JP2002310335A - 真空ゲート弁及び真空装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の真空容器１，２間を連通又は連通遮断
するように開閉する真空ゲート弁５について、開弁時に
その内部を通過するワークＷの温度低下を、簡単な構造
により可及的に抑制する。 【解決手段】 開弁時に真空ゲート弁５の内部に区画さ
れかつ真空容器１，２の各内部の真空空間同士を連通す
る連通路３０の内壁面が、連通路３０を通過するワーク
Ｗから放射される輻射熱を反射する鏡面状の輻射熱反射
面Ａを有するようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の真空容器間
でワークを搬送するようにした真空ゲート弁及び真空装
置に関し、特に、その搬送中のワークの温度低下を抑制
するための技術分野に属する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、例えば実開昭６４―７７０号
公報等に開示されるように、隣接する１対の真空容器に
連通する弁箱内に弁板支持体を、その背面に軸支したガ
イドローラで案内しながら昇降可能に配置し、この弁板
支持体の一方の真空容器側の側面に、弁箱と一方の真空
容器との間の連通部を開閉する弁板を平行リンク機構を
介して接離可能に支持し、弁箱内の下部に、弁板支持体
の下降時に弁板に当接して弁板を支持体に対し閉じ方向
に相対移動させる弁板ストッパを設け、弁箱上壁外面
に、該上壁を上下方向に気密状に貫通するピストンロッ
ドを有するシリンダを取り付けて、そのピストンロッド
の下端部を弁箱内の弁板支持体に連結し、シリンダの伸
縮作動により弁板支持体を弁箱内で昇降移動させて弁板
を開閉させ、シリンダの収縮作動により弁板支持体を上
昇させたときには、その弁板支持体と共に弁板を上昇さ
せて弁箱の真空容器との連通部を開き、両真空容器同士
を連通させる一方、シリンダの伸長動作により弁板支持
体を下降させたときには、その途中で、弁板支持体と共
に下降する弁板を弁板ストッパに当接させて平行リンク
機構により弁板支持体から離隔させ、この離隔により弁
板を弁箱と真空容器との連通部の周りに押し付けて両真
空容器同士の連通を遮断するようにした真空ゲート弁は
知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、一般に、基
板等のワークに蒸着等の多数種類の成膜処理を連続して
施す場合、上記のような真空ゲート弁に接続されている
複数の真空容器の各内部でワークを加熱手段で加熱保持
した状態で蒸着等の成膜をすることが行われている。す
なわち、真空ゲート弁により密閉された一方の真空容器
内にワークを搬入し、そのワークを真空容器内に設けら
れたヒータ等により加熱しかつ所定の設定温度に維持し
た状態で成膜する。その成膜が終わると、真空ゲート弁
を開き、ワークを真空ゲート弁の内部を通過させて他方
の真空容器へ移動させる。そして、真空ゲート弁を閉じ
た後、この他方の真空容器内で同様にワークを加熱保持
した状態で次の成膜処理を行う。

【０００４】しかし、上記真空ゲート弁の内部には、通
常、ワークの熱損失を防ぐための対策は何等されていな
い。このため、一方の真空容器から真空ゲート弁の内部
を通過させて他方の真空ゲート弁へ加熱されたワークを
移動させる場合、そのゲート弁内部を通過する間にワー
クの温度が低下してしまうのは避けられず、次の成膜処
理でワークを目的の温度に加熱するのに大きなエネルギ
ーが必要となる。

【０００５】例えば、真空ゲート弁の内部にヒータ等の
加熱手段を設けて真空ゲート弁を通過するワークを加熱
するようにしてもよいが、構造が非常に複雑となり製造
コストが大きくなるという問題がある。

【０００６】本発明は斯かる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、上記のように真空容
器間で真空ゲート弁等を介してワークを搬送するように
した真空ゲート弁及び真空装置について、その装置構造
に改良を加えることで、真空容器間を搬送中のワークの
温度低下を簡単な構造により可及的に抑制しようとする
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１の発明では、複数の真空容器間を連通又
は連通遮断するように開閉する真空ゲート弁が対象であ
る。そして、開弁時に真空容器間を搬送されるように内
部を通過するワークに対向する周囲面に、該ワークから
放射される輻射熱を反射する輻射熱反射面が設けられて
いることを特徴とする。

【０００８】ここで、真空空間における熱伝導では空気
中のように対流による熱伝導がないので、加熱されたワ
ークの温度低下の主たる原因は輻射による熱伝導であ
る。従って、上記請求項１の構成によって、真空ゲート
弁の内部の輻射熱反射面がワークから放射される輻射熱
を反射して再びワークへ入射させるので、ワークの温度
低下を効果的に抑制することができる。

【０００９】さらに、内部を通過するワークの温度低下
を抑制する目的でヒータ等の加熱手段を別途設ける必要
がなく、簡単な構成によりワークの熱損失を抑制できる
ので、コストの低減を図ることができるものとなる。

【００１０】請求項２の発明では、請求項１の真空ゲー
ト弁において、真空容器の開口と略平行な方向に沿って
開弁位置及び閉弁位置の間を移動可能な弁板支持体と、
上記弁板支持体に接離可能に支持され、弁板支持体の閉
弁位置で上記弁板支持体に対し接離して上記真空容器の
開口を開閉する弁板とを備えることを特徴とする。この
ことにより、望ましい真空ゲート弁を具体化することが
できる。

【００１１】請求項３の発明では、請求項１又は２の真
空ゲート弁において、輻射熱反射面が鏡面状のものとす
る。

【００１２】また、請求項４の発明では、輻射熱反射面
の表面あらさＲがＲ＜２５Ｓを満足していることを特徴
とする。

【００１３】仮に、表面あらさＲがＲ≧２５Ｓである場
合には、ワークが放射する輻射熱を充分な強度で反射さ
せることができない。従って、上記請求項４の構成によ
って、望ましい輻射熱反射面を具体的に得ることができ
る。

【００１４】請求項５の発明では、真空装置として、複
数の真空容器と、該真空容器の各内部の真空空間同士を
連通し、真空容器間で搬送されるワークが通過する連通
路とを備え、上記連通路を通過するワークに対向する周
囲面には、該ワークから放射される輻射熱を反射する輻
射熱反射面が設けられていることを特徴とする。

【００１５】上記の構成により、簡単な構成によって複
数の真空容器の間に設けられた連通路を通過するワーク
の熱損失を可及的に低減することができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】図６〜図８は本発明の実施形態を
示し、１は前側に位置する第１真空容器、２は第１真空
容器１の後側に隣接する第２真空容器であって、各真空
容器１，２はそれぞれ互いに対向配置された略矩形状の
開口３，４を有する。そして、この真空容器１，２の内
部には、格納された基板等のワークＷを加熱保持するた
めのヒータ等の加熱手段が設けられており、各真空容器
１，２内でワークＷを所定の設定温度に保持した状態で
蒸着等の多種類の成膜ができるようになされている。

【００１７】そして、両真空容器１，２間には両真空容
器１，２の内部空間（真空空間）同士を連通又は連通遮
断するための真空ゲート弁５が配設されている。この真
空ゲート弁５は、両真空容器１，２間に気密状に挟まれ
た薄厚矩形状の弁箱６を備え、この弁箱６の前壁（図７
及び図８で左側壁）の下部には上記第１真空容器１の開
口３に対応する前側連通口７が、また後壁（図７及び図
８で右側壁）の下部には第２真空容器２の開口４に対応
する後側連通口８がそれぞれ開口されており、この連通
口７，８を介して弁箱６内の真空空間が各真空容器１，
２と連通している（以降、図７及び図８において左右方
向を前後方向、また紙面に垂直な方向を左右方向とす
る）。

【００１８】上記弁箱６内の上部には、アクチュエータ
としてのエアシリンダ３１が配設されている。すなわ
ち、弁箱６の上部壁面に締結固定されたシリンダ台１９
に載置された状態で配置固定されている。このエアシリ
ンダ３１は、シリンダボディから下方に突出して直線運
動をする円筒状のピストンロッド３１ａを有している。

【００１９】一方、弁箱６の上壁面には、ピストンロッ
ド３１ａと略同じ径を有する開口が貫通形成されてお
り、さらに、この開口の上側には開口に連続しかつ略同
じ径のガイド孔を有する案内支持部５１が固着されてい
る。そして、ピストンロッド３１ａは、案内支持部５１
に気密状態で案内されて、上記弁箱６の開口及び案内支
持部５１のガイド孔を通って弁箱６内部へ延びるように
なされている。

【００２０】そして、ピストンロッド３１ａの下端部に
は、底面部とこの底面部から下方に延びる突出部１１ａ
とを有するクレビス１１が鉛直面内で揺動可能に軸支さ
れている。そして、このクレビス１１の突出部１１ａ
に、上記弁箱６下部の連通口７，８よりも若干大きくか
つ弁箱６内の後側（第２真空容器２側）にオフセット配
置した弁板支持体１５が連結されている。

【００２１】このようにして、シリンダ３１の伸縮作動
によりピストンロッド３１ａを昇降させることにより、
弁板支持体１５及び後述の弁板３４を昇降させる。すな
わち、シリンダ３１を収縮作動させたときには、弁板支
持体１５及び弁板３４を上昇させ、ゲート弁５を開弁状
態とする一方、シリンダ３１を伸長作動させたときに
は、弁板支持体１５及び弁板３４を下降させ、ゲート弁
５を閉弁状態とする。

【００２２】そして、上記弁板支持体１５を弁箱６内で
昇降案内する複数種類の案内用ローラ２２，２４，２６
が設けられている。すなわち、図５に示すように、弁板
支持体１５の左右側部にはそれぞれ水平左右方向の軸心
を持ったローラ軸２１，２１が突出して取付固定され、
この各ローラ軸２１には、弁箱６の前後壁内面間の間隔
よりも若干小さい外径を有しかつ弁箱６の連通孔７，８
の左右両側の前後壁内面上を転動する前後ガイドローラ
２２が回転可能に支持されている。

【００２３】また、図１、図２及び図４〜図６に示す如
く、上記弁板支持体１５の第２真空容器２側（図７で右
側）である後側面の上下端部にはそれぞれ切り欠き部５
０，５０，…が、例えば６つずつ設けられている。この
上端部の切り欠き部５０，５０は、上及び後方向に開口
する一方、下端部の切り欠き部５０，５０は、下及び後
方向に開口している。そして、これら切り欠き部５０，
５０，…には、それぞれ水平左右方向に延びるローラ軸
２３，２３，…が上下に略対応して左右方向に並んだ状
態で取付固定され、この各ローラ軸２３には弁箱６の後
壁内面上を転動可能な後側ガイドローラ２４が支持され
ている。

【００２４】さらに、図４及び図５に示す如く、弁板支
持体１５の左右側部の上下端部にはそれぞれ水平前後方
向の軸心を持つローラ軸２５，２５，…（一方のみを示
す）が取付固定され、この各ローラ軸２５に弁箱６の左
右側壁内面上を転動するサイドローラ２６が回転可能に
支持されている。そして、これらガイドローラ２２，２
４及びサイドローラ２６により弁板支持体１５が弁箱６
内で前後方向及び左右方向に殆ど位置ずれすることなく
昇降するようになっている。

【００２５】このようにして、弁板支持体１５は、弁箱
６内でガイド機構としての前後ガイドローラ２２、後側
ガイドローラ２４、及びサイドローラ２６により案内さ
れて、第１及び第２真空容器１，２の各開口と略平行な
方向に沿って開弁位置及び閉弁位置の間を移動可能とさ
れている。

【００２６】上記弁板支持体１５の前側面（図７で左側
面）には弁板支持体１５と略同じ大きさ（弁箱６下部の
前側連通口７よりも若干大）の弁板３４が対なるリンク
を有する平行リンク機構４４，４４，…を介して接離可
能に支持されている。この弁板３４は、弁板支持体１５
の閉弁位置で弁板支持体１５に対し接離して、第１真空
容器１の開口３つまり弁箱６の前側連通口７を開閉して
第１及び第２真空容器１，２同士を連通又は連通遮断さ
せるものである。そして、その弁板３４の前側面外周部
には、例えばバイトン等からなるリング状のシール部材
３５が取付固定されており、弁板３４が第１真空容器１
の開口３を閉じたときに、弁板３４と、その開口３周り
の壁部、つまり、連通口７周りの弁箱６の前壁内面との
間で圧縮されて弁板３４及び壁部間をシールするように
なされている。

【００２７】上記平行リンク機構４４，４４，…は、弁
板３４及び弁板支持体１５の間に設けられて上記弁板支
持体１５の閉弁位置で弁板３４及び弁板支持体１５が互
いに接離するように支持しており、この弁板３４及び弁
板支持体１５が接触することによって真空ゲート弁５が
開弁する一方、離隔することによって閉弁するように構
成されている。

【００２８】すなわち、図１〜図３にも示すように、弁
板支持体１５には、弁板支持体１５を前後方向に貫通す
る複数の開口部１６，１６，…がそれぞれ略左右方向に
並んだ状態で形成されている。そして、この各開口部１
６内に円筒状のリンク軸４７が弁板支持体１５の移動方
向と直交する水平左右方向が軸心方向となるように配設
されており、リンク４５の後端部（弁板支持体１５側の
端部）が、このリンク軸４７の軸心回りに揺動可能に軸
支されている。

【００２９】また、弁板３４の後側面には上記弁板支持
体１５の各開口部１６に略対応して凹部３６が形成され
ている。そして、この各凹部３６内に円筒状のリンク軸
４６が水平左右方向が軸心方向となるように配設されて
おり、上記各リンク４５の前端部（弁板３４側の端部）
がこのリンク軸４６の軸心周りに揺動可能に軸支されて
いる。そして、上記上下に対応する１対のリンク４５，
４５で平行リンク機構４４，４４，…が構成されてお
り、この平行リンク機構４４，４４，…を介して弁板３
４が弁板支持体１５の前側面（第１の真空容器１側の側
面）に接離可能に支持されている。

【００３０】また、図１，図２及び図４に示すように、
上記弁板３４の前側面における左右側部下端にはそれぞ
れ水平左右方向に延びるローラ軸３８，３８が取付固定
され、この各ローラ軸３８にはストッパローラとしての
弁板前ローラ３９が回転可能に支承されている。また、
弁箱６の前壁内面における左右側部の下端には、弁板３
４が弁箱６の前側連通口７を閉じた閉弁状態にあるとき
の上記各弁板前ローラ３９に対応して有底の凹部６ｂが
形成されており、弁板３４が前側連通口７を開いた状態
では、弁板前ローラ３９は前側連通口７の左右両側の前
壁内面上を転動するが、閉じた状態では、弁板前ローラ
３９が弁箱６の凹部６ｂ内にその底面から浮いた状態で
落ち込むようになっている。

【００３１】そして、上記弁箱６内の下部には上記各弁
板前ローラ３９の真下位置にそれぞれ当接部材４０，４
０が左右方向に並んだ状態で取り付けられている。この
各当接部材４０はブロック状のもので、弁板支持体１５
が下降端位置近傍まで下降したときに弁板３４詳しくは
弁板前ローラ３９に当接して弁板３４の下降移動を停止
させ、その後の弁板支持体１５の下降移動に伴い、弁板
３４を平行リンク機構４４，４４，…によって弁板支持
体１５から離隔する前方向つまり閉じ方向に相対移動さ
せるように案内する。尚、この弁板前ローラ３９に代
え、各当接部材４０に、弁板３４に当接して転動するス
トッパローラを軸支するようにしてもよい。

【００３２】また、図１及び図５にも示すように、弁板
支持体１５の閉弁位置を調節してシール部材３５の圧縮
量を調整する調整手段１３を備えている。具体的には、
弁箱６内側底部に、ブロック状の支持部材１２が固着し
て設けられており、この支持部材１２の上面に複数の板
材を弁板支持体１５の移動方向に積層して一体化される
積層部材としての調整手段１３が載置されている。さら
に、この調整手段１３の上面に弁板支持体１５の閉弁位
置でこの弁板支持体１５に当接するストッパ１４が設け
られていて、調整手段１３を介して支持部材１２にボル
ト１０により締結固定されている。つまり、調整手段１
３は、ストッパ１４に固定されている。また、支持部材
１２、調整手段１３及びストッパ１４は、それぞれ例え
ばステンレス鋼等からなる。このようにして、調整手段
１３は、支持部材１２とストッパ１４との間に挟まれる
板材の枚数を変更することにより、弁板支持体１５のス
トッパ１４との当接位置を変更するようになされてい
る。

【００３３】そして、本発明の特徴として、開弁時に真
空容器１，２間を搬送されるように真空ゲート弁５の内
部を通過するワークＷに対向する周囲面、つまり真空ゲ
ート弁５内部の内壁面に、ワークＷから放射される輻射
熱を反射する鏡面状の輻射熱反射面Ａが設けられてい
る。具体的には、輻射熱反射面Ａは、その表面あらさＲ
がＲ＜２５Ｓを満足するようになされている。

【００３４】尚、ＪＩＳ規格でも示されるように、表面
あらさを最大高さＲ_maxによって指示するときは、標準
数列（０．０５，０．１，０．２，０．４，０．８，
１．６，３．２，６．３，１２．５，２５，５０，１０
０，２００，４００）の数値を用いるようにしており、
本発明で記載しているように、表面あらさＲを最大高さ
Ｒ_maxの許せる最大値によって指示する場合、上記標準
数列の数値の後にＳを付けて表す。このとき、最大高さ
Ｒ_maxの最大値表示としての２５Ｓは、０μｍＲ_{m ax}≦２
５Ｓ≦２５μｍＲ_maxを意味する。

【００３５】すなわち、図１、図２、図４、図７及び図
８に太線で示すように、真空ゲート弁５が開弁状態のと
きに、隣接する真空容器１，２内部の真空空間同士を連
通する連通路３０が、弁箱６の前後及び左右方向の内壁
面と、支持部材１２及び調整手段１３の側壁面と、及び
ストッパ１４の壁面と、当接部材４０の壁面と、弁板３
４の下端面及び下端部側面と、弁板支持体１５の下端面
と、弁箱６の連通口７，８の内周面とにより区画されて
なり、この連通路３０の内壁面が輻射熱反射面Ａとなる
ようになされている。

【００３６】換言すれば、上記のように開弁時に区画さ
れる連通路３０について、その内部の空間としての連通
空間に露出する壁面が鏡面状の輻射熱反射面Ａとされて
いる。

【００３７】次に、上記実施形態の作動について説明す
る。まず、図７にも示すように、真空ゲート弁５が閉じ
られて密閉された第１真空容器１の内部の真空空間で、
ワークＷに対して例えば蒸着等の成膜を行う。このと
き、ワークＷを高温に維持する必要があるので、第１真
空容器１内に設けられているヒータによりワークＷが所
定温度になるように加熱保持する。

【００３８】そして、第１真空容器１内での成膜が終了
した後に真空ゲート弁５を開く。すなわち、図１，図６
で実線及び図７に示す閉弁状態にある真空ゲート弁５を
開くときには、シリンダ３１の収縮作動によってピスト
ンロッド３１ａを、案内支持部５１により気密状に案内
された状態で上昇移動させる。このことで、ピストンロ
ッド３１ａ下端にクレビス１１を介して連結されている
弁板支持体１５がガイドローラ２２，２４により前後方
向に、またサイドローラ２６により左右方向にそれぞれ
移動規制されて案内されながら弁箱６内を上昇する。こ
の弁板支持体１５の上昇により、弁箱６と第１真空容器
１との間の連通部つまり前側連通口７を気密状に閉じて
いた弁板３４が平行リンク機構４４，４４，…により引
き上げられて、その前側連通口７が開かれる。

【００３９】そして、上記シリンダ３１の収縮ストロー
クエンド近傍で、図２，図６で仮想線及び図８に示すよ
うに弁板支持体１５により弁板３４が下端部を弁箱６の
連通口７，８の上端位置に略一致させるように移動し
て、両真空容器１，２の内部空間同士が弁箱６内を介し
て連通状態となる。このとき、ワークＷを第１真空容器
１から真空ゲート弁５の内部を通過して第２真空容器２
へ搬送させる。そして、第２真空容器２への搬送が完了
した後に真空ゲート弁５を閉じる。

【００４０】上記開弁状態から逆にゲート弁５を閉じる
ときには、シリンダ３１の伸長作動によりピストンロッ
ド３１ａを下降させる。このことで、弁板支持体１５
が、ガイドローラ２２，２４及びサイドローラ２６によ
り移動規制されて案内されながら弁板３４と共に弁箱６
内を下降する。そして、弁板支持体１５の下降端位置近
傍で弁板３４下端の上記各弁板前ローラ３９がストッパ
４０に当接すると、弁板３４のそれ以上の下降移動が停
止され、弁板支持体１５のさらなる下降移動により弁板
３４が今度は平行リンク機構４４，４４，…における各
リンク４５の立上がり動作により弁板支持体１５から離
隔するように前側に移動案内される。

【００４１】図６で実線及び図７に示すように、弁板支
持体１５の下端部がストッパ１４の上面近傍に達する
と、弁板に設けられているシール部材３５が、弁箱６と
第１真空容器１との間の連通部つまり弁箱６の前側連通
口７の周りの壁面に接触する。そして、ガイドローラ２
２，２４により後側面を移動規制されている弁板支持体
１５がさらに下降することにより、弁板３４は弁板支持
体１５によりリンク４５，４５，…を介して前側に押さ
れる。そして、シール部材３５の圧縮量が増大される。

【００４２】そして、弁板支持体１５の下端部がストッ
パ１４の上面に当接して弁板支持体１５が閉弁位置に達
することによりこの弁板支持体１５の下降が止まって、
シール部材３５に所定の圧縮量を付与した状態で、両真
空容器１，２の内部空間同士の連通が弁板３４によって
気密シール状態で遮断される。

【００４３】その後、気密状態とされた第２真空容器２
の内部の真空空間で、ワークＷを目的の温度に保持した
状態で次の蒸着等の成膜を行う。

【００４４】そのとき、真空空間における熱伝導では空
気中のように対流による熱伝導がないので、加熱された
ワークＷの温度低下の主たる原因は輻射による熱伝導で
ある。従って、真空容器１，２間の連通路３０、つまり
真空ゲート弁５内部の輻射熱反射面ＡがワークＷから放
射される輻射熱を反射して再びワークＷへ入射させるの
で、ワークＷの温度低下を効果的に抑制することができ
る。

【００４５】また、輻射熱反射面Ａの表面あらさＲをＲ
＜２５Ｓとすることにより、ワークＷから放射される輻
射熱を充分な強度で反射させることができる。

【００４６】さらに、連通路３０たる真空ゲート弁５内
部を通過するワークＷの温度低下を抑制する目的でヒー
タ等の加熱手段を別途設ける必要がなく、簡単な構成に
より熱損失を抑制できるので、加熱手段を備えるものに
比べてコストの低減を図ることができる。

【００４７】尚、本実施形態では、隣接する真空容器の
間に設けられた真空装置が真空ゲート弁である場合につ
いて説明したが、本発明は真空ゲート弁に限らず、両真
空容器に連通する連通路を有するその他の真空装置につ
いても同様に適用することができる。

【００４８】また、連通路３０を区画する壁面をそれぞ
れ輻射熱反射面Ａとするようにしたが、これに限らず、
開弁時に連通路３０に露出しない弁箱６等の壁面につい
ても輻射熱反射面Ａとなるようにしてもよく、また、開
弁時に連通路３０に露出する壁面の一部が輻射熱反射面
Ａとなるようにしてもよいが、ワークＷの温度低下を効
果的に抑制するためには、連通路３０に露出する壁面の
全てを輻射熱反射面Ａとすることが望ましい。

【００４９】また、弁板３４に設けられているシール部
材３５の圧縮量を調整するための調整手段１３を弁箱６
内部に配設するようにしたが、本発明は何等これに限定
されるものではなく、このような調整手段１３を特に設
けないようにしてもよい。

【００５０】−変形例−次に、本実施形態の変形例につ
いて説明する。上記実施形態では、複数の真空容器１，
２の間に設けられる真空ゲート弁５について説明した
が、本発明は、複数の真空容器と、これら真空容器の各
内部の真空空間同士を連通し、真空容器間で搬送される
ワークが通過する連通路とを備える真空装置についても
適用することができる。

【００５１】すなわち、例えば図８において、第１及び
第２真空容器１，２の間に、真空ゲート弁５ではなく、
真空容器１，２の開口３，４に連通する筒状の連通路
（図示省略）を配設するようにして、この連通路を通過
するワークに対向する周囲面に、ワークから放射される
輻射熱を反射する輻射熱反射面を設けるようにしてもよ
い。

【００５２】このようにすることにより、ヒータ等の加
熱手段を設けることなく、簡単な構成によって複数の真
空容器の間に設けられた連通路を通過するワークの熱損
失を可及的に低減することができる。

【００５３】尚、この変形例においても、連通路の少な
くとも一部に輻射熱反射面を設けるようにすればよい
が、ワークに対向する連通路内部の周囲面における全て
の面を輻射熱反射面とすることが望ましい。さらに、複
数の真空容器１，２の内部のワークに対向する周囲面が
輻射熱反射面Ａを有するようにしてもよい。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よると、複数の真空容器間を連通又は連通遮断するよう
に開閉する真空ゲート弁に対して、開弁時に真空容器間
を搬送されるように内部を通過するワークに対向する周
囲面に、ワークから放射される輻射熱を反射する輻射熱
反射面を設けることにより、ワークから放射される輻射
熱を反射して再びそのワークへ入射させてワークの温度
低下を効果的に抑制することができるとともに、簡単な
構成としてコストの低減を図ることができる。

【００５５】請求項３の発明によると、輻射熱反射面を
鏡面状のものとする。また、請求項４の発明によると、
輻射熱反射面の表面あらさＲがＲ＜２５Ｓを満足するこ
とにより、望ましい輻射熱反射面を具体的に得ることが
できる。

【００５６】請求項５の発明によると、真空装置とし
て、複数の真空容器と、真空容器の各内部の真空空間同
士を連通し、真空容器間で搬送されるワークが通過する
連通路とを備え、連通路を通過するワークに対向する周
囲面に、ワークから放射される輻射熱を反射する輻射熱
反射面が設けることにより、簡単な構成によって連通路
を通過するワークの熱損失を可及的に低減することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】閉弁状態の真空ゲート弁の要部を拡大して示す
断面図である。

【図２】開弁状態の真空ゲート弁の要部を拡大して示す
図１相当図である。

【図３】図５におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図である。

【図４】図５におけるＩＶ−ＩＶ線断面図である。

【図５】閉弁状態の真空ゲート弁の要部を示す一部断面
図である。

【図６】閉弁状態の真空ゲート弁の概観を示す正面図で
ある。

【図７】閉弁状態の真空ゲート弁の概観を示す側面図で
ある。

【図８】開弁状態の真空ゲート弁を示す図７相当図であ
る。

【符号の説明】

Ａ 輻射熱反射面 Ｒ 輻射熱反射面の表面あらさ Ｗ ワーク １，２ 真空容器 ３，４ 開口 ５ 真空ゲート弁（真空装置） １５ 弁板支持体 ３０ 連通路 ３４ 弁板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の真空容器間を連通又は連通遮断す
   るように開閉する真空ゲート弁であって、 開弁時に真空容器間を搬送されるように内部を通過する
   ワークに対向する周囲面に、該ワークから放射される輻
   射熱を反射する輻射熱反射面が設けられていることを特
   徴とする真空ゲート弁。
2. 【請求項２】 真空容器の開口と略平行な方向に沿って
   開弁位置及び閉弁位置の間を移動可能な弁板支持体と、 上記弁板支持体に接離可能に支持され、弁板支持体の閉
   弁位置で上記弁板支持体に対し接離して上記真空容器の
   開口を開閉する弁板とを備えることを特徴とする請求項
   １の真空ゲート弁。
3. 【請求項３】 請求項１又は２の真空ゲート弁におい
   て、 輻射熱反射面は鏡面状のものであることを特徴とする真
   空ゲート弁。
4. 【請求項４】 請求項１又は２の真空ゲート弁におい
   て、 輻射熱反射面の表面あらさＲがＲ＜２５Ｓを満足してい
   ることを特徴とする真空ゲート弁。
5. 【請求項５】 複数の真空容器と、 上記真空容器の各内部の真空空間同士を連通し、真空容
   器間で搬送されるワークが通過する連通路とを備え、 上記連通路を通過するワークに対向する周囲面には、該
   ワークから放射される輻射熱を反射する輻射熱反射面が
   設けられていることを特徴とする真空装置。