JP2002310735A - 半導体物理量センサ装置 - Google Patents
半導体物理量センサ装置Info
- Publication number
- JP2002310735A JP2002310735A JP2001114332A JP2001114332A JP2002310735A JP 2002310735 A JP2002310735 A JP 2002310735A JP 2001114332 A JP2001114332 A JP 2001114332A JP 2001114332 A JP2001114332 A JP 2001114332A JP 2002310735 A JP2002310735 A JP 2002310735A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terminal
- circuit
- data
- physical quantity
- memory circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims abstract description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 15
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 22
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 8
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/84—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by variation of applied mechanical force, e.g. of pressure
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D3/00—Indicating or recording apparatus with provision for the special purposes referred to in the subgroups
- G01D3/02—Indicating or recording apparatus with provision for the special purposes referred to in the subgroups with provision for altering or correcting the law of variation
- G01D3/022—Indicating or recording apparatus with provision for the special purposes referred to in the subgroups with provision for altering or correcting the law of variation having an ideal characteristic, map or correction data stored in a digital memory
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D18/00—Testing or calibrating apparatus or arrangements provided for in groups G01D1/00 - G01D15/00
- G01D18/008—Testing or calibrating apparatus or arrangements provided for in groups G01D1/00 - G01D15/00 with calibration coefficients stored in memory
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2207/00—Indexing scheme relating to arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C2207/22—Control and timing of internal memory operations
- G11C2207/2254—Calibration
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Technology Law (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Indication And Recording Devices For Special Purposes And Tariff Metering Devices (AREA)
- Testing Or Calibration Of Command Recording Devices (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
製造プロセスで安価に製造でき、かつ少ない端子数でも
って電気的トリミングをおこなうこと。 【解決手段】 センサ素子であるホイートストーンブリ
ッジ回路15と、仮のトリミングデータを記憶する補助
メモリ回路12と、確定したトリミングデータを記憶す
る主メモリ回路13と、補助メモリ回路12または主メ
モリ回路13に記憶されたトリミングデータに基づいて
センサ素子の出力特性を調整する調整回路14と、を具
備し、これらの素子および回路を、CMOS製造プロセ
スにより製造される能動素子および受動素子のみで構成
し、かつ同一半導体チップ上に7〜8個の端子21〜2
8とともに形成する。
Description
または産業用などの各種装置等に用いる圧力センサや加
速度センサなどの半導体物理量センサ装置に関し、特
に、EPROMを用いた電気的トリミングにより感度調
整や温度特性調整やオフセット調整をおこなう構成の半
導体物理量センサ装置に関する。
として、従来のレーザートリミング手法には、トリミン
グ後のアセンブリ工程で出力特性に変動が生じても再調
整ができないという欠点があるため、近時、アセンブリ
終了後に調整可能な電気的トリミング手法が用いられて
いる。しかしながら、電気的トリミングでは、トリミン
グデータの入出力や、EPROMへのデータ書き込み等
のために多数の制御端子を必要とするため、ワイヤボン
ディング数が増えるなどの原因により製造コストが増大
するという問題点がある。そこで、抵抗分圧とバイポー
ラトランジスタを用いて端子の動作閾値電圧を複数個設
けることにより、少ない端子数でもって電気的トリミン
グをおこなう提案がなされている(たとえば、特開平6
−29555号公報)。
たバイポーラトランジスタを用いた提案では、CMOS
プロセスで作製するEPROMとバイポーラトランジス
タとが混在するため、BiCMOS製造プロセスが必要
になり、コスト増を招くという問題点がある。そこで、
この提案においてバイポーラトランジスタに代えてMO
Sトランジスタを用いることが考えられる。しかし、そ
の場合には、MOSトランジスタで設定可能な閾値電圧
の上限値がバイポーラよりも低いため、複数の閾値どう
しの間隔が狭くなり、誤動作を起こし易くなるという不
都合が生じる。これを防ぐには、閾値電圧の上限をバイ
ポーラと同等程度まで高くする必要があるが、そうする
とMOSトランジスタの高耐圧化を図ったり、新たに保
護回路を付加したりする必要があり、コスト増を招くと
いう問題点がある。
のであって、CMOS製造プロセスで製造でき、安価
で、かつ少ない端子数でもって電気的トリミングをおこ
なうことが可能な半導体物理量センサ装置を提供するこ
とを目的とする。
め、本発明にかかる半導体物理量センサ装置は、センサ
素子と、仮のトリミングデータを記憶するシフトレジス
タ等の補助メモリ回路と、確定したトリミングデータを
記憶するEPROM等の主メモリ回路と、補助メモリ回
路または主メモリ回路に記憶されたトリミングデータに
基づいてセンサ素子の出力特性を調整する調整回路と、
を具備する。これらの素子および回路は同一半導体チッ
プ上に形成されており、CMOS製造プロセスにより製
造される能動素子および受動素子のみで構成されてい
る。また、本発明にかかる半導体物理量センサ装置は、
出力端子、トリミングデータの入力端子、接地電位を供
給する端子、動作電圧を供給する端子、外部クロックを
入力する端子、内部ディジタル回路の制御信号を入力す
る端子、および主メモリ回路にデータを書き込むための
電圧を供給する1または2個の端子、の合計7または8
個の端子を有する。
された仮のトリミングデータを漸次変更しながらセンサ
出力を測定することにより、所望のセンサ出力が得られ
るトリミングデータを確定し、それを主メモリ回路に記
憶させ、通常の使用状態においては、主メモリ回路に記
憶されたトリミングデータを用いて調整回路によりセン
サ出力を調整する構成とし、これらセンサ素子、補助メ
モリ回路、主メモリ回路および調整回路が、CMOS製
造プロセスにより製造される能動素子および受動素子の
みで構成され、かつ7または8個の端子とともに同一半
導体チップ上に設けられる。
いて図面を参照しつつ詳細に説明する。図1は、本発明
の実施の形態にかかる半導体物理量センサ装置の構成の
一例を示すブロック図である。この半導体物理量センサ
装置1は、たとえば、動作選択回路11、補助メモリ回
路12、主メモリ回路13、調整回路14、センサ素子
で構成されるホイートストーンブリッジ回路15、増幅
回路16および第1から第8までの8個の端子21〜2
8を備えている。
1の接地電位を供給する端子である。第2端子22は、
半導体物理量センサ装置1の動作電圧を供給する端子で
ある。第3端子23は、直列ディジタルデータ(シリア
ルデータ)の入出力をおこなう端子である。第4端子2
4は、外部クロックを入力する端子である。第5端子2
5は内部ディジタル回路の制御信号を入力する端子であ
る。第6端子26は、第2端子22に印加される動作電
圧以上の電圧を供給する端子である。第7端子27は、
第2端子22に印加される動作電圧以上で、かつ第6端
子26の印加電圧とは異なる電圧を供給する端子であ
る。第8端子28は、半導体物理量センサ装置1の信号
を外部へ出力する端子である。
に基づく動作タイミングで、外部から供給された直列デ
ィジタルデータを内部で使用するために並列ディジタル
データ(パラレルデータ)に変換する。また、補助メモ
リ回路12は、内部で使用している並列ディジタルデー
タを外部へ出力するために直列ディジタルデータに変換
する。また、補助メモリ回路12は、動作選択回路11
に制御データを供給する。主メモリ回路13は、第6端
子26および第7端子27の印加電圧に応じて、補助メ
モリ回路12から供給された並列ディジタルデータより
なるトリミングデータを記憶する。
された制御信号、および補助メモリ回路12から供給さ
れた制御データに基づいて、補助メモリ回路12および
主メモリ回路13にデータの入出力を制御する信号を供
給する。ホイートストーンブリッジ回路15は、被測定
媒体の物理量に応じた出力信号を発生する。増幅回路1
6は、ホイートストーンブリッジ回路15の出力信号を
増幅し、それを第8端子28を介して外部へ出力する。
調整回路14は、補助メモリ回路12または主メモリ回
路13から供給されたトリミングデータに基づいて、ホ
イートストーンブリッジ回路15に対して温度特性を考
慮した感度調整をおこない、また増幅回路16に対して
温度特性を考慮したオフセット調整をおこなう。
に形成した半導体圧力センサ装置の全体構成の一例を示
すブロック図である。この半導体圧力センサ装置3は、
入出力切換回路31、シフトレジスタ32、コントロー
ル・ロジック33、EPROM34、信号選択回路3
5、D/Aコンバータ36、感度調整回路37、温度特
性調整回路(以下「温特調整回路」という)38、オフ
セット調整回路39、ゲージ回路40および信号増幅回
路41を備えている。これら入出力切換回路31、シフ
トレジスタ32、コントロール・ロジック33、EPR
OM34、信号選択回路35、D/Aコンバータ36、
感度調整回路37、温特調整回路38、オフセット調整
回路39、ゲージ回路40および信号増幅回路41は、
同一半導体チップ上に形成されており、CMOS製造プ
ロセスにより製造される能動素子および受動素子のみで
構成されている。また、半導体圧力センサ装置3には、
外部からの電源供給や信号の授受のために、GND端子
51、Vcc端子52、DS端子53、CLK端子5
4、E端子55、CG端子56、EV端子57およびV
out端子58が設けられている。
それぞれ半導体圧力センサ装置3に接地電位および特に
限定しないが、たとえば5Vの電源電位を供給するため
の端子である。DS端子53は、半導体圧力センサ装置
3とその外部の回路との間で直列ディジタルデータの授
受に供される。CLK端子54は半導体圧力センサ装置
3に外部クロックを供給するための端子である。E端子
55には、半導体圧力センサ装置3内のディジタル回路
の動作状態を制御するためのイネーブル信号が外部から
供給される。Vout端子58は、半導体圧力センサ装
置3の検出信号を装置外部へ出力する端子である。
タを書き込む際に、Vcc端子52に印加される動作電
圧よりも高い電圧、特に限定しないが、たとえば26V
が印加される。また、EPROM34にデータを書き込
む際には、EV端子57に、Vcc端子52に印加され
る動作電圧よりも高く、かつCG端子56に印加される
電圧とは異なる電圧、特に限定しないが、たとえば13
Vが印加される。なお、CG端子56とEV端子57と
を兼用、すなわち同一端子とし、いずれか一方の印加電
圧に基づいて他方の印加電圧を生成する構成としてもよ
い。
して外部から供給された直列ディジタルデータよりなる
トリミングデータをシフトレジスタ32へ供給するモー
ドと、シフトレジスタ32から供給された直列ディジタ
ルデータをDS端子53を介して外部へ出力するモード
との切り換えをおこなう。シフトレジスタ32は、前記
外部クロックに同期して、外部から供給された直列ディ
ジタルデータを並列ディジタルデータに変換する。ま
た、シフトレジスタ32は、EPROM34に記憶され
ている並列ディジタルデータよりなるトリミングデータ
を直列ディジタルデータに変換する。
ら供給された並列ディジタルデータよりなるトリミング
データを記憶する。信号選択回路35は、シフトレジス
タ32から供給された並列ディジタルデータよりなるト
リミングデータと、EPROM34から供給された並列
ディジタルデータよりなるトリミングデータのいずれか
一方を選択してD/Aコンバータ36に供給する。コン
トロール・ロジック33は、E端子55から入力された
イネーブル信号およびシフトレジスタ32から供給され
た制御データに基づいて、入出力切換回路31、シフト
レジスタ32、EPROM34および信号選択回路35
に、それぞれの動作を制御するための制御信号を生成し
て出力する。ここで、説明の便宜上、コントロール・ロ
ジック33からシフトレジスタ32に供給される制御信
号をシフトレジスタ制御信号65とする。D/Aコンバ
ータ36は、並列ディジタルデータよりなるトリミング
データをアナログデータに変換する。
じた出力信号を発生させる半導体歪みゲージにより構成
されている。信号増幅回路41は、ゲージ回路40で発
生した信号を増幅してVout端子58を介して外部へ
出力する。感度調整回路37は、D/Aコンバータ36
の出力に応じてゲージ回路40への印加電流を変更調整
(トリミング)する。同様に、オフセット調整回路39
は、D/Aコンバータ36の出力に応じて信号増幅回路
41のオフセット調整用基準電圧を変更調整する。温特
調整回路38は、D/Aコンバータ36の出力に応じ
て、感度調整回路37およびオフセット調整回路39の
それぞれの出力に対して加減算をおこなう。
スタ32、コントロール・ロジック33、EPROM3
4、信号選択回路35およびD/Aコンバータ36はデ
ィジタル回路部を構成する。一方、感度調整回路37、
温特調整回路38、オフセット調整回路39、ゲージ回
路40および信号増幅回路41はアナログ回路部を構成
する。
2は補助メモリ回路12としての機能を有する。EPR
OM34は主メモリ回路13としての機能を有する。入
出力切換回路31、コントロール・ロジック33および
信号選択回路35は動作選択回路11としての機能を有
する。D/Aコンバータ36、感度調整回路37、温特
調整回路38およびオフセット調整回路39は、調整回
路14としての機能を有する。ゲージ回路40はホイー
トストーンブリッジ回路15としての機能を有する。信
号増幅回路41は増幅回路16としての機能を有する。
また、GND端子51、Vcc端子52、DS端子5
3、CLK端子54、E端子55、CG端子56、EV
端子57およびVout端子58は、第1から第8まで
の端子21〜28に順に対応している。
を模式的に示す図である。シフトレジスタ32のビット
数は、特に限定しないが、たとえば51ビットである。
そのうち、2ビットは、コントロール・ロジック33へ
供給する制御データ61を格納する。この2ビットにつ
づいて、EPROM34へ供給するデータ62、信号選
択回路35へ供給するトリミングデータ63、またはE
PROM34から供給されたデータ64のいずれかを格
納するために48ビットが使用される。残りの1ビット
はバッファとして使用される。
圧力センサ装置3の動作モードとの関係について図4を
参照しながら説明する。CLK端子54に外部クロック
が入力され、かつCG端子56およびEV端子57がと
もにノンチャージ状態のとき、E端子55の入力がLレ
ベル、制御データ61の2ビット(AとB)がLレベル
で、DS端子53に直列ディジタルデータが入力される
と、シフトレジスタ(SR)制御信号65はLレベルと
なり、信号選択回路35はEPROM34を選択し、入
出力切換回路31は入力となる。これによって、外部か
らシフトレジスタ32に直列ディジタルデータが入力さ
れる(モードNo.1)。
れ、かつCG端子56およびEV端子57がともにノン
チャージ状態のとき、E端子55の入力がHレベル、制
御データ61の2ビット(AとB)がLレベルである
と、シフトレジスタ制御信号65はLレベルとなり、信
号選択回路35はEPROM34を選択し、入出力切換
回路31は出力となる。これによって、シフトレジスタ
32から外部に直列ディジタルデータが出力される(モ
ードNo.2)。
3の入力がLレベル、CLK端子54の入力がLレベ
ル、制御データ61の第1のビット(A)および第2の
ビット(B)がそれぞれHレベルおよびLレベル、CG
端子56およびEV端子57がともにノンチャージ状態
のとき、シフトレジスタ制御信号65はLレベルとな
り、信号選択回路35はシフトレジスタ32を選択し、
入出力切換回路31は出力となる。これによって、シフ
トレジスタ32に格納されたデータを用いてトリミング
がおこなわれる(モードNo.3)。
3の入力がLレベル、CLK端子54の入力がLレベ
ル、CG端子56およびEV端子57がともにノンチャ
ージ状態のとき、シフトレジスタ制御信号65はLレベ
ルとなり、信号選択回路35はEPROM34を選択
し、入出力切換回路31は入力となる。これによって、
EPROM34に記憶されたデータを用いてトリミング
をおこなう定常状態となる(モードNo.4)。
3の入力がLレベル、CLK端子54の入力がLレベ
ル、制御データ61の2ビット(AとB)がHレベル、
CG端子56およびEV端子57がともにノンチャージ
状態のとき、シフトレジスタ制御信号65はLレベルと
なり、入出力切換回路31は出力となる。これによっ
て、シフトレジスタ32に格納されたデータがEPRO
M34に転送される(モードNo.5)。
3の入力がLレベル、CLK端子54の入力がLレベ
ル、制御データ61の2ビット(AとB)がHレベル、
CG端子56およびEV端子57にそれぞれ書き込み電
圧が印加された状態のとき、シフトレジスタ制御信号6
5はLレベルとなり、入出力切換回路31は出力とな
る。これによって、シフトレジスタ32に格納されたデ
ータがEPROM34に書き込まれる(モードNo.
6)。
3の入力がLレベル、CLK端子54の入力がLレベ
ル、制御データ61の第1のビット(A)および第2の
ビット(B)がそれぞれLレベルおよびHレベル、CG
端子56およびEV端子57がともにノンチャージ状態
のとき、シフトレジスタ制御信号65はHレベルとな
り、信号選択回路35はEPROM34を選択し、入出
力切換回路31は出力となる。これによって、EPRO
M34に記憶されたデータがシフトレジスタ32に転送
される(モードNo.7)。
トリミングをおこなう手順について説明する。半導体圧
力センサ装置3は、Vcc端子52より動作電源であ
る、たとえば5Vの電圧が投入されると、自動的に上述
したモードNo.4の定常状態になるように各端子が設
定されている。トリミングを実施していない初期状態に
おいては、EPROM34は、何も記憶していないオー
ル「0」の状態であり、このときの信号増幅回路41お
よびVout端子58は飽和状態、すなわち、電源電位
もしくは設置電位のいずれか、あるいはその電位に近い
状態となる。
CLK端子54に外部クロックを入力しながら、DS端
子53からトリミングデータを入力し、かつE端子55
をLレベルとすることによって、外部からシフトレジス
タ32にトリミングデータを格納する(モードNo.
1)。その後、CLK端子54およびDS端子53をL
レベルとし、かつE端子55をHレベルとすることによ
って、シフトレジスタ32に格納したトリミングデータ
を用いてトリミングをおこなう(モードNo.3)。こ
のとき、Vout端子58からのセンサ出力を測定す
る。この仮トリミング作業を所望のセンサ出力が得られ
るまで繰り返しおこなう。つまり、外部から入力する仮
のトリミングデータを漸次変更しながらセンサ出力を測
定し、所望のセンサ出力が得られるトリミングデータを
確定する。
すタイミングチャートのように、CLK端子54に外部
クロックを入力しながら、DS端子53から確定済みの
トリミングデータを入力し、かつE端子55をLレベル
とすることによって、外部からシフトレジスタ32に確
定済みのトリミングデータを格納する(モードNo.
1)。つづいて、E端子55をHレベル、DS端子53
をLレベルおよびCLK端子54をLレベルとして、シ
フトレジスタ32からEPROM34に確定済みのトリ
ミングデータを転送する(モードNo.5)。その後、
CG端子56およびEV端子57にそれぞれ書き込み電
圧を印加して、シフトレジスタ32から転送された確定
済みのトリミングデータをEPROM34に書き込む
(モードNo.6)。
終了となり、それ以降は初期状態(モードNo.4)で
半導体圧力センサ装置3を使用する。そうすれば、常に
EPROM34に記憶されたトリミングデータに基づい
て調整された所望のセンサ特性を得ることができる。
図7に示すタイミングチャートのように、CLK端子5
4に外部クロックを入力しながら、DS端子53から仮
のトリミングデータを入力し、かつE端子55をLレベ
ルとすることによって、外部からシフトレジスタ32に
仮のトリミングデータを格納する(モードNo.1)。
その後、E端子55をHレベルにすると、シフトレジス
タ32に格納された仮のトリミングデータをDS端子5
3から出力させることができる(モードNo.2)。こ
れは、DS端子53から入力した仮のトリミングデータ
を、入出力切換回路31およびシフトレジスタ32を経
由させた後に、そのままDS端子53へ出力させること
になるため、シフトレジスタ32および入出力切換回路
31の動作の良否判定をおこなったことになる。つま
り、図7に示すタイミングチャートを実行することによ
って、シフトレジスタ32および入出力切換回路31の
動作の良否判定をおこなうことができる。なお、図7に
示すタイミングチャートのうち、無視と示したビット
は、トリミングの調整に関係しないビットであり、無視
してよい。後述する図8においても同様である。
うに、E端子55をHレベル、DS端子53をLレベ
ル、CLK端子54をLレベルとすれば、EPROM3
4に記憶されたトリミングデータをシフトレジスタ32
に転送することができる(モードNo.7)。転送後、
CLK端子54に外部クロックを入力しながら、E端子
55をHレベルにすると、シフトレジスタ32に格納さ
れたトリミングデータをDS端子53から出力させるこ
とができる(モードNo.2)。これによって、EPR
OM34に記憶されたトリミングデータをDS端子53
から出力させることができるので、EPROM34の動
作の良否を確認したり、EPROM34のテータ保持能
力を調べたり、トリミング後のセンサ特性の不良原因を
調査することができ、半導体圧力センサ装置3の品質保
証や管理に非常に有効である。
スタ32に記憶された仮のトリミングデータを漸次変更
しながらセンサ出力を測定することにより、所望のセン
サ出力が得られるトリミングデータを確定し、それをE
PROM34に記憶させ、通常の使用状態においては、
EPROM34に記憶されたトリミングデータを用いて
感度調整回路37、温特調整回路38およびオフセット
調整回路39によりセンサ出力を調整する構成とし、こ
れらの各構成要素をCMOS製造プロセスにより製造さ
れる能動素子および受動素子のみで構成し、かつ7また
は8個の端子とともに同一半導体チップ上に設けたた
め、安価で、かつ少ない端子数でもって電気的トリミン
グをおこなうことが可能な半導体物理量センサ装置が得
られる。
装置に限らず、温度、湿度、速度、加速度、光、磁気ま
たは音など種々の物理量に対する各センサ装置に適用で
きる。
された仮のトリミングデータを漸次変更しながらセンサ
出力を測定することにより、所望のセンサ出力が得られ
るトリミングデータを確定し、それを主メモリ回路に記
憶させ、通常の使用状態においては、主メモリ回路に記
憶されたトリミングデータを用いて調整回路によりセン
サ出力を調整する構成とし、これらセンサ素子、補助メ
モリ回路、主メモリ回路および調整回路が、CMOS製
造プロセスにより製造される能動素子および受動素子の
みで構成され、かつ7または8個の端子とともに同一半
導体チップ上に設けられる構成であるため、安価で、か
つ少ない端子数でもって電気的トリミングをおこなうこ
とが可能な半導体物理量センサ装置が得られる。
サ装置の構成の一例を示すブロック図である。
導体圧力センサ装置の全体構成の一例を示すブロック図
である。
るシフトレジスタの構成の一例を模式的に示す図であ
る。
モードを説明するための図表である。
タイミングを示すタイミングチャートである。
タイミングを示すタイミングチャートである。
タイミングを示すタイミングチャートである。
タイミングを示すタイミングチャートである。
Claims (9)
- 【請求項1】 検知した物理量に応じた電気信号を生成
するセンサ素子と、 前記センサ素子により生成された電気信号を外部へ出力
する出力端子と、 前記センサ素子の出力特性を調整するためのトリミング
データとなる直列ディジタルデータを入力するデータ入
力端子と、 前記データ入力端子から入力されたトリミングデータを
一時的に記憶する補助メモリ回路と、 前記補助メモリ回路に記憶されたトリミングデータを電
気的な再書き込み動作によって記憶する再書き込み可能
な読み出し専用の主メモリ回路と、 前記補助メモリ回路に記憶されたトリミングデータ、ま
たは前記主メモリ回路に記憶されたトリミングデータに
基づいて前記センサ素子の出力特性を調整する調整回路
と、 を具備し、 同一半導体チップ上に形成された、CMOS製造プロセ
スにより製造される能動素子および受動素子のみで構成
されていることを特徴とする半導体物理量センサ装置。 - 【請求項2】 前記補助メモリ回路は、入力された直列
ディジタルデータを並列ディジタルデータに変換して装
置内部の回路に供給することを特徴とする請求項1に記
載の半導体物理量センサ装置。 - 【請求項3】 前記調整回路は、前記トリミングデータ
に基づいて、前記センサ素子の感度を設定するために前
記センサ素子への印加電流の変更調整をおこなう感度調
整回路を有することを特徴とする請求項1または2に記
載の半導体物理量センサ装置。 - 【請求項4】 前記調整回路は、前記感度調整回路の出
力に対して加減算をおこなう温度特性調整回路をさらに
有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに
記載の半導体物理量センサ装置。 - 【請求項5】 前記センサ素子により生成された電気信
号を増幅して外部へ出力するための増幅回路をさらに有
し、 前記調整回路は、前記増幅回路のオフセット調整用基準
電圧の変更調整をおこなうオフセット調整回路を有する
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の
半導体物理量センサ装置。 - 【請求項6】 前記調整回路は前記感度調整回路および
前記オフセット調整回路のそれぞれの出力に対して加減
算をおこなう温度特性調整回路をさらに有することを特
徴とする請求項5に記載の半導体物理量センサ装置。 - 【請求項7】 前記データ入力端子は、前記補助メモリ
回路に格納されたデータを外部へ出力するための端子を
兼ねており、 また、前記補助メモリ回路は、格納しているデータを直
列ディジタルデータとして出力し、 前記データ入力端子と前記補助メモリ回路との間に、前
記データ入力端子から入力された直列ディジタルデータ
を前記補助メモリ回路へ供給するか、前記補助メモリ回
路から出力された直列ディジタルデータを前記データ入
力端子へ供給するか、を切り換える入出力切換回路をさ
らに有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一
つに記載の半導体物理量センサ装置。 - 【請求項8】 前記出力端子、前記データ入力端子、接
地電位を供給する端子、動作電圧を供給する端子、外部
クロックを入力する端子、内部ディジタル回路の制御信
号を入力する端子、および前記主メモリ回路にデータを
書き込むための、前記動作電圧以上の書き込み電圧を供
給する端子、の合計7個の端子を有し、かつ前記書き込
み電圧に基づいて異なる第2の書き込み電圧を発生する
回路を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか
一つに記載の半導体物理量センサ装置。 - 【請求項9】 前記出力端子、前記データ入力端子、接
地電位を供給する端子、動作電圧を供給する端子、外部
クロックを入力する端子、内部ディジタル回路の制御信
号を入力する端子、前記主メモリ回路にデータを書き込
むための、前記動作電圧以上の第1の書き込み電圧を供
給する端子、および前記主メモリ回路にデータを書き込
むための、前記動作電圧以上で、かつ前記第1の書き込
み電圧とは異なる第2の書き込み電圧を供給する端子、
の合計8個の端子を有することを特徴とする請求項1〜
7のいずれか一つに記載の半導体物理量センサ装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001114332A JP4764996B2 (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | 半導体物理量センサ装置 |
DE10216016A DE10216016B4 (de) | 2001-04-12 | 2002-04-11 | Halbleitervorrichtung zum Messen einer physikalischen Größe |
KR1020020019997A KR100601824B1 (ko) | 2001-04-12 | 2002-04-12 | 반도체 물리량 센서 장치 |
US10/120,778 US20020149984A1 (en) | 2001-04-12 | 2002-04-12 | Semiconductor physical quantity sensing device |
US10/406,604 US7180798B2 (en) | 2001-04-12 | 2003-04-04 | Semiconductor physical quantity sensing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001114332A JP4764996B2 (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | 半導体物理量センサ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002310735A true JP2002310735A (ja) | 2002-10-23 |
JP4764996B2 JP4764996B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=18965420
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001114332A Expired - Fee Related JP4764996B2 (ja) | 2001-04-12 | 2001-04-12 | 半導体物理量センサ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20020149984A1 (ja) |
JP (1) | JP4764996B2 (ja) |
KR (1) | KR100601824B1 (ja) |
DE (1) | DE10216016B4 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014504772A (ja) * | 2011-02-04 | 2014-02-24 | セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | 適応性のあるデータインターフェイスおよび電源用インターフェイスを備えた電子デバイス |
JP5482961B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2014-05-07 | 富士電機株式会社 | 半導体集積回路および半導体物理量センサ装置 |
DE102015203916A1 (de) | 2014-04-04 | 2015-10-08 | Fuji Electric Co., Ltd | Halbleitervorrichtung zum Erfassen einer physikalischen Grösse |
JP2015184208A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | セイコーエプソン株式会社 | 物理量検出センサー、電子機器、移動体および電子回路 |
WO2016203529A1 (ja) * | 2015-06-15 | 2016-12-22 | 富士電機株式会社 | データ通信システム、データ通信装置およびセンサ装置 |
JP2017022345A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | 富士電機株式会社 | 半導体集積回路装置 |
US10284192B2 (en) | 2016-06-03 | 2019-05-07 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3963115B2 (ja) * | 2002-04-09 | 2007-08-22 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 半導体物理量センサ装置 |
JP2007078397A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体圧力センサ |
DE102007009573A1 (de) * | 2007-02-27 | 2008-09-04 | Up Management Gmbh & Co Med-Systems Kg | Sensoreinheit und Überwachungssystem |
CN102680155B (zh) * | 2012-06-11 | 2014-04-16 | 中国矿业大学 | 旋转机械受力和振动测量装置 |
CN117436236B (zh) * | 2023-09-27 | 2024-05-17 | 四川大学 | 一种基于大模型的工艺流程智能规划方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0629555A (ja) * | 1992-07-09 | 1994-02-04 | Nippondenso Co Ltd | 半導体センサ装置 |
JPH07262721A (ja) * | 1994-03-17 | 1995-10-13 | Seiko Epson Corp | 情報記録装置 |
JPH0950325A (ja) * | 1995-08-10 | 1997-02-18 | Denso Corp | 基準電圧発生回路 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0786512B2 (ja) * | 1991-07-19 | 1995-09-20 | 株式会社フジクラ | 半導体センサ |
JP2991014B2 (ja) * | 1993-10-08 | 1999-12-20 | 三菱電機株式会社 | 圧力センサ |
EP0677721A1 (de) * | 1994-04-16 | 1995-10-18 | ABB Management AG | Messvorrichtung, insbesondere für eine Erfassungsstation |
EP0793075B1 (de) * | 1996-03-02 | 2002-09-25 | Micronas GmbH | Monolithisch integrierte Sensorschaltung |
KR100319057B1 (ko) * | 1996-11-12 | 2001-12-29 | 슈베르트 헬무트 | 센서 소자 |
DE19647897C2 (de) * | 1996-11-20 | 1998-10-01 | A B Elektronik Gmbh | Vorrichtung zum Einjustieren von Ausgangswerten oder -kurven von Drehwinkel- und Drehzahlsensoren |
US5805466A (en) * | 1996-11-27 | 1998-09-08 | Motorola Inc. | Device and method for calibrating a signal |
EP0943078A1 (de) * | 1996-12-04 | 1999-09-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Mikromechanisches bauelement zur erfassung von fingerabdrücken |
JP3009104B2 (ja) * | 1998-01-30 | 2000-02-14 | 富士電機株式会社 | 半導体センサおよび半導体センサ用パッケージ |
DE19728349A1 (de) * | 1997-07-03 | 1999-01-07 | Telefunken Microelectron | Sensoranordnung und Motorsteuerungseinrichtung für einen Verbrennungsmotor |
KR19990025330A (ko) * | 1997-09-12 | 1999-04-06 | 이형도 | 씨모스(cmos) 온도센서 회로 |
DE19743288A1 (de) * | 1997-09-30 | 1999-04-22 | Siemens Ag | Mikromechanischer Sensor |
SG68002A1 (en) * | 1997-11-25 | 1999-10-19 | Inst Of Microelectronics Natio | Cmos compatible integrated pressure sensor |
DE59707977D1 (de) * | 1997-11-27 | 2002-09-19 | Micronas Gmbh | Sensoreinrichtung |
US5995033A (en) * | 1998-02-02 | 1999-11-30 | Motorola Inc. | Signal conditioning circuit including a combined ADC/DAC, sensor system, and method therefor |
KR19990069294A (ko) * | 1998-02-06 | 1999-09-06 | 김덕중 | 히스테리시스를 갖는 온도 감지 회로 |
KR100309167B1 (ko) * | 1998-12-30 | 2001-12-17 | 김영환 | 온도검출회로 |
US6307477B1 (en) * | 2000-10-30 | 2001-10-23 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Process and apparatus for resetting a directly resettable micro-mechanical temperature memory switch |
-
2001
- 2001-04-12 JP JP2001114332A patent/JP4764996B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-04-11 DE DE10216016A patent/DE10216016B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-12 US US10/120,778 patent/US20020149984A1/en not_active Abandoned
- 2002-04-12 KR KR1020020019997A patent/KR100601824B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0629555A (ja) * | 1992-07-09 | 1994-02-04 | Nippondenso Co Ltd | 半導体センサ装置 |
JPH07262721A (ja) * | 1994-03-17 | 1995-10-13 | Seiko Epson Corp | 情報記録装置 |
JPH0950325A (ja) * | 1995-08-10 | 1997-02-18 | Denso Corp | 基準電圧発生回路 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014504772A (ja) * | 2011-02-04 | 2014-02-24 | セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | 適応性のあるデータインターフェイスおよび電源用インターフェイスを備えた電子デバイス |
JP5482961B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2014-05-07 | 富士電機株式会社 | 半導体集積回路および半導体物理量センサ装置 |
JP2015184208A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | セイコーエプソン株式会社 | 物理量検出センサー、電子機器、移動体および電子回路 |
DE102015203916A1 (de) | 2014-04-04 | 2015-10-08 | Fuji Electric Co., Ltd | Halbleitervorrichtung zum Erfassen einer physikalischen Grösse |
US9331684B2 (en) | 2014-04-04 | 2016-05-03 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device for sensing physical quantity |
DE102015203916B4 (de) | 2014-04-04 | 2020-07-09 | Fuji Electric Co., Ltd. | Halbleitervorrichtung zum Erfassen einer physikalischen Grösse |
US10200186B2 (en) | 2015-06-15 | 2019-02-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | Data communication system, data communication apparatus, and sensor apparatus |
JPWO2016203529A1 (ja) * | 2015-06-15 | 2017-06-29 | 富士電機株式会社 | データ通信システム、データ通信装置およびセンサ装置 |
US10644866B2 (en) | 2015-06-15 | 2020-05-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | Data communication system, data communication apparatus, and sensor apparatus |
WO2016203529A1 (ja) * | 2015-06-15 | 2016-12-22 | 富士電機株式会社 | データ通信システム、データ通信装置およびセンサ装置 |
US10841071B2 (en) | 2015-06-15 | 2020-11-17 | Fuji Electric Co., Ltd. | Data communication system, data communication apparatus, and sensor apparatus |
US9666288B2 (en) | 2015-07-15 | 2017-05-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor integrated circuit device having electrically rewriteable read-dedicated memory |
JP2017022345A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | 富士電機株式会社 | 半導体集積回路装置 |
US10284192B2 (en) | 2016-06-03 | 2019-05-07 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
DE112017000318B4 (de) | 2016-06-03 | 2024-01-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Halbleitervorrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10216016B4 (de) | 2010-07-08 |
KR20020079604A (ko) | 2002-10-19 |
DE10216016A1 (de) | 2002-12-19 |
US20020149984A1 (en) | 2002-10-17 |
JP4764996B2 (ja) | 2011-09-07 |
KR100601824B1 (ko) | 2006-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2720718B2 (ja) | 半導体センサ装置 | |
CN101256099B (zh) | 校准管芯上温度传感器的系统 | |
US7138824B1 (en) | Integrated multi-function analog circuit including voltage, current, and temperature monitor and gate-driver circuit blocks | |
US8390265B2 (en) | Circuit for generating reference voltage of semiconductor memory apparatus | |
JP2002310735A (ja) | 半導体物理量センサ装置 | |
JP2004522242A (ja) | 半導体記憶装置用の読み出し増幅器構造 | |
CN106664270B (zh) | 数据通信系统、数据通信装置以及传感器装置 | |
US7190628B2 (en) | Semiconductor memory device having self refresh mode and related method of operation | |
US7180798B2 (en) | Semiconductor physical quantity sensing device | |
JP2001119277A (ja) | スルーレート調整可能な出力回路を備えた半導体回路およびその調整方法ならびに自動調整装置 | |
JP5482961B2 (ja) | 半導体集積回路および半導体物理量センサ装置 | |
US7724038B2 (en) | Semiconductor device for receiving external signal having receiving circuit using internal reference voltage | |
JP3963115B2 (ja) | 半導体物理量センサ装置 | |
US20150288354A1 (en) | Semiconductor device for sensing physical quantity | |
JP2002350256A (ja) | 物理量センサのトリミング回路 | |
US5710778A (en) | High voltage reference and measurement circuit for verifying a programmable cell | |
KR100618670B1 (ko) | 액정 표시장치의 감마보정회로 | |
JPH09120319A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP3937951B2 (ja) | センサ回路 | |
JP4329658B2 (ja) | センスアンプ回路 | |
JP3036962B2 (ja) | 集積回路のテスト回路 | |
KR100560629B1 (ko) | 에코 클락 경로를 가지는 반도체 메모리 장치 | |
JPH07321288A (ja) | 半導体集積回路、並びにそれを用いたレギュレータ及び温度計 | |
JP2021189109A (ja) | センサ駆動回路 | |
US6882485B2 (en) | Method and system to measure the write current of a current mode write driver in a direct way |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070810 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20091112 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20091112 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20091112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101207 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110412 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20110422 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110425 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |