JP2003043265A - 導光板、これの製造方法及びこれを利用した液晶表示装置 - Google Patents
導光板、これの製造方法及びこれを利用した液晶表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 輝度の増した導光板、これの製造方法とこれ
を利用した液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 線光源光学分布を面光源光学分布に変換
する導光板の光反射面には、輝度向上及び輝度均一性を
向上させる輝度強化凹所（１１４）を形成し、光射出面
には輝度を集中させる輝度集中パターン（１７２）を形
成する。導光板のかかる構造変更により光の輝度及び輝
度均一性を向上させることができ、光学的均一性を向上
させるための拡散シート、プリズムシート、反射板など
を使用しなくてもよいことにより、液晶表示装置の全体
重み及び体積を大きく減少させることができる。
を利用した液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 線光源光学分布を面光源光学分布に変換
する導光板の光反射面には、輝度向上及び輝度均一性を
向上させる輝度強化凹所（１１４）を形成し、光射出面
には輝度を集中させる輝度集中パターン（１７２）を形
成する。導光板のかかる構造変更により光の輝度及び輝
度均一性を向上させることができ、光学的均一性を向上
させるための拡散シート、プリズムシート、反射板など
を使用しなくてもよいことにより、液晶表示装置の全体
重み及び体積を大きく減少させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、導光板とこれの製
造方法、そしてこれを利用した液晶表示装置に関するも
のであり、より詳細には、液晶表示パネルアセンブリに
面光源形態の光学分布を有する光を供給する役割を有す
る装置の構造を変更して、デイスプレー輝度向上、低消
費電力具現、光学的均一性向上及び光損失最小化によっ
て厚さ及び体積を最小化した導光板、これの製造方法、
これを利用した液晶表示装置に関するものである。
造方法、そしてこれを利用した液晶表示装置に関するも
のであり、より詳細には、液晶表示パネルアセンブリに
面光源形態の光学分布を有する光を供給する役割を有す
る装置の構造を変更して、デイスプレー輝度向上、低消
費電力具現、光学的均一性向上及び光損失最小化によっ
て厚さ及び体積を最小化した導光板、これの製造方法、
これを利用した液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、液晶表示分野で製作される液
晶表示装置は、電界の大きさに従って、光透過度が変更
する液晶（ＬＣ）の特性を利用して情報処理装置で処理
されたデータを、使用者が文字、画像、動画像などの方
法により認識できるようにインターフェーシングするデ
イスプレー装置の一つとして定義できる。
晶表示装置は、電界の大きさに従って、光透過度が変更
する液晶（ＬＣ）の特性を利用して情報処理装置で処理
されたデータを、使用者が文字、画像、動画像などの方
法により認識できるようにインターフェーシングするデ
イスプレー装置の一つとして定義できる。
【０００３】このように、液晶表示装置は、消費電力が
小さく、同一のデイスプレー面積を有する他の種類のデ
イスプレー装置、例えば、ＣＲＴ方式デイスプレー装置
に比べて体積及び重さが相当に小さいが、デイスプレー
品質はＣＲＴ方式デイスプレー装置と対等であったり、
より優れた長所を有する。
小さく、同一のデイスプレー面積を有する他の種類のデ
イスプレー装置、例えば、ＣＲＴ方式デイスプレー装置
に比べて体積及び重さが相当に小さいが、デイスプレー
品質はＣＲＴ方式デイスプレー装置と対等であったり、
より優れた長所を有する。
【０００４】このような液晶表示装置は、厚さが相当に
薄い２枚のガラス基板の間に微小面積単位により各々異
なる電界を形成できるように、いずれか一枚のガラス基
板には、板形状の電極を形成する一方、残り一つのガラ
ス基板には具現しようとする解像度に対応する大きさを
有する微小面積を有する複数個の電極を形成する。以
後、これらを組立てた状態で２枚のガラス基板の間に電
界の強さによって光透過度が異なる特性を有する液晶を
注入して製作する。
薄い２枚のガラス基板の間に微小面積単位により各々異
なる電界を形成できるように、いずれか一枚のガラス基
板には、板形状の電極を形成する一方、残り一つのガラ
ス基板には具現しようとする解像度に対応する大きさを
有する微小面積を有する複数個の電極を形成する。以
後、これらを組立てた状態で２枚のガラス基板の間に電
界の強さによって光透過度が異なる特性を有する液晶を
注入して製作する。
【０００５】一方、液晶表示装置で光の透過度を制御す
る役割を有する液晶は、ただ光の透過度のみを精密に制
御するだけで、直接光を生産しない。これは、液晶表示
装置ではデイスプレーを実施するためには、どのような
形態でも液晶を通過する光を必要とすることを意味す
る。
る役割を有する液晶は、ただ光の透過度のみを精密に制
御するだけで、直接光を生産しない。これは、液晶表示
装置ではデイスプレーを実施するためには、どのような
形態でも液晶を通過する光を必要とすることを意味す
る。
【０００６】液晶を通過する光を生成する方法は、液晶
表示装置外部の光を利用する方法及び液晶表示装置で電
気的エネルギーを消費して光を生成した後、これを使用
する方法に大きく分類できる。
表示装置外部の光を利用する方法及び液晶表示装置で電
気的エネルギーを消費して光を生成した後、これを使用
する方法に大きく分類できる。
【０００７】このとき、液晶表示装置の外部から入射さ
れた光を利用する方法は、外部から液晶表示装置に入射
される光がないとき、デイスプレーを実施できない致命
的な問題点を有する。
れた光を利用する方法は、外部から液晶表示装置に入射
される光がないとき、デイスプレーを実施できない致命
的な問題点を有する。
【０００８】このような、問題点により最近、液晶表示
装置に貯蔵された電気的エネルギーを消費して光を生成
及びこれを利用してデイスプレーを実施する方法が広く
使用されている。
装置に貯蔵された電気的エネルギーを消費して光を生成
及びこれを利用してデイスプレーを実施する方法が広く
使用されている。
【０００９】このように、液晶表示装置に貯蔵された電
気的エネルギーを消費してデイスプレーを実施するとき
にも、高品質映像を得るためには多くの問題点が有る。
気的エネルギーを消費してデイスプレーを実施するとき
にも、高品質映像を得るためには多くの問題点が有る。
【００１０】代表的な問題点は、液晶表示装置の全体デ
イスプレー面積にわたって均一な光学的均一性、即ち、
均一な輝度が保障されなければならないが、このように
均一な輝度を発生させる面光源を具現し難しいと言う点
である。
イスプレー面積にわたって均一な光学的均一性、即ち、
均一な輝度が保障されなければならないが、このように
均一な輝度を発生させる面光源を具現し難しいと言う点
である。
【００１１】添付された図１には、冷陰極線管方式ラン
プのように線光源光学分布を有する光源（１）で発生し
た光を、面光源光学分布を有するように変更させること
により、面光源を確保する方式が説明されている。
プのように線光源光学分布を有する光源（１）で発生し
た光を、面光源光学分布を有するように変更させること
により、面光源を確保する方式が説明されている。
【００１２】ここで、線光源光学分布を面光源光学分布
を有するように変更する役割は“導光板”（Ｌｉｇｈｔ
Ｇｕｉｄｅｄ Ｐａｎｅｌ；ＬＧＰ：３）により具現
される。
を有するように変更する役割は“導光板”（Ｌｉｇｈｔ
Ｇｕｉｄｅｄ Ｐａｎｅｌ；ＬＧＰ：３）により具現
される。
【００１３】このような導光板３は、所定合成樹脂材質
により製作され、全体的な形状は均一な厚さを有するプ
レート形状又は一側から他側に行くほど厚さが段々増加
されるくさび形状により製作される。
により製作され、全体的な形状は均一な厚さを有するプ
レート形状又は一側から他側に行くほど厚さが段々増加
されるくさび形状により製作される。
【００１４】このような導光板３の構造は、線光源形態
の光学分布を有するランプ１で発生した光が導光板３の
側面３ａに入射され導光板３の内側底面３ｂに反射され
た後、導光板３の上面３ｃを通じてＡの方向に射出され
るようにする。
の光学分布を有するランプ１で発生した光が導光板３の
側面３ａに入射され導光板３の内側底面３ｂに反射され
た後、導光板３の上面３ｃを通じてＡの方向に射出され
るようにする。
【００１５】このような導光板３は、面光源形態の光学
分布を有するに適するが、漏洩光などによる光効率の低
下がある。
分布を有するに適するが、漏洩光などによる光効率の低
下がある。
【００１６】導光板３の光効率を高めるために導光板３
の外側底面には、シルクスクリーンなどの方式によって
反射ドット３ｄが形成される。
の外側底面には、シルクスクリーンなどの方式によって
反射ドット３ｄが形成される。
【００１７】しかし、このように導光板３の外側底面に
形成される反射ドット３ｄはやはりまた異なる問題点を
発生させる。
形成される反射ドット３ｄはやはりまた異なる問題点を
発生させる。
【００１８】問題点には、反射ドット３ｄが形成された
導光板３を長時間使用する場合、反射ドット３ｄの色が
元来の色と異なるように変わることがある。このよう
に、色が変わった反射ドット３ｄに光が反射される場
合、反射された光の色が変色即ち、黄変現象が発生し、
所望のデイスプレー色相がデイスプレーされない。
導光板３を長時間使用する場合、反射ドット３ｄの色が
元来の色と異なるように変わることがある。このよう
に、色が変わった反射ドット３ｄに光が反射される場
合、反射された光の色が変色即ち、黄変現象が発生し、
所望のデイスプレー色相がデイスプレーされない。
【００１９】また異なる問題点は、シルクスクリーン方
式には、反射ドット３ｄの大きさをある程度以下、例え
ば、１００μｍ以下に精密に形成し難しいと言うもので
ある。
式には、反射ドット３ｄの大きさをある程度以下、例え
ば、１００μｍ以下に精密に形成し難しいと言うもので
ある。
【００２０】またさらに異なる問題点は、反射ドット３
ｄを形成するとき、反射ドット３ｄの形状不良が頻繁に
発生されると言うものである。
ｄを形成するとき、反射ドット３ｄの形状不良が頻繁に
発生されると言うものである。
【００２１】これ以外にも、面光源形態の光学分布を発
生させる導光板を使用する場合、面光源形態の光学的分
布は得ることができるが、図４の符号５で図示されたよ
うに輝度分布が相当に不均一となる問題点を有する。
生させる導光板を使用する場合、面光源形態の光学的分
布は得ることができるが、図４の符号５で図示されたよ
うに輝度分布が相当に不均一となる問題点を有する。
【００２２】このように、導光板３のみを使用したと
き、発生されるデイスプレー性能低下を克服するために
導光板３の上面には、図２に図示されたように“拡散板
（ｄｉｆｆｕｓｅｒ）６”がさらに設置される。図２の
符号Ｂは導光板の側面に漏洩される光である。
き、発生されるデイスプレー性能低下を克服するために
導光板３の上面には、図２に図示されたように“拡散板
（ｄｉｆｆｕｓｅｒ）６”がさらに設置される。図２の
符号Ｂは導光板の側面に漏洩される光である。
【００２３】拡散板６は、導光板３から射出され図４で
符号５に図示された光学分布を有する光を図４で符号７
に図示された光学分布を有するように光を拡散させる役
割を有する。これ以外にも、拡散板６は導光板３に形成
された反射ドット３ｄが肉眼で目視されることを防止す
る役割も有する。
符号５に図示された光学分布を有する光を図４で符号７
に図示された光学分布を有するように光を拡散させる役
割を有する。これ以外にも、拡散板６は導光板３に形成
された反射ドット３ｄが肉眼で目視されることを防止す
る役割も有する。
【００２４】拡散板６を使用する場合、導光板３から射
出された光が散乱され光学的均一性はある程度克服され
る。
出された光が散乱され光学的均一性はある程度克服され
る。
【００２５】しかし、光が散乱される過程で光の方向性
が喪失され、図３に図示された液晶表示パネルアセンブ
リ８に入射された後、光量が減少したり視野角が大きく
低下するという異なる問題点を有する。
が喪失され、図３に図示された液晶表示パネルアセンブ
リ８に入射された後、光量が減少したり視野角が大きく
低下するという異なる問題点を有する。
【００２６】これを防止するために、図３に図示された
ように拡散板６の上面には少なくとも１枚以上のプリズ
ムシート９がさらに設置される。このプリズムシート９
は拡散板６で拡散された光を図４の符号１０に図示され
た光学的分布を有するように光学的分布を変更させる。
ように拡散板６の上面には少なくとも１枚以上のプリズ
ムシート９がさらに設置される。このプリズムシート９
は拡散板６で拡散された光を図４の符号１０に図示され
た光学的分布を有するように光学的分布を変更させる。
【００２７】一方、導光板３に入射された光のうち一部
は、導光板３から反射され液晶表示パネルアセンブリ８
側に向かうが、図１乃至図３に図示されたように一部
は、導光板３の底面でも漏洩する。図１の符号Ｃは外部
へ漏洩する漏洩光である。
は、導光板３から反射され液晶表示パネルアセンブリ８
側に向かうが、図１乃至図３に図示されたように一部
は、導光板３の底面でも漏洩する。図１の符号Ｃは外部
へ漏洩する漏洩光である。
【００２８】このように、光の一部が導光板３の底面を
通じて漏洩する場合、当然に液晶表示パネルアセンブリ
８に向かう光が足りなくなって、デイスプレーに必要で
ある輝度が足りなくなる問題点を発生させる。
通じて漏洩する場合、当然に液晶表示パネルアセンブリ
８に向かう光が足りなくなって、デイスプレーに必要で
ある輝度が足りなくなる問題点を発生させる。
【００２９】これを防止するために、導光板３の底面に
は、導光板３で漏洩した光を再生するために光反射率が
高い反射シート１１がさらに設けられる。
は、導光板３で漏洩した光を再生するために光反射率が
高い反射シート１１がさらに設けられる。
【００３０】このように、導光板３及び導光板３に反射
ドット３ｄを使用する場合、デイスプレー特性を向上さ
せるために導光板３は、拡散板６、プリズムシート９、
反射シート１１などを付随的に必要とするから、生産原
価が大きく増加する。
ドット３ｄを使用する場合、デイスプレー特性を向上さ
せるために導光板３は、拡散板６、プリズムシート９、
反射シート１１などを付随的に必要とするから、生産原
価が大きく増加する。
【００３１】これらは、図示されない収納容器（図示せ
ず）に順次に積層され所謂、“バックライトアセンブリ
“を具現する。
ず）に順次に積層され所謂、“バックライトアセンブリ
“を具現する。
【００３２】このような構成を有する、バックライトア
センブリの構成要素である導光板３、導光板３に関連し
て設けられる拡散板６、プリズムシート９、反射シート
１１は光の光学的均一性を向上させる代わりに、冷陰極
線管ランプなどのようなランプ１から発生された光の相
当部分が犠牲にされる結果を発生させる。
センブリの構成要素である導光板３、導光板３に関連し
て設けられる拡散板６、プリズムシート９、反射シート
１１は光の光学的均一性を向上させる代わりに、冷陰極
線管ランプなどのようなランプ１から発生された光の相
当部分が犠牲にされる結果を発生させる。
【００３３】従って、液晶表示装置からデイスプレーに
必要である十分な輝度を得るためには、バックライトア
センブリで損失される光量を勘案して、冷陰極線管方式
ランプ１で発生する光量を増加させるしかない。これ
は、結局、液晶表示装置での消費電力が大きく増加され
ることを意味する。
必要である十分な輝度を得るためには、バックライトア
センブリで損失される光量を勘案して、冷陰極線管方式
ランプ１で発生する光量を増加させるしかない。これ
は、結局、液晶表示装置での消費電力が大きく増加され
ることを意味する。
【００３４】これ以外にも、光学的均一性を向上させる
に使用される拡散板６、プリズムシート９、反射シート
１１は液晶表示装置の厚さを増加させる要因となり、組
立に要する時間を増加させ、生産原価を大きく増加させ
る原因となる。
に使用される拡散板６、プリズムシート９、反射シート
１１は液晶表示装置の厚さを増加させる要因となり、組
立に要する時間を増加させ、生産原価を大きく増加させ
る原因となる。
【００３５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の第１
目的は、ランプから発生された光が面光源光学分布を有
し、高輝度で液晶表示パネルアセンブリ側に入射される
ようにする導光板を提供するものである。
目的は、ランプから発生された光が面光源光学分布を有
し、高輝度で液晶表示パネルアセンブリ側に入射される
ようにする導光板を提供するものである。
【００３６】本発明の第２目的は、輝度及び輝度均一性
が増加された導光板を製造する方法を提供するものであ
る。
が増加された導光板を製造する方法を提供するものであ
る。
【００３７】本発明の第３目的は、導光板の構造を変更
して輝度を大幅向上させることは勿論、厚さ及び体積が
減少された液晶表示装置を提供するものである。
して輝度を大幅向上させることは勿論、厚さ及び体積が
減少された液晶表示装置を提供するものである。
【００３８】
【課題を解決するための手段】本発明の第１目的を達成
するための導光板の１つの形態のものは、液晶表示パネ
ルの下部に位置して前記液晶表示パネルに面光源形態の
光学分布を有する光が供給されるようにする導光板にお
いて、光が入射される光入射面と、前記光入射面と隣接
した光反射面と、前記光反射面と向き合う関係を有する
光射出面と、前記光入射面を含む少なくとも２個以上の
側面を含む導光体から成り、該導光体の前記光反射面に
は、前記光入射面に入射された光及びその後、前記側面
から反射された側面反射光を、前記光射出面側に反射さ
せ輝度を向上させるための輝度強化凹所が少なくとも１
個以上形成されたことを特徴とする。
するための導光板の１つの形態のものは、液晶表示パネ
ルの下部に位置して前記液晶表示パネルに面光源形態の
光学分布を有する光が供給されるようにする導光板にお
いて、光が入射される光入射面と、前記光入射面と隣接
した光反射面と、前記光反射面と向き合う関係を有する
光射出面と、前記光入射面を含む少なくとも２個以上の
側面を含む導光体から成り、該導光体の前記光反射面に
は、前記光入射面に入射された光及びその後、前記側面
から反射された側面反射光を、前記光射出面側に反射さ
せ輝度を向上させるための輝度強化凹所が少なくとも１
個以上形成されたことを特徴とする。
【００３９】本発明の第１目的を具現するための導光板
の他の形態のものは、液晶表示パネルの下部に位置して
前記液晶表示パネルに面光源形態の光学分布を有する光
が供給されるようにする導光板において、光が入射され
る光入射面と、前記光入射面と隣接した光反射面と、前
記光反射面と向き合う関係を有する光射出面と、前記光
射出面上に第１方向に少なくとも１個以上が連続して形
成され、プロファイルがプリズム形態を有する集光パタ
ーンが形成されたことを特徴とする。
の他の形態のものは、液晶表示パネルの下部に位置して
前記液晶表示パネルに面光源形態の光学分布を有する光
が供給されるようにする導光板において、光が入射され
る光入射面と、前記光入射面と隣接した光反射面と、前
記光反射面と向き合う関係を有する光射出面と、前記光
射出面上に第１方向に少なくとも１個以上が連続して形
成され、プロファイルがプリズム形態を有する集光パタ
ーンが形成されたことを特徴とする。
【００４０】本発明の第２目的を具現するための導光板
を製造する方法の１つの形態のものは、ベース基板に感
光膜を所定厚さで塗布する段階と、前記感光膜に光を利
用して露光及び現像して前記感光膜の表面から所定深さ
を有する多角錐形状の凹所を少なくとも１個以上形成す
る段階と、前記感光膜の表面及び前記凹所にメタル物質
を蒸着して、前記感光膜の上部に所定厚さを有するメタ
ル基板を形成する段階と、前記感光膜から分離された前
記メタル基板を下部モールド及び上部モールド間の内部
空間に位置させた状態で導光板形成物質を前記内部空間
に注入する段階とを含むことを特徴とする。
を製造する方法の１つの形態のものは、ベース基板に感
光膜を所定厚さで塗布する段階と、前記感光膜に光を利
用して露光及び現像して前記感光膜の表面から所定深さ
を有する多角錐形状の凹所を少なくとも１個以上形成す
る段階と、前記感光膜の表面及び前記凹所にメタル物質
を蒸着して、前記感光膜の上部に所定厚さを有するメタ
ル基板を形成する段階と、前記感光膜から分離された前
記メタル基板を下部モールド及び上部モールド間の内部
空間に位置させた状態で導光板形成物質を前記内部空間
に注入する段階とを含むことを特徴とする。
【００４１】本発明の第２目的を具現するための導光板
を製造する方法の他の形態のものは、ベース基板に感光
膜を所定厚さで塗布する段階と、前記感光膜のうち指定
された一部分には、光を露光させず残り部分には前記感
光膜が所定厚さほど現像されるように部分露光及び現像
を実施して前記感光膜から露光されない部分が突出され
るようにする段階と、前記感光膜の表面から突出された
部分を除外した残り部分に、前記感光膜の表面から所定
深さを有する多角錐形状の凹所を少なくとも１個以上形
成する段階と、前記感光膜の表面から突出された突起及
び前記凹所にメタル物質を蒸着して前記感光膜の上部に
所定厚さを有するメタル基板を形成する段階と、前記感
光膜から分離された前記メタル基板を下部モールド及び
上部モールド間の内部空間に位置させた状態で導光板形
成物質を前記内部空間に注入する段階ｖ）とを含むこと
を特徴とする。
を製造する方法の他の形態のものは、ベース基板に感光
膜を所定厚さで塗布する段階と、前記感光膜のうち指定
された一部分には、光を露光させず残り部分には前記感
光膜が所定厚さほど現像されるように部分露光及び現像
を実施して前記感光膜から露光されない部分が突出され
るようにする段階と、前記感光膜の表面から突出された
部分を除外した残り部分に、前記感光膜の表面から所定
深さを有する多角錐形状の凹所を少なくとも１個以上形
成する段階と、前記感光膜の表面から突出された突起及
び前記凹所にメタル物質を蒸着して前記感光膜の上部に
所定厚さを有するメタル基板を形成する段階と、前記感
光膜から分離された前記メタル基板を下部モールド及び
上部モールド間の内部空間に位置させた状態で導光板形
成物質を前記内部空間に注入する段階ｖ）とを含むこと
を特徴とする。
【００４２】本発明の第２目的を具現するための導光板
を製造する方法のさらに他の形態のものは、上部モール
ドの内部にプロファイルがＶ字形を有するプリズム形態
のパターンを第１方向と平行な方向に反復して形成した
第１射出基板を設ける段階と、前記上部モールドと下部
モールドを結合して形成された射出空間に第１導光板形
成物質を注入して、上面に第１集光パターンが形成され
た第１導光板を形成する段階と、上部モールドの内部に
プロファイルがＶ字形状を有する三角柱形態のパターン
を第１方向と異なる第２方向と平行な方向に反復して形
成した第２射出基板を設ける段階と、前記下部モールド
に前記第１導光板を設置及び前記下部モールドと前記上
部モールドを結合した状態で、前記第２射出基板と前記
第１導光板の上面との間に第２導光板形成物質を注入し
て第２導光板を形成する段階とを含むことを特徴とす
る。
を製造する方法のさらに他の形態のものは、上部モール
ドの内部にプロファイルがＶ字形を有するプリズム形態
のパターンを第１方向と平行な方向に反復して形成した
第１射出基板を設ける段階と、前記上部モールドと下部
モールドを結合して形成された射出空間に第１導光板形
成物質を注入して、上面に第１集光パターンが形成され
た第１導光板を形成する段階と、上部モールドの内部に
プロファイルがＶ字形状を有する三角柱形態のパターン
を第１方向と異なる第２方向と平行な方向に反復して形
成した第２射出基板を設ける段階と、前記下部モールド
に前記第１導光板を設置及び前記下部モールドと前記上
部モールドを結合した状態で、前記第２射出基板と前記
第１導光板の上面との間に第２導光板形成物質を注入し
て第２導光板を形成する段階とを含むことを特徴とす
る。
【００４３】本発明の第３目的を具現するための液晶表
示装置の１つの形態のものは、液晶を制御して画像がデ
イスプレーされるようにする液晶表示パネルアセンブリ
と、光を供給するランプアセンブリと、前記光が入射さ
れる光入射面と、前記光の入射方向及び前記光入射方向
と異なる方向を有する少なくとも１個以上の光を、前記
液晶表示パネルアセンブリ側に反射させ輝度を向上させ
る輝度強化手段が形成された光反射面及び前記輝度強化
手段から光が射出されるようにする光射出面が形成され
る導光板と、前記光射出面に対向して設置された光経路
調節フィルムと、前記導光板の底面に形成された反射板
を含むバックライトアセンブリを含むことを特徴とす
る。
示装置の１つの形態のものは、液晶を制御して画像がデ
イスプレーされるようにする液晶表示パネルアセンブリ
と、光を供給するランプアセンブリと、前記光が入射さ
れる光入射面と、前記光の入射方向及び前記光入射方向
と異なる方向を有する少なくとも１個以上の光を、前記
液晶表示パネルアセンブリ側に反射させ輝度を向上させ
る輝度強化手段が形成された光反射面及び前記輝度強化
手段から光が射出されるようにする光射出面が形成され
る導光板と、前記光射出面に対向して設置された光経路
調節フィルムと、前記導光板の底面に形成された反射板
を含むバックライトアセンブリを含むことを特徴とす
る。
【００４４】本発明の第３目的を具現するための液晶表
示装置の他の形態のものは、液晶を制御して画像がデイ
スプレーされるようにする液晶表示パネルアセンブリ
と、光を供給するランプアセンブリと、前記光が入射さ
れる光入射面と、前記光の入射方向及び前記光入射方向
と異なる方向を有する少なくとも１個以上の光を、前記
液晶表示パネルアセンブリ側に反射させ輝度を向上させ
る輝度強化手段とを有し、該輝度強化手段は、前記光が
漏洩することを防止する輝度強化突起が形成された光反
射面及び前記輝度強化手段から光が射出されるようにす
る光射出面に形成された輝度集中手段を備えた導光板を
含むことを特徴とする。
示装置の他の形態のものは、液晶を制御して画像がデイ
スプレーされるようにする液晶表示パネルアセンブリ
と、光を供給するランプアセンブリと、前記光が入射さ
れる光入射面と、前記光の入射方向及び前記光入射方向
と異なる方向を有する少なくとも１個以上の光を、前記
液晶表示パネルアセンブリ側に反射させ輝度を向上させ
る輝度強化手段とを有し、該輝度強化手段は、前記光が
漏洩することを防止する輝度強化突起が形成された光反
射面及び前記輝度強化手段から光が射出されるようにす
る光射出面に形成された輝度集中手段を備えた導光板を
含むことを特徴とする。
【００４５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の望
ましい実施形態をより詳細に説明する。
ましい実施形態をより詳細に説明する。
【００４６】図５は、本発明の一実施形態により液晶表
示パネルに面光源形態の光を提供する役割を有する導光
板７００の背面斜視図である。
示パネルに面光源形態の光を提供する役割を有する導光
板７００の背面斜視図である。
【００４７】〈実施形態１〉図５を参照すれば明らかな
ように、本発明の一実施形態による導光板７００は、全
体的に見て、厚さに差がない直六面体プレート形態を有
するフラットタイプ又は一側端部から他側端部に行くほ
ど厚さが段々増加するくさび形態により製作することが
できる。
ように、本発明の一実施形態による導光板７００は、全
体的に見て、厚さに差がない直六面体プレート形態を有
するフラットタイプ又は一側端部から他側端部に行くほ
ど厚さが段々増加するくさび形態により製作することが
できる。
【００４８】本発明では、一実施形態でくさび形態を有
する導光板について説明する。
する導光板について説明する。
【００４９】このように、くさび形態を有するくさびタ
イプ導光板は、直六面体と類似した形態を有するため
に、相互対向する上面及び下面を囲む少なくとも３個以
上の側面により構成される。
イプ導光板は、直六面体と類似した形態を有するため
に、相互対向する上面及び下面を囲む少なくとも３個以
上の側面により構成される。
【００５０】本発明では望ましい一実施形態で４個の側
面を有する導光板が説明される。
面を有する導光板が説明される。
【００５１】以下、導光板７００のうち液晶表示パネル
と向き合う関係を有する面を特別に“光射出面１２０”
と定義し、光射出面１２０と対向する残り一つの面を
“光反射面１１０”と定義する。
と向き合う関係を有する面を特別に“光射出面１２０”
と定義し、光射出面１２０と対向する残り一つの面を
“光反射面１１０”と定義する。
【００５２】さらに、導光板７００を成す４個の側面の
うちランプが設置される側面を特別に“光入射面１３
０”と定義し、残り３個の側面を各々“第１側面１４
０”、“第２側面１５０”、“第３側面１６０”と定義
する。
うちランプが設置される側面を特別に“光入射面１３
０”と定義し、残り３個の側面を各々“第１側面１４
０”、“第２側面１５０”、“第３側面１６０”と定義
する。
【００５３】この時、図５に図示されたように光反射面
１１０には全面積にわたって複数個の“輝度強化凹所
（ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ ｒ
ｅｃｅｓｓ；１１２）”が形成される。
１１０には全面積にわたって複数個の“輝度強化凹所
（ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ ｒ
ｅｃｅｓｓ；１１２）”が形成される。
【００５４】マトリックス形態で形成された輝度強化凹
所１１２は、光入射面１３０に形成されるランプの位置
によって形成面積が変更される。
所１１２は、光入射面１３０に形成されるランプの位置
によって形成面積が変更される。
【００５５】具体的には、輝度強化凹所１１２の形成密
度は導光板７００に光を供給するランプが設置される光
入射面１３０を基準にして決定される。
度は導光板７００に光を供給するランプが設置される光
入射面１３０を基準にして決定される。
【００５６】より具体的には、光反射面１１０に形成さ
れる輝度強化凹所１１２の密度は、光入射面１３０から
光入射面１３０と向き合う第１側面１４０にいくほど連
続的に増加される。
れる輝度強化凹所１１２の密度は、光入射面１３０から
光入射面１３０と向き合う第１側面１４０にいくほど連
続的に増加される。
【００５７】図６又は図７には、このような密度を有す
る各輝度強化凹所１１２の形状が図示されている。
る各輝度強化凹所１１２の形状が図示されている。
【００５８】輝度強化凹所１１２は、一実施形態で４個
の凹所壁面を有する四角錐形態を有する。
の凹所壁面を有する四角錐形態を有する。
【００５９】本発明では、望ましい一実施形態で輝度強
化凹所１１２を四角錐として形成したが、これに限ら
ず、少なくとも３つの側面を有した多角錐及び角のない
錐の形態を選択的に使用できる。
化凹所１１２を四角錐として形成したが、これに限ら
ず、少なくとも３つの側面を有した多角錐及び角のない
錐の形態を選択的に使用できる。
【００６０】以下、各輝度強化凹所１１２に形成された
４個の凹所壁を各々“第１凹所壁面１１２ａ”、“第２
凹所壁面１１２ｂ”、“第３凹所壁面１１２ｃ”、“第
４凹所壁面１１２ｄ”と定義する。
４個の凹所壁を各々“第１凹所壁面１１２ａ”、“第２
凹所壁面１１２ｂ”、“第３凹所壁面１１２ｃ”、“第
４凹所壁面１１２ｄ”と定義する。
【００６１】ここで重要であることは、導光板７００の
光入射面１３０及び第１乃至第３側面１４０、１５０、
１６０と輝度強化凹所１１２を形成する４個の第１乃至
第４凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ
が各々向き合う関係を有する。
光入射面１３０及び第１乃至第３側面１４０、１５０、
１６０と輝度強化凹所１１２を形成する４個の第１乃至
第４凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ
が各々向き合う関係を有する。
【００６２】より具体的には、導光板７００の光入射面
１３０と第１凹所壁面１１２ａ、導光板７００の第１側
面１４０と第２凹所壁面１１２ｂ、導光板７００の第２
側面１５０と第３凹所壁面１１２ｃ、導光板７００の第
３側面１６０と第４凹所壁面１１２ｄがかなりの正確さ
で向き合うように形成される。
１３０と第１凹所壁面１１２ａ、導光板７００の第１側
面１４０と第２凹所壁面１１２ｂ、導光板７００の第２
側面１５０と第３凹所壁面１１２ｃ、導光板７００の第
３側面１６０と第４凹所壁面１１２ｄがかなりの正確さ
で向き合うように形成される。
【００６３】このように、導光板７００の４個の側面１
３０、１４０、１５０、１６０と輝度強化凹所１１２の
凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄを相
互マッチングさせることにより輝度向上効果を得ること
ができる。
３０、１４０、１５０、１６０と輝度強化凹所１１２の
凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄを相
互マッチングさせることにより輝度向上効果を得ること
ができる。
【００６４】具体的に、添付された図８又は図９を参照
すれば、ランプ２００から発生した光は、導光板７００
の光入射面１３０を通じてａ方向に入射された後、導光
板７００の光反射面１１０（図９参照）から面光源光学
分布を有するように反射される。
すれば、ランプ２００から発生した光は、導光板７００
の光入射面１３０を通じてａ方向に入射された後、導光
板７００の光反射面１１０（図９参照）から面光源光学
分布を有するように反射される。
【００６５】この時、ランプ２００が光入射面１３０を
通じて入射された光の進行方向は、ａ方向以外に、光入
射面１３０と向き合う導光板７００の第１側面１４０か
ら反射されたｂ方向、光入射面１３０と隣接した第２側
面１５０から反射されたｃ方向、第３側面１６０から反
射されたｄ方向を有する。
通じて入射された光の進行方向は、ａ方向以外に、光入
射面１３０と向き合う導光板７００の第１側面１４０か
ら反射されたｂ方向、光入射面１３０と隣接した第２側
面１５０から反射されたｃ方向、第３側面１６０から反
射されたｄ方向を有する。
【００６６】この時、輝度強化凹所１１２がない場合、
ａ方向に入射された光は、光反射面１１０により光射出
面１２０に向かって反射される。
ａ方向に入射された光は、光反射面１１０により光射出
面１２０に向かって反射される。
【００６７】このとき、ｂ方向、ｃ方向、ｄ方向を有す
る光は、光反射面１１０によりやはり反射されるが、デ
イスプレーに必要である方向を有しないので損失とな
る。
る光は、光反射面１１０によりやはり反射されるが、デ
イスプレーに必要である方向を有しないので損失とな
る。
【００６８】これに対し、本発明の一実施形態による輝
度強化凹所１１２が形成される場合、ａ方向、ｂ方向、
ｃ方向、ｄ方向を有する光は、全て輝度強化凹所１１２
の第１乃至第４凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２
ｃ、１１２ｄにより反射され光射出面１２０に向かう。
度強化凹所１１２が形成される場合、ａ方向、ｂ方向、
ｃ方向、ｄ方向を有する光は、全て輝度強化凹所１１２
の第１乃至第４凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２
ｃ、１１２ｄにより反射され光射出面１２０に向かう。
【００６９】添付された図９は、ａ方向に入射された光
だけでなく、ｂ方向（図示せず）、ｃ方向及びｄ方向を
有する全ての光が輝度強化凹所１１２により反射された
後、光射出面１２０を通じて外部に射出されることを示
している。
だけでなく、ｂ方向（図示せず）、ｃ方向及びｄ方向を
有する全ての光が輝度強化凹所１１２により反射された
後、光射出面１２０を通じて外部に射出されることを示
している。
【００７０】シミュレーション結果によると、ａ方向は
もちろん、ｂ方向、ｃ方向、ｄ方向において損失となる
光を積極的に活用できる輝度強化凹所１１２を形成する
場合、約１０％以上の輝度向上を得ることができる。
もちろん、ｂ方向、ｃ方向、ｄ方向において損失となる
光を積極的に活用できる輝度強化凹所１１２を形成する
場合、約１０％以上の輝度向上を得ることができる。
【００７１】図６乃至図９に図示された輝度強化凹所１
１２の第１凹所壁面１１２ａ乃至第４凹所壁面１１２ｄ
は全て凹所壁面が鏡面加工された四角錐形態を有する。
１２の第１凹所壁面１１２ａ乃至第４凹所壁面１１２ｄ
は全て凹所壁面が鏡面加工された四角錐形態を有する。
【００７２】即ち、これは光が第１凹所壁面１１２ａ乃
至第４凹所壁面１１２ｄから反射されるとき、光は全て
鏡面反射となると言うことを意味する。
至第４凹所壁面１１２ｄから反射されるとき、光は全て
鏡面反射となると言うことを意味する。
【００７３】図１０を参照すれば、このように光が第１
凹所壁面１１２ａ乃至第４凹所壁面１１２ｄで鏡面反射
を起こす場合、デイスプレー画面３００に局部的に特に
明るく又は暗くなった部分が現れることを示す。
凹所壁面１１２ａ乃至第４凹所壁面１１２ｄで鏡面反射
を起こす場合、デイスプレー画面３００に局部的に特に
明るく又は暗くなった部分が現れることを示す。
【００７４】このように、輝度均一性低下によりデイス
プレー画面３００の一部が部分的に、特別に明るく又は
暗く示される場合、使用者の目に疲労を加重させるな
ど、デイスプレー特性が大きく低下される。
プレー画面３００の一部が部分的に、特別に明るく又は
暗く示される場合、使用者の目に疲労を加重させるな
ど、デイスプレー特性が大きく低下される。
【００７５】添付された図１１乃至図１７には、実施形
態１の輝度強化凹所を導光板７００の光反射面１１０上
に製作する方法が図示されている。
態１の輝度強化凹所を導光板７００の光反射面１１０上
に製作する方法が図示されている。
【００７６】添付された図１１を参照すれば、まずベー
ス基板４１０の上面にはスピンコーティングなどの方法
により厚目のフォトレジスト薄膜４２０が形成される。
ス基板４１０の上面にはスピンコーティングなどの方法
により厚目のフォトレジスト薄膜４２０が形成される。
【００７７】以後、図１２に図示されたように、フォト
レジスト薄膜４２０の上面には光を集める役割を有する
マイクロレンズ４３０が整合される。
レジスト薄膜４２０の上面には光を集める役割を有する
マイクロレンズ４３０が整合される。
【００７８】以後、光源４４０で発生した光は、マイク
ロレンズ４３０に照射され、マイクロレンズ４３０を通
過した光は、フォトレジスト薄膜４２０に照射されフォ
トレジスト薄膜４２０を露光させる。
ロレンズ４３０に照射され、マイクロレンズ４３０を通
過した光は、フォトレジスト薄膜４２０に照射されフォ
トレジスト薄膜４２０を露光させる。
【００７９】このような、マイクロレンズ４３０は、図
１２に図示したようにマイクロレンズ４３０の焦点が合
う部分では、入射光面積が小さく、そこから離れるに従
い連続して入射光面積が増加する如き入射形態で所望の
露光プロファイルが形成されるようにする。四角錐にす
ることが必要であればマイクロレンズの形状を調節する
かマスクを用いる。
１２に図示したようにマイクロレンズ４３０の焦点が合
う部分では、入射光面積が小さく、そこから離れるに従
い連続して入射光面積が増加する如き入射形態で所望の
露光プロファイルが形成されるようにする。四角錐にす
ることが必要であればマイクロレンズの形状を調節する
かマスクを用いる。
【００８０】次いで、図１３に図示されたように、露光
されたフォトレジスト薄膜４２０を現像することにより
フォトレジスト薄膜４２０には形成しようとする輝度強
化凹所１１２のプロファイルと同一のパターンの凹所が
形成される。
されたフォトレジスト薄膜４２０を現像することにより
フォトレジスト薄膜４２０には形成しようとする輝度強
化凹所１１２のプロファイルと同一のパターンの凹所が
形成される。
【００８１】次いで、図１４に図示されたようにパター
ニングされたフォトレジスト薄膜４２０の上面には、ス
パッタリング工程により所定メタルが所定時間の間に、
所定厚さで蒸着される。これにより、パターニングされ
たフォトレジスト薄膜４２０の上面にはメタル基板４３
０が形成され、メタル基板４３０には輝度強化凹所１１
２と同一の形状を有するメタル突起４３５が形成され
る。
ニングされたフォトレジスト薄膜４２０の上面には、ス
パッタリング工程により所定メタルが所定時間の間に、
所定厚さで蒸着される。これにより、パターニングされ
たフォトレジスト薄膜４２０の上面にはメタル基板４３
０が形成され、メタル基板４３０には輝度強化凹所１１
２と同一の形状を有するメタル突起４３５が形成され
る。
【００８２】次いで、図１５に図示されたようにメタル
基板４３０に付着したフォトレジスト薄膜４２０は、ア
ッシング（ａｓｈｉｎｇ）工程により除去され、フォト
レジスト薄膜４２０が除去されたメタル基板４３０は導
光板製作用下部鋳型（モールド）４４０に取付けられ
る。
基板４３０に付着したフォトレジスト薄膜４２０は、ア
ッシング（ａｓｈｉｎｇ）工程により除去され、フォト
レジスト薄膜４２０が除去されたメタル基板４３０は導
光板製作用下部鋳型（モールド）４４０に取付けられ
る。
【００８３】次いで、図１６に図示されたように、導光
板製作用下部鋳型４４０には導光板製作用上部鋳型（モ
ールド）４５０が結合される。
板製作用下部鋳型４４０には導光板製作用上部鋳型（モ
ールド）４５０が結合される。
【００８４】以後、導光板製作用上部鋳型４５０を通じ
て、導光板製作物質４６０が注入される。これにより、
上部鋳型４５０及び下部鋳型４４０との間の空間には図
１７に図示されたように光反射面１１０に輝度強化凹所
１１２が形成された導光板７００が製作される。
て、導光板製作物質４６０が注入される。これにより、
上部鋳型４５０及び下部鋳型４４０との間の空間には図
１７に図示されたように光反射面１１０に輝度強化凹所
１１２が形成された導光板７００が製作される。
【００８５】添付された図１８は、実施形態１による構
成を有する導光板７００が適用された液晶表示装置の概
念図である。
成を有する導光板７００が適用された液晶表示装置の概
念図である。
【００８６】液晶表示装置６００は概略的に言って、液
晶表示パネルアセンブリ６１０及バックライトアセンブ
リ６６０により構成される。
晶表示パネルアセンブリ６１０及バックライトアセンブ
リ６６０により構成される。
【００８７】より具体的には、液晶表示パネルアセンブ
リ６１０は概略的に言って、ＴＦＴ基板６０１及びカラ
ーフィルタ基板６０２及びこれらの間に位置した液晶
（図示せず）により構成された液晶表示パネル６０３、
これらを駆動させるための駆動モジュール６０４、６０
５、６０６、６０７により構成される。
リ６１０は概略的に言って、ＴＦＴ基板６０１及びカラ
ーフィルタ基板６０２及びこれらの間に位置した液晶
（図示せず）により構成された液晶表示パネル６０３、
これらを駆動させるための駆動モジュール６０４、６０
５、６０６、６０７により構成される。
【００８８】液晶表示パネルアセンブリ６１０の液晶は
ただ電界によって、光透過度のみを変える役割を有す
る。これは液晶表示パネルアセンブリ６１０からデイス
プレーを実施するためには、高輝度及び均一な輝度を有
する光源を必要とすることを意味する。
ただ電界によって、光透過度のみを変える役割を有す
る。これは液晶表示パネルアセンブリ６１０からデイス
プレーを実施するためには、高輝度及び均一な輝度を有
する光源を必要とすることを意味する。
【００８９】これのために、液晶表示パネルの下部に
は、バックライトアセンブリ６６０が設けられる。
は、バックライトアセンブリ６６０が設けられる。
【００９０】本発明の一実施形態によるバックライトア
センブリ６６０は、概略的に言って実施形態１で説明さ
れたような形状及び製作方法により製作された輝度強化
凹所を有する導光板７００、導光板７００の光入射面１
３０に光を提供するランプアセンブリ６２０、導光板７
００の光射出面１２０の上に設けられ導光板７００から
射出された光の輝度均一性を向上させるための光学シー
ト類６３０、導光板７００の底面に形成され導光板７０
０から漏洩される漏洩光を再生させる反射板６４０を含
む。
センブリ６６０は、概略的に言って実施形態１で説明さ
れたような形状及び製作方法により製作された輝度強化
凹所を有する導光板７００、導光板７００の光入射面１
３０に光を提供するランプアセンブリ６２０、導光板７
００の光射出面１２０の上に設けられ導光板７００から
射出された光の輝度均一性を向上させるための光学シー
ト類６３０、導光板７００の底面に形成され導光板７０
０から漏洩される漏洩光を再生させる反射板６４０を含
む。
【００９１】符号６５０は収納容器である。
【００９２】表１は従来技術による液晶表示装置のバッ
クライトアセンブリの構成要素及び本発明の実施形態１
によるバックライトアセンブリ６６０の構成要素及び輝
度を比較した表である。
クライトアセンブリの構成要素及び本発明の実施形態１
によるバックライトアセンブリ６６０の構成要素及び輝
度を比較した表である。
【表１】
【００９３】表１によると、従来の液晶表示装置のバッ
クライトアセンブリと本発明の一実施形態によるバック
ライトアセンブリ６６０は全てプリズムシート、拡散板
により構成された光学シート類６３０、導光板７００、
反射板６４０を有する。本発明の一実施形態の場合、導
光板７００に形成された輝度強化凹所１１２により従来
のバックライトアセンブリに対比して輝度が約１０％以
上向上する。
クライトアセンブリと本発明の一実施形態によるバック
ライトアセンブリ６６０は全てプリズムシート、拡散板
により構成された光学シート類６３０、導光板７００、
反射板６４０を有する。本発明の一実施形態の場合、導
光板７００に形成された輝度強化凹所１１２により従来
のバックライトアセンブリに対比して輝度が約１０％以
上向上する。
【００９４】一方、導光板７００の光反射面１１０にマ
トリックス形態で形成される輝度強化凹所１１２の構造
をさらに変更する場合、デイスプレー画面が部分的に、
特に明るく又は暗く現れて、デイスプレー性能が低下さ
れるということを防止できる。
トリックス形態で形成される輝度強化凹所１１２の構造
をさらに変更する場合、デイスプレー画面が部分的に、
特に明るく又は暗く現れて、デイスプレー性能が低下さ
れるということを防止できる。
【００９５】このように、デイスプレー画面の一部が特
に、明るく又は暗く現れてデイスプレー性能低下が発生
することを防止するために、図２０に図示されたように
導光板７００の光反射面１１０には、一実施形態で第１
乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１
４ｄが輝度強化凹所１１４の内部空間から外側へ凸に所
定曲率を有する曲面になるように形成する。
に、明るく又は暗く現れてデイスプレー性能低下が発生
することを防止するために、図２０に図示されたように
導光板７００の光反射面１１０には、一実施形態で第１
乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１
４ｄが輝度強化凹所１１４の内部空間から外側へ凸に所
定曲率を有する曲面になるように形成する。
【００９６】このように、輝度強化凹所１１４の第１乃
至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４
ｄが所定曲率を有するように曲面を形成することは、図
２１に図示されたように第１乃至第４凹所壁面１１４
ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄに到達して反射され
る光が曲面に反射されるときより広い角度で反射され、
即ち光の反射経路の多様化による拡散が得られるように
するためである。
至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４
ｄが所定曲率を有するように曲面を形成することは、図
２１に図示されたように第１乃至第４凹所壁面１１４
ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄに到達して反射され
る光が曲面に反射されるときより広い角度で反射され、
即ち光の反射経路の多様化による拡散が得られるように
するためである。
【００９７】このように、輝度強化凹所１１４から反射
される光が拡散されるようにする場合、高輝度デイスプ
レーは勿論、光の均一性を大きく向上させ高品質デイス
プレーが可能になる。
される光が拡散されるようにする場合、高輝度デイスプ
レーは勿論、光の均一性を大きく向上させ高品質デイス
プレーが可能になる。
【００９８】このように、輝度強化凹所１１４の凹所壁
を曲線加工して輝度を向上させた導光板７００の製法
は、前に図１１乃至図１７で十分に説明した実施形態１
の導光板製作方法と同一である。
を曲線加工して輝度を向上させた導光板７００の製法
は、前に図１１乃至図１７で十分に説明した実施形態１
の導光板製作方法と同一である。
【００９９】ただ、輝度強化凹所１１４の第１乃至第４
凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄが所
定曲率を有するように製作するためには、露光光源の波
長を精密に調節しなければならない。
凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄが所
定曲率を有するように製作するためには、露光光源の波
長を精密に調節しなければならない。
【０１００】一方、導光板７００に形成された輝度強化
凹所１１４での光拡散をより強化するために、図２２に
図示されたように輝度強化凹所１１４の第１乃至第４凹
所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄ上には
複数個の光拡散凹所１１４ｅがさらに形成される。
凹所１１４での光拡散をより強化するために、図２２に
図示されたように輝度強化凹所１１４の第１乃至第４凹
所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄ上には
複数個の光拡散凹所１１４ｅがさらに形成される。
【０１０１】具体的に、添付された図２３を参照する
と、輝度強化凹所１１４の横、縦が一実施形態で１００
μｍの長さを有するとするとき、輝度強化凹所１１４の
第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、
１１４ｄには横、縦の長さが約１５μｍ〜２０μｍであ
る光拡散凹所１１４ｅが少なくとも１個以上形成され
る。
と、輝度強化凹所１１４の横、縦が一実施形態で１００
μｍの長さを有するとするとき、輝度強化凹所１１４の
第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、
１１４ｄには横、縦の長さが約１５μｍ〜２０μｍであ
る光拡散凹所１１４ｅが少なくとも１個以上形成され
る。
【０１０２】このような光拡散凹所１１４ｅは、輝度強
化凹所１１４で拡散反射された光を再び散乱させ、輝度
均一性をさらに向上させる役割を有する。
化凹所１１４で拡散反射された光を再び散乱させ、輝度
均一性をさらに向上させる役割を有する。
【０１０３】この時、光拡散凹所１１４ｅは規則的な形
態で形成又は不規則な形態で形成することができる。ま
た、光拡散凹所１１４ｅは規則的な形態に配列又は不規
則な形態に配列されることができる。
態で形成又は不規則な形態で形成することができる。ま
た、光拡散凹所１１４ｅは規則的な形態に配列又は不規
則な形態に配列されることができる。
【０１０４】以下、輝度強化凹所１１４に光拡散凹所１
１４ｅが形成された導光板７００を製作する方法を添付
された図２４乃至図３０を参照して説明する。
１４ｅが形成された導光板７００を製作する方法を添付
された図２４乃至図３０を参照して説明する。
【０１０５】まず、図２４に図示されたようにベース基
板８１０の上面には、スピンコーティングなどの方法に
より厚目のフォトレジスト薄膜８２０が形成される。
板８１０の上面には、スピンコーティングなどの方法に
より厚目のフォトレジスト薄膜８２０が形成される。
【０１０６】以後、図２５に図示されたようにフォトレ
ジスト薄膜８２０の上面には光を集める役割を有するマ
イクロレンズ８３０が整合される。
ジスト薄膜８２０の上面には光を集める役割を有するマ
イクロレンズ８３０が整合される。
【０１０７】続いて、光源で発生した光はマイクロレン
ズ８３０を通過してフォトレジスト薄膜８２０に照射さ
れることにより、フォトレジスト薄膜８２０を露光させ
る。
ズ８３０を通過してフォトレジスト薄膜８２０に照射さ
れることにより、フォトレジスト薄膜８２０を露光させ
る。
【０１０８】この時、マイクロレンズ８３０の焦点が合
う部分では露光面積が最小になり、そこから離れるに従
い露光面積が増加され、結局、フォトレジスト薄膜８２
０にはマイクロレンズ８３０から照射された光のプロフ
ァイルと同様な形態で露光が実施される。このとき、マ
イクロレンズ８３０の形状を調節して光のプロファイル
が四角錐形態を有するようにする。
う部分では露光面積が最小になり、そこから離れるに従
い露光面積が増加され、結局、フォトレジスト薄膜８２
０にはマイクロレンズ８３０から照射された光のプロフ
ァイルと同様な形態で露光が実施される。このとき、マ
イクロレンズ８３０の形状を調節して光のプロファイル
が四角錐形態を有するようにする。
【０１０９】以後、図２６に図示されたようにフォトレ
ジスト薄膜８２０のうち、露光された部分は現像液によ
り現像されることにより、フォトレジスト薄膜８２０に
は多角錐形状、一実施形態で四角錐形態を有する凹所８
２５が形成される。
ジスト薄膜８２０のうち、露光された部分は現像液によ
り現像されることにより、フォトレジスト薄膜８２０に
は多角錐形状、一実施形態で四角錐形態を有する凹所８
２５が形成される。
【０１１０】続いて、図２７に図示されたように、光拡
散凹所１１４ｅ形成するための異なるマイクロレンズ８
４０が凹所８２５上に位置する。この時、光拡散凹所１
１４ｅを形成するためのマイクロレンズ８４０は凹所８
２５の内壁一部に再び小凹所が形成されるように全面的
にわたって光遮断膜が形成され、一部のみがドット形状
で開口されている。
散凹所１１４ｅ形成するための異なるマイクロレンズ８
４０が凹所８２５上に位置する。この時、光拡散凹所１
１４ｅを形成するためのマイクロレンズ８４０は凹所８
２５の内壁一部に再び小凹所が形成されるように全面的
にわたって光遮断膜が形成され、一部のみがドット形状
で開口されている。
【０１１１】このような状態で、図２７に図示されたよ
うに光源から光が供給されマイクロレンズ８４０を通じ
て光が露光され、フォトレジスト薄膜８２０のうち予め
形成された凹所８２５の内部には、図２８に図示された
ように光拡散凹所１１４ｅを形成するための凹所８２７
が形成される。
うに光源から光が供給されマイクロレンズ８４０を通じ
て光が露光され、フォトレジスト薄膜８２０のうち予め
形成された凹所８２５の内部には、図２８に図示された
ように光拡散凹所１１４ｅを形成するための凹所８２７
が形成される。
【０１１２】以後、図２９に図示されたようにフォトレ
ジスト薄膜８２０の上面には全面的にわたってスパッタ
リング工程により所定メタルが所定時間の間に、所定厚
さで蒸着されメタル基板８５０が形成される。
ジスト薄膜８２０の上面には全面的にわたってスパッタ
リング工程により所定メタルが所定時間の間に、所定厚
さで蒸着されメタル基板８５０が形成される。
【０１１３】これにより、メタル基板８５０には輝度強
化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅと同様な形状を有
するメタルパターンが形成される。
化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅと同様な形状を有
するメタルパターンが形成される。
【０１１４】以後、フォトレジスト薄膜８２０は、アッ
シング工程により除去され、図３０に図示されたように
メタル基板８５０は導光板製作用下部鋳型（モールド）
８６０に取付けられる。
シング工程により除去され、図３０に図示されたように
メタル基板８５０は導光板製作用下部鋳型（モールド）
８６０に取付けられる。
【０１１５】以後、導光板製作用下部鋳型８６０には導
光板製作用上部鋳型（モールド）８７０が結合され、導
光板製作用上部鋳型８７０を通じて導光板製作物質８８
０が注入される。これにより、導光板７００の光反射面
１１０には輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅ
が全て形成される。
光板製作用上部鋳型（モールド）８７０が結合され、導
光板製作用上部鋳型８７０を通じて導光板製作物質８８
０が注入される。これにより、導光板７００の光反射面
１１０には輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅ
が全て形成される。
【０１１６】添付された図３１には、このように導光板
７００に輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅを
備えるように製作された導光板７００が適用された液晶
表示装置が図示されている。
７００に輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅを
備えるように製作された導光板７００が適用された液晶
表示装置が図示されている。
【０１１７】液晶表示装置９００は概略的に言って、液
晶表示パネルアセンブリ９１０及びバックライトアセン
ブリ９６０により構成される。
晶表示パネルアセンブリ９１０及びバックライトアセン
ブリ９６０により構成される。
【０１１８】より具体的には、液晶表示パネルアセンブ
リ９１０は、ＴＦＴ基板９０１、カラーフィルタ基板９
０２及びこれらの間に位置した液晶により構成された液
晶表示パネル９０３、これらを駆動させるための駆動モ
ジュール９０４、９０５、９０６、９０７により構成さ
れる。
リ９１０は、ＴＦＴ基板９０１、カラーフィルタ基板９
０２及びこれらの間に位置した液晶により構成された液
晶表示パネル９０３、これらを駆動させるための駆動モ
ジュール９０４、９０５、９０６、９０７により構成さ
れる。
【０１１９】一方、液晶表示パネルアセンブリ９１０の
液晶は、電界によって光透過度のみを変える役割を有
し、これは液晶表示パネルアセンブリからディスプレー
を実施するためには光源を必要とすることを意味する。
液晶は、電界によって光透過度のみを変える役割を有
し、これは液晶表示パネルアセンブリからディスプレー
を実施するためには光源を必要とすることを意味する。
【０１２０】これを満足させるために、液晶表示パネル
９０３の下部には、バックライトアセンブリ９６０が設
けられる。
９０３の下部には、バックライトアセンブリ９６０が設
けられる。
【０１２１】本発明の一実施形態によるバックライトア
センブリ９６０は、概略的に言って輝度強化凹所１１４
及び光拡散凹所１１４ｅを有する導光板７００、導光板
７００の光入射面１３０に光を提供するランプアセンブ
リ９２０、導光板７００の上面に形成され視野角を向上
させる少なくとも１枚以上のプリズムシート９３０、導
光板７００の底面に形成され導光板７００から漏洩する
漏洩光を再生させる反射板９４０とを含む。
センブリ９６０は、概略的に言って輝度強化凹所１１４
及び光拡散凹所１１４ｅを有する導光板７００、導光板
７００の光入射面１３０に光を提供するランプアセンブ
リ９２０、導光板７００の上面に形成され視野角を向上
させる少なくとも１枚以上のプリズムシート９３０、導
光板７００の底面に形成され導光板７００から漏洩する
漏洩光を再生させる反射板９４０とを含む。
【０１２２】符号６５０は収納容器である。
【０１２３】このように、重要な特徴として、本発明の
一実施形態による導光板７００を使用する液晶表示装置
９００は、拡散シートが導光板７００の上面と液晶表示
パネルアセンブリ９１０の間に設けられなくてもよいと
いうことが挙げられる。
一実施形態による導光板７００を使用する液晶表示装置
９００は、拡散シートが導光板７００の上面と液晶表示
パネルアセンブリ９１０の間に設けられなくてもよいと
いうことが挙げられる。
【０１２４】このように、液晶表示装置に拡散シートを
使用しなくてもよいということは、導光板７００の光反
射面１１０に形成された輝度強化凹所１１４の第１乃至
第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄ
をラウンド形態即ち曲面を有するように形成又は輝度強
化凹所１１４の凹所壁に光拡散凹所１１４ｅを形成する
ことにより可能になる。
使用しなくてもよいということは、導光板７００の光反
射面１１０に形成された輝度強化凹所１１４の第１乃至
第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄ
をラウンド形態即ち曲面を有するように形成又は輝度強
化凹所１１４の凹所壁に光拡散凹所１１４ｅを形成する
ことにより可能になる。
【０１２５】表２はは従来の、一般的な導光板を使用し
たとき及び本発明による曲面輝度強化凹所及び光拡散凹
所が全て形成された導光板を使用した時のバックライト
アセンブリの構成要素を比較した表である。
たとき及び本発明による曲面輝度強化凹所及び光拡散凹
所が全て形成された導光板を使用した時のバックライト
アセンブリの構成要素を比較した表である。
【表２】
表２によると、従来の液晶表示装置のバックライトアセ
ンブリと本発明の一実施形態によるバックライトアセン
ブリは、共通的にプリズムシート９３０、導光板７０
０、反射板９４０を有する。
ンブリと本発明の一実施形態によるバックライトアセン
ブリは、共通的にプリズムシート９３０、導光板７０
０、反射板９４０を有する。
【０１２６】しかし、本発明の場合、導光板７００に設
けた一実施形態で輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１
１４ｅによって予め十分な拡散が導光板７００のレベル
から得られるので、拡散板が設けられなくてもデイスプ
レー性能に影響を及ぼさず、従来のバックライトアセン
ブリ対比輝度が約１０％以上向上される。
けた一実施形態で輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１
１４ｅによって予め十分な拡散が導光板７００のレベル
から得られるので、拡散板が設けられなくてもデイスプ
レー性能に影響を及ぼさず、従来のバックライトアセン
ブリ対比輝度が約１０％以上向上される。
【０１２７】〈実施形態２〉前述した導光板７００は、
光射出面１２０に輝度強化凹所１１４又は光拡散凹所１
１４ｅを形成して導光板７００へ入射された光の均一性
及び輝度を向上させる役割を有する。
光射出面１２０に輝度強化凹所１１４又は光拡散凹所１
１４ｅを形成して導光板７００へ入射された光の均一性
及び輝度を向上させる役割を有する。
【０１２８】反面、実施形態２は導光板７００の光射出
面１２０の構造を変更して輝度強化凹所１１４で均一性
が向上された状態で射出される光の正面視野角確保が可
能であるようにする。
面１２０の構造を変更して輝度強化凹所１１４で均一性
が向上された状態で射出される光の正面視野角確保が可
能であるようにする。
【０１２９】具体的には、図３２に図示されたように導
光板７００の光射出面１２０には、予め定めたＸ−Ｙ座
標系のＸ軸方向に少なくとも１個以上が連続して反復さ
れ、プロファイルがプリズム形態を有する光集光パター
ン１７２が形成される。
光板７００の光射出面１２０には、予め定めたＸ−Ｙ座
標系のＸ軸方向に少なくとも１個以上が連続して反復さ
れ、プロファイルがプリズム形態を有する光集光パター
ン１７２が形成される。
【０１３０】光集光パターン１７２は導光板７００の光
射出面１２０から方向性が相当に一定しない状態で射出
される光の方向を視野角が改善される方向に変更させる
役割をする。
射出面１２０から方向性が相当に一定しない状態で射出
される光の方向を視野角が改善される方向に変更させる
役割をする。
【０１３１】ここで、光集光パターン１７２と液晶表示
パネルのピクセルパターンは、モアレ現象が起る条件を
満足させないように液晶表示パネルのピクセルパターン
と光集光パターン１７２のピッチは精密に調節される。
パネルのピクセルパターンは、モアレ現象が起る条件を
満足させないように液晶表示パネルのピクセルパターン
と光集光パターン１７２のピッチは精密に調節される。
【０１３２】以下、このように光射出面１２０に光集光
パターン１７２を形成し、光反射面に輝度強化凹所１１
７が形成された導光板７００を形成する方法を添付され
た図３３乃至図３８を参照して説明する。
パターン１７２を形成し、光反射面に輝度強化凹所１１
７が形成された導光板７００を形成する方法を添付され
た図３３乃至図３８を参照して説明する。
【０１３３】まず、図３３に図示されたように、プレー
ト形状を有するベース基板８４０の上面には、フォトレ
ジスト薄膜８４１がスピンコーティングなどの方法によ
り厚目に形成される。
ト形状を有するベース基板８４０の上面には、フォトレ
ジスト薄膜８４１がスピンコーティングなどの方法によ
り厚目に形成される。
【０１３４】続いて、図３４に図示されたように、フォ
トレジスト薄膜８４１にはマイクロレンズ（図示せず）
を利用した露光方法によって輝度強化凹所１１４が形成
される位置にフォトレジスト薄膜１１４の場合と対応す
る形状を有する凹所８４３が形成される。
トレジスト薄膜８４１にはマイクロレンズ（図示せず）
を利用した露光方法によって輝度強化凹所１１４が形成
される位置にフォトレジスト薄膜１１４の場合と対応す
る形状を有する凹所８４３が形成される。
【０１３５】次いで、図３５に図示されたようにフォト
レジスト薄膜８４１の上面にはスピンコーティングなど
の方法によって、緻密なメタル基板８４５が所定厚さで
形成される。このとき、メタル基板８４５には輝度強化
凹所１１４と同様な形状を有するメタルパターン８４５
ａが形成される。
レジスト薄膜８４１の上面にはスピンコーティングなど
の方法によって、緻密なメタル基板８４５が所定厚さで
形成される。このとき、メタル基板８４５には輝度強化
凹所１１４と同様な形状を有するメタルパターン８４５
ａが形成される。
【０１３６】次いで、図３６に図示されたようにフォト
レジスト薄膜８４１が除去されたメタル基板８４５はメ
タルパターン８４５ａが上部に向かうように下部鋳型８
４６の指定された位置に固定されたとされ、図３７に図
示されたように下部鋳型８４６は上部鋳型８４７と結合
される。
レジスト薄膜８４１が除去されたメタル基板８４５はメ
タルパターン８４５ａが上部に向かうように下部鋳型８
４６の指定された位置に固定されたとされ、図３７に図
示されたように下部鋳型８４６は上部鋳型８４７と結合
される。
【０１３７】ここで、上部鋳型８４７には前述した光集
光パターン８４７ａと同様な形状を有するパターンが形
成されている。
光パターン８４７ａと同様な形状を有するパターンが形
成されている。
【０１３８】次いで、図３８に図示されたような形態
で、上部鋳型８４７と下部鋳型８４６との間には導光板
製作物質８４８が注入されることにより、光射出面１２
０には“Ｖ”字形状を有する光集光パターン１７２が形
成され、光反射面には輝度強化凹所１１４が形成された
導光板７００が製作される。
で、上部鋳型８４７と下部鋳型８４６との間には導光板
製作物質８４８が注入されることにより、光射出面１２
０には“Ｖ”字形状を有する光集光パターン１７２が形
成され、光反射面には輝度強化凹所１１４が形成された
導光板７００が製作される。
【０１３９】一方、このような方法により製作された導
光板７００は光集光パターン１７２がＹ軸と平行となる
ように形成されるために、図３２におけるＺＸ平面と平
行な角度で進行する光は、視野角を改善する方向へ光の
方向が変更される。
光板７００は光集光パターン１７２がＹ軸と平行となる
ように形成されるために、図３２におけるＺＸ平面と平
行な角度で進行する光は、視野角を改善する方向へ光の
方向が変更される。
【０１４０】しかし、ＺＹ平面と平行な角度を有する光
は、視野角を改善する方向へ光の方向を変更することは
不可能又は相当に難しい。
は、視野角を改善する方向へ光の方向を変更することは
不可能又は相当に難しい。
【０１４１】従って、本発明では、ＺＹ平面と殆ど平行
な角度を有する光の視野角まで改善する一実施形態が開
示される。
な角度を有する光の視野角まで改善する一実施形態が開
示される。
【０１４２】添付された図３９ではまず、導光板７００
の光射出面１２０にはＸ軸方向に反復し、Ｙ軸方向には
平行で、プロファイルがプリズム形態を有する第１集光
パターン１７２が形成される。
の光射出面１２０にはＸ軸方向に反復し、Ｙ軸方向には
平行で、プロファイルがプリズム形態を有する第１集光
パターン１７２が形成される。
【０１４３】集光パターン１７２が形成された導光板７
００の上面には光を再び集光するための輝度集中導光板
１９０が形成される。
００の上面には光を再び集光するための輝度集中導光板
１９０が形成される。
【０１４４】輝度集中導光板１９０は、底面には集光パ
ターン１７２とかみ合って結合される構造を有する第１
補助集光パターン１９２が形成され、上面にはＸ軸方向
と平行し、Ｙ軸方向に反復される“Ｖ”字形状を有する
プリズム形態の第２補助集光パターン１９４が形成され
る。
ターン１７２とかみ合って結合される構造を有する第１
補助集光パターン１９２が形成され、上面にはＸ軸方向
と平行し、Ｙ軸方向に反復される“Ｖ”字形状を有する
プリズム形態の第２補助集光パターン１９４が形成され
る。
【０１４５】この時、輝度集中導光板１９０と導光板７
００は鋳型（モールド）によって一体的に製作したり、
輝度集中導光板１９０及び導光板７００を各々別途の工
程により製作した後、これらを相互結合させることがで
きる。
００は鋳型（モールド）によって一体的に製作したり、
輝度集中導光板１９０及び導光板７００を各々別途の工
程により製作した後、これらを相互結合させることがで
きる。
【０１４６】この時、導光板７００に形成された集光パ
ターン１７２及び輝度集中導光板１９０に形成された第
１補助集光パターン１９２はかみ合って結合されると
き、間に微細空間が形成されるようにすることにより、
光の屈折率を最適化することができる。
ターン１７２及び輝度集中導光板１９０に形成された第
１補助集光パターン１９２はかみ合って結合されると
き、間に微細空間が形成されるようにすることにより、
光の屈折率を最適化することができる。
【０１４７】導光板７００の上面に輝度集中導光板１９
０を一体で製作し、導光板７００の材質と輝度集中導光
板１９０の材質を異なるようにすることにより、光が導
光板７００を通過するとき及び輝度集中導光板１９０を
通過するときの光学屈折率を調節する方法が可能であ
る。
０を一体で製作し、導光板７００の材質と輝度集中導光
板１９０の材質を異なるようにすることにより、光が導
光板７００を通過するとき及び輝度集中導光板１９０を
通過するときの光学屈折率を調節する方法が可能であ
る。
【０１４８】また、導光板７００の上面に輝度集中導光
板１９０を一体で製作し、導光板７００の材質と輝度集
中導光板１９０の材質を同一にすることもできる。
板１９０を一体で製作し、導光板７００の材質と輝度集
中導光板１９０の材質を同一にすることもできる。
【０１４９】以下、このように導光板７００の上面に輝
度集中導光板１９０を一体で製作する方法を添付された
図３３乃至図３８、また図４０又は図４１を参照して説
明する。
度集中導光板１９０を一体で製作する方法を添付された
図３３乃至図３８、また図４０又は図４１を参照して説
明する。
【０１５０】まず、これのために前述した図３３及び図
３８の過程を同様に実施して、導光板７００の光射出面
１２０に第１集光パターン１７２及び導光板７００の光
反射面に輝度強化凹所１１４が形成された導光板７００
を製作する。
３８の過程を同様に実施して、導光板７００の光射出面
１２０に第１集光パターン１７２及び導光板７００の光
反射面に輝度強化凹所１１４が形成された導光板７００
を製作する。
【０１５１】次いで、図４０に図示されたように製作さ
れた導光板７００を下部鋳型８８０に固定させた状態
で、上部鋳型８９０と下部鋳型８８０を結合する。
れた導光板７００を下部鋳型８８０に固定させた状態
で、上部鋳型８９０と下部鋳型８８０を結合する。
【０１５２】この時、上部鋳型８９０には第１集光パタ
ーン１７２と相異する角度、望ましく９０°の角度をな
し、プロファイルがプリズム形状を有する別途のプレー
トが設けられる。
ーン１７２と相異する角度、望ましく９０°の角度をな
し、プロファイルがプリズム形状を有する別途のプレー
トが設けられる。
【０１５３】代替的には、上部鋳型８９０自体にに第１
集光パターン１７２と相異する角度、望ましくは９０°
の角度をなし、プロファイルがプリズム形状を有するパ
ターンを形成してもよい。
集光パターン１７２と相異する角度、望ましくは９０°
の角度をなし、プロファイルがプリズム形状を有するパ
ターンを形成してもよい。
【０１５４】このような、上部鋳型８９０に下部鋳型８
８０が結合された状態で上部鋳型８９０と下部鋳型８８
０の間空間には、図４０に図示されたように導光板製作
物質１９０ａが注入され導光板７００の上面には、輝度
集中導光板１９０が一体で製作される。
８０が結合された状態で上部鋳型８９０と下部鋳型８８
０の間空間には、図４０に図示されたように導光板製作
物質１９０ａが注入され導光板７００の上面には、輝度
集中導光板１９０が一体で製作される。
【０１５５】この時、導光板製作物質は導光板７００の
材質と一致させてもよく、光集中機能の向上のために、
導光板７００と異なる物質を使用してもよい。
材質と一致させてもよく、光集中機能の向上のために、
導光板７００と異なる物質を使用してもよい。
【０１５６】添付された図４２は、前述した実施形態１
及び実施形態２の組合せにより製作された導光板７００
が適用された液晶表示装置１０００の概念図である。
及び実施形態２の組合せにより製作された導光板７００
が適用された液晶表示装置１０００の概念図である。
【０１５７】液晶表示装置１０００は、概略的に言って
液晶表示パネルアセンブリ１１００及びバックライトア
センブリ１２００により構成される。
液晶表示パネルアセンブリ１１００及びバックライトア
センブリ１２００により構成される。
【０１５８】より具体的には、液晶表示パネルアセンブ
リ１１００は概略的に言って、ＴＦＴ基板１１１０及び
カラーフィルタ基板１１２０及びこれらの間に位置した
液晶により構成された液晶表示パネル１１３０、これら
を駆動させるための駆動モジュール１１４０、１１５
０、１１６０、１１７０により構成される。
リ１１００は概略的に言って、ＴＦＴ基板１１１０及び
カラーフィルタ基板１１２０及びこれらの間に位置した
液晶により構成された液晶表示パネル１１３０、これら
を駆動させるための駆動モジュール１１４０、１１５
０、１１６０、１１７０により構成される。
【０１５９】一方、液晶表示パネルアセンブリ１１００
の液晶は、電界により光透過度のみを変える役割を有す
る。このような理由で、液晶表示パネルアセンブリ１１
００からデイスプレーを実施するためには高輝度及び均
一な輝度を有する光源を必要とする。
の液晶は、電界により光透過度のみを変える役割を有す
る。このような理由で、液晶表示パネルアセンブリ１１
００からデイスプレーを実施するためには高輝度及び均
一な輝度を有する光源を必要とする。
【０１６０】これを満足させるために、液晶表示パネル
１１３０の下部にはバックライトアセンブリ１２００が
設けられる。
１１３０の下部にはバックライトアセンブリ１２００が
設けられる。
【０１６１】本発明の一実施形態によるバックライトア
センブリ１２００は概略的に言って、実施形態１及び実
施形態２で説明されたような形状及び製作方法によって
製作された導光板７００、導光板７００の光入射面１３
０に光を提供するランプアセンブリ１２１０、導光板７
００の底面に形成され導光板７００から漏洩される漏洩
光を再生させる反射板１２２０及びこれらを収納する収
納容器を含む。
センブリ１２００は概略的に言って、実施形態１及び実
施形態２で説明されたような形状及び製作方法によって
製作された導光板７００、導光板７００の光入射面１３
０に光を提供するランプアセンブリ１２１０、導光板７
００の底面に形成され導光板７００から漏洩される漏洩
光を再生させる反射板１２２０及びこれらを収納する収
納容器を含む。
【０１６２】この時、相当に重要なことは、実施形態１
及び実施形態２により製作された導光板７００を使用す
る液晶表示装置１０００は拡散シート及びプリズムシー
トにより構成された光学シート類が導光板７００の上面
と液晶表示パネルアセンブリ１１００の間に設けられな
くてもよいということである。
及び実施形態２により製作された導光板７００を使用す
る液晶表示装置１０００は拡散シート及びプリズムシー
トにより構成された光学シート類が導光板７００の上面
と液晶表示パネルアセンブリ１１００の間に設けられな
くてもよいということである。
【０１６３】このように、液晶表示装置１０００に光学
シート類を使用しなくてもよい理由は、前述した実施形
態１及び実施形態２により製作された導光板７００の光
反射面に形成された輝度強化凹所１１４の凹所壁をラウ
ンド形態で形成し、輝度強化凹所１１４の凹所壁に光拡
散凹所を形成し、導光板７００の光射出面に光集光パタ
ーン１７２及び輝度集中導光板１９０を形成することに
より可能になる。
シート類を使用しなくてもよい理由は、前述した実施形
態１及び実施形態２により製作された導光板７００の光
反射面に形成された輝度強化凹所１１４の凹所壁をラウ
ンド形態で形成し、輝度強化凹所１１４の凹所壁に光拡
散凹所を形成し、導光板７００の光射出面に光集光パタ
ーン１７２及び輝度集中導光板１９０を形成することに
より可能になる。
【０１６４】表３は従来の一般的な導光板を使用したと
き及び本発明による実施形態１及び実施形態２の組合せ
により製作された導光板７００を使用した時の、バック
ライトアセンブリの構成要素を比較した表である。
き及び本発明による実施形態１及び実施形態２の組合せ
により製作された導光板７００を使用した時の、バック
ライトアセンブリの構成要素を比較した表である。
【表３】
【０１６５】〈実施形態３〉前述した実施形態１及び実
施形態２では、導光板の光入射面を通じて入射された光
を光射出面に反射させるとき、光反射面に輝度強化凹所
を形成、輝度強化凹所の形状を変更、輝度強化凹所にま
た異なる光拡散凹所などを形成及び導光板の光射出面に
光集光パターンを形成して、光射出面を通じて射出され
る光の輝度向上及び輝度均一性及び視野角を向上させる
ことが説明されている。
施形態２では、導光板の光入射面を通じて入射された光
を光射出面に反射させるとき、光反射面に輝度強化凹所
を形成、輝度強化凹所の形状を変更、輝度強化凹所にま
た異なる光拡散凹所などを形成及び導光板の光射出面に
光集光パターンを形成して、光射出面を通じて射出され
る光の輝度向上及び輝度均一性及び視野角を向上させる
ことが説明されている。
【０１６６】一方、前述した導光板の光入射面を通じて
入射された光は、大部分が光反射面に形成された輝度強
化凹所によって光射出面側に反射されるが、一部は導光
板の光反射面から反射されず、光反射面を透過して漏洩
し輝度低下が発生する。
入射された光は、大部分が光反射面に形成された輝度強
化凹所によって光射出面側に反射されるが、一部は導光
板の光反射面から反射されず、光反射面を透過して漏洩
し輝度低下が発生する。
【０１６７】本発明の〈実施形態３〉では、このように
導光板の光反射面を通過して漏洩する光を最小化し反射
板を使用しなくても、導光板の光反射面を通じて全ての
光が反射されることができるようにする実施形態が説明
される。
導光板の光反射面を通過して漏洩する光を最小化し反射
板を使用しなくても、導光板の光反射面を通じて全ての
光が反射されることができるようにする実施形態が説明
される。
【０１６８】添付された図１９又は図２０及び図４３又
は図４４を参照すれば、導光板７００の光反射面１１０
に輝度強化凹所１１４がマトリックス形態で形成された
状態で、輝度強化凹所１１４と輝度強化凹所１１４との
間に該当する光反射面１１０の表面から列をなして輝度
強化突起１１６がさらに形成される。
は図４４を参照すれば、導光板７００の光反射面１１０
に輝度強化凹所１１４がマトリックス形態で形成された
状態で、輝度強化凹所１１４と輝度強化凹所１１４との
間に該当する光反射面１１０の表面から列をなして輝度
強化突起１１６がさらに形成される。
【０１６９】ここで、輝度強化突起１１６は、少なくと
も三角錐以上の多角錐により製作することが望ましく、
円角錐であってもよい。
も三角錐以上の多角錐により製作することが望ましく、
円角錐であってもよい。
【０１７０】この輝度強化突起１１６は図４４に図示さ
れたように、輝度強化凹所１１４で反射されず、導光板
７００から漏洩される光が入射された後、鏡面で少なく
とも１度以上反射を重ねた後、進行方向が導光板７００
の光射出面１２０側に転換されるようにして、導光板７
００から光が漏洩されることを最大限り防止する役割を
有する。
れたように、輝度強化凹所１１４で反射されず、導光板
７００から漏洩される光が入射された後、鏡面で少なく
とも１度以上反射を重ねた後、進行方向が導光板７００
の光射出面１２０側に転換されるようにして、導光板７
００から光が漏洩されることを最大限り防止する役割を
有する。
【０１７１】このような輝度強化突起１１６は、図４３
に図示されたように輝度強化凹所１１４及び輝度強化凹
所１１４との間にただ１つの列で形成される。代替的
に、図４５又は図４６に図示されたように輝度強化凹所
１１４及び輝度強化凹所１１４との間に少なくとも２列
以上で形成することも望ましい形態の１つである。
に図示されたように輝度強化凹所１１４及び輝度強化凹
所１１４との間にただ１つの列で形成される。代替的
に、図４５又は図４６に図示されたように輝度強化凹所
１１４及び輝度強化凹所１１４との間に少なくとも２列
以上で形成することも望ましい形態の１つである。
【０１７２】この時、輝度強化突起１１６の端部が相当
に鋭く加工される場合、輝度強化突起１１６の損傷又は
他の部品を損傷させることが生じるので、輝度強化突起
１１６の端部は図４４に図示されたように丸みをもた
せ、即ちラウンド形態で加工することが望ましい。
に鋭く加工される場合、輝度強化突起１１６の損傷又は
他の部品を損傷させることが生じるので、輝度強化突起
１１６の端部は図４４に図示されたように丸みをもた
せ、即ちラウンド形態で加工することが望ましい。
【０１７３】一方、輝度強化突起１１６は導光板の光反
射面から漏洩される光を最小化するが、漏洩される光を
完全には遮断しない。
射面から漏洩される光を最小化するが、漏洩される光を
完全には遮断しない。
【０１７４】即ち、これは導光板の光反射面底面に光を
再生する何らかの手段を必要とすることを意味する。
再生する何らかの手段を必要とすることを意味する。
【０１７５】これを勘案して〈実施形態３〉では、光反
射面の底面に光を再生する光再生薄膜１１９がさらに形
成される。
射面の底面に光を再生する光再生薄膜１１９がさらに形
成される。
【０１７６】この光再生薄膜１１９は、光反射率が優れ
た物質であり、どのようなものを使用してもよい。代表
的に光反射率が優れたメタル材質又は合成樹脂材質が使
用されることができる。
た物質であり、どのようなものを使用してもよい。代表
的に光反射率が優れたメタル材質又は合成樹脂材質が使
用されることができる。
【０１７７】添付された図４７乃至図５２には、輝度強
化凹所１１４及び輝度強化突起１１６を導光板７００に
形成する方法が図示されている。
化凹所１１４及び輝度強化突起１１６を導光板７００に
形成する方法が図示されている。
【０１７８】添付された図面を参照すると、まず、図４
７に図示されたようにベース基板８８０には厚目のフォ
トレジスト薄膜８８２が所定厚さで形成される。
７に図示されたようにベース基板８８０には厚目のフォ
トレジスト薄膜８８２が所定厚さで形成される。
【０１７９】以後、フォトレジスト薄膜８８２には、輝
度強化突起と同じ形状を有する突起８８３が形成され
る。
度強化突起と同じ形状を有する突起８８３が形成され
る。
【０１８０】具体的には、図４８を参照すれば、フォト
レジスト薄膜８８２に突起８８３を形成するためには、
パターンマスク８８４を使用して、フォトレジスト薄膜
のうち、突起８８３が形成される部分には、光が到達し
ないようにし、残り部分には光が到達して露光が実施さ
れるようにする。
レジスト薄膜８８２に突起８８３を形成するためには、
パターンマスク８８４を使用して、フォトレジスト薄膜
のうち、突起８８３が形成される部分には、光が到達し
ないようにし、残り部分には光が到達して露光が実施さ
れるようにする。
【０１８１】この時、光の強度を調節して光と反応する
フォトレジスト薄膜に形成される突起８８３の高さが輝
度強化突起の高さと同一であるようにする。
フォトレジスト薄膜に形成される突起８８３の高さが輝
度強化突起の高さと同一であるようにする。
【０１８２】次いで、現像工程を経ることにより、フォ
トレジスト薄膜８８２の上面には輝度強化突起と同様な
形状を有する突起８８３が指定された位置に形成され
る。
トレジスト薄膜８８２の上面には輝度強化突起と同様な
形状を有する突起８８３が指定された位置に形成され
る。
【０１８３】続いて、添付された図４９に図示されたよ
うにフォトレジスト薄膜８８２には、前述した実施形態
１又は実施形態２で説明したような過程を経て輝度強化
凹所と対応した凹所８８５が形成される。
うにフォトレジスト薄膜８８２には、前述した実施形態
１又は実施形態２で説明したような過程を経て輝度強化
凹所と対応した凹所８８５が形成される。
【０１８４】次いで、図５０に図示されたように、輝度
強化突起が形成される位置に形成された突起８８３及び
輝度強化凹所が形成される位置が陥没された凹所８８５
が形成されたフォトレジスト薄膜の上面には、スパッタ
リングなどの方法によって所定の厚さを有するように緻
密なメタル基板８８６が形成される。
強化突起が形成される位置に形成された突起８８３及び
輝度強化凹所が形成される位置が陥没された凹所８８５
が形成されたフォトレジスト薄膜の上面には、スパッタ
リングなどの方法によって所定の厚さを有するように緻
密なメタル基板８８６が形成される。
【０１８５】次いで、図５１に図示されたように、メタ
ル基板８８６は、下部鋳型８８７に取付けられ、前記上
部鋳型８８８と下部鋳型８８７を結合した状態で導光板
製造物質８８９が下部鋳型８８７と上部鋳型８８８との
間に注入され図５２に図示されたような導光板７００が
製造される。
ル基板８８６は、下部鋳型８８７に取付けられ、前記上
部鋳型８８８と下部鋳型８８７を結合した状態で導光板
製造物質８８９が下部鋳型８８７と上部鋳型８８８との
間に注入され図５２に図示されたような導光板７００が
製造される。
【０１８６】次いで、図４６に図示されたように導光板
７００のうち、輝度強化突起が形成された光反射面には
光反射率が高い物質により光再生薄膜１１９が形成され
る。
７００のうち、輝度強化突起が形成された光反射面には
光反射率が高い物質により光再生薄膜１１９が形成され
る。
【０１８７】図５３は、この実施形態１、実施形態２、
実施形態３の組合せにより製作された導光板７００が適
用された液晶表示装置１２００の概念図である。
実施形態３の組合せにより製作された導光板７００が適
用された液晶表示装置１２００の概念図である。
【０１８８】液晶表示装置１２００は概略的に言って、
液晶表示パネルアセンブリ１２１０及びバックライトア
センブリ１２６０により構成される。
液晶表示パネルアセンブリ１２１０及びバックライトア
センブリ１２６０により構成される。
【０１８９】より具体的には、液晶表示パネルアセンブ
リ１２１０は概略的に言ってＴＦＴ基板１２０１及びカ
ラーフィルタ基板１２０３及びこれらの間に位置した液
晶により構成された液晶表示パネル１２０４、これらを
駆動するための駆動モジュール１２０６、１２０７、１
２０８、１２０９により構成される。
リ１２１０は概略的に言ってＴＦＴ基板１２０１及びカ
ラーフィルタ基板１２０３及びこれらの間に位置した液
晶により構成された液晶表示パネル１２０４、これらを
駆動するための駆動モジュール１２０６、１２０７、１
２０８、１２０９により構成される。
【０１９０】一方、液晶表示パネルアセンブリ１２１０
の液晶は、電界により光透過度のみを変える役割を有す
る。このような理由で、液晶表示パネルアセンブリから
デイスプレーを実施するためには高輝度及び均一な輝度
を有する光源を必要とする。
の液晶は、電界により光透過度のみを変える役割を有す
る。このような理由で、液晶表示パネルアセンブリから
デイスプレーを実施するためには高輝度及び均一な輝度
を有する光源を必要とする。
【０１９１】これを満足させるために、液晶表示パネル
の下部にはバックライトアセンブリ１２６０が設けられ
る。
の下部にはバックライトアセンブリ１２６０が設けられ
る。
【０１９２】本発明の一実施形態によるバックライトア
センブリ１２６０は概略的に言って、光射出面に光集中
パターン、光反射面に輝度強化凹所及び光拡散凹所が全
て形成された導光板７００、導光板７００の光入射面に
光を提供するランプアセンブリ１２３０とを含む。
センブリ１２６０は概略的に言って、光射出面に光集中
パターン、光反射面に輝度強化凹所及び光拡散凹所が全
て形成された導光板７００、導光板７００の光入射面に
光を提供するランプアセンブリ１２３０とを含む。
【０１９３】この時、相当に重要なことは実施形態１、
実施形態２及び実施形態３で説明された形状及び製作方
法の組合せにより製作された導光板７００を使用する液
晶表示装置１２００は、拡散シート、プリズムシートは
勿論反射板までも導光板７００の上面及び下面に設けら
れなくても高輝度デイスプレー及び均一な輝度によりデ
イスプレーが可能であると言うものである。
実施形態２及び実施形態３で説明された形状及び製作方
法の組合せにより製作された導光板７００を使用する液
晶表示装置１２００は、拡散シート、プリズムシートは
勿論反射板までも導光板７００の上面及び下面に設けら
れなくても高輝度デイスプレー及び均一な輝度によりデ
イスプレーが可能であると言うものである。
【０１９４】このように、液晶表示装置１２００に拡散
シート、プリズムシート及び反射板を使用しなくてもよ
い理由は、前述した実施形態１、実施形態２及び実施形
態で十分に説明したとおり、導光板７００の光反射面に
形成された輝度強化凹所、輝度強化凹所の凹所壁をラウ
ンド形態で形成又は輝度強化凹所の凹所壁に形成された
光拡散凹所、導光板７００の光射出面に形成された集光
パターン又は導光板７００の光反射面に光再生薄膜１１
９を形成することにより可能になる。
シート、プリズムシート及び反射板を使用しなくてもよ
い理由は、前述した実施形態１、実施形態２及び実施形
態で十分に説明したとおり、導光板７００の光反射面に
形成された輝度強化凹所、輝度強化凹所の凹所壁をラウ
ンド形態で形成又は輝度強化凹所の凹所壁に形成された
光拡散凹所、導光板７００の光射出面に形成された集光
パターン又は導光板７００の光反射面に光再生薄膜１１
９を形成することにより可能になる。
【０１９５】表４は、従来の、一般的な導光板を使用し
たとき、及び本発明による実施形態１、実施形態２、実
施形態３の組合せにより製作された導光板７００を使用
したときの、バックライトアセンブリの構成要素を比較
した表である。
たとき、及び本発明による実施形態１、実施形態２、実
施形態３の組合せにより製作された導光板７００を使用
したときの、バックライトアセンブリの構成要素を比較
した表である。
【表４】
【０１９６】表４によると、本発明の実施形態１、実施
形態２、実施形態３を組合せる場合、従来の液晶表示装
置に使用されたプリズムシート、拡散板、反射板を設置
しなくてもよいので、液晶表示装置の全体厚さを大きく
減少させることができる。
形態２、実施形態３を組合せる場合、従来の液晶表示装
置に使用されたプリズムシート、拡散板、反射板を設置
しなくてもよいので、液晶表示装置の全体厚さを大きく
減少させることができる。
【０１９７】また、導光板に形成された輝度強化凹所、
光拡散凹所、集光パターン、輝度強化突起及び光再生薄
膜により光損失が最小になって、従来液晶表示装置より
１０％以上向上された輝度によりデイスプレーを実施す
ることができる効果を有する。
光拡散凹所、集光パターン、輝度強化突起及び光再生薄
膜により光損失が最小になって、従来液晶表示装置より
１０％以上向上された輝度によりデイスプレーを実施す
ることができる効果を有する。
【０１９８】以上、本発明の実施例によって詳細に説明
したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技
術分野において通常の知識を有するものであれば本発明
の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変
更できるであろう。
したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技
術分野において通常の知識を有するものであれば本発明
の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変
更できるであろう。
【０１９９】
【発明の効果】本発明によると、第一に、導光板の構造
を変更することにより液晶表示パネルアセンブリに供給
される光の輝度を大幅上昇させる効果を有する。
を変更することにより液晶表示パネルアセンブリに供給
される光の輝度を大幅上昇させる効果を有する。
【０２００】第二に、導光板の構造を変更することによ
り、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性
を大幅に向上させる効果を有する。
り、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性
を大幅に向上させる効果を有する。
【０２０１】第三に、導光板の構造を変更することによ
り、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性
を向上させる役割を有する拡散シートを使用しなくても
よく、液晶表示装置の厚さ減少、重み減少、組立工程数
減少、組立部品数減少の効果を得ることができる。
り、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性
を向上させる役割を有する拡散シートを使用しなくても
よく、液晶表示装置の厚さ減少、重み減少、組立工程数
減少、組立部品数減少の効果を得ることができる。
【０２０２】第四に、導光板の構造を変更することによ
り、従来の液晶表示パネルアセンブリでディスプレー視
野角を向上させる役割を有するプリズムシートを使用し
なくてもよく、液晶表示装置の厚さ減少、重み減少、組
立工程数減少、組立部品数減少の効果を得ることができ
る。
り、従来の液晶表示パネルアセンブリでディスプレー視
野角を向上させる役割を有するプリズムシートを使用し
なくてもよく、液晶表示装置の厚さ減少、重み減少、組
立工程数減少、組立部品数減少の効果を得ることができ
る。
【０２０３】第五に、導光板の構造を変更することによ
り、従来の導光板から漏洩される光を再生する役割を有
する反射板を使用しなくてもよく、液晶表示装置の厚さ
減少、重み減少、組立工程数減少、組立部品数減少の効
果を得ることができる。
り、従来の導光板から漏洩される光を再生する役割を有
する反射板を使用しなくてもよく、液晶表示装置の厚さ
減少、重み減少、組立工程数減少、組立部品数減少の効
果を得ることができる。
【０２０４】第六に、導光板の構造を変更することによ
り、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性
及び輝度を向上させるための拡散シート、プリズムシー
ト、反射板を全て使用しなくてもよく、液晶表示装置の
厚さ減少、重み減少、組立工程数減少、組立部品数減少
の効果を得ることができる。
り、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性
及び輝度を向上させるための拡散シート、プリズムシー
ト、反射板を全て使用しなくてもよく、液晶表示装置の
厚さ減少、重み減少、組立工程数減少、組立部品数減少
の効果を得ることができる。
【０２０５】第七に、導光板の構造を変更することによ
り、光学的均一性および輝度向上、視野角向上のための
いろいろのシート類を使用しないことにより、生産原価
を大きく減少させることができる効果を有する。
り、光学的均一性および輝度向上、視野角向上のための
いろいろのシート類を使用しないことにより、生産原価
を大きく減少させることができる効果を有する。
【図１】 従来の導光板及び反射ドットの作用を説明す
るための概念図である。
るための概念図である。
【図２】 従来の導光板で射出された光を拡散させるた
めの拡散シートの作用を説明するための概念図である。
めの拡散シートの作用を説明するための概念図である。
【図３】 従来の導光板で射出された光を拡散、光を集
中する拡散シート及びプリズムシートの作用及び光の漏
洩を防止する反射板の作用を説明するための概念図であ
る。
中する拡散シート及びプリズムシートの作用及び光の漏
洩を防止する反射板の作用を説明するための概念図であ
る。
【図４】 従来の導光板で射出された光の光学分布、拡
散シートで射出された光の光学分布、プリズムシートで
射出された光の光学分布を説明するための概念図であ
る。
散シートで射出された光の光学分布、プリズムシートで
射出された光の光学分布を説明するための概念図であ
る。
【図５】 本発明の一実施形態による導光板の背面斜視
図である。
図である。
【図６】 図５のＤ部分を拡大した拡大図である。
【図７】 図６のうち輝度強化凹所部分を切断した断面
図である。
図である。
【図８】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の作
用を説明するための概念図である。
用を説明するための概念図である。
【図９】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の光
経路を説明するための概念図である。
経路を説明するための概念図である。
【図１０】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所に
よる光の鏡面反射結果を図示した概念図である。
よる光の鏡面反射結果を図示した概念図である。
【図１１】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の
製作方法を説明するための工程図である。
製作方法を説明するための工程図である。
【図１２】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の
製作方法を説明するための工程図である。
製作方法を説明するための工程図である。
【図１３】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の
製作方法を説明するための工程図である。
製作方法を説明するための工程図である。
【図１４】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の
製作方法を説明するための工程図である。
製作方法を説明するための工程図である。
【図１５】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の
製作方法を説明するための工程図である。
製作方法を説明するための工程図である。
【図１６】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の
製作方法を説明するための工程図である。
製作方法を説明するための工程図である。
【図１７】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所の
製作方法を説明するための工程図である。
製作方法を説明するための工程図である。
【図１８】 本発明の一実施形態による輝度強化凹所が
形成された導光板が適用された液晶表示装置の分解斜視
図である。
形成された導光板が適用された液晶表示装置の分解斜視
図である。
【図１９】 本発明の他の実施形態による曲面輝度強化
凹所が形成された導光板の背面斜視図である。
凹所が形成された導光板の背面斜視図である。
【図２０】 図１９のＪ部分拡大図である。
【図２１】 図２０のうち、曲面輝度強化凹所部分を切
断した断面図である。
断した断面図である。
【図２２】 本発明の他の実施形態による曲面輝度強化
凹所の内部に光拡散凹所をさらに形成したものを図示し
た図１９のＨ部分拡大図である。
凹所の内部に光拡散凹所をさらに形成したものを図示し
た図１９のＨ部分拡大図である。
【図２３】 図２２の拡散凹所がさらに形成された曲面
輝度強化凹所部分を切断した断面図である。
輝度強化凹所部分を切断した断面図である。
【図２４】 光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２５】 光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２６】 光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２７】 光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２８】 光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２９】 光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図３０】 光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図３１】 光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強
化凹所が形成された導光板が適用された液晶表示装置の
分解斜視図である。
化凹所が形成された導光板が適用された液晶表示装置の
分解斜視図である。
【図３２】 本発明の他の実施形態による導光板の斜視
図である。
図である。
【図３３】 図３２の導光板を製作する方法を図示した
工程図である。
工程図である。
【図３４】 図３２の導光板を製作する方法を図示した
工程図である。
工程図である。
【図３５】 図３２の導光板を製作する方法を図示した
工程図である。
工程図である。
【図３６】 図３２の導光板を製作する方法を図示した
工程図である。
工程図である。
【図３７】 図３２の導光板を製作する方法を図示した
工程図である。
工程図である。
【図３８】 図３２の導光板を製作する方法を図示した
工程図である。
工程図である。
【図３９】 本発明のまた他の実施形態による導光板の
斜視図である。
斜視図である。
【図４０】 図３９に図示された導光板を製作する方法
を図示した工程図である。
を図示した工程図である。
【図４１】 図３９に図示された導光板を製作する方法
を図示した工程図である。
を図示した工程図である。
【図４２】 図３９の導光板が適用された液晶表示装置
の分解斜視図である。
の分解斜視図である。
【図４３】 本発明の他の実施形態として、図１９のＩ
部分を拡大した斜視図である。
部分を拡大した斜視図である。
【図４４】 図４３のうち、光漏洩防止突起及び輝度強
化凹所を同時に切断して図示した断面図である。
化凹所を同時に切断して図示した断面図である。
【図４５】 図４４の他の実施形態である。
【図４６】 図４５の断面図である。
【図４７】 光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形
成された導光板を製造する工程図である。
成された導光板を製造する工程図である。
【図４８】 光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形
成された導光板を製造する工程図である。
成された導光板を製造する工程図である。
【図４９】 光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形
成された導光板を製造する工程図である。
成された導光板を製造する工程図である。
【図５０】 光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形
成された導光板を製造する工程図である。
成された導光板を製造する工程図である。
【図５１】 光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形
成された導光板を製造する工程図である。
成された導光板を製造する工程図である。
【図５２】 光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形
成された導光板を製造する工程図である。
成された導光板を製造する工程図である。
【図５３】 光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形
成された導光板を有する液晶表示装置の分解斜視図であ
る。
成された導光板を有する液晶表示装置の分解斜視図であ
る。
１１０ 光反射面
１１２ 輝度強化凹所
１１４ 輝度強化凹所
１２０ 光射出面
１３０ 光入射面
１４０ 第１側面
１５０ 第２側面
１６０ 第３側面
２００ ランプ
３００ デイスプレー画面
４２０、８２０ フォトレジスト薄膜
４３０、８３０ マイクロレンズ
４４０、８６０ 下部鋳型
４５０、８７０ 上部鋳型
４６０、８８０ 導光板製作物質
６００、９００ 液晶表示装置
６０１、９０１ ＴＦＴ基板
６０２、９０２ カラーフィルタ基板
６１０、９１０ 液晶表示パネルアセンブリ
７００ 導光板
８１０ ベース基板
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H038 AA55 BA06
2H091 FA23Z FA31Z FA41Z LA17
LA18
Claims (19)
- 【請求項１】液晶表示パネルの下部に位置して前記液晶
表示パネルに面光源形態の光学分布を有する光が供給さ
れるようにする導光板において、 光が入射される光入射面と、前記光入射面と隣接した光
反射面と、前記光反射面と向き合う関係を有する光射出
面と、前記光入射面を含む少なくとも２個以上の側面を
含む導光体からなり、該導光体の前記光反射面には、前
記光入射面に入射された光及びその後、前記側面から反
射された側面反射光を、前記光射出面側に反射させ輝度
を向上させるための輝度強化凹所が少なくとも１個以上
形成されたことを特徴とする導光板。 - 【請求項２】前記光反射面の表面で測定した前記輝度強
化凹所の形成密度は前記光が入射される側面から反対側
の側面に行くほど増加することを特徴とする請求項１に
記載の導光板。 - 【請求項３】前記輝度強化凹所は、側壁が少なくとも３
個以上である多角錐形状を有することを特徴とする請求
項１に記載の導光板。 - 【請求項４】前記輝度強化凹所の前記側壁は、前記光が
反射されるとき拡散されるように側面が曲面で形成され
ることを特徴とする請求項３に記載の導光板。 - 【請求項５】前記輝度強化凹所の側面には、前記側面か
ら前記導光板内部へ所定深さを有する少なくとも１個以
上の光拡散凹所がさらに形成されることを特徴とする請
求項１に記載の導光板。 - 【請求項６】前記光拡散凹所の大きさは、前記輝度強化
凹所の１５〜２０％の範囲に含まれることを特徴とする
請求項５に記載の導光板。 - 【請求項７】前記光反射面表面には少なくとも１個以上
が断続的に突出形成され、前記光反射面から漏洩する光
を前記光射出面側に反射させ再生する輝度強化突起がさ
らに形成されたことを特徴とする請求項１に記載の導光
板。 - 【請求項８】液晶表示パネルの下部に位置して前記液晶
表示パネルに面光源形態の光学分布を有する光が供給さ
れるようにする導光板において、 光が入射される光入射面と、前記光入射面と隣接した光
反射面と、前記光反射面と向き合う関係を有する光射出
面と、前記光射出面上に第１方向に少なくとも１個以上
が連続して形成され、プロファイルがプリズム形態を有
する集光パターンが形成されたことを特徴とする導光
板。 - 【請求項９】光集光パターンが形成された導光板には、
底面に前記光集光パターンと対応した形状で合わせ結合
される第１集光パターンを有し上面にはプロファイルプ
リズム形状を有し、前記第１集光パターンと異なる第２
方向に少なくとも１個以上が連続して形成された第２集
光パターンが形成された光集中導光板がさらに結合され
ることを特徴とする請求項８に記載の導光板。 - 【請求項１０】前記導光板の集光パターンと前記光集中
導光板の第１集光パターンとの間には所定の量離隔され
た空間が形成されることを特徴とする請求項９に記載の
導光板。 - 【請求項１１】輝度を強化するための導光板を製造する
方法において、 （ａ）ベース基板に感光膜を所定厚さで塗布する段階
と、 （ｂ）前記感光膜に光を利用して露光及び現像して前記
感光膜の表面から所定深さを有する多角錐形状の凹所を
少なくとも１個以上形成する段階と、 （ｃ）前記感光膜の表面及び前記凹所にメタル物質を蒸
着して、前記感光膜の上部に所定厚さを有するメタル基
板を形成する段階と、 （ｄ）前記感光膜から分離された前記メタル基板を下部
モールド及び上部モールド間の内部空間に位置させた状
態で導光板形成物質を前記内部空間に注入する段階とを
含むことを特徴とする導光板製造方法。 - 【請求項１２】前記段階（ｂ）では、前記感光膜に形成
された凹所の内壁が、凹所を基準として外側に所定曲率
を有する曲面と成るように露光/現像されることを特徴
とする請求項１１に記載の導光板製造方法。 - 【請求項１３】前記段階（ｂ）以後には、前記感光膜に
形成された凹所の内壁を再び部分的に露光及び現像して
前記凹所の内壁から所定深さを有する光拡散凹所を形成
する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記
載の導光板製造方法。 - 【請求項１４】輝度を強化するための導光板を製造する
方法において、 ベース基板に感光膜を所定厚さで塗布する段階と、 前記感光膜のうち指定された一部分には、光を露光させ
ず残り部分には前記感光膜が所定厚さほど現像されるよ
うに部分露光及び現像を実施して前記感光膜から露光さ
れない部分が突出されるようにする段階と、 前記感光膜の表面から突出された部分を除外した残り部
分に、前記感光膜の表面から所定深さを有する多角錐形
状の凹所を少なくとも１個以上形成する段階と、 前記感光膜の表面から突出された突起及び前記凹所にメ
タル物質を蒸着して前記感光膜の上部に所定厚さを有す
るメタル基板を形成する段階と、 前記感光膜から分離された前記メタル基板を下部モール
ド及び上部モールド間の内部空間に位置させた状態で導
光板形成物質を前記内部空間に注入する段階とを含むこ
とを特徴とする導光板製造方法。 - 【請求項１５】輝度を強化するための導光板を製造する
方法において、 上部モールドの内部にプロファイルがＶ字形を有するプ
リズム形態のパターンを第１方向と平行な方向に反復し
て形成した第１射出基板を設置する段階と、 前記上部モールドと下部モールドを結合して形成された
射出空間に第１導光板形成物質を注入して上面に第１集
光パターンが形成された第１導光板を形成する段階と、 上部モールドの内部にプロファイルがＶ字形状を有する
三角柱形態のパターンを第１方向と異なる第２方向と平
行な方向に反復して形成した第２射出基板を設ける段階
と、 前記下部モールドに前記第１導光板を設置及び前記下部
モールドと前記上部モールドを結合した状態で、前記第
２射出基板と前記第１導光板の上面との間に第２導光板
形成物質を注入して第２導光板を形成する段階と、 を含むことを特徴とする導光板製造方法。 - 【請求項１６】液晶を制御する画像がデイスプレーされ
るようにする液晶表示パネルアセンブリと、 光を供給するランプアセンブリと、 前記光が入射される光入射面と、前記光の入射方向及び
前記光入射方向と異なる方向を有する少なくとも１個以
上の光を、前記液晶表示パネルアセンブリ側に反射させ
輝度を向上させる輝度強化手段が形成された光反射面及
び前記輝度強化手段から光が射出されるようにする光射
出面が形成される導光板と、前記光射出面に対向して設
置された光経路調節フィルムと、前記導光板の底面に形
成された反射板を含むバックライトアセンブリを含むこ
とを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項１７】前記輝度強化手段は、前記光反射面の表
面から内部に所定深さ及び多角錐形状を有する輝度強化
凹所であることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表
示装置。 - 【請求項１８】前記光射出面の表面には、第１方向を有
するように形成され、少なくとも１個以上が反復される
プリズム形状を有する第１輝度集光パターンと、前記第
１輝度集光パターンの上部に設置され、底面に前記第１
輝度集光パターンとかみ合って結合される第２輝度集光
パターンと、上面に前記第１輝度集光パターンの前記第
１方向と異なる第２方向を有するように形成された第２
輝度集光パターンが形成された輝度強化導光板が形成さ
れたことを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装
置。 - 【請求項１９】液晶を制御する画像がデイスプレーされ
るようにする液晶表示パネルアセンブリと、 光を供給するランプアセンブリと、 前記光が入射される光入射面と、前記光の入射方向及び
前記光入射方向と異なる方向を有する少なくとも１個以
上の光を、前記液晶表示パネルアセンブリ側に反射させ
輝度を向上させる輝度強化手段と、を有し、該輝度強化
手段は、前記光が漏洩することを防止する輝度強化突起
が形成された光反射面及び前記輝度強化手段から光が射
出されるようにする光射出面に形成された輝度集中手段
を備えた導光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
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