JP2003060051A - 半導体集積回路装置及びそれを用いた電子装置 - Google Patents
半導体集積回路装置及びそれを用いた電子装置Info
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Abstract
を小さくし、必要なボンディング面積を確保するととも
に、試験装置のプローブをボンディングパッドに確実に
接触させることができる、フリップチップ接続可能なI
Cを提供する。 【解決手段】 直線上に直列に接続された細幅部と太幅
部を有する複数のボンディングパッドを、その太幅部が
隣接する他のボンディングパッドの細幅部に対向するよ
うに、交互にかつ列状に配置する。
Description
集積回路装置(IC)にフリップチップ接続可能な半導
体集積回路装置(IC)及びそれを用いた電子装置に関
する。
のためにより微細なデザインルールを用いて高集積化さ
れてきている。
IC端子と基板電極等とを接続するためのボンディング
パッドが、ICのチップサイズを決定する上で重要な要
素となってきている。
ースを削減する目的でフリップチップ接続方式が多く用
いられるようになってきている。フリップチップ接続方
式は、ワイヤボンディング方式とともに、ベアチップ実
装技術の1つであり、ICのボンディングパッド上にバ
ンプ(突起状電極)を形成し、相対する基板上の電極に
対して位置合わせして実装するものである。
が可能、実装面積が小さい、電気特性良好などの特徴を
持つためにその適用範囲が広がっており、LCDドライ
ブIC等のガラス基板へのCOG(Chip On Glass)
にも適用されてきている。
チップ接続しているLCD表示装置50の概略構成を示
す図であり、図6はそのLCDドライブIC54の一部を
拡大して示す図である。
パネル52が設けられ、また透明導電膜からなる多数の
配線53が狭ピッチで形成されており、その一部の保護
膜が除去されて接続用の電極53a(図示せず)が形成
されている。この電極53aにはバンプが形成されても
よい。この配線53はロー電極及びカラム電極の一部を
示している。また、同様に透明導電膜からなる配線57
及び電極57a(図示せず)が外部との接続のために形
成されている。このガラス基板51にLCDドライブI
C54をフリップし、電極53aに対応して設けられた
多数の、例えば300〜400のボンディングパッド5
5にそれぞれ形成されたバンプを電極53a上に位置合
わせし、また、電極57aに対応して設けられた入力側
のボンディングパッド56にそれぞれ形成されたバンプ
電極に位置合わせして、はんだ或いは異方性導電膜(A
CF)等により、一括して接続している。なお、フレキ
シブル基板58の各配線が、配線57の他側ではんだ或
いはACFにより接続されている。
ス基板51にフリップチップ接続され、LCD表示装置
50が構成されている。
イブIC54のボンディングパッド55及びガラス基板
51上の配線53は、微細加工技術の進展により、所望
の狭い幅及び間隔に作成できるようになってきている。
なICは、その製造工程においてICチップの良・不良
を試験する必要がある。この試験は、ウエーハを試験装
置(プローバ)にセットし、ICのボンディングパッド
にプローブと呼ばれる探針を1本1本接触させた状態
で、入力された信号波形に対する出力された信号波形を
読み取ることにより行われる。
またボンディングパッドに対する試験装置の位置合わせ
精度、或いは接触確保のためのプローブのスクラブ等の
点から、ICのボンディングパッドにはある程度の幅及
び長さを用意する必要がある。
限寸法が、フリップチップ接続のために必要とされる寸
法ではなく、IC試験のためのプロービング技術により
制限されることがある。
5の幅はプローブ先端(例えば15〜20μm)を確実
に接触させるために広い幅(例えば60μm)となって
おり、またボンディングパッド55間の寸法も絶縁のた
めに一定量を要するから、ICの寸法を大きくしてしま
うことになる。このことは、逆に、ICが取り付けられ
る相手側基板もICの寸法により規制され、小型化でき
ないことにもなる。
ィングパッドのピッチをできるだけ小さくし、必要なボ
ンディング面積を確保するとともに、試験装置のプロー
ブをボンディングパッドに確実に接触させることができ
る、フリップチップ接続可能なIC及びそれを用いた電
子装置を提供することを目的とする。
積回路装置は、内部回路に接続された複数のボンディン
グパッドを有し、フリップチップ接続可能な構造の半導
体集積回路装置において、上記複数のボンディングパッ
ドは、直線上に直列に接続された細幅部と太幅部を有し
ており、一端部側に前記細幅部が位置し、他端部側に前
記太幅部が位置する第1ボンディングパッドと、前記一
端部側に前記太幅部が位置し、前記他端部側に前記細幅
部が位置する第2ボンディングパッドとが、太幅部が隣
接する他のボンディングパッドの細幅部に対向するよう
に、交互にかつ列状に配置されていることを特徴とす
る。
よれば、ボンディング及び試験装置のプロービングに必
要な面積を確保するとともに、多数設けられるボンディ
ングパッドのピッチを小さくすることができる。
求項1記載の半導体集積回路装置において、前記太幅部
及び前記細幅部の両方にバンプが形成されていることを
特徴とする。
よれば、さらに、太幅部にもバンプを形成しボンディン
グするから、ボンディングパッドの長さを短くすること
ができる。
求項1記載の半導体集積回路装置において、前記細幅部
のみにバンプが形成されていることを特徴とする。
よれば、さらに、プロービングによりボンディングパッ
ドが変形した場合でも、その部分にはバンプは形成され
ていないから、基板などとの接続に影響を受けることは
なく、良好な接続状態を実現することができる。
部回路に接続された複数のボンディングパッドを有し、
フリップチップ接続可能な構造の半導体集積回路装置に
おいて、上記複数のボンディングパッドは、直線上に直
列に接続された細幅部と太幅部を有する第1ボンディン
グパッドと、直線上に直列に接続された細幅部とこの細
幅部に連絡配線を介して接続された太幅部を有する第2
ボンディングパッドとからなり、前記第1ボンディング
パッドの前記細幅部が隣接する前記第2ボンディングパ
ッドの前記細幅部に対向するように、交互にかつ列状に
配置されていることを特徴とする。
よれば、ボンディング及び試験装置のプロービングに必
要な面積を確保するとともに、多数設けられるボンディ
ングパッドのピッチをさらに小さくし、ICを小型化す
ることができる。
接続された複数のボンディングパッドを有し、フリップ
チップ接続可能な構造の半導体集積回路装置において、
上記複数のボンディングパッドは、直線上に直列に接続
された細幅部と太幅部を有しており、一端部側に前記細
幅部が位置し、他端部側に前記太幅部が位置する第1ボ
ンディングパッドと、前記一端部側に前記太幅部が位置
し、前記他端部側に前記細幅部が位置する第2ボンディ
ングパッドとが、細幅部が隣接する他のボンディングパ
ッドの細幅部に対向するように、交互にかつ列状に配置
されていることを特徴とする。
よれば、ボンディング及び試験装置のプロービングに必
要な面積を確保するとともに、多数設けられるボンディ
ングパッドのピッチをさらに小さくし、ICを小型化す
ることができる。また、細幅部と太幅部とを接続する連
結配線が不要となるから、ボンディングパッドの作成が
容易になる。
5記載の半導体集積回路装置において、前記細幅部のみ
にバンプが形成されていることを特徴とする。
よれば、さらに、プロービングによりボンディングパッ
ドが変形した場合でも、その部分にはバンプは形成され
ていないから、基板などとの接続に影響を受けることは
なく、良好な接続状態を実現することができる。
記載の半導体集積回路装置が、基板或いは他の半導体集
積回路装置にフリップチップボンディングされているこ
とを特徴とする。
求項1〜6に記載の半導体集積回路装置を、基板や他の
半導体集積回路装置にフリップチップボンディングして
小型化された電子装置を構成することができる。
リップチップ接続可能なIC及びこのICをフリップチ
ップ接続した電子装置の実施の形態について説明する。
るフリップチップ接続可能なICのボンディングパッド
部分を拡大して示す図である。
11,第2ボンディングパッド12が複数設けられる。
第1ボンディングパッド11は、直線上に直列に接続さ
れた第1所定長d1の細幅部Aと第2所定長d2の太幅
部Bとから構成されており、太幅部B側がIC10の一
端部側に位置し、細幅部Aが他端部側に位置している。
第2ボンディングパッド12は、同様に直線上に直列に
接続された第1所定長d1の細幅部Aと短い第2所定長
d2の太幅部Bとから構成されているが、細幅部A側が
IC10の一端部側に位置し、太幅部Bが他端部側に位
置している。なお、13は、各パッド11,12と図示
しない内部回路とを接続するための配線であり、例えば
保護膜に覆われている。このような配線は、他の実施の
形態でも同様に少なくとも各パッドの片側に設けられて
いる。
は、太幅部Bが隣接する他のボンディングパッドの細幅
部Aに対向するように、交互にかつ列状に配置されてい
る。
は、細幅部A及び太幅部Bに、斜線で示すように、バン
プが形成されている。
1,12が形成されているIC10がフリップされて、
即ちフェースダウンで、接続相手側の基板、例えば図5
で示したLCD表示装置50のガラス基板51に、はん
だ或いはACF等の接続手段によりフリップチップ接続
される。このとき、ガラス基板51の電極53aに各ボ
ンディングパッド11,12の細幅部Aが対応するよう
に位置合わせされている。以下、接続手段として、AC
Fを用いることとして説明する。
バンプ等の作成や基板との接続方法によって決まる寸法
であるが、いずれにしても接続相手であるガラス基板5
1の電極53aの幅に対応した寸法に形成される。この
細幅部Aの幅aは、例えば20μmとされる。
1,12に対する試験装置の位置合わせ精度やプローブ
先端寸法(例えば15〜20μm)及びプローブ押し当
て後のスクラブなどに対処するためにその長さd2とと
もにある程度の寸法を必要とする。この太幅部Bの幅b
は、例えば60μmとされる。
ィングパッド、バンプの作成や基板との接続手段として
のACFの仕様により決定される。この間隔cの寸法の
下限がACFにより定まるとすると、隣接するボンディ
ングパッド11,12間や電極53a間を短絡(ショー
ト)させないために、一般的にACFに含まれている導
電粒子の粒径の3倍以上の距離をとることが必要とされ
ている。この粒径を例えば5μmとすると、間隔cは1
5μm以上にすることが必要であり、この例では20μ
mとしている。
いては、ACFによる接触信頼性及び電流能力を維持す
るために、仕様により定められているACFの押圧接触
面積を確保する観点から、主として定まる。
Aの幅aと同じ幅の直線状である場合について説明す
る。
2とすると、電極53aの幅及び細幅部Aの幅aは20
μmであり、また全面にバンプが形成されている太幅部
Bのうち有効な接触押圧面積として寄与するのは電極5
3aと対向している部分だけであるから、ボンディング
パッド11、12の必要な全体の長さd0は、125μ
m(=2500/20)となる。
は、全体の長さd0を分割して配分することになるが、
太幅部Bの長さd2を細幅部Aの長さd1と等しくして
いる。このように長さd1,d2を設定することによ
り、太幅部Bが隣接する他のボンディングパッドの細幅
部Aに対向する間隔cを、ACFの仕様により決定され
る下限寸法(20μm)にすることができる。
の長さd0の半分(62.5μm)まで設定することが
できるから、パッドに対する試験装置の位置合わせ精度
やプローブ先端寸法及びプローブ押し当て後のスクラブ
などに対処するための寸法を確保することができる。
の幅a、太幅部の幅b、ボンディングパッド間の間隔c
であるから、p=(a+b+2c)/2、(=60μ
m)になるから、従来のボンディングパッドのピッチ
(対応させると、p=b+c)より小さくなる。
ンディングパッド11,12と同様な形状、寸法、即
ち、長さd1の細幅部A(幅a)と長さd2の太幅部
(幅b)とを有する場合について説明する。
パッド11,12の面積、形状と同じとし、長さd1と
d2が等しく、間隔cを組み立て技術により決まる最小
値と仮定すると、パッド面積を最大にするためには、細
幅部Aから太幅部Bへ移行するテーパ部間の間隔も、間
隔cと同じく最小値になる。
部Aの幅aを20μm、太幅部Bの幅bを60μmと
し、必要な接触押圧面積を同じく2500μm2とする
と、そのために必要となる電極53aの全長d0は約6
8μmとなり、したがって、電極53aの太幅部Bの長
さd2は、計算上約34μmとなる。
幅部Bの長さd2は、プロービングのマージンを考慮す
ると、所定の長さ、例えば60μm程度は必要となる。
したがって、これに対応して、電極53aの太幅部の長
さd2を前述の計算値(34μm)より長くすることに
より接触押圧面積を確保することができるから、電極5
3aの全長を短くすることができる。
を、ボンディングパッド11,12と同様に太幅部を有
する形状とする場合には、電極53aの全長を小さくで
きるから、基板側の電極対向面積を小さくすることがで
きる。
状として、図1では細幅部Aの幅aから太幅部Bの幅b
へある傾きを持って徐々に幅を変化させているが、細幅
部Aの幅aから太幅部Bの幅bへ直ちに直角に変化させ
てもよく、或いはこの幅aから幅bへの変化をもっと緩
やかに変化させ、例えば太幅部Bを三角形状としてもよ
く、具体的な形状としては種々の形状を採用することが
できる。
及び試験装置のプロービングに必要な面積を確保すると
ともに、多数設けられるボンディングパッドのピッチを
小さくし、ICを小型化することができる。また、太幅
部Bにもバンプを形成しボンディングするから、ボンデ
ィングパッド11,12の長さや、基板の電極53aの
長さを短くすることができる。
るフリップチップ接続可能なICのボンディングパッド
部分を拡大して示す図である。
IC20の表面に複数設けられる第1ボンディングパッ
ド21,第2ボンディングパッド22の細幅部Aにの
み、斜線部で示すバンプが形成され、太幅部Bにはバン
プは形成されない。これに伴って、細幅部Aだけで、例
えば図5のガラス基板51に形成された電極53aとボ
ンディングされることになる。その他の構成は、図1の
第1の実施の形態と同様である。
の幅b、ボンディングパッド間の間隔c、及びACFの
条件を図1の第1の実施の形態と同様とすると、細幅部
Aの長さd1は、接触押圧面積を得るために、125μ
m(=2500μm2/20μm)となる。太幅部Bの
長さd2は、プロービングに必要な面積を確保するとい
う条件さえ満たせば、プロービングに適した任意の長さ
に設定することができ、細幅部Aの長さd1より短くで
きる。なお、この実施の形態においても、ボンディング
パッドのピッチpは、p=(a+b+2c)/2であ
る。
は、相手側基板の電極などとのボンディングには使用さ
れず、プロービングのみに使用される。
よりスクラブ時などにボンディングパッド21,22の
表面が、削られたり変形したりすることがある。太幅部
Bにバンプを形成している場合には、プロービングによ
りその表面が変形を受けると、その後のボンディングに
悪影響を与え、良好な接続状態を得ることができないこ
とになる。しかし、この第2の実施の形態では、プロー
ビングにより、ボンディングパッド21,22の太幅部
B表面が変形したとしても、その部分はボンディングに
は使用されないから、バンプによる接続状態を悪化させ
ることはない。
対向する部分をさらに幅狭に形成し、その幅狭部分には
バンプを形成しないように構成する。これにより、間隔
cをより小さくできるから、より狭ピッチ化することが
できる。
21,22の中の一部のボンディングパッドにバンプを
形成しないように構成する。例えば、図2にA′として
示されるように、ボンディングパッド上に、バンプを形
成しないボンディングパッドを適宜に設ける。このよう
に、バンプを形成しないボンディングパッドを設けるこ
とにより、一部のパッドをドライバ出力以外の信号モニ
タなどに、利用することもできる。この点は、他の実施
の形態においても同様に構成することができる。
形態と同様な効果を得ることができるほか、プロービン
グによりボンディングパッド21,22が変形した場合
でも、この部分にはバンプが形成されていないから基板
などとの接続に影響を受けることはなく、良好な接続状
態を実現することができる。
るフリップチップ接続可能なICのボンディングパッド
部分を拡大して示す図である。
31,第2ボンディングパッド32がそれぞれ複数設け
られる。第1ボンディングパッド31は、直線上に直列
に接続された第1所定長d1の細幅部Aと第2所定長d
2の太幅部Bとから構成されており、第2ボンディング
パッド32は、直線上に直列に接続された第1所定長d
1の細幅部Aと第2所定長d2より長くかつ細幅部Aよ
りも細い幅で保護膜で覆われた連絡配線Cを介して接続
された第2所定長d2の太幅部Bとから構成されてい
る。
1,32の太幅部B側がIC30の一端部側に位置し、
細幅部Aが他端部側に位置し、第1ボンディングパッド
31の細幅部Aが隣接する第2ボンディングパッド32
の細幅部Aに対向するように、交互にかつ列状に配置さ
れている。なお、細幅部A側あるいは太幅部B側のいず
れの側がIC30の外側に配置されてもよい。
は、細幅部Aにのみ、斜線で示すように、バンプが形成
されている。
1,32が形成されているIC30がフリップされて、
即ちフェースダウンで、接続相手側の基板、例えば図5
で示したLCD表示装置50のガラス基板51に、はん
だ或いはACF等の接続手段によりフリップチップ接続
される。このとき、ガラス基板51の電極53aに各ボ
ンディングパッド31,32が対応するように位置合わ
せされている。以下、接続手段として、ACFを用いる
こととして説明する。
部A間の間隔c、太幅部Bの幅bの各寸法を、それぞれ
第1の実施の形態におけると同様に設定する。
積を同様に2500μm2とすると、電極53aの幅及
び細幅部Aの幅aは20μmであるから、125μm
(=2500/20)となる。
ド31、32に対する試験装置の位置合わせ精度やプロ
ーブ先端寸法及びプローブ押し当て後のスクラブなどを
考慮して任意に設定することができ、例えばその幅bと
同じく60μmとする。
さd2を設定することにより、長い方の第2ボンディン
グパッド32の全長d0はほぼd1+2d2(=245
μm)となる。
細幅部の幅aとボンディングパッド間の間隔cの和、即
ちp=a+c(=40μm)でよいから、従来のボンデ
ィングパッドのピッチ(対応させると、p=b+c=8
0μm)より小さくなることはもちろんであるが、第
1,第2の実施の形態におけるボンディングパッドのピ
ッチ(p=(a+b+2c)/2=60μm)よりさら
に小さくなる。
Bの寸法に実質的に左右されることなく、ボンディング
パッド作成やフリップチップ接続される基板などとの接
続に関する寸法ルールで、ICのボンディングパッドや
基板などの電極寸法を決めることができる。
幅部Bは、相手側基板の電極などとのボンディングには
使用されず、プロービングのみに使用されるから、図2
の第2の実施の形態におけると同様に、プロービングに
よりボンディングパッド31,32の太幅部Bの表面が
変形したとしても、その部分はボンディングには使用さ
れないから、バンプによる接続状態を悪化させることは
ない。
状として、第1の実施の形態において説明したのと同様
に、具体的な形状としては種々の形状を採用することが
できる。
及び試験装置のプロービングに必要な面積を確保すると
ともに、多数設けられるボンディングパッドのピッチを
さらに小さくし、ICを小型化することができ、また、
このICがフリップチップ接続される相手側基板や相手
方ICの電極間隔に対する制限を少なくすることができ
る。さらに、プロービングによりボンディングパッド3
1,32が変形したとしても、その部分にはバンプは形
成されていないから、基板などとの接続に影響を受ける
ことはなく、良好な接続状態を実現することができる。
るフリップチップ接続可能なICのボンディングパッド
部分を拡大して示す図である。
IC40の表面に第1ボンディングパッド41,第2ボ
ンディングパッド42がそれぞれ複数設けられる。な
お、43は、各パッド41,42と図示しない内部回路
とを接続する配線である。
直列に接続された第1所定長d1の細幅部Aと第2所定
長d2の太幅部Bとから構成されており、太幅部B側が
IC40の一端部側に位置し、細幅部Aが他端部側に位
置している。ボンディングパッド42は、同様に直線上
に直列に接続された第1所定長d1の細幅部Aと第2所
定長d2の太幅部Bとから構成されているが、細幅部A
側がIC40の一端部側に位置し、太幅部Bが他端部側
に位置している。
部Aが隣接する第2ボンディングパッド42の細幅部A
に対向するように、交互にかつ列状に配置されている。
は、斜線で示すように、細幅部Aにのみ、もしくは細幅
部Aの一部に、バンプが形成されている。
図3の第3の実施の形態と比較して、第2ボンディング
パッド42の太幅部Bが、第1ボンディングパッド41
の太幅部Bと逆の端部側に位置している点で異なってお
り、その他の点は同様である。
Bが、第1ボンディングパッド41の太幅部Bと逆の端
部側に位置していることにより、細幅部Aと太幅部Bと
を接続する連結配線が不要となる。
形態と同様な効果を得ることができるほか、ボンディン
グパッド41,42の製作が容易になる。
ICを、フリップし、例えば図5に示されるようなLC
Dガラス基板51にフリップチップ接続して全体として
小型化されたLCD表示装置を構成する。また、他のI
Cにチップオンチップして複合ICを構成する。このよ
うに、本発明の各実施の形態のICを基板や他のICに
フリップチップボンディングして小型化された電子装置
を構成することができる。
れば、ボンディング及び試験装置のプロービングに必要
な面積を確保するとともに、多数設けられるボンディン
グパッドのピッチを小さくすることができる。
ば、さらに、太幅部にもバンプを形成しボンディングす
るから、ボンディングパッドの長さ及び基板の電極の長
さを短くすることができる。
ば、さらに、プロービングによりボンディングパッドが
変形した場合でも、その部分にはバンプは形成されてい
ないから、基板などとの接続に影響を受けることはな
く、良好な接続状態を実現することができる。
ば、ボンディング及び試験装置のプロービングに必要な
面積を確保するとともに、多数設けられるボンディング
パッドのピッチをさらに小さくし、ICを小型化するこ
とができる。
ば、ボンディング及び試験装置のプロービングに必要な
面積を確保するとともに、多数設けられるボンディング
パッドのピッチをさらに小さくし、ICを小型化するこ
とができる。また、細幅部と太幅部とを接続する連結配
線が不要となるから、ボンディングパッドの作成が容易
になる。
ば、さらに、プロービングによりボンディングパッドが
変形した場合でも、その部分にはバンプは形成されてい
ないから、基板などとの接続に影響を受けることはな
く、良好な接続状態を実現することができる。
1〜6に記載の半導体集積回路装置を、基板や他の半導
体集積回路装置にフリップチップボンディングして小型
化された電子装置を構成することができる。
パッド部分を示す図。
パッド部分を示す図。
パッド部分を示す図。
パッド部分を示す図。
るLCD表示装置の概略構成図。
Claims (7)
- 【請求項1】 内部回路に接続された複数のボンディン
グパッドを有し、フリップチップ接続可能な構造の半導
体集積回路装置において、 上記複数のボンディングパッドは、直線上に直列に接続
された細幅部と太幅部を有しており、 一端部側に前記細幅部が位置し、他端部側に前記太幅部
が位置する第1ボンディングパッドと、前記一端部側に
前記太幅部が位置し、前記他端部側に前記細幅部が位置
する第2ボンディングパッドとが、太幅部が隣接する他
のボンディングパッドの細幅部に対向するように、交互
にかつ列状に配置されていることを特徴とする半導体集
積回路装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、前記太幅部及び前記細幅部の両方にバンプが形成
されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 【請求項3】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、前記細幅部のみにバンプが形成されていることを
特徴とする半導体集積回路装置。 - 【請求項4】 内部回路に接続された複数のボンディン
グパッドを有し、フリップチップ接続可能な構造の半導
体集積回路装置において、 上記複数のボンディングパッドは、直線上に直列に接続
された細幅部と太幅部を有する第1ボンディングパッド
と、直線上に直列に接続された細幅部とこの細幅部に連
絡配線を介して接続された太幅部を有する第2ボンディ
ングパッドとからなり、 前記第1ボンディングパッドの前記細幅部が隣接する前
記第2ボンディングパッドの前記細幅部に対向するよう
に、交互にかつ列状に配置されていることを特徴とする
半導体集積回路装置。 - 【請求項5】 内部回路に接続された複数のボンディン
グパッドを有し、フリップチップ接続可能な構造の半導
体集積回路装置において、 上記複数のボンディングパッドは、直線上に直列に接続
された細幅部と太幅部を有しており、 一端部側に前記細幅部が位置し、他端部側に前記太幅部
が位置する第1ボンディングパッドと、前記一端部側に
前記太幅部が位置し、前記他端部側に前記細幅部が位置
する第2ボンディングパッドとが、細幅部が隣接する他
のボンディングパッドの細幅部に対向するように、交互
にかつ列状に配置されていることを特徴とする半導体集
積回路装置。 - 【請求項6】 請求項4,5記載の半導体集積回路装置
において、前記細幅部のみにバンプが形成されているこ
とを特徴とする半導体集積回路装置。 - 【請求項7】 請求項1〜6記載の半導体集積回路装置
が、基板或いは他の半導体集積回路装置にフリップチッ
プボンディングされていることを特徴とする電子装置。
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JP2001243672A JP2003060051A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 半導体集積回路装置及びそれを用いた電子装置 |
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