JP2002322171A - 高純度ビニレンカーボネートの製造方法 - Google Patents
高純度ビニレンカーボネートの製造方法Info
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- JP2002322171A JP2002322171A JP2001127299A JP2001127299A JP2002322171A JP 2002322171 A JP2002322171 A JP 2002322171A JP 2001127299 A JP2001127299 A JP 2001127299A JP 2001127299 A JP2001127299 A JP 2001127299A JP 2002322171 A JP2002322171 A JP 2002322171A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 キャパシタの電解溶液として使用できる高純
度ビニレンカーボネートの製造方法を提供する。 【解決手段】 粗ビニレンカーボネートを極性溶媒、芳
香族化合物溶媒および脂肪族炭化水素溶媒から選択され
る溶媒を用いた晶析工程および蒸留工程を組み合わせて
精製する。
度ビニレンカーボネートの製造方法を提供する。 【解決手段】 粗ビニレンカーボネートを極性溶媒、芳
香族化合物溶媒および脂肪族炭化水素溶媒から選択され
る溶媒を用いた晶析工程および蒸留工程を組み合わせて
精製する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、キャパシタの電解
液溶媒等として有用な高純度ビニレンカーボネートの製
造方法に関する。
液溶媒等として有用な高純度ビニレンカーボネートの製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビニレンカーボネートは、通常、エチレ
ンカーボネートを塩素化して得られるクロロエチレンカ
ーボネートの脱塩化水素反応により製造されている
（Ｍ．Ｓ．Ｎｅｗｍａｎ ａｎｄ Ｒ．Ｗ．Ａｄｄｏｒ
（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７５，１２６３（１
９５３）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７７，３７
８９（１９５５））、特開平１１−１８０９７４号公
報）。しかしながら、この製造方法で得られるビニレン
カーボネートには、クロロエチレンカーボネート、ジク
ロロエチレンカーボネート、クロロアセトアルデヒド、
クロロエタノールおよびジメトキシメチルクロライド等
の有機塩素化合物ならびに塩酸等の無機塩素化合物（以
下、併せて「塩素化合物」という。）が含まれており、
このままでは電解液溶媒としては使用できない。
ンカーボネートを塩素化して得られるクロロエチレンカ
ーボネートの脱塩化水素反応により製造されている
（Ｍ．Ｓ．Ｎｅｗｍａｎ ａｎｄ Ｒ．Ｗ．Ａｄｄｏｒ
（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７５，１２６３（１
９５３）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７７，３７
８９（１９５５））、特開平１１−１８０９７４号公
報）。しかしながら、この製造方法で得られるビニレン
カーボネートには、クロロエチレンカーボネート、ジク
ロロエチレンカーボネート、クロロアセトアルデヒド、
クロロエタノールおよびジメトキシメチルクロライド等
の有機塩素化合物ならびに塩酸等の無機塩素化合物（以
下、併せて「塩素化合物」という。）が含まれており、
このままでは電解液溶媒としては使用できない。
【０００３】粗ビニレンカーボネートの精製方法として
は、減圧蒸留（Ｍ．Ｓ．Ｎｅｗｍａｎ ａｎｄ Ｒ．
Ｗ．Ａｄｄｏｒ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７
５，１２６３（１９５３）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，７７，３７８９（１９５５））、特開２０００−
２６４４９号および同２０００−１３８０７１号公
報）、溶融晶析法（英国特許８９９２０５号）およびゾ
ーンメルティングによる方法（Ｍ．Ｚｉｅｆ，Ｈ．Ｒｕ
ｃｈ ａｎｄ Ｃ．Ｈ．Ｓｃｈｒａｍｍ，Ｊ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｅｄｕｃａｔｉｏｎ、４０，３５１（１９６３））
等が提案されているが、いずれも、純度または収率に問
題があり、キャパシタの電解液溶媒等として使用するビ
ニレンカーボネートの製造方法としては不十分なもので
あった。
は、減圧蒸留（Ｍ．Ｓ．Ｎｅｗｍａｎ ａｎｄ Ｒ．
Ｗ．Ａｄｄｏｒ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７
５，１２６３（１９５３）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，７７，３７８９（１９５５））、特開２０００−
２６４４９号および同２０００−１３８０７１号公
報）、溶融晶析法（英国特許８９９２０５号）およびゾ
ーンメルティングによる方法（Ｍ．Ｚｉｅｆ，Ｈ．Ｒｕ
ｃｈ ａｎｄ Ｃ．Ｈ．Ｓｃｈｒａｍｍ，Ｊ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｅｄｕｃａｔｉｏｎ、４０，３５１（１９６３））
等が提案されているが、いずれも、純度または収率に問
題があり、キャパシタの電解液溶媒等として使用するビ
ニレンカーボネートの製造方法としては不十分なもので
あった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電解液溶媒
として使用可能なビニレンカーボネートを高純度かつ高
収率で製造する方法を提供しようとするものである。
として使用可能なビニレンカーボネートを高純度かつ高
収率で製造する方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
に鑑み、晶析工程と蒸留工程とでは残存する不純物が異
なるという知見に基づき、鋭意検討した結果、本発明を
完成するに至った。
に鑑み、晶析工程と蒸留工程とでは残存する不純物が異
なるという知見に基づき、鋭意検討した結果、本発明を
完成するに至った。
【０００６】すなわち、本発明は粗ビニレンカーボネー
トを晶析工程および蒸留工程に付すことを特徴とする高
純度ビニレンカーボネートの製造方法である。
トを晶析工程および蒸留工程に付すことを特徴とする高
純度ビニレンカーボネートの製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明では、いずれの製造方法で製造された粗ビニレン
カーボネートでも精製原料として使用することができる
が、通常は前述したエチレンカーボネートの塩素化およ
び脱塩化水素により製造した塩素化合物を含む粗ビニレ
ンカーボネートを用いる。
本発明では、いずれの製造方法で製造された粗ビニレン
カーボネートでも精製原料として使用することができる
が、通常は前述したエチレンカーボネートの塩素化およ
び脱塩化水素により製造した塩素化合物を含む粗ビニレ
ンカーボネートを用いる。
【０００８】原料となる粗ビニレンカーボネートの純度
については、単蒸留等により好ましくは９５％以上、よ
り好ましくは９７％以上まで精製したものがよい。晶析
工程および蒸留工程は、通常はそれぞれ１回行えば十分
であるが、必要に応じて各工程を繰り返してもよい。ま
た、いずれの工程を先に行ってもよいが、先に晶析工程
を行い、次いで蒸留工程を行う方法が、溶媒中で晶析を
行った場合でも残留溶媒を除去することができるので好
ましい。
については、単蒸留等により好ましくは９５％以上、よ
り好ましくは９７％以上まで精製したものがよい。晶析
工程および蒸留工程は、通常はそれぞれ１回行えば十分
であるが、必要に応じて各工程を繰り返してもよい。ま
た、いずれの工程を先に行ってもよいが、先に晶析工程
を行い、次いで蒸留工程を行う方法が、溶媒中で晶析を
行った場合でも残留溶媒を除去することができるので好
ましい。
【０００９】晶析工程は、溶媒晶析および溶融晶析のい
ずれの方法でもよい。晶析に用いる溶媒は、ビニレンカ
ーボネートを分解させない限り、任意のものを用いるこ
とができる。具体的には、極性溶媒、芳香族化合物溶
媒、脂肪族炭化水素溶媒およびこれらの２種以上の混合
溶媒から選ばれる適宜の溶媒、好ましくは芳香族化合物
と脂肪族炭化水素化合物の混合溶媒に粗ビニレンカーボ
ネートを溶解し、溶媒中に結晶を析出させる。なお、こ
の操作では、粗ビニレンカーボネートの大部分を溶解さ
せれば足り、全体としてエマルション、サスペンション
の状態であってもよい。
ずれの方法でもよい。晶析に用いる溶媒は、ビニレンカ
ーボネートを分解させない限り、任意のものを用いるこ
とができる。具体的には、極性溶媒、芳香族化合物溶
媒、脂肪族炭化水素溶媒およびこれらの２種以上の混合
溶媒から選ばれる適宜の溶媒、好ましくは芳香族化合物
と脂肪族炭化水素化合物の混合溶媒に粗ビニレンカーボ
ネートを溶解し、溶媒中に結晶を析出させる。なお、こ
の操作では、粗ビニレンカーボネートの大部分を溶解さ
せれば足り、全体としてエマルション、サスペンション
の状態であってもよい。
【００１０】極性溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノ
ール、２−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノー
ル、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタ
ノール、イソペンチルアルコール、１−ヘキサノール、
２−ヘキサノール、３−ヘキサノール、２−メチル−２
−ペンタノール、２−メチル−３−ペンタノール、３−
メチル−３−ペンタノール、１−ヘプタノール、２−ヘ
プタノール、３−ヘプタノール、４−ヘプタノール、２
−メチル−２−ヘキサノール、３−メチル−３−ヘキサ
ノール、４−メチル−４−ヘキサノール、２−メチル−
４−ヘキサノール、４−メチル−２−ヘキサノール、２
−エチルヘキサノール、ベンジルアルコール、１−フェ
ニルエタノール、２−フェニルエタノール、１−フェニ
ル−２−ブタノール、３−フェニル−１−ブタノール、
１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオー
ル、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、エチレングリコール、グ
リセロール等のアルコール類；フェノール、レソルシノ
ル等のフェノール類；エタノールアミン、プロパノール
アミン等のアミノアルコール類；メチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、メチルエチルアミン、メチ
ルブチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、
トリプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソ
プロピルアミン、ｔ−ブチルアミン、１，２−エチレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，２
−エチレンジアミン、ジ（ｎ−ブチル）アミン、トリブ
チルアミン等のアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トルイジン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルトルイジン等の芳香族アミン類；アセトアルデ
ヒド、ブチルアルデヒド、ヘキサナール、プロピオンア
ルデヒド等のアルデヒド類；ブタノン、アセトン、メチ
ルプロピルケトン、ジエチルケトン等のケトン類；ギ酸
メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロ
ピオン酸メチル、γ−ブチロラクトン、プロピオン酸ブ
チル等のカルボン酸エステル類；ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジブチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、トリオキ
サン、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテ
ル、ジメトキシエタン等のエーテル類；フラン、ピロー
ル、ピリジン、チオフェン等のヘテロ芳香族化合物類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン等のカルボキシアミド類；ア
セトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等の
ニトリル類；臭化エチル、塩化エチル、フッ化エチル、
臭化ブチル、塩化ブチル、塩化メチル、クロロホルム、
ジクロロエタン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水
素類；ニトロメタン、ニトロエタン、１−ニトロプロパ
ン、２−ニトロプロパン、１−ニトロブタン、２−ニト
ロブタン、ニトロベンゼン、２−ニトロトルエン、３−
ニトロトルエン等のニトロ化合物が挙げられる。これら
の中、エーテル類、ケトン類、カルボン酸エステル類、
アルコール類が好ましい。
ル、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノ
ール、２−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノー
ル、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタ
ノール、イソペンチルアルコール、１−ヘキサノール、
２−ヘキサノール、３−ヘキサノール、２−メチル−２
−ペンタノール、２−メチル−３−ペンタノール、３−
メチル−３−ペンタノール、１−ヘプタノール、２−ヘ
プタノール、３−ヘプタノール、４−ヘプタノール、２
−メチル−２−ヘキサノール、３−メチル−３−ヘキサ
ノール、４−メチル−４−ヘキサノール、２−メチル−
４−ヘキサノール、４−メチル−２−ヘキサノール、２
−エチルヘキサノール、ベンジルアルコール、１−フェ
ニルエタノール、２−フェニルエタノール、１−フェニ
ル−２−ブタノール、３−フェニル−１−ブタノール、
１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオー
ル、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、エチレングリコール、グ
リセロール等のアルコール類；フェノール、レソルシノ
ル等のフェノール類；エタノールアミン、プロパノール
アミン等のアミノアルコール類；メチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、メチルエチルアミン、メチ
ルブチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、
トリプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソ
プロピルアミン、ｔ−ブチルアミン、１，２−エチレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，２
−エチレンジアミン、ジ（ｎ−ブチル）アミン、トリブ
チルアミン等のアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トルイジン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルトルイジン等の芳香族アミン類；アセトアルデ
ヒド、ブチルアルデヒド、ヘキサナール、プロピオンア
ルデヒド等のアルデヒド類；ブタノン、アセトン、メチ
ルプロピルケトン、ジエチルケトン等のケトン類；ギ酸
メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロ
ピオン酸メチル、γ−ブチロラクトン、プロピオン酸ブ
チル等のカルボン酸エステル類；ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジブチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、トリオキ
サン、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテ
ル、ジメトキシエタン等のエーテル類；フラン、ピロー
ル、ピリジン、チオフェン等のヘテロ芳香族化合物類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン等のカルボキシアミド類；ア
セトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等の
ニトリル類；臭化エチル、塩化エチル、フッ化エチル、
臭化ブチル、塩化ブチル、塩化メチル、クロロホルム、
ジクロロエタン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水
素類；ニトロメタン、ニトロエタン、１−ニトロプロパ
ン、２−ニトロプロパン、１−ニトロブタン、２−ニト
ロブタン、ニトロベンゼン、２−ニトロトルエン、３−
ニトロトルエン等のニトロ化合物が挙げられる。これら
の中、エーテル類、ケトン類、カルボン酸エステル類、
アルコール類が好ましい。
【００１１】芳香族化合物溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、イソ
プロピルベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼ
ン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベン
ゼン、ブロモベンゼン等のハロ芳香族化合物が挙げられ
る。これらの中、芳香族炭化水素類が好ましく、トルエ
ンが特に好ましい。
ルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、イソ
プロピルベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼ
ン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベン
ゼン、ブロモベンゼン等のハロ芳香族化合物が挙げられ
る。これらの中、芳香族炭化水素類が好ましく、トルエ
ンが特に好ましい。
【００１２】脂肪族炭化水素溶媒としては、プロパン、
ブタン、イソブタン、ペンタン、２−メチルブタン、ネ
オペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、２−メチルペ
ンタン、３−メチルペンタン、ヘプタン、２−メチルヘ
キサン、３−メチルヘキサン、シクロヘキサン、オクタ
ン、イソオクタン、ノナン、イソノナン、デカン等が挙
げられる。これらの中、ヘキサンが好ましい。
ブタン、イソブタン、ペンタン、２−メチルブタン、ネ
オペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、２−メチルペ
ンタン、３−メチルペンタン、ヘプタン、２−メチルヘ
キサン、３−メチルヘキサン、シクロヘキサン、オクタ
ン、イソオクタン、ノナン、イソノナン、デカン等が挙
げられる。これらの中、ヘキサンが好ましい。
【００１３】溶媒としては、不純物である塩素化合物混
合物の溶解度がその溶媒１００ｇ当たり０．１ｇ以上、
特に１ｇ以上となるようなものを使用するのが好まし
い。溶媒の使用量は、粗ビニレンカーボネートに対し
て、通常０．５〜２０重量倍、好ましくは０．７〜５重
量倍、より好ましくは０．８〜３重量倍である。
合物の溶解度がその溶媒１００ｇ当たり０．１ｇ以上、
特に１ｇ以上となるようなものを使用するのが好まし
い。溶媒の使用量は、粗ビニレンカーボネートに対し
て、通常０．５〜２０重量倍、好ましくは０．７〜５重
量倍、より好ましくは０．８〜３重量倍である。
【００１４】溶媒からの高純度ビニレンカーボネートの
析出は、冷却により行うのが好ましい。とりわけ、ビニ
レンカーボネート溶液を０〜２０℃に冷却し、更に攪拌
下に０．１〜１０℃／時の速度で５〜１５℃冷却し、こ
の温度で攪拌することにより晶析させるという手法が好
ましい。
析出は、冷却により行うのが好ましい。とりわけ、ビニ
レンカーボネート溶液を０〜２０℃に冷却し、更に攪拌
下に０．１〜１０℃／時の速度で５〜１５℃冷却し、こ
の温度で攪拌することにより晶析させるという手法が好
ましい。
【００１５】また、別法として、ビニレンカーボネート
溶液に冷却した溶媒を添加する方法、ドライアイス等の
低温物質を投入する方法、脂肪族炭化水素等のビニレン
カーボネートの貧溶媒を添加する方法なども用いること
ができる。また、種晶を加えるのも好ましい。
溶液に冷却した溶媒を添加する方法、ドライアイス等の
低温物質を投入する方法、脂肪族炭化水素等のビニレン
カーボネートの貧溶媒を添加する方法なども用いること
ができる。また、種晶を加えるのも好ましい。
【００１６】晶析工程における高純度ビニレンカーボネ
ートの収率は、使用する溶媒量および溶媒に対する溶解
度に依存するので、温度および溶媒量を選択することに
より任意に収率を設定することができる。通常は、精製
効率の点からして、９７％程度以下に設定する。
ートの収率は、使用する溶媒量および溶媒に対する溶解
度に依存するので、温度および溶媒量を選択することに
より任意に収率を設定することができる。通常は、精製
効率の点からして、９７％程度以下に設定する。
【００１７】析出した結晶を濾過、遠心分離等の方法で
分離した後、必要に応じて結晶表面を適当な溶媒で洗浄
する。通常は、加熱してビニレンカーボネートを液体と
して取得した後、必要に応じてトッピング等で残留溶媒
を除去する。
分離した後、必要に応じて結晶表面を適当な溶媒で洗浄
する。通常は、加熱してビニレンカーボネートを液体と
して取得した後、必要に応じてトッピング等で残留溶媒
を除去する。
【００１８】蒸留工程は、常圧下または減圧下のいずれ
で実施することもできる。蒸留工程では、２〜１０段程
度の多段が好ましく、還流比３〜１５で行うのが好まし
い。なお、蒸留に際しては、必要に応じて、ブチルヒド
ロキシトルエン等の重合禁止剤を添加することもでき
る。
で実施することもできる。蒸留工程では、２〜１０段程
度の多段が好ましく、還流比３〜１５で行うのが好まし
い。なお、蒸留に際しては、必要に応じて、ブチルヒド
ロキシトルエン等の重合禁止剤を添加することもでき
る。
【００１９】本発明によれば、純度９９．９５％以上、
塩素化合物含有率５０ｐｐｍ以下、好ましくは３０ｐｐ
ｍ以下でエチレンカーボネートが実質上検出されない高
純度ビニレンカーボネートを製造することができる。
塩素化合物含有率５０ｐｐｍ以下、好ましくは３０ｐｐ
ｍ以下でエチレンカーボネートが実質上検出されない高
純度ビニレンカーボネートを製造することができる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により、本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。
【００２１】なお、粗ビニレンカーボネートは、クロロ
エチレンカーボネートの脱塩化水素反応（Ｍ．Ｓ．Ｎｅ
ｗｍａｎ ａｎｄ Ｒ．Ｗ．Ａｄｄｏｒ（Ｊ．Ａｍ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７５，１２６３（１９５３）、Ｊ．
Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７７，３７８９（１９５
５））により製造したものを使用した。分析は、ガスク
ロマトグラフィー（ＧＣ１４Ｂ、島津製作所製；カラム
ＴＣ５ＨＴ、ＧＬサイエンス製；５０℃から１０℃／分
で２５０℃まで昇温し３分間保持；インジェクション、
ディテクター（ＦＩＤ）ともに２５０℃）で実施した。
エチレンカーボネートの脱塩化水素反応（Ｍ．Ｓ．Ｎｅ
ｗｍａｎ ａｎｄ Ｒ．Ｗ．Ａｄｄｏｒ（Ｊ．Ａｍ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７５，１２６３（１９５３）、Ｊ．
Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７７，３７８９（１９５
５））により製造したものを使用した。分析は、ガスク
ロマトグラフィー（ＧＣ１４Ｂ、島津製作所製；カラム
ＴＣ５ＨＴ、ＧＬサイエンス製；５０℃から１０℃／分
で２５０℃まで昇温し３分間保持；インジェクション、
ディテクター（ＦＩＤ）ともに２５０℃）で実施した。
【００２２】純度は溶媒が残存している場合は溶媒をカ
ットした数値を使用し、以下の式により求めた。 純度＝（ビニレンカーボネート面積）／（全面積−残留
溶媒ピーク面積） 実施例１ 攪拌機を備えた２５０Ｌ反応器に、粗ビニレンカーボネ
ート（純度９８．６９％、塩素化合物３１６０ｐｐｍ、
エチレンカーボネート１０００ｐｐｍ）４０．０ｋｇ、
トルエン４０．０ｋｇおよびヘキサン４０．０ｋｇを仕
込み、攪拌しながら冷却した。１４．７℃で種晶４０ｇ
を添加し、３０分間攪拌した後、１４．３〜１４．５℃
で６時間攪拌し、更に４時間かけて４．０℃まで冷却し
た。析出した固体を濾別し、５℃に冷却したヘキサン５
０ｋｇで２回洗浄することにより、純度９９．９４％の
ビニレンカーボネートを収率９３．３％で固体として得
た。得られたビニレンカーボネートは、塩素化合物１５
ｐｐｍ、エチレンカーボネート４００ｐｐｍを含有して
いた。
ットした数値を使用し、以下の式により求めた。 純度＝（ビニレンカーボネート面積）／（全面積−残留
溶媒ピーク面積） 実施例１ 攪拌機を備えた２５０Ｌ反応器に、粗ビニレンカーボネ
ート（純度９８．６９％、塩素化合物３１６０ｐｐｍ、
エチレンカーボネート１０００ｐｐｍ）４０．０ｋｇ、
トルエン４０．０ｋｇおよびヘキサン４０．０ｋｇを仕
込み、攪拌しながら冷却した。１４．７℃で種晶４０ｇ
を添加し、３０分間攪拌した後、１４．３〜１４．５℃
で６時間攪拌し、更に４時間かけて４．０℃まで冷却し
た。析出した固体を濾別し、５℃に冷却したヘキサン５
０ｋｇで２回洗浄することにより、純度９９．９４％の
ビニレンカーボネートを収率９３．３％で固体として得
た。得られたビニレンカーボネートは、塩素化合物１５
ｐｐｍ、エチレンカーボネート４００ｐｐｍを含有して
いた。
【００２３】このビニレンカーボネートを精密蒸留（理
論段数３段、還流比１０）して、純度１００％のビニレ
ンカーボネートを収率８９．４％（晶析を含む通算収率
８３．４％）で得た。得られた高純度ビニレンカーボネ
ートは、塩素化合物を３ｐｐｍ含み、エチレンカーボネ
ートを含んでいなかった。
論段数３段、還流比１０）して、純度１００％のビニレ
ンカーボネートを収率８９．４％（晶析を含む通算収率
８３．４％）で得た。得られた高純度ビニレンカーボネ
ートは、塩素化合物を３ｐｐｍ含み、エチレンカーボネ
ートを含んでいなかった。
【００２４】実施例２ 粗ビニレンカーボネート（純度９８．５０％、塩素化合
物１８７５ｐｐｍ、エチレンカーボネート１０００ｐｐ
ｍ）を理論段数４段の蒸留塔を使用し、還流比５〜１０
で２回精密蒸留することにより純度９９．８０％のビニ
レンカーボネートを収率６９％で得た。このビニレンカ
ーボネートは、塩素化合物を５３０ｐｐｍ含み、エチレ
ンカーボネートを含んでいなかった。
物１８７５ｐｐｍ、エチレンカーボネート１０００ｐｐ
ｍ）を理論段数４段の蒸留塔を使用し、還流比５〜１０
で２回精密蒸留することにより純度９９．８０％のビニ
レンカーボネートを収率６９％で得た。このビニレンカ
ーボネートは、塩素化合物を５３０ｐｐｍ含み、エチレ
ンカーボネートを含んでいなかった。
【００２５】攪拌機を備えた５００ｍｌ四ツ口フラスコ
に、蒸留で得られたビニレンカーボネート１５０ｇ、ト
ルエン１３５ｇおよびヘキサン１５ｇを室温で仕込み７
時間かけて−５℃まで冷却した。析出した固体を濾別
し、５℃に冷却したヘキサン７５ｇで２回洗浄し、純度
９９．９９％のビニレンカーボネートを収率８８％（蒸
留を含めた通算収率は６０％）で得た。得られた高純度
ビニレンカーボネートは、塩素化合物を２５ｐｐｍ含
み、エチレンカーボネートを含んでいなかった。
に、蒸留で得られたビニレンカーボネート１５０ｇ、ト
ルエン１３５ｇおよびヘキサン１５ｇを室温で仕込み７
時間かけて−５℃まで冷却した。析出した固体を濾別
し、５℃に冷却したヘキサン７５ｇで２回洗浄し、純度
９９．９９％のビニレンカーボネートを収率８８％（蒸
留を含めた通算収率は６０％）で得た。得られた高純度
ビニレンカーボネートは、塩素化合物を２５ｐｐｍ含
み、エチレンカーボネートを含んでいなかった。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、粗ビニレンカーボネー
トを晶析と蒸留とを組み合わせて精製することによっ
て、高純度のビニレンカーボネートを高収率で得ること
ができる。
トを晶析と蒸留とを組み合わせて精製することによっ
て、高純度のビニレンカーボネートを高収率で得ること
ができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 粗ビニレンカーボネートを晶析工程およ
び蒸留工程に付すことを特徴とする高純度ビニレンカー
ボネートの製造方法。 - 【請求項２】 粗ビニレンカーボネートがエチレンカー
ボネートを塩素化して得られるクロロエチレンカーボネ
ートの脱塩化水素反応により製造されたビニレンカーボ
ネートであることを特徴とする請求項１記載の製造方
法。 - 【請求項３】 晶析工程を芳香族化合物および脂肪族炭
化水素化合物の混合溶媒で行うことを特徴とする請求項
１または２記載の製造方法。 - 【請求項４】 エチレンカーボネートを塩素化して得ら
れるクロロエチレンカーボネートの脱塩化水素反応によ
り製造された粗ビニレンカーボネートを、トルエンおよ
びヘキサンの混合溶媒から晶析させた後、蒸留すること
を特徴とする高純度ビニレンカーボネートの製造方法。
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Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006119910A1 (de) | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Saltigo Gmbh | Verfahren zur reinigung von vinylencarbonat |
| WO2006119908A1 (de) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Saltigo Gmbh | Verfahren zur lagerung und zum transport von vinylencarbonat |
| WO2006119907A1 (de) | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Saltigo Gmbh | Hochreines vinylencarbonat sowie ein verfahren zur reinigung von vinylencarbonat |
| KR100810123B1 (ko) | 2006-08-21 | 2008-03-06 | 삼전순약공업(주) | 조 에틸렌카보네이트로부터 고순도 및 고수율의에틸렌카보네이트의 정제방법 |
| JP2010282760A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Mitsubishi Chemicals Corp | 非水系電解液、非水系電解液二次電池、およびビニレンカーボネート |
| CN101195610B (zh) * | 2006-12-07 | 2011-05-25 | 比亚迪股份有限公司 | 一种碳酸亚乙烯酯的提纯方法 |
| KR101320746B1 (ko) | 2005-05-12 | 2013-10-21 | 잘티고 게엠베하 | 비닐렌 카르보네이트의 제조 방법 |
| JP2014150062A (ja) * | 2014-02-26 | 2014-08-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | 非水系電解液、非水系電解液二次電池、およびビニレンカーボネート |
| JP2014160658A (ja) * | 2014-02-26 | 2014-09-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 非水系電解液、非水系電解液二次電池、およびビニレンカーボネート |
| KR20170030523A (ko) | 2014-07-14 | 2017-03-17 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 고순도 바이닐렌 카보네이트, 비수 전해액, 및 그것을 이용한 축전 디바이스 |
| CN114011107A (zh) * | 2021-11-18 | 2022-02-08 | 中建安装集团有限公司 | 一种新型连续化生产高纯碳酸亚乙烯酯的装置及方法 |
| CN114957193A (zh) * | 2022-05-11 | 2022-08-30 | 内蒙古源宏精细化工有限公司 | 一种绿色合成碳酸亚乙烯酯的方法 |
| CN115304577A (zh) * | 2022-08-16 | 2022-11-08 | 鲁北超能新材料产业(山东)有限公司 | 一种碳酸亚乙烯酯的制备方法 |
| WO2023134191A1 (zh) * | 2022-01-13 | 2023-07-20 | 北京天弘天达科技股份有限公司 | 一种精馏-熔融结晶耦合技术纯化碳酸亚乙烯酯的方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2857434A (en) * | 1956-10-04 | 1958-10-21 | Monsanto Chemicals | Dihydroanthracenedicarboxaldehydes and process of preparing |
| GB899205A (en) * | 1960-04-28 | 1962-06-20 | Ici Ltd | The purification and polymerisation of vinylene carbonate |
| JPS61140563A (ja) * | 1984-12-13 | 1986-06-27 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 精製インド−ルの製造方法 |
| JPH04154763A (ja) * | 1990-10-17 | 1992-05-27 | Daicel Chem Ind Ltd | ２，２，６，６―テトラメチル―４―オキソピペリジンの精製方法 |
| JPH10270074A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Ube Ind Ltd | リチウム二次電池用電解液 |
| JPH11180974A (ja) * | 1997-12-15 | 1999-07-06 | Mitsubishi Chemical Corp | ビニレンカーボネートの製造方法 |
| JP2000026449A (ja) * | 1998-07-10 | 2000-01-25 | Ube Ind Ltd | ビニレンカーボネートの製造方法 |
| JP2000138071A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-05-16 | Ube Ind Ltd | 非水電解液およびそれを用いたリチウム二次電池 |
-
2001
- 2001-04-25 JP JP2001127299A patent/JP5150989B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2857434A (en) * | 1956-10-04 | 1958-10-21 | Monsanto Chemicals | Dihydroanthracenedicarboxaldehydes and process of preparing |
| GB899205A (en) * | 1960-04-28 | 1962-06-20 | Ici Ltd | The purification and polymerisation of vinylene carbonate |
| JPS61140563A (ja) * | 1984-12-13 | 1986-06-27 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 精製インド−ルの製造方法 |
| JPH04154763A (ja) * | 1990-10-17 | 1992-05-27 | Daicel Chem Ind Ltd | ２，２，６，６―テトラメチル―４―オキソピペリジンの精製方法 |
| JPH10270074A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Ube Ind Ltd | リチウム二次電池用電解液 |
| JPH11180974A (ja) * | 1997-12-15 | 1999-07-06 | Mitsubishi Chemical Corp | ビニレンカーボネートの製造方法 |
| JP2000026449A (ja) * | 1998-07-10 | 2000-01-25 | Ube Ind Ltd | ビニレンカーボネートの製造方法 |
| JP2000138071A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-05-16 | Ube Ind Ltd | 非水電解液およびそれを用いたリチウム二次電池 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JPN7012001716; 化学工学演習 第２版， 第１５刷, 1999, 第１２０-１２８頁, 株式会社 東京化学同人 * |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101171243B (zh) * | 2005-05-12 | 2011-09-14 | 赛拓有限责任公司 | 用于纯化碳酸亚乙烯酯的方法 |
| WO2006119910A1 (de) | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Saltigo Gmbh | Verfahren zur reinigung von vinylencarbonat |
| WO2006119907A1 (de) | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Saltigo Gmbh | Hochreines vinylencarbonat sowie ein verfahren zur reinigung von vinylencarbonat |
| KR101320746B1 (ko) | 2005-05-12 | 2013-10-21 | 잘티고 게엠베하 | 비닐렌 카르보네이트의 제조 방법 |
| JP2008540467A (ja) * | 2005-05-12 | 2008-11-20 | サルティゴ・ゲーエムベーハー | 高純度ビニレンカーボネートおよびビニレンカーボネートの精製方法 |
| JP2008540469A (ja) * | 2005-05-12 | 2008-11-20 | サルティゴ・ゲーエムベーハー | ビニレンカーボネートの精製方法 |
| WO2006119908A1 (de) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Saltigo Gmbh | Verfahren zur lagerung und zum transport von vinylencarbonat |
| KR101320734B1 (ko) | 2005-05-12 | 2013-10-21 | 잘티고 게엠베하 | 비닐렌 카르보네이트의 정제 방법 |
| CN101175743B (zh) * | 2005-05-12 | 2011-09-14 | 赛拓有限责任公司 | 高纯度的碳酸亚乙烯酯和一种纯化碳酸亚乙烯酯的方法 |
| KR101320803B1 (ko) * | 2005-05-12 | 2013-10-22 | 잘티고 게엠베하 | 고순도 비닐렌 카르보네이트 및 비닐렌 카르보네이트 정제방법 |
| US7999122B2 (en) | 2005-05-12 | 2011-08-16 | Saltigo Gmbh | Method of purifying vinylene carbonate |
| US8071792B2 (en) | 2005-05-12 | 2011-12-06 | Saltigo Gmbh | High-purity vinylene carbonate and a method of purifying vinylene carbonate |
| KR100810123B1 (ko) | 2006-08-21 | 2008-03-06 | 삼전순약공업(주) | 조 에틸렌카보네이트로부터 고순도 및 고수율의에틸렌카보네이트의 정제방법 |
| CN101195610B (zh) * | 2006-12-07 | 2011-05-25 | 比亚迪股份有限公司 | 一种碳酸亚乙烯酯的提纯方法 |
| JP2010282760A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Mitsubishi Chemicals Corp | 非水系電解液、非水系電解液二次電池、およびビニレンカーボネート |
| JP2014150062A (ja) * | 2014-02-26 | 2014-08-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | 非水系電解液、非水系電解液二次電池、およびビニレンカーボネート |
| JP2014160658A (ja) * | 2014-02-26 | 2014-09-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 非水系電解液、非水系電解液二次電池、およびビニレンカーボネート |
| KR20170030523A (ko) | 2014-07-14 | 2017-03-17 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 고순도 바이닐렌 카보네이트, 비수 전해액, 및 그것을 이용한 축전 디바이스 |
| CN114011107A (zh) * | 2021-11-18 | 2022-02-08 | 中建安装集团有限公司 | 一种新型连续化生产高纯碳酸亚乙烯酯的装置及方法 |
| CN114011107B (zh) * | 2021-11-18 | 2022-06-24 | 中建安装集团有限公司 | 一种新型连续化生产高纯碳酸亚乙烯酯的装置及方法 |
| WO2023134191A1 (zh) * | 2022-01-13 | 2023-07-20 | 北京天弘天达科技股份有限公司 | 一种精馏-熔融结晶耦合技术纯化碳酸亚乙烯酯的方法 |
| CN114957193A (zh) * | 2022-05-11 | 2022-08-30 | 内蒙古源宏精细化工有限公司 | 一种绿色合成碳酸亚乙烯酯的方法 |
| CN115304577A (zh) * | 2022-08-16 | 2022-11-08 | 鲁北超能新材料产业(山东)有限公司 | 一种碳酸亚乙烯酯的制备方法 |
| CN115304577B (zh) * | 2022-08-16 | 2024-03-12 | 鲁北超能新材料产业(山东)有限公司 | 一种碳酸亚乙烯酯的制备方法 |
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