JP2003010636A - ハロゲンガスの除去方法 - Google Patents

ハロゲンガスの除去方法

Info

Publication number
JP2003010636A
JP2003010636A JP2001202977A JP2001202977A JP2003010636A JP 2003010636 A JP2003010636 A JP 2003010636A JP 2001202977 A JP2001202977 A JP 2001202977A JP 2001202977 A JP2001202977 A JP 2001202977A JP 2003010636 A JP2003010636 A JP 2003010636A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
halogen gas
hydrogen carbonate
halogen
hydrogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001202977A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4711550B2 (ja
Inventor
Yoichi Mori
要一 森
Hachiro Hirano
八朗 平野
Yoshikatsu Kawabe
義勝 川辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanwa Chemical Co Ltd
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Sanwa Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd, Sanwa Chemical Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2001202977A priority Critical patent/JP4711550B2/ja
Priority to DE60117909T priority patent/DE60117909T2/de
Priority to EP01126470A priority patent/EP1205230B1/en
Priority to ES01126470T priority patent/ES2260144T3/es
Priority to AT01126470T priority patent/ATE320300T1/de
Priority to US09/986,587 priority patent/US6685901B2/en
Publication of JP2003010636A publication Critical patent/JP2003010636A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4711550B2 publication Critical patent/JP4711550B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】活性炭系吸着剤を用いることによる発火、臭
気、固形廃棄物発生等の難点を回避又は低減し、かつ、
Cl等のハロゲンガスの分解除去処理能力が高い、ハ
ロゲンガスの除去方法の提供。 【解決手段】塩素ガス、臭素ガス及びヨウ素ガスからな
る群より選ばれる一種以上のハロゲンガスを含有するガ
スを炭酸水素塩の粉体又は粒体に接触させて前記ハロゲ
ンガスを除去する方法において、塩化水素、フッ化水
素、臭化水素及びヨウ化水素からなる群より選ばれる一
種以上の酸性ガスを、前記ハロゲンガスに対して1〜1
00体積%添加する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、塩素ガス、臭素ガ
ス及びヨウ素ガスからなる群より選ばれる一種以上のハ
ロゲンガス(以下、本ハロゲンガスという)を含有する
ガスから本ハロゲンガスを除去する方法に関し、例え
ば、本ハロゲンガスを含有するドライエッチング排ガス
等から本ハロゲンガスを除去する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、本ハロゲンガス又は本ハロゲ
ンガスとハロゲン化合物とを含有するドライエッチング
排ガスやCVD(化学気相蒸着法)チャンバ排ガス等の
処理方法として、設備の小型化及び操作の簡便化のた
め、活性炭等の吸着剤を使用した乾式による処理方法等
が採用されている。しかし、活性炭等の吸着剤の吸着容
量が小さいため長時間にわたる処理ができないこと、ガ
ス吸着時の吸着熱による発火のおそれがあること、使用
済み吸着剤が臭気を有し、かつ、固形廃棄物として別途
処理を要すること等の問題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
に鑑み、吸着剤を使用することを要せず、したがって、
吸着剤の発火の問題、使用済み吸着剤の臭気や固形廃棄
物処理の問題がなく、かつ、本ハロゲンガスの処理能力
が高い、本ハロゲンガスの除去方法を提供することを目
的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、塩素ガス、臭
素ガス及びヨウ素ガスからなる群より選ばれる一種以上
のハロゲンガスを含有するガスを炭酸水素塩の粉体又は
粒体に接触させて前記ハロゲンガスを除去する方法にお
いて、塩化水素、フッ化水素、臭化水素及びヨウ化水素
からなる群より選ばれる一種以上の酸性ガスを、前記ハ
ロゲンガスに対して1〜100体積%添加することを特
徴とするハロゲンガスの除去方法を提供する。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明において、炭酸水素塩とし
ては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が使用
できる。特に、大量かつ安価に入手できることから工業
的に適していることや、吸湿性が少なく、造粒物の製造
や保存にあたって使用しやすいことから、炭酸水素ナト
リウムが好ましい。一方、除去処理後の排ガス等へのナ
トリウムの混入を防ぎたい場合は炭酸水素カリウムが好
ましい。
【0006】本発明では、本ハロゲンガス含有ガスに、
特定酸性ガスを添加して炭酸水素塩の粉体又は粒体に接
触させることにより、炭酸水素塩の反応性を向上させる
ことができ、効果をより長く持続できる。
【0007】特定酸性ガスの添加量としては、本ハロゲ
ンガスの全量に対して、同圧力、同温度で1〜100体
積%である。添加量が1体積%未満であると、特定酸性
ガス添加の効果が充分に得られない。添加量が100体
積%超であると、炭酸水素塩の反応性のさらなる向上が
認められず、不必要に特定酸性ガスを使用することにな
る他、炭酸水素塩が特定酸性ガスとの反応によって消費
され、本ハロゲンガスの除去容量が低下する。より好ま
しい添加量は1〜80体積%である。
【0008】なお、本ハロゲンガス含有ガスに特定酸性
ガスを添加して炭酸水素塩の粉体又は粒体と接触させる
方法としては、本ハロゲンガス含有ガスにあらかじめ特
定酸性ガスを添加し、混合した後に炭酸水素塩に接触さ
せてもよく、炭酸水素塩に本ハロゲンガス含有ガスを接
触させる際に同時に特定酸性ガスを炭酸水素塩に接触さ
せてもよい。また、本ハロゲンガスや特定酸性ガスの沸
点が高い場合には、接触時の温度を高めたり、他のガス
で希釈したりして、気体状態で炭酸水素塩に接触させる
のがよい。
【0009】接触させるべき炭酸水素塩の形態は粉体で
もよいが、粒体が好ましく、造粒物が特に好ましい。造
粒物は、炭酸水素塩を70%(特記しない限り質量基準
である)以上含有することが好ましい。造粒物中におい
て、炭酸水素塩が70%未満であると、本ハロゲンガス
除去剤としてのガス処理容量が低下し、除去剤充填層の
入れ替え頻度が高くなるので好ましくない。造粒物中の
炭酸水素塩の含有量は、80%以上であることが特に好
ましい。なお、造粒物中において、他に含まれる材料と
しては、炭酸水素塩以外の吸着剤、バインダー等が挙げ
られる。
【0010】炭酸水素塩の粉末を造粒物にする際、炭酸
水素塩の粉末は、一次粒子の平均粒子径が10〜500
μmであることが好ましい。一次粒子の平均粒子径が1
0μm未満であると、流動性が不充分で、ハンドリング
等が難しくなるので好ましくない。また、平均粒子径が
500μm超であると、技術的に造粒物の製造が困難で
あり、コスト的に高くなるので好ましくない。なお、一
次粒子とは炭酸水素塩の単結晶であり、平均粒子径とは
重量基準による平均粒子径である。
【0011】炭酸水素塩の粉末の造粒物の平均粒子径は
0.5〜20mmであることが好ましい。造粒物の平均
粒子径が0.5〜20mmであることにより、ハロゲン
ガス処理用に、従来から使用されている充填塔等を使用
できる。造粒物の平均粒子径が0.5mm未満である
と、本ハロゲンガス含有ガスが充填層等を通過する際の
圧力損失が高くなり、平均粒子径が20mmを超える
と、本ハロゲン含有ガスと造粒物との接触面積が低下
し、本ハロゲンガスの除去性能を低下させる。造粒物の
平均粒子径としては、特に0.5〜10mmが好まし
い。
【0012】造粒物の平均粒子径は、以下の方法により
測定することが好ましい。造粒物の粒子径に対応した範
囲の目開きの篩を重ねあわせ、最下部に底皿を設置し、
上から造粒物を注ぎ、振とう機で振とうさせた後、各篩
上残渣の質量を測定し、各目開き値に対する篩上残渣質
量の累計を折れ線グラフに表し、篩上残渣質量の累計が
50%のときの粒子径を平均粒子径とする。上下の篩の
目開きの差は、造粒物の粒子径にもよるが、0.5mm
のピッチを使用することが好ましい。
【0013】造粒物は、圧縮成形法、転動式造粒法、撹
拌式造粒法等の様々な方法により得ことができる。ここ
で、圧縮成形法は、工程が簡略なため工業的に簡便であ
り、バインダーを使用しなくても造粒物を得ることがで
きること、また、硬度が高く壊れにくく、ガス処理容量
の大きな造粒物を得ることができることから特に好まし
い。
【0014】所望粒子径の造粒物を得る方法として、例
えば、圧縮成形機を使用し、乾式で成形した後、粗粉砕
し、篩分ける方法が挙げられる。また、水溶性のバイン
ダーを使用して湿式の圧縮成形機で成形し、その後乾燥
させる方法も挙げられる。
【0015】炭酸水素塩の粉末の造粒物は、本ハロゲン
ガスを処理するために、充填層に充填されて使用される
場合、強度が低いと、粉化して充填層を通過する際の圧
力損失が上昇することがある。このため造粒物の強度は
高くすることが好ましい。
【0016】造粒物の強度は、硬度で評価できる。ここ
で、硬度とは、造粒物粒子の1個を上方より垂直に荷重
をかけて圧縮して破壊するに必要な力のことである。
【0017】造粒物の硬度は、平均粒子径に応じて造粒
物粒子を分級し、粒子径を揃えた粒子群について評価す
ることが好ましい。例えば、平均粒子径1.5mm以上
2.0mm未満の造粒物については、目開き1.5mm
の篩と目開き2.0mmの篩を使用して篩分け、1.5
mm篩上かつ2.0mm篩下の粒子を20個採取し、各
粒子の硬度を測定してその平均値を粒子強度の評価基準
として採用する。
【0018】本発明における造粒物の硬度としては、平
均粒子径0.5mm以上1.0mm未満の造粒物の場合
は粒子径0.5mm以上1.0mm未満の造粒物の平均
硬度が1N以上であること、平均粒子径1.0mm以上
1.5mm未満の造粒物の場合は粒子径1.0mm以上
1.5mm未満の造粒物の平均硬度が4N以上であるこ
と、平均粒子径1.5mm以上2.0mm未満の造粒物
の場合は粒子径1.5mm以上2.0mm未満の造粒物
の平均硬度が10N以上であること、平均粒子径2.0
mm以上20mm未満の造粒物の場合は粒子径2.0m
m以上20mm未満の造粒物の平均硬度が30N以上で
あること、が好ましい。
【0019】本発明では、本ハロゲンガスを除去する。
例えば、本ハロゲンガスを含有するドライエッチング排
ガス等を処理して、該排ガス中の本ハロゲンガスを除去
する。その他にも、例えば、BCl、CCl、Si
Cl、COCl、SiF 、COF、NF、W
及びClF等のハロゲン化合物又はFを含んで
もよい。
【0020】本発明における被処理ガスの温度が0℃〜
100℃であると、効率的に除去処理できるので好まし
い。被処理ガスの温度が0℃未満であると、反応速度が
低下するので好ましくない。また、被処理ガスの温度が
100℃以下であれば、充填塔等の設備を高価な耐熱材
料又は構造とする必要がなく、操作及び設備等を簡略化
できるので好ましい。被処理ガスの温度は0℃〜80℃
が特に好ましい。
【0021】本発明において、炭酸水素塩は、本ハロゲ
ンガスと反応し、さらには、ハロゲン化合物とも反応し
て、水溶性の塩を生成する。炭酸水素塩自身も水溶性で
あるために、排ガス中の本ハロゲンガスの除去に使用し
た後、水に溶解でき、固形廃棄物が実質的に発生しな
い。また、後述のように、例えば、炭酸水素塩と活性炭
を併用した場合、固形廃棄物を減少できる。
【0022】炭酸水素塩は、活性炭吸着の場合のように
本ハロゲンガス、さらには、ハロゲン化合物が脱離して
臭気を発生することがないため、充填層等の入れ替え作
業が容易にできる。また、炭酸水素塩自身に消火性があ
るため発火の危険性がない。
【0023】本発明においては、本ハロゲンガスに特定
酸性ガスを添加することにより炭酸水素塩と本ハロゲン
ガスとの反応性が向上し、同量の炭酸水素塩を使用した
場合においてもより多量の本ハロゲンガスを除去でき
る。この機構については、明らかではないが、添加され
た特定酸性ガスが、Cl、Br又はIと炭酸水素
塩が反応した際に生成する次亜ハロゲン酸塩の分解を促
進するためと推定される。通常、Cl、Br又はI
と炭酸水素塩が反応したとき、式1に従い、次亜ハロ
ゲン酸塩が生成する。生成した次亜ハロゲン酸塩は、式
2に従い、分解してハロゲン化ナトリウムと酸素に分解
することが知られている。しかし、この次亜ハロゲン酸
塩が分解せずに残留している場合は炭酸水素塩とC
、Br又はIとの反応が進みにくくなるものと
考えられる。
【0024】本発明では、特定酸性ガスを添加すること
により、特定酸性ガス(例えば、HX)が式3にしたが
い、この次亜ハロゲン酸塩をハロゲン化物と次亜ハロゲ
ン酸に分解し、本ハロゲンガスの除去効率が向上するも
のと考えられる。なお、次亜ハロゲン酸は速やかに式4
にしたがい、分解してハロゲン化水素と酸素になること
が知られている。 NaHCO+X→NaXO+CO+HX・・・式1。 (X=Cl、Br又はI) NaXO→NaX+1/2O・・・式2。 NaXO+HX→NaX+HXO・・・式3。 HXO→HX+1/2O・・・式4。
【0025】本発明において、炭酸水素塩の造粒物を活
性炭とともに充填塔等の容器に充填して特定酸性ガスを
添加された本ハロゲンガス含有ガスと接触させて、本ハ
ロゲンガスを除去するのも好ましい。この方法により、
活性炭を単独使用した場合と比較して、本ハロゲンガス
の除去量を増加できるのみでなく、活性炭からの臭気の
発生も低減できる。具体的には、炭酸水素塩の造粒物と
活性炭を層状に充填塔等の容器に配置する等して使用す
る方法が挙げられる。
【0026】
【実施例】以下の各例において、硬度は、藤原製作所製
の木屋式デジタル硬度計KHT−20型を使用して測定
した。また、硬度は粒子の大きさにより異なるため篩分
けして粒子径を揃えたものについて測定した。
【0027】平均粒子径は、以下の方法により測定し
た。標準篩(内径:200mm、金網:ステンレス鋼
製)でそれぞれ目開き3.35mm、2.80mm、
2.36mm、2.00mm、1.70mm、1.00
mmのものを重ねあわせ、最下部に底皿を設置した上
に、炭酸水素塩粉末の造粒物100gを注ぎ、飯田製作
所製ロータップシェーカー式振とう機(周波数60H
z、290回転/分、打数165回/分)で10分間振
とうさせた後、それぞれの標準篩上残渣の質量を測定
し、各目開き値に対する篩上残渣質量の累計を折れ線グ
ラフに表し、篩上残渣質量の累計が50%のときの粒子
径を平均粒子径とした。
【0028】[例1]一次粒子の平均粒子径が91μm
の食品添加物用炭酸水素ナトリウムの粉末(旭硝子社
製)300kgをロールプレス式圧縮成形機(ターボ工
業社製、商品名:ローラーコンパクターWP型、ロール
外径230mm、ロール長80mm)を使用して線圧3
6.8kN/cmで圧縮成形し、フレーク状の炭酸水素
ナトリウムの粉末の成形体を得た。得られたフレーク状
の成形体をフレークブレーカーで粗砕し、ロータリー式
整粒機のメッシュ目開きを4.75mmに設定して全通
させた後、回転篩機(ターボ工業社製、商品名:ターボ
スクリーナーTS型)を使用して、粒子径4.0mm以
上の粒子と粒子径1.0mm以下の粒子を除去し、平均
粒子径が2.3mmの炭酸水素ナトリウムの粉末の造粒
物を得た。この造粒物はバインダーを含まず、炭酸水素
ナトリウム含有量は実質的に100%であった。
【0029】また、前述の硬度測定法によって、造粒物
の粒子強度を測定した。すなわち得られた平均粒子径
2.3mmの造粒物を1.0mm、1.5mm、2.0
mm、2.5mmの目開きの篩で篩分け、各粒度の硬度
を20個測定し平均値を求めたところ、1.0〜1.5
mmの間の粒子の平均硬度が12N、1.5〜2.0m
mの間の粒子の平均硬度が23N、2.0〜2.5mm
間の粒子の平均硬度が63Nであった。
【0030】次に、底面が通気性焼結板で内径300m
m、長さ1300mmのフッ素樹脂ライニング付きステ
ンレス鋼製の充填容器に、充填物として、前記造粒物を
30kg充填した。組成比がCl:80体積%、アル
ゴン:20体積%の混合ガスを流量200cm/分、
温度25℃、常圧下で、上記充填容器の底部から注入
し、さらに、100体積%のHClガスを40cm
分で上記充填容器の底部から同時に注入した。充填容器
の上部から流出したガスを分析したところ、Cl 濃度
は0.1体積ppm以下であった。
【0031】処理開始から364時間経過後に流出ガス
中のCl濃度が0.1体積ppmを超えて上昇し始め
た。この時点で充填物を取り出したところ、造粒物粒子
の粉化や臭気の発生はなかった。また、この充填物を水
中に投じたところすべて溶解し、固形廃棄物の発生はな
かった。
【0032】[例2(比較例)]HClガスを注入しな
かった以外は、例1と同様にして試験した。例1と同様
にして流出ガスを分析したところ、Cl濃度は0.1
体積ppm以下であった。
【0033】処理開始から266時間経過後に流出ガス
中のCl濃度が0.1体積ppmを超えて上昇し始め
た。この時点で充填物を取り出したところ、造粒物粒子
の粉化や臭気の発生はなかった。また、この充填物を水
中に投じたところすべて溶解し、固形廃棄物の発生はな
かった。
【0034】[例3(比較例)]炭酸水素ナトリウム粉
末の造粒物30kgのかわりに活性炭30kgを使用し
た以外は、例1と同様にして試験した。例1と同様にし
て流出ガスを分析したところ、Cl濃度は0.1体積
ppm以下であった。
【0035】処理開始から207時間経過後に流出ガス
中のCl濃度が0.1体積ppmを超えて上昇し始め
た。この時点で充填物を取り出したところ、活性炭の粉
化はなかったが、臭気の発生があった。
【0036】
【発明の効果】本発明により、本ハロゲンガスを除去す
るに際して、除去能力がより高く、効率のよいハロゲン
ガスの除去方法が得られる。また、本発明の方法は、従
来の活性炭を使用する充填塔等にそのまま適用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/302 N (72)発明者 平野 八朗 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 旭 硝子株式会社内 (72)発明者 川辺 義勝 愛知県海部郡佐織町大字町方新田字五軒家 東24番地の2 サンワケミカル株式会社内 Fターム(参考) 4D002 AA17 AA18 AC10 BA03 CA07 DA02 DA16 EA01 GA01 GB12 4G066 AA43B BA09 BA20 BA35 CA31 CA32 DA02 FA26 FA28 FA37 5F004 AA16 BC02 CA09 DA20

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】塩素ガス、臭素ガス及びヨウ素ガスからな
    る群より選ばれる一種以上のハロゲンガスを含有するガ
    スを炭酸水素塩の粉体又は粒体に接触させて前記ハロゲ
    ンガスを除去する方法において、塩化水素、フッ化水
    素、臭化水素及びヨウ化水素からなる群より選ばれる一
    種以上の酸性ガスを、前記ハロゲンガスに対して1〜1
    00体積%添加することを特徴とするハロゲンガスの除
    去方法。
  2. 【請求項2】前記炭酸水素塩の粉体又は粒体、平均粒子
    径10〜500μmの炭酸水素塩一次粒子の造粒物であ
    って、造粒物の平均粒子径が0.5〜20mmの造粒物
    である請求項1に記載のハロゲンガスの除去方法。
  3. 【請求項3】前記造粒物が炭酸水素塩を70%以上含有
    する請求項2に記載のハロゲンガスの除去方法。
  4. 【請求項4】前記炭酸水素塩が炭酸水素ナトリウムであ
    る請求項1、2又は3に記載のハロゲンガスの除去方
    法。
JP2001202977A 2000-11-10 2001-07-04 ハロゲンガスの除去方法 Expired - Fee Related JP4711550B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001202977A JP4711550B2 (ja) 2001-07-04 2001-07-04 ハロゲンガスの除去方法
DE60117909T DE60117909T2 (de) 2000-11-10 2001-11-09 Verfahren zum Entfernen eines Gases der Halogen(verbindungs)gruppe
EP01126470A EP1205230B1 (en) 2000-11-10 2001-11-09 Method for removing a halogen-containing gas
ES01126470T ES2260144T3 (es) 2000-11-10 2001-11-09 Metodo para eliminar un gas de la serie de los halogenos.
AT01126470T ATE320300T1 (de) 2000-11-10 2001-11-09 Verfahren zum entfernen von einem halogen- enthaltendem gas
US09/986,587 US6685901B2 (en) 2000-11-10 2001-11-09 Method for removing a halogen series gas

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001202977A JP4711550B2 (ja) 2001-07-04 2001-07-04 ハロゲンガスの除去方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003010636A true JP2003010636A (ja) 2003-01-14
JP4711550B2 JP4711550B2 (ja) 2011-06-29

Family

ID=19039687

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001202977A Expired - Fee Related JP4711550B2 (ja) 2000-11-10 2001-07-04 ハロゲンガスの除去方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4711550B2 (ja)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5867323A (ja) * 1981-09-23 1983-04-21 フエルアイニヒテ・エレクトリチテ−ツヴエルケ・ヴエストフア−レン・ア−ゲ− 可燃性ガス及び煙道ガスから塩素,弗素および硫黄を分離する方法
JPH05237324A (ja) * 1991-12-11 1993-09-17 Japan Pionics Co Ltd 有害ガスの浄化方法
JPH10235147A (ja) * 1997-02-24 1998-09-08 Meidensha Corp 脱塩素処理方法
JPH11183055A (ja) * 1997-12-24 1999-07-06 Nkk Corp 電気炉における排ガス処理方法
JPH11290641A (ja) * 1998-04-15 1999-10-26 Shinsei Dental Laboratory:Kk 腐食性ガスの高温除去方法
JPH11514962A (ja) * 1995-10-31 1999-12-21 ノバカルブ 炭酸水素ナトリウムを含む組成物、その製法及びその使用法
JP2000102721A (ja) * 1998-09-28 2000-04-11 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 排ガス乾式脱塩方法
JP2000107552A (ja) * 1998-09-30 2000-04-18 Meidensha Corp 排ガス浄化方法
JP2000354735A (ja) * 1999-06-15 2000-12-26 Kurita Water Ind Ltd ダイオキシン類の生成防止剤及び生成防止方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5867323A (ja) * 1981-09-23 1983-04-21 フエルアイニヒテ・エレクトリチテ−ツヴエルケ・ヴエストフア−レン・ア−ゲ− 可燃性ガス及び煙道ガスから塩素,弗素および硫黄を分離する方法
JPH05237324A (ja) * 1991-12-11 1993-09-17 Japan Pionics Co Ltd 有害ガスの浄化方法
JPH11514962A (ja) * 1995-10-31 1999-12-21 ノバカルブ 炭酸水素ナトリウムを含む組成物、その製法及びその使用法
JPH10235147A (ja) * 1997-02-24 1998-09-08 Meidensha Corp 脱塩素処理方法
JPH11183055A (ja) * 1997-12-24 1999-07-06 Nkk Corp 電気炉における排ガス処理方法
JPH11290641A (ja) * 1998-04-15 1999-10-26 Shinsei Dental Laboratory:Kk 腐食性ガスの高温除去方法
JP2000102721A (ja) * 1998-09-28 2000-04-11 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 排ガス乾式脱塩方法
JP2000107552A (ja) * 1998-09-30 2000-04-18 Meidensha Corp 排ガス浄化方法
JP2000354735A (ja) * 1999-06-15 2000-12-26 Kurita Water Ind Ltd ダイオキシン類の生成防止剤及び生成防止方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4711550B2 (ja) 2011-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4111137B2 (ja) ハロゲン系ガスの除去方法
JP4952250B2 (ja) ハロゲン系ガスの除去方法及びハロゲン系ガスの除去剤
US7976808B2 (en) Method for removing halogen series gas and agent for removing halogen series gas
JPH07308538A (ja) 有害ガスの浄化剤
US6685901B2 (en) Method for removing a halogen series gas
JP2001017831A (ja) ハロゲンガス用処理剤
JP4711550B2 (ja) ハロゲンガスの除去方法
JP5217819B2 (ja) ハロゲン系ガスの除去剤およびハロゲン系ガスの除去方法
JP5008801B2 (ja) ハロゲン系ガスの除去方法
JP4620897B2 (ja) ハロゲン系ガスの除去方法
JP4755364B2 (ja) ハロゲン単体とハロゲン化物との除去方法
JP2002143640A (ja) ハロゲン系ガスの除去方法
JP5423594B2 (ja) フッ素含有化合物ガスの除去方法
JP3701741B2 (ja) 有害ガスの浄化剤
JP2011062697A (ja) ハロゲン系ガスの除去方法
JPH07275646A (ja) 有害ガスの浄化剤
JPH07275645A (ja) 有害ガスの浄化剤
JP2004305355A (ja) 防毒マスクおよび毒性ガス処理方法
JP2003117340A (ja) ガス中の有害成分除去剤および有害成分含有ガスの処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080326

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080418

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080418

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090413

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110301

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110322

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4711550

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140401

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140401

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees