JP2002503033A - 電気的接続要素および電気的接続要素を作る方法 - Google Patents
電気的接続要素および電気的接続要素を作る方法Info
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Abstract
Description
上に複数のコプレーナの、実質的に平行な導体径路が配置され、そのうちの少な
くとも1つが信号搬送用導体径路を構成し、信号搬送用導体径路の各側の少なく
とも1つの導体径路がグランド・プレーンを構成し、この3つの導体径路が一緒
に導波器を構成するようになっている。さらに、本発明は上記電気的接続要素を
作る方法にも関する。
の回路要素上に装着されて接続されている。これは、たとえば、いわゆるハイブ
リッド集積回路のケースであり、その場合、1つまたはそれ以上の小型集積回路
が別の、より大きな半導体回路、たとえば、いわゆるチップ・キャリヤ上に装着
されている。したがって、集積回路の実際の半導体チップは、大きい方の回路上
で他の小型集積回路に対して、あるいは大きい方の回路のレグに対して接続する
リードに接続されなければならない。これはワイヤ・ボンディング技術によって
伝統的に行われている。しかし、たとえば、移動通信、光通信システムおよび衛
星およびレーダ通信などの分野においては、必要なデータ・レートが現在は非常
に高く、したがって、従来のワイヤ・ボンディングはもう使えなくなっている。
たとえば、現在では電気通信ネットワークは2.5および10Gビット/秒のデ
ータ・レートで動作し、将来においてはさらに高いレートが可能になる。
接続するために、金またはアルミニウムの細いワイヤを使用し、これらのワイヤ
の長さは実際的な理由のために少なくとも1〜2mmでなければならない。上記
データ・レートでは、非常に短いワイヤであっても、かなりの大きさのインダク
タンスを構成し、それによってそのワイヤの中を伝送される信号のレベルが減衰
する。既に約100MHzの周波数(100Mビット/秒のデータ・レートに対
応する)において、この減衰が現れ始めており、そして総合の減衰は10GHz
の周波数ではしばしば問題である。これらのレートにおいては、信号は中央導体
の回りに配置されている誘電体を通して伝播する電磁波として伝送される。ボン
ディング・ワイヤは、通常は、約1nH/mmの寄生インダクタンスを誘起し、
そしてこれらのレートにおいては、これは電磁波が問題のチップに伝播するのを
十分に妨げる。したがって、ワイヤ・ボンディング技法はこれらの高い周波数に
おいて動作しなければならない回路に対しては使えない。
に少し減る可能性があるが、そのインダクタンスはやはり上記データ・レートに
対しては高過ぎる。
ディング技法であり、その場合、裸のチップが大きい方の回路、たとえば、プリ
ント基板または厚膜回路などの上に直接ボンディングされる。この場合、妨害と
なるインダクタンスを追加する可能性のある固有のリードはない。しかし、フリ
ップ・チップ・ボンディング技法は、実際には、扱うのが困難である。チップは
前面を下に向けて装着されなければならず、そして非常に高い精度で大きい方の
回路上に置かれなければならず、量産の面で非常に困難が生じる。それは、たと
えば、そのチップに個々の端子上で金の隆起が提供される必要がある。一般にフ
リップ・チップ・ボンディング技法は工業生産には適していないことが認識され
なければならない。さらに、本来的に、この技法は向きが重要である回路に対し
ては使えない。たとえば、レーザ・ダイオードが前面を下向きにして装着される
場合、光の放射はブロックされ、光をファイバに対して結合することが不可能で
ある。最後に、この解決策はワイヤ・ボンディング技法から知られている機械的
柔軟性に欠ける。
自身の上を、大きい方の回路上の導体の径路によって形成される伝送線路によっ
て伝送される。上記伝送線路は各種の方法で構築することができるが、いわゆる
、コプレーナ導波器が、普通は、必要であり、それはグランド・プレーンを構成
する一対の導体径路によって囲まれた信号搬送用中央導体を備えている。すべて
の導体径路は実質的に平行であり、同じ平面、すなわち、大きい方の回路の表面
に配置されている。上記伝送線路はギガヘルツの範囲まで問題なく信号を伝送す
ることができる。
いる技法が大きい方の回路からの最後の部分において、チップそのものに対して
も使われる。複数の薄い金属導体径路が、コプレーナ導波器を構成するようにプ
ラスチック・メンバの中に埋め込まれている。堅いメンバが含まれており、その
導体径路がそのメンバのエッジを超えて伸びており、それらを大きい方の回路上
の導体径路およびチップのそれぞれに対してボンディングすることができるよう
になっている。しかし、この解決策は実際には使えないことが分かっている。そ
の1つの理由は、実際には接続要素全体が薄い導体径路そのものによって支えら
れているので、そのメンバのエッジにおいて導体径路が断線する傾向があること
である。さらに、堅いメンバによる構造は、その接続要素が、ワイヤ・ボンディ
ング技法の場合より機械的柔軟性がずっと小さく、結果としてその要素は特に温
度変動に対して極端に敏感である。
径路が比較的耐久性が高く、機械的柔軟性がワイヤ・ボンディング技法で知られ
ているものに対応している、冒頭のパラグラフで述べられたタイプの電気的接続
要素を提供することである。 これは、誘電体基板がフレキシブル・シートによって形成される本発明によっ
て実現される。
の良好な高周波特性はワイヤ・ボンディング技法から知られている機械的柔軟性
と組み合わせて実現される。さらに、その機械的柔軟性は、チップそのものとそ
の下にある基板との間に高さの差がある時にもその要素が使えることを意味する
。これは特に、チップを冷却するのが容易であることを意味する。というのは、
それは冷却面の最上部に装着することができ、しかもその接続要素によってその
下にある回路上の導体径路に対して直接接続されるからである。
キシブル・シートがプラスチック・シートであることによって実現される。請求
項3に記載されているように、ポリイミドのシートを使うのが最も都合が良い。 それに対応して、導体径路は請求項4に記載されているように、金が都合が良
い。
路の幅がそれに関連付けられている信号搬送用導体径路の幅と同じである時、ス
ペースが大幅に節約される。従来、導波器においてはグランド・プレーンのため
のかなり広い径路が使われてきたが、信号搬送用導体の幅と同じ幅の径路が実際
的に同じ特性を与えることが分かっている。
径路の長手方向において可変である場合、その接続要素も相互の距離が異なって
いる端子間の適応として使うことができる。これはその要素の特性インピーダン
スを変化させずに行うことができる。
各信号搬送用導体径路の各側において少なくとも1つの導体径路がグランド・プ
レーンを構成する時、接続要素を差動信号に対しても使えることが確保されてい
る。
チック・シートは、普通は、ローリングによって作られる。ただし、1つだけ、
この目的のために使われるために、十分に薄いシートを作ることはローリングの
プロセスによっては困難である。またもう1つだけ、そのようなシートは、それ
を作ることができる場合でも、その厚さが薄いので実際に正確に処理することは
非常に困難である。さらに、ロール・シートの表面は十分にスムースではなくな
る。
ートを作り、それ以降の作業において取り扱いが容易であるようにすることがで
きる。さらに、この方法で作られたシートの表面はスムースであり、また、仕上
がりのプラスチック材料の正確な厚さの良好な制御を提供する。
で回転させられ、そして次に液体状のプラスチック材料がその回転しているキャ
リヤ・メンバ上に置かれ、そのプラスチック材料がスリング(sling)され薄いシ
ート状になる。そしてこのようにして作られたプラスチック・シート上に金属導
体の径路がそれ以降で配置され、その後でプラスチック・シートがキャリヤ・メ
ンバから取り除かれる。
でき、そのシートの取り扱いがそれ以降の作業、すなわち、たとえば、導体径路
の提供においてかなり容易化される。というのは、シートは、このプロセスの間
キャリヤ・メンバ上に置かれ続け、前記メンバは最後まで取り除かれないからで
ある。
従来と同様に作ることができる。蒸着は1μmまでの厚さのメタルに対してのみ
適しており、他方、かなり小さい構造、すなわち、作られた導体径路パターンに
おいて数μmの構造を画定することが可能である。より厚いメタル層が望ましい
時、電解メッキが使われる。その場合、金属が導電性の表面上に電気分解によっ
て蒸着され、それは、たとえば、加工物を特定の液体の中に浸すことによって得
ることができる。しかし、この方法は導体径路パターンの中に非常に小型で正確
な構造を作ることはできない。ここで必要な接続要素を作るためには、非常に微
細で且つ適切に大きいメタル厚さが両方とも必要である。小型で微細な構造は部
分的には既存の電子部品にマッチしなければならない小さい寸法のためであり、
部分的には作られる伝送線路の適切なインピーダンスを得るためである。大きな
メタル厚さは後続のボンディング・プロセスにおいて十分に良好なボンディング
を得るために必要である。請求項9に記載されているように、金属導体径路が金
属蒸着および電解メッキの組合せによって配置される時、十分な微細性および十
分な金属厚さの両方が得られる。
合よく行うことができる。請求項10においては、1つまたはそれ以上の薄いメ
タル層がプラスチック・シート上に蒸着され、導体径路が不要である場所の接続
要素上の領域に対応して、フォトレジストのパターンがその1つまたは複数の薄
いメタル層に対して塗布され、追加の金属材料が、フォトレジストによって覆わ
れていない領域に対して電解メッキによって塗布され、そして前にフォトレジス
トによって覆われていた蒸着された1つまたは複数のメタル層の部分がエッチン
グによって取り除かれる。
ように、1つまたは複数の薄いメタル層の蒸着後に次のステップを追加して実行
することによって実現される。 ・後でプラスチック・シートに転写されるパターンに対応しているフォトレジ
ストのパターンが塗布される。 ・このパターンがエッチングによって蒸着された1つまたは複数のメタル層へ
転写される。 ・このフォトレジスト層がふたたび取り除かれる。 ・メタル層における結果のパターンがプラスチック・シートに転写される。そ
れは導体径路が不要である領域に対応しているフォトレジスト・パターンを取り
除いた後、エッチングによって行われる。
属層の蒸着の後、ただし電解メッキの間にマスクとして使われるフォトレジスト
のパターンの塗布の前に、1つのパターンが1つまたは複数の薄い金属層の中で
エッチングされる。次に、このパターンを電解メッキ後のエッチング・マスクと
して使うことができ、所望のパターンをプラスチック・シートに転写することが
できる。このパターンは前面と後面との間の電気的接触を形成することができる
貫通孔、ビア・ホールなどとすることができる。
かの一例を示している。図1は上から見たその要素を示し、一方、図2はその一
端から見た要素を示している。要素1は、プラスチック・シート2の上に3つの
金属導体径路3〜5が配置されているものから構成されている。その3つの導体
径路は伝送線路を形成し、ここで、導体径路3が信号搬送用中央導体であり、一
方、導体径路4、5はグランド・プレーンを構成している。導体径路が実質的に
平行であり、同じ平面に配置されているので、コプレーナ導波器が作られている
。プラスチック・シート2はフレキシブルであり、たとえば、ポリイミドから作
られている。したがって、接続要素1はフレキシブル導波器を構成している。
小型集積回路またはチップ6が大きい方の回路7の上に配置されている。大きい
方の回路7は、たとえば、チップ・キャリヤであってよい。金属端子8がチップ
6の上に配置され、対応している端子9がチップ・キャリヤ7上に存在し、そこ
でそれらは、普通は、プリント回路の径路(図示せず)に接続される。接続要素 1は端子8を端子9に接続し、導体径路3〜5が端子8、9に向かって下側に向
いている側に存在しているように配置されている。したがって、その導体径路を
ボンディング・プロセスまたは別の対応している接続プロセスによってその端子
に接続することができる。プラスチック・シートが十分に薄い場合、そのプラス
チック・シートを通してたとえば、超音波によるボンディングを行うことができ
、超音波のエネルギーがシートそのものの中には入り込まず、そしてボンディン
グ・プロセスがこれによってかなり単純化される。接続要素1がフレキシブルで
あるという状況によって、導体径路3〜5に不必要な物理的負荷が掛からない、
容易で単純なマウンティングが可能であることが明らかに分かる。
リヤ7のそれぞれの上の端子にどのように接続されるかがここでさらに明確に分
かる。さらに、チップ6を図3の中の端子6に対応しているいくつかの端子付き
で提供することができることが分かる。明確化のために、これらはチップ・キャ
リヤ7上の端子に接続されているようには示されていないが、これらのうちのい
くつかをフレキシブル導波器の形式で対応している接続要素に対して、あるいは
普通のボンディング・ワイヤに対して接続できることは明らかである。本発明に
よる接続要素は高周波信号に対してだけ必要なので、たとえば、電源のための端
子などの他の端子は通常のボンディング・ワイヤによって問題なく接続すること
ができる。実際的な理由で、1つのタイプの接続要素だけを使うことが望ましい
場合、もちろん上記信号に対してもフレキシブル導波器を使うことができる。
リヤ上の端子に対して接続されるようにすることができ、また、高さの差が比較
的大きい場合に対応することができる。これはたとえば、チップをチップ・キャ
リヤ上の冷却板の最上部に装着し、そして次にそのチップを上記のように接続す
ることによってチップを簡単に冷却することができることを意味する。この一例
が図5に示されている。ここで冷却板10がチップ6とチップ・キャリヤ7との
間に配置されている。それ以外は、この図は図3に対応している。端子8と端子
9との間の余分の高さの差は接続要素1の使用にとって重要ではないことが分か
る。
号搬送用中央導体から構成されているコプレーナ導波器を構成し、グランド・プ
レーンは同じサイズの2つのギャップによって中央導体から隔てられている。コ
プレーナ導波器の利点の1つはグランド・プレーンが中央導体と同じ要素の側に
配置されていることである。これによって、すべての導体を上記のように、関連
している端子に同時に接続することができる。
ることである。図6に示されているように、横方向の寸法を導波器の長手方向の
軸に沿って変えることができる。これは導波器の特性インピーダンスを変えるこ
となしに行われる。というのは、これは中央導体とグランド・プレーンとの間の
ギャップの幅によって実質的に決定されるからである。図の中で、簡単のために
プラスチック・シートは示されておらず、中央導体11およびグランド・プレー
ン12および13がチップ14をチップ・キャリヤ15に対して接続している。
図から分かるように、チップ14およびチップ・キャリヤ15の上の端子間の距
離がそれぞれ異なっており、したがって、この導波器がこれらの距離に対して適
応されている。
って中央導体の幅に対して相対的に変化させることによって、導波器の特性イン
ピーダンスを導波器に沿って連続的に変化させることができ、それによって、た
とえば、低インピーダンス・ユニットのインピーダンスを50Ωに直接に適応さ
せることができる。
きいことがコプレーナ導波器の1つの欠点である。というのは、グランド・プレ
ーンが中央導体と同じ要素側に置かれているからである。以前は、グランド・プ
レーンは理論的には無限大の広さが必要であると思われていたが、実際には、経
験測として、グランド・プレーンとして満足に動作するためにグランド・プレー
ンの幅は中央導体の幅の少なくとも5倍なければならないと仮定されてきた。実
際には、ここで説明されている目的に対してコプレーナ導波器を使うことは、こ
の幅のグランド・プレーンでは不可能である。しかし、特性に目立った影響を与
えることなしにこれらの寸法をかなり減らし得ることが分かってきている。
狭い領域において電流の大部分が流れ、したがって、グランド・プレーンの比較
的遠い領域には電流の非常に小さい部分だけしか流れないので、それを省略する
ことができることが示された。シミュレーションによって、伝送線路に沿って4
mmの長さに対して0.1dBだけの損失で、中央導体の幅に対応する幅にまで
グランド・プレーンの幅を狭めることができることが示された。結果として、こ
の導波器の面積を65〜75%だけ減らすことができ、これによってこのタイプ
の導波器がチップとチップ・キャリヤとの間にある要素を接続するために、ある
いは対応している状況にとって有用となる。図7は、グランド・プレーン4およ
び5を図1に前に示されたサイズまでどのように減らすことができるかを示して
いる。
の側に配置された2つの信号搬送用導体径路に対する共通のグランド・プレーン
として働くことができるようにすることが可能である。したがって、図8はチッ
プとチップ・キャリヤとの間の差動信号を転送するために適している接続要素の
一例を示している。差動信号は2つの信号搬送用導体23および24によって転
送され、一方、グランド・プレーンが導体径路25、26および27によって形
成されている。ここで導体径路26は2つの信号搬送用導体23および24の両
方に対する共通のグランド・プレーンとして働く。差動信号は超高周波(VHF
)の信号に対してしばしば使われ、したがって、図8に示されている方法でチッ
プとの間でこれらの信号を転送できることは極端に都合が良い。
が図9および図10に示されている。図9は、延長部分のある中央導体を形成す
ることによって、中央導体とグランド・プレーンとの間にキャパシタンスをどの
ように組み込むことができるかを示している。これに対応して、図10は、中央
導体の中に切り込みを入れることによって、直列のインダクタンスをどのように
配置できるかを示している。中央導体を通じての直流接続がない場合に、直列の
キャパシタンスを組み込むことができることにも注意する必要がある。中央導体
はそれぞれのサイドから図のようにインターレースされて形成される。これは図
11に示されている。
軟性を得るために、そして部分的には、たとえば、そのシートを通して超音波ボ
ンディングができるようにするために使われなければならない。既製品のロール
・シートはそのような薄いバージョンでは入手できず、それがあった場合でも、
実際に扱うのがいずれにしても極端に難しい。したがって、そのシートは特殊な
プロセスによって作られ、それはさらに後続のプロセスのためのベース材料とし
てそれ自身を使えるようにするスムースでしっかりした表面を提供する。以下に
説明されるそのプロセスはさらに、仕上げられたプラスチック・シートが、実現
できる厚さの良好な制御を提供する。
ヤ基板31がプラスチック・シートに対するベースとして使われる。キャリヤ基
板31は、たとえば、金属またはガラスから作ることができる。たとえば、ポリ
イミドをプラスチック材料として使うことができる。
、スピナは特にフォトリソグラフィック・プロセスから知られており、高速で回
転する。次に、液体状のプラスチック材料32が適切な量でキャリヤ基板31に
対して加えられ、キャリヤ基板が適切な高い速度で回転するので、その液体のプ
ラスチック材料も高速で回転され、したがって、その回転の中心から離れてスリ
ングされる。
ングの後、まだキャリヤ基板31上に存在しているプラスチック・シート33が
乾燥され、強靭性および柔軟性の面で所望の特性が得られるように、適切な方法
で熱処理される。次に、必要な導体径路をそのプラスチック材料に対して付着さ
せることができる。
さが1μmをほとんど超えない微細リソグラフィック・プロセスに適している。
より厚いメタル層がが必要な場合、そして後続のボンディング・プロセスにおい
て十分に良好なボンディングを得るために必要である場合、代わりに電解メッキ
を使うことができる。このプロセスにおいては、金属が導電面上に電気分解によ
って蒸着される。電気分解は、たとえば、その加工物を特定の液体の中に浸すこ
とによって行うことができる。しかし、このプロセスはここでは特に、伝送線路
の適切なインピーダンスを得るために必要である、十分に細い導体径路を画定す
ることができない。前に述べたように、インピーダンスは中央導体とグランド・
プレーンとの間の正確な距離に依存し、したがって、この距離が高い精度で選択
されなければならない。本発明に従って接続要素を作る際、蒸着と電解メッキと
の組合せが使われる。というのは、これによってリソグラフィにおける高度な微
細性(寸法を小さくする必要があることによる)と、適切な大きさの金属厚さ(
後続のボンディングのために必要な)の両方が得られるからである。
一例を示している。図13aは、プラスチック・シート33が付着されているキ
ャリヤ基板31を示している。この加工物は真空チャンバの中に置かれ、そして
1つまたはそれ以上の薄いメタル層34が蒸着される(図13b)。これによっ
て部分的にそのプラスチック・シートの表面が導電性となること、そして部分的
にそのシートと後続の電解メッキされたメタル層との間のボンディングが強化さ
れることが確保される。次に、図13cに示されているように、フォトレジスト
35のパターンがプラスチック・シート上で電解メッキされるべき導体径路に対
応してフォトリソグラフィック・プロセスによって塗布される。フォトレジスト
層35は導体径路が提供されるべきでない場所36にはフォトレジストがないよ
うに塗布される。
層37が得られるまでメッキが図13dに示されているように継続して行われる
。導体径路の材料として金を有利に使うことができる。次に、図13eに示され
ているように、フォトレジスト層35がふたたび取り除かれ、その後、以前にフ
ォトレジスト35で覆われていて、したがって電解メッキが行われなかった場所
のプラスチック・シート上の領域に置かれていた蒸着された1つまたは複数のメ
タル層34の部分が、酸の中でのウエット・エッチングによって取り除かれる(
図13f)。最後に、図13gに示されているように、キャリヤ基板31が取り
除かれ、そして導体径路37が付着されているプラスチック・シート33から構
成されている最終の接続要素がここで得られる。
て個々の要素を互いにそれ以降で分離し易いようにするために、プラスチック・
シートに孔が開けられていて、その要素を装着する前にその長さのシートを容易
にちぎって取り去ることができるようにするのが便利であることが多い。同様に
、ビア・ホールとして使うためにプラスチック・シートの中に孔を配置し、その
要素の後側に追加のメタル層を付着させること、および前面と後面との間の電気
的接触を可能にすることも都合がよい場合がある。
のプロセスにおいてシートの中に孔を開けるように変更できるようにする方法を
以下に説明する。電解メッキのためのベースを形成する1つまたは複数の薄いメ
タル層の蒸着の後、ただし、電解メッキにおいてマスクとして使われるフォトレ
ジストのパターンの塗布の前に、パターンを1つまたは複数の薄いメタル層の中
にエッチングすることができる。このパターンを次に電解メッキの後のエッチン
グ用マスクとして使うことができ、所望のパターンをプラスチック・シートに対
して転写されるようにすることができる。このパターンは穿孔、ビアホールなど
であってよい。
に示されている。前と同様に、図14aはプラスチック・シート33が付着され
ているキャリヤ基板31を示している。この加工物が真空チャンバの中に置かれ
、そして1つまたはそれ以上の薄いメタル層34が真空蒸着される(図14b)
。次に、図14cに示されているように、プラスチック・シートに対して転写す
ることが望ましいパターンに対応して、フォトレジストのパターン38がフォト
リソグラフィック・プロセスによって塗布される。フォトレジスト層38は孔が
提供される場所39においてフォトレジストが存在しないように塗布される。次
に、このパターンが酸の中でのウエット・エッチングによって1つまたは複数の
薄いメタル層34に対して転写され、それによってメタル層が孔39の中で消え
る(図14d)。次にフォトレジスト層38がふたたび取り除かれると、図14
eに示されているように、孔40が薄い1つまたは複数のメタル層34の中に残
される。
されるべき導体径路に対応しているフォトレジストの、前記(図13c)のパタ
ーン35がフォトリソグラフィック・プロセスによって塗布される。フォトレジ
スト層35は、導体径路が提供されるべき場所36にはフォトレジストが存在し
ないように塗布される。
いるように行われ、適切な厚さのメタル層37が得られるまで続けられる。導体
径路の材料として金を有利に使うことができる。次に図14hに示されているよ
うに、フォトレジスト層35がふたたび取り除かれ、そして蒸着された1つまた
は複数の金属層34の中のパターン40がエッチング・プロセスによってプラス
チック・シート33に対して転写される。ここで、ウエット・エッチング(基本
)またはドライ・エッチング(プラズマによる)のいずれかを使うことができる
。これによって孔41が図14iに示されているように、プラスチック・シート
33の中に形成される。
いた、したがって電解メッキが行われなかったプラスチック・シートの領域の中
に置かれている蒸着された1つまたは複数のメタル層34の部分が、酸の中での
ウエット・エッチングによって取り除かれる(図14j)。最後に、図14kに
示されているように、キャリヤ基板31が取り除かれ、導体径路37および孔4
1が付加されているプラスチック・シート33から構成される最終の接続要素が
ここで得られている。
電解メッキの中の電気的導通のベースとしての両方として蒸着された1つまたは
複数のメタル層を使うことは、少なくとも1つの余分のプロセス・ステップが回
避されることを意味する。
れるものではなく、特許請求の範囲の中で定義されている主題の範囲内にある他
の方法で実現することもできる。
をどのように接続することができるかを示す。
かを示す。
ことができるかを示す。
示す。
す。
るかの一例を示す。
のパターン形成によってどのように作ることができるかを示す。
Claims (11)
- 【請求項1】 電気的接続要素(1)であって、誘電体基板(2)を含み、
その上にコプレーナの実質的に平行な複数の導体径路(3,4,5;11,12
,13;23,24,25,26,27)が配置され、そのうちの少なくとも1
つが信号搬送用導体径路(3;11;23,24)であり、そして、前記信号搬
送用導体径路の各側にある少なくとも1つの導体径路(4,5;12,13;2
5,26,27)がグランド・プレーンを構成し、前記3つの導体径路が一緒に
導波器を構成するようになっていて、前記誘電体基板(2)がフレキシブル・シ
ートによって形成されることを特徴とする接続要素。 - 【請求項2】 請求項1に記載の接続要素において、前記フレキシブル・シ
ート(2)がプラスチック・シートであることを特徴とする接続要素。 - 【請求項3】 請求項2に記載の接続要素において、前記プラスチック・シ
ート(2)がポリイミドから構成されていることを特徴とする接続要素。 - 【請求項4】 請求項1乃至請求項3に記載の接続要素において、前記導体
径路が少なくとも部分的に金であることを特徴とする接続要素。 - 【請求項5】 請求項1乃至請求項4に記載の接続要素においてグランド・
プレーンを構成している前記導体径路(4,5;12,13;25,26,27
)が、関連付けられている信号搬送用導体径路の幅と同じ幅を本質的に有してい
ることを特徴とする接続要素。 - 【請求項6】 請求項1乃至請求項5に記載の接続要素において、1つまた
はそれ以上の前記導体径路(11,12,13)の前記幅が前記径路の長手方向
に沿って可変であることを特徴とする接続要素。 - 【請求項7】 請求項1乃至請求項6に記載の接続要素において、いくつか
の導体径路(23,24)が信号搬送用であり、前記の各信号搬送用導体径路の
各側にある少なくとも1つの導体径路(25,26,27)がグランド・プレー
ンを構成していることを特徴とする接続要素。 - 【請求項8】 複数の電気的導体径路を有する、フレキシブルなプラスチッ
ク・シートの形式での誘電体基板を含んでいる電気的接続要素を作る方法であっ
て、 ・キャリヤ・メンバ(31)が高速で回転させられることと、 ・液体形状でのプラスチック材料(32)が前記回転キャリヤ・メンバ上に置
かれ、前記プラスチック材料がスリングされて薄いシート(33)にされること
と、 ・その後、金属の導体径路(37)が、このようにして作られたプラスチック
・シート上に配置されることと、 ・次に、前記プラスチック・シート(33)が前記キャリヤ・メンバ(31)
から取り除かれることとを特徴とする方法。 - 【請求項9】 請求項8に記載の方法において、金属導体径路(37)が金
属蒸着と電解メッキとの組合せによって配置されることを特徴とする方法。 - 【請求項10】 請求項9に記載の方法において、前記金属導体径路が、 ・1つまたはそれ以上の薄いメタル層(34)がプラスチック・シート(33
)上に蒸着され、 ・前記接続要素上の導体径路が不要である領域に対応しているフォトレジスト
のパターン(35)が1つまたは複数の薄いメタル層(34)に対して塗布され
、 ・フォトレジストによって覆われていない領域に対して電解メッキによって追
加の金属材料(37)が付加され、 ・前記フォトレジスト層(35)がふたたび取り除かれ、 ・前にフォトレジストによって覆われていた蒸着された1つまたは複数のメタ
ル層(34)の前記部分が、エッチングによって取り除かれることによって配置
されることを特徴とする方法。 - 【請求項11】 請求項10に記載の方法において、1つまたは複数の薄い
メタル層(34)の蒸着後に、 ・それ以降で前記プラスチック・シートに対して転写されるパターンに対応し
ているフォトレジストのパターン(38)が塗布され、 ・このパターンがエッチングによって前記蒸着された1つまたは複数のメタル
層(34)に対して転写され、 ・このフォトレジスト層(38)がふたたび取り除かれ、 前記メタル層における結果のパターン(40)が、導体径路が不要である領域
に対応している前記フォトレジスト・パターン(35)の除去の後に、エッチン
グによって前記プラスチック・シートに対して転写されるステップが追加的に実
行されることを特徴とする方法。
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