JP2003011536A

JP2003011536A - 光触媒作用および熱利用により変質可能な材料を伴う湿式オフセット・プリンティング・フォームおよび湿式オフセット・プリンティング・フォームのプリント・イメージを生成するためおよび／またはプリント・イメージを消去するための方法および装置

Info

Publication number: JP2003011536A
Application number: JP2002097578A
Authority: JP
Inventors: Matthias Riepenhoff; マティアスリーペンホーフ; Olivier Stehlin; オリヴィエシュテリン
Original assignee: MAS FAB WIFAG
Current assignee: MAS FAB WIFAG
Priority date: 2001-03-29
Filing date: 2002-03-29
Publication date: 2003-01-15
Anticipated expiration: 2022-03-29
Also published as: DE10115435B8; US7051652B2; JP3874692B2; EP1245385A3; US6976428B2; US20040168599A1; DE50206222D1; DK1245385T3; ATE321661T1; ES2261623T3; JP2004306613A; DE10115435B4; US20020139269A1; DE10115435A1; JP2006137197A; EP1245385A2; EP1245385B1

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】良好な鮮明度を伴うプリンティング・スタイル
を生成することを可能にする、湿式オフセット・プリン
ティング・フォームを提供することである。【解決手段】湿式オフセット・プリンティング・フォー
ムは、光触媒作用および熱利用により変質可能な材料を
含む頂上層１１を有する。この材料は、光触媒作用を通
じ、光の照射によって親水性状態に、また加熱によって
親油性状態に変質させることができる。親水性状態は、
イラストレーションが可能な表面を形成し、親油性状態
は、イラストレーションの行われた後の表面を形成す
る。湿式オフセット・プリンティング・フォームの頂上
層１１に、照射のための吸収中心、特にＮＩＲ範囲のレ
ーザ放射エネルギに関する吸収中心を含ませてもよく、
それによってイメージのパターンに従った頂上層の加熱
が達成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリンティング・
スタイルを用いたイラストレーションが可能な、あるい
はイラストレーションが行われた表面を伴う湿式オフセ
ット・プリンティング・フォームに関し、それにおいて
この表面は、光触媒作用および熱利用により変質可能な
材料を、均一に分布する成分として含む材料によって形
成されるか、あるいはその種の材料単独で形成される。
本発明においては、光触媒作用および熱利用により変質
可能な材料を、光の照射によって光触媒作用を利用して
親水性状態に変質させ、かつ熱的に、すなわち加熱によ
って親油性状態に変質させることができる材料として定
義する。さらに本発明は、前記タイプの湿式オフセット
・プリンティング・フォームの、プリンティグ・スタイ
ルを生成するための方法、つまりプリンティング・スタ
イルのイラストレーションを行うための方法、プリンテ
ィング・スタイルを消去するための方法、プリンティン
グ・スタイルのイラストレーションを行うための装置、
およびプリンティング・スタイルを消去するための装置
にも関係する。本発明は、特に好ましくは、たとえば複
数回にわたって異なるプリンティング・スタイルを用い
て同一プリンティング・フォームのイラストレーション
を行うための、プリンティング・フォームのイラストレ
ーションおよび消去に関する方法ならびに装置に関す
る。これらのプリンティング・フォーム、方法および装
置は、好ましくは巻き取り紙式ロータリ印刷機、特に新
聞印刷機に使用される。

【０００２】以下においては、イラストレーションを、
ピクセルを形成するエリア内においてプリンティング・
フォームを作用させ、その結果、プリンティング・フォ
ーム上に潜像が生成されるオペレーションとして定義す
る。消去については、本発明の意味において、プリンテ
ィング・フォームが、好ましくは画像に依存しない形
で、その全表面にわたって処理され、その結果イラスト
レーション、つまりプリンティング・スタイルが削除さ
れるオペレーションとして定義する。イラストレーショ
ンの間に行われるアクションは、好ましくはイメージの
パターンに従った加熱とするが、原理的には、イメージ
のパターンに従って紫外線（ＵＶ光）を照射することも
できる。

【０００３】

【従来の技術】新聞の印刷は、湿式オフセットが主流で
ある。本発明が好ましくは関係する印刷機は、通常、ラ
バー・ブランケット・シリンダ、プレート・シリンダ、
インク・ユニット、およびダンピング・ユニットを伴っ
たプリンティング・ユニットを包含する。プリンティン
グ・フォーム・シリンダ上にマウントされるプリンティ
ング・フォームは、多くは頂上層の形式の表面を有し、
イラストレーション後の状態においては、それが親水性
（水と親和する）エリアおよび親油性（水をはじく）エ
リアを有する。プリンティング・フォームは、一般にプ
リンティング・プレートによって形成され、それがプレ
ート・シリンダとして設計されたプリンティング・フォ
ーム・シリンダ上にマウントされる。プリンティング・
フォームは、イメージのパターンに適用される親油性エ
リアを有する。非イメージ・エリアは親水性であり、イ
ンクよりは水と強く結びつく。親油性エリアは水をはじ
き、したがってインクを惹きつける作用を示す。原理的
には、親水性エリアおよび親油性エリアに分けることが
できるあらゆる表面をオフセット・プロセスに使用する
ことができる。

【０００４】プリンティング・フォームの生成について
は、対応するプリンティング・フォームを使用する多数
の方法および装置が知られている。たとえば、イメージ
のパターンに従ってプリンティング・フォームにレーザ
を照射し、その後化学的に現像することができる。さら
に、レーザ・アブレーションによってプリンティング・
フォームの準備を行うことも可能である。この方法で
は、親水性層の下側において親油性エリアが露光され、
あるいは親油性層の下側において親水性エリアが露光さ
れる。イメージの生成に関して決定的となる露光オペレ
ーションは、本発明に従って好ましいとされているよう
に、別体のユニット内、あるいは印刷機内のいずれかに
おいて実行することができる。印刷機における露光また
はイラストレーションに関してはアウター・ドラムの原
理が知られている。ほとんどのケースでは、化学的現像
を必要としない、いわゆるプロセス‐フリー・プリンテ
ィング・フォームが使用される。

【０００５】現在使用されているプリンティング・フォ
ームは、一度しか使用することができない。しかしなが
ら、経済的および環境的な理由からみれば、これらのプ
リンティング・フォームが複数回にわたって使用できる
ことが望ましい。

【０００６】光触媒作用によるプリンティング・フォー
ムのイラストレーションは、ＥＰ０９１１１５５
Ａ１から知ることができる。プリンティング・スタイル
を生成するためには、親水性の非イメージ・エリアにＵ
Ｖレーザ光を照射する。このようにして露光され、その
結果としてイラストレーションが行われたプリンティン
グ・フォームは、加熱によって消去される。このプロセ
スにおいては、プリンティング・フォームが高温に到達
しなければならない。さらに、プリンティング・フォー
ムからインクの残渣を除去するために、使用後のプリン
ティング・フォームのプリンティング・スタイルの消去
用のクリーニング手段が必要になる。クリーニングを行
わずにプリンティング・フォームを加熱して消去を行う
と、プリンティング・フォーム表面へのインク残渣の焼
き付けがもたらされ、その結果、プリンティング・フォ
ームが使用できなくなることがある。

【０００７】ＥＰ０９１１１５５Ａ１は、イメ
ージのパターンに従った加熱によるイラストレーション
およびＵＶ照射による消去について説明している。さら
に詳細な説明は、ＥＰ１０２０３０４Ａ２にあ
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、良好な鮮明度を伴うプリンティング・スタイルを生
成することを可能にする、前述したタイプの湿式オフセ
ット・プリンティング・フォームを提供することであ
る。プリンティング・フォームの使用後は、好ましく
は、特にプリンティング・スタイルの消去を目的とした
クリーニングを行う必要がないものとする。プリンティ
ング・フォームのイラストレーションおよび／またはプ
リンティング・フォームのプリンティング・スタイルの
消去は、好ましくは湿式オフセット・プリンティング・
プロセスにおいて具体化されるものとする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】好ましい実施態様におい
て、本発明は、イラストレーションの可能な、あるいは
イラストレーションの行われた表面を形成する光触媒作
用および熱利用により変質可能な材料の原子もしくは分
子を、それらの常態である励起状態からイラストレーシ
ョンによる低エネルギ状態に転換することによって、プ
リンティング・フォームの局部的なぬれの振る舞い、つ
まり親水性または親油性の性質を引き出すというアイデ
アを基礎としている。逆を言えば、消去の間において
は、原子または分子が低エネルギ状態から励起状態に転
換される。したがって、イラストレーション・オペレー
ションが実行される前、もしくは消去オペレーションが
実行された後においては、プリンティング・フォームが
親水性の初期状態におかれ、それが局部的な、好ましく
は短時間のイメージのパターンに従った光触媒作用およ
び熱利用により変質可能な材料の加熱によって使用状
態、すなわちイメージのパターンに従って親油性または
親水性を有する状態に転換される。

【００１０】このタイプのイラストレーションの１つの
利点は、イラストレーションが行われないプリンティン
グ・フォームの太陽光の下での取り扱いが、問題を招く
ことなしに可能になることである。イラストレーション
ではなく、プリンティング・スタイルの消去が、好まし
くは全エリアにわたって、プリンティング・スタイルを
有する表面に対して自然太陽光もしくは人工太陽光また
はＵＶ光を作用させることによって行われる。一方、印
刷機内のプリンティング・フォームは、影響が現れる程
度の消去をもたらし得るまで太陽光に暴露されないこと
から、プリンティング・フォームのマウント状態におけ
るイラストレーションの喪失の可能性がない。別の利点
は、イメージの消去の間に注目される、光触媒作用およ
び熱利用により変質可能な材料によって形成された表面
の自己クリーニング特性である。プリンティング・フォ
ームの表面が親水性になるだけでなく、触媒作用による
有機物の残渣の酸化も行われる。したがって、全エリア
の加熱による消去オペレーションとは対照的に、消去を
目的としたプリンティング・フォームのクリーニングが
必要なくなる。必要な高温までの全エリアの加熱が、太
陽光またはＵＶ光を用いた照射よりわずかに余分の努力
によって実行することができる。自然太陽光は、特に、
光触媒作用および熱利用により変質可能な材料の、常態
で生じている親水性特性を引き起こす波長の短い紫外線
（ＵＶ）を有している。

【００１１】イメージのパターンに従った局部的な照射
による、好ましくはレーザの照射によるプリンティング
・フォームのイラストレーションに起因して、プリンテ
ィング・フォーム全体ではなく、プリンティング・フォ
ームの、表面近傍のイン‐デプス・エリア（in-depth a
rea）が短時間にわたって加熱される。全体としてプリ
ンティング・フォームは、周囲温度に維持され、概して
それは通常の室温に対応する。

【００１２】表面にプリンティング・スタイルが生成さ
れる頂上層においては、本発明に従ったプリンティング
・フォームが、放射エネルギを吸収することによって頂
上層内に熱を生成するために、放射エネルギに関する吸
収中心、または放射エネルギ吸収領域を有する。吸収中
心は、光、好ましくは赤外線（ＩＲ）を吸収する材料の
粒子によって形成されるが、それを可視領域まで、つま
り近赤外線（ＮＩＲ）範囲まで広げることもできる。吸
収材料は、微粒子の形で、光触媒作用および熱利用によ
り変質可能な材料内に均一に分散される。吸収材料の粒
子は、好ましくはナノ粒子、つまり空間における最大の
伸びがナノメートル台となる粒子とする。

【００１３】光触媒作用および熱利用により変質可能な
材料は、すでに単一材料層として、光触媒作用および熱
利用により変質可能な材料内の均一かつ微細な吸収中心
の分布を伴って作られている。従来技術の光触媒材料
は、透明であることが知られている。透明であること
は、材料のバンド構造の直接的な結果である。実際、光
触媒材料の励起を、注目する材料の表面にＯＨ基の結合
を移動させることが可能になる状態にするためには、３
ｅＶより大きなバンド・ギャップが必要になる。しかし
ながら、このバンド・ギャップ・エネルギにおいては、
低エネルギの、より波長の長い光子の相互作用が可能で
はない。したがって、従来技術の光触媒半導体は、可視
領域において透明になる。そのため、光触媒材料内にお
ける光熱効果および変化は、間接的にしか達成すること
ができない。本発明は、光触媒作用および熱利用により
変質可能な材料内における微細な吸収中心の分布に帰す
る光触媒作用および熱利用により変質可能な材料を提供
する。吸収中心を形成するための材料の特に好ましい例
として半導体が挙げられる。

【００１４】イラストレーションが行われるか、すでに
イラストレーションが行われている表面を形成する頂上
層は、したがって、光触媒作用を通じて光相互作用する
材料および吸収中心を包含し、吸収中心は、以下におい
て、単に光触媒材料と呼ぶこともある光触媒作用を通じ
て相互作用する材料内に微細に分布されている。光触媒
材料は、吸収中心によって吸収され、熱に変換される放
射エネルギの波長もしくは波長の範囲より短い波長の光
と相互作用する。少なくとも３ｅＶのそのバンド・ギャ
ップ・エネルギに基づけば、光触媒材料は、波長が４０
０ナノメートルより短い光とのみ相互作用する。結果的
に、吸収中心を形成する材料は、４００ナノメートルも
しくはそれより長い波長の放射エネルギと相互作用し、
好ましくはそれが、ＩＲ波長範囲からの光を吸収する。

【００１５】光触媒および吸収特性をともに有する新し
い材料が本発明によって作り出された。１つの利点は、
両方の相互作用、すなわち光触媒および吸収が単一層内
において生じ、したがって吸収だけのために意図された
専用の吸収層を排除することが可能になるため、キャリ
ア材料のコーティングが単純化されることである。しか
も、光触媒作用および熱利用により変質可能な材料の厚
さがそれほど決定的でなくなる。マルチ層・システムの
場合には、光熱利用により変質可能な頂上層の厚さが、
加熱に大きな影響をもたらしていたが、単一層内に吸収
中心が均質に分布しているのであれば、その層内におい
てより均一な加熱を達成することができる。さらに、熱
を生成する吸収中心が、イラストレーションが可能であ
り、あるいはすでにイラストレーションが行われている
表面の近傍に位置することから、より急峻な温度勾配が
その表面内において可能になる。

【００１６】表面上に特に吸収な温度勾配を生成できる
ということは、プリンティング・スタイルの鮮明度が向
上するため、イメージのパターンに従った加熱による好
ましいイラストレーションにとって特に有利である。し
かしながら、原理的に述べれば、本発明に従ったプリン
ティング・フォームは、イメージのパターンに従った表
面の親水性化によってイラストレーションの達成が可能
であり、かつ全エリアの疎水性化によって消去の達成が
可能なイラストレーション・プロセスに対しても有利で
ある。

【００１７】本発明に従ったプリンティング・フォーム
は、表面にプリンティング・スタイルが生成される頂上
層の下に吸収層を有する。この吸収層は、短時間の局部
的な放射によって、相応して局部的に加熱され、つまり
イメージのパターンに従って加熱され、イメージのパタ
ーン内の、局部的に熱いエリアおよび熱いエリアに比較
して冷たいエリアを伴う。吸収層は、基本的に熱が吸収
層と垂直に、光触媒作用および熱利用により変質可能な
材料を用いた頂上層に対して放出されるように、イメー
ジのパターンに従った加熱に関して均一に薄いものとす
る必要があり、それにおいて頂上層は、好ましくはその
上に直接位置し、吸収層内における、イメージのパター
ンに従った吸収層の局部的に熱いエリアと冷たいエリア
の間の、接線方向の熱の均等化を防止する。イメージの
パターンに従って局部的に吸収層内に生成された熱は、
吸収層から頂上層に、熱伝導によって伝達され、その結
果、プリンティング・スタイルの親油性エリアが頂上層
の表面に形成される。これら２つの層は、全エリアにわ
たって互いに、熱を伝導する態様で接続されている。吸
収層は、好ましくは頂上層に直接隣接する。２つの層の
それぞれは、特定の波長範囲からの放射エネルギと相互
作用し、頂上層は、特に吸収層によって大部分は吸収さ
れる放射エネルギとわずかに相互作用するか、あるいは
まったく相互作用しない；つまりその放射エネルギにと
って透明になる。頂上層は、頂上層によって通過が許さ
れる別の波長範囲、好ましくはＩＲ範囲からの放射エネ
ルギと光触媒作用を通じて相互作用する。頂上層は、イ
メージのパターンに従って加熱された吸収層からの熱伝
導に起因して、イメージのパターンに従い相応じて加熱
され、この加熱に起因してその表面上に親油性イメージ
のエリアを形成する。

【００１８】吸収層とプリンティング・フォーム・キャ
リアの間には、キャリア上の熱損失を最小化するため
に、好ましくは断熱層が備えられる。断熱層は、吸収層
が存在するか否かによらず、頂上層とキャリアの間に備
えることができる。

【００１９】頂上層の下側に薄い吸収層が形成される場
合には、頂上層内の吸収中心を省略することができる。
この組み合わせは、さらに別の発明性のある特徴を表
す。他方、吸収層および頂上層内の吸収中心もまた、互
いに都合よく組み合わせることができる。

【００２０】本発明に従った吸収層を用いるプリンティ
ング・フォームの形成は、ＵＶ光の照射によってイラス
トレーションが行われ、加熱によって消去が行われるイ
ラストレーションにとっても好都合である。

【００２１】キャリアの原子の拡散、特にＦｅまたはＡ
ｌ原子の拡散を防止するために、キャリアと頂上層の間
に拡散バリアを備えると好都合なことがある。拡散バリ
アは、たとえばＳｉＯ₂クオーツ・層によって形成する
ことができる。拡散バリアとして作用する層は、最大で
もその厚さを１０μｍとする必要があり、その種の層
は、好ましくは１００ナノメートルもしくはそれ以下の
均一な厚さを有するものとする。たとえばＦｅまたはＡ
ｌ原子の頂上層への漸進的拡散は、プリンティング・フ
ォームのオペレーションの間に、頂上層の電子バンド構
造がその種の拡散効果によって不都合な変質を受けるお
それのあることから、本発明に従って使用される半導体
の作用と干渉する可能性がある。拡散バリアは、断熱層
と同時に設計することができる。また拡散バリアを、こ
の目的のために特別に用意した層によって形成してもよ
く、原理的にはそれを、本発明に従ったプリンティング
・フォームの前記層のそれぞれの間に配置することがで
きる。好ましい実施態様においては、拡散バリアとして
特別に用意される層が、吸収層が備えられる場合には、
キャリアと吸収層の間に形成される。断熱層があるとき
には、キャリアとその断熱層の間、もしくはその断熱層
と、選択肢の１つとして存在し得る吸収層の間にそれを
備えることができる。拡散バリアとして作用するこの種
の層は、特に好ましくは頂上層のすぐ下に配置する。夾
雑原子は、キャリアだけでなく、別の機能層からも生じ
る可能性があり、この配置においては、それらの頂上層
への拡散をもっとも高い信頼性をもって防止することが
できる。

【００２２】プリンティング・フォームの消去オペレー
ションは、表面にＵＶ光を照射することによって行われ
る。本発明に従った消去プロセスの間においては、活性
化されるプリンティング・フォーム表面上に、消去プロ
セスをサポートする高い湿分が確保されるが、これは、
活性化される表面上に湿分が存在しなければ、ＵＶ光に
よって生成される電子‐正孔ペア再結合され、その結
果、表面の恒久的な親水性化が達成されなくなることに
よる。好ましくは、表面において高い湿分を設定するこ
とによって、消去プロセスの間の表面に水を供給する。
周囲環境との比較において湿分を増加することは、特に
水蒸気内に送り込むことによって、あるいは印刷機のダ
ンピング・ユニットを用いることによって達成すること
が可能であり、この場合にはそれが、水を噴霧する手段
に関連している。表面における湿分、および表面近傍に
おける湿分は、好ましくは、それに隣接する空気の湿分
の飽和をもたらすものとする。

【００２３】しかしながら、ダンピング・ユニット内に
おける高い湿分は、概して好ましくない。たとえば、そ
れによって結露が形成され、それがシリンダ上に滴下
し、プリンティング・スタイルに外乱をもたらす。また
周囲の空気の湿分が飽和していることによって表面の水
分、すなわちプリンティング・フォームの表面に配され
るか、あるいはインク・フィルムのクラッキングの間に
プリンティング・フォームの表面に到達する水分の蒸発
が困難となるようであれば、プロダクションの間のオフ
セット・プロセスにも悪影響が及ぶことになる。

【００２４】したがって、湿分および好ましくは温度も
また、本発明の変形においてメンテナンスが行われ、つ
まりプリンティング・ユニットの空気調和が行われ、そ
の結果、ＵＶ照射を用いた親水性化の間は６０％を超え
る高い湿分、好ましくは８０％を超える高い湿分に設定
され、表面の疎水性化の間は、それより著しく低い湿分
に設定される。さらに、プリンティング・プロセスの
間、および好ましくは親水性化を除くすべての期間にわ
たって、湿分レベルのメンテナンスによって、好ましく
は空気調和によって著しく低い湿分が設定される。プリ
ンティング・ユニットのカプセル化は、プリンティング
・ユニット内、特にプリンティング・フォームにおける
所望の値の湿分および好ましくは所望の値の温度の設定
ならびにメンテナンスを簡素化する。さらに、湿分セン
サ、および好ましくは温度センサを配置することによっ
て、湿分または環境のモニタを行うことが可能になる。

【００２５】次に、図面に基づいて本発明の好ましい例
として示す実施態様について説明する。本発明を特徴付
けする各種の新しい特徴は、これに付随し、この開示の
一部をなす特許請求の範囲に詳細に指摘されている。本
発明、その機能上の利点、ならびにその使用によって達
成される具体的な目的のよりよい理解のために、本発明
の好ましい実施態様を図示した添付図面ならびに説明資
料を参照する。

【００２６】

【発明の実施の形態】図面、特に図１ａを参照すると、
湿式オフセット・プリンティング・フォーム３１の表面
１３０が示されているが、この表面は、ＵＶ範囲に含ま
れる光の照射によって親水性化されており、以下におい
てはそれをＵＶ‐親水性表面と呼ぶこともある。表面１
３０は、プリンティング・フォーム３１の頂上層１１に
よって形成されており、光触媒作用および熱利用により
変質可能な材料を含むか、あるいは完全にその種の材料
からなる。頂上層１１が、少なくともスペクトルの１成
分としてＵＶ光を放出する光源によって、好ましくは太
陽光源および／またはＵＶ光源１２によって照射される
ことから、常態で生じている励起状態が、たとえば自然
太陽光または人工太陽光の照射から生じる。層１１に
は、高エネルギの光子１７が照射され、その結果、頂上
層１１の表面１３０近傍において、電子が、光触媒作用
および熱利用により変質可能な材料の価電子バンドから
伝導バンドに励起される。価電子バンド内の電子の欠落
は、正孔ｈ＋を残す。この正孔ｈ＋の電位が充分に高け
れば、光触媒作用および熱利用により変質可能な材料が
水の分子１４と反応することが可能になり、その結果、
光触媒作用および熱利用により変質可能な材料の原子ま
たは分子と結合するヒドロキシル・イオン基ＯＨが形成
される。表面１３０の親水性特性は、表面１３０のＯＨ
基の数の増加とともに高くなる。水の分子１４は、ＯＨ
基との結合、より詳細には水素結合を介した結合が可能
であり、それにおいてＯＨ基自体は、頂上層１１の正孔
ｈ＋と結合する。

【００２７】図１ｂは、水滴１４０による頂上層１１の
ＵＶ‐親水性表面１３０のぬれを示している。水滴１４
０のエッジと表面１３０の間において形成される鋭角の
接触角は、表面１３０の親水性の指標である。

【００２８】プリンティング・フォーム３１の頂上層１
１に好ましい光触媒作用および熱利用により変質可能な
材料は、アナターゼ結晶構造を有する二酸化チタンＴｉ
Ｏ₂である。アナターゼ結晶構造内における価電子バン
ドから伝導バンドへの励起エネルギは、約３．２ｅＶで
あり、これは３８７ナノメートルの波長に対応する。Ｔ
ｉＯ₂の価電子の、半導体の伝導バンドへの励起は、紫
外線の作用に起因して生じ、その波長は３８７ナノメー
トルを超えない。正孔ｈ＋は、同時に価電子バンド内に
形成される。活性化された半導体表面に別の物質がすで
に結合していれば、励起された電子がフォール・バック
して正孔ｈ＋と結合することが防止される。アナターゼ
二酸化チタンおよび特定の別の半導体の場合には、たと
えば水が存在するとき、これが可能になる。親水性状態
は、光触媒作用および熱利用により変質可能な材料上に
ＵＶ光が作用しなくなった後においても存続し得る。

【００２９】本発明の意味における光触媒作用および熱
利用により変質可能な材料は、必ず、２つの互いに対向
するエネルギ・バンドのエッジにおいて測定される、価
電子バンド・エネルギおよび伝導バンド・エネルギを有
している必要があり、それらが、水の還元および酸化に
適している。したがって、伝導バンド・エネルギは、水
の還元に必要なエネルギ（酸性溶液において０．０Ｖ）
と少なくとも同程度に負である必要があり、また価電子
バンドは、水の酸化に必要なエネルギ（＋１．２３Ｖ）
と少なくとも同程度に正である必要がある。表面を形成
し、かつ高いパーセンテージの光熱的に変質可能な材料
から、あるいはそれのみから作られる頂上層は、好まし
くは、少なくとも３．２ｅＶに等しいバンド・ギャップ
・エネルギを有する。価電子バンドから伝導バンドへの
電子の励起に必要なエネルギがバンド・ギャップ・エネ
ルギと呼ばれるエネルギである。励起によってもたらさ
れた価電子バンドの正孔は、この場合、水に関して強い
反応性を示すＯＨイオン基を形成する。特に好ましい材
料は、前述したアナターゼＴｉＯ₂、およびここに述べ
ている方法に従ったＵＶ光による励起に起因して材料表
面上のヒドロキシル基と結合する適切な電子構造を伴う
そのほかの材料である。その種の、同様に適切な材料の
例として、酸化亜鉛、ＺｒＯ₂、ＳｒＴｉＯ₃、ＫＴａＯ
₃、またはＫＴａ_0.77Ｎｂ_0.23Ｏ₃が挙げられ、これらは
ＴｉＯ₂と同様に単独で、あるいはＴｉＯ₂を含めた上記
の材料の少なくとも２つを含む材料の組み合わせとして
光触媒作用および熱利用により変質可能な材料を形成す
る。プリンティング・フォーム３１は、好ましくはＵＶ
‐親水性表面に関して決定的なイン‐デプス・エリア内
に、重量パーセントにして、つまりこのエリアを形成す
るプリンティング・フォームの材料の総重量に基づく測
定値として、少なくとも４０％の光触媒作用および熱利
用により変質可能な材料を含む。光触媒作用および熱利
用により変質可能な材料が、材料の組み合わせによって
形成される場合には、ＴｉＯ₂およびＳｉＯ₂の組み合わ
せが特に好ましい材料であると言える。ＳｉＯ₂は、好
都合にも前述した複数の材料に含まれる別の１つもしく
は複数とともに、光触媒作用および熱利用により変質可
能な材料を含む材料を形成することができる。

【００３０】光触媒反応の効果を持つアナターゼ二酸化
チタンの親水性は知られており、例えば建物の自己洗浄
面や特に自動車のくもり防止ガラスに利用されている。

【００３１】二酸化チタン層の別の好都合な性質は、表
面上の有機体粒子が光触媒作用によって時間とともに分
解するため、自己洗浄作用を持つことである。これは上
述した他の材料にも当てはまる。

【００３２】通常の作業環境では、光触媒・熱変性材料
で形成された表面を連続的に励起する紫外線が、ある
量、常に存在するので、このような表面は通常は親水性
であると考えられる。印刷版は、天然または人工の昼光
により消去される。ＵＶ光源を加えると、この消去が促
進される。単独で、または昼光とともに使用されるＵＶ
放射源は、波長が３８７ｎｍのＵＶ光線を十分な割合で
含むスペクトルを持つべきである。発光スペクトルのピ
ークは、３．２ｅＶのバンドギャップエネルギーに対応
する３８７ｎｍの波長、またはこれより短い波長である
ことが望ましい。放射のスペクトル分布は、主として３
８７ｎｍを下回ることが望ましい。すなわちＵＶレーザ
またはＵＶレーザシステムが、ＵＶ放射源として使用さ
れるのである。単数または複数のレーザ用の合焦光学シ
ステムは省略されることが望ましい。

【００３３】ＵＶ親水性表面は、赤外線（ＩＲ）レーザ
光線を用いた処理により、局所的にインキ誘引性とな
る。このプロセスでは、印刷版全体が実質的に加熱され
ることはない。印刷版は、１０℃から４０℃の範囲とい
う印刷機に通常生じる温度に維持されるのである。

【００３４】図１ｃは、ＵＶ親水性表面の親水性を取り
除いた状態を示す。これは、表面１１を像のパターンで
局所的に加熱することにより達成される。露光または照
明は、レーザ光線１８の照射により実行される。レーザ
光線１８の波長は、可視範囲から近赤外線（ＮＩＲ）ま
での範囲、つまり約４００ｎｍと３，０００ｎｍの間で
ある。照明には、７００ｎｍから３，０００ｎｍ、特に
望ましくは８００ｎｍから１，１００ｎｍの範囲からの
レーザ光線が使用されることが望ましい。レーザ光線１
８の局所的露光により、表面上のレーザスポットに対応
する親油性表面範囲１３１が、表面１３０上に生成され
る。ＯＨ基が結合された原子または分子への熱伝達は、
結合の破壊を引き起こす。続いて、正孔ｈ＋を持つ層１
１の光触媒・熱変性材料の伝導帯からの電子が再結合さ
れる。その結果、親水性が低下して、印刷版３１の照射
表面範囲１３１は親油性となるのに対して、レーザ光線
１８で照射されていない表面範囲１３０では親水状態が
維持される。各々が例えば５０×５０μｍ²のサイズの
画素に対応する局所的表面要素は、照明中、１μｓｅｃ
から１００μｓｅｃの時間にわたって４００℃から６０
０℃の温度まで加熱されるのに対して、層１１の他の範
囲１３０は大気温度に維持される。印刷中に保存された
潜像が、照明後には湿性オフセット印刷版３１の上に現
れる。親油性画素１３１は、印刷作業中にインキを伝達
する。

【００３５】図１ｄは、未照射表面範囲１３０と照射表
面範囲１３１において層１１が水により湿潤された状態
を示す。照射された、結果的に加熱された表面範囲１３
１の材料では、水による湿潤はわずかである。表面範囲
１３１と表面範囲１３１の水滴１４１との間に形成され
る接触角は大きく、この表面範囲１３１で層１１は親油
性である。露光開始時と印刷作業終了時の間に、環境か
らのＵＶ光線により光触媒・熱変性材料が再励起される
のを防止するには、印刷版が暗状態に置かれる（直接Ｕ
Ｖ光線から遮蔽される）だけで十分である。通常の場
合、印刷版を印刷機に取り付けた後にはこれが保証され
る。

【００３６】図２ａから２ｄは、層ごとに積み重ねら
れ、印刷原板として設計されることが望ましく、印刷版
シリンダへ取り付けることができるかすでに取り付けら
れた印刷版３１の好適な実施例を示す。

【００３７】図２ａの印刷版３１は、担体層２１と、担
体層２１に直接形成されて、自由表面に印刷スタイルが
形成されるか、照明済みの印刷版３１の場合には印刷ス
タイルがすでに存在する単一の頂上層２４とを備える二
層設計を持つ。画素ごとの微細な照明を可能にするた
め、層２４は、光触媒・熱変性材料２４ａを十分に高い
割合で含有する。図２ａはまた、層２４が光触媒・熱変
性材料２４ａのみで構成される場合を示す。

【００３８】他の例でもそうだが、担体層２１は可撓性
鋼板またはアルミニウム板で形成され、以下、単に担体
と呼ぶ。

【００３９】ＵＶ照射により親水性表面を形成する光触
媒・熱変性材料が電子帯構造を持つことから、このよう
な材料は可視範囲のスペクトルと近赤外線（ＮＩＲ）を
通過させると考えられる。ゆえに、可視範囲スペクトル
からのレーザ光線およびＮＩＲ、またはこれよりも長い
波長の光線との間に、相互作用は生じない。それにもか
かわらず照明に必要な熱を発生させるには、ＮＩＲ範囲
または全ＩＲ範囲のレーザ光線に対する吸収中心が、印
刷版の頂上層に形成されると好都合である。こうして頂
上層の光触媒・熱変性材料は、熱伝導によって間接的に
加熱される。

【００４０】実施例の頂上層２４は、光触媒・熱変性材
料２４ａと、この材料２４ａに微小な均一分布で分散さ
れた吸収粒子とが分散されたものである。吸収粒子は、
ＩＲ波長範囲からの放射を吸収して周囲の光触媒・熱伝
導材料２４ａに放出する半導体材料のナノ粒子である。
吸収粒子は、加熱に使用される放射の吸収中心２４ｂを
形成する。吸収中心２４ｂが複数の半導体材料の粒子に
よって形成されてもよい。

【００４１】印刷版３１の頂上層内で横方向に拡散する
熱が多くなりすぎるのを防止するため、頂上層に直接隣
接する下層は、熱を吸収するようなものである。担体層
２１などの印刷版担体によって直接形成されてもよいこ
のような下層に適した材料は、考えられる良好な熱伝導
を行い良好な熱容量を持つものである。印刷版担体は印
刷機内での永続的取付けを可能にするため高い機械的強
度を備えるべきでなので、このような担体は例えば鋼ま
たはアルミニウムで構成されるとよい。

【００４２】頂上層で局所的に発生する熱の像形成作用
を高めるため、頂上層の感度に応じて担体への放熱量を
低下させると好都合である。例えば、担体への熱伝導を
減少させる絶縁層を、頂上層と担体との間に設けてもよ
い。絶縁層の材料は明らかに、低い熱伝導性を備えるべ
きである。

【００４３】図２ｂは、最初に担体２１に吸収層２３が
形成され、この吸収層に頂上層２４が形成される実施例
を示す。この３層構造では、照明中、照射により吸収層
２３の像のパターンで、熱が局所的に発生する。吸収層
２３で発生する熱は、接触面を介して、光触媒・熱変性
材料２４ａを含有する頂上層２４に伝達され、頂上層２
４の表面に到達する。上述のように、ＯＨ基が結合され
た表面上の原子または分子への熱伝達は、これら結合の
破壊を引き起こし、その結果、再結合と親水性の低下と
が生じる。吸収層２３の層厚さは、１μｍから５μｍで
あると好都合である。

【００４４】特殊吸収層２３の実施例では、頂上層２４
は望ましくは０．０５μｍから５μｍ、特に望ましくは
０．０５μｍから２μｍの均一な厚さを持つ。例えば第
一実施例のように吸収層がない場合、頂上層２４は、好
都合なのは１μｍから３０μｍ、特に好都合なのは１μ
ｍから１０μｍの層厚さを持つ。

【００４５】図２ｃは、好適な第三実施例を示す。第三
実施例では、光触媒・熱変性材料２４ａを備える頂上層
２４が上に直接配置された熱絶縁中間層２２が、担体２
１の上に直接配置されている。中間層２２の厚さは、望
ましくは１μｍから３０μｍの間である。さらに第一実
施例のように、頂上層２４には吸収中心２４ｂが均一分
布状態で存在する。頂上層２４は、望ましくは１μｍか
ら３０μｍの厚さ、特に望ましくは１μｍから１０μｍ
の厚さを持つ。

【００４６】図２ｄは第四実施例を示す。この例では、
望ましくは１μｍと３０μｍの間の厚さを持つ熱絶縁中
間層２２が、基板２１の上に直接配置されている。層の
厚さが望ましくは１μｍと５μｍの間である吸収層２３
が、中間層２２の上に直接配置されている。光触媒・熱
変性材料２４ａを含有するかこのような材料のみで構成
され、望ましくは０．０５μｍから５μｍ、特に望まし
くは０．０５μｍから２μｍの厚さを持つ頂上層２４
が、吸収層２３の上に配置されている。

【００４７】図２ｂと２ｄによる実施例では、吸収層２
３のため光触媒・熱変性材料への吸収中心の混合は行な
われないが、頂上層２４には同様に吸収中心が分散され
ている。それでも図２ｄによる実施例では、吸収中心２
４ｂが分散された頂上層２４が形成されている。

【００４８】例を挙げると、頂上層と一つ以上の追加層
を形成するには、ゾル−ゲルプロセスやＣＶＤ（化学蒸
着）プロセスが適当である。一つ以上の層は別の層の上
に直接、つまり結合層などの中間層なしで形成される。

【００４９】図３は、印刷版シリンダ３２と、関連のゴ
ム製ブランケットシリンダ３８と、印刷される巻取り紙
３７用の印刷間隙をゴム製ブランケットシリンダ３８と
ともに形成するインキロール３９とを備える印刷ユニッ
トを示す。２枚の印刷原板３１が、周知の方法で印刷版
シリンダ３２に固定されている。２枚の印刷原板３１の
各々は、本発明による、例えば図２ａから２ｄに図示さ
れた実施例の一つによる印刷版によって形成される。像
形成手段３３と二つの消去手段３４とインキ塗布ロール
３５と湿潤剤塗布ロール３６とが、印刷版シリンダ３２
の外周に分散された状態で印刷機に配置されている。湿
潤剤の膜、望ましくは水膜が、周知の方法で湿潤剤塗布
ロール３６により印刷版３１に形成される。最初は印刷
版３１からゴム製ブランケットシリンダ３８に、そして
ここから巻取り紙３７に転写されるインキは、印刷中、
インキ塗布ロール３５により、周知の方法と同様にして
像のパターンで転写される。インキロール３９自体は、
別の両面印刷用印刷ユニットのゴム製ブランケットシリ
ンダか、片面印刷用の鋼製シリンダか、衛星印刷ユニッ
ト、例えば９または１０本シリンダ印刷ユニットの鋼製
シリンダでよい。

【００５０】像形成手段３３は、描写される印刷版３１
の表面と直接に対向し、印刷版シリンダ３２の回転軸と
平行に配置されている。像形成ユニット３３は、印刷版
シリンダ３２の回転軸に沿って相互に隣接して配置され
た複数のレーザを有する。これらレーザのレーザスポッ
トは印刷版３１の表面に合焦されている。像形成手段３
３のレーザは、相互に隣接して配置された一つ以上のレ
ーザアレイ内に組み込まれることが望ましい。像形成手
段の好適な実施例は、ＤＥ１９９１１９０７Ａ
１（ＥＰ１０３６６５６も参照）に記載されており、そ
の内容は、例として挙げられた引例としてここに取り入
れられている。

【００５１】二つの消去手段３４はそれぞれ、少なくと
も一つの昼光放射源および／または少なくとも一つのＵ
Ｖ放射源を有する。消去手段３４は、印刷版シリンダ３
２の回転軸と平行に、印刷版シリンダ３２の外周にわた
って相互に離間した位置に配置されている。ＵＶ範囲の
光線を用いた全範囲照射による特定の印刷形式に関して
は、各表面を形成する光熱変性材料を通常の親水性の状
態に復帰させることにより、印刷版３１の描写表面を消
去するには、原則として単一の消去手段３４で十分であ
ろう。

【００５２】消去手段３４は、照明中にオフに切り換え
られる。印刷版シリンダ３２の最もスムーズな回転を保
証するため、描写中には印刷版シリンダ３２、特に印刷
版３１とロールやシリンダが接触しないことが望まし
い。印刷終了後には消去手段３４がオンに切り換えられ
る。ＵＶ放射により励起された前の親油性表面範囲をＯ
Ｈ基の結合により永続的に親水性とするため、消去中に
印刷版３１の表面は水で湿潤される。そのためには、特
に湿潤ユニットまたは蒸気発生器が使用される。

【００５３】変形例では、印刷版シリンダ３２とゴム製
ブランケットシリンダ３８とを含む印刷ユニットがケー
スに収納され、温度だけでなく湿度を特定の作業条件に
適合させられるように、空気が環境に対して調節され
る。ゆえに消去作業中には、少なくとも６０％、望まし
くは少なくとも８０％の均一な高湿度がケース４０内で
発生するべきで、描写と連続印刷作業用には湿度をはる
かに低くすべきである。ケース４０はまた、実施例では
インキロール３９も包囲することが望ましい。印刷ユニ
ットが追加シリンダを含む場合には、この印刷ユニット
に属する追加シリンダもケース４０に包囲されることが
望ましい。印刷機の印刷ユニットがゴム製印刷ユニット
の場合、ケース４０は、相互に嵌合する二つのゴム製ブ
ラケットシリンダとこれらに関連する印刷版シリンダと
を包囲することが望ましい。このように形成された印刷
ユニットの場合、ケース４０は、４本のゴム製ブランケ
ットシリンダの各々と各版シリンダ用に通常のＨまたは
Ｎブリッジ形状に形成されてもよい。９または１０本の
シリンダユニットを備える衛星印刷ユニットでは、これ
らユニットがそれ自身のケース４０で包囲されることが
望ましい。

【００５４】ＵＶ放射のために高湿度を設定して照射中
にケース４０内でこれを維持するためには、本来の湿潤
ユニットでもすでに好都合であるが、ケース４０内での
プリセット温度の設定と維持を同時に行なう空調も好適
である。プリセット湿度Ｆ_so _llとプリセット温度Ｔ_sell
を設定および維持するのに使用される空調装置は、実施
例では、ケース４０と給水手段の他に、ケース４０内に
配置された湿潤剤塗布ロール３６と湿度温度調整器４３
と少なくとも一つの湿度センサ４１と、ケース４０内に
配置された少なくとも一つの温度センサ４２とを含む。
センサ４１，４２はケース４０内の湿度と温度を検出し
て、それぞれ、湿度と温度の両方を制御変数Ｆ_istとＴ
_istとして調整器４３に送る。調整器４３は、記録され
た湿度および温度の値とプリセット値との差からそれぞ
れの差Ｆ_soll−Ｆ_istとＴ_soll−Ｔ_i _stを求め、給水のた
めと湿度差および温度差と相関させて温度に影響を与え
るためにケース４０内で作動する手段のため、湿度操作
された変数Ｆと温度操作された変数Ｔとを求める。

【００５５】印刷版が印刷中に固定されるかシリンダに
一体化された印刷機における描写および消去、特に印刷
版シリンダにおける照明および消去が望ましい。しかし
描写と消去は原則的に印刷機の外部で実行されてもよ
い。作業の一つを印刷機で実行し他の作業を印刷機外部
で実行することも、除外されない。

【００５６】本発明の原理の応用を説明するため発明の
特定実施例について詳細に図示および記載したが、この
ような原理から逸脱せずに発明を具体化できることは理
解できるだろう。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１ａはＵＶ‐親水性表面を示した概要図、図
１ｂは表面のぬれを示した概要図、図１ｃは表面の親水
性特性の局部的な除去のための露光オペレーションを示
した概要図、図１ｄは露光オペレーションの後のぬれを
示した概要図である。

【図２】図２ａは本発明に従った第１の例とする実施態
様によるプリンティング・フォームを示した断面図、図
２ｂは本発明に従った第２の例とする実施態様によるプ
リンティング・フォームを示した断面図、図２ｃは本発
明に従った第３の例とする実施態様によるプリンティン
グ・フォームを示した断面図、図２ｄは本発明に従った
第４の例とする実施態様によるプリンティング・フォー
ムを示した断面図である。

【図３】本発明に従った巻き取り紙式湿式オフセット・
ロータリ印刷機のプリンティング・ユニットを示した概
要図である。

フロントページの続きＦターム(参考） 2H025 AA00 AB03 BB00 BH03 2H084 AA14 AA30 AA36 AE05 BB02 BB13 CC05 2H096 AA06 BA13 LA30 2H114 AA04 AA23 AA24 BA01 DA08 EA05 GA29 (54)【発明の名称】光触媒作用および熱利用により変質可能な材料を伴う湿式オフセット・プリンティング・フォームおよび湿式オフセット・プリンティング・フォームのプリント・イメージを生成するためおよび／またはプリント・イメージを消去するための方法および装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光触媒作用および熱利用により変質可能
な材料であって、光の照射によって親水性状態に、加熱
によって親油性状態に変質させることが可能な光触媒作
用および熱利用により変質可能な材料を包含し、イラス
トレーションの可能な、あるいはイラストレーションの
行われた表面を形成する頂上層と、イメージのパターンに従った前記頂上層の加熱が達成さ
れる前記頂上層の放射エネルギに関する前記頂上層の部
分を形成する吸収中心とを包含する湿式オフセット・プ
リンティング・フォーム。
【請求項２】前記吸収中心が、前記光触媒作用および
熱利用により変質可能な材料内に分散されている請求項
１記載の湿式オフセット・プリンティング・フォーム。
【請求項３】前記吸収中心が、ナノ粒子である請求項
１記載の湿式オフセット・プリンティング・フォーム。
【請求項４】前記吸収中心が、少なくとも１つの光吸
収半導体材料の粒子によって形成される請求項１記載の
湿式オフセット・プリンティング・フォーム。
【請求項５】前記頂上層の前記光触媒作用および熱利
用により変質可能な材料が、伝導バンド・エネルギおよ
び価電子バンド・エネルギを伴う半導体材料であって、
前記伝導バンド・エネルギは、伝導バンドの下側エッジ
において測定したとき、水を水素ガスに還元するために
必要なエネルギと少なくとも同等に負であり、かつ前記
価電子バンド・エネルギは、価電子バンドの上側エッジ
において測定したとき、水を水素ガスに酸化するために
必要なエネルギと少なくとも同等に正であるとする半導
体材料である請求項１記載の湿式オフセット・プリンテ
ィング・フォーム。
【請求項６】前記頂上層の前記光触媒作用および熱利
用により変質可能な材料が、アナターゼＴｉＯ₂または
酸化亜鉛またはＺｒＯ₂またはＳｒＴｉＯ₂またはＫＴａ
Ｏ₃またはＫＴａ_0.77Ｎｂ_0.33Ｏ₃のいずれか１つもしく
は複数である請求項１記載の湿式オフセット・プリンテ
ィング・フォーム。
【請求項７】前記表面における前記頂上層の部分を形
成する材料が、少なくとも４０重量パーセントの量で前
記光触媒作用および熱利用により変質可能な材料を含む
請求項１記載の湿式オフセット・プリンティング・フォ
ーム。
【請求項８】さらに、前記頂上層の下側に配置される
吸収層を包含し、前記吸収層は、４００ナノメートルも
しくはそれより長い波長の放射エネルギを吸収するもの
とし、かつ前記吸収層は、熱を伝導する態様で前記頂上
層に接続されるものとしたことを特徴とする請求項１記
載の湿式オフセット・プリンティング・フォーム。
【請求項９】前記吸収層が、直接熱接触のために前記
頂上層に直接隣接することを特徴とする前記請求項に記
載した湿式オフセット・プリンティング・フォーム。
【請求項１０】さらに、前記頂上層の下側および／ま
たは前記頂上層の下側に配置される吸収層の下側に形成
された断熱層を包含する請求項１記載の湿式オフセット
・プリンティング・フォーム。
【請求項１１】さらに、前記頂上層用のキャリアであ
って、スチール、アルミニウム、およびそれらの合金の
うちのいずれか１つもしくは複数から形成されるキャリ
アを包含する請求項１記載の湿式オフセット・プリンテ
ィング・フォーム。
【請求項１２】さらに、前記頂上層用のプリンティン
グ・フォーム・キャリア、および前記プリンティング・
フォーム・キャリアと前記頂上層の間に備えられる断熱
層によって形成される拡散バリアとして機能する層を包
含し、前記拡散バリアの層が、前記キャリアの原子の、
前記頂上層への拡散を防止し、あるいは妨げる請求項１
記載の湿式オフセット・プリンティング・フォーム。
【請求項１３】前記頂上層と前記プリンティング・フ
ォームのキャリアの間に配置される層によって拡散バリ
アが形成される請求項１記載の湿式オフセット・プリン
ティング・フォーム。
【請求項１４】湿式オフセット・プリンティング・フ
ォームのイラストレーションを行う方法において：イラ
ストレーションを行うことが可能な表面上に、光触媒作
用および熱利用により変質可能な材料であって、光の照
射によって親水性状態に、加熱によって親油性状態に変
質させることが可能な材料、および前記光触媒作用およ
び熱利用により変質可能な材料に関連付けされた吸収中
心を伴うフォームを用意するステップ；および、イメージのパターンに従って、前記光触媒作用および熱
利用により変質可能な材料を加熱することによってプリ
ンティング・フォームのイラストレーションを行うステ
ップ；を包含する方法。
【請求項１５】前記プリンティング・フォームのイラ
ストレーションが、レーザ・ビームを用いて、好ましく
はＩＲレーザ・ビームを用いて行われる請求項１４記載
の方法。
【請求項１６】波長が、４００ナノメートルから３，
０００ナノメートルまでの範囲に含まれるレーザ光が使
用される請求項１４記載の方法。
【請求項１７】波長が、少なくとも７００ナノメート
ルであり、好ましくは少なくとも８００ナノメートルで
あるレーザ光が使用される請求項１４記載の方法。
【請求項１８】前記プリンティング・フォームが、太
陽光および／またはＵＶ光を用いて照射され、イメージ
のパターンに従った加熱によって生成されたプリンティ
ング・スタイルが消去される請求項１記載の方法。
【請求項１９】湿式オフセット・プリンティング・フ
ォームのプリンティング・スタイルの消去またはイラス
トレーションを行うための方法において：プリンティン
グ・スタイルを形成する表面上に、光の照射によって親
水性状態に、加熱によって親油性状態に変質させること
が可能な光触媒作用および熱利用により変質可能な材料
を用意するステップと、前記表面にＵＶ放射エネルギを照射することによってプ
リンティング・スタイルの消去もしくは生成を行うステ
ップと、前記照射の間において前記表面に水を供給するステップ
とを包含する方法。
【請求項２０】前記ＵＶの照射の間に前記表面におい
て少なくとも６０％、好ましくは８０％の湿分が生成さ
れ、前記ＵＶの照射の持続する間にわたってそれが維持
される請求項１９記載の方法。
【請求項２１】プリセット温度が設定され、前記ＵＶ
の照射の持続する間にわたってそれが維持される請求項
１９記載の方法。
【請求項２２】消去のために、前記プリンティング・
フォームの前記イラストレーションが行われる表面が、
その全エリアにわたって照射される請求項１９記載の方
法。
【請求項２３】湿式オフセット・プリンティング・フ
ォームの繰り返しイラストレーションを行うための装置
において：イラストレーションの可能な、もしくはすで
にイラストレーションが行われた表面を伴うフォームで
あって、光の照射によって親水性状態に、加熱によって
親油性状態に変質させることが可能な光触媒作用および
熱利用により変質可能な材料を有するフォームと、前記光触媒作用および熱利用により変質可能な材料をイ
メージのパターンに従って加熱することによってプリン
ティング・スタイルを生成するためのイメージ形成手段
と、生成されたプリンティング・スタイルを消去するための
消去手段であって、太陽光および／またはＵＶ光に関す
る１ないしは複数の放射エネルギ源を有する消去手段
と、前記プリンティング・フォームにおいてプリセットされ
た湿分を生成し、それを維持することができる空気調和
のための給湿ユニットとを包含する装置。
【請求項２４】前記給湿ユニットが、前記湿式オフセ
ット・プリンティング・フォームおよびプリンティング
・ユニットの複数のシリンダのためのカプセル封入を含
み、プリセットされた湿分が前記カプセル封入内におい
て生成され、維持される請求項２３記載の装置。
【請求項２５】前記給湿ユニットが、前記カプセル封
入内に配置される少なくとも１つの湿分センサおよびレ
ギュレータを包含し、前記湿分センサによって検出され
た湿分値がコントロール変数として前記レギュレータに
渡されることを特徴とする請求項２４記載の装置。
【請求項２６】前記消去手段が、前記表面の全エリア
照射のための１ないしは複数の放射エネルギ源を有する
ことを特徴とする請求項２３記載の装置。
【請求項２７】前記消去手段の前記放射エネルギ源ま
たは複数の前記放射エネルギ源が、大きなパーセンテー
ジで長くとも３８７ナノメートルの波長の放射エネルギ
を放射し、それにおいて前記放射エネルギ源によって照
射される波長スペクトルは、好ましくは３８７ナノメー
トルの波長にピークを有するものとしたことを特徴とす
る請求項２３記載の装置。
【請求項２８】前記プリンティング・フォームが、巻
き取り紙式湿式オフセット・ロータリ印刷機内のプリン
ティング・フォーム・シリンダ上に着脱可能および着脱
不能に配置されており、前記消去手段が、前記プリンテ
ィング・フォーム・シリンダに直接指向されており、か
つ好ましくは前記プリンティング・フォーム・シリンダ
の回転軸と平行に測定したときの前記プリンティング・
フォームの長さを超えて伸び、プリンティング・フォー
ムの全エリアの、均一な照射の達成が可能になる範囲を
覆うことを特徴とする請求項２３記載の装置。
【請求項２９】前記イメージ形成手段が、イメージの
パターンに従って前記プリンティング・フォームの照射
を行うための複数の放射エネルギ源を包含することを特
徴とする請求項２３記載の装置。
【請求項３０】前記イメージ形成手段の前記放射エネ
ルギ源が、ＩＲレーザおよびＮＩＲレーザのうちのいず
れか一方であることを特徴とする請求項２３記載の装
置。
【請求項３１】前記プリンティング・フォームが、湿
式オフセット印刷機内のプリンティング・フォーム・シ
リンダ上に着脱可能または着脱不能に配置されており、
前記イメージ形成手段の前記放射エネルギ源が、前記プ
リンティング・フォーム・シリンダに直接指向されてお
り、かつ前記プリンティング・フォーム・シリンダの回
転軸と平行かつ互いに隣接して配置されていることを特
徴とする請求項２３記載の装置。