JP2003071281A - 多孔性光触媒及びその製造方法 - Google Patents

多孔性光触媒及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光触媒反応による有機高分子基材の脆化を防
止して有機高分子材料の表面に被覆できる多孔性光触媒
を提供する。 【解決手段】 シリコンアルコキシドを用いたゾルゲル
法で、細孔生成用として尿素あるいは金属塩類を添加
し、光触媒活性を有する酸化チタン粉末を分散させた状
態でゲル化させた後、尿素あるいは金属塩類を溶出させ
ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、環境浄化を目的と
した多孔性光触媒とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、太陽光や紫外線ランプ照射で有機
物を分解する光触媒酸化チタンが注目され、その機能を
利用した環境浄化用の素材開発が盛んに行われている。
その中で、活性炭の様な吸着機能も付与し、それによる
有害物質の効率的な除去効果を期待しての酸化チタンと
多孔材の複合化が試みられている。また、光触媒市場の
よりいっそうの拡大を図るために、繊維やプラスチック
材料表面に光触媒酸化チタン層を形成させる技術の確立
も要望されている。
【0003】これまで、酸化チタンと多孔材との複合化
については、特開平9−948号公報では活性炭に酸化
チタンの水分散スラリー塗布する方法が、また、特開平
8−332378号公報では有機物とチタン含有溶液と
の混合物を炭化する方法が提案されている。しかし、前
者は活性炭と酸化チタンとの密着性が小さい。また、後
者は炭化の際、チタン化合物が光触媒活性を示す結晶構
造の酸化チタンを生成する再現性に問題点がある。
【0004】また、酸化チタンを有機高分子材料の表面
に被覆する方法として、特開平10−296920号公
報では、酸化チタンを無機不活性物質で被覆した複合粒
子を積層することを提案している。しかし、この酸化チ
タン複合粒子の具体的な製法は記載されておらず、ま
た、この複合粒子を積層する際、樹脂溶液に混合する方
法を採っており、酸化チタン表面が樹脂で覆われ、光触
媒活性が発現されない恐れがある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】これらの問題点も含
め、光触媒の多孔化と有機高分子材料との複合化のため
には次の課題を解決しなければならない。 1.細孔生成処理あるいは他の多孔質素材との複合化に
よる多孔性の付与。 2.他の素材との複合化の場合、密着性を良くするた
め、酸化チタン原料として塩化チタンやチタンアルコキ
シドを主に用いるが、複合の結果、光触媒活性がほとん
どみられないか、あるいは低下する傾向にある。 3.上記塩化チタンやチタンアルコキシドから光触媒活
性が発現するアナターゼタイプの酸化チタンを得るには
約400℃以上の加熱処理が必要で、有機高分子素材に
はこの処理は施せない。 4.有機高分子素材表面に直接酸化チタン層を形成させ
ると基材自身が光触媒反応を受け損傷するため、保護す
る手段が必要となる。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らはシリコンア
ルコキシドを用いたゾルゲル法を採用し、細孔生成用と
して尿素あるいは金属塩類を添加し、光触媒活性を有す
る酸化チタン粉末を分散させた状態でゲル化させた後、
尿素あるいは金属塩類を溶出させることで多孔性のシリ
カゲル−酸化チタン複合体を得た。この方法により上記
課題を解決できることを見いだした。
【0007】即ち、本発明の多孔性光触媒は酸化チタン
が均一に分散したシリカゲルからなり、孔径が2nm〜
200nmの範囲の細孔を多数有することを特徴とす
る。
【0008】また、その製造方法はシリコンアルコキシ
ドに尿素または金属塩類を添加してアルコール溶液を調
製し、このアルコール溶液に酸化チタン粉末を分散した
混合液をゲル化させた後、尿素または金属塩類を溶出さ
せて多数の細孔が形成されることを特徴とする。
【0009】また、本発明の多孔性光触媒で被覆された
有機高分子材料及びその製造方法はシリコンアルコキシ
ドに尿素または金属塩類を添加してアルコール溶液を調
製し、このアルコール溶液に酸化チタン粉末を分散した
混合液で有機高分子材料の表面を被覆した後、この混合
液をゲル化させ、続いて尿素または金属塩類を溶出させ
て多数の細孔が形成されることを特徴とする。
【0010】シリコンアルコキシドの溶媒として用いる
アルコール(メチルアルコールやエチルアルコールな
ど)と水どちらにも可溶な尿素や金属塩類(例えば塩化
マグネシウム、ヨウ化カリウムなど)を添加しておき、
ゲル化後温水で溶出することによってシリカゲル中に多
数の細孔が生成する。これら添加する尿素や金属塩類を
選択することにより、細孔径を制御できる。
【0011】よって、シリカゲル中に分散している酸化
チタン粉末はこれらの細孔を通して外気と接することが
可能になる。
【0012】ゲル化を促進するための加熱処理温度は1
00℃前後だから、酸化チタンは共存物質と反応するこ
ともなく、その光触媒活性は維持される。また、有機高
分子(繊維、織編物、プラスチックシートなど)に被覆
する場合も、このゲル化促進のための加熱処理温度によ
る有機高分子への影響はほとんどない。
【0013】酸化チタンがシリカゲル中に分散している
構造のため、酸化チタンと有機高分子基材との直接接触
することはなく、光触媒による有機高分子の劣化はな
い。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明で用いられるシリコンアル
コキシドとしてはテトラエチルオルソシリケート、テト
ラメチルオルソシリケート、シランカップリング剤など
が挙げられる。
【0015】また、酸化チタン粉末としては、例えば、
日本アエロジル(株)製P25が挙げられる。光触媒活
性を有するものなら、これに限定されない。
【0016】細孔を生成させるための添加剤としては、
尿素や塩化マグネシウム、ヨウ化カリウムなどの金属塩
類が挙げられるが、水及びアルコールに容易に溶解し、
アルコキシドのゲル化後ゲル内部で固化し、水あるいは
温水などで溶出されるものならこれらに限定されない。
【0017】本発明の多孔性光触媒に被覆される有機高
分子材料は天然物および合成品を問わず、繊維、織編
物、不織布(例えば紙)、プラスチックフィルム、木材
などが挙げられる。
【0018】本発明の多孔性光触媒は酸化チタンがシリ
カゲル中に分散している構造のため、酸化チタンが有機
高分子基材と直接接触することはないが、有機高分子基
材の保護を完全にするために、シリコンアルコキシドだ
けのアルコール−水溶液で有機高分子材料の表面をディ
ップコーティングなどの方法で前処理しても良い。
【0019】また、シリコンアルコキシドに尿素または
金属塩類を添加してアルコール溶液を調製し、このアル
コール溶液に酸化チタン粉末を分散した混合液を有機高
分子材料の表面に被覆する方法としては、ディップコー
ティング、塗布、スプレーコーティングなどが挙げられ
る。
【0020】
【実施例1】テトラエチルオルソシリケート34.7g
にエチルアルコール12ccを加えた溶液に尿素10g
を溶かす。これに酸化チタン粉末5gを加え、スタラー
で分散させ、6規定塩酸1ccと水11ccを加え、撹
拌しながら60℃の湯浴中で加熱しゲル化させた。この
ゲルをさらに120℃の乾燥機中で加熱した。これを6
0〜70℃の温水で洗い、乾燥させた。この合成粉末の
細孔分布を窒素吸着法で測定したところ、孔径6nmと
40nmの細孔をもち、その容積は0.5cc/gを示
した。そしてメチレンブルー吸着量は15mg/gを示
した。その光触媒活性を40ppmのチオシアン酸イオ
ン100mlに合成粉末600mgを加え調べた結果、
チオシアン酸イオンは25時間の紫外線照射(10W/
)で全量消失した。
【0021】
【実施例2】テトラエチルオルソシリケート34.7g
にエチルアルコール12ccを加えた溶液に尿素10g
を溶かす。これに酸化チタン粉末5gを加え、スタラー
で分散させ、6規定塩酸1ccと水11ccを加え、粘
性が生じるまで撹拌する。この液を、前もってテトラエ
チルオルソシリケートのエチルアルコール−水溶液でデ
ィップコートしたポリエステル織物にディップコーティ
ングし、100℃で乾燥しゲル化させた後、湯洗いし
た。この処理で1.5mg/cmのシリカゲル−酸化
チタン複合体がポリエステル織物に固着された。このシ
リカゲル−酸化チタンが被覆されたポリエステル織物の
5cm角片を10ppmのメチレンブルー水溶液100
cc中に浸漬し、紫外線(10W/m)を照射したと
ころ、20時間の照射で溶液中のメチレンブルー全量が
消失した。また、シリカゲル−酸化チタン被覆ポリエス
テル織物自身に吸着されたメチレンブルーはさらに2日
間の紫外線照射で消失した。これらの処理で基材のポリ
エステル織物の光触媒による損傷は認められなかった。
【0022】
【発明の効果】本発明により、酸化チタンが均一に分散
したシリカゲルからなり、孔径が2nm〜200nmの
範囲の細孔を多数有する吸着機能を併せもった多孔性光
触媒が得られる。
【0023】また、シリコンアルコキシドに尿素または
金属塩類を添加してアルコール溶液を調製し、このアル
コール溶液に酸化チタン粉末を分散した混合液で有機高
分子材料の表面を被覆した後、この混合液をゲル化さ
せ、続いて尿素または金属塩類を溶出させる方法で、多
孔性光触媒で被覆された有機高分子材料が得られる。
【0024】この多孔性光触媒は酸化チタンがシリカゲ
ル中に分散している構造のため、酸化チタンと有機高分
子基材と直接接触しないため、有機高分子材料は光触媒
による劣化は受けない。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 5/00 C09D 5/00 Z 183/02 183/02 183/04 183/04 Fターム(参考) 4G069 AA03 AA08 AA12 BA02A BA02B BA04A BA04B BA20A BA20B BA21C BA38 BA48A BE19C CA10 CA19 EC14X EC14Y EC15X EC15Y EC16X EC16Y EC17X EC17Y FA01 FB30 FB48 FC03 4J038 DL021 DL031 HA216 JB24 KA06 PA18 PA21

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酸化チタンが均一に分散したシリカゲル
    からなり、孔径が2nm〜200nmの範囲の細孔を多
    数有することを特徴とする多孔性光触媒。
  2. 【請求項2】 シリコンアルコキシドに尿素または金属
    塩類を添加してアルコール溶液を調製し、このアルコー
    ル溶液に酸化チタン粉末を分散した混合液をゲル化させ
    た後、尿素または金属塩類を溶出させて多数の細孔が形
    成されることを特徴とする多孔性光触媒の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の多孔性光触媒が表面に被
    覆されたことを特徴とする有機高分子材料。
  4. 【請求項4】 シリコンアルコキシドに尿素または金属
    塩類を添加してアルコール溶液を調製し、このアルコー
    ル溶液に酸化チタン粉末を分散した混合液で有機高分子
    材料の表面を被覆した後、この混合液をゲル化させ、続
    いて尿素または金属塩類を溶出させて多数の細孔が形成
    されることを特徴とする多孔性光触媒で被覆された有機
    高分子材料の製造方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005199241A (ja) * 2004-01-19 2005-07-28 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光触媒体及びその製造方法
JP2005246223A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Saga Prefecture シリカゲル光触媒被覆多孔体およびその製造方法
EP1698647A1 (en) * 2003-12-26 2006-09-06 Kansai Paint Co., Ltd. Polymer and process for producing polymer
JP2007068752A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Saga Prefecture 流体浄化装置
JP2007321263A (ja) * 2006-05-31 2007-12-13 Suminoe Textile Co Ltd 光触媒を担持した、消臭機能を有する繊維布帛及びその製造方法。
JP2008279406A (ja) * 2007-05-14 2008-11-20 Daicel Chem Ind Ltd 多孔性シリカ被膜被覆酸化チタン光触媒、および多孔性シリカ被膜被覆酸化チタン光触媒を用いた有機化合物の酸化方法
JP2012055893A (ja) * 2011-12-21 2012-03-22 Daicel Corp 多孔性シリカ被膜被覆酸化チタン光触媒の製造方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07126228A (ja) * 1993-11-02 1995-05-16 Nippon Shokubai Co Ltd アルカノールアミンの製造方法およびこれに用いる触媒ならびに触媒の調製法
JPH09276706A (ja) * 1996-04-17 1997-10-28 Agency Of Ind Science & Technol 光触媒粒子及びその製造方法
JPH10214710A (ja) * 1997-01-28 1998-08-11 Tosoh Corp 磁性シリカゲル及びその製造方法
JPH10277400A (ja) * 1997-04-03 1998-10-20 Agency Of Ind Science & Technol 酸化チタンを担持したシリカ三次元網状構造光触媒およびその製造方法
JPH11292528A (ja) * 1998-01-23 1999-10-26 Naohiro Soga 無機多孔質材料の製造法
JPH11290692A (ja) * 1998-04-06 1999-10-26 Agency Of Ind Science & Technol 光触媒及びその製造方法並びに光触媒含有成形体及びその製造方法
JP2000001631A (ja) * 1998-04-14 2000-01-07 Agency Of Ind Science & Technol 光触媒を含む塗料組成物
JP2000262909A (ja) * 1999-03-23 2000-09-26 Sintokogio Ltd 光触媒機能を有する製品
JP2001046883A (ja) * 1999-08-06 2001-02-20 Sintokogio Ltd 光触媒機能を有するシリカゲル成形体およびその製造方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07126228A (ja) * 1993-11-02 1995-05-16 Nippon Shokubai Co Ltd アルカノールアミンの製造方法およびこれに用いる触媒ならびに触媒の調製法
JPH09276706A (ja) * 1996-04-17 1997-10-28 Agency Of Ind Science & Technol 光触媒粒子及びその製造方法
JPH10214710A (ja) * 1997-01-28 1998-08-11 Tosoh Corp 磁性シリカゲル及びその製造方法
JPH10277400A (ja) * 1997-04-03 1998-10-20 Agency Of Ind Science & Technol 酸化チタンを担持したシリカ三次元網状構造光触媒およびその製造方法
JPH11292528A (ja) * 1998-01-23 1999-10-26 Naohiro Soga 無機多孔質材料の製造法
JPH11290692A (ja) * 1998-04-06 1999-10-26 Agency Of Ind Science & Technol 光触媒及びその製造方法並びに光触媒含有成形体及びその製造方法
JP2000001631A (ja) * 1998-04-14 2000-01-07 Agency Of Ind Science & Technol 光触媒を含む塗料組成物
JP2000262909A (ja) * 1999-03-23 2000-09-26 Sintokogio Ltd 光触媒機能を有する製品
JP2001046883A (ja) * 1999-08-06 2001-02-20 Sintokogio Ltd 光触媒機能を有するシリカゲル成形体およびその製造方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1698647A1 (en) * 2003-12-26 2006-09-06 Kansai Paint Co., Ltd. Polymer and process for producing polymer
EP1698647A4 (en) * 2003-12-26 2008-01-30 Kansai Paint Co Ltd POLYMER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
US7649027B2 (en) 2003-12-26 2010-01-19 Kansai Paint Co., Ltd. Polymer and process for producing polymer
JP2005199241A (ja) * 2004-01-19 2005-07-28 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光触媒体及びその製造方法
JP4563689B2 (ja) * 2004-01-19 2010-10-13 独立行政法人産業技術総合研究所 光触媒体及びその製造方法
JP2005246223A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Saga Prefecture シリカゲル光触媒被覆多孔体およびその製造方法
JP2007068752A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Saga Prefecture 流体浄化装置
JP2007321263A (ja) * 2006-05-31 2007-12-13 Suminoe Textile Co Ltd 光触媒を担持した、消臭機能を有する繊維布帛及びその製造方法。
JP2008279406A (ja) * 2007-05-14 2008-11-20 Daicel Chem Ind Ltd 多孔性シリカ被膜被覆酸化チタン光触媒、および多孔性シリカ被膜被覆酸化チタン光触媒を用いた有機化合物の酸化方法
JP2012055893A (ja) * 2011-12-21 2012-03-22 Daicel Corp 多孔性シリカ被膜被覆酸化チタン光触媒の製造方法

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