JP2003048976A - コポリカーボネートの調製方法、およびこれから得られる透明なコポリカーボネート樹脂 - Google Patents

コポリカーボネートの調製方法、およびこれから得られる透明なコポリカーボネート樹脂

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ジヒドロキシジフェニルから誘導される構造
単位を35モル%以上有する透明なコポリカーボネート
の調製方法の提供。 【解決手段】 少なくとも1種のジアリールカーボネー
トを、ジヒドロキシ化合物を35〜60モル%含有する
混合物と溶融物中でエステル交換反応させることを包含
するコポリカーボネートの調製方法において、前記百分
率(%)が共に(I)および(II)の合計モル量に関するも
のであり、270〜330℃の最終温度が、220〜2
40℃の出発温度から40分以内に到達することを特徴
とするコポリカーボネートの調製方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】本発明は、ポリカーボネートの調製方
法、特にジヒドロキシジフェニレンから誘導される構造
単位を35モル%以上含有する透明なコポリカーボネー
トに関する。
【0002】
【発明の要旨】透明なコポリカーボネートの調製方法を
開示している。このコポリカーボネートは、分子構造が
ジヒドロキシジフェニレンから誘導される構造単位を3
5モル%以上含有するものであって、反応の最終温度が
出発温度に達した後40分以内に到達される溶融エステ
ル交換法によって調製される。
【0003】
【発明の背景】4,4'-ジヒドロキシジフェニルおよび2,2
-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノー
ルA)をベースとするコポリカーボネートは、特開昭51
-17382号公報、同昭62-227927号公報および同昭61-2640
20号公報から既に公知であり、欧州特許出願公開第A1-0
544407号公報、米国特許第A-5,470,938号公報、同第A-
5,532,324号公報および同第A-5,401,826号公報には、特
に耐薬品性で熱安定性を有する難燃剤であると同時に、
純粋なビスフェノールAからの市販のポリカーボネート
と比較して、同様の機械特性や透明性を有するものとし
て開示されている。
【0004】溶融エステル交換法によるコポリカーボネ
ートの調製も周知である。これは、欧州特許出願公開第
A1-0544407号公報またはドイツ特許出願公開第A-196464
01号公報にも記載されている。しかし、ジヒドロキシジ
フェニル35モル%以上の混入は、ほとんど記載されて
おらず、しかも本発明者らの独自の調査によれば、透明
でない生成物が得られる。さらに、この透明性の欠如を
回避する方法は先行文献には全く示されていない。
【0005】従って、本発明の課題は、ジヒドロキシジ
フェニル(以降、DODという)から誘導される構造単
位を35モル%以上有する透明なコポリカーボネートの
調製方法を開発することであった。
【0006】驚くことに、DODを35モル%を超えて
含有する透明なコポリカーボネートは、適度な粘度範囲
の加熱相(heating-up phase)が最長40分までに制限さ
れる溶融エステル交換法で調製すれば生成されることを
見出した。
【0007】 [発明の詳細な説明]従って、本発明は、式(I)の化合
物:
【化5】 (ここで、R〜Rは互いに独立して、H、C〜C
アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲン、
好ましくはH、C〜Cアルキルまたはハロゲンを表
し、特に好ましくはR〜R全てが同じ基、特にHま
たはtert-ブチルを表す。) 35〜60モル%、好ましくは40〜50モル%と式(I
I)の化合物:
【化6】 (ここで、R〜Rは互いに独立して、H、CH
ClまたはBrであり、およびXは、C〜Cアルキ
レン、C〜Cアルキリデン、C〜Cシクロアル
キレンまたはC〜C10シクロアルキリデンであ
る。) 65〜40モル%、好ましくは60〜50モル%を含有
する混合物をビスフェノールモノマーとして溶融エステ
ル交換反応させることを包含する、透明なコポリカーボ
ネートの調製方法に関する。ここで、前記百分率(%)
は、(I)と(II)との合計モル量に対するものである。本
発明の方法は、出発温度から最終温度に達するまでの時
間が40分以内、好ましくは30分以内であることを更
に特徴とする。
【0008】220〜240℃、好ましくは235℃の
出発温度とは、反応混合物が、先行文献(例えば、ドイ
ツ特許出願公開第A-19646401号公報)から公知のよう
に、連続した縮合反応中に220〜240℃、好ましく
は235℃まで加熱されることを意味すると解されるべ
きである。本発明に拠れば、前記混合物は、透明なコポ
リカーボネートを生成するために、出発温度から最終温
度である270〜330℃、好ましくは280〜320
℃、特に好ましくは290〜300℃まで40分以内、
好ましくは30分以内で加熱されなければならない。
【0009】式(I)の好ましい化合物は、4,4'-ジヒドロ
キシジフェニル(DOD)、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',
5,5'-テトラ(tert-ブチル)ジフェニル、4,4'-ジヒドロ
キシ-3,3',5,5'-テトラ(n-ブチル)ジフェニル、4,4'-ジ
ヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラ(メチル)ジフェニル、お
よび4,4'-ジヒドロキシジフェニルであり、4,4'-ジヒド
ロキシジフェニル(DOD)が特に好ましい。
【0010】式(II)の好ましい化合物は、2,2-ビス(4-
ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1-ビス(4-ヒドロキシ
フェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン(ビスフェ
ノールTMC)および1,3-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニ
ル)-2-プロピル]ベンゼン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェ
ニル)-1-フェニルエタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェ
ニル)-シクロヘキサンであり、特に2,2-ビス(4-ヒドロ
キシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)および1,1
-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロ
ヘキサン(ビスフェノールTMC)であるが、最も好ま
しいのは2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン(ビ
スフェノールA)である。
【0011】式(I)の化合物のうちいずれか1種あるい
は式(I)の化合物を数種使用して二元コポリカーボネー
トを形成することが可能である。
【0012】式(II)の化合物のうちいずれか1種あるい
は式(II)の化合物を数種使用して二元コポリカーボネー
トを形成することも可能である。
【0013】本発明に関し、ジアリールカーボネート
は、式(III)および式(IV)の炭酸ジエステルである。
【化7】
【化8】 (上記式中、R、R'およびR''は互いに独立して、
H、任意に分枝のC〜C 34-アルキル/シクロアル
キル、C〜C34-アルカリールまたはC〜C -
アリールを表し、例えば、ジフェニルカーボネート、ブ
チルフェニルフェニルカーボネート、ジ-ブチルフェニ
ルカーボネート、イソブチルフェニルフェニルカーボネ
ート、ジ-イソブチルフェニルカーボネート、tert-ブチ
ルフェニルフェニルカーボネート、ジ-tert-ブチルフェ
ニルカーボネート、n-ペンチルフェニルフェニルカーボ
ネート、ジ-(n-ペンチルフェニル)カーボネート、n-ヘ
キシルフェニルフェニルカーボネート、ジ-(n-ヘキシル
フェニル)カーボネート、シクロヘキシルフェニルフェ
ニルカーボネート、ジ-シクロヘキシルフェニルカーボ
ネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジ
-フェニルフェノールカーボネート、イソオクチルフェ
ニルフェニルカーボネート、ジ-イソオクチルフェニル
カーボネート、n-ノニルフェニルフェニルカーボネー
ト、ジ-(n-ノニルフェニル)カーボネート、クミルフェ
ニルフェニルカーボネート、ジ-クミルフェニルカーボ
ネート、ナフチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-
ナフチルフェニルカーボネート、ジ-tert-ブチルフェニ
ルフェニルカーボネート、ジ-(ジ-tert-ブチルフェニ
ル)カーボネート、ジクミルフェニルフェニルカーボネ
ート、ジ-(ジクミルフェニル)カーボネート、4-フェノ
キシフェニルフェニルカーボネート(4-phenyoxyphenyl
phenyl carbonate)、ジ-(4-フェノキシフェニル)カーボ
ネート、3-ペンタデシルフェニルフェニルカーボネー
ト、ジ-(3-ペンタデシルフェニル)カーボネート、トリ
チルフェニルフェニルカーボネートおよびジ-トリチル
フェニルカーボネートが挙げられ、好ましくはジフェニ
ルカーボネート、tert-ブチルフェニルフェニルカーボ
ネート、ジ-tert-ブチルフェニルカーボネート、フェニ
ルフェノールフェニルカーボネート、ジ-フェニルフェ
ノールカーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネ
ートおよびジ-クミルフェニルカーボネートであり、特
に好ましくは、ジフェニルカーボネートである。)
【0014】カーボネートとして用いられるフェノール
性化合物は、前記カーボネート類に加えてヒドロキシア
リールとして直接使用すると、ポリカーボネートの末端
基に影響を及ぼし得る。好ましい混合物は、ジフェニル
カーボネートを有するものである。本発明の方法では、
ヒドロキシアリールまたはヒドロキシアリール-保有化
合物を反応のちょうど良い時点で、好ましくは反応の出
発時に添加することができ、しかもこの添加は、数回に
分けてもよい。遊離ヒドロキシアリールの含量は、(ジ
ヒドロキシ化合物に対して)0.4〜17モル%、好ま
しくは1.3〜8.6モル%であってよい。前記添加
は、反応前に行っても、あるいは反応中に全体的にまた
は部分的に行ってもよい。
【0015】炭酸ジエステルとジヒドロキシ化合物は、
1:1〜1.1、好ましくは1:1.0〜1.07、特
に好ましくは1:1.02〜1.06の比率で使用され
る。上記炭酸ジエステルの混合物を用いてもよい。
【0016】アンモニウムまたはホスホニウム化合物
(以降、通常の名称であるオニウム塩ともいう)を合成
のための触媒として用いてもよい。これらは、ジヒドロ
キシ化合物の総量に対して、好ましくは0.0001〜
0.01モル%の量、特に好ましくは0.002〜0.
006モル%の量で使用する。
【0017】ホスホニウム塩は、場合により、強い固有
の色を導かない他の好適な触媒との組み合わせて、本発
明のコポリカーボネートの調製のための触媒として好ま
しく使用される。
【0018】本発明に関し、ホスホニウム塩は、式(V)
で表されるものである。
【化9】 (式中、R〜Rは、同一または異なって、C〜C
10アルキル、C〜C 10アリール、C〜C10
ラルキルまたはC〜Cシクロアルキル、好ましくは
メチルまたはC〜C14アリール、特に好ましくはメ
チルまたはフェニルであってよく、そしてXは、ヒド
ロキシド、スルフェート、硫酸水素塩、重炭酸塩、カー
ボネート、ハライド(好ましくは塩素)などのアニオ
ン、あるいは式ORで表されるアルコラートであってよ
く、ここでRは、C〜C14アリールまたはC〜C
12アラルキル、好ましくはフェニルであってよい。)
【0019】好ましい触媒は、テトラフェニルホスホニ
ウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムヒドロキ
シドおよびテトラフェニルホスホニウムフェノラートで
あり、特に好ましくはテトラフェニルホスホニウムフェ
ノラートである。
【0020】コポリカーボネートは、制御された方法で
枝分かれされてよく、そのため、(ジカルボン酸とジヒ
ドロキシ化合物の合計量に対して)0.02〜5モル%
という少量の枝分かれ剤を含有していてもよい。好適な
枝分かれ剤は、ポリカーボネートの調製に適した化合物
であり、しかも官能基を3個以上有する。好ましくはフ
ェノール性OH基を3個以上有するものであって、例え
ば、1,1,1-トリ-(4-ヒドロキシフェニル)エタンおよび
イサチン-ビスクレゾールである。
【0021】式(I)〜(V)の遊離体および触媒は、一般に
公知であり、大抵の場合、市販されているか、または公
知の方法で入手可能である。ビスフェノールの調製は、
概して、欧州特許出願公開第第A-720976号公報に記載さ
れており、4,4'-ジヒドロキシジフェニルの調製は、特
開昭61-200935号公報に記載されている。
【0022】原材料はいずれも、当然、合成から得られ
る不純物を含んでいてよい。とはいえ、高純度は、望ま
しくかつ目標であることから、前記遊離体は、できる限
り高純度のものを用いる。
【0023】本発明のコポリカーボネートは、分子量M
w(重量平均分子量)が10、000〜60,000、
好ましくはMw20,000〜55,000であってよ
く、これらは、塩化メチレン中またはフェノール/o-ジ
クロロベンゼンの等量の混合液中での相対溶液粘度の測
定により求められ、ハンス−ジョージ・イーリアス(Han
s-Georg Elias)著、マクロモレキューレ、ヒューシグ・
アンド・ウェップ・フェルラーク(Huthig & Wepf Verla
g)、バーゼル、ニューヨーク1990年、第5版、第85〜
93頁に記載されているような光散乱法により較正され
る。
【0024】本発明のポリカーボネートは、熱可塑性材
料として常套の方法で240℃〜380℃の温度、好ま
しくは260℃〜360℃において加工され得る。所望
の形状の物品およびフィルムは、公知の方法で、射出成
形または押出し成形により製造され得る。
【0025】本発明のポリカーボネートは、塩素化炭化
水素(例えば、塩化メチレン)などの溶媒に容易に溶解
し、そのため、加工されて公知の方法でフィルムに注入
成形され得る。
【0026】特に、フィルムは、本発明の高分子量の芳
香族ポリカーボネートから製造され得る。前記フィルム
の厚さは、好ましくは1〜1,500μm、特に好まし
くは10〜900μmである。
【0027】得られるフィルムは、一軸方向または二軸
方向に、好ましくは1:1.5〜1:5の比率で自体公
知の方法で引き伸ばされ得る。
【0028】前記フィルムは、公知のフィルム製造方
法、例えば、スリットダイを通じてのポリマー溶融物の
押出成形により、フィルムブロー成形機でのブロー成形
により、熱成形により、または注入成形によって製造さ
れ得る。ここで、フィルムは、単独で使用することがで
きる。しかし、組成物フィルムの望ましい使用および最
終特性に依存して、他のプラスチックフィルムを含む複
合フィルムを常套の方法で使用することも当然可能であ
り、一般には、公知のフィルム全てをパートナーにでき
る。複合体は、2種以上のフィルムから製造され得る。
【0029】加えて、本発明のコポリカーボネートは、
同時押出しシートなどの他の層系で使用されてもよい。
【0030】補助基質および強化基質を本発明のコポリ
カーボネートに混合して、その特性を変えることができ
る。使用可能な前記基質は、特に、熱およびUV安定化
剤、流動助剤、離型剤、難燃剤、顔料、微粉砕鉱物、お
よび繊維状基質であって、例えば、アルキルおよびアリ
ール-ホスファイト、-ホスフェートおよび-ホスファ
ン、低分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、
塩、チョーク、石英紛(quartz flour)、ガラスおよび炭
素繊維、顔料、およびこれらの組み合わせが挙げられ
る。前記化合物は、例えば、国際特許出願公開第WO99/5
5772号公報、第15〜25頁、および「プラスチックス
・アディティヴズ(Plastics Additives)」、アール・ゲ
ヒター(R. Gachter)およびエイチ・ミュラー(H. Mulle
r)著、ハンサー・パブリッシャーズ1983年に開示されて
いる。
【0031】他のポリマー、例えば、ポリオレフィン、
ポリウレタン、ポリエステル、アクリロニトリル/ブタ
ジエン/スチレンおよびポリスチレンを、本発明のコポ
リカーボネートに更に混合してもよい。
【0032】これら基質は、好ましくは、完成したポリ
カーボネートに汎用の装置において加えられるが、必要
に応じて、調製プロセスの別の段階で加えられてもよ
い。
【0033】本発明の方法により得られるポリカーボネ
ートは、常套の方法でフィルムまたはシートなどの所望
の形状の物品に、例えば押出し機もしくは射出成形機な
どの汎用の機械において加工されてよい。
【0034】本発明は、本発明のポリカーボネートの使
用、および成形品および押出し成形品(特に光学物品、
フィルムおよびシート)の製造のための対応する成形用
組成物の使用、および本発明のポリカーボネートから製
造される対応する成形品、特に光学物品も提供する。
【0035】耐熱性や耐薬品性などの特性の組み合わせ
は、本発明のコポリマーの広範な使用を可能にする。本
発明のポリカーボネートの考えられ得る用途は、制限さ
れるものではないが、以下の通りである。 1.建物、自動車および航空機の多くの分野において、
必要であると知られているセイフティパン(safety pane
s)およびヘルメットにおけるシールド。 2.ホイル(foils)、特にスキーホイル(ski foils)の製
造。 3.ブロー成形品の製造(例えば、米国特許第2964794
号公報参照)、例えば、1〜5ガロンの水用ボトル。 4.鉄道の駅、温室および照明プラントなどの屋根の有
る建物のための透明シート、特にキャビティシート(cav
ity sheets)の製造。 5.光学データ記憶装置の製造。 6.交通信号のハウジングまたは交通標識の製造用。 7.発泡体の製造用(例えば、ドイツ特許出願公開第AS
-1031507号公報)。 8.トレッドおよびワイヤーの製造用(例えば、ドイツ
特許出願公開第AS-1137167号公報および同第OS-1785137
号公報)。 9.照明目的のためのガラス繊維内容物を含む半透明の
プラスチックとして。
【0036】10.透明な光散乱成形品の製造のため
の、硫酸バリウム、二酸化チタンおよび/または酸化ジ
ルコニウムまたは有機ポリマーアクリレートゴム(欧州
特許第634445号および同第269324号)などの内容物を含
む半透明のプラスチックとして。 11.レンズホルダーなどの精密な射出成形部品の製造
用。ガラス繊維内容物を含み、場合により合計重量に対
して約1〜10重量%のMoSを更に含有するポリカ
ーボネートをこのために使用する。 12.光学装置部品、特に写真およびフィルムカメラ用
のレンズの製造(例えば、ドイツ特許出願公開第OS-270
1173号公報参照)。 13.光透過性キャリア、特に光伝導性ケーブルとして
(例えば、欧州特許出願公開第特許A-10089801号公報
参照)。 14.導電体用およびプラグシェルおよびプラグインコ
ネクター用の電気絶縁性材料。 15.香水、シェービングローションおよび皮膚発汗に
対して高い耐性を有する携帯電話の製造。 16.ネットワークインターフェース装置。 17.有機光伝導体用のキャリア材料として。 18.サーチライト(いわゆる「ヘッドランプ」)など
のランプまたは散乱光パン(scattered light panes)ま
たはインターナルレンズ(internal lenses)の製造用。 19.酸素処理器、透析器などの医用用途のため。
【0037】20.容器、台所用品およびチョコレート
の型などの食品用途のため。 21.バンパーなどのように燃料や潤滑剤との接触が生
じ得る自動車分野において、場合によりABSもしくは
好適なゴムとの適したブレンドの形態での使用のため。 22.スラロームのポールまたはスキーブーツのバック
ルなどのスポーツ物品のため。 23.台所のシンクおよび郵便受のハウジングなどの家
庭用物品のため。 24.配電盤室などのハウジング用。 25.電気歯ブラシ用ケーシングやヘアドライヤーケー
シング。 26.洗浄液に対して高い耐性を有する、透明な洗濯機
−のぞき窓。 27.安全なガラス、光学補正ガラス。 28.台所の蒸気、特に油蒸気に高い耐性を有する台所
用器具のためのランプカバー。 29.薬剤用包装フィルム。 30.チップボックスおよびチップ支持体。 31.飼育用の馬屋(fattening stable doors)または動
物用のケージなどの他の用途のため。
【0038】以降の実施例は、本発明を例示するもので
あるが、本発明を限定するものではない。
【0039】
【実施例】相対溶液粘度は、塩化メチレン中、5g/リ
ットルの濃度において25℃で求め、光散乱により較正
した。フェノール性OHの含量はIR測定により得られ
る。この目的のために、ポリマー2gの50mL塩化メ
チレン溶液と純粋な塩化メチレンとの差を測定し、3,
582cm−1での吸光度を求める。
【0040】実施例1 ビスフェノールA 27.40g(0.12モル)、4,
4'-ジヒドロキシジフェニル14.88g(0.08モ
ル)、ジフェニルカーボネート44.99g(0.21
モル)およびテトラフェニルホスホニウムフェノラート
(混成結晶に対してフェノールを30重量%含有する混
成結晶として計量する)4.9mg(8×10−6
ル)を、撹拌器、内部温度計、およびブリッジ付きビゴ
ーカラム(30cm、反射型(mirrored))を装備した5
00mL3つ口フラスコ内に秤量する。装置は、真空に
して窒素を(3回)パージすることによって雰囲気酸素
を排除し、そして前記混合物を150℃で溶融する。温
度を190℃に上げて、形成したフェノールを30分間
留去する。次に真空を100barに調節し、混合物を
20分間撹拌する。温度を235℃に上げ、15分後に
真空を60mbarにし、更に15分後、温度を270
℃に調節する。更に15分後、真空を5mbarに上
げ、15分後に温度を280℃に上げる。15分後、
0.5mbarにして、混合物を15分間撹拌し、そし
て300℃で30分間撹拌する。結果を表1にまとめ
る。
【0041】実施例2 ビスフェノールA 26.94g(0.118モル)、
4,4'-ジヒドロキシジフェニル15.25g(0.08
2モル)、ジフェニルカーボネート46.70g(0.
22モル)およびフェノール/水9:1中のテトラフェ
ニルホスホニウムフェノラートの5%溶液69μLを、
撹拌器、内部温度計、およびブリッジ付きビゴーカラム
(30cm、反射型)を装備した500mL3つ口フラ
スコ内に秤量する。装置は、真空にして窒素を(3回)
パージすることによって雰囲気酸素を排除し、そして前
記混合物を150℃で溶融する。真空を100mbar
に調節し、温度を190℃に上げ、そして形成するフェ
ノールを30分間留去する。温度を235℃に上げ、1
5分後に温度を10分で300℃に調節する。蒸留が静
まるとすぐに、真空を段階的に0.5mbarまで上げ
る。次いで、混合物を300℃で30分間撹拌する。結
果を表1にまとめる。
【0042】実施例3 ビスフェノールA 62.78g(0.28モル)、4,
4'-ジヒドロキシジフェニル41.85g(0.23モ
ル)、ジフェニルカーボネート110.32g(0.5
2モル)およびテトラフェニルホスホニウムフェノラー
ト(混成結晶に対してフェノールを30重量%含有する
混成結晶として計量したもの)12.3mg(2×10
−5モル)を、撹拌器、内部温度計、およびブリッジ付
きビゴーカラム(30cm、反射型)を装備した500
mL3つ口フラスコ内に秤量する。装置は、真空にして
窒素を(3回)パージすることによって雰囲気酸素を排
除し、そして前記混合物を150℃で溶融する。真空を
100mbarに調節し、温度を190℃に上げ、そし
て形成するフェノールを60分間留去する。温度を23
5℃に上げ、30分後に温度を300℃に調節する。蒸
留が静まるとすぐに、真空を段階的に0.5mbarま
で上げる。次いで、混合物を300℃で30分間撹拌す
る。結果を表1にまとめる。
【0043】実施例4 ビスフェノールA 57.07g(0.25モル)、4,
4'-ジヒドロキシジフェニル46.50g(0.25モ
ル)、ジフェニルカーボネート112.47g(0.5
3モル)およびテトラフェニルホスホニウムフェノラー
ト(混成結晶に対してフェノールを30重量%含有する
混成結晶として計量したもの)12.3mg(2×10
−5モル)を前記フラスコに秤量したこと以外は、実施
例3と同様に行った。結果を表1にまとめる。
【0044】比較例1 ビスフェノールA 627.810g(2.75モ
ル)、4,4'-ジヒドロキシジフェニル418.50g
(2.25モル)、ジフェニルカーボネート1,10
3.23g(5.16モル)およびテトラフェニルホス
ホニウムフェノラート(混成結晶に対してフェノールを
30重量%含有する混成結晶として計量したもの)0.
123g(2×10−4モル)を、撹拌用容器に秤量す
る。この容器は、真空にして窒素を(3回)パージする
ことによって雰囲気酸素を排除し、そして前記混合物を
100mbar下、150℃で溶融する。温度を190
℃に上げて、形成するフェノールを45分間留去する。
温度を45分で330℃に上げる。蒸留が静まるとすぐ
に、真空を段階的に0.5mbarまで上げる。次い
で、混合物を330℃で30分間撹拌する。結果を表1
にまとめる。
【0045】比較例2 ビスフェノールA 22.83g(0.1モル)、4,4'
-ジヒドロキシジフェニル18.60g(0.1モ
ル)、ジフェニルカーボネート44.99g(0.21
モル)およびテトラフェニルホスホニウムフェノラート
(混成結晶に対してフェノールを30重量%含有する混
成結晶として計量したもの)4.9mg(8×10−6
モル)を、撹拌器、内部温度計、およびブリッジ付きビ
ゴーカラム(30cm、反射型)を装備した500mL
3つ口フラスコ内に秤量する。この器具は、真空にして
窒素を(3回)流すことによって雰囲気酸素を排除し、
そして前記混合物を150℃で溶融する。真空を100
mbarに調節し、温度を190℃に上げて、形成する
フェノールを20分間留去する。温度を235℃に上
げ、15分後に真空を60mbarに調節し、混合物を
15分間撹拌する。270℃まで加熱し、15分後に真
空をゆっくりと5mbarまで上げる。更に15分後、
温度を10分で300℃に調節する。15分後、真空を
0.5mbarに上げる。次いで、温度を320℃に設
定し、15分後、混合物を30分間撹拌する。結果を表
1にまとめる。
【0046】
【表1】 表1:コポリカーボネートの比較 BPA:ビスフェノールA DOD:4,4'-ジヒドロキシジフェニル
【0047】前記結果は、公知の方法を考慮した本願ク
レームの方法が驚くほど優れていることを示している。
比較例1では、より高い終点温度を用いても、実施例1
〜4で達成し得るような良好な粘度を有する透明な材料
(相応する分子量)を達成することができない。比較例
2では、不溶でかつ通常の非熱可塑性不透明材料のみが
生成される。従って、本発明のクレームされた主題は、
新規でかつ発明性がある。
【0048】本発明は、例示目的のために先に詳細に記
載したが、これは、単にこの目的のためであって、しか
も本願クレームによって限定され得ることを除き、本発
明の精神および範囲から逸脱することなく当業者により
変更が可能であると解されるべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロタル・ブンツェル ドイツ連邦共和国47906ケムペン、オット ー−ハーン−シュトラーセ28番 (72)発明者 ハンス・デムル ドイツ連邦共和国47800クレーフェルト、 ボーデルシュヴィングフシュトラーセ18番 Fターム(参考) 4F071 AA50 AH19 BB05 BB06 BC01 4J029 AA10 AB01 AB04 AB07 AC02 AE04 BB10A BB10B BB12A BB12B BB13A BB13B HA01 HC05A JC631 KB02 KD01 KD02 KE02 KE05

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも1種のジアリールカーボネー
    トを、式(I)の化合物: 【化1】 (ここで、R〜Rは互いに独立して、H、C〜C
    アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲンを
    表す。) 35〜60モル%と式(II)の化合物: 【化2】 (ここで、R〜Rは互いに独立して、H、CH
    ClまたはBrであり、およびXは、C〜Cアルキ
    レン、C〜Cアルキリデン、C〜Cシクロアル
    キレンまたはC〜C10シクロアルキリデンであ
    る。) 65〜40モル%を含有する混合物と溶融物中でエステ
    ル交換反応させることを包含するコポリカーボネートの
    調製方法において、前記百分率(%)が共に(I)および
    (II)の合計モル量に関するものであり、270〜330
    ℃の最終温度が、220〜240℃の出発温度から40
    分以内に到達されることを特徴とするコポリカーボネー
    トの調製方法。
  2. 【請求項2】 エステル交換反応がオニウム塩触媒の存
    在下で行われる請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 エステル交換反応がテトラフェニルホス
    ホニウムフェノラート触媒の存在下で行われる請求項1
    記載の方法。
  4. 【請求項4】 触媒が、ビスフェノールの合成モル量に
    対して10−3〜10−8モル%の量で存在する請求項
    1記載の方法。
  5. 【請求項5】 式(I)のジヒドロキシ化合物: 【化3】 (ここで、R〜Rは互いに独立して、H、C〜C
    アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲンを
    表す。)から誘導される構造単位を35〜60モル%お
    よび式(II)の化合物: 【化4】 (ここで、R〜Rは互いに独立して、H、CH
    ClまたはBrであり、およびXは、C〜Cアルキ
    レン、C〜Cアルキリデン、C〜Cシクロアル
    キレンまたはC〜C10シクロアルキリデンであ
    る。)から誘導される構造単位を65〜40モル%有す
    る透明なコポリカーボネート樹脂であって、前記百分率
    (%)が共に(I)および(II)の合計モル量に関するもの
    である、透明なコポリカーボネート樹脂。
  6. 【請求項6】 請求項5記載のコポリカーボネート樹脂
    を含有する熱可塑性成形組成物。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の組成物を含む成形品。
  8. 【請求項8】 式(I)のジヒドロキシ化合物が4,4'-ジヒ
    ドロキシジフェニルであり、および式(II)の化合物がビ
    スフェノールAである請求項5記載のコポリカーボネー
    ト樹脂。
  9. 【請求項9】 請求項5記載のコポリカーボネート樹脂
    を含む押出成形品。
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