなわち、まず図8(a)に示すように透明
基板121のY方向に、赤色の発光層の形成材料を断続
的に吐出し、Y方向に配列された画素1Aのうち予め赤
色の発光層を形成するように設定されている画素(R
1、R2、R3)に形成材料を塗布する。この場合に
も、正孔注入層の形成材料の場合と同様に、単一の画素
1Aに対する赤色発光層形成材料の吐出を、単一のノズ
ル孔18からでなく複数のノズル孔18(本例では二つ
のノズル孔18)から同時に行う。なお、Y方向に並列
されたこれら画素列については、先の例と同様に、その
複数の列(図8(a)では3列)がインクジェットヘッ
ド10Aによる一回の走査により同時に形成されるよう
になっている。
【0072】このようにして赤色発光層の形成材料を塗
布したら、続いて緑色発光層の形成材料を吐出するべ
く、図8(b)に示したようにインクジェットヘッド1
0Aをそのノズル孔18の列が透明基板121のY方向
となるようにセットする。そして、この状態のもとで先
の例と同様にして緑色の発光層形成材料を透明基板12
1のX方向に断続的に吐出し、X方向に配列された画素
1Aのうち予め緑色の発光層を形成するように設定され
ている画素(G1、G2、G3、G4)に形成材料を塗
布する。この場合にも、赤色発光層の形成材料の場合と
同様に、単一の画素1Aに対する緑色発光層形成材料の
吐出を、単一のノズル孔18からでなく複数のノズル孔
18(本例では二つのノズル孔18)から同時に行う。
なお、インクジェットヘッド10からの断続的な吐出を
行う際には、先の例と同様に、赤色発光層形成の場合よ
りその吐出間隔を長くして行う。
【0073】このようにして緑色発光層の形成材料を塗
布したら、続いて青色発光層の形成材料を吐出するべ
く、図8(c)に示したようにインクジェットヘッド1
0Aをそのノズル孔18の列が透明基板121のX方向
となるようにセットする。そして、この状態のもとで青
色の発光層形成材料を透明基板121のX方向に断続的
に吐出し、Y方向に配列された画素1Aのうち予め青色
の発光層を形成するように設定されている画素(B1、
B2、B3)に形成材料を塗布する。この場合にも、赤
色発光層の形成材料の場合と同様に、単一の画素1Aに
対する青色発光層形成材料の吐出を、単一のノズル孔1
8からでなく複数のノズル孔18(本例では二つのノズ
ル孔18)から同時に行う。
【0074】このような発光層形成材料の吐出に際して
も、単一のノズル孔18からでなく複数のノズル孔18
から単一の画素1Aに対して同時に吐出を行うことによ
り、この画素1Aに吐出された形成材料の量を、ここへ
の吐出を行った複数のノズル孔18間のバラツキが平均
化された量とすることができる。したがって、単一の正
孔注入層140Aを形成するノズル孔18のグループ毎
で比較した場合に、そのグループ間での吐出量のバラツ
キも平均化されることになる。
【0075】そして、このように正孔注入層140A及
び各色の発光層140Bについて、いずれも単一の画素
1Aに対して複数のノズル孔18から同時に吐出するよ
うにしているので、ノズル孔18のグループ間での吐出
量のバラツキも平均化されることにより、全体としての
表示品質の向上を図ることができる。また、発光層のう
ちの緑色の画素列と正孔注入層140Aの画素列とを透
明基板121のX方向に、また発光層のうちの赤色の画
素列と青色の画素列とをY方向に形成しているので、正
孔注入層140Aと赤色、緑色、青色の全て色の発光層
とを同一の吐出方向で形成し、したがって各色の発光度
のむらが同一の方向に生じる場合に比べ、発光むらとし
て視認される方向をX方向とY方向に分散することがで
き、これにより発光むらの偏りを少なくして全体として
の表示品質の低下を軽減し、これの向上を図ることがで
きる。
【0076】なお、図8(a)〜(c)に示した例のご
とく、単一の画素に対して複数のノズル孔18から吐出
を行う場合、図9に示すようにインクジェットヘッド1
0Aを、正孔注入層や発光層を形成する画素1Aの列方
向に対して所定量(例えば図9中の角度θ)傾けた状態
で吐出するようにしてもよい。このようにしてインクジ
ェットヘッド10Aを所定量傾け、ノズル孔18の配列
方向と移動方向(例えばX軸方向)との傾きを角度θと
すれば、ノズル孔18間の実際のピッチDよりも見かけ
上のピッチEを狭くすることができ、これにより単一の
画素1Aに対して複数のノズル孔18から略同時に吐出
を行わせることができるようになる。このようにしてノ
ズル孔18間の見かけ上の間隔を狭くするようにすれ
ば、単一の画素1Aに対して吐出するノズル孔18の数
を増やすことができ、したがって前述したようにノズル
孔18のグループ間での吐出量のバラツキをより平均化
して、発光むらを一層少なくすることができる。
【0077】また、前記例では、画素1A…の配列を図
10(a)に示すようにストライプ状としたが、図10
(b)に示すようなモザイク状の配列や、図10(c)
に示すようなデルタ状の配列などにおいても、同様の効
果を得ることができる。また、前記例では発光層140
Bの下層として正孔注入層140Aを形成したが、本発
明はこれに限定されることなく、例えばこの正孔注入層
に代えて正孔輸送層を形成するようにしてもよい。この
正孔輸送層の形成材料としては特に限定されないもの
の、例えばピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、
スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等が用
いられる。
【0078】また、前記例では画素1A間を隔てる隔壁
150を、ポリイミド材料とその表面を撥インク処理す
ることによって形成したが、本発明はこれに限定される
ことなく、例えば樹脂ブラックレジストなどによって隔
壁を形成してもよく、さらには隔壁を設けることなく正
孔注入層や発光層を形成するようにしてもよい。
【0079】次に、前記例の有機EL素子を用いたEL
ディスプレイが備えられた電子機器の具体例について説
明する。図11(a)は、携帯電話の一例を示した斜視
図である。図11(a)において、500は携帯電話本
体を示し、501は図1、図2に示したELディスプレ
イを備えたEL表示部(表示手段)を示している。図1
1(b)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理
装置の一例を示した斜視図である。図11(b)におい
て、600は情報処理装置、601はキーボードなどの
入力部、603は情報処理本体、602は前記の図1、
図2に示したELディスプレイを備えたEL表示部(表
示手段)を示している。図11(c)は、腕時計型電子
機器の一例を示した斜視図である。図11(c)におい
て、700は時計本体を示し、701は前記の図1、図
2に示したELディスプレイを備えたEL表示部(表示
手段)を示している。図11(a)〜(c)に示す電子
機器は、前記ELディスプレイが備えられたものである
ので、優れた表示品質が得られる表示手段を備えた電子
機器となる。
【0080】
【発明の効果】以上説明したように本発明の有機EL素
子の製造方法によれば、発光層のうちの少なくとも一つ
の色の発光層を形成する発光材料を、ノズルから第1の
方向(例えばX方向)に断続的に吐出して複数の発光層
からなる発光層の列を形成し、発光層のうちの他の色の
発光層を形成する発光材料を、ノズルから第1の方向と
略直交する第2の方向(例えばY方向)に断続的に吐出
して複数の発光層からなる発光層の列を形成するので、
インクジェットヘッドのノズル間での吐出量のバラツキ
に起因して吐出方向に形成される発光層の列間での発光
むらを、発光層のうちの少なくとも一つの色と他の色と
で略直交する方向に生じさせることができ、したがって
発光むらの方向を一方向に偏らせないことにより全体と
しての表示品質の低下を軽減し、これの向上を図ること
ができる。
【0081】本発明の有機EL素子によれば、前記の製
造方法によって得られてなることにより、表示品質の高
いものとなる。本発明のELディスプレイによれば、前
記有機EL素子を用いてなることにより高い表示品質を
有するものとなる。本発明の電子機器によれば、前記E
Lディスプレイを用いてなることにより高い表示品質を
有するものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のELディスプレイの配置部を示す回
路図である。
【図2】 画素部の平面構造を示す拡大平面図である。
【図3】 (a)〜(e)は本発明の有機EL素子の製
造方法を工程順に説明するための要部側断面図である。
【図4】 (a)〜(c)は図3に続く工程を順に説明
するための要部側断面図である。
【図5】 (a)〜(c)は図4に続く工程を順に説明
するための要部側断面図である。
【図6】 インクジェットヘッドの概略構成を説明する
ための図であり、(a)は要部斜視図、(b)は要部側
断面図である。
【図7】 (a)〜(c)はインクジェットヘッドのノ
ズル孔から発光層の形成材料を吐出する工程の一例を順
に説明するための模式図である。
【図8】 (a)〜(c)はインクジェットヘッドのノ
ズル孔から発光層の形成材料を吐出する工程の他の例を
順に説明するための模式図である。
【図9】 インクジェットヘッドを所定量傾けた状態で
吐出する例を説明するための模式図である。
【図10】 画素の配列パターンを説明するための図で
あって、(a)はストライプ状のパターン、(b)はモ
ザイク状のパターン、(c)はデルタ状のパターンを示
す図である。
【図11】 ELディスプレイが備えられた電子機器の
具体例を示す図であり、(a)は携帯電話に適用した場
合の一例を示す斜視図、(b)は情報処理装置に適用し
た場合の一例を示す斜視図、(c)は腕時計型電子機器
に適用した場合の一例を示す斜視図である。
【図12】 インクジェットヘッドのノズル孔から発光
層の形成材料を吐出する工程の従来の例を説明するため
の模式図である。
【符号の説明】
1A…画素、10、10A…インクジェットヘッド、1
8…ノズル孔(ノズル)、121…透明基板、140A
…正孔注入層、140B…発光層、150…隔壁

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インクジェットヘッドのノズルから基板
    上に発光材料を吐出して複数色の発光層を形成し、これ
    ら発光層にそれぞれ対応させて多数の画素を縦横に形成
    する有機EL素子の製造方法であって、 前記発光層のうちの少なくとも一つの色の発光層を形成
    する発光材料を、前記ノズルから第1の方向に断続的に
    吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成し、 前記発光層のうちの他の色の発光層を形成する発光材料
    を、前記ノズルから第1の方向と略直交する第2の方向
    に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を
    形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の有機EL素子の製造方法
    において、 前記発光層を赤、緑、青の三色に形成するとともに、こ
    れら発光層を形成する画素にそれぞれ正孔注入層または
    正孔輸送層を、これらの形成材料をインクジェットヘッ
    ドのノズルから吐出することによって形成するに際し
    て、 前記発光層のうちの一つの色と正孔注入層または正孔輸
    送層とを、それぞれの材料を第1の方向に吐出すること
    によってそれぞれの列を形成し、 前記発光層のうちの他の二つの色を、それぞれの材料を
    第2の方向に吐出することによってそれぞれの列を形成
    することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
  3. 【請求項3】 各画素に対応する単一の発光層を、形成
    する発光層の列方向に対して略直交して配列された複数
    のノズルから略同時に発光材料を吐出することにより、
    形成することを特徴とする請求項1又は2記載の有機E
    L素子の製造方法。
  4. 【請求項4】 各画素に対応する単一の正孔注入層また
    は正孔輸送層を、形成する正孔注入層または正孔輸送層
    の列方向に対して略直交して配列された複数のノズルか
    ら略同時にその材料を吐出することにより、形成するこ
    とを特徴とする請求項2記載の有機EL素子の製造方
    法。
  5. 【請求項5】 インクジェトヘッドのノズルの列を、形
    成する発光層の列方向に対して所定量傾けた状態で吐出
    することを特徴とする請求項3記載の有機EL素子の製
    造方法。
  6. 【請求項6】 インクジェトヘッドのノズルの列を、形
    成する正孔注入層または正孔輸送層の列方向に対して所
    定量傾けた状態で吐出することを特徴とする請求項4記
    載の有機EL素子の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記基板上に予め画素間を隔てる隔壁を
    形成しておき、該隔壁内に前記発光材料を吐出して発光
    層を形成することを特徴とする請求項1〜6のいずれか
    に記載の有機EL素子の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の製造方
    法によって得られてなる有機EL素子。
  9. 【請求項9】 請求項8記載の有機EL素子を用いてな
    るELディスプレイ。
  10. 【請求項10】 請求項9記載のELディスプレイを表
    示手段として備えてなる電子機器。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009125787A1 (ja) * 2008-04-09 2009-10-15 東京応化工業株式会社 インクジェット用拡散剤組成物、当該組成物を用いた電極及び太陽電池の製造方法
US8524328B2 (en) 2010-07-15 2013-09-03 Panasonic Corporation Methods for manufacturing organic EL display panel and organic EL display device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09101412A (ja) * 1995-08-01 1997-04-15 Canon Inc カラーフィルタの製造方法及びその装置と、前記カラーフィルタを用いた表示装置及びその表示装置を備えた電子機器
JP2001052864A (ja) * 1999-06-04 2001-02-23 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 電気光学装置の作製方法
JP2001189192A (ja) * 1999-10-12 2001-07-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置及びその作製方法
JP2001228321A (ja) * 2000-02-21 2001-08-24 Canon Inc カラーフィルタの製造方法、製造装置、カラーフィルタを備えた表示装置の製造方法及び該表示装置を備えた装置の製造方法
JP2002082215A (ja) * 1999-08-03 2002-03-22 Canon Inc カラーフィルタの製造方法及び製造装置、表示装置の製造方法、表示装置を備えた装置の製造方法、表示装置用パネルの製造方法及び製造装置
JP2002273869A (ja) * 2001-01-15 2002-09-25 Seiko Epson Corp 吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09101412A (ja) * 1995-08-01 1997-04-15 Canon Inc カラーフィルタの製造方法及びその装置と、前記カラーフィルタを用いた表示装置及びその表示装置を備えた電子機器
JP2001052864A (ja) * 1999-06-04 2001-02-23 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 電気光学装置の作製方法
JP2002082215A (ja) * 1999-08-03 2002-03-22 Canon Inc カラーフィルタの製造方法及び製造装置、表示装置の製造方法、表示装置を備えた装置の製造方法、表示装置用パネルの製造方法及び製造装置
JP2001189192A (ja) * 1999-10-12 2001-07-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置及びその作製方法
JP2001228321A (ja) * 2000-02-21 2001-08-24 Canon Inc カラーフィルタの製造方法、製造装置、カラーフィルタを備えた表示装置の製造方法及び該表示装置を備えた装置の製造方法
JP2002273869A (ja) * 2001-01-15 2002-09-25 Seiko Epson Corp 吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009125787A1 (ja) * 2008-04-09 2009-10-15 東京応化工業株式会社 インクジェット用拡散剤組成物、当該組成物を用いた電極及び太陽電池の製造方法
JP2009253127A (ja) * 2008-04-09 2009-10-29 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd インクジェット用拡散剤組成物、当該組成物を用いた電極及び太陽電池の製造方法
US8748301B2 (en) 2008-04-09 2014-06-10 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Diffusing agent composition for ink-jet, and method for production of electrode or solar battery using the composition
US8524328B2 (en) 2010-07-15 2013-09-03 Panasonic Corporation Methods for manufacturing organic EL display panel and organic EL display device
JP5543597B2 (ja) * 2010-07-15 2014-07-09 パナソニック株式会社 有機el表示パネルの製造方法

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