JP2002277637A - 光学補償フィルムの製造方法、光学補償フィルム、偏光板及びそれを用いる液晶ディスプレイ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を含む
塗布液を乾燥膜厚５μｍ以下になるように液晶層を塗設
し、次いで、該液晶層中の該液晶性化合物の配向を固定
化し、光学異方層を形成することを特徴とする光学補償
フィルムの製造方法。 【解決手段】 ムラやばらつきがなく、良好なコントラ
ストを示し、且つ、生産性の高い光学補償フィルムの製
造方法、それを用いて製造された光学補償フィルム、偏
光板及び液晶ディスプレイを提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学補償フィルムの
製造方法（以下、単に製造方法ともいう）、光学補償フ
ィルム、偏光板及びそれを用いる液晶ディスプレイに関
する。

【０００２】

【従来の技術】パーソナルコンピューター等のマルチメ
ディア化が進み、ラップトップ型パーソナルコンピュー
ターに於いても、カラー表示の液晶ディスプレイが一般
的になってきた。ラップトップ型コンピューターでは、
ＳＴＮ液晶ディスプレイやＴＦＴ液晶ディスプレイが主
に使用されている。近年、液晶ディスプレイは大型化が
進み、視野角特性の高度な改善が求められている。それ
ゆえ、高度な補償性能を有する光学補償フィルム（光学
異方体ともいう）が要望されている。

【０００３】ＳＴＮ液晶ディスプレイは、複屈折モード
を利用した表示素子であるため、液晶で生じる位相差に
より着色し、白黒表示やカラー表示が不可能であるとい
う大きな問題があった。このような問題を解決するため
に、Ｄ−ＳＴＮ方式（補償用液晶セルを用いる方式）が
試みられたが、この方式では、液晶ディスプレイの特徴
である「薄くて、軽い」という点で、時代の要求と逆行
しており、補償用液晶セルの製造にも、高い精度が要求
され、歩留りが悪いという問題があった。

【０００４】これらの問題を解決する方法として、各種
の提案がなされ、例えば、特開昭６３−１４９６２４号
には、延伸樹脂フィルムを用いるＦ−ＳＴＮ方式が提案
され、また、特開平３−８７７２０号、同４−３３３０
１９号には、Ｄ−ＳＴＮ方式の補償性能を維持して、そ
の質量と肉厚を軽減する目的で、液晶性高分子をねじれ
配向させたフィルムを使って色補償を行う方法が提案さ
れている。この液晶ディスプレイの位相差補償板は、透
光性基板とこの基板の上に形成された配向膜、及び、こ
の配向膜の上にねじれ配向状態に固定した液晶高分子層
とから構成されている。

【０００５】さらに、最近では、ＴＦＴ−ＴＮ液晶ディ
スプレイの視野角補償として、特開平７−１９１２１７
号に開示されているように、ディスコチック液晶のフィ
ルムを液晶セルの上面と下面に配置して、液晶セルの視
野角特性を改善する試みがなされている。該ＴＮ型液晶
ディスプレイ用補償フィルムは、上述の特開平３−８７
７２０号、同４−３３３０１９号に記載されている液晶
ディスプレイの位相差補償板と同様に、光学的にほぼ等
方性の樹脂フィルム上に液晶性化合物が配向した光学異
方層で構成されている。

【０００６】しかしながら、樹脂フィルム上、特に長尺
支持体上に液晶性化合物を含有する液晶層を塗設後、液
晶性化合物を配向させて光学補償フィルムを製造するに
は液晶特有の問題、特にムラや欠陥などが起きやすいの
で、生産性が低くコストが高くなってしまう問題点を有
していた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ムラ
やばらつきがなく、良好なコントラストを示し、且つ、
生産性の高い光学補償フィルムの製造方法、それを用い
て製造された光学補償フィルム、偏光板及び液晶ディス
プレイを提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
の項目１〜１８によって達成された。

【０００９】１．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
を含む塗布液を連続的に塗布して乾燥膜厚５μｍ以下に
なるように液晶層を塗設し、次いで、該液晶層中の該液
晶性化合物の配向を固定化して光学異方層を形成するこ
とを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。

【００１０】２．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
補償フィルムの製造において、該塗布液の温度を１５℃
〜３０℃、塗布温度を１５℃〜３０℃、塗布環境温度を
２０〜３０℃に調整することを特徴とする光学補償フィ
ルムの製造方法。

【００１１】３．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
補償フィルムの製造方法において、該液晶層を塗設後、
該液晶層の面にあたる風速を４ｍ／秒以下になるように
調整し、乾燥する工程を経ることを特徴とする光学補償
フィルムの製造方法。

【００１２】４．塗設後の液晶層の残留溶剤量が５質量
％以下になるまで、該液晶層の表面にあたる風速を１ｍ
／秒以下になるように調整し、乾燥する工程を経ること
を特徴とする前記３に記載の光学補償フィルムの製造方
法。

【００１３】５．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
補償フィルムの製造方法において、該液晶層中の液晶性
化合物が等方相からネマティック相となる温度（Ｔ−Ｉ
Ｎ）以上ネマティック相から等方相となる温度（Ｔ−Ｎ
Ｉ）以下に１０秒以上保持しないことを特徴とする光学
補償フィルムの製造方法。

【００１４】６．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
補償フィルムの製造方法において、該液晶層中の該液晶
性化合物がネマティック相から等方相となる温度（Ｔ−
ＮＩ）以上に保持する工程を経ることを特徴とする光学
補償フィルムの製造方法。

【００１５】７．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
補償フィルムの製造方法において、該液晶層を塗設後、
該液晶層中の該液晶性化合物をネマティック相から等方
相となる温度（Ｔ−ＮＩ）以上に保持し、更に、等方相
からネマティック相となる温度（Ｔ−ＩＮ）以下に温度
調整する工程を有することを特徴とする光学補償フィル
ムの製造方法。

【００１６】８．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
補償フィルムの製造方法において、該長尺支持体上に該
液晶層を塗設後、該液晶層中の液晶性化合物をネマティ
ック相から等方相となる温度（Ｔ−ＮＩ）以上に保持し
た後に、等方相からネマティック相となる温度（Ｔ−Ｉ
Ｎ）〜（（Ｔ−ＩＮ）−１０℃）の温度範囲内で１０秒
以上保持する工程を有することを特徴とする光学補償フ
ィルムの製造方法。

【００１７】９．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
補償フィルムの製造方法において、該長尺支持体上に該
液晶層を塗設後、該液晶層中の液晶性化合物を等方相か
らネマティック相となる温度（Ｔ−ＩＮ）〜（（Ｔ−Ｉ
Ｎ）−２０℃）の温度範囲内で２０秒以上保持する工程
を有することを特徴とする光学補償フィルムの製造方
法。

【００１８】１０．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合
物を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光
学補償フィルムの製造方法において、該液晶層を塗設
後、該液晶層の温度調節を金属ベルト上または金属板上
で搬送させて行なう工程を有することを特徴とする前記
５〜９のいずれか１項に記載の光学補償フィルムの製造
方法。

【００１９】１１．長尺支持体上に液晶層を塗設後、該
液晶層中の液晶性化合物の温度を等方相からネマティッ
ク相となる温度（Ｔ−ＩＮ）以下、且つ、該ネマティッ
ク相から等方相となる温度（Ｔ−ＮＩ）以上に保持しな
がら、活性エネルギー線を照射する工程を有することを
特徴とする前記１〜１０のいずれか１項に記載の光学補
償フィルムの製造方法。

【００２０】１２．酸素濃度が２％以下の条件下、活性
エネルギー線を照射する工程を有することを特徴とする
前記１１に記載の光学補償フィルムの製造方法。

【００２１】１３．長尺支持体上に液晶層を塗設後、偏
光板をクロスニコルになるように配置し、該長尺支持体
を該偏光板の間に通し、搬送しながら透過光を用いて、
該液晶層のムラの状態を監視する工程を有することを特
徴とする前記１〜１２のいずれか１項に記載の光学補償
フィルムの製造方法。

【００２２】１４．液晶性化合物を含む塗布液の塗布時
における長尺支持体の表面電位を−５〜＋５ｋＶに調整
することを特徴とする前記１〜１３のいずれか１項に記
載の光学補償フィルムの製造方法。

【００２３】１５．長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合
物を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光
学補償フィルムの製造方法において、該液晶層中の残存
溶剤量が１０質量％以下になるまで、該液晶層を非接触
で乾燥させることを特徴とする光学補償フィルムの製造
方法。

【００２４】１６．前記１〜１５のいずれか１項に記載
の光学補償フィルムの製造方法で製造した光学補償フィ
ルムを偏光板に貼合したことを特徴とする光学補償機能
を有する偏光板。

【００２５】１７．前記１〜１５のいずれか１項に記載
の光学補償フィルムの製造方法で製造した光学補償フィ
ルムを有する液晶ディスプレイ。

【００２６】１８．前記１〜１５のいずれか１項に記載
の光学補償フィルムの製造方法で製造したことを特徴と
する光学補償フィルム。

【００２７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
係る光学異方層について説明する。

【００２８】本発明に係る光学異方層とは、液晶性化合
物の配向が固定化され形成された光学異方性化合物を含
む層であり、前記液晶性化合物が液晶層に隣接している
配向層により、ある特定の配向方向に規制され、次い
で、温度差または化学反応により、その配向された状態
で固定化された光学異方性化合物を含有する層である。

【００２９】本発明の光学補償フィルムは、前記光学異
方層と透明支持体を含み、あるいは前記光学異方層と透
明支持体の間に配向層および／または少なくとも１つの
溶出ブロック層を含むことによって形成されたものが好
ましく用いられる。

【００３０】液晶性化合物を塗設して光学異方性を得る
場合、配向膜を透明支持体上に設置して、その上に液晶
性化合物を塗布し、液晶性化合物を配向させる。

【００３１】ここで、配向層を構成する材料について説
明する。具体的には、以下の樹脂や基板が挙げられるが
これらに限定されない。例えば、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトン
サルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォ
ン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキ
サイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタ
ール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロー
ス系プラスチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等
が挙げられる。

【００３２】上記配向層を透明樹脂基板等の長尺支持体
上に塗布、乾燥して設置した後、ラビング処理すること
によって配向能を有する配向層を得ることができる。

【００３３】液晶性化合物の配向のための配向層として
広く用いられているポリイミド膜（好ましくは弗素原子
含有ポリイミド）も本発明において好ましい配向膜とし
て用いられる。それらは、ポリアミック酸（例えば日立
化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製
のＳＥシリーズ等）を透明樹脂基板上に塗布し、熱処理
後、ラビングすることにより得られる。

【００３４】前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処
理工程として広く採用されている処理方法を利用するこ
とができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェ
ルト、ゴム或いはナイロン、ポリエステル繊維などを用
いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いる
ことができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維
を平均的に植毛した布などを用いてラビングを行うこと
により実施される。

【００３５】また、別の配向層として光配向層が挙げら
れる。光配向材料としては、一般に公知の光配向材料を
用いることができる。例えば、光分解型、光二量化型、
光異性化型等が挙げられ、長谷川，液晶，Ｖｏｌ．３
（１），３−１６（１９９９）に記載の化合物を用いる
ことが出来る。本発明では特に偏光紫外線照射によって
配向性が付与される光二量化性配向性材料が生産性の観
点から好ましく用いられる。

【００３６】上記記載の光二量化型配向材料としては、
例えば、特開平８−３０４８２８号、同７−１３８３０
８号、同６−０９５０６６号、同５−２３２４７３号、
同８−０１５６８１号、同９−２２２６０５号、同６−
２８７４５３号、同６−２８９３７４号、特表平１０−
５０６４２０号、特開平１０−３２４６９０号、同１０
−３１０６１３号等に記載されている。

【００３７】これらの手法では、光配向層に偏光紫外線
を照射することにより、液晶性化合物に配向性を付与す
ることができる。光照射装置としての光源は超高圧水銀
灯、キセノン灯、蛍光灯、レーザなどを用いることがで
きる。これに偏光子を組み合わせて直線偏光を照射する
ことができる。照射装置としては、例えば、特開平１０
−９０６８４号に開示されている装置を用いることがで
きる。

【００３８】配向層の塗布は、有機溶媒に配向膜材料を
溶解した溶液を、カーテンコーティング、押し出しコー
ティング、ロールコーティング、ディップコーティン
グ、スピンコーティング、印刷コーティング、スプレー
コーティング、ワイヤーバーコーティング及びスライド
コーティングなどで実施することができるが本発明はこ
れらに限定されない。

【００３９】本発明に係る液晶性化合物（液晶ともい
う）について説明する。本発明に係る液晶性化合物は、
配向層上で配向できるものであれば特に限定されるもの
ではなく、該配向によって可視光領域で光散乱すること
なく光学的に異方性を付与することが求められる。

【００４０】本発明に係る液晶性化合物が高分子液晶で
ある場合、例えば公告２５９２６９４号、同２６８７０
３５号、同２７１１５８５号、同２６６０６０１号、特
開平１０−１８６３５６号、同１０−２０６６３７号、
同１０−３３３１３４号記載の構造の化合物が挙げられ
る。中でも、光学的に正の複屈折性を有するものが好ま
しく用いられる。

【００４１】高分子液晶以外の本発明に係る液晶性化合
物としては、一般に棒状の液晶性化合物が挙げられ、光
学的に正の複屈折性を示す液晶性化合物が好ましく、不
飽和エチレン性基を有する正の複屈折性の液晶性化合物
が配向の固定化の観点から好ましく、例えば、特開平９
−２８１４８０号、同９−２８１４８１号記載の構造の
化合物を用いることができるが、本発明は特にこれらに
限定されない。

【００４２】本発明に係る液晶性化合物の構造は特に限
定されないが、光学異方性を発現させるために液晶分子
を配向させた状態で化学反応または温度差によって液晶
性化合物の配向が固定化された状態（これを光学異方性
化合物という）で用いることが求められる。上述のよう
な配向膜を透明樹脂基板上に設置しその上に液晶性化合
物を塗設して配向させることができる。液晶性化合物の
配向処理は、液晶転移温度以上に保持することが求めら
れ、該温度は透明樹脂基板を変質させない温度以下で処
理することが好ましい。

【００４３】また、液晶性化合物を溶媒で希釈して液晶
層を塗設する場合、液晶性化合物の液晶転移温度以上に
保持しない、即ち、液晶性化合物自身の液晶転移温度以
下で配向処理をすることが出来る場合もある。

【００４４】本発明に係る液晶性化合物が液晶性高分子
である場合、その化学構造としては主鎖型の液晶性高分
子、例えばポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステルイミド等が挙げられる。
又、側鎖型の液晶性高分子、例えばポリアクリレート、
ポリメタクリレート、ポリシロキサン、ポリマロネート
等が挙げられる。

【００４５】液晶性化合物を塗布して液晶層を塗設する
にあたり、乾燥膜厚の規定が重要であり、液晶性化合物
の配向の均一化や本発明に記載の効果を得るためには、
液晶層の乾燥膜厚が５μｍ以下であることが必須である
が、好ましくは０．５μｍ〜４μｍであり、更に好まし
くは０．５μｍ〜２．５μｍの乾燥膜厚になるように調
整することである。ここで、乾燥膜厚は液晶層を剥離し
て測定しても良いし、電子顕微鏡を用いて撮影した断層
写真などから実測することも出来る。

【００４６】また、塗布溶剤は出来るだけ少なく用いる
のが好ましく、塗布膜厚と乾燥後の膜厚の関係が、塗布
膜厚／乾燥膜厚（乾燥後の膜厚ともいう）の値が３〜４
０であることが液晶性化合物の配向性および均一塗布性
の面で好ましく、さらに好ましくは塗布膜厚／乾燥後の
膜厚の値が５〜２０である。

【００４７】液晶層の塗布方法としては、一般的な塗布
方法が用いることが出来るが、ワイヤーバー、グラビ
ア、マイクログラビアロール、リバースロールコータ、
スリットダイ、スライドホッパー、ヒラノ・リップ等の
塗布方法が好ましく用いられる。本発明ではマイクログ
ラビアロール、スリットダイが塗布膜厚の均一性が高
く、膜厚の制御が容易である点で好ましく、塗布環境を
一定に出来る点でスリットダイが特に好ましい。

【００４８】本発明に係る、液晶性化合物を含有する塗
布液について説明する。液晶性化合物を塗布するには温
度（塗布液の温度、塗布時の温度等）が重要な因子であ
る。塗布液の温度が低い場合には、塗布液中の液晶性化
合物が結晶化または凝集等に基づく塗布故障が起こりや
すく、塗布直後の支持体上においても同様の現象が起こ
り、配向性、均一性の問題が起きやすかった。

【００４９】逆に、塗布液の温度が高い場合には、塗布
液中の溶媒が蒸発しやすくなり、塗布液の濃度管理や溶
媒の蒸発による凝集物の発生や外界の水蒸気の取り込み
等による塗布故障が起きやすいことが判った。

【００５０】したがって、本発明に記載の効果を好まし
く得るためには、液晶性化合物の塗布には塗布液温度を
１５℃〜３０℃、塗布温度を１５℃〜３０℃、塗布環境
温度を２０〜３０℃に調整することが好ましい。

【００５１】また、コータが設置されている場所につい
ても、上記の塗布環境温度の範囲に調整されていること
が好ましい。

【００５２】ここで、塗布温度とはコータ温度、支持体
の温度、塗布時に支持体を保持するためのロール温度の
ことを表し、塗布環境温度とは塗布直後から乾燥ゾーン
に入る手前の支持体上から５ｃｍまでの高さの領域の温
度のことをいう。さらに好ましい塗布液温度、塗布温
度、塗布環境温度はそれぞれ２０℃以上２８℃以下であ
り、それぞれの温度差は±５℃以内であることが液晶性
化合物の配向性の均一化、均一塗布の実施の観点から特
に好ましい。

【００５３】上記記載の液晶性化合物を含有する塗布液
の調製に用いられる溶剤（溶媒ともいう）について説明
する。用いる溶剤は単独で使用してもよく、また塗設す
る際の乾燥性を制御するために２種以上の溶剤を混合し
て用いてもよい。塗設するための前記溶液の溶剤は有機
溶媒が好ましい。例えばアルコール類としては、メタノ
ール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−
プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、２−ブタノー
ル、ｔｅｒｔ−ブタノール、ペンタノール、２−メチル
−２−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられ、
ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキ
サノン等が挙げられ、エステル類としては、蟻酸メチ
ル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプ
ロピル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル等が挙げ
られ、グリコールエーテル（Ｃ１〜Ｃ４）類としては、
メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ
イソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチ
ルエーテル、又はプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ
４）アルキルエーテルエステル類としては、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、その他の溶
剤としてメチレンクロライド、Ｎ−メチルピロリドンな
どがあげられる。特にこれらに限定されない。

【００５４】本発明の製造方法においては、液晶層を塗
設後の乾燥工程において液晶層表面への風速コントロー
ルが重要である。以下、それを説明する。

【００５５】通常乾燥装置に一定の温度の風を循環して
長尺支持体上に塗布したものを乾燥する方法が採用され
ている。しかし、この風が液晶層の均一性に影響を与
え、風により液晶層が変形してムラとなることが判っ
た。したがって、塗布後の液晶層に風をなるべく当てな
いことが好ましく液晶層に当たる風の風速は４ｍ／秒以
下が好ましく、更に好ましくは３ｍ／秒以下であり、特
に好ましくは、０．３ｍ／秒〜２ｍ／秒である。

【００５６】また、乾燥初期の残存溶剤が多い時はさら
に風の影響を受けやすいことが判った。残存溶剤とフィ
ルム面に当たる風速を詳細に検討したところ、液晶層の
残存溶剤が５％以下になるまでフィルム面に当たる風速
が１ｍ／秒以下であることが好ましく、更に好ましくは
０．９ｍ／秒以下であり、特に好ましくは、０．１ｍ／
秒〜０．７ｍ／秒である。液晶層に当たる風の調節方法
としては、乾燥措置の排風弁の調節による方法、乾燥装
置内の送風口の形状を調節する方法が挙げられる（図
１、２）。風速の測定は市販の風速計、例えば、風速計
ＭＯＤＥＬ６１１２（日本カノマックス株式会社
（製））を用いて測定できる。

【００５７】本発明においては、液晶性化合物を塗布し
た後に配向処理をするのが好ましい。配向処理とは液晶
性化合物をある特定の温度範囲にある特定の時間、保持
することにより、液晶性化合物の配向を促進（熟成）さ
せる工程のことである。この工程は乾燥後に行なっても
良いが乾燥工程と同時に行なうことが生産性の面で好ま
しい。配向処理が十分でないと、液晶性化合物が微細に
配向していない部分（以下、ディスクリネーションとい
う）が発生し配向が乱れ、コントラストが低下する問題
とチルト角が設計値よりも低くなる問題が発生した。配
向処理の温度を調べたところ、液晶性化合物を塗布した
後、該液晶性化合物が等方相からネマティック相となる
温度（以後Ｔ−ＩＮと表す。）以上、且つ、ネマティッ
ク相から等方相となる温度（以後Ｔ−ＮＩと表す。）以
下の温度の範囲では液晶性化合物の配向が乱れたり、デ
ィスクリネーションが発生しやすく、チルト角が低くな
ることが判明した。液晶性化合物の不安定な温度領域と
推定できる。

【００５８】本発明に係る液晶材料（液晶性化合物、液
晶ともいう）は、ネマティック相を発現し、Ｔ−ＮＩ≧
Ｉ−ＩＮの関係を示す。Ｔ−ＮＩおよびＴ−ＩＮの測定
方法は、ＤＳＣ法により測定できる。具体的には、メト
ラー（株）社製、ＤＳＣ８２１^Eを用いて測定した。Ｔ
−ＮＩおよびＴ−ＩＮの測定は、『化学総説 液晶の化
学（日本化学会編）』などに記されているが、示差走査
熱量計（ＤＳＣ）を用いて行うことが出来る。Ｔ−ＮＩ
は昇温時のネマティック相から等方相への温度であり得
られたグラフのネマティック相から等方相への転移点の
ピークとした。

【００５９】Ｔ−ＩＮは降温時の等方相からネマティッ
ク相への温度であり、得られたグラフの等方相からネマ
ティック相への転移点のピークとした。測定装置はメト
ラー（株）製ＤＳＣ８２１^Eを用い、同じ試料を３個ず
つ、各々について−５０℃〜１００℃の範囲で、５℃／
分の割合で昇温、降温を３回繰り返し測定を行い、それ
ぞれの２回目以降の測定結果を平均して求めた。

【００６０】更に、詳細に検討したところ、液晶性化合
物を塗布した後、Ｔ−ＮＩ以上に保持するとディスクリ
ネーションが著しく減少することを見出した。さらにＴ
−ＮＩ以上に保持した後に、Ｔ−ＩＮ以下に保持すると
ディスクリネーションが消失する時間が短縮され、かつ
チルト角が高くなり生産性が向上することが判った。さ
らに、Ｔ−ＮＩ以上に１秒以上１０秒以下、Ｔ−ＩＮ以
下に１０秒以上の条件またはＴ−ＮＩ以上に保持した後
に、Ｔ−ＩＮ以下かつＴ−ＩＮから１０℃低い温度範囲
で保持することが配向性、ディスクリネーションの消失
速度、チルト角、生産性の面で特に好ましい。

【００６１】別の好ましい配向条件としてはＴ−ＩＮ以
下で保持すること予想外にディスクリネーションが少な
くなることが判明した。Ｔ−ＩＮ以上に温度を上げない
ことが重要であり、特に重合性液晶を用いた場合に熱に
よる重合反応を抑制できるため、配向の均一性がよく、
ディスクリネーションが少ない試料が得られる。

【００６２】上記の液晶層の温度制御は乾燥ゾーンや配
向ゾーンの雰囲気を温度調節することで制御可能であ
る。しかし、支持体および支持体の上に塗布した配向
層、液晶層の熱伝導性が低いために液晶層の温度が所定
の温度まで上がらず、限られた長さの乾燥ゾーンや配向
ゾーンでは塗布速度を上げられなかった。効率よく液晶
層の温度を上げるには乾燥ゾーン（熱処理ゾーンともい
う）に金属製のベルト（図３）あるいは金属板（図４）
により支持体を接触させることが生産性向上にとって有
効であることが判った。

【００６３】液晶性化合物を含む溶液を塗布した場合、
塗布後、溶剤を乾燥して除去し、膜厚が均一な液晶層を
得ることができる。液晶層は、熱または光エネルギーの
作用、または熱と光エネルギーの併用で化学反応によっ
て、液晶性化合物の配向を固定化することができる。特
に高分子液晶性化合物ではないモノメリックな液晶性化
合物は一般に粘度が低く、熱的が外因によって液晶性化
合物の配向が変化しやすいため、光重合性開始剤を用い
て、重合性液晶性化合物を光ラジカル反応等で硬化反応
を実施して固定化することができる。

【００６４】本発明において、液晶性化合物の配向を固
定化する場合、重合性基としてエチレン性不飽和基を用
いた場合、光重合開始剤を使用する場合ことが反応の活
性を上げることで製造時の硬化時間を短縮できることで
優れている。ラジカルの発生のために、以下に述べる光
源を用いることができる。例えば、高圧水銀ランプやメ
タルハライドランプなどの近紫外線を強く吸収できるも
のが好ましく、３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの光に対するモ
ル吸光係数の最大値が１００以上、更には５００以上の
ものが好ましい。光重合用の活性線としての光線は、電
子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）を必要に応じ
て用いることができるが、一般的には、紫外線が好まし
い。紫外線の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ラン
プ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電
ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）及び
ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノ
ンランプ、水銀キセノンランプ）を挙げることができ
る。

【００６５】一方、紫外線照射により液晶層の温度が上
昇するため配向が乱れることがわかった。これは、活性
線の長波側のエネルギー線により熱が発生しネマティッ
ク相から等方相へと変化し易くなり配向性が乱れるもの
である。したがって硬化中にネマティック相から等方相
への温度（Ｔ−ＮＩ）以上にしないことが重要である。
液晶層をＴ−ＮＩ温度以上に上げない具体的な方法は、
紫外線照射装置に熱線カットフィルターの設置、水冷式
紫外線ランプの使用、赤外線を透過する反射版の使用、
紫外線照射装置（ランプ部）を冷風で冷却する方法、紫
外線照射装置内へ冷却したガスを導入する方法が挙げら
れる。

【００６６】エチレン性不飽和基の重合反応のためのラ
ジカル重合開始剤は、例えばアゾビス化合物、パーオキ
サイド、ハイドロパーオキサイド、レドックス触媒な
ど、例えば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、ｔｅ
ｒｔ−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオキサ
イド、イソプロピルパーカーボネート、２，４−ジクロ
ルベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパー
オキサイド、クメンハイドロパーキサイド、ジクミルパ
ーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、２，２′
−アゾビス（２−アミジノプロパン）ハイドロクロライ
ド或いはベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾ
イン類、チオキサントン類等を挙げることができる。こ
れらの詳細については「紫外線硬化システム」総合技術
センター、６３頁〜１４７頁、１９８９年等に記載され
ている。

【００６７】又、エポキシ基を有する化合物の重合に
は、紫外線活性化カチオン触媒として、アリルジアゾニ
ウム塩（ヘキサフルオロフォスフェート、テトラフルオ
ロボラート）、ジアリルヨードニウム塩、第５族アリロ
ニウム塩（ＰＦ₆、ＡｓＦ₆、ＳｂＦ₆のようなアニオン
をもつアリルスルホニウム塩）が一般的に用いられる。

【００６８】また、ラジカル反応を用いて硬化反応を行
う場合、空気中の酸素の存在による重合反応の遅れをさ
けるために窒素雰囲気下で上記活性線を照射すること
が、反応時間の短縮化と少ない光量で硬化できる点で好
ましく、液晶層の膜厚が１．５μｍ以下の場合は酸素濃
度を２％以下とすることが特に好ましい。酸素濃度を下
げる方法としては、窒素ガスを導入することが好まし
く、効率良く酸素濃度を下げるには紫外線硬化装置前に
前室を設け窒素ガスを満たす機構が特に好ましい。

【００６９】更に前室においてロールとブレードにより
表面空気層を除去することが高率的に酸素濃度を下げる
ことが可能となる。硬化が不足していると巻にした時に
ブロッキングが生じて塗布故障となり問題となる。

【００７０】これらのラジカル反応を利用して、液晶性
化合物を硬化させるためには、液晶性化合物においても
反応性基を導入した高分子液晶性化合物ではないモノメ
リックな液晶性化合物を選択することが重要である。こ
の硬化反応により液晶性化合物の配向が固定化できるも
のである。

【００７１】一方、液晶性化合物が高分子液晶である場
合、上記化学反応による硬化反応を実施して液晶性化合
物の配向を固定しなくてもよい。これは、透明樹脂基板
が熱によって変質しない温度範囲、例えば９０℃以上に
高分子液晶性化合物がガラス転移温度であって、液晶転
移温度を示す場合、配向膜上に高分子液晶を塗布して設
置した後、液晶転移温度範囲内に保持し配向させた後、
ガラス転移温度よりも低い、例えば室温で放冷すること
によって液晶性化合物の配向が維持される。

【００７２】また、高分子液晶のガラス転移温度が支持
体の耐熱性温度よりも高い場合は、耐熱性支持体上に前
記配向膜を設置し高分子液晶を塗設後、高分子液晶のガ
ラス転移温度以上に保持し配向させることができる。こ
れを室温に放冷し高分子液晶の配向を固定化したのち本
発明の支持体に接着剤を用いて転写して光学補償フィル
ムを作製することができる。

【００７３】本発明に係る長尺支持体の塗布時における
表面電位について説明する。支持体上に配向層を塗布し
た後、更に液晶性化合物を塗布する場合、支持体の帯電
（表面電位）が配向層の配向能に影響を及ぼすことを我
々は見いだした。特に塗布速度が速い場合に深刻であ
り、長尺支持体の帯電量が多い場合には配向層の配向力
以上の影響を液晶性化合物に及ぼすようになり、塗布し
た液晶性化合物が設計通りの配向方向に並びにくくなる
問題が生じた。

【００７４】以上から、長尺支持体上に液晶性化合物を
含有する塗布液を塗布する時の長尺支持体の表面電位を
−５〜＋５ｋＶに調整することが好ましく、更に、配向
層を塗布した長尺支持体試料の配向層の配向能を保持す
る観点から、配向層の表面電位を−５〜＋５ｋＶに調整
することが好ましく、更に好ましくは、配向層または液
晶性化合物を塗布する支持体の表面電位を−１〜＋１ｋ
Ｖに調整することである。ここで、配向層または塗布時
の長尺支持体の表面電位とは、元巻から巻出した後、コ
ータで液晶性化合物を塗布する直前、すなわちコータの
手前０〜３ｍ以内までで測定された値のことを示す。特
に支持体が元巻ロールから搬送されてコータ直前の間で
表面電位を上記の範囲にすることで効果が著しい。

【００７５】上記記載の表面電位は、市販の表面電位計
で測定することが出来る。本発明に係る長尺支持体の表
面電位を測定する方法については、特に限定はなく、従
来公知の方法で実施出来る。例えば、ロール搬送中の支
持体の接触する相手のロール材質を、帯電列から判定し
て、帯電列が支持体の支持体に対して帯電量の小さい位
置にあるものを選ぶ方法、ロール表面を適度に粗くして
支持体との接触面積を低減する方法、また、支持体中に
マット剤を含有させたり、マット剤を含む組成物を表面
に塗設しロールとの接触面積を低減する方法、支持体中
や表面に導電性のある物質を含有または塗布して支持体
の導電性を向上させる方法、外部雰囲気の相対湿度を上
げて支持体の表面漏洩抵抗を低減させる方法、ガスを電
離しイオンを支持体に吹き付け支持体表面の電荷を中和
させる方法、静電気除去装置を用いて支持体の表面電位
を低減する方法、あるいは、接地した針状や線状の金属
により先端放電させて支持体表面の電荷を漏洩させる方
法等を挙げることが出来る。これらの方法を併用しても
よい。

【００７６】支持体の静電気除去装置としては、支持体
の静電気を除去または低減出来る装置であればよく、例
えば除電バー、除電糸あるいはイオン送風型静電気除去
装置を挙げることが出来る。中でもイオン送風型静電気
除去装置が好ましい。イオン送風型静電気除去装置は、
ガスを、コロナ放電、フレームプラズマ、紫外線、加熱
金属体、ラジオアイソトープなどにより電離し、イオン
を発生させ、発生させたイオンを対象物に吹き付ける構
造の装置である。コロナ放電を利用した静電気除去装置
では、高圧トランスを内蔵した電極ユニット、吹き出し
ユニット、ガス供給部及びコントローラーなどから構成
されており、電極ユニットによりコロナ放電を発生さ
せ、ガスをイオン化し、吹き出しユニットによりイオン
化したガスを対象物に吹き付けるものである。供給する
ガスは、通常、空気が用いられるが、不活性ガスを導入
しガス中の酸素濃度を１０体積％以下とすることで、危
険物に対しての安全性が向上出来る効果も得られるので
好ましい。不活性ガスの種類は、特に制限はないが、窒
素、二酸化炭素、アルゴンなどのガスでよい。コストの
点から窒素、二酸化炭素が好ましい。ガス供給部に流量
計を設けてこれらのガスを供給することで実施出来る。

【００７７】本発明において、塗布装置のロールの接地
漏洩抵抗を１０⁶Ω以下にすることも好ましい方法であ
る。流延用支持体やロールと地面の接地だけでなく、流
延用支持体とロール間を繋ぐことも好ましい。地面に対
する容量を大きくとり抵抗を小さくすることで、支持体
の表面電位を低く調整し、液晶性化合物を良好に配向さ
せる配向層や配向の優れた液晶層を形成することができ
る。

【００７８】静電気除去装置を設置する場所は、ロール
状フィルムを巻きからの繰り出し部から塗布コータの手
前０〜３ｍまでの間が好ましく、また、静電気除去装置
と支持体の距離は１０〜１００ｍｍが好ましい。静電気
除去装置の設置は支持体の何れの面でもよい。

【００７９】また、巻き取り後のロール状フィルムを巻
きからの繰り出した時に見られるくっつき状の変形を改
良するためのもので、乾燥装置を出てから巻き取り機ま
での間で、特に巻き取る直前に静電気除去装置を設置す
ることによって行うものである。静電気除去装置につい
ては、上記のものが制限なく使用出来るが、除電バーま
たは除電糸のような簡易的なものが好ましい。除電バー
については特に限定はないが、コロナ放電式のものが好
ましく用いられ、例えば、キーエンス社性のＳＪ−Ｂ０
１が用いられる。除電糸についても、特に限定はない
が、通常フレキシブルな糸状のものが好ましく用いら
れ、例えばナスロン社性の１２／３００×３が用いられ
る。静電気除去装置と支持体の距離は１０〜１００ｍｍ
が好ましく、静電気除去装置の設置は支持体の何れの面
でもよい。

【００８０】支持体の帯電量を下げるには、支持体中に
導電性材料を添加する方法、導電性材料を塗布する方法
が好ましい。好ましく用いられる導電性材料としては、
イオン性高分子化合物、金属酸化物等が好ましく用いら
れる。

【００８１】イオン性高分子化合物としては、特公昭４
９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２
８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；
特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特
公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５
７−１８１７６号、同５７−５６０５９号などにみられ
るような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマ
ー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６
号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３
号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同
５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５
８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３号、同６２
−９３４６号にみられるような、側鎖中にカチオン性解
離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げ
ることができる。

【００８２】更に、液晶性化合物を塗布するには乾燥速
度と搬送方法が塗布性の面で重要である。例えば、乾燥
速度が遅い条件で液晶性化合物を塗布した時には液晶層
に斑点状のムラが起きる問題が生じやすい。この現象を
詳しく解析したところ、長尺支持体上の配向層の上に液
晶性化合物を含む塗布液を塗布すると該液晶性化合物塗
布液中の溶剤が蒸発する時の温度ムラが原因であると推
測できた。

【００８３】従って、斑点状のムラの問題を解決するに
は温度ムラを少なくすれば良く、温度ムラを少なくする
方法としては、液晶性化合物を含有する塗布液の溶剤を
少なくする方法、塗布膜厚を薄くする方法、溶剤の選択
により蒸発速度をコントロールする方法、搬送ロールか
らの温度の影響を少なくする方法等が挙げられる。

【００８４】中でも搬送ロールからの温度の影響を最小
限になるように調整することが均一性において特に有効
であり、長尺支持体上に液晶層を塗設後、液晶層の残存
溶剤量が１０％以下になるまで非接触で乾燥することが
好ましく、残存塗布液が５％以下になるまで非接触で乾
燥させることが特に好ましい。非接触で搬送する方法と
してはロール間隔を長くする方法、支持体を空気、窒素
ガス等の気体で浮かせて搬送する方法、或いは、クリッ
プ等で挟んで搬送する方法等が挙げられる。

【００８５】本発明の光学補償フィルムの光学異方層
は、液晶ディスプレイの視角特性を改良するため、光学
異方層の厚さはそれを構成する液晶性化合物の複屈折の
大きさ、および液晶性化合物の配向状態によって異なる
が膜厚は０．２μｍ以上５μｍ以下、好ましくは０．４
μｍ以上３μｍ以下である。これよりも光学異方層の厚
さが薄いと目的とする光学異方性が得られにくくなり、
一方前述の範囲よりも光学異方層が厚いと必要以上の光
学異方性がかえって視野角特性を劣化しやすくなった
り、別の課題としては光学補償フィルムがカールしやす
くなることが多い。

【００８６】本発明に係る光学異方層は、透明支持体に
対して少なくとも１層設けることができる。液晶ディス
プレイのモードが多種製品化されており光学的に補償で
きる光学補償フィルムは、ディスプレイに適した光学特
性を設計することができる。１つの透明支持体に対して
光学異方層を複数層設置することもでき、光学異方層の
含まれる液晶性化合物が配向した状態もしくは液晶性化
合物の配向が固定化された状態で構成されるとき配向方
向は適宜ディスプレイに適合した光学特性を設計でき
る。光学異方層が２層以上透明支持体上に設置される場
合、透明支持体より遠い方向の順に配向層、光学異方層
が複数層繰り返して設置できる。これは前記配向方向が
配向膜によって決定されるために、配向膜と液晶層は隣
接していることが必要となる。これらが複数層設置され
るとき、配向膜上に塗設された液晶層の上に配向膜を直
接塗設または他の従来公知の樹脂層で構成される中間層
を設置してその上に配向膜を塗設し、複数目の配向層上
に液晶層を設置することができる。

【００８７】本発明に係る光学異方層の塗布性を確認す
る手段を設けることが好ましい。どころが配向した液晶
層は透明であるのでムラのチェックが困難であった。そ
こで液晶層を塗布した後に２枚の偏光板をクロスニコル
の配置にして、その間に液晶層を偏光板の透過軸と液晶
の配向方向を４５°およびまたは１枚の偏光板の透過軸
と平行にした方向で通し片方から透過光を照射して透過
した光量を測定し、その透過光量で液晶層のムラを検出
する方法が好ましい。例えば、透過光を濃度で表して濃
度の異常個所を検知したり、濃度の偏差により工程管理
が行なえるようになった。

【００８８】液晶表示装置に本発明の光学補償フィルム
を設置する場合、駆動用液晶セルの両側に位置する一対
の基板の上下に配置された上側偏光板と下側偏光板が通
常構成されるが、このとき該基板と上側もしくは下側偏
光板のどちらか一方の間、または該基板と上側および下
側偏光板のそれぞれ間に本発明の光学補償フィルムを少
なくとも１枚設置される。

【００８９】液晶表示装置が特にツイステッドネマティ
ック型（ＴＮ型）液晶表示装置である場合、ＴＮ型液晶
セルに最も近い基板に前記光学補償フィルムの透明支持
体面が接触する方向に光学補償フィルムを添付し、かつ
光学補償フィルムの透明支持体面内の最大屈折率方向が
前記液晶セルに最も近い基板のネマティック液晶の配向
方向と実質的に直交した方向に添付することが本発明の
効果をより好ましく奏する点で好ましい。ここで、実質
的に直交とは９０°±５°の範囲を示すが９０°にする
ことが好ましい。

【００９０】本発明に係る光学異方層は、平均傾斜角度
は、光学異方層の断面方向から観察した場合、斜めであ
ることがよく、傾斜角度は光学異方層の厚さ方向に対し
て一定であってもよく、厚さ方向に対して配向角度が変
化してもよい。平均傾斜角度はディスプレイの視野角を
補償するため、ディスプレイの設計により異なるが、１
５°以上５０°以下であることが特にＴＮ型液晶表示装
置において好ましい。光学異方層を構成する液晶性化合
物の傾斜角度は、より好ましくは厚さ方向に対して変化
し、該傾斜角度が配向膜側から増加または減少して変化
することが本発明においてはより効果的である。

【００９１】本発明に係る長尺支持体について説明す
る。本発明に係る長尺支持体とは、具体的には、５ｍ以
上のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のも
のである。

【００９２】また、本発明の光学補償フィルで用いられ
る長尺支持体は透明支持体であることが好ましく、透明
支持体とは可視域の透過率が８０％以上の特性を有する
ものが好ましく、そのような素材としては、セルロース
エステル誘導体、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート、ポリアリレート、ポリスルフォンなどが挙
げられる。上記記載の中でも、目的の光学特性を得るた
めの生産性の観点から好ましく用いられるのは、セルロ
ースエステル誘導体である。

【００９３】本発明に係る長尺支持体に用いられる透明
支持体の光学特性は、該支持体の光学特性が４０ｎｍ≦
Ｒ₀≦９５ｎｍを満たし、かつ０．８≦（Ｒ_t／Ｒ₀）≦
１．４を満たすことが求められる。ここで、Ｒ₀および
Ｒ_tは透明支持体のリターデーション値を示す。

【００９４】Ｒ₀＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ Ｒ_t＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ ここで、ｎｘ、ｎｙは透明支持体の面内での最大屈折率
方向＝ｘ方向、ｙ方向の主屈折率である。ｎｚは厚み方
向でのフィルムの屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）
である。

【００９５】透明支持体の生産性の観点から好ましい製
造方法は、透明支持体の溶剤を含む樹脂溶液をベルトま
たはドラム上で流延製膜し、溶剤が残存した状態でベル
トまたはドラムから剥離され、その後乾燥しながらフィ
ルムを延伸する製造方法である。それゆえ、透明支持体
の主屈折率が以下の関係を示すことがより効率的に透明
支持体が生産できる。ｎｘがフィルムの流延方向に実質
的に等しい屈折率、ｎｙは流延方向に垂直な方向（幅方
向）に実質的に等しい屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方
向の屈折率である。

【００９６】支持体の全体の屈折率の測定は、通常の屈
折率計を用いることができる。全体の屈折率を測定した
後、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機
器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下
で、波長が５９０ｎｍにおいて、３次元屈折率測定を行
い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出し、かつフィルムの
厚さを測定してリターデーションＲ₀、Ｒ_tを求めること
ができる。

【００９７】このような特性を満たす樹脂として、セル
ロースエステル誘導体が好ましく用いられる。特に０．
５≦（Ｒ_t／Ｒ₀）≦２．０を効果的に満たすためには、
セルロースエステルのアセチル置換度が２．５以上２．
８６以下が好ましい。本発明の別の形態としては、セル
ロースエステルのアセチル置換度が、２．４０以上３．
００以下のセルロースエステルを少なくとも２種以上を
用いる。この場合のアセチル基の置換度としては、混合
後の平均アセチル基置換度が２．５０以上２．８６以下
のセルロースエステルであることが本発明の効果を好ま
しく奏する点で好ましい。

【００９８】本発明のさらに別の形態としては、光学補
償フィルムに用いるセルロースエステルのアセチル置換
度が、２．６０以上、３．００以下のセルロースエステ
ルを少なくとも１種とアセチル置換度が２．４０以上
２．６０未満のセルロースエステルを少なくとも１種を
混合し、混合後の平均アセチル置換度が２．５以上２．
８６以下のセルロースエステルを用いることが本発明の
効果を好ましく奏する点で好ましい。

【００９９】アセチル置換度または平均アセチル置換度
が２．５以上２．８６以下のセルロースエステルをフィ
ルムとした支持体は、フィルム面の屈折率の平均に対す
る厚さ方向の屈折率との差が高い光学特性を与える。置
換度をやや低く抑えたセルロースエステルフィルムを用
いるものことで、これらのセルロースエステルフィルム
を用いると、高いアセチル置換度のセルローストリアセ
テートフィルムよりも同じ光学特性を得る場合薄膜化す
ることができる。視角特性に優れた光学補償フィルムの
支持体としては、ディスプレイの求められる光学補償能
は異なるが適宜液晶層と支持体の光学特性を調整して設
計することができる。本発明の支持体のアセチル置換度
または平均アセチル置換度の好ましい範囲は、２．５５
〜２．７０である。

【０１００】上記記載のセルロースエステルフィルム
は、例えば、特開平１０−４５８０４号に記載の方法で
合成することが出来る。アセチル基の置換度の測定方法
もＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６により測定することが出来
る。

【０１０１】アセチル基の置換度が２．５以上２．８６
以下のセルロースエステルとは、アセチル基で、セルロ
ースの水酸基を常法により所定の置換度に置換したもの
である。本発明に係るセルロースエステルの数平均分子
量は、好ましい機械的強度を得るためには、７００００
〜３０００００が好ましく、更に８００００〜２０００
００が好ましい。

【０１０２】アセチル基の置換度が２．６０以上３．０
０以下のセルロースエステルとは、アセチル基で、セル
ロースの水酸基を常法により所定の置換度に置換したも
のである。本発明のセルロースエステルの数平均分子量
は、好ましい機械的強度を得るためには、７００００〜
３０００００が好ましく、更に８００００〜２００００
０が好ましい。

【０１０３】アセチル置換度が２．４０以上２．６０未
満のセルロースエステルとは、アセチル基でセルロース
の水酸基を常法により所定の置換度に置換したものであ
る。該セルロースエステルの数平均分子量は、好ましい
機械的強度を得るためには、７００００〜３０００００
が好ましく、更に８００００〜２０００００が好まし
い。

【０１０４】セルロースエステル樹脂としては、上記ア
セチル置換度を制御したセルロースエステル樹脂を用い
ることが好ましいが、一方アセチル基およびプロピオニ
ル基を有するセルロースエステル樹脂を用いることが極
めて効果的である。

【０１０５】本発明に係るセルロースエステルフィルム
作製に用いられるセルロースエステルの一例として、ア
セチル基とプロピオニル基を置換基として有しており、
下記式（１）及び（２）を同時に満足するものが好まし
い。

【０１０６】（１）２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０ （２）Ａ＜２．４ ここで、Ａはアセチル基の置換度、Ｂはプロピオニル基
の置換度を表す。

【０１０７】更に、本発明においては、下記式（３）及
び（４）を同時に満たすセルロースエステルフィルムが
より好ましく用いられる。

【０１０８】（３） ２．４≦Ａ＋Ｂ≦２．８ （４） １．４≦Ａ≦２．０ これらのアシル基は、グルコース単位の２位、３位、６
位に平均的に置換していても良いし、例えば６位に高い
比率で置換するなどの分布を持った置換がなされていて
も良い。

【０１０９】ここで、置換度とは所謂、結合脂肪酸量の
百分率をいい、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９１（セルロース
アセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定お
よび計算に従い算出される数値である。アシル基の置換
度の測定法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に従って測定で
きる。

【０１１０】特に、Ａのアセチル基の平均置換度が２．
０未満であると延伸時の位相差のばらつきが少ないため
特に好ましい。

【０１１１】また、機械的強度に優れた透明支持体を得
る観点から、本発明に用いられるアセチル基とプロピオ
ニル基の両者を含むセルロースエステル樹脂の数平均分
子量は７００００〜３０００００、好ましくは９０００
０〜２０００００である。

【０１１２】本発明に用いられるセルロースの混合脂肪
酸エステルは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を
用いて合成できる。アシル化剤が酸無水物である場合
は、反応溶剤として有機酸（例、酢酸）や塩化メチレン
が使用される。触媒としては、硫酸のような酸性触媒が
用いられる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒
として塩基性化合物が用いられる。工業的に最も一般的
な合成方法では、セルロースをアセチル基およびプロピ
オニル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸）また
はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸）を
含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステ
ルを合成する。アセチル化剤とプロピオニル化剤の使用
量は、合成するエステルが前述した置換度の範囲となる
ように調整する。反応溶剤の使用量は、セルロース１０
０質量部に対して、１００〜１０００質量部であること
が好ましく、２００〜６００質量部であることがさらに
好ましい。酸性触媒の試料量は、セルロース１００質量
部に対して、０．１〜２０質量部であることが好まし
く、更に好ましくは、０．４〜１０質量部である。

【０１１３】反応温度は、１０〜１２０℃であることが
好ましく、２０〜８０℃であることがさらに好ましい。
また、アシル化反応が終了してから、必要に応じて加水
分解（ケン化）して、置換度を調整してもよい。反応終
了後、反応混合物を沈澱のような慣用の手段を用いて分
離し、洗浄、乾燥することによりセルロースの混合脂肪
酸エステル（セルロースアセテートプロピオネート）が
得られる。

【０１１４】本発明に用いられるセルロースエステルは
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート
と木材パルプから合成されたセルローストリアセテート
のどちらかを単独あるいは混合して用いることができ
る。ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターか
ら合成されたセルロースエステルを多く使用した方が生
産効率が高く好ましい。綿花リンターから合成されたセ
ルロースエステルの比率が６０質量％以上で、剥離性の
効果が顕著になるため６０質量％以上が好ましく、より
好ましくは８５質量％以上、更には単独で使用すること
が最も好ましい。

【０１１５】セルロースエステルは綿花リンターから合
成されたセルロースエステルと木材パルプから合成され
たセルロースエステルのどちらかを単独あるいは混合し
て用いることができる。ベルトやドラムからの剥離性が
良い綿花リンターから合成されたセルロースエステルを
多く使用した方が生産性効率が高く好ましい。綿花リン
ターから合成されたセルロースエステルの比率が６０質
量％以上で、剥離性の効果が顕著になるため６０質量％
以上が好ましく、より好ましくは８５質量％以上、更に
は、単独で使用することが最も好ましい。

【０１１６】本発明の光学補償フィルムに用いる透明支
持体の厚さは、液晶ディスプレイの視角特性を改良する
ための光学特性を保有すれば良く、延伸倍率と透明の支
持体の厚さにより制御することができる。該透明支持体
の厚さは、好ましくは３５μｍ以上２５０μｍ以下であ
るが、より好ましくは６０μｍ以上１４０μｍ以下であ
る。この範囲よりも該透明支持体が薄いと目的の光学特
性が得難くくなり、一方該範囲よりも厚いと必要以上の
光学特性となり、かえって液晶ディスプレイ視角特性を
劣化する場合が多くなる。

【０１１７】本発明において、前記光学補償フィルムを
偏光板用保護フィルムとして用いる場合、または光学補
償フィルムを保護フィルム付偏光子に張り付けて用いる
場合、光学補償フィルムは液晶セルと偏光子との間に設
置することができる。

【０１１８】偏光子は、従来から公知のものを用いるこ
とが出来る。例えば、ポリビニルアルコールの如きの親
水性ポリマーからなるフィルムを、沃素の如き二色性染
料で処理して延伸したもの等を用いることが出来る。

【０１１９】次に本発明の透明支持体がセルロースエス
テルの場合、そのフィルムの製造方法について述べる。

【０１２０】先ず、セルロースエステルを有機溶剤に溶
解してドープを形成する。ドープ中のセルロースエステ
ルの濃度は１０〜３５質量％が好ましい。

【０１２１】有機溶剤としては、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，
３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサ
ノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノー
ル、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノー
ル、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プ
ロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ
−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフル
オロ−１−プロパノール、ニトロエタン等の非塩素系の
有機溶剤が使用できる。また、塩化メチレンも使用でき
る。メタノール、エタノール、ブタノールなどの低級ア
ルコールを併用するとセルロースエステルの有機溶剤へ
の溶解性が向上したりドープ粘度を低減できるので好ま
しい。特に沸点が低く、毒性の少ないエタノールが好ま
しい。

【０１２２】ドープ中には、前記可塑剤、紫外線吸収
剤、マット剤などの添加剤を加えてもよい。そして、得
られたドープを回転するベルトやドラムの支持体上に流
廷し、剥離可能になるまで乾燥し、そしてフィルムを剥
離する。剥離した生乾きのフィルムの状態で延伸され、
更に乾燥しフィルム中の有機溶剤をほぼ完全に蒸発させ
ることができるが、乾燥後延伸してもよい。フィルム中
の有機溶剤の含有量としては、良好なフィルムの寸法安
定性を得るために２質量％以下、更に０．４質量％以下
が好ましい。

【０１２３】また、本発明に係る長尺支持体の製造、特
に塗設において、すべり性を改善するために、これら透
明樹脂フィルムを製造する際のドープ中に、例えば二酸
化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジル
コニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケ
イ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミ
ニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無
機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させること
が好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを
小さくできるので好ましい。微粒子は、２次粒子の平均
粒径が０．０１〜１．０μｍ、含有量が、セルロースエ
ステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。

【０１２４】二酸化ケイ素のような微粒子は有機物によ
って表面処理されていることが、フィルムのヘイズを低
下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物とし
ては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、
シロキサンなどがあげられる。微粒子の平均径は、後述
のアンチカール処理に用いる微粒子と同じものが用いら
れる。

【０１２５】本発明の光学補償フィルムは、支持体に光
学異方層等の塗設物を有することからカールしてしまう
ことが多い。従ってカールを防止することにより、カー
ルによる不都合を解消し、光学補償フィルムとしての機
能を損なわないようにするため、光学異方性層を塗設し
た反対側にアンチカール層を設けることが出来る。すな
わち、アンチカール層を設けた面を内側にして丸まろう
とする性質を持たせることにより、カールの度合いをバ
ランスさせるものである。なお、アンチカール層は好ま
しくはブロッキング層を兼ねて塗設され、その場合、塗
布組成物にはブロッキング防止機能を持たせるための無
機微粒子及び／又は有機微粒子を含有させることができ
る。例えば、無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタ
ン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウ
ム等を挙げることができ、また有機微粒子としては、ポ
リメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリ
ルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂
粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、
ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉
末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、
ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリ
イミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉
末等を挙げることができ、アンチカール層塗布組成物に
加えることが出来る。二酸化ケイ素のような微粒子は有
機物によって表面処理されていることが、フィルムのヘ
イズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有
機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シ
ラザン、シロキサンなどがあげられる。

【０１２６】二酸化ケイ素の微粒子としては日本アエロ
ジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ２００、２００Ｖ、３０
０、Ｒ９７２、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５
０、ＴＴ６００などが挙げられ、好ましくはＡＥＲＯＳ
ＩＬ Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ９７４Ｖ、
Ｒ２０２、Ｒ８１２などが挙げられる。

【０１２７】これらの粒子は、体積平均粒径０．００５
〜０．１μｍの粒子を樹脂組成物１００質量部に対して
０．１〜５質量部が好ましく添加される。これの微粒子
の配合はフィルムのヘイズが０．６％以下、光学補償フ
ィルムの表裏面の間の動摩擦係数が０．５以下となるよ
うに配合することが好ましい。

【０１２８】前記微粒子はとジアセチルセルロースのよ
うな樹脂を含む層を設置することができる。このような
層はイソシアネート誘導体のような架橋剤を用いて強度
を向上させることもできる。

【０１２９】アンチカール機能の付与は、樹脂フィルム
基材を溶解させる溶剤又は膨潤させる溶剤を含む組成物
を塗布することによって行われる。用いる溶剤として
は、溶解させる溶剤又は膨潤させる溶剤の混合物の他、
さらに溶解させない溶剤を含む場合もあり、これらを樹
脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割
合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。カール防
止機能を強めたい場合は、用いる溶剤組成を溶解させる
溶剤又は膨潤させる溶剤の混合比率を大きくし、溶解さ
せない溶剤の比率を小さくするのが効果的である。

【０１３０】この混合比率は好ましくは（溶解させる溶
剤又は膨潤させる溶剤）：（溶解させない溶剤）＝１
０：０〜１：９で用いられる。

【０１３１】このような混合組成物に含まれる、樹脂フ
ィルム基材を溶解又は膨潤させる溶剤としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、アセ
トン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、
メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロ
ロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがあ
る。溶解させない溶剤としては、例えば、メタノール、
エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルア
ルコール、ｎ−ブタノールなどがある。

【０１３２】これらの塗布組成物をグラビアコータ、デ
ィップコータ、リバースコータ、押し出しコータ等を用
いて樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１〜１００μｍ
塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであると良
い。ここで用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル
／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加
水分解した塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル／塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル／アクリロニ
トリル共重合体、エチレン／ビニルアルコール共重合
体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン／塩化ビニル共重
合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合
体あるいは共重合体、ニトロセルロース、セルロースア
セテートプロピオネート、ジアセチルセルロース、セル
ロースアセテートブチレート樹脂等のセルロースエステ
ル系樹脂、マレイン酸および／またはアクリル酸の共重
合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル
／スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニ
トリル／塩素化ポリエチレン／スチレン共重合体、メチ
ルメタクリレート／ブタジエン／スチレン共重合体、ア
クリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエ
ーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリア
ミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン／ブタジエン樹脂、ブ
タジエン／アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリ
コーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。特に好ましくは
ジアセチルセルロースのようなセルロース系樹脂層であ
る。

【０１３３】本発明の光学補償フィルムの支持体におい
て物性を改良する目的として可塑剤を用いることができ
る。具体的な可塑剤としては、リン酸エステルまたはカ
ルボン酸エステルが好ましく用いられる。リン酸エステ
ルとしては、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）お
よびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、ビフェニル
−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチルホスフェー
トが含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸
エステルおよびクエン酸エステルが代表的なものであ
る。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート
（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチル
フタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯ
Ｐ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、
エチルフタリルエチルグリコレート等が用いられる。ク
エン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル
（ＯＡＣＴＥ）およびクエン酸アセチルトリブチル（Ｏ
ＡＣＴＢ）が用いられる。その他のカルボン酸エステル
の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセ
チル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エス
テルが含まれる。リン酸エステル系可塑剤（ＴＰＰ、Ｔ
ＣＰ、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチル
エチルホスフェート）、フタル酸エステル系可塑剤（Ｄ
ＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく
用いられる。

【０１３４】又、この中でもトリフェニルフォスフェー
ト（ＴＰＰ）およびエチルフタリルエチルグリコールが
特に好ましく用いられる。

【０１３５】可塑剤は透明樹脂への耐水性付与、あるい
はその透湿性改善のため、可塑剤の添加量は透明樹脂中
に通常２〜１５質量％で添加することが好ましい。

【０１３６】透明樹脂に紫外線吸収剤を含有させること
によって、耐光性に優れた光学補償フィルムを得ること
が出来る。本発明に有用な紫外線吸収剤としては、サリ
チル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾ
ール誘導体、安息香酸誘導体又は有機金属錯塩等があ
る。具体例として特に限定されることはないが、例え
ば、サリチル酸誘導体としてはサリチル酸フェニル、４
−ｔ−ブチルフェニルサリチル酸等を、ベンゾフェノン
誘導体としては、２−ジヒドロキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等を、ベン
ゾトリアゾール誘導体としては、２−（２′−ヒドロキ
シ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２
−（２′−ヒドロキシ−３′−５′−ジ−ブチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール等を、安息香酸誘
導体としては、レゾルシノール−モノベンゾエート、
２′，４′−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンゾエート等を、有機錯塩誘導
体としては、ニッケルビス−オクチルフェニルサルファ
ミド、エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルリン酸のニッケル塩等を挙げることができ
る。本発明においてはこれら紫外線吸収剤の１種以上を
用いていることが好ましく、異なる２種以上の紫外線吸
収剤を含有してもよい。また高分子紫外線吸収剤、例え
ば特開平６−１４８４３０記載に例示されたようなもの
を用いてもよい。

【０１３７】紫外線吸収剤としては、紫外線の吸収形状
や保存性の観点から紫外線吸収剤としては、液晶性化合
物の劣化防止の点より波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸
収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の点より波長４００
ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものが好まし
く用いられる。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が、１
０％以下である必要があり、好ましくは５％以下、より
好ましくは２％以下である。このような観点からベンゾ
トリアゾール誘導体またはベンゾフェノン誘導体が好ま
しく用いられる。

【０１３８】紫外線吸収剤の添加方法はアルコールやメ
チレンクロライド、ジオキソランなどの有機溶剤に紫外
線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直
接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有
機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエス
テル中にデゾルバやサンドミルを使用し、分散してから
ドープに添加する。

【０１３９】アンチカール層を塗設する順番は樹脂フィ
ルム基材の反対側に光学異方性層を塗設する前でも後で
も構わないが、アンチカール層がブロッキング防止層を
兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。

【０１４０】本発明の光学補償フィルムの液晶層の上に
は、傷などの光学的変質をさけるために保護層を設けて
もよい。液晶層が複数層の場合は中間層を設けてもよ
い。保護層または中間層の材料としては、ポリメチルメ
タクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、ス
チレン／無水マレイミド共重合体、ポリビニルアルコー
ル、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン
／ビニルトルエン共重合体、ニトロセルロース、ポリ塩
化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリ
イミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／
酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、
及びポリカーボネート、またはアクリレート、メタクリ
レート等のポリマー及びこれらの誘導体を挙げる事がで
きる。これらの材料を上記塗布方法より、溶液を調製し
て塗布、乾燥によって設置することができる。

【０１４１】本発明に用いられるセルロースエステルフ
ィルム支持体の製造方法に付いて説明する。

【０１４２】セルロースエステルフィルム支持体の製造
方法としては、ドープ液を支持体上に流延、製膜し、得
られたフィルムを支持体から剥ぎ取り、その後、張力を
かけて乾燥ゾーン中を搬送させながら乾燥する、溶液流
延製膜法が好ましい。下記に溶液流延製膜法について述
べる。

【０１４３】（１）溶解工程：セルロースエステルのフ
レークに対する良溶剤を主とする有機溶剤に溶解釜中で
該フレークを攪拌しながら溶解し、セルロースエステル
溶液（ドープ）を形成する工程である。溶解には、常圧
で行う方法、主溶剤の沸点以下で行う方法、主溶剤の沸
点以上で加圧して行う方法、Ｊ．Ｍ．Ｇ．Ｃｏｗｉｅ等
によるＭａｋｒｏｍｏｌ．ｃｈｅｍ．１４３巻、１０５
頁（１９７１）に記載されたような、又特開平９−９５
５４４号及び同９−９５５５７号に記載された様な低温
で溶解する冷却溶解法、高圧で行う方法等種々の溶解方
法がある。溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポン
プで次工程に送る。

【０１４４】（２）流延工程：ドープを加圧型定量ギヤ
ポンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、
無限に移送する無端の金属ベルトあるいは回転する金属
ドラムの流延用支持体（以降、単に支持体ということも
ある）上に加圧ダイからドープを流延する工程である。
流延用支持体の表面は鏡面となっている。その他の流延
方法としては流延されたドープ膜をブレードで膜厚を調
節するドクターブレード法、あるいは逆回転するロール
で調節するリバースロールコータによる方法等がある
が、口金部分のスリット形状を調製出来、膜厚を均一に
し易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハン
ガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられ
る。製膜速度を上げるために加圧ダイを流延用支持体上
に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。

【０１４５】（３）溶剤蒸発工程：ウェブ（流延用支持
体上にドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェ
ブとする）を流延用支持体上で保持し溶剤を蒸発させる
工程である。溶剤を蒸発させるには、ウェブ側から風を
吹かせる方法及び／または支持体の裏面から液体により
伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等
があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好まし
い。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。

【０１４６】（４）剥離工程：支持体上で溶剤が蒸発し
たウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離され
たウェブは次工程に送られる。剥離する時点でのウェブ
の残留溶剤量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難
かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離す
ると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。

【０１４７】製膜速度を上げる方法（残留溶剤量ができ
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
できる）として、残留溶剤が多くとも剥離出来るゲル流
延法（ゲルキャスティング）がある（残留溶剤量が出来
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
出来る）。それは、ドープ中にセルロースエステルに対
する貧溶剤を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、
支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。また、
ドープ中に金属塩を加える方法もある。支持体上でゲル
化させ膜を強くすることによって、剥離を早め製膜速度
を上げることが出来るのである。残留溶剤量がより多い
時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平
面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生
し易く、経済速度と品質との兼ね合いで剥離残留溶剤量
を決められる。

【０１４８】残留溶媒量の測定はフィルムを１１５℃で
１時間乾燥した時のフィルムの質量をＡとし、乾燥前の
フィルムの質量をＢとしたとき、下記式より求めた。

【０１４９】 （（Ｂ−Ａ）／Ａ）×１００＝残留溶媒量（質量％） （５）乾燥工程：ウェブを千鳥状に配置したロールに交
互に通して搬送する乾燥装置及び／またはクリップでウ
ェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用い
てウェブを乾燥する工程である。乾燥の手段はウェブの
両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わり
にマイクロウエーブを当てて加熱する手段もある。あま
り急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性を損ね易
い。高温による乾燥は残留溶剤が８質量％以下くらいか
ら行うのがよい。全体を通して、通常乾燥温度は４０〜
２５０℃で、７０〜１８０℃が好ましい。使用する溶剤
によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、
使用溶剤の種類、組合せに応じて乾燥条件を適宜選べば
よい。

【０１５０】流延用支持体面から剥離した後の乾燥工程
では、溶剤の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しよう
とする。高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくな
る。この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥すること
が、出来上がったフィルムの平面性を良好にする上で好
ましい。この観点から、例えば、特開昭６２−４６６２
５号に示されているような乾燥全工程あるいは一部の工
程を巾方向にクリップでウェブの巾両端を巾保持しつつ
乾燥させる方法（テンター方式）が好ましい。

【０１５１】（６）巻き取り工程：ウェブを残留溶剤量
が質量で２％以下となってからフィルムとして巻き取る
工程である。残留溶剤量を０．４％以下にすることによ
り寸法安定性の良好なフィルムを得ることが出来る。巻
き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよ
く、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション
法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール
法等があり、それらを使いわければよい。

【０１５２】脂肪酸セルロースエステルフィルムの膜厚
の調節には所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポン
プの送液量、ダイの口金のスリット間隙、ダイの押し出
し圧力、流延用支持体の速度をコントロールするのがよ
い。又、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段を
用いて、プログラムされたフィードバック情報を上記各
装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。

【０１５３】溶液流延製膜法を通しての流延直後からの
乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気
とするのもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス
雰囲気で行ってもよい。ただ、乾燥雰囲気中の蒸発溶剤
の爆発限界の危険性は常に考慮されなければならないこ
とは勿論のことである。

【０１５４】本発明に用いられる溶出ブロック層につい
て説明する。本発明に用いられる透明支持体と光学異方
層の配向のための配向層との接着性を向上させるため
に、溶出ブロック層が設けられることが好ましい。

【０１５５】溶出ブロック層とは、配向層や液晶性化合
物を塗設する際、これらの有機溶剤溶液として塗設する
場合、有機溶剤の存在により透明支持体から配向層ある
いは液晶性化合物が存在する光学異方層へ、透明支持体
を構成する化合物の何れかが溶出するのを抑制すること
を意味する。薄膜として配向層や液晶性化合物の層を設
置する場合、これらの化合物の有機溶剤溶液を調製して
塗布することは好ましい手法である。

【０１５６】しかしながら、特にセルロースエステルフ
ィルム支持体等の透明支持体は、樹脂で構成され、可塑
剤を含むことが多い。樹脂あるいは可塑剤を溶解する有
機溶剤が、配向層としての樹脂や液晶性化合物を溶解す
るとき、塗設によって層間の拡散、層間の混溶が容易に
推察できる。

【０１５７】この間に前述の有機溶剤に不溶もしくは溶
けにくい溶剤に溶解する樹脂を設置することにより、前
述の塗設時の層間拡散、層間混溶を抑制することが可能
となる。

【０１５８】また、樹脂あるいは可塑剤を溶解する有機
溶剤に溶解する化合物であっても、活性線硬化性の樹脂
をモノマーの状態で透明基板上に塗設し硬化反応を行う
ことは、単に樹脂を塗設することと異なり架橋構造が多
い層が設置でき、配向層としての樹脂や液晶性化合物を
溶解するとき、塗設によって層間の拡散、コンタミネー
ションを抑制することができる。これにより光学異方層
を構成する液晶性化合物の配向がより安定に達成でき
る。

【０１５９】本発明に用いられる透明支持体に水溶性ポ
リマー、例えば、有機酸基含有ポリマーを含有する溶出
ブロック層を設けることは、透明支持体と配向層との接
着性向上の観点から、製造上メリットが大きく効果的で
ある。

【０１６０】有機酸基含有ポリマーは、ポリマー側鎖に
有機酸基を有する構造が挙げられるが特に限定されな
い。有機酸基としては、例えば−ＣＯＯＨ基が上げられ
る。このような化合物例としては特に限定されることは
ないが、例えば特開平７−３３３４３６号記載の一般式
［１］または一般式［２］で示される構造が挙げられ
る。−ＣＯＯＨ基の水素は、アンモニア、アルカリ金属
カチオン（ナトリウムカチオン、リチウムカチオン）で
置換されていてもよい。有機酸基をもつポリマーを構成
するモノマー単位としては、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸などが挙げられ
る。また、無水マレイン酸を共重合モノマーとして高分
子量化したのち、酸無水環を開環させて有機酸基を得て
もよい。

【０１６１】本発明に係る溶出ブロック層の一形態とし
て活性線硬化樹脂層の設置がある。活性線は紫外線が光
源や材料の入手のしやすさから好ましい。

【０１６２】紫外線硬化樹脂としては、例えば、紫外線
硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエス
テルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリ
レート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系
樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが
出来る。

【０１６３】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば特開昭５９
−１５１１１０号）。

【０１６４】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系
のモノマーを反応させることによって容易に得ることが
出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。

【０１６５】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させたものを挙げることが出来る（例えば、特開平１
−１０５７３８号）。この光反応開始剤としては、ベン
ゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もし
くは２種以上を選択して使用することが出来る。

【０１６６】また、紫外線硬化型ポリオールアクリレー
ト系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出
来る。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用さ
れる。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出
来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−ア
ミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘
導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレー
ト系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエ
チルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を
用いることが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶剤成分を
除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤
または光増感剤は該組成物の０．５〜５質量％であるこ
とが特に好ましい。

【０１６７】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、グラビアコータ、スピナーコータ、ワイヤー
バーコータ、ロールコータ、リバースコータ、押出コー
タ、エアードクターコータ等公知の方法を用いることが
出来る。紫外線を含む活性線硬化樹脂層の硬化後の膜厚
は０．０５μｍ以上３０μｍ以下が適当で、好ましく
は、０．１〜１５μｍである。この乾燥膜厚が薄すぎる
と溶出ブロック性が低下し、また乾燥膜厚が厚すぎると
光学補償フィルムがフィルム上であるときカールしてし
まうことがある。

【０１６８】活性線硬化性樹脂は、重合可能なビニル
基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、イ
ソプロペニル基、エポキシ基等の重合性基を二つ以上有
するもので、活性エネルギー線に照射により架橋構造ま
たは網目構造を形成するものが好ましい。これら活性基
のうちアクリロイル基、メタクリロイル基またはエポキ
シ基が重合速度、反応性の面から好ましく多官能モノマ
ーまたはオリゴマーが好ましい。例として紫外線硬化型
のアクリウルレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート
系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアク
リレート系樹脂が好ましく用いられる。

【０１６９】また、溶出ブロック層として用いる合成ポ
リマーとしては下記のモノマー単位を単独もしくは共重
合体として上記混合溶剤に溶解する特性の有するものを
用いてもよい。ポリマーを構成するモノマーの具体例と
しては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
アクリルアミド類、メタクリルアミド類、クロトン酸エ
ステル、ビニルエステル、マレイン酸エステル、フマル
酸エステル、イタコン酸エステル、オレフィン類、スチ
レン類等が挙げられる。これらのモノマーについて更に
具体的に示すと、アクリル酸エステル誘導体、これらの
エステル置換化合物の置換基として以下のものが挙げら
れる。メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、アミル基、
ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ｔｅ
ｒｔ−オクチル基、ドデシル基、２−クロロエチル基、
２−ブロモエチル基、４−クロロブチル基、シアノエチ
ル基、２−アセトキシエチル基、ジメチルアミノエチル
基、ベンジル基、メトキシベンジル基、２−クロロシク
ロヘキシル基、シクロヘキシル基、フルフリル基、テト
ラヒドロフルフリル基、フェニル基、５−ヒドロキシペ
ンチル基、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル
基、２−メトキシエチル基、、グリシジル基、アセトア
セトキシエチル基、３−メトキシブチル基、２−エトキ
シエチル基、２−ｉｓｏ−プロポキシ基、２−ブトキシ
エチル基、２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、２
−（２−ブトキシエトキシ）エチル基、ω−メトキシオ
リゴオキシエチレン基（オキシエチレン繰り返し単位
数：ｎ＝７、９、１１等）、ω−ヒドロキシオリゴオキ
シエチレン基（オキシエチレン繰り返し単位数：ｎ＝
７、９、１１等）、１−ブロモ−２−メトキシエチル
基、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチル基などがあ
り、これらの置換基によって構成されるアクリル酸エス
テルおよびメタクリル酸エステルが挙げられる。

【０１７０】また、アクリルアミド誘導体やメタクリル
アミド誘導体としては、置換、無置換のアクリルアミド
およびメタクリルアミドがあり、これらの置換アミドの
置換基としては以下のものが挙げられる。メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、ヒドロキシメチル基、メトキシエチル
基、ジメチルアミノプロピル基、フェニル基、アセトア
セトキシプロピル基、シアノエチル基等のＮ−モノ置換
誘導体が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジ置換誘導体としては、
Ｎ，Ｎ−ジメチル基あるいはＮ，Ｎ−ジエチル基を有す
るアクリルアミド誘導体あるいはメタクリルアミド誘導
体が挙げられる。

【０１７１】ビニルエステル類の例としては、ビニルア
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプレート、ビニルクロ
ロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェ
ニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルな
どが挙げられる。

【０１７２】またオレフィン類の例としては、ジシクロ
ペンタジエン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、塩
化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレ
ン、ブタジエン、２，３−ジメチルブタジエン等が挙げ
られる。

【０１７３】スチレン類としては、例えば、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロメ
チルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。

【０１７４】クロトン酸エステルとしては、クロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。

【０１７５】また、イタコン酸エステル類としては、イ
タコン酸モノメチルエステル、イタコン酸ジメチル、イ
タコン酸モノブチルエステル、イタコン酸ジエチル、イ
タコン酸ジブチルなどが挙げられる。

【０１７６】マレイン酸エステルとしては、例えばフマ
ル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルな
どが挙げられる。

【０１７７】その他のモノマーの例としては、次のもの
が挙げられる。ビニルケトン類、例えばメチルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケ
トンなどが挙げられる。

【０１７８】ヘテロ環含有ビニルモノマーとしては、Ｎ
−ビニルピリジンおよび２−および４−ビニルピリジ
ン、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニル
トリアゾール、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げ
られる。

【０１７９】不飽和ニトリル類としては、アクリロニト
リル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。

【０１８０】上述のポリマーにおいて接着性の改良のた
めに高分子側鎖に不飽和エチレン性基やエポキシ基等の
化学反応性基を含んでもよい。

【０１８１】上述のポリマーは水を３０質量％以上、好
ましくは４５質量％以上を含む少なくとも１種以上の有
機溶剤との混合溶剤に溶解できることが本発明において
求められる。このような溶解性を示すポリマーで構成さ
れる溶出ブロック層の樹脂としては、高分子側鎖にヘテ
ロ原子を含む環構造を含むコポリマーが好ましく、より
好ましくはＮ−ビニル−２−ピロリドンを６０質量％以
上含むコポリマー、特に好ましくはＮ−ビニル−２−ピ
ロリドンのホモポリマーである。また、ポリビニルアル
コールも好ましく用いられる。

【０１８２】溶出ブロック層の樹脂の分子量は高い方が
配向層や液晶層への拡散がし難い観点から好ましく、数
平均分子量が８０万以上であることが好ましい。

【０１８３】また、上記ポリマーを溶出ブロック層とし
て用いた場合、透明樹脂基板上に乾燥膜厚で０．１μｍ
以上１５μｍ以下であることが好ましい。この乾燥膜厚
が薄すぎると溶出ブロック性が低下することがあり、ま
た乾燥膜厚が厚すぎると光学補償フィルムがフィルム上
であるときにカールしてしまうことがある。

【０１８４】この溶出ブロック層は、透明支持体からの
可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤の溶出を防止する目
的の他に、当該支持体と光学異方層または配向層との密
着性を向上させて剥離するのを防止する機能をも求めら
れる。当該目的のためには、透明樹脂基板において、プ
ラズマ処理を行うことが効果的である。透明樹脂基板を
搬送しながらプラズマ処理を行うことは、連続的に処理
が可能であり、特に真空にすることなく大気圧下で、反
応性のガス雰囲気下で該処理を行うことは、フィルム表
面上に必要な反応を行うことで好ましい。

【０１８５】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれらに限定されない。

【０１８６】 実施例１ 《長尺支持体の作製》 （ドープ組成物の調製） セルローストリアセテート（平均酸化度６１．０％） ８５ｋｇ セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度２．０、 プロピオニル基置換度０．８） １５ｋｇ トリフェニルフォスフェート ５ｋｇ エチルフタリルエチルグリコレート ２ｋｇ チヌビン１０９ ０．５ｋｇ チヌビン１１７ ０．５ｋｇ チヌビン３２６ ０．３ｋｇ 超微粒子シリカ（アエロジル２００Ｖ：日本アエロジル（株）製） ０．０１ｋｇ メチレンクロライド ４３０ｋｇ メタノール ９０ｋｇ ドープ組成物密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物を得た。次
にこのドープ組成物を濾過し、冷却して３５℃に保ちス
テンレスバンド上に均一に流延し、剥離が可能になるま
で溶剤を蒸発させたところで、ステンレスバンド上から
剥離した。剥離後の残留溶剤量５０質量％〜５質量％の
間の乾燥ゾーン内でテンターによって幅保持しながら乾
燥を進行させ、さらに、多数のロールで搬送させながら
残留溶剤量１質量％以下となるまで乾燥させ、膜厚８０
μｍのフィルムを得た。

【０１８７】このセルロースエステルフィルムは、コア
径２００ｍｍのガラス繊維強化樹脂製のコアに巾１ｍ、
長さ１０００ｍのロール状にテーパーテンション法で巻
き取きとり、長尺支持体を作製した。この際、フィルム
端部に温度２５０℃のエンボスリングを押し当て、厚み
だし加工を施して、フィルム同士の密着を防止した。

【０１８８】《溶出ブロック層の作製》長尺支持体に下
記活性線硬化層用塗布組成物を搬送しながらにワイヤー
バー塗布し乾燥後、２００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍの
光量）の紫外線を照射して硬化し、搬送されたフィルム
を巻き取った。硬化後の溶出ブロック層の膜厚は３μｍ
であった。

【０１８９】 （活性線硬化層用塗布組成物） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ７０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 １５質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 １５質量部 ジメトキシベンゾフェノン 光反応開始剤 ４質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５質量部 メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ７５質量部 《配向層１の塗設および配向処理》長尺支持体上に塗設
された溶出ブロック層の上に直鎖アルキル変性ポリビニ
ルアルコール（ＭＰ２０３；クラレ（株）製）を水：メ
タノール＝６０：４０（質量比）の１質量％の溶液を作
製し、乾燥膜厚が０．２μｍとなるように押し出しコー
ティング機で塗布した。これらを８０℃温風にて乾燥さ
せた後、ラビング処理を行い、配向層を形成した。ラビ
ング処理の方向は、塗布の進行方向から４５°の方向で
行なった。この配向層は溶出ブロック層としても機能で
きる。

【０１９０】《液晶層１の塗設及び液晶性化合物の配向
の固定化処理》長尺支持体上に塗設され、偏光紫外線を
照射した配向膜上に、ＬＣ−１０１を５．０質量部、Ｌ
Ｃ−１０２を４質量部、ＬＣ−１０３を１質量部、及び
光重合開始剤（イルガキュア−９０７；チバ・ガイギー
社製）０．１質量部を、４．７質量部のメチルエチルケ
トンに溶解して得られた塗布液を押し出しコーティング
機で液晶層を塗布した。乾燥と配向のために８０℃の乾
燥ゾーンに２４秒、連続した６５℃の乾燥ゾーンに３６
秒処理し、液晶性化合物を配向させ、光学異方層を作製
した。次に、２０℃、且つ、窒素雰囲気（酸素濃度１．
８％）のゾーンに搬送し、高圧水銀灯を用いて照度５０
０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、架橋反応により配向
を固定化した。搬送されたフィルムを室温下で巻き取
り、光学補償フィルム試料１０１を得た。光学異方層の
膜厚は１．１μｍであった。

【０１９１】次いで、液晶層の塗布膜厚を表１記載のよ
うに変更した以外は同様にして、光学補償フィルム試料
１０２〜１０８を得た。

【０１９２】

【化１】

【０１９３】上記で得られた光学補償フィルム１０１〜
１０８について下記に示すような評価を行った。

【０１９４】《光学異方層のムラの評価》光学異方層ま
で塗布した試料からから２０ｃｍ間隔で長尺支持体の進
行方向に４個所ずつ、幅方向に４個所ずつ計１６個所か
ら３ｃｍ×３ｃｍに試料を切り出した。試料を光透過軸
が直行するように配置した２枚の偏光板の間に設置し
た。試料の設置方向をＡ：試料の配向方向を偏光板の光
透過軸から４５°傾けて設置。Ｂ：試料の配向方向を１
枚の偏光板の光透過軸方向に平行に設置。Ａ，Ｂの状態
でＸ−Ｒｉｔｅ ３１０Ｒを用いてビジュアルで透過濃
度を測定し、３ｃｍ×３ｃｍの中で５個所測定し、その
平均値を濃度とし、Ａの配置の透過濃度を透過濃度Ａ、
Ｂの配置の透過濃度を透過濃度Ｂとした。また、透過濃
度Ａから透過濃度Ｂを引いた値をコントラストとした。
コントラストが大きいほど液晶層の配向性は高く、低け
れば配向性が低いことを表す。また１６個所の透過濃度
Ａのばらつきが小さいほど配向性が高い事を表し、透過
濃度Ａの最大値と最小値の差をばらつきとして、下記の
ように目視で３段階のランク評価を行ない、ムラの評価
とした。

【０１９５】 ３：ムラが多い ２：わずかにムラがある（実用出来る限界レベル） １：ムラが見られない

【０１９６】

【表１】

【０１９７】表１から、比較の試料と比べて、本発明の
試料は塗布ムラが少なく、均一な光学異方層が得られて
いることが明らかである。

【０１９８】実施例２ 液晶層の塗布条件を表２に記載の塗設条件（塗布液温
度、塗布温度、塗布環境温度）に調整した以外は実施例
１に記載の光学補償フィルム試料１０１の作製と同様の
製造条件で配向層の上に液晶層を塗布し、下記の評価方
法に従い、光学異方層のコントラスト、ばらつきを評価
した。

【０１９９】《光学異方層の評価》光学異方層まで塗布
した試料から２０ｃｍ間隔で長尺支持体の進行方向に４
個所ずつ、幅方向に４個所ずつ計１６個所から３ｃｍ×
３ｃｍに試料を切り出した。試料を光透過軸が直行する
ように配置した２枚の偏光板の間に設置した。試料の設
置方向をＡ：試料の配向方向を偏光板の光透過軸から４
５°傾けて設置。Ｂ：試料の配向方向を１枚の偏光板の
光透過軸方向に平行に設置。Ａ，Ｂの状態でＸ−Ｒｉｔ
ｅ ３１０Ｒを用いてビジュアルで透過濃度を測定し、
３ｃｍ×３ｃｍの中で５個所測定し、その平均値を濃度
とし、Ａの配置の透過濃度を透過濃度Ａ、Ｂの配置の透
過濃度を透過濃度Ｂとした。また、透過濃度Ａから透過
濃度Ｂを引いた値をコントラストとし、１６点の平均値
を表に記した。コントラストが大きいほど液晶層の配向
性は高く、低ければ配向性が低いことを表す。また１６
個所の透過濃度Ａのばらつきが小さいほど配向性が高い
事を表す。

【０２００】水準及び得られた結果を表２に示す。

【０２０１】

【表２】

【０２０２】表２から、塗布液の温度を１５℃〜３０
℃、塗布温度を１５℃〜３０℃、塗布環境温度を２０〜
３０℃に調整することにより、更に、コントラスト、ば
らつき等の特性が向上する。

【０２０３】実施例３ 実施例１の試料１０１の作製と同様の製造条件に、元巻
の繰り出し部にイオン送風型静電気除去装置：ＢＬＳ春
日電機（株）社製を取り付け、フィルムの表面電位を風
量で調整し塗布を行なった。実施例１に記載の方法を用
いて表面電位とコントラスト、ばらつきを評価した。結
果を表３に示す。

【０２０４】

【表３】

【０２０５】表３から、表面電位が−５ｋＶよりも小さ
く調整することにより、更にコントラスト、ばらつき特
性が良好になることが判る。

【０２０６】実施例４ 実施例１に記載の光学補償フィルム試料１０１を作製す
るに当たり、塗布液供給速度と塗布速度を調整しながら
表４に記載の残留溶剤量に調整した以外は同様にして、
光学補償フィルム試料４０１〜４０８を各々作製し、実
施例１に記載の方法を用いてコントラスト、ばらつきを
評価した。

【０２０７】塗布後最初の搬送ロールに接触する手前で
サンプリングして残留溶剤量を下記の方法で測定した。
液晶層の膜厚を塗布液供給速度と塗布速度から計算し、
比重を１として液晶層の質量とし、液晶層の質量と残留
溶剤量の比率（％）を残留溶剤比率とした。

【０２０８】（残留溶剤測定方法）フィルム面積として
２５．０ｃｍ²を切り出し、これを５ｍｍ程度に細かく
刻み専用バイアル瓶に収納し、セプタムとアルミキャッ
プで密閉した後、ヒューレット・パッカード社製ヘッド
スペースサンプラーＨＰ７６９４型にセットする。ヘッ
ドスペースサンプラーと接続したガスクロマトグラフィ
ー（ＧＣ）は検出器として水素炎イオン化検出器（ＦＩ
Ｄ）を装着したヒューレット・パッカード社製５９７１
型を使用する。測定条件は以下の通りである。

【０２０９】 ヘッドスペースサンプラー加熱条件：１２０℃、２０分 ＧＣ導入温度１５０℃ カラム：Ｊ＆Ｗ社製 ＤＢ−６２４ 昇温：４５℃、３分保持→１００℃（８℃／分） 上記の測定条件を用いてガスクロマトグラムを得る。メ
チルエチルケトンのブタノールにて希釈された一定量を
バイアル瓶に収納した後、上記と同様に測定して得られ
たクロマトグラムのピーク面積を用いて作製した検量線
を使用してフィルム中の残留溶剤量を得た。得られた結
果を表４に示す。

【０２１０】

【表４】

【０２１１】表４から、残留溶剤が１０％以下の試料
は、更にコントラスト、ばらつき特性が良好なことが明
らかである。

【０２１２】実施例５ 実施例１に記載の光学補償フィルム試料１０１を作製す
るに当たり、図５に示す乾燥工程（各乾燥ゾーン長：２
ｍ）を設け、表５に記載の条件を用いて、フィルム面へ
の風量を調整し、残留溶剤量を各々、５．０質量％に調
整した以外は同様にして光学補償フィルム試料５０１〜
５１０を各々作製した。残留溶剤量は２番目の乾燥ゾー
ン中央でサンプリングして実施例４に記載の方法で測定
した。コントラスト、ばらつきは実施例１に記載の方法
を用いて評価した。得られた水準と結果を表５に示す。

【０２１３】

【表５】

【０２１４】表５から、乾燥ゾーンの風速を４ｍ／秒以
下に設定することにより、コントラストが良好であり、
且つ、ばらつき特性も良好であることが判る。

【０２１５】実施例６ 実施例１に記載の光学補償フィルム試料１０１を作製す
るに当たり、乾燥工程として図５に示すような乾燥工程
装置（５つの乾燥ゾーンを有する）を用い、各乾燥ゾー
ン（ゾーン長２ｍ）の温度を表６に記載のように調整し
た以外は同様にして、光学補償フィルム試料６０１〜６
１２を各々作製した。

【０２１６】各乾燥ゾーンの温度はフィルム面上２ｃｍ
の位置に熱伝対を配置し、温度計に接続した。試料６０
９のみ、２番目の乾燥ゾーンおよび３番目の乾燥ゾーン
の搬送を図４に示す金属ベルトを使用した。

【０２１７】液晶層のＴ−ＮＩ、Ｔ−ＩＮの測定は、示
差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて記載の方法で測定した
ところ、Ｔ−ＮＩ：７６℃、Ｔ−ＩＮ：７１℃であっ
た。塗布室の温度は２３℃であった。

【０２１８】得られた試料のコントラストの評価は実施
例２に記載と同様に行い、チルト角の測定は下記に記載
の方法を用いて行った。

【０２１９】《光学異方層の平均チルト角測定》自動複
屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）
製）を用いて、光学異方層及び透明支持体のみのリター
デーションの角度依存性（−４０°〜＋４０°の範囲、
測定は１０°毎）を測定した。光学異方層は、光学異方
層の最大屈折率を含む方向の測定を実施した。光学異方
層全体のリターデーションの角度依存性に対して、対応
する透明支持体の各角度成分のリターデーションの差を
求めた。測定角度に依存するリターデーションの最大値
を与える観測角度を光学異方層を構成する液晶性化合物
の平均チルト角とし、２０ｃｍ間隔で長尺支持体の進行
方向に４個所ずつ、幅方向に４個所ずつ計１６個所から
３ｃｍ×３ｃｍに試料を切り出し、それぞれの平均チル
ト角を平均し、使用の平均チルト角とした。本実施例で
は、試料の面に対する法線方向（０°）から最大値を与
える観測角度がずれており、光学異方層の液晶性化合物
分子が傾いていることを確認した。また、リターデーシ
ョン値の最小値は、０でないため、光学異方性化合物分
子は厚さ方向に関して角度が変化していることを確認し
た。

【０２２０】得られた結果を表６に示す。

【０２２１】

【表６】

【０２２２】表６から、Ｔ−ＩＮ以上、Ｔ−ＮＩ以下の
温度で１０秒以上保持しない条件で製造した試料のコン
トラスト、チルト特性が良好であり、ディスクリネーシ
ョンが少なかった。また金属ベルトを用いると、乾燥ゾ
ーンを短縮化できるメリットがある。

【０２２３】実施例７ 実施例１に記載の光学補償フィルム試料１０１を作製す
るに当たり、液晶層１の塗設及び液晶性化合物の配向の
固定化処理に用いた紫外線照射装置を用い、表７に記載
のように酸素濃度をコントロールしながら液晶層を硬化
し、光学補償フィルム試料７０１〜７０５を各々得た。
得られた試料についてブロッキングを目視で評価した。
得られた結果を表７に示す。

【０２２４】

【表７】

【０２２５】表７から、酸素濃度を２％以下に調整し、
紫外線照射した試料はブロッキングが全く起きないこと
が判る。

【０２２６】実施例８ 実施例１に記載の光学補償フィルム試料１０１を作製す
るにあたり、透過光測定装置を用いてムラの検出を行な
った。透過光量の異なる部分を記録し、場所を記録する
ことで、ムラの場所を特定することができた。前記記載
のムラの検出は、本発明に係る光学補償フィルムの製造
管理に有効である。

【０２２７】実施例９ 実施例１の試料１０２の上層に以下に示す作製した材料
を用い、上層に配向層２および液晶層２を塗布して光学
補償フィルム１を作製した。

【０２２８】《配向層２の塗設および配向処理》試料１
０２の上層に直鎖アルキル変性ポリビニルアルコール
（ＭＰ２０３；クラレ（株）製）を水：メタノール＝６
０：４０（質量比）の１質量％の溶液を作製し、乾燥膜
厚が０．２μｍとなるように押し出しコーティング機で
塗布した。これらを８０℃温風にて乾燥させた後、ラビ
ング処理を行い、配向層を形成した。ラビング処理の方
向は、実施例１から９０°ずらして（進行方向から逆の
４５°の方向）塗布を行なった。

【０２２９】《液晶層２の塗設》配向層２を塗布・配向
処理した上に、ＬＣ−１０１を５．０質量部、ＬＣ−１
０２を４質量部、ＬＣ−１０３を１質量部、及び光重合
開始剤（イルガキュア−９０７；チバ・ガイギー社製）
０．１質量部を、４．７質量部のメチルエチルケトンに
溶解して得られた塗布液を押し出しコーティング機で塗
布した。乾燥・配向・固定は実施例１と同様に行なっ
た。

【０２３０】視野角の評価を下記に記載の方法を用いて
行った。 《視野角の評価》上記で作製した光学補償フィルム１を
下記製造方法で作製した偏光板に貼り付け、光学補償フ
ィルム付き偏光板を作製し、ＮＥＣ製ＬＡ−１５２５Ｊ
型のＴＦＴ−ＴＮ液晶パネルの偏光板を剥がした後に貼
り付けた。次いで、白色／黒色表示時のコントラスト比
をＥＬＤＩＭ社のＥｚ−Ｃｏｎｔｒａｓｔを用いて測定
し、上下左右について、コントラストが１０以上を示す
液晶パネルの法線方向からの角度をそれぞれ測定したと
ころ、視野角のひろがったパネルが得られた。

【０２３１】〈偏光板作製方法〉長尺支持体から２枚の
シートを裁断し、ケン化処理（ＫＯＨ ２ｍｏｌ／ｌ
６０℃ ６０秒処理後、水洗、乾燥処理を行なっ
た。）。この２枚のフィルムにポリビニルアルコール接
着剤（３％水溶液、乾燥膜厚０．０１μｍ）を塗布し、
以下方法で作製した偏光子を貼合して偏光板を作製し
た。

【０２３２】（偏光子の製造方法）厚さ７５μｍのＰＶ
Ａフィルム（クラレビニロン＃７５００；クラレ株式会
社製）を縦一軸延伸（延伸倍率４倍）して偏光子基材と
した。この基材をヨウ素０．２ｇ／ｌ、ヨウ化カリ３０
ｇ／ｌよりなる水溶液に３０℃にて４分間浸漬した。次
いでホウ酸７０ｇ／ｌ、ヨウ化カリ３０ｇ／ｌの組成の
水溶液に５５℃にて５分間浸漬し、さらに２０℃の水で
３０秒洗浄後、乾燥して偏光子を得た。

【０２３３】実施例１０ 長尺支持体の片面をケン化処理（２モル／リットルのＫ
ＯＨを用い、６０℃、６０秒処理後、水洗、乾燥処理を
行なう。）および実施例９で作製した光学補償フィルム
１を同様にケン化処理を行なった。これら２枚のフィル
ムにポリビニルアルコール接着剤（３％水溶液、乾燥膜
厚０．０１μｍ）を塗布し、実施例９で作製した偏光子
を液晶層２の配向方向と偏光子の配向方向が同じになる
ように貼合して偏光板を作製した。ＮＥＣ製ＬＡ−１５
２５Ｊ型のＴＦＴ−ＴＮ液晶パネルの偏光板を剥がし、
作製した偏光板を偏光方向がパネルの偏光板と９０°に
なるように添付した。実施例９と同様に視野角の広がっ
たパネルが得られた。偏光板と一体型にすることで偏光
板保護フィルムを１枚減らすことができた。これは生産
性向上やパネルの薄膜化が可能となる。

【０２３４】

【発明の効果】本発明により、ムラやばらつきがなく、
良好なコントラストを示し、且つ、生産性の高い光学補
償フィルムの製造方法、それを用いて製造された光学補
償フィルム、偏光板及び液晶ディスプレイを提供するこ
とが出来た。

【図面の簡単な説明】

【図１】乾燥装置内での送風口とウェブとの配置の一例
を示す概略図である。

【図２】（ａ）は、乾燥装置内での送風口とウェブとの
配置の一例を示す概略図であり、（ｂ）は、送風口の形
状調節板の一例を示す概略図である。

【図３】乾燥ゾーンで金属製のベルト上を搬送されるウ
ェブを示す概略図である。

【図４】乾燥ゾーンで金属板上を搬送されるウェブを示
す概略図である。

【図５】複数の乾燥ゾーンを用いてウェブを乾燥させる
工程を示す概略図である。

【符号の説明】

１ 液晶性化合物塗設層 ２ 配向層 ３ 長尺支持体 ４ 空気導入口 ５、７ 送風口 ６、６ａ 搬送方向 ８ 送風口の形状調節板 １０ ウェブ １１ 搬送支持ローラ １２ａ、１２ｂ 駆動ローラ １３ 乾燥ゾーン １４ 金属ベルト １５ 金属板

フロントページの続き (72)発明者 梅田 博紀 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 田坂 公志 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 田中 武志 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 近藤 達 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA42 BB03 BC04 BC05 BC09 BC22 2H091 FA11X FB02 FC11 FC29 FD06 HA07 LA11

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を
   含む塗布液を連続的に塗布して乾燥膜厚５μｍ以下にな
   るように液晶層を塗設し、次いで、該液晶層中の該液晶
   性化合物の配向を固定化して光学異方層を形成すること
   を特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
2. 【請求項２】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を
   含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学補
   償フィルムの製造方法において、該塗布液の温度を１５
   ℃〜３０℃、塗布温度を１５℃〜３０℃、塗布環境温度
   を２０〜３０℃に調整することを特徴とする光学補償フ
   ィルムの製造方法。
3. 【請求項３】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を
   含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学補
   償フィルムの製造方法において、該液晶層を塗設後、該
   液晶層の面にあたる風速を４ｍ／秒以下になるように調
   整し、乾燥する工程を経ることを特徴とする光学補償フ
   ィルムの製造方法。
4. 【請求項４】 塗設後の液晶層の残留溶剤量が５質量％
   以下になるまで、該液晶層の表面にあたる風速を１ｍ／
   秒以下になるように調整し、乾燥する工程を経ることを
   特徴とする請求項３に記載の光学補償フィルムの製造方
   法。
5. 【請求項５】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を
   含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学補
   償フィルムの製造方法において、該液晶層中の液晶性化
   合物が等方相からネマティック相となる温度（Ｔ−Ｉ
   Ｎ）以上ネマティック相から等方相となる温度（Ｔ−Ｎ
   Ｉ）以下に１０秒以上保持しないことを特徴とする光学
   補償フィルムの製造方法。
6. 【請求項６】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を
   含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学補
   償フィルムの製造方法において、該液晶層中の該液晶性
   化合物がネマティック相から等方相となる温度（Ｔ−Ｎ
   Ｉ）以上に保持する工程を経ることを特徴とする光学補
   償フィルムの製造方法。
7. 【請求項７】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を
   含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学補
   償フィルムの製造方法において、該液晶層を塗設後、該
   液晶層中の該液晶性化合物をネマティック相から等方相
   となる温度（Ｔ−ＮＩ）以上に保持し、更に、等方相か
   らネマティック相となる温度（Ｔ−ＩＮ）以下に温度調
   整する工程を有することを特徴とする光学補償フィルム
   の製造方法。
8. 【請求項８】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を
   含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学補
   償フィルムの製造方法において、該長尺支持体上に該液
   晶層を塗設後、該液晶層中の液晶性化合物をネマティッ
   ク相から等方相となる温度（Ｔ−ＮＩ）以上に保持した
   後に、等方相からネマティック相となる温度（Ｔ−Ｉ
   Ｎ）〜（（Ｔ−ＩＮ）−１０℃）の温度範囲内で１０秒
   以上保持する工程を有することを特徴とする光学補償フ
   ィルムの製造方法。
9. 【請求項９】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物を
   含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学補
   償フィルムの製造方法において、該長尺支持体上に該液
   晶層を塗設後、該液晶層中の液晶性化合物を等方相から
   ネマティック相となる温度（Ｔ−ＩＮ）〜（（Ｔ−Ｉ
   Ｎ）−２０℃）の温度範囲内で２０秒以上保持する工程
   を有することを特徴とする光学補償フィルムの製造方
   法。
10. 【請求項１０】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
    を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
    補償フィルムの製造方法において、該液晶層を塗設後、
    該液晶層の温度調節を金属ベルト上または金属板上で搬
    送させて行なう工程を有することを特徴とする請求項５
    〜９のいずれか１項に記載の光学補償フィルムの製造方
    法。
11. 【請求項１１】 長尺支持体上に液晶層を塗設後、該液
    晶層中の液晶性化合物の温度を等方相からネマティック
    相となる温度（Ｔ−ＩＮ）以下、且つ、該ネマティック
    相から等方相となる温度（Ｔ−ＮＩ）以上に保持しなが
    ら、活性エネルギー線を照射する工程を有することを特
    徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学補
    償フィルムの製造方法。
12. 【請求項１２】 酸素濃度が２％以下の条件下、活性エ
    ネルギー線を照射する工程を有することを特徴とする請
    求項１１に記載の光学補償フィルムの製造方法。
13. 【請求項１３】 長尺支持体上に液晶層を塗設後、偏光
    板をクロスニコルになるように配置し、該長尺支持体を
    該偏光板の間に通し、搬送しながら透過光を用いて、該
    液晶層のムラの状態を監視する工程を有することを特徴
    とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学補償
    フィルムの製造方法。
14. 【請求項１４】 液晶性化合物を含む塗布液の塗布時に
    おける長尺支持体の表面電位を−５〜＋５ｋＶに調整す
    ることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記
    載の光学補償フィルムの製造方法。
15. 【請求項１５】 長尺支持体上に、溶剤と液晶性化合物
    を含む塗布液を連続的に塗布して液晶層を塗設する光学
    補償フィルムの製造方法において、該液晶層中の残存溶
    剤量が１０質量％以下になるまで、該液晶層を非接触で
    乾燥させることを特徴とする光学補償フィルムの製造方
    法。
16. 【請求項１６】 請求項１〜１５のいずれか１項に記載
    の光学補償フィルムの製造方法で製造した光学補償フィ
    ルムを偏光板に貼合したことを特徴とする光学補償機能
    を有する偏光板。
17. 【請求項１７】 請求項１〜１５のいずれか１項に記載
    の光学補償フィルムの製造方法で製造した光学補償フィ
    ルムを有する液晶ディスプレイ。
18. 【請求項１８】 請求項１〜１５のいずれか１項に記載
    の光学補償フィルムの製造方法で製造したことを特徴と
    する光学補償フィルム。