JP2002254843A - 構造化された背面を有する放射線−感受性記録材料 - Google Patents
構造化された背面を有する放射線−感受性記録材料Info
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 先行技術の問題を起こさず、さらに簡単に且
つ安価で製造され得る背面コーティングを見いだすこ
と。 【解決手段】 本発明は、ウェブ−もしくはプレート−
型支持体、支持体の前面上の放射線−感受性層及び支持
体の背面上の顔料粒子−非含有連続層を有する、オフセ
ット印刷版の作製のための記録材料に関する。背面層は
本質的に少なくとも４５℃のガラス転移温度Ｔｇを有す
る有機ポリマー材料を含み、その表面は５〜８００ｓの
Ｂｅｋｋ平滑度を有する。本発明はこの記録材料の製造
法にも関する。
つ安価で製造され得る背面コーティングを見いだすこ
と。 【解決手段】 本発明は、ウェブ−もしくはプレート−
型支持体、支持体の前面上の放射線−感受性層及び支持
体の背面上の顔料粒子−非含有連続層を有する、オフセ
ット印刷版の作製のための記録材料に関する。背面層は
本質的に少なくとも４５℃のガラス転移温度Ｔｇを有す
る有機ポリマー材料を含み、その表面は５〜８００ｓの
Ｂｅｋｋ平滑度を有する。本発明はこの記録材料の製造
法にも関する。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、ウェブ−もしくはプレート−
型支持体、支持体の前面上の放射線−感受性層及び支持
体の背面上の顔料粒子−非含有連続層を有するオフセッ
ト印刷版の作製のための記録材料に関する。本発明はさ
らに、該記録材料の製造法に関する。
型支持体、支持体の前面上の放射線−感受性層及び支持
体の背面上の顔料粒子−非含有連続層を有するオフセッ
ト印刷版の作製のための記録材料に関する。本発明はさ
らに、該記録材料の製造法に関する。
【０００２】
【発明の背景】オフセット印刷版（「予備−増感印刷
版」としても既知）の作製のための記録材料は通常２０
単位又はそれより多くのスタックにおいて供給される。
長い保存時間、圧力及び／又は高い周囲温度の作用は、
多くの場合に版を互いに粘着させる。そうすると、それ
ぞれの版をスタックから取り出す際にスクラッチが前面
及び／又は背面上に形成され得る。分離紙（ｓｅｐａｒ
ａｔｉｎｇ ｐａｐｅｒ）により望ましくない粘着の問
題を実質的に取り除くことができる。コーティングされ
ていない背面を持つアルミニウム支持体を有する記録材
料の場合に特に紙が必要である。しかしながら分離紙は
新しい問題を生ずる。記録材料は多くの場合にイン−ラ
イン仕上げプラントにおいて製造され、そこでは版が自
動的に所望の寸法に切断され、包装される。分離紙は同
様に自動的に挿入される。しかしながら、この段階は比
較的遅く、過失を受け易い。さらに、紙は放射線−感受
性層に影響を及ぼし、その性質を不利に変えることがあ
る。これはｐＨの変化の故の層の変色、その感光度の低
下又は急速な老化を生じ得る。表面−シール紙（ｓｕｒ
ｆａｃｅ−ｓｅａｌｅｄ ｐａｐｅｒｓ）を用い、紙と
放射線−感受性層の間の相互作用を減少させることがで
きる；しかしながら、そのような紙は有意により高価で
ある。比較的大きいプリント工場では、分離紙が備えら
れた版のスタックを一般的に自動プラントで処理し、紙
は通常吹き払われる。この操作もやはり比較的遅く、過
失を受け易い。さらに、紙をリサイクルすることができ
ず、処分しなければならない。
版」としても既知）の作製のための記録材料は通常２０
単位又はそれより多くのスタックにおいて供給される。
長い保存時間、圧力及び／又は高い周囲温度の作用は、
多くの場合に版を互いに粘着させる。そうすると、それ
ぞれの版をスタックから取り出す際にスクラッチが前面
及び／又は背面上に形成され得る。分離紙（ｓｅｐａｒ
ａｔｉｎｇ ｐａｐｅｒ）により望ましくない粘着の問
題を実質的に取り除くことができる。コーティングされ
ていない背面を持つアルミニウム支持体を有する記録材
料の場合に特に紙が必要である。しかしながら分離紙は
新しい問題を生ずる。記録材料は多くの場合にイン−ラ
イン仕上げプラントにおいて製造され、そこでは版が自
動的に所望の寸法に切断され、包装される。分離紙は同
様に自動的に挿入される。しかしながら、この段階は比
較的遅く、過失を受け易い。さらに、紙は放射線−感受
性層に影響を及ぼし、その性質を不利に変えることがあ
る。これはｐＨの変化の故の層の変色、その感光度の低
下又は急速な老化を生じ得る。表面−シール紙（ｓｕｒ
ｆａｃｅ−ｓｅａｌｅｄ ｐａｐｅｒｓ）を用い、紙と
放射線−感受性層の間の相互作用を減少させることがで
きる；しかしながら、そのような紙は有意により高価で
ある。比較的大きいプリント工場では、分離紙が備えら
れた版のスタックを一般的に自動プラントで処理し、紙
は通常吹き払われる。この操作もやはり比較的遅く、過
失を受け易い。さらに、紙をリサイクルすることができ
ず、処分しなければならない。
【０００３】ＪＰ−Ａ ０２／０４０６５７に記載され
ている記録材料は分離紙なしで扱われる（ｍａｎａｇｅ
ｓ）。そのアルミニウム支持体の背面上に光重合可能な
材料から作られるＵＶ−硬化層が置かれている。背面コ
ーティングの形成に用いられる組成物は、モノマーの他
に光増感剤、結合剤、充填剤、熱的に誘導されるモノマ
ーの重合を妨げるための阻害剤及び他の添加剤も含むこ
とができる。
ている記録材料は分離紙なしで扱われる（ｍａｎａｇｅ
ｓ）。そのアルミニウム支持体の背面上に光重合可能な
材料から作られるＵＶ−硬化層が置かれている。背面コ
ーティングの形成に用いられる組成物は、モノマーの他
に光増感剤、結合剤、充填剤、熱的に誘導されるモノマ
ーの重合を妨げるための阻害剤及び他の添加剤も含むこ
とができる。
【０００４】ＪＰ−Ａ ０６／２０２３１２は、そのア
ルミニウム支持体に同様に背面上において有機ポリマ
ー、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジ
エン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン又はメタンリ
レート樹脂がコーティングされている、オフセット印刷
版の作製のための記録材料を開示している。背面コーテ
ィングはアルミニウム支持体への水性−アルカリ性現像
液による攻撃を減少させる。この記録材料における感光
層は、現像液中で不溶性の化合物を１〜１０重量％含
む。
ルミニウム支持体に同様に背面上において有機ポリマ
ー、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジ
エン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン又はメタンリ
レート樹脂がコーティングされている、オフセット印刷
版の作製のための記録材料を開示している。背面コーテ
ィングはアルミニウム支持体への水性−アルカリ性現像
液による攻撃を減少させる。この記録材料における感光
層は、現像液中で不溶性の化合物を１〜１０重量％含
む。
【０００５】陽極酸化されたアルミニウム支持体、陽極
酸化により形成される酸化アルミニウム層上の光重合可
能な層及び０．１〜８．０μｍの厚さを有する背面コー
ティングを有する記録材料がＪＰ−Ａ ０９／２６５１
７６に開示されている。この背面コーティングは飽和共
重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルア
セタール又は塩化ビニリデンコポリマーを含み、それら
のそれぞれは２０℃又はそれより高いガラス転移温度Ｔ
gを有する。これはスタックにおける輸送の間の版のス
クラッチング及び上に置かれる版の背面への過剰な粘着
の故の放射線−感受性層の剥離を防ぐことを目的として
いる。
酸化により形成される酸化アルミニウム層上の光重合可
能な層及び０．１〜８．０μｍの厚さを有する背面コー
ティングを有する記録材料がＪＰ−Ａ ０９／２６５１
７６に開示されている。この背面コーティングは飽和共
重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルア
セタール又は塩化ビニリデンコポリマーを含み、それら
のそれぞれは２０℃又はそれより高いガラス転移温度Ｔ
gを有する。これはスタックにおける輸送の間の版のス
クラッチング及び上に置かれる版の背面への過剰な粘着
の故の放射線−感受性層の剥離を防ぐことを目的として
いる。
【０００６】分離紙なしで積み重ねることができるオフ
セット印刷版の作製のための記録材料がＥＰ−Ａ ５２
８ ３９５にも記載されている。それは（アルミニウム
から作られる）支持体、支持体の背面上の２０℃以上の
ガラス転移温度を有し、０．０１〜８．０μｍの厚さを
有する有機ポリマー材料の層及び支持体の前面上の感光
層を含む。さらに（ｉｎ ｔｕｒｎ）感光層の上には、
１００μｍ以下の平均直径及び１０μｍ以下の平均高さ
を有する粒子から成る不連続艶消層が置かれている。し
かしながら艶消層、特に低いガラス転移温度を有する材
料を含むものは、スタックにおいて上に置かれる版の背
面に粘着する傾向がある。これは放射線−感受性層の比
較的大きな領域を剥離させ得、そうすると記録材料をも
はやそれ以上使用できないことを意味する。
セット印刷版の作製のための記録材料がＥＰ−Ａ ５２
８ ３９５にも記載されている。それは（アルミニウム
から作られる）支持体、支持体の背面上の２０℃以上の
ガラス転移温度を有し、０．０１〜８．０μｍの厚さを
有する有機ポリマー材料の層及び支持体の前面上の感光
層を含む。さらに（ｉｎ ｔｕｒｎ）感光層の上には、
１００μｍ以下の平均直径及び１０μｍ以下の平均高さ
を有する粒子から成る不連続艶消層が置かれている。し
かしながら艶消層、特に低いガラス転移温度を有する材
料を含むものは、スタックにおいて上に置かれる版の背
面に粘着する傾向がある。これは放射線−感受性層の比
較的大きな領域を剥離させ得、そうすると記録材料をも
はやそれ以上使用できないことを意味する。
【０００７】放射線−感受性層上の艶消層及びさらに、
支持体材料の背面上の同様の不連続艶消層を有する記録
材料がＥＰ−Ａ ８８３ ０２８に開示されている。支
持体材料は一般に、最高で数千メートルの長さ及び約
０．２ｍｍの厚さを有するアルミニウムウェブであり、
それは一般にコーティングの後に再び巻取られる（「コ
イル−ツウ−コイル法」）。ロールの内部においては、
外部領域におけるより高い圧力が支配する。これは前面
に位置する艶消層が不均一に大きな程度まで損傷を受け
る結果を生ずる。大きく損傷を受けた艶消層を有する記
録材料は後に密着コピー枠（ｃｏｎｔａｃｔ ｃｏｐｙ
ｉｎｇ ｆｒａｍｅ）において、より長い排気時間を必
要とする。この問題は背面上の追加の艶消層により実質
的に解決される。
支持体材料の背面上の同様の不連続艶消層を有する記録
材料がＥＰ−Ａ ８８３ ０２８に開示されている。支
持体材料は一般に、最高で数千メートルの長さ及び約
０．２ｍｍの厚さを有するアルミニウムウェブであり、
それは一般にコーティングの後に再び巻取られる（「コ
イル−ツウ−コイル法」）。ロールの内部においては、
外部領域におけるより高い圧力が支配する。これは前面
に位置する艶消層が不均一に大きな程度まで損傷を受け
る結果を生ずる。大きく損傷を受けた艶消層を有する記
録材料は後に密着コピー枠（ｃｏｎｔａｃｔ ｃｏｐｙ
ｉｎｇ ｆｒａｍｅ）において、より長い排気時間を必
要とする。この問題は背面上の追加の艶消層により実質
的に解決される。
【０００８】ＥＰ−Ａ ４９０ ５１５は、画像通りの
露出の後にアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を用いて現像さ
れる予備−増感印刷版に関する。現像液が版の背面から
アルミニウムを溶出するのを防ぐために、現像液中で不
溶性である有機ポリマー性コーティングをこれに設け
る。コーティングはポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブテン、ポリブタジエン、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカ
ーボネート、エポキシ樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン又はポリスチレンのようなポリマーを含む。
それは熱的もしくは光化学的に硬化性の成分も含むこと
ができる。
露出の後にアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を用いて現像さ
れる予備−増感印刷版に関する。現像液が版の背面から
アルミニウムを溶出するのを防ぐために、現像液中で不
溶性である有機ポリマー性コーティングをこれに設け
る。コーティングはポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブテン、ポリブタジエン、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカ
ーボネート、エポキシ樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン又はポリスチレンのようなポリマーを含む。
それは熱的もしくは光化学的に硬化性の成分も含むこと
ができる。
【０００９】ＤＥ−Ａ １９９ ０８ ５２９は、背面
上に４５℃又はそれより高いガラス転移温度を有する有
機ポリマー材料を含む層、及び支持体の前面上に位置す
る顔料着色された感光層を有する支持体を持つ記録材料
を記載している。
上に４５℃又はそれより高いガラス転移温度を有する有
機ポリマー材料を含む層、及び支持体の前面上に位置す
る顔料着色された感光層を有する支持体を持つ記録材料
を記載している。
【００１０】ＤＥ−Ａ １００ ２９ １５７は、寸法
的に安定な支持体、支持体の前面上に位置する放射線−
感受性層及び支持体の背面上に位置し、有機ポリマー材
料を含み、且つ処理化学品に対して抵抗性である層を有
し、有機ポリマー材料のガラス転移温度は３５℃である
か、又はそれより高く、背面上に位置する層は顔料着色
されている、オフセット印刷版の作製のための記録材料
に関する。
的に安定な支持体、支持体の前面上に位置する放射線−
感受性層及び支持体の背面上に位置し、有機ポリマー材
料を含み、且つ処理化学品に対して抵抗性である層を有
し、有機ポリマー材料のガラス転移温度は３５℃である
か、又はそれより高く、背面上に位置する層は顔料着色
されている、オフセット印刷版の作製のための記録材料
に関する。
【００１１】背面コーティングを有する既知の記録材料
は、それらの製造が複雑であり、且つ多くの場合に技術
的問題を伴うという欠点を有する。固体粒子（例えばシ
リカゲル顔料）を使用すると、必然的に２−相系が形成
される。この場合、固体成分は再び非常に急速に沈降し
得、この型の２−相混合物を層の形態で適用するのが多
くの場合に困難であることを意味する。さらに、固体粒
子は必ずしも回りのマトリックス材料と適合性ではな
い。さらに、シリカゲル粒子は非常に強い現像液（例え
ば１３より高いｐＨを有するもの）により攻撃され得、
ある条件下で、例えば長時間の露出の後に溶解され得
る。その場合これはやはり背面上の酸化物の溶解、銀版
の場合には腐食現象又は背面層の分離さえ伴う問題を生
ずる。
は、それらの製造が複雑であり、且つ多くの場合に技術
的問題を伴うという欠点を有する。固体粒子（例えばシ
リカゲル顔料）を使用すると、必然的に２−相系が形成
される。この場合、固体成分は再び非常に急速に沈降し
得、この型の２−相混合物を層の形態で適用するのが多
くの場合に困難であることを意味する。さらに、固体粒
子は必ずしも回りのマトリックス材料と適合性ではな
い。さらに、シリカゲル粒子は非常に強い現像液（例え
ば１３より高いｐＨを有するもの）により攻撃され得、
ある条件下で、例えば長時間の露出の後に溶解され得
る。その場合これはやはり背面上の酸化物の溶解、銀版
の場合には腐食現象又は背面層の分離さえ伴う問題を生
ずる。
【００１２】
【発明の目的】本発明の目的は、これらの問題がもう起
こらず、さらに、簡単に且つ安価で形成され得る背面コ
ーティングを見いだすことである。
こらず、さらに、簡単に且つ安価で形成され得る背面コ
ーティングを見いだすことである。
【００１３】
【発明の概略】該目的は、固体顔料粒子なしで扱われ、
従って単−相液体混合物の形態で適用され得る粗い又は
構造化された（ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ）連続背面コーテ
ィングにより達成された。混合物は非常に粘性なので、
１回粗いもしくは構造化された表面が型押しされるか又
は他の方法で形成されると、それは続く一般的に熱的及
び／又は光化学的な硬化の前にほとんどもしくは全く流
動性を示さない。この目的のために、液体コーティング
混合物（下記では「ラッカー」とも呼ばれる）は一般に
８０〜１０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１００〜６００
ｍＰａ・ｓの範囲内の粘度を有する。
従って単−相液体混合物の形態で適用され得る粗い又は
構造化された（ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ）連続背面コーテ
ィングにより達成された。混合物は非常に粘性なので、
１回粗いもしくは構造化された表面が型押しされるか又
は他の方法で形成されると、それは続く一般的に熱的及
び／又は光化学的な硬化の前にほとんどもしくは全く流
動性を示さない。この目的のために、液体コーティング
混合物（下記では「ラッカー」とも呼ばれる）は一般に
８０〜１０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１００〜６００
ｍＰａ・ｓの範囲内の粘度を有する。
【００１４】かくして本発明は、ウェブ−もしくはプレ
ート−型支持体、支持体の前面上の放射線−感受性層及
び支持体の背面上の顔料粒子−非含有連続層を有し、背
面上の層が本質的に少なくとも４５℃のガラス転移温度
Ｔｇを有する有機ポリマー材料から成り、その表面が５
〜８００ｓのＢｅｋｋ平滑度を有することを特徴とする
オフセット印刷版の作製のための記録材料に関する。
ート−型支持体、支持体の前面上の放射線−感受性層及
び支持体の背面上の顔料粒子−非含有連続層を有し、背
面上の層が本質的に少なくとも４５℃のガラス転移温度
Ｔｇを有する有機ポリマー材料から成り、その表面が５
〜８００ｓのＢｅｋｋ平滑度を有することを特徴とする
オフセット印刷版の作製のための記録材料に関する。
【００１５】背面コーティングの必須の成分は一般に、
水及び水性−アルカリ性現像液中で実質的に不溶性であ
る有機ポリマー材料である。１つの態様においては、背
面コーティングは物理的に乾燥性である（すなわち自己
硬化性でない）。この型のコーティングに特に適した材
料はポリオレフィン（例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブチレン、ポリブタジエン又はポリイソプレ
ン）、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、
ポリシロキサン、ポリスチレン、アルキルアクリレート
もしくはアルキルメタクリレート単位の、又はそれらと
のホモポリマーもしくはコポリマー（例えばポリメチル
メタクリレート（ＰＭＭＡ）又はスチレン−メチルメタ
クリレートコポリマー）、ポリビニルアセタール、フェ
ノキシ樹脂（例えばビスフェノールＡ及びエピクロロヒ
ドリンから作られる樹脂）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）
又はポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）である。必要な
ら、層は二次的な量でさらに添加剤を含むことができ
る。これらには例えば可塑剤、染料、シリコーン化合物
又は界面活性剤が含まれる。物理的に乾燥性の非−自己
硬化性背面コーティングの場合、有機ポリマー材料は好
ましくは５０℃又はそれより高いガラス転移温度を有す
る。さらに別の態様の場合、背面コーティングは自己硬
化性である。この場合、それは有機ポリマー材料の他
に、放射線、熱及び／又は酸化剤に暴露されると重合す
るか、縮合するか、又は架橋し、かくして層を硬化させ
るモノマー性もしくはオリゴマー性化合物も含む。この
目的のために特に適しているのは付加−重合可能なアク
リレート又はメタクリレート、例えばエチル（メタ）ア
クリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパンモノ−、ジ−も
しくはトリ（メタ）アクリレート又はペンタエリトリト
ールトリ（メタ）アクリレートである。（メタ）アクリ
ルアミド、例えばＮ−メチル−、Ｎ−エチル−、Ｎ−プ
ロピル−、Ｎ−ブチル−もしくはＮ−イソブチル−（メ
タ）アクリルアミド；さらにアリルエステル、例えば酢
酸アリル；ビニルエーテル、例えばブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、
２−メトキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコ
ールビニルエーテル又はベンジルビニルエーテル；ＵＶ
線に暴露されると硬化する多官能基性ウレタンアクリレ
ート、ならびに熱に暴露されると硬化してポリウレタン
を与えるジイソシアナート／ジオール混合物も適してい
る。一般的慣習に従い、本出願中の「（メタ）アクリレ
ート」は「アクリレート及び／又はメタクリレート」を
示す。「（メタ）アクリルアミド」及びアクリルもしく
はメタクリル酸の他の誘導体には対応する意味が適用さ
れる。記載した通り、背面コーティングの硬化は化学線
によっても誘導され得、すなわちこの場合背面コーティ
ングは感光性である。それらから区別するために、支持
体の前面上の放射線−感受性層は「画像層」と呼ばれ、
それはこれのみが画像通りに露出され、現像されるから
である。
水及び水性−アルカリ性現像液中で実質的に不溶性であ
る有機ポリマー材料である。１つの態様においては、背
面コーティングは物理的に乾燥性である（すなわち自己
硬化性でない）。この型のコーティングに特に適した材
料はポリオレフィン（例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブチレン、ポリブタジエン又はポリイソプレ
ン）、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、
ポリシロキサン、ポリスチレン、アルキルアクリレート
もしくはアルキルメタクリレート単位の、又はそれらと
のホモポリマーもしくはコポリマー（例えばポリメチル
メタクリレート（ＰＭＭＡ）又はスチレン−メチルメタ
クリレートコポリマー）、ポリビニルアセタール、フェ
ノキシ樹脂（例えばビスフェノールＡ及びエピクロロヒ
ドリンから作られる樹脂）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）
又はポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）である。必要な
ら、層は二次的な量でさらに添加剤を含むことができ
る。これらには例えば可塑剤、染料、シリコーン化合物
又は界面活性剤が含まれる。物理的に乾燥性の非−自己
硬化性背面コーティングの場合、有機ポリマー材料は好
ましくは５０℃又はそれより高いガラス転移温度を有す
る。さらに別の態様の場合、背面コーティングは自己硬
化性である。この場合、それは有機ポリマー材料の他
に、放射線、熱及び／又は酸化剤に暴露されると重合す
るか、縮合するか、又は架橋し、かくして層を硬化させ
るモノマー性もしくはオリゴマー性化合物も含む。この
目的のために特に適しているのは付加−重合可能なアク
リレート又はメタクリレート、例えばエチル（メタ）ア
クリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパンモノ−、ジ−も
しくはトリ（メタ）アクリレート又はペンタエリトリト
ールトリ（メタ）アクリレートである。（メタ）アクリ
ルアミド、例えばＮ−メチル−、Ｎ−エチル−、Ｎ−プ
ロピル−、Ｎ−ブチル−もしくはＮ−イソブチル−（メ
タ）アクリルアミド；さらにアリルエステル、例えば酢
酸アリル；ビニルエーテル、例えばブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、
２−メトキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコ
ールビニルエーテル又はベンジルビニルエーテル；ＵＶ
線に暴露されると硬化する多官能基性ウレタンアクリレ
ート、ならびに熱に暴露されると硬化してポリウレタン
を与えるジイソシアナート／ジオール混合物も適してい
る。一般的慣習に従い、本出願中の「（メタ）アクリレ
ート」は「アクリレート及び／又はメタクリレート」を
示す。「（メタ）アクリルアミド」及びアクリルもしく
はメタクリル酸の他の誘導体には対応する意味が適用さ
れる。記載した通り、背面コーティングの硬化は化学線
によっても誘導され得、すなわちこの場合背面コーティ
ングは感光性である。それらから区別するために、支持
体の前面上の放射線−感受性層は「画像層」と呼ばれ、
それはこれのみが画像通りに露出され、現像されるから
である。
【００１６】背面コーティングの粗い、もしくは構造化
された表面は特殊な適用法又は道具により得られる。特
に適しているのは第１にローラー適用である。ここで平
滑もしくは彫刻ローラーを用いることができ、それらは
直接もしくは間接（オフセット）適用、共−回転もしく
は逆−回転適用を行う。逆圧ローラー（ｃｏｕｎｔｅｒ
ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｒｏｌｌｅｒ）又はキスコートによ
る適用も適している。
された表面は特殊な適用法又は道具により得られる。特
に適しているのは第１にローラー適用である。ここで平
滑もしくは彫刻ローラーを用いることができ、それらは
直接もしくは間接（オフセット）適用、共−回転もしく
は逆−回転適用を行う。逆圧ローラー（ｃｏｕｎｔｅｒ
ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｒｏｌｌｅｒ）又はキスコートによ
る適用も適している。
【００１７】ラッカーは最初にラッカートラフ中に入れ
られており、そこから吸収ローラー（ｕｐｔａｋｅ ｒ
ｏｌｌｅｒ）及び塗りローラーにより支持体（好ましく
は約０．１〜０．３ｍｍの厚さを有するアルミニウムウ
ェブ又はアルミニウムバンドである）にそれが適用され
る。必要ならここで１つもしくはそれより多い逆−ロー
ラーも用いることができる。開放ラッカートラフの代わ
りに、密閉されたチャンバードクターブレード（ｃｌｏ
ｓｅｄ ｃｈａｍｂｅｒ ｄｏｃｔｏｒ ｂｌａｄｅ）
を用いることもできる。
られており、そこから吸収ローラー（ｕｐｔａｋｅ ｒ
ｏｌｌｅｒ）及び塗りローラーにより支持体（好ましく
は約０．１〜０．３ｍｍの厚さを有するアルミニウムウ
ェブ又はアルミニウムバンドである）にそれが適用され
る。必要ならここで１つもしくはそれより多い逆−ロー
ラーも用いることができる。開放ラッカートラフの代わ
りに、密閉されたチャンバードクターブレード（ｃｌｏ
ｓｅｄ ｃｈａｍｂｅｒ ｄｏｃｔｏｒ ｂｌａｄｅ）
を用いることもできる。
【００１８】本明細書において構造は、コーティングロ
ーラーの表面、ローラーの互いに対する相対的速度、及
び基質に対するコーティングローラーの相対的速度に依
存する。塗りローラーとバンドの間の速度差の大きさに
依存して、塗りローラー上に作られるラッカー構造はも
しあったとしてもほとんど変化せずに（ｗｉｔｈ ｌｉ
ｔｔｌｅ ｉｆ ａｎｙ ｃｈａｎｇｅ）バンドに転移
される。このために特に重要なのはもちろんラッカーの
レオロジー、特にその粘度である。ラッカーの流動性
は、ラッカー及び／又はローラー及び／又はバンドを温
めることにより要求通りに調整され得る。高い温度で作
られたラッカー構造を加熱されていないバンドに転移さ
せる場合、基質上における急速なラッカーの冷却が粘度
の上昇及びかくして作られる構造の固定を確実にする。
用いられるゴムローラーの硬度及びそれらの接触圧も重
要である。表面が構造化されたローラー及び平滑なロー
ラーの両方を用いて所望の構造を作ることができる。構
造化されたローラーは種々の形態で既知である。これら
の中で、彫刻ローラーを特に挙げねばならない。これら
はくぼみ（四角錐くぼみ、六角くぼみなど）、線格子
（ハッチドローラー（ｈａｔｃｈｅｄ ｒｏｌｌｅｒ
ｓ））、斜線格子又はそれらの組合わせを有しているこ
とができる。
ーラーの表面、ローラーの互いに対する相対的速度、及
び基質に対するコーティングローラーの相対的速度に依
存する。塗りローラーとバンドの間の速度差の大きさに
依存して、塗りローラー上に作られるラッカー構造はも
しあったとしてもほとんど変化せずに（ｗｉｔｈ ｌｉ
ｔｔｌｅ ｉｆ ａｎｙ ｃｈａｎｇｅ）バンドに転移
される。このために特に重要なのはもちろんラッカーの
レオロジー、特にその粘度である。ラッカーの流動性
は、ラッカー及び／又はローラー及び／又はバンドを温
めることにより要求通りに調整され得る。高い温度で作
られたラッカー構造を加熱されていないバンドに転移さ
せる場合、基質上における急速なラッカーの冷却が粘度
の上昇及びかくして作られる構造の固定を確実にする。
用いられるゴムローラーの硬度及びそれらの接触圧も重
要である。表面が構造化されたローラー及び平滑なロー
ラーの両方を用いて所望の構造を作ることができる。構
造化されたローラーは種々の形態で既知である。これら
の中で、彫刻ローラーを特に挙げねばならない。これら
はくぼみ（四角錐くぼみ、六角くぼみなど）、線格子
（ハッチドローラー（ｈａｔｃｈｅｄ ｒｏｌｌｅｒ
ｓ））、斜線格子又はそれらの組合わせを有しているこ
とができる。
【００１９】コーティングの後に所望の非−平面状構造
を作ることもでき、あるいはすでに存在するものを続い
て変えることができる。かくして構造化された表面をデ
イストリビューターローラー（ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｅｒ
ｒｏｌｌｅｒ）（例えば逆−回転クロムローラー）を
用いて平滑にすることができる。構造化されたローラー
又は取り付けられたコーティングバー（ワイアコーティ
ングバー又は溝付きコーティングバー）を用いて縦に配
向する線構造を得ることができる。
を作ることもでき、あるいはすでに存在するものを続い
て変えることができる。かくして構造化された表面をデ
イストリビューターローラー（ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｅｒ
ｒｏｌｌｅｒ）（例えば逆−回転クロムローラー）を
用いて平滑にすることができる。構造化されたローラー
又は取り付けられたコーティングバー（ワイアコーティ
ングバー又は溝付きコーティングバー）を用いて縦に配
向する線構造を得ることができる。
【００２０】用いられ得る１つのラッカー構造化の可能
性は、適用温度に粘度依存的（ｔｈｅ ｖｉｓｃｏｓｉ
ｔｙ ｄｅｐｅｎｄｅｎｃｅ ｏｆ ｔｈｅ ａｐｐｌ
ｉｃａｔｉｏｎ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）である。適
用の間に室温より高く温められたラッカーを加熱されな
いバンド上で「急冷」することにより、適用構造を硬化
まで保持することができる。支持体材料を予備加熱する
ことにより、ラッカーの流動性を高め、表面構造を平ら
にすることができる。
性は、適用温度に粘度依存的（ｔｈｅ ｖｉｓｃｏｓｉ
ｔｙ ｄｅｐｅｎｄｅｎｃｅ ｏｆ ｔｈｅ ａｐｐｌ
ｉｃａｔｉｏｎ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）である。適
用の間に室温より高く温められたラッカーを加熱されな
いバンド上で「急冷」することにより、適用構造を硬化
まで保持することができる。支持体材料を予備加熱する
ことにより、ラッカーの流動性を高め、表面構造を平ら
にすることができる。
【００２１】多数の材料から寸法的に安定な二次元的支
持体を作ることができる。適しているのは例えばプラス
チックフィルム（特にポリエステルフィルム、特別には
ポリエチレンテレフタレートフィルム）から作られる支
持体であるが、好ましくは金属もしくは金属合金から作
られる支持体である。この中で今度はアルミニウムもし
くはアルミニウム合金から作られる支持体が好ましい。
アルミニウム支持体の前面は、有利には、機械的及び／
又は電気化学的に粗面化され、及び／又は陽極酸化さ
れ、必要ならさらに親水性化（例えばポリビニルホスホ
ン酸を用いる処理により）される。陽極酸化の場合、ア
ルミニウム支持体の背面にも部分的に、又は全体的に酸
化アルミニウム層をコーティングすることができる。酸
化アルミニウムの連続層は非−導電性であり、かくして
局部的元素（ｌｏｃａｌ ｅｌｅｍｅｎｔｓ）の生成を
防ぐ。これは、例えば画像層がハロゲン化銀を含有する
場合に重要である。しかしながら、支持体と放射線−感
受性層の間のさらに別の層、例えば親水性化層又はプラ
イミング層（ｐｒｉｍｉｎｇ ｌａｙｅｒｓ）が同様に
可能である。セラミック材料の層を支持体に設けること
もできる（追加の粗面化）。支持体の厚さは一般に０．
１〜１．０ｍｍ、好ましくは０．２〜０．６ｍｍであ
る。
持体を作ることができる。適しているのは例えばプラス
チックフィルム（特にポリエステルフィルム、特別には
ポリエチレンテレフタレートフィルム）から作られる支
持体であるが、好ましくは金属もしくは金属合金から作
られる支持体である。この中で今度はアルミニウムもし
くはアルミニウム合金から作られる支持体が好ましい。
アルミニウム支持体の前面は、有利には、機械的及び／
又は電気化学的に粗面化され、及び／又は陽極酸化さ
れ、必要ならさらに親水性化（例えばポリビニルホスホ
ン酸を用いる処理により）される。陽極酸化の場合、ア
ルミニウム支持体の背面にも部分的に、又は全体的に酸
化アルミニウム層をコーティングすることができる。酸
化アルミニウムの連続層は非−導電性であり、かくして
局部的元素（ｌｏｃａｌ ｅｌｅｍｅｎｔｓ）の生成を
防ぐ。これは、例えば画像層がハロゲン化銀を含有する
場合に重要である。しかしながら、支持体と放射線−感
受性層の間のさらに別の層、例えば親水性化層又はプラ
イミング層（ｐｒｉｍｉｎｇ ｌａｙｅｒｓ）が同様に
可能である。セラミック材料の層を支持体に設けること
もできる（追加の粗面化）。支持体の厚さは一般に０．
１〜１．０ｍｍ、好ましくは０．２〜０．６ｍｍであ
る。
【００２２】背面コーティングが設けられた支持体を再
び巻取ることができる（「コイル−ツウ−コイル」
法）。背面層は特に安定なので、最も高い圧力が支配
し、その上に最も大きい力が働くロールの内部でさえ、
それらは該方法において実質的に損傷を受けない。
び巻取ることができる（「コイル−ツウ−コイル」
法）。背面層は特に安定なので、最も高い圧力が支配
し、その上に最も大きい力が働くロールの内部でさえ、
それらは該方法において実質的に損傷を受けない。
【００２３】それらの組成の性質に依存して、画像層は
ＵＶ線、可視光及び／又はＩＲあるいは熱線に対して感
受性であることができる。画像層中の放射線−感受性成
分は例えばジアゾニウム塩、光重合開始剤と重合可能な
モノマー（特に重合可能なエチレン性不飽和基を含有す
るモノマー）の組合わせ、照射されると酸を生成する化
合物と光化学的に生成する酸により開裂し得る化合物の
組合わせであることができる。画像層はさらにＩＲ染
料、カーボンブラック及び／又は増感剤を含むことがで
きる。
ＵＶ線、可視光及び／又はＩＲあるいは熱線に対して感
受性であることができる。画像層中の放射線−感受性成
分は例えばジアゾニウム塩、光重合開始剤と重合可能な
モノマー（特に重合可能なエチレン性不飽和基を含有す
るモノマー）の組合わせ、照射されると酸を生成する化
合物と光化学的に生成する酸により開裂し得る化合物の
組合わせであることができる。画像層はさらにＩＲ染
料、カーボンブラック及び／又は増感剤を含むことがで
きる。
【００２４】ポジティブ−作用性画像層において特に多
くの場合、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−
もしくは−５−スルホン酸と少なくとも１つのフェノー
ル性ヒドロキシル基を含有する化合物のエステルが用い
られる。前記の化合物は好ましくは少なくとも３つのフ
ェノール性ヒドロキシル基を有する。エステル化のため
に３〜６つのフェノール性ヒドロキシル基を含有する化
合物が特別に好ましい。それらの例は２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキ
シ−３’−メチル−、−プロピル−もしくは−イソプロ
ピルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２，３，４，２’，４’−ペンタ
ヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，３’，
４’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン及び５，５’−
ジアシル−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒド
ロキシジフェニルメタンである。一般に、それらの中の
すべてのフェノール性ヒドロキシル基がエステル化され
るわけではない。全ヒドロキシル基に基づくエステル化
の程度は、典型的には６０〜９５％である。１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−４−もしくは−５−スルホ
ン酸のアミドは同様に適している。ピロガロールとアル
デヒドもしくはケトンの縮合の生成物ならびにアルキル
化フェノールとホルムアルデヒドの縮合の生成物も用い
られ得るエステル化成分である。放射線−感受性化合物
の含有率は、混合物の非−揮発性成分の合計重量に基づ
いて約１〜５０重量％である。放射線−感受性成分とし
てナフトキノンジアジドスルホン酸エステル又は−スル
ホンアミドを含む画像層はＵＶ及び可視光に対して特に
感受性である。
くの場合、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−
もしくは−５−スルホン酸と少なくとも１つのフェノー
ル性ヒドロキシル基を含有する化合物のエステルが用い
られる。前記の化合物は好ましくは少なくとも３つのフ
ェノール性ヒドロキシル基を有する。エステル化のため
に３〜６つのフェノール性ヒドロキシル基を含有する化
合物が特別に好ましい。それらの例は２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキ
シ−３’−メチル−、−プロピル−もしくは−イソプロ
ピルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２，３，４，２’，４’−ペンタ
ヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，３’，
４’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン及び５，５’−
ジアシル−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒド
ロキシジフェニルメタンである。一般に、それらの中の
すべてのフェノール性ヒドロキシル基がエステル化され
るわけではない。全ヒドロキシル基に基づくエステル化
の程度は、典型的には６０〜９５％である。１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−４−もしくは−５−スルホ
ン酸のアミドは同様に適している。ピロガロールとアル
デヒドもしくはケトンの縮合の生成物ならびにアルキル
化フェノールとホルムアルデヒドの縮合の生成物も用い
られ得るエステル化成分である。放射線−感受性化合物
の含有率は、混合物の非−揮発性成分の合計重量に基づ
いて約１〜５０重量％である。放射線−感受性成分とし
てナフトキノンジアジドスルホン酸エステル又は−スル
ホンアミドを含む画像層はＵＶ及び可視光に対して特に
感受性である。
【００２５】ＵＶ線及び可視光に対して非感受性である
が、ＩＲ又は熱線により画像形成され得るポジティブ−
作用性画像層が同様に既知である（ＥＰ−Ａ ９００
６５３）。該層は放射線−感受性成分としてカーボンブ
ラック粒子又はＩＲ領域において感受性の染料を分散形
態で含む。ＩＲ線、特にＩＲレーザー線は層において画
像通りの分化を起こさせ、照射された領域が現像液によ
り除去され得るようにする。
が、ＩＲ又は熱線により画像形成され得るポジティブ−
作用性画像層が同様に既知である（ＥＰ−Ａ ９００
６５３）。該層は放射線−感受性成分としてカーボンブ
ラック粒子又はＩＲ領域において感受性の染料を分散形
態で含む。ＩＲ線、特にＩＲレーザー線は層において画
像通りの分化を起こさせ、照射された領域が現像液によ
り除去され得るようにする。
【００２６】酸により破壊され得るＣ−Ｏ−Ｃ結合を少
なくとも１つ含有する化合物と化学線に暴露されると強
酸を生成する化合物の組合わせを含むポジティブ−作用
性画像層を有する記録材料を用いることもできる。この
型の層は当該技術分野における熟練者に既知であり、多
数、例えばＥＰ−Ａ ７１７ ３１７に、記載されてい
る。
なくとも１つ含有する化合物と化学線に暴露されると強
酸を生成する化合物の組合わせを含むポジティブ−作用
性画像層を有する記録材料を用いることもできる。この
型の層は当該技術分野における熟練者に既知であり、多
数、例えばＥＰ−Ａ ７１７ ３１７に、記載されてい
る。
【００２７】光重合可能な画像層は通常、ポリマー性結
合剤の他に、遊離基−重合可能な成分（モノマー）及び
化学線に暴露されるとモノマーの重合を開始させること
ができる開始剤を含む。開始剤は例えば光還元可能な染
料とメタロセン、特にチタノセンの組合わせである。モ
ノマーは多くの場合に遊離基−重合可能なアクリレート
又はメタクリレート基を含有する。そのような層の感光
度を、少なくとも１つの光酸化可能な基を含有するモノ
マーあるいは追加のオニウム化合物、特にヨードニウム
又はスルホニウム塩を用いることによりさらにもっと向
上させることができる。光重合可能な層は大気酸素によ
り損なわれる。従ってそれらは多くの場合、酸素に対し
て比較的非透過性であるが、水性現像液により再び完全
に除去され得るカバー層により保護される。
合剤の他に、遊離基−重合可能な成分（モノマー）及び
化学線に暴露されるとモノマーの重合を開始させること
ができる開始剤を含む。開始剤は例えば光還元可能な染
料とメタロセン、特にチタノセンの組合わせである。モ
ノマーは多くの場合に遊離基−重合可能なアクリレート
又はメタクリレート基を含有する。そのような層の感光
度を、少なくとも１つの光酸化可能な基を含有するモノ
マーあるいは追加のオニウム化合物、特にヨードニウム
又はスルホニウム塩を用いることによりさらにもっと向
上させることができる。光重合可能な層は大気酸素によ
り損なわれる。従ってそれらは多くの場合、酸素に対し
て比較的非透過性であるが、水性現像液により再び完全
に除去され得るカバー層により保護される。
【００２８】画像層は放射線−感受性成分としてハロゲ
ン化銀を含むこともできる。その場合それはハロゲン化
銀乳剤層を含む。銀錯体拡散転写反転法（ＤＴＲ法と略
される）により働く画像層が好ましい。その場合それ
は、ＥＰ−Ａ ４１０ ５００、４２３ ３９９又は８
８３ ０２７にもっと詳細に記載されている通り、２つ
又はそれより多い部分層から成る。最低の、すなわち支
持体に最も近い層は通常銀核を含む受容層である。核
は、適した現像薬がそれに作用すると、拡散して入った
銀錯体の現像を開始させ、銀画像を与える。現像核は好
ましくはコロイド銀、金、白金、パラジウム又は他の金
属の適用により作られる。それらはさらに重金属硫化物
又はセレン化物、例えばアンチモン、ビスマス、カドミ
ウム、コバルト、鉛、ニッケル、パラジウム、白金、銀
又は亜鉛の硫化物を含むことができる。ＵＳ−Ａ ４，
５６３，４１０に記載されている硫化パラジウム及びニ
ッケル／銀硫化物、ＮｉＳ・Ａｇ2Ｓが特に適してい
る。重金属のポリセレニド又はポリスルフィドも適して
いる。さらに、ハレーション防止剤として染料又は顔料
が核層の成分として、又は別の層中に存在することがで
きる。染料又は顔料の型は、ハロゲン化銀乳剤層が感受
性であるスペクトルの領域に依存する。核層は非常に薄
く（一般に０．５μｍ未満）；それは通常結合剤を含有
しない。すでに記載した通り、核層は絶対に必要なわけ
ではない。そのような層が存在しない場合、金属性支持
体の成分が現像核の役割を担う。最後に、画像受容層又
は核層を別の支持体上に配置することもできる。２つの
要素から成るこの型のＤＴＲ材料は一般的に既知であ
る。
ン化銀を含むこともできる。その場合それはハロゲン化
銀乳剤層を含む。銀錯体拡散転写反転法（ＤＴＲ法と略
される）により働く画像層が好ましい。その場合それ
は、ＥＰ−Ａ ４１０ ５００、４２３ ３９９又は８
８３ ０２７にもっと詳細に記載されている通り、２つ
又はそれより多い部分層から成る。最低の、すなわち支
持体に最も近い層は通常銀核を含む受容層である。核
は、適した現像薬がそれに作用すると、拡散して入った
銀錯体の現像を開始させ、銀画像を与える。現像核は好
ましくはコロイド銀、金、白金、パラジウム又は他の金
属の適用により作られる。それらはさらに重金属硫化物
又はセレン化物、例えばアンチモン、ビスマス、カドミ
ウム、コバルト、鉛、ニッケル、パラジウム、白金、銀
又は亜鉛の硫化物を含むことができる。ＵＳ−Ａ ４，
５６３，４１０に記載されている硫化パラジウム及びニ
ッケル／銀硫化物、ＮｉＳ・Ａｇ2Ｓが特に適してい
る。重金属のポリセレニド又はポリスルフィドも適して
いる。さらに、ハレーション防止剤として染料又は顔料
が核層の成分として、又は別の層中に存在することがで
きる。染料又は顔料の型は、ハロゲン化銀乳剤層が感受
性であるスペクトルの領域に依存する。核層は非常に薄
く（一般に０．５μｍ未満）；それは通常結合剤を含有
しない。すでに記載した通り、核層は絶対に必要なわけ
ではない。そのような層が存在しない場合、金属性支持
体の成分が現像核の役割を担う。最後に、画像受容層又
は核層を別の支持体上に配置することもできる。２つの
要素から成るこの型のＤＴＲ材料は一般的に既知であ
る。
【００２９】薄い銀−非含有中間層、例えば顔料及び親
水性フィルム−形成性ポリマー、例えばポリビニルアル
コールもしくはプルランの層を受容層の上に置く。次ぎ
がハロゲン化銀乳剤層である。ハロゲン化銀は例えば塩
化、臭化、臭化ヨウ化、塩化臭化ヨウ化銀又はそれらの
混合物である。ハロゲン化銀は有利にはハロゲン化銀の
合計重量に基づいて９０重量％より多い塩化銀を含む。
さらに、少量の塩化ヨウ化銀及び／又は臭化銀も多くの
場合に存在する。乳剤層中のハロゲン化銀粒子は通常
０．０５〜１．０μｍ、好ましくは０．２５〜０．４５
μｍの平均寸法を有する。シェルと異なる組成を有する
粒子のコアによりそれらを作ることもできる。臭化銀は
多くの場合にコア中のみに位置する。この層のために用
いられる結合剤は一般に親水性コロイド、好ましくはゼ
ラチンである。ゼラチンは有利には硬膜されない。ゼラ
チンの代わりに、又はそれに追加して他のポリマー、例
えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リビニルイミダゾール、ポリ（メタ）アクリルアミド、
ポリアクリル酸、セルロースもしくはセルロース誘導体
（特にヒドロキシアルキル−もしくはカルボキシメチル
セルロースのようなセルロースエーテル）、澱粉又はア
ルギネートを用いることもできる。最後に、乳剤層はハ
ロゲン化銀層の分光感度を調整するため、及び／又は望
ましくない光散乱を防ぐために染料も含むことができ
る。これらは例えばメチン、シアニンもしくはヘミシア
ニン染料である。最後に、ハロゲン化銀層は通常の乳剤
安定剤、例えばアザインデン、特にテトラ−もしくはペ
ンタアザインデンを含むことができる。アザインデンは
好ましくはアミノ又はヒドロキシル基により置換されて
いる。この型の置換アザインデンの例は４−ヒドロキシ
−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン
である。他の適した安定剤は第４級化ベンゾチアゾー
ル、ベンゾトリアゾール及び複素環式メルカプト化合
物、例えばメルカプト−置換テトラゾール及びピリミジ
ンである。この型のテトラゾールの例は１−［３−（２
−スルホベンゾイルアミノ）フェニル］−５−メルカプ
トテトラゾールである。
水性フィルム−形成性ポリマー、例えばポリビニルアル
コールもしくはプルランの層を受容層の上に置く。次ぎ
がハロゲン化銀乳剤層である。ハロゲン化銀は例えば塩
化、臭化、臭化ヨウ化、塩化臭化ヨウ化銀又はそれらの
混合物である。ハロゲン化銀は有利にはハロゲン化銀の
合計重量に基づいて９０重量％より多い塩化銀を含む。
さらに、少量の塩化ヨウ化銀及び／又は臭化銀も多くの
場合に存在する。乳剤層中のハロゲン化銀粒子は通常
０．０５〜１．０μｍ、好ましくは０．２５〜０．４５
μｍの平均寸法を有する。シェルと異なる組成を有する
粒子のコアによりそれらを作ることもできる。臭化銀は
多くの場合にコア中のみに位置する。この層のために用
いられる結合剤は一般に親水性コロイド、好ましくはゼ
ラチンである。ゼラチンは有利には硬膜されない。ゼラ
チンの代わりに、又はそれに追加して他のポリマー、例
えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リビニルイミダゾール、ポリ（メタ）アクリルアミド、
ポリアクリル酸、セルロースもしくはセルロース誘導体
（特にヒドロキシアルキル−もしくはカルボキシメチル
セルロースのようなセルロースエーテル）、澱粉又はア
ルギネートを用いることもできる。最後に、乳剤層はハ
ロゲン化銀層の分光感度を調整するため、及び／又は望
ましくない光散乱を防ぐために染料も含むことができ
る。これらは例えばメチン、シアニンもしくはヘミシア
ニン染料である。最後に、ハロゲン化銀層は通常の乳剤
安定剤、例えばアザインデン、特にテトラ−もしくはペ
ンタアザインデンを含むことができる。アザインデンは
好ましくはアミノ又はヒドロキシル基により置換されて
いる。この型の置換アザインデンの例は４−ヒドロキシ
−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン
である。他の適した安定剤は第４級化ベンゾチアゾー
ル、ベンゾトリアゾール及び複素環式メルカプト化合
物、例えばメルカプト−置換テトラゾール及びピリミジ
ンである。この型のテトラゾールの例は１−［３−（２
−スルホベンゾイルアミノ）フェニル］−５−メルカプ
トテトラゾールである。
【００３０】好ましい態様では、ハロゲン化銀乳剤層の
上に保護層を置くこともできる。それは一般に０．５０
〜１．７５ｇ／ｍ2、好ましくは０．６０〜１．２０ｇ
／ｍ2の重量を有し、有利には非硬膜ゼラチン（ゼラチ
ンの１０重量％濃度水溶液は好ましくは４０℃及びｐＨ
６において２０ｍＰａ・ｓ未満の粘度を有する）を含
む。カバー層自身は染料及び／又は着色顔料及び／又は
艶消剤を含むことができる。本明細書において艶消剤は
一般に０．２〜１０μｍ、好ましくは０．５〜６．０μ
ｍの平均直径を有する粒子から成る。
上に保護層を置くこともできる。それは一般に０．５０
〜１．７５ｇ／ｍ2、好ましくは０．６０〜１．２０ｇ
／ｍ2の重量を有し、有利には非硬膜ゼラチン（ゼラチ
ンの１０重量％濃度水溶液は好ましくは４０℃及びｐＨ
６において２０ｍＰａ・ｓ未満の粘度を有する）を含
む。カバー層自身は染料及び／又は着色顔料及び／又は
艶消剤を含むことができる。本明細書において艶消剤は
一般に０．２〜１０μｍ、好ましくは０．５〜６．０μ
ｍの平均直径を有する粒子から成る。
【００３１】ＵＶ又は可視光を用いる画像形成のために
設けられるネガティブ−作用性層は、多くの場合にジア
ゾニウム塩重縮合生成物を含む。これらは特に芳香族ジ
アゾニウム塩の重縮合の生成物である。この型の重縮合
生成物は、中でもＤＥ−Ａ１２ １４ ０８６（＝ＵＳ
−Ａ ３，２３５，３８４）から既知である。それらは
一般に強力に酸性の媒体、好ましくは濃リン酸中におけ
る多環式芳香族ジアゾニウム化合物、好ましくは置換も
しくは非置換ジフェニルアミン−４−シアゾニウム塩と
活性カルボニル化合物、好ましくはホルムアルデヒドの
縮合により製造される。
設けられるネガティブ−作用性層は、多くの場合にジア
ゾニウム塩重縮合生成物を含む。これらは特に芳香族ジ
アゾニウム塩の重縮合の生成物である。この型の重縮合
生成物は、中でもＤＥ−Ａ１２ １４ ０８６（＝ＵＳ
−Ａ ３，２３５，３８４）から既知である。それらは
一般に強力に酸性の媒体、好ましくは濃リン酸中におけ
る多環式芳香族ジアゾニウム化合物、好ましくは置換も
しくは非置換ジフェニルアミン−４−シアゾニウム塩と
活性カルボニル化合物、好ましくはホルムアルデヒドの
縮合により製造される。
【００３２】電子写真の原理により画像層を画像形成す
ることもできる。この場合、通常それは導電性支持体上
に有機光伝導体を含有する光伝導層を含む。
ることもできる。この場合、通常それは導電性支持体上
に有機光伝導体を含有する光伝導層を含む。
【００３３】画像層は、放射線−感受性成分の他に、通
常ポリマー性有機結合剤も含む。フェノール−ホルムア
ルデヒド縮合生成物が好ましく、ここで「フェノール」
という用語は置換されたフェノール、例えばレゾルシノ
ール、クレゾール、キシレノールなども意味すると理解
される。ホルムアルデヒドの他に、又はそれに加えて、
縮合のパートナーとして他のアルデヒドあるいは又ケト
ンを用いることもできる。ジイソシアナートとジオール
もしくはジアミンの反応の生成物、特に酸基を含有する
ものも適している。ビニル芳香族化合物、Ｎ−アリール
−（メタ）アクリルアミド又はアリール（メタ）アクリ
レートの単位を含有するポリマーも挙げねばならず、こ
こでこれらの単位はそれぞれ１つもしくはそれより多い
カルボキシル基、フェノール性ヒドロキシル基、スルフ
ァモイルもしくはカルバモイル基も含有する。
常ポリマー性有機結合剤も含む。フェノール−ホルムア
ルデヒド縮合生成物が好ましく、ここで「フェノール」
という用語は置換されたフェノール、例えばレゾルシノ
ール、クレゾール、キシレノールなども意味すると理解
される。ホルムアルデヒドの他に、又はそれに加えて、
縮合のパートナーとして他のアルデヒドあるいは又ケト
ンを用いることもできる。ジイソシアナートとジオール
もしくはジアミンの反応の生成物、特に酸基を含有する
ものも適している。ビニル芳香族化合物、Ｎ−アリール
−（メタ）アクリルアミド又はアリール（メタ）アクリ
レートの単位を含有するポリマーも挙げねばならず、こ
こでこれらの単位はそれぞれ１つもしくはそれより多い
カルボキシル基、フェノール性ヒドロキシル基、スルフ
ァモイルもしくはカルバモイル基も含有する。
【００３４】本発明に従う記録材料が前面において顔料
着色されるか、又は艶消される場合、この側の表面のＢ
ｅｋｋ平滑度は一般に６００ｓ未満、好ましくは１００
〜１５０ｓである。
着色されるか、又は艶消される場合、この側の表面のＢ
ｅｋｋ平滑度は一般に６００ｓ未満、好ましくは１００
〜１５０ｓである。
【００３５】本発明に従う記録材料のためのさらなる処
理（画像通りの露出又は照射、現像など）は、背面コー
ティングのない記録材料の場合と実質的に同じ方法で行
われる。背面コーティングは処理化学品に対して抵抗性
なので、それは支持体への現像液による攻撃も防ぐ。こ
れは、アルミニウム支持体の場合に特に重要である。こ
れらはアルカリ性現像液、特に強力にアルカリ性の現像
液により攻撃され、それは現像液負荷（ｄｅｖｅｌｏｐ
ｅｒ ｌｏａｄ）を増し、かくしてその有効寿命を短縮
する。
理（画像通りの露出又は照射、現像など）は、背面コー
ティングのない記録材料の場合と実質的に同じ方法で行
われる。背面コーティングは処理化学品に対して抵抗性
なので、それは支持体への現像液による攻撃も防ぐ。こ
れは、アルミニウム支持体の場合に特に重要である。こ
れらはアルカリ性現像液、特に強力にアルカリ性の現像
液により攻撃され、それは現像液負荷（ｄｅｖｅｌｏｐ
ｅｒ ｌｏａｄ）を増し、かくしてその有効寿命を短縮
する。
【００３６】以下の実施例は本発明を例示するためのも
のである。その中でｐｂｗは重量部を示す。パーセンテ
ージは、他にことわらなければ重量パーセントである。
のである。その中でｐｂｗは重量部を示す。パーセンテ
ージは、他にことわらなければ重量パーセントである。
【００３７】
【実施例】実施例において、背面コーティングの形成の
ために以下の方法を用いる： ローラー適用法 Ｒ１−平滑表面のためのローラー適用 方法：逆−回転を用いる直接適用 システム：ラッカートラフ／ｃｍ当たり５４本の線の格
子及び３０oの傾斜を有するクロム彫刻ローラー（直径
は１００ｍｍ）、彫刻ローラー上のプラスチック掻取り
刃 バンドへの適用の後、デイストリビューターローラーに
よりラッカーコートを平滑にした。分配ローラーは８０
ｍｍの直径を有する磨かれたクロムローラーであり、そ
の回りに自由に回転するバンドがゆるく輪にされ、且つ
それはバンドの回転と反対に２００ｒｐｍで回転する。 基質：アルミニウムバンド、厚さ１９０μｍ 適用 パラメーター：バンド速度：４０ｍ／分 クロム彫刻ローラーの周速度：６０ｍ／分 デイストリビューターローラーの周速度：５０ｍ／分 ＵＶ硬化：２００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は均一であり、且つ非常に平滑であった。Ｂｅｋｋ
平滑度：１７００ｓ。 Ｒ２−微細に構造化された表面のためのローラー適用 方法：間接共−回転 システム：ラッカートラフ／クロムローラー（直径は１
００ｍｍ）、ゴム塗りローラー（ＥＰＤＭ、ショアー硬
度 ７２、直径 １００ｍｍ）；ラッカートラフ及びク
ロムローラー温度−制御 基質：ロール−増白（ｒｏｌｌ−ｂｒｉｇｈｔｅｎｅ
ｄ）アルミニウムバンド、厚さ１４０μｍ 適用 パラメーター：ラッカー温度：５５℃ バンド速度：４０ｍ／分 クロム吸収ローラーの周速度：２２ｍ／分 クロムローラー／ゴムローラー間隙：０．４ｍｍ ゴム塗りローラーの周速度：３２ｍ／分 ゴムローラー／基質圧：４．５バール ＵＶ硬化：４００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は縦方向に非常に微細に粗面化された構造を有し
た。Ｂｅｋｋ平滑度：１８７ｓ Ｒ３−溝構造のためのローラー適用 方法：間接共−回転 システム：ラッカートラフ／クロムローラー（直径は１
００ｍｍ）、ゴム塗りローラー（ＥＰＤＭ、ショアー硬
度 ６５、直径 ８０ｍｍ）；ラッカートラフ及びクロ
ムローラー温度−制御 基質：ロール−増白アルミニウムバンド、厚さ１９０μ
ｍ 適用 パラメーター：ラッカー温度：４５℃ バンド速度：４０ｍ／分 クロム吸収ローラーの周速度：２２ｍ／分 クロムローラー／ゴムローラー間隙：０．６ｍｍ ゴム塗りローラーの周速度：３２ｍ／分 ゴムローラー／基質圧：４．５バール ＵＶ硬化：２００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は微細な縦に配向した溝を示した。Ｂｅｋｋ平滑
度：２２７ｓ Ｒ４−線適用のための彫刻ローラー 方法：直接共−回転 システム：チャンバードクターブレードを有するクロム
彫刻ローラー（直径は２５０ｍｍ）。ハッチドローラー
（ｃｍ当たりに５４本の線、２８oの傾斜及び３２ｍｌ
／ｍ2の容量を有する線格子）を用いた。ラッカー貯蔵
タンク、チャンバードクターブレード及びクロム彫刻ロ
ーラー温度−制御 基質：予備処理されたアルミニウムバンドの背面、厚さ
１４０μｍ 適用 パラメーター：ラッカー温度：５１℃ バンド速度：６０ｍ／分 彫刻ローラーの周速度：５８ｍ／分 クロムローラー／基質間隙：０．３５ｍｍ ＵＶ硬化：６３ｐｐｍの酸素含有率までの窒素不活性化
を以て６００ｍＷ／ｃｍ硬化の後、表面はハッチドロー
ラーの幾何学における均一な斜線を示した。Ｂｅｋｋ平
滑度：５５ｓ Ｗ４−彫刻ローラー適用 方法：間接共−回転、キスコート法による転移 システム：チャンバードクターブレードを有するセラミ
ック彫刻ローラー（直径は２００ｍｍ）。３２ｍｌ／ｍ
2の容量を有する六角くぼみの格子を用いた。ゴム転移
ローラー（ポリウレタン、ショアー硬度 ６８、直径
２００ｍｍ）。ラッカー貯蔵タンク、チャンバードクタ
ーブレード及びセラミック彫刻ローラー温度−制御 基質：アルミニウムバンド上の上記のコーティングの１
つの背面、厚さ１５０μｍ 適用 パラメーター：ラッカー温度：４８℃ バンド速度：８０ｍ／分 セラミック彫刻ローラーの周速度：ゴムローラーと同じ方向にお いて８０ｍ／分 セラミックローラー／ゴムローラー間隙：０．３５ｍｍ ゴム塗りローラーの周速度：７９ｍ／分 ゴムローラー上にアルミニウムバンドの端が入った跡の
可能な危険を減少させるために、キスコート法によりバ
ンドへの転移を行った。 ＵＶ硬化：６００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は粗い粗面化された構造を有した。Ｂｅｋｋ平滑
度：８０ｓ Ｗ５−構造化されたゴムローラーを用いるローラー適用 方法：間接逆−回転 システム：ラッカートラフ／クロムローラー（直径は１
００ｍｍ）、構造化されたゴム塗りローラー（ポリウレ
タン、ショアー硬度 ７８、直径 ９５ｍｍ）。ゴムロ
ーラー中に不織布を挿入し、ゴムコーティングの後に紙
−様の表面構造をローラーに与えた。ラッカートラフ及
びクロムローラーを温度−制御した。 適用 パラメーター：ラッカー温度：４５℃ バンド速度：２０ｍ／分 クロム吸収ローラーの周速度：ｍ／分 間隙：クロムローラー／ゴム転移ローラー：０．７５ｍｍ ゴム転移ローラーの周速度：２２ｍ／分 圧力：ゴムローラー／基質：４．５バール ＵＶ硬化：２００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は紙−様の構造を有した。Ｂｅｋｋ平滑度：１２５
ｓ。 スロットダイシステムによる適用 ウェブの移動に対して横に可能な最も均一なラッカー分
布を生ずるために、平面に平行な出口を有する通常のダ
イギャップと対照的に、その出口はその幅に及んで均一
でないが、代わりに多数の規則的な出口チャンネルの形
を示すギャップを用いた。これは、ダイギャップ中にラ
ッカーの流れの方向に縦に構造化されたマスクを置くこ
とにより成され、縦の線の断面はウェブに対して横にラ
ッカー出口の容積を決定する。ラッカー適用容積は、も
う完全にラッカーがウェブに対して横に流れず、縦に構
造化された表面を残すような方法で選ばれた。
ために以下の方法を用いる： ローラー適用法 Ｒ１−平滑表面のためのローラー適用 方法：逆−回転を用いる直接適用 システム：ラッカートラフ／ｃｍ当たり５４本の線の格
子及び３０oの傾斜を有するクロム彫刻ローラー（直径
は１００ｍｍ）、彫刻ローラー上のプラスチック掻取り
刃 バンドへの適用の後、デイストリビューターローラーに
よりラッカーコートを平滑にした。分配ローラーは８０
ｍｍの直径を有する磨かれたクロムローラーであり、そ
の回りに自由に回転するバンドがゆるく輪にされ、且つ
それはバンドの回転と反対に２００ｒｐｍで回転する。 基質：アルミニウムバンド、厚さ１９０μｍ 適用 パラメーター：バンド速度：４０ｍ／分 クロム彫刻ローラーの周速度：６０ｍ／分 デイストリビューターローラーの周速度：５０ｍ／分 ＵＶ硬化：２００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は均一であり、且つ非常に平滑であった。Ｂｅｋｋ
平滑度：１７００ｓ。 Ｒ２−微細に構造化された表面のためのローラー適用 方法：間接共−回転 システム：ラッカートラフ／クロムローラー（直径は１
００ｍｍ）、ゴム塗りローラー（ＥＰＤＭ、ショアー硬
度 ７２、直径 １００ｍｍ）；ラッカートラフ及びク
ロムローラー温度−制御 基質：ロール−増白（ｒｏｌｌ−ｂｒｉｇｈｔｅｎｅ
ｄ）アルミニウムバンド、厚さ１４０μｍ 適用 パラメーター：ラッカー温度：５５℃ バンド速度：４０ｍ／分 クロム吸収ローラーの周速度：２２ｍ／分 クロムローラー／ゴムローラー間隙：０．４ｍｍ ゴム塗りローラーの周速度：３２ｍ／分 ゴムローラー／基質圧：４．５バール ＵＶ硬化：４００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は縦方向に非常に微細に粗面化された構造を有し
た。Ｂｅｋｋ平滑度：１８７ｓ Ｒ３−溝構造のためのローラー適用 方法：間接共−回転 システム：ラッカートラフ／クロムローラー（直径は１
００ｍｍ）、ゴム塗りローラー（ＥＰＤＭ、ショアー硬
度 ６５、直径 ８０ｍｍ）；ラッカートラフ及びクロ
ムローラー温度−制御 基質：ロール−増白アルミニウムバンド、厚さ１９０μ
ｍ 適用 パラメーター：ラッカー温度：４５℃ バンド速度：４０ｍ／分 クロム吸収ローラーの周速度：２２ｍ／分 クロムローラー／ゴムローラー間隙：０．６ｍｍ ゴム塗りローラーの周速度：３２ｍ／分 ゴムローラー／基質圧：４．５バール ＵＶ硬化：２００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は微細な縦に配向した溝を示した。Ｂｅｋｋ平滑
度：２２７ｓ Ｒ４−線適用のための彫刻ローラー 方法：直接共−回転 システム：チャンバードクターブレードを有するクロム
彫刻ローラー（直径は２５０ｍｍ）。ハッチドローラー
（ｃｍ当たりに５４本の線、２８oの傾斜及び３２ｍｌ
／ｍ2の容量を有する線格子）を用いた。ラッカー貯蔵
タンク、チャンバードクターブレード及びクロム彫刻ロ
ーラー温度−制御 基質：予備処理されたアルミニウムバンドの背面、厚さ
１４０μｍ 適用 パラメーター：ラッカー温度：５１℃ バンド速度：６０ｍ／分 彫刻ローラーの周速度：５８ｍ／分 クロムローラー／基質間隙：０．３５ｍｍ ＵＶ硬化：６３ｐｐｍの酸素含有率までの窒素不活性化
を以て６００ｍＷ／ｃｍ硬化の後、表面はハッチドロー
ラーの幾何学における均一な斜線を示した。Ｂｅｋｋ平
滑度：５５ｓ Ｗ４−彫刻ローラー適用 方法：間接共−回転、キスコート法による転移 システム：チャンバードクターブレードを有するセラミ
ック彫刻ローラー（直径は２００ｍｍ）。３２ｍｌ／ｍ
2の容量を有する六角くぼみの格子を用いた。ゴム転移
ローラー（ポリウレタン、ショアー硬度 ６８、直径
２００ｍｍ）。ラッカー貯蔵タンク、チャンバードクタ
ーブレード及びセラミック彫刻ローラー温度−制御 基質：アルミニウムバンド上の上記のコーティングの１
つの背面、厚さ１５０μｍ 適用 パラメーター：ラッカー温度：４８℃ バンド速度：８０ｍ／分 セラミック彫刻ローラーの周速度：ゴムローラーと同じ方向にお いて８０ｍ／分 セラミックローラー／ゴムローラー間隙：０．３５ｍｍ ゴム塗りローラーの周速度：７９ｍ／分 ゴムローラー上にアルミニウムバンドの端が入った跡の
可能な危険を減少させるために、キスコート法によりバ
ンドへの転移を行った。 ＵＶ硬化：６００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は粗い粗面化された構造を有した。Ｂｅｋｋ平滑
度：８０ｓ Ｗ５−構造化されたゴムローラーを用いるローラー適用 方法：間接逆−回転 システム：ラッカートラフ／クロムローラー（直径は１
００ｍｍ）、構造化されたゴム塗りローラー（ポリウレ
タン、ショアー硬度 ７８、直径 ９５ｍｍ）。ゴムロ
ーラー中に不織布を挿入し、ゴムコーティングの後に紙
−様の表面構造をローラーに与えた。ラッカートラフ及
びクロムローラーを温度−制御した。 適用 パラメーター：ラッカー温度：４５℃ バンド速度：２０ｍ／分 クロム吸収ローラーの周速度：ｍ／分 間隙：クロムローラー／ゴム転移ローラー：０．７５ｍｍ ゴム転移ローラーの周速度：２２ｍ／分 圧力：ゴムローラー／基質：４．５バール ＵＶ硬化：２００ｍＷ／ｃｍ、不活性ガスなし 表面は紙−様の構造を有した。Ｂｅｋｋ平滑度：１２５
ｓ。 スロットダイシステムによる適用 ウェブの移動に対して横に可能な最も均一なラッカー分
布を生ずるために、平面に平行な出口を有する通常のダ
イギャップと対照的に、その出口はその幅に及んで均一
でないが、代わりに多数の規則的な出口チャンネルの形
を示すギャップを用いた。これは、ダイギャップ中にラ
ッカーの流れの方向に縦に構造化されたマスクを置くこ
とにより成され、縦の線の断面はウェブに対して横にラ
ッカー出口の容積を決定する。ラッカー適用容積は、も
う完全にラッカーがウェブに対して横に流れず、縦に構
造化された表面を残すような方法で選ばれた。
【００３８】ダイギャップのチャンネルは長方形、三角
形、Ｕ−形であるか、あるいは種々のデザインを有して
いることができる。チャンネルの分離は規則的又は不規
則的であることができる。ラッカー粘度を修正するため
に、ダイを温度−制御することができる。 Ｓ１−スロットダイシステム スロットダイは９０oの角度及び２５０μｍの底辺長
（ｂａｓｅ ｌｅｎｇｔｈ）を有する均一な三角構造な
らびに２５０μｍのチャンネル高を有するダイチャンネ
ル出口を有した。 バンド速度：１２ｍ／分 ダイ／バンド分離：３０μｍ 適用容積：１ｃｍのコーティング幅において２ｃｍ3／
分 基質：２９０μｍの厚さを有するロール−増白アルミニ
ウムバンド ｃｍ当たりに４本の線を有する規則的な線パターンが得
られた。線の隆起（最低点と最高点の間の高さの差）は
最高で６μｍであった。 スプレー適用 スプレーコーティングの間で、オレンジ−ピール構造
は、ラッカーがスプレーシステムにおいて噴霧されて小
滴となり、これらの滴が基質を打った後に再び流れて連
続した湿潤フィルムを形成しなければならないことによ
り生ずる望ましくない効果である。滴の直径、ラッカー
及び基質の表面張力、ラッカー粘度、滴の表面電荷及び
適用されるラッカーの合計量に依存して、滴構造のいく
らかは保持されるか、あるいは流れて完全に均一な湿潤
フィルムを形成する。
形、Ｕ−形であるか、あるいは種々のデザインを有して
いることができる。チャンネルの分離は規則的又は不規
則的であることができる。ラッカー粘度を修正するため
に、ダイを温度−制御することができる。 Ｓ１−スロットダイシステム スロットダイは９０oの角度及び２５０μｍの底辺長
（ｂａｓｅ ｌｅｎｇｔｈ）を有する均一な三角構造な
らびに２５０μｍのチャンネル高を有するダイチャンネ
ル出口を有した。 バンド速度：１２ｍ／分 ダイ／バンド分離：３０μｍ 適用容積：１ｃｍのコーティング幅において２ｃｍ3／
分 基質：２９０μｍの厚さを有するロール−増白アルミニ
ウムバンド ｃｍ当たりに４本の線を有する規則的な線パターンが得
られた。線の隆起（最低点と最高点の間の高さの差）は
最高で６μｍであった。 スプレー適用 スプレーコーティングの間で、オレンジ−ピール構造
は、ラッカーがスプレーシステムにおいて噴霧されて小
滴となり、これらの滴が基質を打った後に再び流れて連
続した湿潤フィルムを形成しなければならないことによ
り生ずる望ましくない効果である。滴の直径、ラッカー
及び基質の表面張力、ラッカー粘度、滴の表面電荷及び
適用されるラッカーの合計量に依存して、滴構造のいく
らかは保持されるか、あるいは流れて完全に均一な湿潤
フィルムを形成する。
【００３９】スプレー法により不連続な滴を、例えばプ
ラノグラフィー印刷版上のスペーサーとして適用するこ
とも既知である。 噴霧法：静電的支持体（ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ
ｓｕｐｐｏｒｔ）を用いる高回転ベル 圧縮−空気噴霧 エアレス噴霧 純粋に静電的な噴霧法（例えばディスク、ＥＳＴＡスプ
レーバー） ＳＰ−１ スプレー適用：静電的支持体を用いる高回転
ベル 下記に記載するラッカーの１つを、水平に配置されて高
速で回転するスプレーベル（「高回転ベル」）により噴
霧し、その下で動いている接地されたアルミニウムバン
ド上に堆積させた。スプレー部品の直前の温度−制御可
能な静電混合システムに通過させることにより、ラッカ
ーを５８℃に加熱した。 スプレー噴霧条件：６０ｍｍの直径を有する高回転ベ
ル、速度 ２８，０００ｒｐｍ 充電 ２８ｋＶ バンドからの距離：２１０ｍｍ スプレーコーン幅 約５００ｍｍ、 スプレー噴霧量（ｓｐｒａｙ ｒａｔｅ）：３０ｍｌ／
分 バンド速度：１２ｍ／分 オレンジ−ピール構造を有するコーティングが得られ
る。Ｂｅｋｋ平滑度：２５０ｓ ＳＰ−２ スプレー適用：圧縮空気噴霧 下記に記載するラッカーの１つを、圧縮空気を用いる二
−成分スプレーノズルにより噴霧し、上から下に垂直に
動いているアルミニウムバンド上に堆積させた。スプレ
ーノズルの前の電気ラッカーヒーターを通過させること
により、ラッカーを６５℃に加熱した。 スプレー噴霧条件：０．４５ｍｍの直径及び４．５バー
ルの空気圧の二−成分ノズル バンドからの距離：１５０ｍｍ スプレー噴霧幅 約１５０ｍｍ スプレー噴霧量：２２ｍｌ／分 バンド速度 １０ｍ／分 強いオレンジ−ピール構造を有するコーティングが得ら
れる。 背面コーティング： Ｌ１：８０ｐｂｗの多官能基性アクリレートモノマー
（ＢＡＳＦ ＡＧからのRＬａｒｏｍｅｒ ＬＲ８９８
６） ２０ｐｂｗの多官能基性アクリレートモノマー（ＢＡＳ
Ｆ ＡＧからのRＬａｒｏｍｅｒ ＤＰＧＤＡ） ３ｐｂｗの、トリプロピレングリコールジアクリレート
（ＴＰＧＤＡ）中のセルロースアセトブチレートの２０
％濃度溶液（ＢＡＳＦ ＡＧからのＣＡＢ ５５１−
０．２） ２ｐｂｗの多官能基性アクリレートモノマー（ＵＣＢ
Ｓ．Ａ．からの RＥｂｅｃｒｙｌ １７０） ４ｐｂｗの光開始剤としての２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（Ｃｉｂａ Ｓｐ
ｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのRＤａｒｏ
ｃｕｒ １１７３） を、３ｇ／ｍ2の重量を有する湿潤フィルムが得られる
ようなやり方で適用した。続いて湿潤フィルムを１６０
Ｗ／ｃｍの水銀蒸気ランプ下で２０秒間露出した。室温
におけるラッカーの粘度は３７８ｍＰａ・ｓであった。 Ｌ２：１５ｐｂｗのポリウレタン（Ｂａｙｅｒ ＡＧか
らのRＤｅｓｍｏｄｕｒ２１７０）及び８５ｐｂｗのブ
タノンを含む熱硬化性ラッカーを適用し、１５０℃のド
ライヤー温度で乾燥し、２１ｇ／ｍ2の重量を有する層
を得た。室温（ＲＴ；２３℃に対応する）におけるラッ
カー粘度は５８９ｍＰａ・ｓであった。 Ｌ３：Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）中で１２％のポ
リエーテルスルホン（ＢＡＳＦ ＡＧからのRＵｌｔｒ
ａｓｏｎ ６０１０）を適用し、１５０℃のドライヤー
温度で乾燥し、９ｇ／ｍ2の重量を有する層を得た。室
温における溶液の粘度は９３１ｍＰａ・ｓであった。
ラノグラフィー印刷版上のスペーサーとして適用するこ
とも既知である。 噴霧法：静電的支持体（ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ
ｓｕｐｐｏｒｔ）を用いる高回転ベル 圧縮−空気噴霧 エアレス噴霧 純粋に静電的な噴霧法（例えばディスク、ＥＳＴＡスプ
レーバー） ＳＰ−１ スプレー適用：静電的支持体を用いる高回転
ベル 下記に記載するラッカーの１つを、水平に配置されて高
速で回転するスプレーベル（「高回転ベル」）により噴
霧し、その下で動いている接地されたアルミニウムバン
ド上に堆積させた。スプレー部品の直前の温度−制御可
能な静電混合システムに通過させることにより、ラッカ
ーを５８℃に加熱した。 スプレー噴霧条件：６０ｍｍの直径を有する高回転ベ
ル、速度 ２８，０００ｒｐｍ 充電 ２８ｋＶ バンドからの距離：２１０ｍｍ スプレーコーン幅 約５００ｍｍ、 スプレー噴霧量（ｓｐｒａｙ ｒａｔｅ）：３０ｍｌ／
分 バンド速度：１２ｍ／分 オレンジ−ピール構造を有するコーティングが得られ
る。Ｂｅｋｋ平滑度：２５０ｓ ＳＰ−２ スプレー適用：圧縮空気噴霧 下記に記載するラッカーの１つを、圧縮空気を用いる二
−成分スプレーノズルにより噴霧し、上から下に垂直に
動いているアルミニウムバンド上に堆積させた。スプレ
ーノズルの前の電気ラッカーヒーターを通過させること
により、ラッカーを６５℃に加熱した。 スプレー噴霧条件：０．４５ｍｍの直径及び４．５バー
ルの空気圧の二−成分ノズル バンドからの距離：１５０ｍｍ スプレー噴霧幅 約１５０ｍｍ スプレー噴霧量：２２ｍｌ／分 バンド速度 １０ｍ／分 強いオレンジ−ピール構造を有するコーティングが得ら
れる。 背面コーティング： Ｌ１：８０ｐｂｗの多官能基性アクリレートモノマー
（ＢＡＳＦ ＡＧからのRＬａｒｏｍｅｒ ＬＲ８９８
６） ２０ｐｂｗの多官能基性アクリレートモノマー（ＢＡＳ
Ｆ ＡＧからのRＬａｒｏｍｅｒ ＤＰＧＤＡ） ３ｐｂｗの、トリプロピレングリコールジアクリレート
（ＴＰＧＤＡ）中のセルロースアセトブチレートの２０
％濃度溶液（ＢＡＳＦ ＡＧからのＣＡＢ ５５１−
０．２） ２ｐｂｗの多官能基性アクリレートモノマー（ＵＣＢ
Ｓ．Ａ．からの RＥｂｅｃｒｙｌ １７０） ４ｐｂｗの光開始剤としての２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（Ｃｉｂａ Ｓｐ
ｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのRＤａｒｏ
ｃｕｒ １１７３） を、３ｇ／ｍ2の重量を有する湿潤フィルムが得られる
ようなやり方で適用した。続いて湿潤フィルムを１６０
Ｗ／ｃｍの水銀蒸気ランプ下で２０秒間露出した。室温
におけるラッカーの粘度は３７８ｍＰａ・ｓであった。 Ｌ２：１５ｐｂｗのポリウレタン（Ｂａｙｅｒ ＡＧか
らのRＤｅｓｍｏｄｕｒ２１７０）及び８５ｐｂｗのブ
タノンを含む熱硬化性ラッカーを適用し、１５０℃のド
ライヤー温度で乾燥し、２１ｇ／ｍ2の重量を有する層
を得た。室温（ＲＴ；２３℃に対応する）におけるラッ
カー粘度は５８９ｍＰａ・ｓであった。 Ｌ３：Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）中で１２％のポ
リエーテルスルホン（ＢＡＳＦ ＡＧからのRＵｌｔｒ
ａｓｏｎ ６０１０）を適用し、１５０℃のドライヤー
温度で乾燥し、９ｇ／ｍ2の重量を有する層を得た。室
温における溶液の粘度は９３１ｍＰａ・ｓであった。
【００４０】
【表１】
【００４１】前面コーティング： Ｐ１：７．８ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２４
０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧＰ
Ｃによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラック、３．２ｐｂｗ
の、１．５モルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホニルクロリドと１モルの２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノンのエステル化の生成物、０．
４ｐｂｗの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロリド、０．２ｐｂｗのビクトリア・ピュ
ア・ブルー（Ｖｉｃｔｏｒｉａ Ｐｕｒｅ Ｂｌｕｅ）
（カラーインデックス ４４０４５）、１００ｐｂｗま
での、ＴＨＦと１−メトキシプロパン−２−オールの溶
媒混合物（５０：５０） 層重量：２ｇ／ｍ2 Ｐ２：７．８ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２４
０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧＰ
Ｃによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラック、３．２ｐｂｗ
の、１．５モルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホニルクロリドと１モルの２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノンのエステル化の生成物、０．
４ｐｂｗの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロリド、０．２ｐｂｗのビクトリア・ピュ
ア・ブルー（カラーインデックス ４４０４５）、０．
１ｐｂｗの、４μｍの平均粒度を有するシリカゲル充填
剤、１００ｐｂｗまでの、ＴＨＦと１−メトキシプロパ
ン−２−オールの溶媒混合物（５０：５０） 層重量：２ｇ／ｍ2 Ｐ３：４．５ｐｂｗの、１，２−ジアゾ−ナフトキノン
−５−スルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹
脂のエステル化の生成物（ＵＳ−Ａ ３，６３５，７０
９の実施例１を参照されたい）、１１．０ｐｂｗのクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 ０．２ｐｂｗの２−（４−メトキシフェニル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、０．１
ｐｂｗのオイル・ブルー（Ｏｉｌ Ｂｌｕｅ）＃６０３
（Ｏｒｉｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉ
ｅｓ Ｃｏ．Ｌｔｄ．）、０．０４ｐｂｗのフルオロ界
面活性剤（Ｄａｉｎｉｐｐｏｎ Ｉｎｋ ａｎｄ Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌｓからのRＭｅｇａｆａｃ Ｆ−１７
７）、１００．００ｐｂｗのブタン−２−オン、１０
０．００ｐｂｗのプロピレングリコールモノメチルエー
テル層重量 ２．０ｇ／ｍ2 この層を１００℃で１分間乾燥した。続いて艶消層を以
下の通りに適用した：部分的に中和された（ナトリウ
ム、カリウムもしくはアンモニウム塩）ＭＭＡ−エチル
アクリレート−アクリル酸コポリマー（重量比 ６５：
２０：１５）を水中に溶解して１２％濃度の溶液を得
た。この溶液を回転静電スプレー装置を用いて適用した
（スプレーヘッドの速度 ２５，０００ｒｐｍ）。４０
ｍｌ／分をスプレー噴霧し、スプレーヘッドにおける電
圧は−９０ｋＶであった。スプレー噴霧プロセスは２５
℃及び５０％大気湿度において行われた。コポリマー溶
液をスプレー噴霧してから２．５秒後にコピー層に蒸気
をスプレー噴霧し、次いで熱風（６０℃、１０％相対大
気湿度）を用いて５秒間乾燥した。６μｍの平均高さ及
び３０μｍの長さ（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）を有する隆起
を艶消層上に形成した。艶消層の平均厚さは０．１５ｇ
／ｍ2であった。 Ｐ４：７．８ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２４
０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧＰ
Ｃによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラック、３．２ｐｂｗ
の、１．５モルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホニルクロリドと１モルの２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノンのエステル化の生成物、０．
４ｐｂｗの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロリド、０．２ｐｂｗのビクトリア・ピュ
ア・ブルー（Ｃ．Ｉ． ４４０４５）、１００ｐｂｗま
での、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）と１−メトキシプ
ロパン−２−オールの溶媒混合物（５０：５０） この層を１００℃で１分間乾燥した。次いで層重量は
１．９ｇ／ｍ2と測定された。艶消層を以下の通りに適
用した：毛管を有する静電スプレー装置に３５％のクレ
ゾール−ホルムアルデヒド樹脂及び６５％のエチレング
リコールエチルエーテルアセテート（＝２−エトキシエ
タノールアセテート）を含む溶液を装填した。溶液の導
電率は１．２ｘ１０7ｐＳｍ-1であった。−３０ｋＶの
電圧を適用した。次いで３０℃の温度で、コーティング
される版から３００ｍｍの距離から、０．７０ｃｍ3の
スプレー噴霧量においてコーティングを行った。この方
法で不連続層が得られ、その粒子は約３０〜４０μｍの
直径を有し、コピー層を介して透過しなかった。 Ｐ５：４．７０ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２
４０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧ
ＰＣによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するク
レゾール−ホルムアルデヒドノボラック、１．９０ｐｂ
ｗの、２−エチルブチルアルデヒド及びトリエチレング
リコールから作られるポリアセタール、０．２３ｐｂｗ
の２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビストリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン、０．０２ｐｂｗのクリス
タル・バイオレット（Ｃｒｙｓｔａｌ Ｖｉｏｌｅ
ｔ）、０．１０ｐｂｗの、４μｍの平均粒度を有するシ
リカゲル充填剤、１００．００ｐｂｗまでの、ブタン−
２−オンとエチレングリコールモノメチルエーテルの溶
媒混合物（９０：１０）。 層重量 １．９ｇ／ｍ2 Ｎ１ ６２．００ｐｂｗの、分子量ＭW＝約８０，００
０を有し、７１％のビニルブチラール、２％の酢酸ビニ
ル及び２７％のビニルアルコール単位を含有する無水マ
レイン酸−官能基化ポリビニルブチラール、２１．００
ｐｂｗの、８５％濃度リン酸中で１モルの３−メトキシ
−ジフェニルアミン−４−シアゾニウムサルフェート及
び４，４’−ビスメトキシメチルジフェニルエーテルか
ら製造され、メシチレンスルホネートとして単離される
ジアゾニウム塩重縮合生成物、２．５０ｐｂｗのリン
酸、３．００ｐｂｗのビクトリア・ピュア・ブルー Ｆ
ＧＡ（Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｂｌｕｅ ８１）、０．７
０ｐｂｗのフェニルアゾジフェニルアミン、２．５７０
ｐｂｗのエチレングリコールモノメチルエーテル及び７
８０ｐｂｗのブタン−２−オン。 Ｎ２ Ｎ１と同様であるが、さらに３μｍの平均粒度を
有するシリカゲル充填剤を０．１０ｐｂｗ、 Ｎ３ Ｎ１と同様であるが、追加の艶消層を以下の通り
に適用する：部分的に中和された（ナトリウム、カリウ
ムもしくはアンモニウム塩）ＭＭＡ−エチルアクリレー
ト−アクリル酸コポリマー（重量比 ６５：２０：１
５）を水中に溶解する（１２重量％濃度）。この溶液を
回転静電スプレー装置を用いて適用した（スプレーヘッ
ドの速度 ２５，０００ｒｐｍ）。４０ｍｌ／分をスプ
レー噴霧し、スプレーヘッドにおける電圧は−９０ｋＶ
であった。スプレー噴霧プロセスは２５℃及び５０％大
気湿度において行われた。コポリマー溶液をスプレー噴
霧してから２．５秒後にコピー層に蒸気をスプレー噴霧
し、次いで熱風（６０℃、１０％相対大気湿度）を用い
て５秒間乾燥した。６μｍの平均高さ及び３０μｍの長
さ(extension)を有する隆起を艶消層上に形成した。艶
消層の平均厚さは０．１５ｇ／ｍ2であった。
０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧＰ
Ｃによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラック、３．２ｐｂｗ
の、１．５モルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホニルクロリドと１モルの２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノンのエステル化の生成物、０．
４ｐｂｗの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロリド、０．２ｐｂｗのビクトリア・ピュ
ア・ブルー（Ｖｉｃｔｏｒｉａ Ｐｕｒｅ Ｂｌｕｅ）
（カラーインデックス ４４０４５）、１００ｐｂｗま
での、ＴＨＦと１−メトキシプロパン−２−オールの溶
媒混合物（５０：５０） 層重量：２ｇ／ｍ2 Ｐ２：７．８ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２４
０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧＰ
Ｃによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラック、３．２ｐｂｗ
の、１．５モルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホニルクロリドと１モルの２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノンのエステル化の生成物、０．
４ｐｂｗの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロリド、０．２ｐｂｗのビクトリア・ピュ
ア・ブルー（カラーインデックス ４４０４５）、０．
１ｐｂｗの、４μｍの平均粒度を有するシリカゲル充填
剤、１００ｐｂｗまでの、ＴＨＦと１−メトキシプロパ
ン−２−オールの溶媒混合物（５０：５０） 層重量：２ｇ／ｍ2 Ｐ３：４．５ｐｂｗの、１，２−ジアゾ−ナフトキノン
−５−スルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹
脂のエステル化の生成物（ＵＳ−Ａ ３，６３５，７０
９の実施例１を参照されたい）、１１．０ｐｂｗのクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 ０．２ｐｂｗの２−（４−メトキシフェニル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、０．１
ｐｂｗのオイル・ブルー（Ｏｉｌ Ｂｌｕｅ）＃６０３
（Ｏｒｉｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉ
ｅｓ Ｃｏ．Ｌｔｄ．）、０．０４ｐｂｗのフルオロ界
面活性剤（Ｄａｉｎｉｐｐｏｎ Ｉｎｋ ａｎｄ Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌｓからのRＭｅｇａｆａｃ Ｆ−１７
７）、１００．００ｐｂｗのブタン−２−オン、１０
０．００ｐｂｗのプロピレングリコールモノメチルエー
テル層重量 ２．０ｇ／ｍ2 この層を１００℃で１分間乾燥した。続いて艶消層を以
下の通りに適用した：部分的に中和された（ナトリウ
ム、カリウムもしくはアンモニウム塩）ＭＭＡ−エチル
アクリレート−アクリル酸コポリマー（重量比 ６５：
２０：１５）を水中に溶解して１２％濃度の溶液を得
た。この溶液を回転静電スプレー装置を用いて適用した
（スプレーヘッドの速度 ２５，０００ｒｐｍ）。４０
ｍｌ／分をスプレー噴霧し、スプレーヘッドにおける電
圧は−９０ｋＶであった。スプレー噴霧プロセスは２５
℃及び５０％大気湿度において行われた。コポリマー溶
液をスプレー噴霧してから２．５秒後にコピー層に蒸気
をスプレー噴霧し、次いで熱風（６０℃、１０％相対大
気湿度）を用いて５秒間乾燥した。６μｍの平均高さ及
び３０μｍの長さ（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）を有する隆起
を艶消層上に形成した。艶消層の平均厚さは０．１５ｇ
／ｍ2であった。 Ｐ４：７．８ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２４
０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧＰ
Ｃによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラック、３．２ｐｂｗ
の、１．５モルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド
−５−スルホニルクロリドと１モルの２，３，４−トリ
ヒドロキシベンゾフェノンのエステル化の生成物、０．
４ｐｂｗの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニルクロリド、０．２ｐｂｗのビクトリア・ピュ
ア・ブルー（Ｃ．Ｉ． ４４０４５）、１００ｐｂｗま
での、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）と１−メトキシプ
ロパン−２−オールの溶媒混合物（５０：５０） この層を１００℃で１分間乾燥した。次いで層重量は
１．９ｇ／ｍ2と測定された。艶消層を以下の通りに適
用した：毛管を有する静電スプレー装置に３５％のクレ
ゾール−ホルムアルデヒド樹脂及び６５％のエチレング
リコールエチルエーテルアセテート（＝２−エトキシエ
タノールアセテート）を含む溶液を装填した。溶液の導
電率は１．２ｘ１０7ｐＳｍ-1であった。−３０ｋＶの
電圧を適用した。次いで３０℃の温度で、コーティング
される版から３００ｍｍの距離から、０．７０ｃｍ3の
スプレー噴霧量においてコーティングを行った。この方
法で不連続層が得られ、その粒子は約３０〜４０μｍの
直径を有し、コピー層を介して透過しなかった。 Ｐ５：４．７０ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２
４０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧ
ＰＣによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するク
レゾール−ホルムアルデヒドノボラック、１．９０ｐｂ
ｗの、２−エチルブチルアルデヒド及びトリエチレング
リコールから作られるポリアセタール、０．２３ｐｂｗ
の２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビストリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン、０．０２ｐｂｗのクリス
タル・バイオレット（Ｃｒｙｓｔａｌ Ｖｉｏｌｅ
ｔ）、０．１０ｐｂｗの、４μｍの平均粒度を有するシ
リカゲル充填剤、１００．００ｐｂｗまでの、ブタン−
２−オンとエチレングリコールモノメチルエーテルの溶
媒混合物（９０：１０）。 層重量 １．９ｇ／ｍ2 Ｎ１ ６２．００ｐｂｗの、分子量ＭW＝約８０，００
０を有し、７１％のビニルブチラール、２％の酢酸ビニ
ル及び２７％のビニルアルコール単位を含有する無水マ
レイン酸−官能基化ポリビニルブチラール、２１．００
ｐｂｗの、８５％濃度リン酸中で１モルの３−メトキシ
−ジフェニルアミン−４−シアゾニウムサルフェート及
び４，４’−ビスメトキシメチルジフェニルエーテルか
ら製造され、メシチレンスルホネートとして単離される
ジアゾニウム塩重縮合生成物、２．５０ｐｂｗのリン
酸、３．００ｐｂｗのビクトリア・ピュア・ブルー Ｆ
ＧＡ（Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｂｌｕｅ ８１）、０．７
０ｐｂｗのフェニルアゾジフェニルアミン、２．５７０
ｐｂｗのエチレングリコールモノメチルエーテル及び７
８０ｐｂｗのブタン−２−オン。 Ｎ２ Ｎ１と同様であるが、さらに３μｍの平均粒度を
有するシリカゲル充填剤を０．１０ｐｂｗ、 Ｎ３ Ｎ１と同様であるが、追加の艶消層を以下の通り
に適用する：部分的に中和された（ナトリウム、カリウ
ムもしくはアンモニウム塩）ＭＭＡ−エチルアクリレー
ト−アクリル酸コポリマー（重量比 ６５：２０：１
５）を水中に溶解する（１２重量％濃度）。この溶液を
回転静電スプレー装置を用いて適用した（スプレーヘッ
ドの速度 ２５，０００ｒｐｍ）。４０ｍｌ／分をスプ
レー噴霧し、スプレーヘッドにおける電圧は−９０ｋＶ
であった。スプレー噴霧プロセスは２５℃及び５０％大
気湿度において行われた。コポリマー溶液をスプレー噴
霧してから２．５秒後にコピー層に蒸気をスプレー噴霧
し、次いで熱風（６０℃、１０％相対大気湿度）を用い
て５秒間乾燥した。６μｍの平均高さ及び３０μｍの長
さ(extension)を有する隆起を艶消層上に形成した。艶
消層の平均厚さは０．１５ｇ／ｍ2であった。
【００４２】乾燥された層Ｎ１〜Ｎ３の層重量はそれぞ
れ０．９ｇ／ｍ2であった（層Ｎ３の場合は艶消層の適
用の前）。 Ｎ４ ４．５０ｐｂｗの、１００〜１２０の酸価及び平
均分子量ＭW＝１００，０００を有する無水マレイン酸
とメチルメタクリレートのコポリマー、２．００ｐｂｗ
のウレタンアクリレート（Ｒｏｅｈｍ ＡＧからのRＰ
ｌｅｘ ６６６１）、３．００ｐｂｗの、１モルのヘキ
サメチレンジアミンと２モルのヒドロキシエチルメタク
リレートとの反応の生成物、０．３５ｐｂｗのフェニル
アクリジン、０．１０ｐｂｗのロイコ・クリスタル・バ
イオレット（Ｌｅｕｋｏ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｖｉｏｌｅ
ｔ）、０．０５ｐｂｗのクリスタル・バイオレット、１
００．００ｐｂｗまでの、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル（ RＤｏｗａｎｏｌ）とブタン−２−オン
の混合物（７０：３０）。
れ０．９ｇ／ｍ2であった（層Ｎ３の場合は艶消層の適
用の前）。 Ｎ４ ４．５０ｐｂｗの、１００〜１２０の酸価及び平
均分子量ＭW＝１００，０００を有する無水マレイン酸
とメチルメタクリレートのコポリマー、２．００ｐｂｗ
のウレタンアクリレート（Ｒｏｅｈｍ ＡＧからのRＰ
ｌｅｘ ６６６１）、３．００ｐｂｗの、１モルのヘキ
サメチレンジアミンと２モルのヒドロキシエチルメタク
リレートとの反応の生成物、０．３５ｐｂｗのフェニル
アクリジン、０．１０ｐｂｗのロイコ・クリスタル・バ
イオレット（Ｌｅｕｋｏ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｖｉｏｌｅ
ｔ）、０．０５ｐｂｗのクリスタル・バイオレット、１
００．００ｐｂｗまでの、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル（ RＤｏｗａｎｏｌ）とブタン−２−オン
の混合物（７０：３０）。
【００４３】乾燥後、層重量は１．０ｇ／ｍ2であっ
た。この放射線−感受性層に水溶性カバー層を適用し
た。この目的のために、以下のコーティング溶液を用い
た：７．００ｐｂｗの、１２％のアセテート基を含有す
るポリビニルアルコール、０．０１ｐｂｗの、８つのエ
チレンオキシド単位を有する脂肪族アルコールエトキシ
レート、１００．００ｐｂｗまでの水。
た。この放射線−感受性層に水溶性カバー層を適用し
た。この目的のために、以下のコーティング溶液を用い
た：７．００ｐｂｗの、１２％のアセテート基を含有す
るポリビニルアルコール、０．０１ｐｂｗの、８つのエ
チレンオキシド単位を有する脂肪族アルコールエトキシ
レート、１００．００ｐｂｗまでの水。
【００４４】乾燥後のカバー層の重量は２．０ｇ／ｍ2
であった。 Ｔ１ ９．７０ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２
４０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧ
ＰＣによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するク
レゾール−ホルムアルデヒドノボラック、０．８０ｐｂ
ｗの、４０００〜６０００のＭw及び２１００〜３１０
０のＭnを有するポリ（４−ヒドロキシスチレン）（Ｍ
ａｒｕｚｅｎ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，
Ｌｔｄ．からのRＭａｒｕｋａ Ｌｙｎｃｕｒ Ｍ、等
級Ｓ２）、８．００ｐｂｗの５．００ｐｂｗのカーボン
ブラック（Ｄｅｇｕｓｓａ ＡＧからのスペシャル・ブ
ラック（ｓｐｅｃｉａｌ ｂｌａｃｋ））、６６．００
ｐｂｗの上記のノボラック（γ−ブチロラクトン中で３
０％濃度）、２８．９９ｐｂｗのγ−ブチロラクトン及
び０．０１ｐｂｗのシリコーン消泡剤（Ａｇｆａ−Ｇｅ
ｖａｅｒｔ ＡＧからのＲＣ３１）を含むカーボンブラ
ック分散液、４０．００ｐｂｗのプロピレングリコール
モノメチルエーテル、３１．００ｐｂｗのアセトンなら
びに１０．５０ｐｂｗのγ−ブチロラクトン。 Ｔ２：９．００ｐｂｗの、乳化重合により製造される２
μｍの平均粒度を有するポリスチレンラテックス（水中
で２５％濃度） ２７．１０ｐｂｗのアニオン性シアニン染料、２−［２
−（２−クロロ−３−｛２−［１，１−ジメチル−３−
（２−スルホエチル）−１，３−ジヒドロベンゾ［ｅ］
インドール−２−イリデン］エチリデン｝シクロヘキセ
−１−エニル）ビニル］−（１，１−ジメチル−１Ｈ−
ベンゾ［ｅ］インドリウム−３−イル］エタンスルホネ
ート（トリエチルアンモニウム塩）、ＥＰ−Ａ ９０８
３０５中の式（Ｉ）を参照されたい ２７．００ｐｂｗの、５０００，０００の平均分子量
（ＰＭＭＡ標準を用いてＤＭＡＣ中におけるＧＰＣによ
り決定される）を有するポリアクリル酸０．５０ｐｂｗ
のフルオロ界面活性剤（Ｄａｉｎｉｐｐｏｎ Ｉｎｋ
＆ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのRＭｅｇａＦａｃ Ｆ−１
７７） １００ｐｂｗまでの脱イオン水を２ｇ／ｍ2の層を得る
ようなやり方で適用した。 Ａ１ 最初に、２．３ｍｇの銀核（コロイド銀から調
製）を含む核層を形成した。結合剤（プルラン）及び着
色顔料（RＬｅｖａｎｙｌ Ｒｅｄ分散液）の混合物を
含む中間層をこの核層に適用した。中間層は０．１ｇ／
ｍ2のプルラン及び０．２ｇ／ｍ2のＬｅｖａｎｙｌ Ｒ
ｅｄ分散液を含んだ。
であった。 Ｔ１ ９．７０ｐｂｗの、ＤＩＮ ５３７８３／５３２
４０に従って４２０のヒドロキシル価及び６０００のＧ
ＰＣによる平均分子量（ポリスチレン標準）を有するク
レゾール−ホルムアルデヒドノボラック、０．８０ｐｂ
ｗの、４０００〜６０００のＭw及び２１００〜３１０
０のＭnを有するポリ（４−ヒドロキシスチレン）（Ｍ
ａｒｕｚｅｎ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，
Ｌｔｄ．からのRＭａｒｕｋａ Ｌｙｎｃｕｒ Ｍ、等
級Ｓ２）、８．００ｐｂｗの５．００ｐｂｗのカーボン
ブラック（Ｄｅｇｕｓｓａ ＡＧからのスペシャル・ブ
ラック（ｓｐｅｃｉａｌ ｂｌａｃｋ））、６６．００
ｐｂｗの上記のノボラック（γ−ブチロラクトン中で３
０％濃度）、２８．９９ｐｂｗのγ−ブチロラクトン及
び０．０１ｐｂｗのシリコーン消泡剤（Ａｇｆａ−Ｇｅ
ｖａｅｒｔ ＡＧからのＲＣ３１）を含むカーボンブラ
ック分散液、４０．００ｐｂｗのプロピレングリコール
モノメチルエーテル、３１．００ｐｂｗのアセトンなら
びに１０．５０ｐｂｗのγ−ブチロラクトン。 Ｔ２：９．００ｐｂｗの、乳化重合により製造される２
μｍの平均粒度を有するポリスチレンラテックス（水中
で２５％濃度） ２７．１０ｐｂｗのアニオン性シアニン染料、２−［２
−（２−クロロ−３−｛２−［１，１−ジメチル−３−
（２−スルホエチル）−１，３−ジヒドロベンゾ［ｅ］
インドール−２−イリデン］エチリデン｝シクロヘキセ
−１−エニル）ビニル］−（１，１−ジメチル−１Ｈ−
ベンゾ［ｅ］インドリウム−３−イル］エタンスルホネ
ート（トリエチルアンモニウム塩）、ＥＰ−Ａ ９０８
３０５中の式（Ｉ）を参照されたい ２７．００ｐｂｗの、５０００，０００の平均分子量
（ＰＭＭＡ標準を用いてＤＭＡＣ中におけるＧＰＣによ
り決定される）を有するポリアクリル酸０．５０ｐｂｗ
のフルオロ界面活性剤（Ｄａｉｎｉｐｐｏｎ Ｉｎｋ
＆ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのRＭｅｇａＦａｃ Ｆ−１
７７） １００ｐｂｗまでの脱イオン水を２ｇ／ｍ2の層を得る
ようなやり方で適用した。 Ａ１ 最初に、２．３ｍｇの銀核（コロイド銀から調
製）を含む核層を形成した。結合剤（プルラン）及び着
色顔料（RＬｅｖａｎｙｌ Ｒｅｄ分散液）の混合物を
含む中間層をこの核層に適用した。中間層は０．１ｇ／
ｍ2のプルラン及び０．２ｇ／ｍ2のＬｅｖａｎｙｌ Ｒ
ｅｄ分散液を含んだ。
【００４５】次いで中間層に非硬膜ネガティブ−作用性
カドミウム−非含有ゼラチン／塩化ヨウ化銀乳剤（重量
比 ９９．７５：０．２５）を適用した。この層はさら
にＡｇＸのモル当たり１ミリモルの４−ヒドロキシ−６
−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン及び
２．２ミリモルの１−［３−（２−スルホベンゾイルア
ミノ）フェニル］−５−メルカプトテトラゾールを含ん
だ。ハロゲン化銀は２．４ｇ／ｍ2の硝酸銀に対応する
量で適用された。ゼラチンは１．６ｇ／ｍ2の量で適用
された。ゼラチンは２種類の型を含み、その１つは２１
ｍＰａ・ｓの粘度を有し（０．７ｇ／ｍ2）、他は１４
ｍＰａ・ｓの粘度を有した（０．９ｇ／ｍ2）。
カドミウム−非含有ゼラチン／塩化ヨウ化銀乳剤（重量
比 ９９．７５：０．２５）を適用した。この層はさら
にＡｇＸのモル当たり１ミリモルの４−ヒドロキシ−６
−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン及び
２．２ミリモルの１−［３−（２−スルホベンゾイルア
ミノ）フェニル］−５−メルカプトテトラゾールを含ん
だ。ハロゲン化銀は２．４ｇ／ｍ2の硝酸銀に対応する
量で適用された。ゼラチンは１．６ｇ／ｍ2の量で適用
された。ゼラチンは２種類の型を含み、その１つは２１
ｍＰａ・ｓの粘度を有し（０．７ｇ／ｍ2）、他は１４
ｍＰａ・ｓの粘度を有した（０．９ｇ／ｍ2）。
【００４６】最後に、１０〜１２ｍＰａ・ｓの粘度を有
する０．７ｇ／ｍ2のゼラチン、０．１ｇ／ｍ2のＬｅｖ
ａｎｙｌ Ｒｅｄ分散液及び７．５μｍの粒径を有する
０．１２ｇ／ｍ2の艶消剤を含むカバー層をハロゲン化
銀乳剤層に適用した。 Ｅ１ ６．５０ｐｂｗの、１００，０００の平均分子量
Ｍwを有するスチレン−ＭＡコポリマー（スチレン／Ｍ
Ａ＝１．４）、４．００ｐｂｗの２，５−ビス（４−ジ
エチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾー
ル、４５．００ｐｂｗのアセトン中の０．０２ｐｂｗの
ローダミン ＦＢ（Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ ＦＢ）（Ｃ．
Ｉ． ４５１７０）及び０．０２ｐｂｗのアクリフラビ
ンならびに４５．００ｐｂｗのγ−ブチロラクトン。
する０．７ｇ／ｍ2のゼラチン、０．１ｇ／ｍ2のＬｅｖ
ａｎｙｌ Ｒｅｄ分散液及び７．５μｍの粒径を有する
０．１２ｇ／ｍ2の艶消剤を含むカバー層をハロゲン化
銀乳剤層に適用した。 Ｅ１ ６．５０ｐｂｗの、１００，０００の平均分子量
Ｍwを有するスチレン−ＭＡコポリマー（スチレン／Ｍ
Ａ＝１．４）、４．００ｐｂｗの２，５−ビス（４−ジ
エチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾー
ル、４５．００ｐｂｗのアセトン中の０．０２ｐｂｗの
ローダミン ＦＢ（Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ ＦＢ）（Ｃ．
Ｉ． ４５１７０）及び０．０２ｐｂｗのアクリフラビ
ンならびに４５．００ｐｂｗのγ−ブチロラクトン。
【００４７】実施例のいずれも背面コーティングのない
版からの複写において技術的差を示さなかった。背面コ
ーティングのない変法の欠点は先行技術において十分に
説明されているので、比較のために背面コーティングな
しの実施例を記録することはしなかった。 試験１：比較的高い重量の影響下における保存の後の外
観（条件：５０℃及び５０％相対大気湿度において２週
間、５０ｋｇの加重を追加して、６００ｘ８００ｍｍの
版を１００個含むスタック） −− ＝ 粘着の故に大−面積の層が剥離 − ＝ 部分的層が剥離 ０ ＝ 版の１０％より多くにおける初期の粘着のた
めのピンホールあるいは拡散プロセスの故の視覚的外観
の変化 ＋ ＝ 実質的層保持 ＋＋ ＝ 実質的に層剥離なし−傷の率は３％未満。 試験２：保存の後の商業的に入手可能な自動処理プラン
トのグリッハーを用いるスタックの持ち上げ。５００個
の版中の、持ち上げる際に傷が起こるパーセンテージを
評価した： −− ＝ 版の１０％より多くにおいて傷 − ＝ １０％までにおいて傷 ０ ＝ ５％までにおいて傷 ＋ ＝ ３％までにおいて傷 ＋＋ ＝ 傷なし 試験結果を下記の表において示す。
版からの複写において技術的差を示さなかった。背面コ
ーティングのない変法の欠点は先行技術において十分に
説明されているので、比較のために背面コーティングな
しの実施例を記録することはしなかった。 試験１：比較的高い重量の影響下における保存の後の外
観（条件：５０℃及び５０％相対大気湿度において２週
間、５０ｋｇの加重を追加して、６００ｘ８００ｍｍの
版を１００個含むスタック） −− ＝ 粘着の故に大−面積の層が剥離 − ＝ 部分的層が剥離 ０ ＝ 版の１０％より多くにおける初期の粘着のた
めのピンホールあるいは拡散プロセスの故の視覚的外観
の変化 ＋ ＝ 実質的層保持 ＋＋ ＝ 実質的に層剥離なし−傷の率は３％未満。 試験２：保存の後の商業的に入手可能な自動処理プラン
トのグリッハーを用いるスタックの持ち上げ。５００個
の版中の、持ち上げる際に傷が起こるパーセンテージを
評価した： −− ＝ 版の１０％より多くにおいて傷 − ＝ １０％までにおいて傷 ０ ＝ ５％までにおいて傷 ＋ ＝ ３％までにおいて傷 ＋＋ ＝ 傷なし 試験結果を下記の表において示す。
【００４８】
【表２】
【００４９】
【表３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/09 Ｇ０３Ｆ 7/09 (72)発明者 ギユンター・フルチユ ドイツ・デー−65187ビースバーデン・フ オルカーシユトラーセ42 (72)発明者 エンゲルベルト・プリーフケ ドイツ・デー−65187ビースバーデン・ド ルズスシユトラーセ52 Ｆターム(参考） 2H025 AB03 AC01 AD01 AD03 BA02 BC32 BC42 BE01 CA28 CA41 CB14 CB29 DA40 2H096 AA06 AA09 BA05 BA10 BA20 CA20 EA02 LA16 2H114 AA04 AA22 AA23 AA24 BA01 DA47 DA49 DA56 DA57 EA01 EA10 GA03 GA06 GA09 GA35 GA38
Claims (17)
- 【請求項１】 ウェブ−もしくはプレート−型支持体、
支持体の前面上の放射線−感受性層及び背面上の顔料粒
子−非含有連続層を有し、背面層が本質的に少なくとも
４５℃のガラス転移温度Ｔｇを有する有機ポリマー材料
から成り、その表面が５〜８００ｓのＢｅｋｋ平滑度を
有することを特徴とするオフセット印刷版の作製のため
の記録材料。 - 【請求項２】 有機ポリマー材料が熱及び／又はＵＶ線
の作用により熱的に架橋されたポリマーであることを特
徴とする請求項１に従う記録材料。 - 【請求項３】 背面層が５〜６００ｓのＢｅｋｋ平滑度
を有することを特徴とする請求項１又は２に従う記録材
料。 - 【請求項４】 背面層がその表面上に縦もしくは横の溝
から成る構造を有し、ここで互いに対するＲａ値の比率
が好ましくは少なくとも５であり、互いに対するＲｚ比
の比率が好ましくは少なくとも６であることを特徴とす
る請求項１〜３の１つもしくはそれより多くに従う記録
材料。 - 【請求項５】 背面層の構造が方向−依存性であること
を特徴とする請求項１〜３の１つもしくはそれより多く
に従う記録材料。 - 【請求項６】 支持体の前面上に位置する放射線−感受
性層がポジティブ−作用性であることを特徴とする請求
項１〜５の１つもしくはそれより多くに従う記録材料。 - 【請求項７】 支持体の前面上に位置する放射線−感受
性層がネガティブ−作用性であることを特徴とする請求
項１〜５の１つもしくはそれより多くに従う記録材料。 - 【請求項８】 支持体の前面上に位置する放射線−感受
性層がハロゲン化銀に基づいて働くことを特徴とする請
求項１〜５の１つもしくはそれより多くに従う記録材
料。 - 【請求項９】 支持体の前面上に位置する放射線−感受
性層が熱的ポジティブ−作用性又は熱的ネガティブ−作
用性であることを特徴とする請求項１〜５の１つもしく
はそれより多くに従う記録材料。 - 【請求項１０】 背面層をローラー適用により適用する
ことを特徴とする請求項１〜９の１つもしくはそれより
多くに従う記録材料の製造法。 - 【請求項１１】 ローラー適用が直接ローラー適用であ
ることを特徴とする請求項１０に従う方法。 - 【請求項１２】 ローラー適用が間接ローラー適用であ
ることを特徴とする請求項１０に従う方法。 - 【請求項１３】 彫刻ローラーを用いてローラー適用を
行うことを特徴とする請求項１０に従う方法。 - 【請求項１４】 構造化されたゴムローラーを用いてロ
ーラー適用を行うことを特徴とする請求項１０に従う方
法。 - 【請求項１５】 スロットダイシステムにより背面層を
適用することを特徴とする請求項１〜９の１つもしくは
それより多くに従う記録材料の製造法。 - 【請求項１６】 スプレー適用により背面層を適用する
ことを特徴とする請求項１〜９の１つもしくはそれより
多くに従う記録材料の製造法。 - 【請求項１７】 室温（２３℃）において８０〜１００
０ｍＰａ・ｓ、好ましくは１００〜６００ｍＰａ・ｓの
粘度を有するラッカーから背面層を形成することを特徴
とする請求項１０〜１６の１つもしくはそれより多くに
従う方法。
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP2002254843A true JP2002254843A (ja) | 2002-09-11 |
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| JP2003287878A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版及び平版印刷版原版積層体 |
| JP2006062322A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、及び製版方法 |
| JP4611185B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2011-01-12 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線感光性平版印刷版原版 |
| JP2007272143A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版およびその積層体 |
| DE602007000242D1 (de) † | 2006-05-25 | 2008-12-24 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer und Stapel daraus |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US3635709A (en) | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
| JPS5124307A (ja) * | 1974-07-24 | 1976-02-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Kankoseiinsatsubanno seizoho |
| EP0087176B1 (en) | 1982-02-19 | 1987-07-01 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for the preparation of a planographic printing plate |
| JPH0240657A (ja) | 1988-07-30 | 1990-02-09 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
| EP0410500B1 (en) | 1989-07-25 | 1995-10-25 | Agfa-Gevaert N.V. | Lithographic aluminium offset printing plate made according to the DTR-process |
| EP0423399B1 (en) | 1989-10-20 | 1995-05-03 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for preparing planographic printing plate |
| US5480762A (en) | 1990-11-28 | 1996-01-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing lithographic printing plate |
| DE69220433T2 (de) * | 1991-08-19 | 1997-10-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Vorsensibilisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
| JPH06202312A (ja) | 1993-01-04 | 1994-07-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| DE4444669A1 (de) | 1994-12-15 | 1996-06-20 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch |
| JP3637138B2 (ja) | 1996-03-27 | 2005-04-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性平版印刷原版 |
| DE69705350T3 (de) * | 1996-04-26 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Verfahren zur Herstellung eines photothermographischen Materiales |
| JP3626305B2 (ja) | 1996-12-25 | 2005-03-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 熱現像感光材料 |
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| DE19739302A1 (de) | 1997-09-08 | 1999-03-11 | Agfa Gevaert Ag | Positiv arbeitendes IR-sensitives Gemisch, damit hergestelltes thermisch bebilderbares Aufzeichnungsmaterial sowie Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck |
| EP0908305B2 (en) | 1997-10-08 | 2006-07-19 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| DE19908529A1 (de) | 1999-02-26 | 2000-08-31 | Agfa Gevaert Ag | Pigmentiertes und rückseitenbeschichtetes Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Offsetdruckplatten |
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-
2001
- 2001-11-23 DE DE60144008T patent/DE60144008D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-11-23 EP EP01000659A patent/EP1217447B1/en not_active Expired - Lifetime
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