JP2003040969A - 含燐フェノール樹脂及び該フェノール樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

含燐フェノール樹脂及び該フェノール樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物

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Abstract

(57)【要約】 【課題】難燃性を有し、エポキシ樹脂の硬化剤として有
用な燐含有フェノール樹脂(A)を提供する。 【構成】2官能エポキシ樹脂1モルに対して、燐含有フ
ェノール類を1.6〜2.2モルの範囲で反応させてな
る末端フェノール性水酸基を有する軟化点80〜150
℃の燐含有量が2重量%以上であることを特徴とする燐
含有フェノール樹脂(A)である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、難燃性を有する新
規なリン含有フェノール樹脂及び該リン含有フェノール
樹脂を硬化剤として配合した硬化性エポキシ樹脂組成物
に関するものである。
【0002】
【従来技術】エポキシ樹脂は接着性、耐熱性及び成形性
に優れていることから、電気電子部品、自動車部品、宇
宙航空機器部品、スポーツ用品、FRP等に広く使用さ
れている。特に電気電子部品、自動車部品、宇宙航空機
器部品に使用される半導体装置や積層板の火災時の燃焼
防止と発煙の抑制をするため、難燃性の付与が強く要求
されている。これまで半導体封止材料や積層板の難燃化
には、一般的に臭素化エポキシ樹脂と難燃助剤の三酸化
アンチモン化合物などが使用されている。しかし、臭素
系難燃剤とアンチモンを使用した封止材や半導体装置
や、臭素化エポキシ樹脂を使用した積層板等の信頼性に
影響を与える。特にこれらの硬化物が高温に長時間さら
されると臭素系難燃剤の臭素が脱離し、配線腐食が発生
する恐れがある等の問題がある。また、臭素系難燃剤の
比重が高いため、最近の移動通信体や液晶テレビ、モニ
ターなどの電気製品、自動車部品、スポーツ用品等の軽
薄短小化に不利益である。さらに、廃棄された電気電子
製品を焼却処理する際、ハロゲン化物等の有害物質を発
生し、焼却設備の破損や環境汚染等の問題がある。この
様なことから、ハロゲン系難燃剤を使用せずに難燃付与
できる材料の開発や難燃性組成物の研究等の要望が強く
なってきている。
【0003】ハロゲン系難燃剤の代わりに燐系化合物や
水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等が知られて
いる。特開平5−179109号公報にはエポキシ樹脂
組成物に水和アルミナの配合が提案されている。しか
し、水和アルミナのような水酸化金属では、親水性であ
り、硬化物の吸水率が高くなる。また、大量に配合しな
いと効果が現れないので、硬化物の強靱性を損なう等の
欠点がある。特開平8−188638号公報では燐含有
エポキシ樹脂及びジフェニルホスフィニルハイドロキノ
ン、ジフェニルホスフィニルナフタリン等の含燐ビスフ
ェノール硬化剤が開示されているが、しかし、含燐ビス
フェノール類の融点が高く、例えば、10−(2,5−
ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−
ホスフェナントレン−10−オキシド(三光(株)社製
のHCA−HQ 以下、HCA―HQと略す)の融点は
256℃、ジフェニルホスフィニルハイドロキノン(以
下、PPQと略す。)の融点は219℃であり、しかも
各種のエポキシ樹脂との相溶性がないため、取り扱いが
困難である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】かかる問題点を解決す
るために、本発明者は鋭意研究した結果、ハロゲン系難
燃剤を用いずに、難燃性を付与することが可能な軟化点
80〜150℃で燐含有量が2重量%以上で、しかも各
種汎用エポキシ樹脂やフェノール樹脂硬化剤との相溶性
を格段に改良した燐含有フェノール樹脂を見いだし、更
に、該燐含有フェノール樹脂を用いたエポキシ樹脂組成
物の硬化物は優れた難燃性、耐熱性、耐加水分解性、低
吸水性を有することを見いだし、本発明を完成するに至
ったものである。本発明は難燃性を有し、硬化剤として
有用な燐含有フェノール樹脂、及び、電子部品に用いる
封止材、成形材、積層板、注型材、接着剤、絶縁塗料等
に適した硬化性エポキシ樹脂組成物を提供することを目
的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、2官能
エポキシ樹脂1モルに対して、燐含有フェノール類を
1.6〜2.2モルの範囲で反応させてなる末端フェノ
ール性水酸基を有する軟化点80〜150℃の燐含有量
が2重量%以上であることを特徴とする燐含有フェノー
ル樹脂(A)、及び、この燐含有フェノール樹脂(A)又
は含燐フェノール類を2官能以上のフェノール類で溶解
した軟化点80〜150℃の燐含有量2重量%以上の非
結晶性燐含有フェノール樹脂(B)、更に、これら燐含
有フェノール樹脂(A)又は非結晶性燐含有フェノール樹
脂(B)を硬化剤成分として単独、又は他の硬化剤と共
に、エポキシ樹脂組成物に対し、燐含有量が0.3〜5
重量%になるように配合した難燃硬化性エポキシ樹脂組
成物である。
【0006】更に、上記燐含有硬化性エポキシ樹脂組成
物は半導体装置や電子部品の製造時に使用する封止材、
成形材、注型材、接着剤、絶縁材料等に用いられる組成
物であり、電子回路基板用銅張積層板及びプリプレグに
用いられるエポキシ樹脂組成物である。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細について述べ
る。本発明に於いて、燐含有フェノール類と反応させる
2官能エポキシ樹脂とは、2官能のフェノール性水酸基
を持つフェノール類とエピクロルヒドリン(以下ECH
と略す)とを塩基性触媒存在下に製造されたフェノール
類のジグリシジルエーテル、又は2個のアルコール性水
酸基を持つジアルコール類とECHとを塩基性触媒存在
下に製造されたジアルコール類のジグリシジルエーテ
ル、又は2個の活性水素を持つアミン類とECHから製
造されたジグリシジルエーテルなどがある。具体例とし
ては、ヒドロキノン型、ビスフェノールA型、 ビスフ
ェノールF型、ビスフェノールS型、ビフェニル型、
1,4−シクロオクチレンホスホニルー1,4−フェニ
ルジオール、1,5−シクロオクチレンホスホニルー
1,4−フェニルジオール等のビスフェノール型ジグリ
シジルエーテル、又はこれらのフェニル基が低級アルキ
ル基を有する前記ビスフェノール型ジグリシジルエーテ
ルである。更に、エチレングリコール型、プロピレング
リコール型、ブチルービス(3−ヒドロキシプロピル)
ホスフィンオキサイド型、水素化ビスフェノールA型、
1,4ーフェニルジメタノール型、1,4ーシクロヘキ
シルジメタノール型等のジアルコール型ジグリシジルエ
ーテル、アニリン型、ピペラジン型等のアミノジグリシ
ジルエーテル等の2官能エポキシ樹脂を挙げることがで
きる。上記2官能エポキシ樹脂を単独用いてもよく、任
意の混合物を使用しても可能である。
【0008】本発明で用いる燐含有フェノール類として
は、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H
−9−オキサ−10−ホスフェナントレン−10−オキ
シド(以下は三光(株)社の商品名HCA−HQと略
す)、10−(1,4−ジオキシナフタリン)−10H
−9−オキサ−10−ホスフェナントレン−10−オキ
シド(以下HCA−NQと略す)、ジフェニルホスフィ
ニルヒドロキノン(PPQと略す)、ジフェニルホスフ
ィニル1,4−ジオキシナフタリン(PPNQと略
す)、1,4−シクロオクチレンホスホニル−1,4−
フェニルジオール(CPHO―HQと略す)、1,5−
シクロオクチレンホスホニル−1,4−フェニルジオー
ル(CPHO−HQ)等の燐含有ビスフェノール類を挙
げることができる。上記燐含有フェノール類を単独使
用、もしくは混合して用いることも可能である。
【0009】上記2官能のエポキシ樹脂1モルに対し
て、上記燐含有フェノール類を1.6〜2.2モル、好
ましくは1.8〜2.1モル、更に好ましくくは1.9
〜2.0モルの範囲で反応させて、本発明に係る燐含有
フェノール樹脂(A)を得る。エポキシ樹脂1モルに対
して燐含有フェノール類が2.2モル越えた場合は残存
含燐フェノール類が多くなり、生成物と他の硬化剤との
相溶性が劣ってしまう。又軟化点が高くなり、溶融が困
難となってしまう。又、燐含有フェノール類が1.6モ
ル以下で反応させた場合は、燐含有量が低下し、水酸基
含有量が少なくなり、硬化剤としての添加量が増えてし
まうのでコスト的に不利益である。本発明では上記のモ
ル比範囲で非プロトン性溶媒の存在下に塩基性触媒を用
いて、100〜230℃の範囲で反応させた後に、減圧
して溶剤を除去する方法によって、製造することができ
る。無溶媒での製造方法も可能であるが、上記燐含有フ
ェノール類の融点が210℃以上となるため、反応温度
を高くする必要がある。このようにして得られた燐含有
フェノール樹脂(A)は軟化点80〜150℃で燐含有
量は2重量%以上である。そして、この燐含有フェノー
ル樹脂(A)はエポキシ樹脂及び他のフェノール樹脂に
対して良好な相溶性を有する。即ち、得られた燐含有フ
ェノール樹脂は各種エポキシ樹脂、特に特に封止材用途
のクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビフェニルエポ
キシ樹脂及びフェノールノボラック樹脂やクレゾールノ
ボラック樹脂との相溶性に優れている。
【0010】本発明は、又、上記燐含有フェノール樹脂
(A)又は含燐フェノール類を2官能以上のフェノール
類に溶解して非結晶性燐含有フェノール樹脂(B)とす
る。2官能以上のフェノール類としては、例えばビスフ
ェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールF、フ
ェノールノボラック、クレゾールノボラック、フェノー
ルアラルキル樹脂、グリオキサールテトラフェノール樹
脂、ビスフェノールAノボラック樹脂等が挙げられる。
2官能以上のフェノール類に溶解する目的は、燐含有フ
ェノール樹脂(A)又は含燐フェノールをエポキシ樹脂
に添加する際、燐含有量や軟化点を調整するためであっ
て、特に、リン含有フェノール類は高融点であるためフ
ェノールノボラック樹脂やクレゾールノボラック樹脂に
溶解することによって取扱が容易となる。従って、燐含
有フェノール樹脂(A)又は含燐フェノール類と2官能
以上のフェノール類との量的割合は、添加するエポキシ
樹脂中の燐含有量やエポキシ樹脂の軟化点、エポキシ基
濃度等によって適宜変更する。
【0011】本発明の燐含有フェノール樹脂(A)又は
(B)を硬化剤の一部乃至全部として2官能以上のエポ
キシ樹脂に添加する。添加される2官能以上のエポキシ
樹脂とは、通常封止材、積層板、絶縁塗料などに使用さ
れているエポキシ樹脂である。例えば、ヒドロキノン型
エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビス
フェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポ
キシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エ
ポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フ
ルオレン型エポキシ樹脂等の2官能エポキシ樹脂、又は
前記樹脂のフェニル基にアルキル置換基を持つものも包
含する。フェノールノボラック型エポキシ樹脂 、クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンアラルキ
ル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹
脂、ビスフェノルAノボラック型エポキシ樹脂、テトラ
フェノールエタン型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニル
メタン型エポキシ樹脂、イソシアヌ酸型エポキシ樹脂、
パラアミノフェノール型エポキシ樹脂等の3官能以上の
エポキシ樹脂、又は前記樹脂のフェニル基にアルキル置
換基を持つものも包含する樹脂を使用することができ
る。本発明ではこれに限定するものではないが、上記エ
ポキシ樹脂を単独使用してもよく、任意の種類や割合の
混合物を用いることも可能である。また、流動性や粘度
等を調整する時に、例えば、トリメチロルプロパン型エ
ポキシ樹脂等の反応性稀釈剤を使用することが可能であ
る。
【0012】本発明の燐含有フェノール樹脂は硬化剤と
して単独使用してもよく、或いは他のフェノール系硬化
剤と併用しても良い。、併用できる他のフェノール系硬
化剤としては、例えばビスフェノールA、ビスフェノー
ルF、ビスフェノールS、ビフェノール等の2官能フェ
ノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、
ナフタレン型フェノール樹脂、フェノールノボラック樹
脂、クレゾルノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラ
ック樹脂、グリオキサールテトラフェノール樹脂、フェ
ノールアラルキル樹脂等の多官能フェノール樹脂等を挙
げることができる。又、アミン系硬化剤とも併用するこ
とも可能である。アミン系硬化剤として、例えば、ジシ
アンジアミド、イソホロンジアミン、メタキシレンジア
ミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニル
スルホン等が挙げることができる。更に、酸無水物系硬
化剤との併用も効果的である。酸無水物系硬化剤とし
て、例えば、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、
水素添加フタル酸無水物、メチル化水添フタル酸無水物
等挙げることができる。これらの硬化剤は樹脂組成物の
燐含有量に応じて併用することができる。
【0013】硬化性エポキシ樹脂組成物は上記エポキシ
樹脂を主剤とし、燐含有フェノール樹脂を硬化剤の一部
乃至全部として用い、エポキシ基1モルに対して、フェ
ノール性水酸基0.5〜1.1モルの範囲で、好ましく
は0.6〜1.0モル、更には0.8〜1.0モルで配
合することが好ましい。燐含有フェノール樹脂とアミン
系硬化剤併用する場合、同様にエポキシ基1モルに対し
て、フェノール性水酸基のモル数とアミンの活性水素モ
ル数の和を0.5〜1.1モルの範囲で配合することが
できる。また、燐含有フェノール樹脂と酸無水物とを併
用する際、エポキシ基1モルに対して、フェノール性水
酸基のモル数とカルボン酸のモル数の和を0.5〜1.
1モルの範囲で配合して使用することができる。主剤の
エポキシ基1モルに対して、硬化剤の官能基モル数が
0.5モル未満の場合、硬化物架橋度が低く、耐熱性が
劣ってくる。硬化剤の官能基モル数が1.1モルを越え
た時、硬化剤の残存量が多くなり、硬化物の吸湿性、耐
熱性が低下する。硬化促進剤は塩基性化合物の使用が一
般的であり、例えば、トリフェニルホスフィン、テトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等の有機
燐化合物、2−メチルイミタゾール、2−エチル4−メ
チルイミタゾール等のイミタゾール類、トリエチルアミ
ン、ベンジルジメチルアミン等の三級アミン類が挙げら
れる。
【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物は、必要に応
じて、溶融シリカ、結晶性シリカ、ガラス繊維、ガラス
織物、カーボン繊維、アラミド繊維、アルミナ、カーボ
ンブラック、酸化チタン等の無機充填材、顔料,また
は、ワックス等の滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、エ
ポキシシラン、アミノシラン等の安定剤、カップリング
剤などを樹脂組成物に配合して使用することができる。
硬化性エポキシ樹脂組成物の燐含有量は0.3〜5重量
%の範囲で調整し、好ましくは0.5〜4重量%、1〜
3重量%はさらに好ましい。燐含有量が0.3重量%未
満では、硬化物の難燃効果が低下する。5重量%を越え
る場合、組成物の流動性が欠け、コスト的にも不利とな
る。又、燐含有量が高くすると硬化物の吸水率が高くな
り、封止材や積層板、注型材、接着剤等の電気電子部品
材料の耐半田リフロー性や信頼性が低下することにな
る。本発明の硬化性樹脂組成物は公知な方法で配合する
ことができる。例えば、封止材コンパウンドの場合、エ
ポキシ樹脂とフェノール硬化剤、硬化促進剤、難燃剤、
シリカ充填材、カップリング剤、離型剤、その他の添加
剤を所定量配合し、十分混合した後、ニーダーや押し出
し機や熱ロールを用いて混練し、冷却してから粉砕する
ことによって製造できる。積層板はエポキシ樹脂と硬化
剤、難燃剤、硬化促進剤を所定量で配合し、溶剤を用い
てワニスを作成した後、ガラス布をワニスに含浸し、加
熱によって溶剤を除去することでプリプレグができる。
積層板の厚みにより所定枚数のプリプレグと表層銅箔を
重ね、真空加熱圧着することにより、製造できる。ま
た、ガラス布を含まない薄い絶縁膜として製造すること
もできる。
【0015】本発明の燐含有フェノール樹脂及び該樹脂
を含有する硬化性エポキシ樹脂組成物を使用して、得ら
れた半導体封止材は、燐含有フェノール樹脂を硬化剤の
一部ないし全部として含有し、他のフェノール系硬化
剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤と併用しても本
発明を損なうことがなく、主剤は2官能以上のエポキシ
樹脂であって、無機充填材、顔料、滑剤、安定剤、硬化
促進剤等添加してもよい。燐含有量は0.3〜5重量%
の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物は、優れた耐熱
性、難燃性が得られ、低吸水率であることが判った。該
含燐フェノール樹脂を含有する硬化性エポキシ樹脂組成
物は、電気電子部品に用いられる封止材、銅張り積層
板、絶縁塗料、難燃塗料、絶縁難燃接着剤等の電気部品
用材料として有用であることが判った。
【0016】
【実施例】以下実施例及び比較例を挙げて本発明を具体
的に説明するが,本発明はこれらに限定されるものでは
ない。なお、合成したフェノール樹脂の軟化点はJIS
−K7234に準じて測定した。燃焼性はATLAS社
製燃焼試験器にて、UL−94規格に準じて測定した。
ガラス転移温度(Tg)はセイコーインスツルメンツ社
製Exster6000で測定した。吸水率は常温水中
浸漬×24時間にて、重量変化の測定を行った。
【0017】実施例1 攪拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入管を備えた4
つ口のガラス製セパラブルフラスコ実験装置に、エポキ
シ当量167g/eq.のビスフェノルF型エポキシ樹
脂(東都化成(株)製YDF−170)を167g
(0.5 モル)と、融点256℃、燐含有量9.5
%、水酸基当量162g/eq.の10−(2,5−ジ
ヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホ
スフェナントレン−10−オキシド(HCA−HQ、三
光(株)製)を324g(1モル)及びシクロヘキサノ
ン(アノン)123gとを仕込み160℃に昇温し、触
媒としてトリフェニルホスフィンを添加して、8時間反
応を行なってから200℃減圧下にてアノンを除去し
た。得られた含燐フェノール樹脂は各種のエポキシ樹脂
やフェノール樹脂との相溶性があり、軟化点は139
℃、燐含有量6.3%、水酸基当量491g/eq.で
あった。このフェノール樹脂を(a)とした。
【0018】実施例2 実施例1と同様にYDF−170を167g(0.5モ
ル)と、融点296℃燐含有量8.2%、水酸基当量1
87g/eq.の10−(1,4−ジオキシナフタリ
ン)−10H−9−オキサ−10−ホスフェナントレン
−10−オキシド(HCA−NQ)を374g(1モ
ル)、アノン135gとを仕込み、実施例1と同様操作
を行い、各種エポキシ樹脂やフェノール樹脂との相溶性
がある軟化点139℃、燐含有量5.6%、水酸基当量
541g/eq.のフェノール樹脂が得られた。この樹
脂を(b)とした。
【0019】実施例3 実施例1と同様にYDF−170を167g(0.5モ
ル)とHCA−HQ324g(1モル)とアノン123
gとを仕込み、160℃で8時間反応させてから、水酸
基当量105g/eq.軟化点85℃のフェノールノボ
ラック樹脂 BRG−555B(群栄化学(株)製)を
540g添加して、十分溶解した後に、170℃減圧下
でアノンを除去した。得られたフェノール樹脂の軟化点
は93℃、水酸基当量167g/eq.、燐含有量3%
であった。この樹脂を(c)とした。
【0020】実施例4 実施例2と同様にYDF−170を167gとHCA−
NQ374gとアノン135gとを仕込み、160℃で
8時間反応させてから、BRG−555B(群栄化学
(株)製)を487g添加して、十分溶解した後に、1
70℃減圧下でアノンを除去した。得られたフェノール
樹脂の軟化点は101℃、水酸基当量182g/e
q.、燐含有量3%であった。この樹脂を(d)とし
た。
【0021】実施例5 実施例1のYDF−170の代わりに、エポキシ当量が
186g/eq.のビスフェノールAタイプエポキシ樹
脂(東都化成製YD−128)を186g使用する以外
は、実施例1と同様に反応を行い、得られたフェノール
樹脂の軟化点は143℃、水酸基当量510g/e
q.、燐含有量6%であった。この樹脂を(e)とし
た。
【0022】実施例6 BRG−555B96gを仕込み、150℃で溶融させ
てから、HCA−HQを70g入れ、210℃でHCA
−HQを溶解させた。得られたフェノール樹脂の軟化点
は104℃水酸基当量123.3g/eq.、燐含有量
4%であった。この樹脂を(f)とした。
【0023】実施例7〜12,比較例1〜2 実施例7〜12及び比較例1〜2は実施例1〜6より得
られた燐含有フェノール樹脂(a)〜(f)を硬化剤と
して、主剤のオルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂
YDCN−703(東都化成製)及びフェノールノボラ
ックエポキシ樹脂YDPN−638(東都化成製)とを
表1の様にそれぞれ配合し、栗本(株)社製のS1KR
Cニーダーを用いて、80℃〜120℃の範囲で混練し
てコンパウンドを作成した。得られたコンパウンドをK
OHTAKI INC.,製5トンのトランスファー成
型機にて、170℃×65Kg/cm2×10分の条件
で試験片を作成し、オーブン中180℃にて、あと硬化
後の試験片の物性測定を行い、その結果を表1に示す。
【0024】
【表1】
【0025】
【発明の効果】表1の比較例2に記載されている様に、
HCA−HQの融点が256℃と高く、各種エポキシ樹
脂との相溶性がないため、封止剤の硬化剤として使用す
るのは難しいことが明らかである。又比較例1では通常
のフェノール樹脂硬化剤とクレゾールノボラックエポキ
シ樹脂との配合たけでは、難燃効果が得られない。本発
明の2官能のエポキシ樹脂1モルに対して、燐含有フェ
ノール類1.6〜2.2モルの範囲で、反応させてなる
末端がフェノール性水酸基を有する燐含有フェノール樹
脂、又は燐含有フェノール類を2官能以上のフェノール
樹脂で溶解した非結晶性フェノール樹脂では、各種エポ
キシ樹脂及びフェノール樹脂との相溶性があり、軟化点
150℃以下であるため、該樹脂を硬化剤の一部乃至全
部として用いたエポキシ樹脂組成物の硬化物のTgが高
く、難燃性も優れている。特に半導体素子封止に用いら
れる封止材に最適であり、電気電子部品に用いられる積
層板、注型材、接着剤に適しており、さらに電気絶縁塗
料、難燃塗料用材料としても有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 163/00 C09D 163/00 4M109 171/10 171/10 C09J 163/00 C09J 163/00 171/10 171/10 C09K 21/14 C09K 21/14 H01L 23/29 C08L 63:00 23/31 H01L 23/30 R // C08L 63:00 Fターム(参考) 4F072 AA07 AD23 AD33 AE01 AE02 AE06 AE09 AE10 AE11 AF14 AF19 AF25 AF28 AG03 AL11 AL12 4H028 AA46 BA06 4J036 AB01 AC01 AC05 AD07 AD08 AD21 AH00 AH06 AH07 CA06 CA08 DA05 DC02 FB07 JA01 JA06 JA07 JA08 JA11 4J038 BA212 DA042 DB001 DF052 DL032 HA026 HA216 HA446 HA486 JA35 JA63 JB01 JB07 JB18 JB32 JC13 JC23 JC30 JC38 KA03 KA04 KA08 KA09 KA12 KA20 NA04 NA07 NA14 NA15 NA21 NA27 PA19 PB09 PB11 PC01 PC08 4J040 BA032 EB032 EC001 EE062 EK032 HA026 HA136 HA306 HA346 HB22 HB36 HC01 HC08 HC16 HC22 HD13 HD24 HD30 HD41 JB02 KA16 KA17 KA29 KA38 KA42 LA07 LA08 LA09 MA01 MA10 NA19 NA20 PA30 4M109 AA01 EA02 EB03 EC20

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2官能エポキシ樹脂1モルに対して、燐
    含有フェノール類を1.6〜2.2モルの範囲で反応さ
    せてなる末端フェノール性水酸基を有する軟化点80〜
    150℃の燐含有量が2重量%以上であることを特徴と
    する燐含有フェノール樹脂(A)。
  2. 【請求項2】 2官能エポキシ樹脂が2官能のフェノー
    ル性水酸基又はアルキル置換フェノール性水酸基を持つ
    フェノール類、又は2官能アルコール性水酸基を持つジ
    アルコール類、又は2つ活性水素を持つアミン類とエピ
    クロルヒドリンから製造されたエポキシ樹脂であり、ま
    たは上記エポキシ樹脂の任意の混合物である請求項1に
    記載の燐含有フェノール樹脂。
  3. 【請求項3】 燐含有フェノール類が10−(2,5−
    ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−
    ホスフェナントレン−10−オキシド、10−(1,4
    −ジオキシナフタリン)−10H−9−オキサ−10−
    ホスフェナントレン−10−オキシド、ジフェニルホス
    フィニルヒドロキノン、 ジフェニルホスフィニル1,
    4ージオキシナフタリン、1,4−シクロオクチレンホ
    スホニル−1,4−フェニルジオール、1,5−シクロ
    オクチレンホスホニル−1,4−フェニルジオール、ま
    たは上記含燐フェノール類の任意の混合物である請求項
    1に記載の燐含有フェノール樹脂。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の燐含有フェノール樹脂又
    は請求項3に記載の含燐フェノールを2官能以上のフェ
    ノール類で溶解した軟化点80〜150℃の燐含有量2
    重量%以上の非結晶性燐含有フェノール樹脂(B)。
  5. 【請求項5】 請求項1及び/又は請求項4記載の燐含
    有フェノール樹脂(A)及び/又は非結晶性燐含有フェ
    ノール樹脂(B)が、硬化剤成分としてエポキシ樹脂組
    成物に対し、燐含有量を0.3〜5重量%になるように
    配合してなる難燃硬化性エポキシ樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤及
    び酸無水物系硬化剤から成る群から選ばれた少なくとも
    1種の硬化剤、無機充填剤、顔料、離型剤、安定剤、硬
    化促進剤の少なくとも1種を用いることを特徴とする請
    求項5記載の難燃硬化性エポキシ樹脂組成物。
  7. 【請求項7】 請求項5又は請求項6の何れかの項に記
    載のエポキシ樹脂組成物が電気電子部品封止用硬化性エ
    ポキシ樹脂組成物。
  8. 【請求項8】請求項5又は請求項6の何れかの項に記載
    のエポキシ樹脂組成物がプリプレグ用及び積層板用硬化
    性エポキシ樹脂組成物。
  9. 【請求項9】請求項5又は請求項6の何れかの項に記載
    のエポキシ樹脂組成物が絶縁塗料、難燃塗料用硬化性エ
    ポキシ樹脂組成物。
  10. 【請求項10】請求項5又は請求項6の何れかの項に記
    載のエポキシ樹脂組成物が絶縁、難燃接着剤用硬化性エ
    ポキシ樹脂組成物。
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