ES2261623T3 - Placa de impresion offset con material convertible fototermicamente, procedimiento y aparato para crear y/o borrar la imagen de la placa de impresion offset. - Google Patents
Placa de impresion offset con material convertible fototermicamente, procedimiento y aparato para crear y/o borrar la imagen de la placa de impresion offset.Info
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Abstract
Plancha de impresión de offset húmedo con una capa superior (24), para una máquina de impresión rotativa, que contiene un material modificable por vía térmica y fotocatalítica y que constituye una superficie sobre la que se puede formar o se ha formado una imagen (130, 131), pudiéndose cambiar el material por vía fotocatalítica mediante irradiación con luz, a un estado hidrófilo y mediante calentamiento a un estado lipófilo y caracterizado porque la capa superior (24) tiene centros de absorción (24b) de la luz con los que se produce un calentamiento de la capa superior (24) que reproduce la imagen, interaccionando el material fotocatalítico con la luz y estando constituidos los centros de absorción por partículas de un material semiconductor que están dispersas en el material modificable por vía térmica y fotocatalítica.
Description
Placa de impresión offset con material
convertible fototérmicamente, procedimiento y aparato para crear y/o
borrar la imagen de la placa de impresión offset.
La invención se refiere a una plancha de
impresión de offset húmedo con una superficie sobre la que se puede
formar o se ha formado una imagen, estando compuesta esta superficie
por un material que contiene como componente distribuido
uniformemente, un material modificable por vía térmica y
fotocatalítica, o bien está compuesto únicamente por un material de
este tipo. En el sentido de la invención se entiende por material
modificable por vía térmica y fotocatalítica, un material que
mediante radiación con luz cambia por vía fotocatalítica a un estado
hidrófilo y por vía térmica, es decir por calentamiento, cambia a un
estado lipófilo. La invención se refiere además a un procedimiento
para producir la imagen de impresión, es decir para la formación de
la imagen, un procedimiento para borrado de una imagen de impresión,
un dispositivo para la formación de imagen y un dispositivo para el
borrado de una imagen en una plancha de impresión por offset húmedo
del tipo mencionado. De modo especialmente preferente, la invención
se refiere a un procedimiento para formar la imagen y borrar una
plancha de impresión, por ejemplo para la repetida formación de
imágenes distintas en la misma plancha de impresión.
Preferentemente, la plancha de impresión, el procedimiento y el
dispositivo encuentran aplicación en la impresión con rotativas de
offset húmedo, particularmente en la impresión de periódicos.
A continuación se entenderá por formación de
imagen un proceso por el que se actúa sobre la plancha de impresión
en las posiciones que forman los puntos de imagen, de modo que se
produce una imagen latente en la plancha de impresión. En el sentido
de la invención, se entiende por borrado un proceso en el que la
plancha de impresión se trata preferentemente con independencia de
la imagen en toda su superficie de modo que se elimina la
información proporcionada en la formación de imagen, es decir la
imagen de impresión. La acción para la formación de imagen es
preferentemente un calentamiento que reproduce la imagen, pero puede
ser también una radiación con luz UV que reproduzca la imagen.
Los periódicos se imprimen predominantemente con
offset húmedo. Las máquinas de impresión, como a las que se refiere
preferentemente la invención, tienen típicamente unidades de
impresión con cilindros portamantilla, cilindros de planchas,
unidades de color y unidades de humidificación. Una plancha de
impresión fijada sobre un cilindro tiene una superficie en general
en forma de una capa superior que en el estado con imagen latente
tiene zonas hidrófilas (que atraen el agua) y lipófilas (que
rechazan el agua). Normalmente la plancha de impresión está formada
por una plancha que se fija en un cilindro de impresión configurado
como cilindro portaplanchas. La plancha de impresión tiene zonas
sobre las que se crea lipofilia reproduciendo la imagen. Las zonas
sin imagen son hidrófilas y atraen con mayor fuerza el agua que la
tinta. Las zonas lipófilas repelen el agua y atraen la tinta. En
principio en el proceso offset se puede utilizar cualquier
superficie que pueda separarse en zonas hidrófila y lipófilas.
Para la fabricación de planchas de impresión se
conoce una variedad de procedimientos y dispositivos que utilizan
las correspondientes planchas de impresión. Por ejemplo, se puede
irradiar una plancha de impresión con un láser reproduciendo la
imagen y a continuación hacer un revelado químico. También pueden
fabricarse planchas de impresión mediante ablación láser. Así se
ponen al descubierto bien zona lipófilas debajo de una capa
hidrófila o zonas hidrófilas debajo de una capa lipófila. El proceso
de iluminación determinante para la formación de la imagen puede
tener lugar en una instalación separada o bien dentro de la máquina
de impresión, tal como se prefiere en la invención. Para la
iluminación o formación de la imagen en la máquina de impresión se
conoce el principio del tambor exterior. En general se utilizan las
planchas de impresión llamadas sin proceso que no requieren revelado
químico.
A día de hoy las planchas de impresión se
utilizan solo una vez. Por razones económicas y ecológicas es desde
luego deseable que la misma plancha de impresión se pueda utilizar
varias veces.
Se conoce por el documento EP 0 911 155 A1 la
formación de imagen en una plancha de impresión mediante una
reacción fotocatalítica. Para la formación de la imagen de impresión
se irradian con luz UV los puntos sin imagen. La plancha de
impresión iluminada y con la imagen formada de este modo, se borra
por calentamiento. Para ello la plancha de impresión debe alcanzar
una temperatura elevada. Además para el borrado de la imagen de
impresión después del uso, se requiere un proceso de lavado en un
dispositivo de lavado con el fin de eliminar los restos de tinta de
la plancha de impresión. Sin el lavado, el calentamiento de la
plancha de impresión para el borrado de la imagen daría lugar
al quemado de los restos de tinta en la superficie de la plancha, por lo cual la plancha de impresión quedaría inservible.
al quemado de los restos de tinta en la superficie de la plancha, por lo cual la plancha de impresión quedaría inservible.
El documento EP 0 911 154 A1 describe la
formación de imagen mediante el calentamiento reproduciendo la
imagen y el borrado mediante iluminación UV. Más detalles se
describen en el documento EP 1 020 304 A2.
Por el documento EP 0 875 395 A1, se conoce un
elemento de impresión litográfico que está fabricado con una
cerámica que consiste en una aleación de zirconio y un aluminio
alfa. Si la aleación de zirconio se convierte desde una composición
esteoquimétrica en una composición subesteoquimétrica, entonces la
cerámica cambia su propiedad de hidrófila a lipófila. La conversión
de una composición esteoquimétrica a una subesteoquimétrica se
consigue mediante reducción, mientras que la conversión de
subesteoquimétrica a esteoquimétrica se obtiene por oxidación. La
oxidación se puede realizar por oxidación ayudada térmicamente o por
oxidación ayudada por láser. La oxidación convierte la cerámica a un
estado hidrófilo. La reducción que convierte la cerámica a un estado
lipófilo está descrita como una reducción ayudada por láser mediante
la iluminación con una luz de 1064 mm.
Por el documento EP 1 020 304 A2 se conoce un
procedimiento de impresión offset y un aparato de impresión
correspondiente. La plancha de impresión es hidrófila a una primera
temperatura e hidrófoba a una segunda temperatura.
Por el documento DE 196 12 927 se conoce una
máquina de impresión y un procedimiento para la generación de la
imagen para una máquina de impresión. En particular se describe la
impresión en offset húmedo. Una unidad de secado que funciona con
aire caliente o con luz UV evapora un disolvente. También se prevé
un dispositivo para humidificar un recubrimiento polimérico con una
disolución acuosa.
Es un objeto de la invención obtener una plancha
de impresión en offset húmedo del tipo mencionado, que permita la
producción de una imagen de impresión con buena definición de
imagen. Ventajosamente la plancha de impresión después del uso no
debe ser lavada para el borrado. La formación de imagen en una
plancha de impresión y/o el borrado de una imagen de una plancha de
impresión debe o deben ser simplificadas, ventajosamente en una
máquina de impresión de offset húmedo.
Este cometido se soluciona mediante los objetos
de las reivindicaciones independientes. Otras variantes ventajosas
se describen en las subreivindicaciones.
En una realización preferida, la invención se
basa en la idea de que la mojabilidad local, es decir el
comportamiento hidrófilo o lipófilo de una plancha de impresión, se
puede obtener de modo que los átomos o moléculas de una material
modificable por vía térmica y fotocatalítica que constituye la
superficie de la plancha de impresión sobre la que se puede formar o
se ha formado la imagen, puedan pasar para la formación de imagen de
un estado excitado en el que se encuentran normalmente, a un estado
de menor energía. Para el borrado, los átomos o moléculas pasan a la
inversa de un estado de menor energía al estado excitado. Así, la
plancha de impresión antes de practicar el proceso de formación de
imagen o después del borrado se encuentra en un estado de partida
hidrófilo que mediante un calentamiento local preferentemente de
corta duración que reproduce la imagen, del material modificable por
vía térmica y fotocatalítica puede cambiarse al estado de
utilización hidrófilo y lipófilo según la imagen.
Una ventaja de este tipo de formación de imagen
consiste en que la plancha sin imagen latente puede manipularse sin
problemas con luz diurna. El borrado de la imagen de impresión a
diferencia de la formación de imagen, tiene lugar por el efecto de
la luz diurna natural o artificial, o de la luz UV, y ventajosamente
sobre toda la superficie que contiene la imagen. Por otra parte la
pérdida de una imagen cuando la plancha de impresión está montada es
improbable puesto que en la máquina de impresión, la luz diurna no
alcanza la plancha de impresión que pueda hacer temer el borrado en
una extensión relevante. Otra ventaja consiste en la propiedad de
autolimpieza de la superficie formada por el material modificable
por vía térmica y fotocatalítica, que tiene lugar con el borrado. La
plancha de impresión no solo se convierte en hidrófila en su
superficie, sino que también los restos orgánicos se oxidan. A
diferencia del proceso de borrado mediante el calentamiento de toda
la superficie, en este caso, en el proceso de borrado no es
necesario lavar la plancha de impresión. Un calentamiento a la
requerida elevada temperatura dentro de la máquina de impresión solo
es posible con una dificultad mucho mayor que la iluminación con
luz diurna o con luz UV. En particular la luz diurna natural
contiene luz ultravioleta (UV) de longitud de onda corta que produce
la hidrofilia normalmente existente en los materiales modificables
por vía térmica y fotocatalítica.
Mediante la formación de imagen en la plancha de
impresión mediante la iluminación local reproduciendo la imagen,
ventajosamente mediante iluminación láser, no se calienta toda la
plancha sino solo una zona hasta una profundidad cerca de la
superficie, localmente y por poco tiempo. La plancha de impresión en
conjunto permanece a la temperatura del entorno que corresponde a la
temperatura del ambiente circundante.
Una plancha de impresión según la invención
tiene en una capa superior, sobre la que se forma la imagen de
impresión, centros de absorción para la luz con el fin de generar
calor en la capa superior por la absorción de esta luz. Los centros
de absorción están constituidos por partículas de un material
(material semiconductor) que absorben la luz, ventajosamente la luz
infrarroja (IR), que puede extenderse hasta el espectro visible, es
decir hasta el infrarrojo próximo (NIR). El material de absorción
está dispersado uniformemente en forma de partículas finas en el
material modificable por vía térmica y fotocatalítica. Las
partículas del material de absorción son ventajosamente
nanopartículas es decir partículas cuyas dimensiones se encuentran
en el intervalo de los manómetros.
Mediante la dispersión uniforme de finos centros
de absorción en el material modificable por vía térmica y
fotocatalítica se consigue con una sola capa tener un material
modificable por vía térmica y fotocatalítica. Los materiales
fotocatalíticos conocidos son transparentes. La transparencia es una
consecuencia inmediata de la estructura de bandas del material. De
hecho se precisa una separación entre bandas mayor que 3 eV para la
excitación del material fotocatalítico hasta un estado en el que sea
posible la unión de grupos OH en la superficie del material
correspondiente. En el caso de estas separaciones entre bandas, es
decir de gap de energía entre bandas, no es posible la interacción
con fotones de longitud de onda larga y baja energía. Por este
motivo los semiconductores fotocatalíticos son transparentes en el
espectro visible. Así, una acción fototérmica y la modificación del
material fotocatalítico solo puede realizarse de modo indirecto. La
invención consigue un material modificable por vía térmica y
fotocatalítica mediante la fina dispersión de centros de absorción
en el material modificable por vía térmica y fotocatalítica. Los
semiconductores son ejemplos preferidos de materiales para la
formación de centros de absorción.
\newpage
La capa superior de la superficie con la imagen
latente o a formar, comprende un material influenciable por la luz
por vía fotocatalítica y los centros de absorción que están
distribuidos finamente en el material influenciable por vía
fotocatalítica, a continuación llamado también simplemente material
fotocatalítico. El material fotocatalítico interacciona con la luz
cuya longitud de onda es menor que la longitud de onda, o está por
debajo del espectro de la luz absorbida por los centros de absorción
y que se convierte en calor. Debido a que su energía de separación
entre bandas es de por lo menos 3 eV, el material fotocatalítico
interacciona únicamente con luz cuya longitud de onda sea menor que
400 nm. El material que constituye los centros de absorción
interacciona por su parte con luz cuya longitud de onda es 400 nm o
mayor, ventajosamente absorbe luz del espectro infrarrojo IR.
Mediante la invención se consigue un nuevo
material que tiene propiedades tanto fotocatalíticas como de
absorción. Una ventaja consiste en que puede simplificarse el
recubrimiento de un material soporte pues las dos interacciones, es
decir la fotocatalítica y la de absorción, se encuentran en un única
capa y por este motivo se evita una capa de absorción que sirva
exclusivamente para la absorción. Además el espesor de la capa del
material modificable por vía térmica y fotocatalítica es menos
crítica. Mientras que en un sistema de varias capas, el espesor de
la capa superior de material modificable por vía fototérmica tiene
gran influencia en el calentamiento, dentro de una capa única puede
conseguirse un calentamiento uniforme, siempre que los centros de
absorción estén dispersos uniformemente en esta capa. Además los
centros de absorción generadores de calor se encuentran más próximos
a la superficie formada o a formar de modo que son posibles
gradientes de temperatura en la superficie más definidos.
La posibilidad de producir gradientes de
temperatura en la superficie especialmente definidos es una ventaja
especialmente para la formación de imagen mediante el calentamiento
reproduciendo la imagen, puesto que se mejora la definición de la
imagen de impresión. La plancha de impresión según la invención es
sin embargo también ventajosa para un procedimiento de formación de
imagen en el que la formación de imagen se produce por creación de
hidrofilia en la superficie reproduciendo la imagen y el borrado se
produce por creación de hidrofobia en toda la superficie.
Igualmente una plancha de impresión según la
invención tiene una capa de absorción debajo de la capa superior
según la reivindicación 1 en cuya superficie se forma la imagen de
impresión. La capa de absorción se calienta por iluminación local de
corta duración de modo correspondientemente local, es decir se
calienta con puntos calientes y fríos que reproducen la imagen. Para
el calentamiento reproduciendo la imagen, la capa de absorción debe
tener un espesor uniforme con el fin de transmitir el calor
principalmente en dirección normal a la capa de absorción, a la capa
situada inmediatamente encima que tiene el material modificable por
vía térmica y fotocatalítica, y evitar una igualación de
temperaturas en la dirección tangencial dentro de la capa de
absorción entre los puntos calientes y los puntos fríos que
reproducen la imagen. El calor generado localmente reproduciendo la
imagen en la capa de absorción se transmite por conducción desde la
capa de absorción a la capa superior, de modo que en la superficie
de la capa superior aparecen los puntos lipófilos de la imagen de
impresión. Las dos capas están unidas entre sí con transmisión de
calor en toda la superficie. La capa de adsorción ventajosamente
limita directamente con la capa superior. Cada una de las capas
interacciona con luz de un intervalo de longitudes de onda
determinado, interaccionando la capa superior muy poco o nada con la
luz que es absorbida en gran medida por la capa de absorción, es
decir es transparente para esta luz. La capa superior interactúa por
vía fotocatalítica con luz del espectro UV, mientras que la capa de
absorción se calienta por la interacción con luz de otro intervalo
de longitudes de onda, ventajosamente en el intervalo IR para el que
la capa superior es transparente. La capa superior se calienta
reproduciendo la imagen mediante conducción de calor desde la capa
de absorción calentada a su vez correspondientemente reproduciendo
la imagen y por este calentamiento forma en su superficie los puntos
de imagen lipófilos.
Ventajosamente entre la capa de absorción y un
soporte de plancha de impresión se prevé una capa de aislamiento
para minimizar la pérdida de calor hacia el soporte. En el caso de
que no exista capa de absorción puede existir sin embargo una capa
de aislamiento entre la capa superior y el soporte.
En el caso de que debajo de la capa superior
exista una fina capa de absorción, puede prescindirse de los centros
de absorción en la capa superior (no reivindicado). La firma
solicitante se reserva elevar reivindicación sobre este punto
separadamente. Por otra parte, la capa de absorción y los centros de
absorción en la capa superior también pueden estar configurados
ventajosamente en combinación.
La configuración de una plancha de impresión
según la invención mediante una capa de absorción es también
ventajosa para un procedimiento de formación de la imagen en el que
la formación de la imagen se efectúa por iluminación con luz UV y el
borrado por calentamiento.
Puede preverse ventajosamente una barrera de
difusión entre el soporte y la capa superior, con el fin de evitar
la difusión de átomos, especialmente de Fe y de Al. La barrera de
difusión puede estar formada por ejemplo, por una capa de cuarzo
SiO_{2}. Una capa efectiva como barrera de difusión debe tener un
espesor como máximo de 1 \mum, ventajosamente una capa de este
tipo tiene un espesor uniforme de 100 nm como mínimo. La difusión
progresiva de átomos de Fe y/o Al hacia la capa superior podría
perjudicar el efecto semiconductor utilizado en la invención, pues
la estructura de bandas de electrones de la capa superior podría
cambiar perjudicialmente a lo largo del funcionamiento de la plancha
de impresión debido a estos efectos de difusión. La barrera de
difusión puede estar configurada simultáneamente como capa de
aislamiento térmico. Así mismo, una barrera de difusión puede estar
configurada como una capa prevista para este fin que está dispuesta
entre las capas mencionadas de una plancha de impresión según la
invención. En realizaciones preferidas, se configura una capa
prevista como barrera de difusión entre el soporte y la capa de
absorción, en el caso de que se haya previsto una capa de absorción.
Cuando existe una capa de aislamiento térmico, la barrera de
difusión puede estar prevista entre el soporte y la capa de
aislamiento o entre la capa de aislamiento y la capa de absorción
existente en su caso. Ventajosamente una capa de este tipo se
dispone como barrera de difusión inmediatamente debajo de la capa
superior. En este caso se impide con la mayor seguridad, la difusión
en la capa superior de átomos extraños que podrían provenir no solo
del soporte, sino también de otras capas funcionales.
El proceso de borrado de la plancha de impresión
tiene lugar mediante iluminación de la superficie con luz UV. Según
la invención, se procura que durante el proceso de borrado se
proporcione a la superficie que se está activando una elevada
humedad que ayude el proceso de borrado. Si en la superficie que se
está activando falta humedad, entonces se produce una recombinación
de los pares electrón-hueco generados por la
iluminación UV, de modo que no se alcanza una hidrofilia permanente
en la superficie. Ventajosamente, durante el proceso de borrado se
lleva agua a la superficie de modo que en ella se establece una
elevada humedad. La elevación de la humedad respecto del entorno
puede realizarse ventajosamente mediante la introducción de vapor de
agua y también mediante el dispositivo humidificador de una máquina
de impresión, que en este caso está asociado a un dispositivo para
la nebulización de agua. La humedad en la superficie y en la
proximidad de la superficie, ventajosamente es tal que el aire
contiguo está saturado de humedad.
En general, en una unidad de impresión no es
deseable una elevada humedad. Así, puede dar lugar por ejemplo a la
formación de condensaciones de agua que gotean sobre los cilindros y
producen perturbaciones en la imagen de impresión. El proceso offset
puede también ser perjudicado cuando, debido al aire saturado de
humedad del entorno, se dificulta la evaporación del agua que se
encuentra sobre la superficie de la plancha de impresión o que
alcanza la superficie al aplicar una película de tinta.
En otro desarrollo de la invención se efectúa un
mantenimiento constante de la humedad y ventajosamente también de la
temperatura, es decir una climatización de la unidad de impresión de
tal modo, que durante la creación de hidrofilia mediante luz UV se
regula una elevada humead relativa superior al 60%, preferentemente
superior al 80% y para la creación de hidrofobia en la superficie se
regula una humedad significativamente más baja. Además se regula una
humedad significativamente más baja, también durante el proceso de
impresión y ventajosamente durante toda la duración del proceso de
impresión excepto durante la creación de hidrofilia, ventajosamente
mediante la climatización. El cierre de la unidad e impresión en un
recinto simplifica el ajuste y el mantenimiento de los valores de
humedad y de temperatura deseados en la unidad de impresión y en
particular en la plancha de impresión. Además la humedad o el clima
puede ser vigilado mediante la disposición de sensores de humedad y
ventajosamente también de sensores de temperatura.
A continuación se describen ejemplos de
realización preferidos con la ayuda de figuras. Las características
dadas a conocer en los ejemplos de realización forman aisladamente o
en combinación, los objetos de las reivindicaciones. Esto se aplica
también, siempre que la combinación no sea contradictoria, a
combinaciones de características que se describen explícitamente en
ejemplos de realización distintos y que no son separables. Las
figuras muestran:
La figura 1a una superficie
hidrófila-UV,
la figura 1b humectación de la superficie,
la figura 1c un proceso de iluminación para la
eliminación local de la hidrofilia en la superficie,
la figura 1d humectación de la superficie
después del proceso de iluminación,
la figura 2a una plancha de impresión en un
primer ejemplo de realización, en sección,
la figura 2b una plancha de impresión en un
segundo ejemplo de realización, en sección,
la figura 2c una plancha de impresión en un
tercer ejemplo de realización, en sección,
la figura 2d una plancha de impresión en un
cuarto ejemplo de realización, en sección,
la figura 3 una unidad de impresión en una
máquina rotativa de offset húmedo.
La figura 1a muestra una superficie hidrófila
130 por la iluminación con luz del espectro UV, de una plancha de
impresión 31 para offset húmedo, que a continuación se designará
como superficie hidrófila UV. La superficie 130 está formada por la
sección superior 11 de la plancha de impresión, que contiene un
material modificable por vía térmica o fotocatalítica o que está
formada totalmente por un material de este tipo. El estado excitado
normal se obtiene por ejemplo mediante iluminación con luz diurna
natural o artificial. Es decir, cuando la capa 11 es iluminada por
una fuente de luz que emite por lo menos en parte de su espectro,
luz UV, preferentemente una fuente de luz diurna y/o una fuente de
luz UV 12, la superficie de la capa 11 recibe fotones de alta
energía 17, de modo que en la proximidad de la superficie 130 de la
capa 11, electrones de la capa de valencia del material modificable
por vía térmica o fotocatalítica se excitan pasando a la banda de
conducción. Los electrones que faltan en la banda de valencia dejan
huecos positivos h+. Si el potencial eléctrico de los huecos h+ es
suficientemente elevado, entonces el material modificable por vía
térmica o fotocatalítica puede reaccionar con moléculas de agua 14,
formándose un radical hidroxil OH que se une al átomo o molécula del
material modificable por vía térmica o fotocatalítica, El carácter
hidrófilo de la superficie 130 aumenta con un número creciente de
grupos OH unidos a la superficie 130. En particular, las moléculas
de agua 14 pueden unirse mediante puentes de hidrógeno de los grupos
OH que por su parte están unidos a los huecos positivos h+ de la
capa superior 11.
La Fig. 1b representa la humectación de la
superficie hidrófila UV 11 por una gota de agua 140. El ángulo de
contacto que forma el borde de la gota de agua 140 con la superficie
130 es una medida de la hidrofilia de la superficie 130.
Un material modificable por vía térmica y
fotocatalítica preferido para la superficie superior 11 de la
plancha de impresión 31 es el óxido de titanio TiO_{2} en la
estructura cristalina anatase. En la estructura anatase, la energía
de excitación desde la banda de valencia a la banda de conducción es
de unos 3,2 eV que corresponde a una longitud de onda de 378 nm.
Mediante el efecto de la luz ultravioleta, cuya longitud de onda no
es mayor de 387 nm, tiene lugar la excitación de los electrones de
valencia del TiO_{2} a la banda de conducción del semiconductor.
Simultáneamente aparece un hueco positivo h+ en la banda de
valencia. El regreso del electrón excitado al hueco positivo h+
queda impedido si antes se forma una unión química de otro material
con la superficie activada del semiconductor. En el caso del óxido
de titanio anatase y de ciertos otros semiconductores, esto es
posible, por ejemplo en presencia de agua. El estado hidrófilo puede
permanecer incluso cuando la luz UV ya no influye sobre el material
modificable por vía fototérmica.
El material modificable por vía térmica y
fotocatalítica en el sentido de la invención debe tener una energía
de banda de valencia y una energía de banda de conducción que
medidas en los extremos más próximos de las mismas, sean adecuadas
para la oxidación y la reducción de agua. Para ello la energía de la
banda de conducción debe ser por lo menos suficientemente negativa
como la energía necesaria para reducir el agua (0,0 V en solución
ácida), y la energía de la banda de valencia debe ser lo
suficientemente positiva como la energía necesaria para la oxidación
del agua (+1,23 V). Una capa superior que forma la superficie y que
está constituida por lo menos en gran parte por material
modificable fototérmicamente, tiene un gap de energía entre bandas
que ventajosamente alcanza un valor de por lo menos 3,2 eV. Como gap
de energía entre bandas se entiende la energía necesaria para
excitar el paso de electrones de la banda de valencia hasta la banda
de conducción. Los huecos positivos resultantes en la banda de
valencia a causa de la excitación tienen, en este caso, un elevado
potencial ventajoso para formar junto con agua, radicales OH de
elevada reactividad. Particularmente preferidos son los materiales
ya mencionados TiO_{2} anatase y otros materiales con la
estructura electrónica adecuada para formar en la superficie del
material grupos hidroxilo de la forma descrita, mediante excitación
con luz UV. Ejemplos de estos materiales adecuados son óxido de
Zinc, ZrO_{2}, SrTiO_{3}, KTaO_{3} o
KTa_{0,77}Nb_{0,23}O_{3}, que de forma similar al TiO_{2}
forman el material modificable por vía térmica y fotocatalítica,
ellos solos o en una combinación de materiales de por lo menos dos
de los materiales mencionados, incluido el TiO_{2}. La plancha de
impresión 31 tiene en la zona de profundidad importante para la
hidrofilia por UV, preferentemente por lo menos 40% en peso del
material modificable por vía térmica y fotocatalítica, medido sobre
el peso total del material de la plancha de impresión que constituye
esta zona. En el caso de que el material modificable por vía térmica
y fotocatalítica esté formado por una combinación de materiales,
entonces la combinación de TiO_{2} y SiO_{2} es un material
particularmente preferido. En combinación con otro o con varios
otros de los materiales mencionados, SiO_{2} puede también formar
ventajosamente un material que contiene el material modificable por
vía térmica y fotocatalítica.
Es conocida la hidrofilia del óxido de titanio
anatase como efecto de una reacción fotocatalítica y se usa por
ejemplo en superficies autolimpiantes en edificios y en vídrios
antiempañado que se emplean por ejemplo en automóviles.
Otra propiedad ventajosa de las capas de óxido
de titanio consiste en el efecto de autolimpieza, pues las
partículas orgánicas de la superficie se destruyen
fotocatalíticamente con el tiempo. Esto también se aplica a los
otros materiales mencionados.
Puesto que en un ambiente normal de trabajo
existe un cierto nivel de luz ultravioleta, capaz de excitar una
superficie formada por un material modificable por vía térmica y
fotocatalítica, puede suponerse que una superficie de este tipo
normalmente es hidrófila. La plancha de impresión puede ser borrada
mediante luz natural o diurna. El borrado puede ser auxiliado
mediante una fuente de luz UV adicional. Una fuente de luz
ultravioleta utilizada sola o junto con luz diurna para el borrado,
debe tener un espectro con una componente de luz ultravioleta
suficiente en la longitud de onda de 387 nm y menor. Ventajosamente
el pico del espectro emitido se encuentra en una longitud de onda de
387 nm, correspondiente a un gap de energía entre bandas de 3,2 eV,
o en una longitud de onda menor. La distribución espectral de la
radiación se encuentra ventajosamente por debajo de 387 nm. En
particular, como fuente UV puede usarse un láser UV o un sistema
láser UV. Ventajosamente se evita la utilización de una óptica para
enfoque del o de los láseres.
La superficie hidrófila por UV se hace
localmente receptiva al color mediante la iluminación con luz láser
infrarroja (IR). En este proceso la plancha de impresión no se
calienta en conjunto. Se mantiene a la temperatura que normalmente
predomina en una máquina de impresión en el intervalo de 10 a
40ºC.
La Figura 1c representa la eliminación de la
hidrofilia de la superficie hidrófila por UV 130. Esto ocurre
mediante un calentamiento local que reproduce la imagen en la capa
superior 11. La iluminación o la formación de imagen tienen lugar
mediante la iluminación con luz láser. La longitud de onda de la luz
láser 18 puede estar en el intervalo visible o en el infrarrojo
próximo (NIR), es decir entre 400 y 3.000 nm. Ventajosamente para la
formación de la imagen se utiliza luz láser en el intervalo de 700
nm y 3.000 nm y preferentemente en el intervalo de 800 nm hasta
1.100 nm. Mediante la incidencia local de la luz láser 18 se forma
sobre la superficie 130 un área lipófila 131 correspondiente con los
puntos de incidencia del láser. La transmisión de calor a los átomos
o moléculas sobre los que se encuentran ligados los grupos OH tiene
como efecto la rotura de las uniones. A continuación se produce una
recombinación de electrones de la banda de conducción del material
modificable por vía térmica y fotocatalítica de la capa 11 con los
huecos positivos h+. De este modo se reduce la hidrofília y la
plancha de impresión 31 se convierte en lipófila en la zona
iluminada 130, mientras que en el área de superficie no iluminada
con la luz láser 18 se mantiene el estado hidrófilo. Durante la
formación de la imagen, los elementos de superficie locales que
corresponden a un punto de imagen de por ejemplo, 50 x 50
\mum^{2}, se calientan durante un tiempo entre 1 \mus y 100
\mus hasta una temperatura entre 400ºC y 600ºC, mientras que el
resto de zonas 130 de la capa 11 permanecen a la temperatura
ambiente. En el proceso de impresión, los puntos de imagen
lipófilos 131 transmiten el color.
La figura 1d representa el mojado con agua de la
capa 11 en las zonas no iluminadas 130 y en las zonas iluminadas
131. En el material iluminado y por este motivo calentado de la zona
131 el mojado con agua es pequeño. En la zona 131 el ángulo de
contacto formado entre la superficie de la zona 131 y las gotas de
agua 141 es grande, y la capa 11 es en estas zonas lipófila. Para
evitar que la luz UV del entorno pueda dar lugar a una nueva
excitación del material modificable por vía térmica y
fotocatalítica, entre el punto de inicio de la iluminación y el fin
del proceso de impresión, basta que la plancha de impresión se
encuentre en la sombra. Esta circunstancia es normal después de que
la plancha de impresión se haya montado en la máquina de
impresión.
Las figuras de 2a a 2d muestran ejemplos de
realización ventajosos de una plancha de impresión formada por
capas, que preferentemente está configurada como placa de impresión
y que se puede fijar en un cilindro o es ya un cilindro.
La plancha de impresión 31 de la figura 2a está
formada por dos capas con una capa soporte 21 y una única capa
superior 24 dispuesta sobre la capa soporte 21, sobre cuya
superficie libre se puede formar o ya se ha formado la imagen. La
capa 24 contiene un material modificable por vía térmica y
fotocatalítica 24a en una proporción suficiente para permitir la
formación de una imagen fina de forma similar a una disposición en
píxeles. Debe incluirse el caso, que sin embargo no se reivindica,
de que la capa 24 consiste únicamente en material modificable por
vía térmica y fotocatalítica.
La capa soporte 21 está formada, igual que en
los ejemplos de realización siguientes, por una plancha flexible de
acero o de aluminio que a continuación se designará simplemente como
soporte.
A partir de la estructura de bandas de
electrones de un material modificable por vía térmica y
fotocatalítica, que por iluminación UV forma una superficie
hidrófila, se puede deducir que estos materiales son transparentes
en el intervalo visible del espectro y en el infrarrojo próximo
(NIR). Así no tiene lugar ninguna interacción con la luz láser en el
intervalo visible del espectro o en el NIR o con luz de longitud de
onda todavía mayor. Sin embrago, para generar el calor necesario
para la formación de la imagen, en la capa superior de la plancha
de impresión pueden ponerse ventajosamente centros de absorción para
la luz láser en el espectro NIR o en todo el espectro IR. De este
modo se obtiene un calentamiento indirecto por conducción de calor
del material modificable por vía térmica y fotocatalítica de la capa
superior.
En el ejemplo de realización, la capa superior
24 es una dispersión del material modificable por vía térmica y
fotocatalítica 24a y de partículas de absorción que junto con el
material 24a están dispersas con una distribución uniforme. Las
partículas de absorción son nanopartículas de un material
semiconductor que absorbe radiación en el intervalo de longitudes de
onda del espectro IR, y la convierte en calor que cede al material
modificable por vía térmica y fotocatalítica del entorno. Las
partículas de absorción forman los centros de absorción 24b para la
iluminación de calentamiento. Los centros de absorción 24b pueden
también estar formados por partículas de varios materiales
semiconductores.
Con el fin de que no se difunda mucho calor en
la dirección lateral de la capa superior de la plancha de impresión
31, la capa inferior directamente adyacente a la capa superior puede
estar constituida de manera que absorba calor. Como material para
una capa inferior de este tipo, que también puede estar formado
directamente por un soporte de plancha de impresión como la capa
soporte 21, son adecuados aquellos materiales que permiten una
elevada conducción de calor y tienen alta capacidad térmica. Puesto
que para permitir el montaje de larga duración en la máquina de
impresión, un soporte de plancha de impresión debe tener una elevada
resistencia mecánica, un soporte de este tipo puede estar
constituido por acero o por aluminio.
Según sea la sensibilidad de la capa superior
puede ser ventajoso reducir la transmisión de calor al soporte para
así aumentar el efecto de formación de imagen del calor generado
localmente en la capa superior. Entre la capa superior y el soporte
puede preverse por ejemplo, una capa de aislamiento que disminuya la
conducción de calor al soporte. El material de la capa de
aislamiento debe tener genuinamente una conductividad térmica
baja.
La figura 2b muestra una realización en la que
se ha aplicado sobre el soporte una capa de absorción 23 y sobre
ésta la capa superior 24. En esta configuración de tres capas, la
iluminación para formar la imagen genera calor localmente en la capa
de absorción 23 reproduciendo la imagen. El calor generado en la
capa de absorción se transmite a través de la superficie de contacto
con la capa superior que contiene el material modificable por vía
térmica y fotocatalítica 24a y alcanza la superficie de la capa
superior 24. Como ya se ha descrito la transmisión de calor a los
átomos o moléculas de la superficie en los que se encuentran unidos
los grupos OH, produce la rotura de estas uniones por lo que tienen
lugar recombinaciones y la disminución de la hidrofilia. Es
ventajoso un espesor de la capa de absorción 23 entre 1 \mum y 5
\mum.
En el caso de la presencia de una capa de
absorción 23, la capa superior 24 tiene un espesor uniforme
ventajosamente entre 0,05 \mum y 5 \mum, preferentemente de
entre 0,05 \mum y 2 \mum. Sin capa de absorción 24 como por
ejemplo en el primer ejemplo de realización, la capa superior 24
tiene ventajosamente un espesor entre 1 \mum y 10 \mum.
La figura 2c muestra un tercer ejemplo de
realización preferido. En este caso inmediatamente sobre el soporte
21 se encuentra una capa intermedia de aislamiento térmico 22 sobre
la que se dispone la capa superior con el material modificable por
vía térmica y fotocatalítica. El espesor de la capa intermedia 22 es
ventajosamente entre 1 \mum y 30 \mum. En la capa superior 25,
igual que en el primer ejemplo de realización existen centros de
absorción 24b uniformemente distribuidos. La capa superior 24 tiene
ventajosamente un espesor entre 1 \mum y 30 \mum,
preferentemente un espesor entre 1 \mum y 10 \mum.
La figura 2d muestra un cuarto ejemplo de
realización. En este ejemplo, inmediatamente sobre el sustrato 21 se
encuentra una capa intermedia 22 de aislamiento térmico cuyo espesor
ventajosamente está entre 1 \mum y 30 \mum. Inmediatamente sobre
la capa intermedia se encuentra una capa de absorción 23 cuyo
espesor ventajosamente es de entre 1 \mum y 5 \mum. Sobre la
capa de absorción 23 está dispuesta la capa superior 24 que contiene
el material modificable por vía térmica y fotocatalítica 24a o que
está constituida exclusivamente por este material y ventajosamente
tiene un espesor entre 0,05 \mum y 5 \mum, preferentemente entre
0,05 \mum y 2 \mum.
Según las reivindicaciones, las capas superiores
24 de los ejemplos de realización de la figuras 2b y 2d tienen
centros de absorción en dispersión aunque gracias a la capa de
absorción 23 podría prescindirse de la incorporación de centros de
absorción, lo cual sin embargo no se reivindica. En el ejemplo de
realización de la figura 2d se ha configurado una capa superior 24
con centros de absorción en dispersión 24b.
Para la aplicación de la capa superior y de otra
u otras capas adicionales, son adecuados por ejemplo, los
procedimientos Sol-Gel y CVD (deposición química en
fase vapor). La capa o capas pueden ser aplicadas inmediatamente una
sobre la otra, es decir sin capa intermedia, como por ejemplo sería
una capa de adherencia.
La figura 3 muestra una unidad de impresión con
un cilindro portaplancha 32, un cilindro portamantilla 38
correspondiente y un cilindro de presión 39, que con el cilindro
portamantilla 38 forma una zona de impresión para una banda 37 a
imprimir. En el cilindro portaplanchas 32 se fijan dos planchas 31
de modo conocido. Cada una de estas planchas 31 está configurada
como una plancha de impresión según la invención, por ejemplo según
uno de los ejemplos de realización de las figuras de la 2a a la 2d.
Distribuidos en el entorno del cilindro portaplanchas 32, se
encuentran un dispositivo de imagen 33, dos dispositivos borradores
34, rodillos de color 35 y un rodillo humectador 36. Mediante el
rodillo humectador 36 se aplica de modo conocido un medio
humectante, preferentemente una película de agua, sobre las planchas
de impresión 31. Durante la impresión, mediante los rodillos de
color 35 se transmite de modo conocido sobre las planchas de
impresión 31, un color según la imagen que a su vez es transmitido
al cilindro portamantilla 38 y de éste a la banda 37. El cilindro de
presión 39 puede ser un cilindro portamantilla de una segunda
unidad de impresión con el fin de imprimir por dos caras, un
cilindro de acero para la impresión por solo una cara o un cilindro
de acero de una unidad de impresión satélite, por ejemplo una unidad
de impresión 9 ó 10.
El dispositivo de imagen 33 está dispuesto
dirigido hacia la superficie de imagen de la plancha de impresión 31
y paralelo al eje de rotación del cilindro portaplanchas. La unidad
de imagen 33 tiene una pluralidad de emisores láser dispuestos uno
junto a otro a lo largo del eje de rotación del cilindro de
impresión 32. Las luces de estos emisores láser están enfocadas
sobre la plancha de impresión 31. Los emisores láser del dispositivo
de imagen son ventajosamente una o varias alineaciones de emisores
láser. Un dispositivo de imagen preferido está descrito en el
documento DE 199 11 907.
Los dos dispositivos de borrado 34 tienen
respectivamente un emisor de luz diurna y/o por lo menos un emisor
de luz UV. Los dispositivos de borrado 34 están dispuestos alrededor
del cilindro portaplanchas 32 distanciados entre sí y paralelos al
eje de rotación del cilindro portaplanchas 32. Básicamente bastaría
con una única unidad 34 para borrar la imagen de la superficie de
las planchas de impresión 31 en las que el material modificable por
vía térmica y fotocatalítica vuelve al estado normal hidrófilo,
desde el de formación de imagen, mediante la iluminación con luz del
espectro UV.
Durante la formación de imagen, los dispositivos
de borrado 34 están desconectados. Ventajosamente, para permitir el
giro del cilindro portaplanchas 32 sin perturbaciones, durante la
formación de imagen ningún rodillo o cilindro está en contacto con
el cilindro portaplanchas 32, en particular con las planchas 31. Una
vez terminada la impresión se conectan los dispositivos de borrado
34. Durante el borrado las superficies de las planchas de impresión
31 se mojan con agua para que las zonas iluminadas con luz UV y que
anteriormente eran lipófilas se conviertan permanentemente en
hidrófilas mediante la formación de uniones con grupos OH. Para ello
puede utilizarse el dispositivo humidificador de la máquina de
impresión o un generador de vapor.
En otro desarrollo adicional, la unidad de
impresión que comprende el cilindro portaplanchas 32 y el cilindro
portamantilla 38 se aisla del entorno y se climatiza con el fin de
poder ajustar dentro del recinto cerrado 40 la humedad y la
temperatura adecuadas a cada etapa de funcionamiento. Así, durante
el borrado, debe haber dentro del recinto cerrado 40 una elevada
humedad de por lo menos el 60%, preferentemente por lo menos 80%,
mientras que durante la formación de la imagen y la impresión la
humedad debe ser significativamente menor. Ventajosamente el recinto
cerrado 40 comprende también el cilindro de presión 39 como en el
ejemplo de realización. En el caso de que la máquina de impresión
comprenda más cilindros, ventajosamente también los cilindros
adicionales de la máquina de impresión están incluidos dentro del
recinto cerrado 40. Cuando las unidades de impresión de la máquina
son unidades goma/goma, entonces el recinto cerrado 40 comprende
ventajosamente los dos cilindros portamantilla de goma 40
dispuestos uno contra el otro, así como los correspondientes
cilindros portaplanchas. En el caso de unidades de impresión
configuradas de este modo, se pueden disponer recintos cerrados 40
para los consabidos puentes en "H" o en "N", es decir para
los respectivos cilindros portamantilla y portaplancha. En unidades
de impresión satélites con nueve o diez unidades de cilindros,
ventajosamente estas unidades están incluidas dentro de recintos
cerrados 40 propios.
Si bien ya es ventajoso disponer de una serie de
unidades humidificadoras para ajustar una elevada humedad dentro del
recinto cerrado 40 para la iluminación UV y mantenerla durante la
misma, se prefiere una climatización con el ajuste y el
mantenimiento simultáneo de una temperatura predeterminada dentro
del recinto cerrado 40. El acondicionador de aire para el ajuste y
mantenimiento de una humedad predeterminada F_{consigna} y de una
temperatura predeterminada T_{consigna} comprende en el recinto
cerrado y en el dispositivo para la introducción de humedad en el
ejemplo de realización, un rodillo de transferencia de humedad 36,
un regulador de temperatura y de humedad 43 y por lo menos un sensor
de humedad 41 dispuesto dentro del recinto cerrado 40 así como por
lo menos un sensor de temperatura 42 dispuesto dentro del recinto
cerrado 40. Los sensores 41 y 42 captan la humedad y la temperatura
dentro del recinto cerrado 40 y proporcionan al regulador 43 tanto
la humedad como la temperatura como mediciones para regulación
F_{medida} y T_{medida}. El regulador calcula la diferencia
entre los valores medidos y los valores predeterminados de la
humedad y de la temperatura F_{consigna} - F_{medida} y
T_{consigna} - T_{medida} y en función de la diferencia en
humedad y de la diferencia en la temperatura genera la señal de
ajuste de humedad F y la señal de ajuste de temperatura T para los
dispositivos que actúan dentro del recinto cerrado 40 para la
introducción de agua y para la modificación de la temperatura.
La formación de imagen y el borrado en la
máquina de impresión se configura ventajosamente fijada o integrada
en el cilindro portaplancha, especialmente en la formación de imagen
y el borrado del cilindro portaplanchas, también durante el proceso
de impresión. Sin embargo también es posible la formación de imagen
y el borrado fuera de la máquina de impresión. Tampoco puede
excluirse la realización de un proceso en la máquina de impresión y
del otro fuera de la máquina de impresión.
Claims (30)
1. Plancha de impresión de offset húmedo con una
capa superior (24), para una máquina de impresión rotativa, que
contiene un material modificable por vía térmica y fotocatalítica y
que constituye una superficie sobre la que se puede formar o se ha
formado una imagen (130, 131),
pudiéndose cambiar el material por vía
fotocatalítica mediante irradiación con luz, a un estado hidrófilo y
mediante calentamiento a un estado lipófilo y
caracterizado porque
la capa superior (24) tiene centros de absorción
(24b) de la luz con los que se produce un calentamiento de la capa
superior (24) que reproduce la imagen, interaccionando el material
fotocatalítico con la luz y estando constituidos los centros de
absorción por partículas de un material semiconductor que están
dispersas en el material modificable por vía térmica y
fotocatalítica.
2. Plancha de impresión de offset húmedo según
la reivindicación 1, caracterizada porque los centros de
absorción (24b) son nanopartículas.
3. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque
el material semiconductor es un material con una energía de la banda
de conducción medida en el borde inferior de la banda de conducción
que es por lo menos suficientemente negativa como la energía
necesaria para reducir el agua a gas hidrógeno, y una energía de la
banda de valencia medida en el borde superior de la banda de
valencia que es por lo menos tan positiva como la energía necesaria
para la oxidación del agua a gas hidrógeno.
4. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque
el material (24a) modificable por vía térmica y fotocatalítica de la
capa superior (24) es TiO_{2} anatase u óxido de zinc o ZrO_{2}
o SrTiO_{3} o KTaO_{3} o KTa_{0,77}Nb_{0,23}O_{3} o una
combinación de por lo menos dos de estos materiales.
5. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque
un material que constituye la superficie (130, 131) contiene el
material modificable por vía térmica y fotocatalítica (24a) con una
proporción de por lo menos 40% en peso.
6. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque
debajo de la capa superior (24) se dispone una capa de absorción
(23) para irradiación con una longitud de onda de 400 nm o mayor y
que está unida con la capa superior (24) de forma que existe
conducción de calor.
7. Plancha de impresión de offset húmedo según
la reivindicación 1, caracterizada porque la capa de
absorción (23) limita directamente con la capa superior (24) para un
contacto térmico directo.
8. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque
la capa de aislamiento térmico (22) está formada debajo de la capa
superior (24), preferiblemente debajo de una capa de absorción (23)
dispuesta debajo de la capa superior (24).
9. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque
la plancha de impresión (31) tiene un soporte (21) para la capa
superior (24), que preferentemente es de acero o de aluminio.
10. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque
entre un soporte de impresión (21) y la capa superior (24) está
prevista una capa que actúa como barrera de difusión, que puede
estar formada por una capa de aislamiento térmico (22), impidiendo
esta capa la difusión de átomos del soporte (21) hacia la capa
superior (24).
11. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones anteriores, caracterizada porque
una barrera de difusión está formada por una capa (22) dispuesta
entre la capa superior (24) y un soporte (21) de la plancha de
impresión (31).
12. Plancha de impresión de offset húmedo según
una de las reivindicaciones de la 1 a la 11, en la que debajo de la
capa superior (24) está prevista una capa de absorción de la
radiación, mediante la cual se efectúa el calentamiento de la capa
superior (24).
13. Procedimiento para la formación de imagen en
una plancha de impresión de offset húmedo (31) que tiene, sobre una
superficie (130) en la que se puede formar una imagen, un material
modificable por vía térmica y fotocatalítica, que puede ser llevado
a un estado hidrófilo por vía fotocatalítica mediante iluminación
con luz, y a un estado lipófilo mediante calentamiento, en el
que
\newpage
sobre la plancha de impresión (31) se forma una
imagen mediante un calentamiento del material modificable por vía
térmica y fotocatalítica, que reproduce la imagen,
caracterizado porque
se utiliza una plancha de impresión (31) según
una de las reivindicaciones de la 1 a la 12.
14. Procedimiento según la reivindicación 13,
caracterizado porque sobre la plancha de impresión (31) se
forma la imagen mediante radiación láser, preferentemente radiación
láser IR.
15. Procedimiento según la reivindicación 14,
caracterizado porque se utiliza luz láser con una longitud de
onda entre 400 y 3000 nm.
16. Procedimiento según la reivindicación 15,
caracterizado porque se utiliza luz láser con una longitud de
onda de por lo menos 700 nm, preferentemente por lo menos 800
nm.
17. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 13 a 16, caracterizado porque la plancha de
impresión (31) se ilumina con luz diurna y/o con luz UV para el
borrado de una imagen de impresión generada por un calentamiento que
reproduce la imagen.
18. Procedimiento para el borrado o la formación
de imagen de impresión en una plancha de impresión en offset húmedo
que tiene en una superficie sobre la que se puede formar una imagen
(130, 131) un material (24a) modificable por vía térmica y
fotocatalítica, que puede cambiarse por vía fotocatalítica mediante
iluminación con luz, a un estado hidrófilo y mediante calentamiento
a un estado lipófilo, en el que
a) la imagen de impresión se borra o se genera
por una iluminación de la superficie (130, 131) con radiación
UV,
b) y durante la radiación se lleva agua a la
superficie (130, 131),
caracterizado porque
se utiliza una plancha de impresión según una de
las reivindicaciones 1 a 11.
19. Procedimiento según la reivindicación 18,
caracterizado porque sobre la superficie (130, 131) se genera
una humedad de por lo menos 60%, preferentemente de por lo menos
80%, y se mantiene de preferencia durante la exposición UV.
20. Procedimiento según la reivindicación 19,
caracterizado porque durante la irradiación UV, se ajusta y
mantiene una temperatura predeterminada
21. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 17 a 20, caracterizado porque la superficie
con la imagen latente (130, 131) de la plancha de impresión (31) se
ilumina en toda su superficie para el borrado.
22. Dispositivo que comprende una plancha de
impresión en offset húmedo según una de las reivindicaciones 1 a 11
para la formación de imagen repetida en la plancha de impresión,
comprendiendo el dispositivo:
un dispositivo de imagen (33) para generar una
imagen de impresión mediante un calentamiento que reproduce la
imagen del material modificable por vía térmica y fotocatalítica
(24a) y
un dispositivo de borrado (34) para el borrado
de la imagen de impresión generada, teniendo el dispositivo de
borrado (34) una o más fuentes de luz diurna y/o luz UV,
comprendiendo el dispositivo una instalación humidificadora (40, 41,
43) mediante la cual se genera y se mantiene sobre la plancha de
impresión en offset húmedo (31) una humedad predeterminada.
23. Dispositivo según la reivindicación 22,
caracterizado porque la instalación de humidificación (40,
41, 43) tiene un recinto cerrado (40) para la plancha de impresión
en offset húmedo y preferentemente para varios cilindros (32, 38,
39) de una unidad de impresión, con el fin de generar y mantener
dentro del recinto cerrado (40) una humedad predeterminada.
24. Dispositivo según la reivindicación 23,
caracterizado porque la instalación de humidificación (40,
41, 43) comprende por lo menos un sensor de humedad (41) dispuesto
dentro del recinto cerrado (40) y un regulador (43) que recibe la
humedad captada por el sensor de humedad como variable de
control.
25. Dispositivo según una de las
reivindicaciones 22 a 24, caracterizado porque el dispositivo
de borrado (34) tiene uno o más emisores de luz para la irradiación
completa de la superficie (130, 131).
26. Dispositivo según una de las
reivindicaciones 22 a 25, caracterizado porque el emisor o
los emisores de luz del dispositivo de borrado (34) emiten una
elevada porción de radiación con una longitud de onda de máximo 387
nm, teniendo uno de los espectros de longitudes de onda del emisor,
un pico en una longitud de onda preferentemente de 387 nm o
menor.
27. Dispositivo según una de las
reivindicaciones 22 a 26, caracterizado porque la plancha de
impresión (31) está dispuesta en un cilindro portaplanchas (32) en
una máquina de offset húmedo, en particular en una máquina rotativa,
de forma desmontable o no desmontable, y el dispositivo de borrado
(34) está dirigido hacia el cilindro portaplanchas (32) y se
extiende preferentemente en toda la longitud de la plancha de
impresión (31) sobre una paralela al eje de rotación del cilindro
portaplanchas (32), de modo que se puede realizar una iluminación
uniforme en toda la superficie de la plancha de impresión (31).
28. Dispositivo según una de las
reivindicaciones 22 a 27, caracterizado porque el dispositivo
de imagen (33) comprende varios emisores de luz para la irradiación
de la plancha de impresión (32) que reproduce la imagen.
29. Dispositivo según una de las
reivindicaciones 22 a 28, caracterizado porque los emisores
de radiación del dispositivo de imagen (33) son láseres IR,
preferentemente láseres NIR.
30. Dispositivo según una de las
reivindicaciones 22 a 29, caracterizado porque la plancha de
impresión (31) está dispuesta sobre un cilindro portaplanchas en una
máquina de impresión en offset húmedo de modo desmontable o no
desmontable, y los emisores de radiación del dispositivo de imagen
(33) están dirigidos hacia el cilindro portaplanchas (32) y
preferentemente están dispuestos uno junto a otro paralelos al eje
de rotación del cilindro portaplanchas (32).
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