JP2002221785A

JP2002221785A - 平版印刷版用原版

Info

Publication number: JP2002221785A
Application number: JP2001018889A
Authority: JP
Inventors: Sumiaki Yamazaki; 純明山崎; Koichi Kawamura; 浩一川村
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-01-26
Filing date: 2001-01-26
Publication date: 2002-08-09

Abstract

(57)【要約】【課題】親水性層の膜強度が低下することなく、高い
親水性を有し、特に印刷汚れ性が改善され、厳しい印刷
条件においても、汚れが生じない印刷物が得られる、ボ
ジ型またはネガ型の平版印刷版用基板を提供する。【解決手段】支持体上に、親水性ポリマーが化学的に
表面に結合した固体粒子を含有する親水性層を有するこ
とを特徴とする平版印刷版用基板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規な親水性層を有
する平版印刷版用基板に関し、特に、平版印刷版用原版
として用いたときに、膜強度が低下することなく、高い
親水性を有することができる平版印刷版用基板に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、平版印刷版に用いる親水性基板又
は親水性層としては、陽極酸化されたアルミ基板、若し
くはさらに親水性を上げるためにこの陽極酸化されたア
ルミ基板をシリケート、ポリビニルホスホン酸（特開平
７−１８５３号）、ポリビニル安息香酸などの下塗り剤
で処理された基板又は親水性層が用いられてきた。これ
らアルミ支持体を用いた親水化基板若しくは親水性層に
関する研究が盛んに行われている。また、特開昭５９−
１０１６５１号には、感光層の下塗り層としてスルホン
酸基を有するポリマーを使用する技術が記載されてい
る。

【０００３】一方、アルミニウムの様な金属支持体を用
いずＰＥＴ（ポリエチレンフタレート）、セルロースア
セテートなどのフレキシブルな支持体を用いたときの親
水性層に関しては、特開平８−２９２５５８号に記載の
親水性ポリマーと疎水性ポリマーとからなる膨潤親水
層、ＥＰ０７０９２２８号に記載のマイクロポーラスな
親水性架橋シリケート表面を有するＰＥＴ支持体、特開
平８−２７２０８７号、及び特開平８−５０７７２７号
に記載の親水性ポリマーを含有し加水分解されたテトラ
アルキルオルソシリケートで硬化された親水性層、等の
技術が知られている。

【０００４】これらの親水性層を設けることによって、
印刷開始時に汚れの生じ難い良好な印刷物が得られる平
版印刷版を与えたが、より実用的な観点からさらなる親
水性層の親水性がより高く、より厳しい印刷条件におい
ても、親水性層が支持体から剥離しなく、汚れの生じな
い印刷物が得られる平版印刷版用原版が望まれていた。
すなわち、従来から親水性層の親水性を上げるためには
親水層中の保水量を高めれば良いことが分かっている。
しかし、従来の親水性層では保水量を高めようとする
と、膜の膨潤性が大きくなり膜の構造が弱くなり膜強度
が低下する、もしくは支持体と親水性層との密着性が悪
くなることが問題であった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、前記従来における諸問題を解決することであり、す
なわち、親水性層の膜強度が低下することなく、高い親
水性を有し、特に印刷汚れ性が改善され、厳しい印刷条
件においても、汚れが生じない印刷物が得られる、ボジ
型またはネガ型の平版印刷版用基板を提供することであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく鋭意検討した結果、親水性ポリマーで表
面修飾された固体粒子を含有する親水性層を支持体上に
設けることにより、膜強度の低下することなく高い親水
性を有する平版印刷版用基板が得られることを見出し、
本発明を完成するに至ったものである。

【０００７】すなわち、本発明は以下の通りである。（１）支持体上に、親水性ポリマーが化学的に表面に結
合した固体粒子を含有する親水性層を有することを特徴
とする平版印刷版用基板。（２）支持体と親水性層との間に下塗り層を有すること
を特徴とする上記（１）記載の平版印刷版用基板。

【０００８】本発明者らは上記のように非常に高い親水
性を発現する技術として、支持体上に、親水性ポリマー
が化学的に表面結合した固体粒子を含有する親水性層を
設けることにより、上記問題を解決した。すなわち、支
持体上に固体粒子が密に分散し、凹凸表面を形成すると
同時に、粒子表面には親水性ポリマーが修飾されている
ので、水が入り込みやすく、保水量が飛躍的に向上し、
優れた親水性が得られる。また、これらの親水性層中の
親水性ポリマーは架橋されていないので、水で膨潤しに
くく、膜強度が低下することなく、優れた親水性を有す
ることができる。このようにして、従来の技術ではトレ
ードオフの関係にあった保水性と密着性の関係を解決す
ることにより本発明の効果が発揮されたものと考えられ
る。

【０００９】この基板上に、感光性または感熱性の画像
形成層を設けることができる。この画像形成層は、ポジ
作用感応性組成物またはネガ作用感応性組成物を含有す
る。

【００１０】また、本発明の平版印刷版用基板は、上記
支持体と親水性層との間に下塗り層を設けることが好ま
しい。これにより、支持体と親水性層との密着性を向上
することができる。さらに本発明の平版印刷版用基板は
支持体表面（固体表面）が粗面化されていることが好ま
しい。固体表面に凹凸を付与することにより、非画像部
領域の親水性が高く、疎水性／親水性のディスクリミネ
ーションの程度が増強され、印刷時の汚れ性が更に向上
する。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に説明
する。

【００１２】〔平版印刷版用基板〕まず、本発明の平版
印刷版用基板の特徴である、支持体上に設けられる親水
性層について説明する。本発明の親水層は、親水性ポリ
マーが化学的に表面に結合した固体粒子を含有する。本
明細書では、固体粒子の表面に親水性ポリマーが化学的
に結合することを、表面修飾とも言う。

【００１３】親水性ポリマーが結合する固体粒子として
は、無機粒子が好ましく、例えば酸化亜鉛、二酸化チタ
ン、酸化鉄、ジルコニアなどの金属酸化物；無水ケイ
酸、含水ケイ酸カルシウム及び含水ケイ酸アルミニウム
などの、それ自体は可視域に吸収を持たないケイ素含有
酸化物（ホワイトカーボンとも呼ばれる）;クレー、タ
ルク、カオリン、ふっ石などの粘土鉱物粒子等が使用で
きる。無機粒子の平均粒径は１０μｍ以下であることが
好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜５μｍ、更に好まし
くは１０ｎｍ〜５μｍである。この範囲内において、以
下に述べる光架橋性粒子の製造段階において、安定に製
造することが可能であるとともに、支持体との良好な接
着性が保て、また、表面付近の粒子も良好に保持され
る。

【００１４】親水性と膜強度、更に親水性ポリマーによ
る表面修飾の容易性の観点から、上記無機粒子のうち特
にケイ素含有酸化物が好ましい。具体的には、日産化学
工業（株）製スノーテックスＺＬ（粒径７０〜１００ｎ
ｍシリカ４０％コロイド水溶液）、富士シリシア化学
（株）製サイリシア３５０（粒径３．５μｍ）、日本ア
エロジル（株）製ＡＥＲＯＳＩＬ１３０（粒径１６０ｎ
ｍシリカ）、日本アエロジル（株）製ＡＥＲＯＳＩＬ２
００（粒径１６ｎｍシリカ）、水澤化学工業（株）製ミ
ズカシルＰ−５２７Ｕ（粒径６０ｎｍシリカ）等が挙げ
られる。

【００１５】本発明では、上記固体粒子表面に、親水性
ポリマーが化学的に結合している。用いる親水性ポリマ
ー及び固体粒子との結合状態は特に限定されない。下記
（イ）で示すような形態が一般的であるが、本発明で
は、下記（ロ）で示すような親水性ポリマー鎖の末端が
固体粒子表面に直接的に化学結合したグラフト型形態が
好ましい。

【００１６】

【化１】

【００１７】グラフト型形態（ロ）の場合には、親水性
ポリマーはグラフト的に固体粒子表面に結合しており、
水を大きく吸収し保水性を高めることができ、この結
果、高い親水性を示す。更に、親水性ポリマーを表面修
飾するに際して固体粒子上に存在する反応性基Ｙ（例え
ばＯＨ基）が、粒子表面に残存するので、架橋剤を添加
して固体粒子同士を相互に架橋させることができ、これ
により、親水性層は、優れた高い膜強度を維持したまま
高い親水性を示すことができる。

【００１８】用いることができる親水性ポリマーは、特
に限定されない。親水性ポリマーが有する親水性官能基
としては、カルボン酸基、スルホン酸基、スルフィン酸
基、ホスホン酸基、アミノ基、及びその塩、アミド基、
水酸基、エーテル基、ポリオキシエチレン基などを挙げ
ることができる。

【００１９】親水性ポリマーによる表面修飾は、従来か
ら公知の方法を適宜応用することによって製造すること
ができる。例えば、ポリマー主鎖末端にシランカップリ
ング基を有する親水牲ポリマーを用いてゾルゲル反応に
よりシリカ粒子表面に親水性ポリマーを容易に導入する
ことができる。ポリマー主鎖末端にシランカップリング
基を有する親水性ポリマーとしては、下記一般式（Ｉ）
で表されるポリマーが挙げられる。

【００２０】

【化２】

【００２１】式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれ
ぞれ水素原子または炭素数８以下の炭化水素基を表し、
ｋは０、１又は２を表し、ｎは１〜８の整数を表す。Ｙ
は−ＮＨＣＯＣＨ₃、−ＣＯＮＨ₂、−ＣＯＮ（Ｃ
Ｈ₃)₂、−ＣＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₃、−ＯＨ、−ＣＯ₂Ｍ又
は−ＣＯＮＨＣ（ＣＨ₃)₂ＳＯ₃Ｍを表し、Ｍは水素原
子、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びオニウムから
なる群から選択されるいずれかを表す。具体例としては
以下の親水性ポリマーを挙げることができる。

【００２２】

【化３】

【００２３】親水性ポリマーにより表面修飾する他の方
法としては、シリカ表面を重合開始能を有するシランカ
ップリング剤で処理し、その後、親水性モノマーをグラ
フト重合反応させる方法が挙げられ、これにより親水性
ポリマーにより修飾された表面修飾粒子を得ることがで
きる。

【００２４】用いることができる親水性モノマーとして
は、以下のモノマーを挙げることができる。例えば、
（メタ）アクリル酸もしくはそのアルカリ金属塩及びア
ミン塩、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−モノメチロール（メタ）
アクリルアミド、Ｎ−ジメチロール（メタ）アクリルア
ミド、アリルアミンもしくはそのハロゲン化水素酸塩、
３−ビニルプロピオン酸もしくはそのアルカリ金属塩及
びアミン塩、ビニルスルホン酸もしくはそのアルカリ金
属塩及びアミン塩、２−スルホエチレン（メタ）アクリ
レート、３−スルホプロピレン（メタ）アクリレートも
しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、ポリオキシエ
チレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸もしくはそ
のアルカリ金属塩及びアミン塩、アシッドホスホオキシ
ポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト、アリルアミンもしくはそのハロゲン化水素酸塩等
の、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸、アミノ基
もしくはそれらの塩、２−トリメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレートもしくはそのハロゲン化水素酸塩等
の、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸、アミノ基
もしくはそれらの塩、等を使用することができる。

【００２５】上記の表面修飾する方法について、具体的
には、鈴木昇、湯沢信子、遠藤敦、宇津木弘「色材」5
7, 429(1984)、吉岡博、池野正行「表面」21、33(198
3)、字津木弘「表面」16, 525,(1978)、K. Tanaka, et
al., Bull.Chem. Soc. Jpn., 53, 1242 (1980)、M.L. H
air, W. Hertl. J. Phys. Chem. 77、1965 (1973)、Ya.
Davydov et Al., Chromatographia, 14, 13 (1981)、K.
Unger et al., ColloidPolym. Sci, 252, 317 (1974)、
R. Burwell, O. Lea1, J.Chem. Soc. Chem. Commun., 3
42 (1974)、W. Stoeber, Kolloid-Z 149, 39(1956)、K.
Yoshinaga, et.al., Polym. Adv. Technol, 3,91(199
2)、N. Tsubokawa, et al., Polym. J. 21、475(198
9)、Franz.Pat.1368765DAS 1163784等の総説及びそれに
引例の文献、特許等の記載の方法に従って合成すること
ができる。

【００２６】また、用いることができる架橋剤として
は、下記一般式（II）で表される加水分解重合性化合物
を挙げることができる。

【００２７】

【化４】

【００２８】式（II）中、Ｒ⁵およびＲ⁶は同一であって
も異なっていてもよく、アルキル基又はアリール基を表
し、ＸはＳｉ、Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｍは０〜
２の整数を表す。Ｒ⁵またはＲ⁶がアルキル基を表す場合
の炭素数は好ましくは１から４である。またアルキル基
またはアリール基は置換基を有してもよい。尚、この化
合物は低分子化合物であり、分子量１０００以下である
ことが好ましい。

【００２９】加水分解重合性化合物中にアルミニウムを
含むものとしては、例えば、トリメトキシアルミネー
ト、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミ
ネート、テトラエトキシアルミネート等を挙げることが
できる。チタンを含むものとしては、例えば、トリメト
キシチタネート、テトラメトキシチタネート、トリエト
キシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプ
ロポキシチタネート、クロロトリメトキシチタネート、
クロロトリエトキシチタネート、エチルトリメトキシチ
タネート、メチルトリエトキシチタネート、エチルトリ
エトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネート、
フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエトキ
シチタネート等を挙げることができる。ジルコニウムを
含むものとしては、例えば、前記チタンを含むものに対
応するジルコネートを挙げることができる。

【００３０】加水分解重合性化合物中にケイ素を含むも
のとしては、例えば、トリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、
メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラ
ン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエ
トキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポ
キシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル
ジエトキシシラン等を挙げることができる。これらの内
特に好ましいものとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、シフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン等を挙げることができる。

【００３１】本発明の表面修飾粒子と一般式（II）で表
される化合物は、一種のみ使用しても２種以上を併用し
てもよい。また、一般式（II）の化合物は、部分的に加
水分解後、脱水縮合していてもよい。基板に塗布する前
の画像形成材料の溶液の状態における保存安定性を高め
るために、一般式（II）で表される加水分解重合性有機
金属化合物が部分加水分解重合した無機重合体の活性金
属水酸基、例えば、シラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を保護
することが有効である。シラノール基の保護は、ｔ−ブ
タノール、ｉ−プロピルアルコール等の高級アルコール
でシラノール基をエーテル化（Ｓｉ−ＯＲ）することに
より達成することができる（ここでＲは、単に何らかの
基であることを意味し、特定の基を表すものではな
い）。具体的には、シリカ微粒子が分散した無機相に前
記高級アルコールを添加することにより実施することが
できる。このとき無機相の性質により、例えば、無機相
を加熱して脱離した水を留去する等の手段により無機相
を脱水することにより保存安定性をさらに向上させるこ
とができる。該加水分解重合の触媒となりうる酸、また
は塩基、例えば塩酸、アンモニア等が無機相中に存在す
る場合には、これらの濃度を下げることも一般的に有効
である。これらは、無機相を酸、または塩基により中和
することにより容易に実施することかできる。

【００３２】本発明において、表面修飾粒子が一般式
（II）で表される架橋剤によって架橋された表面修飾粒
子と架橋剤の複合体は平版印刷版用基板の親水層全固形
分に対し２〜９０重量％、好ましくは５〜８０重量％、
特に好ましくは１０〜５０重量％の量で親水層中に含有
させる。粒子の含有量が２重量％を下回ると保水性が不
十分となり、地汚れが生じやすくなる。５０重量％を上
回ると親水層の強度が低下して耐刷性が低下し、また、
支持体と親水層との接着性が低下する。

【００３３】〔表面修飾粒子−架橋剤複合体形成法〕本
発明における表面修飾粒子−架橋剤からなる有機無機複
合体は、加水分解重合して調製され、その方法は公知の
いかなる方法でもよく、例えば、「ゾル−ゲル法の科
学」（アグネ承風社）記載の方法を用いることができ
る。好ましい例として、本発明の表面修飾粒子と架橋剤
（例えば一般式（II）の化合物）が分散されたアルコー
ル溶液、好ましくはメタノールまたはエタノール溶液に
触媒として酸（リン酸、塩酸、硫酸、酢酸）特に好まし
くはリン酸、塩酸、または、アルカリ（アンモニア水）
を添加して、出発溶液を調製する。次に、０〜１００°
Ｃ、好ましくは１０〜８０°Ｃで還流下で５分〜６時間
特に好ましくは１０分〜２時間攪拌し、加水分解重合さ
せて表面修飾粒子−架橋剤からなる有機無機複合体を形
成させることができる。

【００３４】本発明の親水層は、通常上記各成分を溶媒
に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより製造
することができる。ここで使用する溶媒としては特に限
定されるものではなく、例えば、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、
２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができ
る。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、
好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、乾燥後に
得られる支持体上の塗布量（固形分）は、一般的に０．
５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。塗布する方法として
は、種々の方法を用いることができるが、例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。

【００３５】本発明の親水性層の膜厚は、好ましくは
０．００１g/m²〜１０g/m²、より好ましくは０．０１g/
m²〜５g/ m²である。この範囲内において、本発明の親
水性の効果が良好に発揮し得るとともに、支持体との密
着性も良好であり、十分な耐刷性が得られる。

【００３６】本発明に使用される支持体としては、特に
制限はないが、寸度的に安定な板状物であり、例えば、
紙、プラスチック（例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）
がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウ
ム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二
酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セ
ルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラ
ミネート若しくは蒸着された、紙若しくはプラスチック
フィルム等が挙げられる。本発明の支持体としては、ポ
リエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、そ
の中でも、前記支持体表面を兼ねることができるポリエ
ステルフィルムが特に好ましい。

【００３７】本発明に使用される好適なアルミニウム板
は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、
微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムが
ラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムで
もよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ
素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、
ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元
素の含有量は高々１０重量％以下である。本発明におい
て特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムである
が、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難
であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。こ
のように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組
成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材
のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発
明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍ
ｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４
ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．８ｍｍである。

【００３８】本発明では、前記のように支持体表面が粗
面化されていることが好ましい。本発明で用いられる支
持体表面（固体表面）の凹凸について説明する。

【００３９】（表面凹凸の規定）２次元粗さパラメータ
の中心線平均粗さＲ_aが０．１〜１μｍ、最大高さＲｙ
が１〜１０μｍ、十点平均粗さＲｚが１〜１０μｍ、凹
凸の平均間隔Ｓ_mが５〜８０μｍ、局部山頂の平均間隔
Ｓが５〜８０μｍ、最大高さＲｔが１〜１０μｍ、中心
線山高さＲ_pが１〜１０μｍ、中心線谷深さＲ_vが１〜１
０μｍである。上記２次元粗さパラメータは以下の定義
に基づくものである。

【００４０】〔中心線平均粗さＲ_a〕粗さ曲線から中心
線の方向に測定長さＬの部分を抜き取り、この抜き取り
の中心線と粗さ曲線との偏差の絶対値を算術平均した
値。〔最大高さＲ_Y〕粗さ曲線からその平均線の方向に基準
長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の山頂線と谷底線
の間隔を、粗さ曲線の縦倍率の方向に測定した値。

【００４１】〔十点平均粗さ〕粗さ曲線からその平均値
の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の平
均線から縦倍率の方向に測定した、最も高い山頂から５
番目までの山頂の標高（Ｙ_P）の絶対値の平均値と、最
も低い谷底から５番目までの谷底の標高（Ｙ_v）の絶対
値の平均値との和をマイクロメートル（μｍ）で表した
値。

【００４２】〔凹凸の平均間隔Ｓ_m〕粗さ曲線からその
平均線の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部
分において一つの山及びそれに隣り合う一つの谷に対応
する平均線の和を求め、この多数の凹凸の間隔の算術平
均値をミリメートル（ｍｍ）で表した値。〔局部山頂の平均間隔Ｓ〕粗さ曲線からその平均線の方
向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分において
隣り合う局部山頂間に対応する平均線の長さを求め、こ
の多数の局部山頂の間隔の算術平均値をミリメートル
（ｍｍ）で表した値。

【００４３】〔最大高さＲ_t〕粗さ曲線から基準長さだ
け抜き取った部分の中心線に平行な２直線で抜き取り部
分を挟んだときの２直線の間隔の値。〔中心線高さＲ_P〕粗さ曲線からその中心線方向に測定
長さＬを抜き取り、この抜き取り部分の中心線に平行で
最高の山頂を通る直線との間隔の値。〔中心線谷深さＲ_V〕粗さ曲線からその中心線方向に測
定長さＬの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線
に平行で最深の谷底を通る直線との間隔の値。

【００４４】（凹凸作成法の種類）固体表面に粗面を設
けるためには、様々な手段を採用することができる。例
えば、固体表面の表面をサンドブラスト加工やブラシ加
工などで機械的にこすり、表面を削って凹部を形成し、
粗面を設けることができる。また、機械的エンボス加工
でも凹凸を設けることができる。さらに、グラビア印刷
などで表面に凸部を形成して粗面を設けてもよい。固体
微粒子（マット剤）を含有する層を、塗布あるいは印刷
のような手段で固体表面の表面に形成して粗面を設けて
もよい。固体微粒子は、高分子フィルムを作成する段階
で高分子フィルム中に含有させ（内添し）、高分子フィ
ルム表面に凹凸を形成することもできる。さらに、溶剤
処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処
理、Ｘ線照射処理等を用いて粗面を形成することもでき
る。以上の手段を組み合わせて実施してもよい。サンド
ブラスト加工もしくは樹脂の印刷により粗面を形成する
手段もしくは固体微粒子を添加して凹凸を形成する手段
が、特に好ましく実施できる。

【００４５】（固体微粒子法）上記固体微粒子として
は、金属微粒子、金属酸化物微粒子、有機または無機の
高分子または低分子微粒子などの様々な種類の物質を利
用できる。微粒子の具体例としては、銅粉、スズ粉、鉄
粉、酸化亜鉛粉、酸化珪素粉、酸化チタン粉、酸化アル
ミニウム粉、二硫化モリブデン粉、炭酸カルシウム粉、
クレー、マイカ、コーンスターチ、窒化ホウ素、シリコ
ーン樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、フッ素樹脂粒
子、アクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、アクリ
ロニトリル共重合体樹脂粒子、ステアリン酸亜鉛および
ベヘン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子の平
均粒子径は、0.05μｍ以上であることが好ましく、0.1
μｍ以上であることがさらに好ましい。微粒子をシート
表面に付着させる、あるいは微粒子含有層をシート表面
に設ける場合、微粒子の平均粒子径は粗面の凹凸の大き
さとほぼ対応する。微粒子をシート中に内添する場合、
粗面の凹凸の大きさは微粒子の平均粒子径とシートの厚
さにより決定される。従って、後者の場合は最適な凹凸
の大きさを得るため、シートと微粒子の組み合わせによ
り実験的に最適な粒子径を決定する必要がある。

【００４６】支持体表面に固体微粒子を固定して凹凸を
形成する方法の具体例としては、フィルム形成の前に固
体微粒子を添加しフィルムを形成する方法、固体微粒子
をバインダーに分散させた液を塗布乾燥させる方法、フ
ィルム形成後に微小粒子を機械的圧力でフィルム中に押
し込む方法、フィルム形成後に固体微粒子を電着する方
法等が挙げられる。フィルム形成の前に固体微粒子を添
加しフィルムを形成する方法の具体的な方法としては次
のような例を挙げることができる。固体微粒子として顔
料を配合したＰＥＴマスターバッチを溶融押出し後、冷
却ドラム上に成膜し、次いで縦方向・横方向の順に延伸
し、最後に熱処理することにより、凹凸のあるＰＥＴフ
ィルムが得られる。顔料には酸化チタン、アルミナ、シ
リカのうち、1種または２種以上を配合したものを用い
ることができる。フィルムの中心線平均表面粗さは配合
する顔料の粒径と配合量で調整できる。例えば、顔料の
粒径が１〜１０μｍ程度のものを０．５〜５重量％程度
配合することにより調整でき、顔料の粒径が大きい程、
配合量が多い程中心線平均表面粗さは増大する。目的の
凹凸表面を得るためには、顔料の粒径を決定し、配合量
を調整する必要がある。

【００４７】（サンドブラスト法）サンドブラストとは
細かい粒度の研削材を高分子フィルム表面に高速投射す
ることによりフィルム表面に凹凸をつける方法である。
サンドブラスト処理は公知の方法でよく、例えばカーボ
ランダム（炭化珪素粉）、金属粒子等を圧搾空気と共に
フィルム表面に強力に吹き付け、その後水洗乾燥を経て
目的を達成することができる。サンドブラスト処理によ
るフィルムの中心線平均表面粗さの制御は、吹き付ける
粒子の粒径、処理量（面積当たりの処理頻度）により行
うことができ、粒子の粒径が大きくなる程、処理量が多
くなる程、フィルム表面の中心線平均表面粗さは大きく
なる。さらに詳しくは、サンドブラスト処理は、研削材
を圧縮空気でフィルム表面に吹き付けることにより表面
処理を行うものであり、それによって形成される凹凸
は、サンドブラスト処理の条件により調整される。

【００４８】処理条件としてはサンドブラスト吹き出し
ノズルから研削材を吹き出してフィルムに吹き付けるの
であるが、研削材の吹き出し量（ブラスト量）、サンド
ブラスト吹き出しノズルとフィルムとの角度及び間隔
（ブラスト角度、ブラスト距離）を調整する必要があ
る。そして、エアチャンバーから送り出す圧縮空気によ
ってホッパー内の研削材をサンドブラスト吹き出しノズ
ルから吹き出させてフィルム表面に吹き付けることによ
り、適正化した処理条件でサンドブラスト処理をするの
である。これらの方法は具体的にはたとえば、特開平8-
34866号公報、特開平11-90827号公報、特開平11-254590
号公報どに公知の方法として記載されている。ここで、
かかるサンドブラスト処理における処理条件は、処理後
に研削材や被研削物がフィルム表面に残らず、また、フ
ィルムの強度が低下しないような条件にする必要がある
が、かかる処理条件は経験的に適宜設定することができ
る。

【００４９】具体的には、研削材としてはけい砂その他
の研削材が用いられるが、特には粒径が０．０５〜１０
mm、更には０．１〜１mmのけい砂を用いることが好まし
い。また、ブラスト距離は１００〜３００mmとするのが
好ましく、ブラスト角度は４５〜９０度、更には４５〜
６０度とするのが好ましい。また、ブラスト量は１〜１
０kg／min とすることが好ましい。サンドブラスト処理
により、ポリイミドフィルム表面に該研削材や被研削物
が残らないようにし、更に研削深さを制御するためであ
る。なお、研削深さは０．０１〜０．１μｍにとどめる
ことが好ましく、それによりフィルムの強度が低下しな
いようにすることができる。

【００５０】本発明では、更に上記支持体と親水性層と
の間に、下塗り層を設けることが好ましい。本発明にお
いて好ましい下塗層は、親水性結合剤及びシリカを含有
する下塗層である。

【００５１】下塗層中の親水性結合剤として、通常蛋白
質、好ましくはゼラチンを使用できる。しかしながら、
ゼラチンは一部又は全面的に合成、半合成又は天然重合
体で置換できる。ゼラチンに対する合成代替物には、例
えばポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリド
ン、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール、
ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、及びそれらの誘
導体、特にそれらの共重合体がある。ゼラチンに対する
天然代替物には、例えば他の蛋白質例えばゼイン、アル
ブミン及びカゼイン、セルロース、サッカライド、澱粉
及びアルギネートがある。一般にゼラチンに対する半合
成代替物には、変性天然生成物、例えばゼラチンをアル
キル化剤又はアシル化剤で変換することにより、又はゼ
ラチンに重合性単量体をグラフトすることによって得ら
れるゼラチン誘導体、及びセルロース誘導体例えばヒド
ロキシアルキルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、フタロイルセルロース及びセルロースサルフェート
がある。

【００５２】前記下塗層中の好ましいシリカは、アニオ
ン系の二酸化ケイ素である。コロイドシリカは好ましく
は少なくとも１００ｍ²／ｇの表面積、更に好ましくは
少なくとも３００ｍ²／ｇの表面積を有する。

【００５３】コロイドシリカの表面積は、J. Amer. Che
m. Soc. ６０巻（１９３８年）の３０９〜３１２頁にS.
Brunauer ， P. H. Emmett 及びE. Teller によって発
表されたＢＥＴ値法により測定する。

【００５４】シリカ分散液は、他の物質例えばアルミニ
ウム塩、安定剤、殺菌剤等も含有できる。

【００５５】かかる種類のシリカは、KIESELSOL 100，
KIESELSOL 300 及びKIESELSOL500（KIESELSOL はドイツ
国レファークゼンの Farbenfabriken Bayer AGの登録商
標であり、数字はｍ²／ｇでの表面積を表す）の名で市
販されている。

【００５６】下塗層中でのシリカに対する親水性結合剤
の重量比は、１未満であるのが好ましい。下限はそれ程
重要ではないが、少なくとも０．２であるのが好まし
い。シリカに対する親水性結合剤の重量比は０．２５〜
０．５であるのが更に好ましい。

【００５７】前記下塗層の被覆量は、２００ｍｇ／ｍ²
より大であることが好ましく、また７５０ｍｇ／ｍ²未
満であることが好ましい。更に好ましくは２５０ｍｇ／
ｍ²〜５００ｍｇ／ｍ²である。

【００５８】前述した下塗層組成物の被覆は、所望によ
って界面活性剤の存在下に、水性コロイド分散液から行
うのが好ましい。

【００５９】〔画像形成層の説明〕（感光性層若しくは感熱性層）本発明において、親水性
層上に設けられる画像形成層（感光性層若しくは感熱性
層）は、ポジ作用感応性組成物又はネガ作用感応性組成
物を含有してなる。

【００６０】（ポジ作用感応性組成物）本発明におい
て、ポジ作用感応性組成物としては、以下に示す従来公
知のポジ作用感応性組成物［（ａ）〜（ｂ）］を用いる
ことが好適である。

【００６１】（ａ）ナフトキノンジアジドとノボラック
樹脂とを含有してなる従来から用いられているコンベン
ショナルポジ作用感光性組成物。（ｂ）酸分解性基で保護されたアルカリ可溶性化合物と
酸発生剤との組み合わせを含有してなる化学増幅型ポジ
作用感光性組成物。

【００６２】上記（ａ）及び（ｂ）は、いずれも当分野
においてはよく知られたものであるが、以下に示すポジ
作用感応性組成物（（ｃ）〜（ｅ））と組み合わせて用
いることがさらに好適である。

【００６３】（ｃ）特開平１０−２８２６７２号に記載
の現像処理不要な平版印刷版を作製することが出来る、
スルホン酸エステルポリマーと赤外線吸収剤とを含有し
してなるレーザー感応性ポジ組成物。（ｄ）ＥＰ６５２４８３号、特開平６−５０２２６０号
に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することが出
来る、カルボン酸エステルポリマーと、酸発生剤若しく
は赤外線吸収剤とを含有してなるレーザー感応性ポジ組
成物。（ｅ）特開平１１−０９５４２１号に記載のアルカリ可
溶性化合物、及び熱分解性でありかつ分解しない状態で
はアルカリ可溶性化合物の溶解性を実質的に低下させる
物質を含有してなるレーザー感応性ポジ組成物。（ｆ）アルカリ現像溶出型ポジ平版印刷版を作製するこ
とができる、赤外線吸収剤、ノボラック樹脂、及び溶解
抑止剤を含有してなるアルカリ現像溶出ポジ型組成物。

【００６４】上記（ａ）〜（ｆ）で示したポジ作用感応
性組成物で用いられる化合物を以下に説明する。「酸発
生剤」ポジ作用感応性組成物において使用される酸発生
剤は、熱若しくは光により酸を発生する化合物であり、
一般的には、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重
合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、マイクロ
レジスト等に使用されている公知の光により酸を発生す
る化合物及びそれらの混合物等を挙げることができ、こ
れらを適宜選択して使用することができる。

【００６５】例えば、S.I.Schlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18,387(1974) 、T.S.Bal etal., Polymer, 21,4
23(1980) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，
０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３
−１４０，１４０号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Ne
cker et al., Macromolecules, 17,2468(1984)、C.S.We
n et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478,
Tokyo, Oct(1988) 、米国特許第４，０６９，０５５
号、同４，０６９，０５６号等に記載のホスホニウム
塩、J.V.Crivello et al.,Macromolecules, 10(6),1307
(1977) 、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31(1988) 、
欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第３３９，０４
９号、同第４１０，２０１号、特開平２−１５０，８４
８号、特開平２−２９６，５１４号等に記載のヨードニ
ウム塩、J.V.Crivello et al., Polymer J. 17, 73(198
5)、J.V.Crivello et al., J.Org. Chem., 43,3055(197
8)、W.R.Watt et al., J.Polymer Sci., Polymer Chem.
Ed., 22, 1789(1984)、J.V.Crivello et al., Polymer
Bull., 14,279(1985)、J.V.Crivelloet al., Macromol
ecules, 14(5), 1141(1981)、J.V.Crivello et al., J.
Polymer Sci., PolymerChem. Ed., 17,2877(1979) 、欧
州特許第３７０，６９３号、米国特許第３，９０２，１
１４号、欧州特許第２３３，５６７号、同２９７，４４
３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３
７７号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同
４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同
２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６
号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号
等に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al., Mac
romolecules, 10(6), 1307(1977)、J.V.Crivello et a
l., J.Polymer Sci., PolymerChem. Ed., 17,1047(197
9) 等に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al., Teh,P
roc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478, Tokyo, Oct(198
8) 等に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、

【００６６】米国特許第３，９０５，８１５号、特公昭
４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭
５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特
開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７
号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４
０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９
８３３９号等に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier et
al., J.Rad. Curing, 13(4),26(1986) 、T.P.Gill et
al., Inorg. Chem., 19,3007(1980)、D.Astruc,Acc. Ch
em. Res., 19(12), 377(1896)、特開平２−１６１４４
５号等に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、S.Hayase
et al., J.Polymer Sci., 25,753(1987)、E.Reichman
et al., J.Polymer Sci., Poliymer Chem. Ed., 23,1(1
985) 、Q.Q.Zhu et al., J.Photochem., 36, 85, 39, 3
17(1987) 、B.Amit et al., Tetrahedron Lett., (24)2
205(1973)、D.H.R.Barton et al., J.Chem. Soc., 3571
(1965) 、P.M.Collins et al., J.Chem. Soc., Perkin
I,1695(1975) 、M. Rudinstein et al., Tetrahedron L
ett.,(17), 1445(1975)、J.W.Walker et al., J. Am. C
hem. Soc., 110,7170(1988)、S.C.Busman et al., J. I
maging Technol., 11(4),(1985) 、H.M.Houlihan et a
l., Macromolecules, 21,2001(1988)、P.M.Collins et
al., J.Chem. Soc., Chem. Commun., 532(1972)、S.Hay
ase et al., Macromolecules, 18,1799(1985), E.Reich
manis etal., J.Electrochem. Soc., Solid State Sci.
Technol., 130(6) 、F.M.Houlihan et al., Macromole
cules, 21,2001(1988)、欧州特許第０２９０，７５０
号、同０４６，０８３号、同１５６，５３５号、同２７
１，８５１号、同０，３８８，３４３号、米国特許第
３，９０１，７１０号、同４，１８１，５３１号、特開
昭６０−１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号
等に記載の0-ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生
剤、TUNOOKA et al., Polymer Preprints Japan, 35
(8)、G.Berner et al., J.Rad. Curing, 13(4) 、W.J.M
ijs et al., Coating Technol., 55(697), 45(1983), A
kzo、H.Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, 37
(3)、欧州特許第０１９９，６７２号、同８４５１５
号、同１９９，６７２号、同０４４，１１５号、同０１
０１，１２２号、米国特許第４，６１８，５５４号、同
４，３７１，６０５号、同４，４３１，７７４号、特開
昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５６号、特
開平３−１４０１０９号等に記載のイミノスルホネート
等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合
物、特開昭６１−１６６５４４号等に記載のジスルホン
化合物を挙げることができる。

【００６７】また、酸発生剤をポリマーの主鎖又は側鎖
に導入した化合物、例えば、M.E.Woodhouse et al., J.
Am. Chem. Soc., 104, 5586(1982)、S.P.Pappas et a
l., J.Imaging Sci., 30(5), 218(1986) 、S. Kondo et
al., Makromol. Chem. RapidCommun., 9,625(1988) 、
Y.Yamada et al., Makromol, Chem. 152, 153,163(197
2) 、J.V.Crivello et al., J.Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17,3845(1979) 、米国特許第３，８４９，
１３７号、独国特許第３９１４４０７号、特開昭６３−
２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６
２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３号、特開昭
６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、
特開昭６３−１４６０２９号等に記載の化合物を用いる
ことができる。さらに、V.N.R.Pillai, Synthesis,
(1),1(1980)、A. Abad et al., Tetrahedron Lett., (4
7)4555(1971) 、D.H.R.Barton et al., J.Chem. Soc.,
(C), 329(1970) 、米国特許第３，７７９，７７８号、
欧州特許第１２６，７１２号等に記載の光により酸を発
生する化合物も使用することができる。

【００６８】本発明において、酸発生剤の添加量は、感
光性層若しくは感熱性層の全固形分に対し、通常０．０
０１〜４０重量％程度であり、０．０１〜２０重量％が
好ましく、０．１〜５重量％がさらに好ましい。

【００６９】「アルカリ可溶性化合物」ポジ作用感応性
組成物において使用されるアルカリ可溶性化合物は、ポ
ジ型に適用される場合には、溶解抑止剤との共存下によ
りアルカリ可溶性が低下し、溶解抑止剤の分解により、
アルカリ可溶性が回復するアルカリ可溶性化合物であ
る。

【００７０】ポジ作用感応性組成物において使用される
アルカリ可溶性化合物としては、ノボラック樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、アクリル樹脂等を挙げることがで
きる。本発明で使用されるノボラック樹脂は、フェノー
ル類とアルデヒド類を、酸性条件下で縮合させて得られ
る樹脂である。好ましいノボラック樹脂としては、例え
ば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラ
ック樹脂、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドから得ら
れるノボラック樹脂、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒ
ドから得られるノボラック樹脂、ｏ−クレゾールとホル
ムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフ
ェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドから
得られるノボラック樹脂、フェノール／クレゾール（ｏ
−、ｍ−、ｐ−又はｍ−／ｐ−、ｍ−／ｏ−、ｏ−／ｐ
−混合のいずれでもよい）の混合物とホルムアルデヒド
から得られるノボラック樹脂等が挙げられる。これらの
ノボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜２００，
０００で、数平均分子量が４００〜６０，０００のもの
が好ましい。

【００７１】ポジ作用感応性組成物において使用される
ノボラック樹脂以外のアルカリ可溶性化合物としては、
例えばポリヒドロキシスチレン類、ヒドロキシスチレン
−Ｎ−置換マレイミド共重合体、ヒドロキシスチレン−
無水マレイン酸共重合体、アルカリ可溶性基を有するア
クリル系ポリマー、アルカリ可溶性基を有するウレタン
型ポリマー等が挙げられる。ここでアルカリ可溶性基と
してはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン
酸基、ホスホン酸基、イミド基等が挙げられる。

【００７２】また、ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン、ポ
リ−ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン
−Ｎ−置換マレイミド共重合体、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン−無水マレイン酸共重合体等のヒドロキシスチレン系
ポリマーを用いる場合には重量平均分子量が２，０００
〜５００，０００、さらに、４，０００〜３００，００
０のものが好ましい。

【００７３】アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポリ
マーの例としては、メタクリル酸−ベンジルメタクリレ
ート共重合体、ポリ（ヒドロキシフェニルメタクリルア
ミド）、ポリ（ヒドロキシフェニルカルボニルオキシエ
チルアクリレート）、ポリ（２、４−ジヒドロキシフェ
ニルカルボニルオキシエチルアクリレート）や、特願平
８−２１１７３１明細書に記載のポリマー等が挙げられ
る。これらのアクリル系ポリマーは重量平均分子量が
２，０００〜５００，０００、好ましくは４，０００〜
３００，０００のものが好ましい。

【００７４】アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリ
マーの例としては、ジフェニルメタンジイソシアネート
とヘキサメチレンジイソシアネート、テトラエチレング
リコール、２、２一ビス（ヒドロキシメチル）プロピオ
ン酸を反応させて得られる樹脂等が挙げられる。これら
のアルカリ可溶性ポリマーのうち、ヒドロキシスチレン
系ポリマー及びアルカリ可溶性基を有するアクリル系共
重合体は現像性の点で好ましい。

【００７５】本発明において、アルカリ可溶性化合物
は、酸分解性基で保護されていてもよく、該酸分解性基
としては、エステル基、カーバメイト基等が挙げられ
る。

【００７６】本発明において、これらのアルカリ可溶性
化合物の含有量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形
分中、１０〜９０重量％程度であり、２０〜８５重量％
が好ましく、３０〜８０重量％がさらに好ましい。アル
カリ可溶性化合物の含有量が１０重量％未満であると感
光性層若しくは感熱性層の耐久性が悪化し、また、９０
重量％を越えると感度、耐久性の両面で好ましくない。
また、これらのアルカリ可溶性化合物は、１種類のみで
使用してもよいし、あるいは２種類以上を組み合わせて
使用してもよい。

【００７７】「溶解阻止剤」ポジ作用感応性組成物にお
いて使用される溶解阻止剤とは、酸の作用により分解し
アルカリ可溶性となる化合物である。該溶解阻止剤とし
ては、ｔ−ブチルエステル、ｔ−ブチルカーバーメー
ト、アルコキシエチルエステル、等のレジスト分野で用
いられている化学増幅系の酸分解性基で保護されたカル
ボン酸、フェノール化合物等が挙げられる。

【００７８】本発明において、溶解阻止剤の含有量は、
感光性層若しくは感熱性層の全固形分中、５〜９０重量
％程度であり、１０〜８０重量％が好ましい。

【００７９】好適なキノンジアジド化合物類としては、
ｏ−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発
明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくと
も１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分
解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造
の化合物を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジ
アジドは熱分解によりアルカリ可溶性化合物の溶解抑制
能を失うことと、ｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可
溶性の物質に変化することの両方の効果により、感材系
の溶解性を助ける。本発明に用いられるｏ−キノンジア
ジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト
−センシティブ・システムズ」（John Wiley & Sons.In
c. ）第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できる
が、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳
香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのス
ルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。
また、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されている
ようなベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸
クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−
５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステル、米国特許第３，０４６，１２０号及び
同第３，１８８，２１０号等に記載されているベンゾキ
ノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又は
ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸
クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエ
ステルも好適に使用される。

【００８０】さらにナフトキノン−（１，２）−ジアジ
ド−４−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の
有用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特
許関連の文献に報告があり知られている。例えば、特開
昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開
昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特
開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、
特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、
特公昭４９−１７４８１号、米国特許第２，７９７，２
１３号、同第３，４５４，４００号、同第３，５４４，
３２３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７
４，４９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第
１，２２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同
第１，２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、
同第１，３３０，９３２号、ドイツ特許第８５４，８９
０号等に記載されているものを挙げることができる。

【００８１】本発明において、ｏ−キノンジアジド化合
物の含有量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分
中、１〜５０重量％程度であり５〜３０重量％が好まし
く、１０〜３０重量％がさらに好ましい。これらの化合
物は単独で使用することができるが、数種の混合物とし
て使用してもよい。ｏ−キノンジアジド化合物の含有量
が１重量％未満であると画像の記録性が悪化し、一方、
５０重量％を超えると画像部の耐久性が劣化したり感度
が低下したりする。

【００８２】本発明において、ｏ−キノンジアジド化合
物以外の上記化合物の含有量は、感光性層若しくは感熱
性層の全固形分中、１〜５０重量％程度であり、５〜３
０重量％が好ましく、１０〜３０重量％が好ましい。

【００８３】（ネガ作用感応性組成物）本発明におい
て、ネガ作用感応性組成物としては、以下に示す従来公
知のネガ作用感応性組成物（（ｇ）〜（ｈ））を用いる
ことができる。

【００８４】（ｇ）光架橋性基を有するポリマー、アジ
ド化合物を含有してなるネガ作用感応性組成物。（ｈ）特開昭５９−１０１６５１号に記載のジアゾ化合
物を含有してなるネガ作用感応性組成物。（ｉ）ＵＳ２６２２７６号、特開平２−６３０５４号に
記載の光重合開始剤、付加重合性不飽和化合物を含有し
てなる光重合性ネガ作用感応性組成物。（ｈ）特開平１１−０９５４２１号記載のアルカリ可溶
性化合物、酸発生剤、酸架橋性化合物を含有してなるネ
ガ作用感応性組成物。

【００８５】上記（ｇ）〜（ｈ）で示したネガ作用感応
性組成物で用いられる化合物を以下に説明する。

【００８６】「光架橋性基を有するポリマー」ネガ作用
感応性組成物において使用される光架橋性基を有するポ
リマーは、水性アルカリ現像液に対して親和性を持つ光
架橋性基を有するポリマーが好ましく、例えば、ＵＳ５
０６４７４７号に記載び分子の主鎖又は側鎖に−ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＯ−のような光架橋性基を有するポリマー；特
公昭５４−１５７１１号に記載の桂皮酸基とカルボキシ
ル基を有する共重合体；特開昭６０−１６５６４６号に
記載のフェニレンジアクリル酸残基とカルボキシル基を
有するポリエステル樹脂；特開昭６０−２０３６３０号
に記載のフェニレンジアクリル酸残基とフェノール性水
酸基を有するポリエステル樹脂；特公昭５７−４２８５
８号に記載のフェニレンジアクリル酸残基とナトリウム
イミノジスルホニル基を有するポリエテル樹脂；特開昭
５９−２０８５５２号に記載の側鎖にアジド基とカルボ
キシル基を有する重合体等が使用できる。本発明におい
て、光架橋性基を有するポリマーの含有量は、感光性層
若しくは感熱性層の全固形分中、５〜１００重量％程度
であり、１０〜９５重量％が好ましく、２０〜９０重量
％が好ましい。

【００８７】「アジド化合物」ネガ作用感応性組成物に
おいて使用されるアジド化合物としては、２，６−ビス
（４−アジドベンザール）−４−メチルシクロヘキサノ
ン、４，４’−ジアジドジフェニルスルフィド等が挙げ
られる。本発明において、アジド化合物の含有量は、感
光性層若しくは感熱性層の全固形分中、５〜９５重量％
程度であり、１０〜９０重量％が好ましく、２０〜８０
重量％がさらに好ましい。

【００８８】「アルカリ可溶性化合物」ネガ作用感応性
組成物において使用されるアルカリ可溶性化合物は、前
記ポジ作用感応性組成物に用いられるアルカリ可溶性化
合物と同様である。

【００８９】「ジアゾ化合物」ネガ作用感応性組成物に
おいて使用されるジアゾ樹脂としては、例えばジアゾジ
アリールアミンと活性カルボニル化合物との縮合物の塩
に代表されるジアゾ樹脂があり、感光性、水不溶性で有
機溶剤可溶性のものが好ましい。特に好適なジアゾ樹脂
としては、例えば４−ジアゾジフェニルアミン、４−ジ
アゾ−３−メチルジフェニルアミン、４−ジアゾ−４’
−メチルジフェニルアミン、４−ジアゾ−３’−メチル
ジフェニルアミン、４−ジアゾ−４’−メトキシジフェ
ニルアミン４−ジアゾ−３−メチル−４’−エトキシジ
フェニルアミン、４−ジアゾ−３−メトキシジフェニル
アミン等とホルムアルデヒド、バラホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、４，４’−ビス
−メトキシメチルジフェニルエーテル等との縮合物の有
機酸塩または無機酸塩である。この際の有機酸として
は、例えばメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ト
ルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、メシチレンス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンス
ルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、１−ナフト
ール−５−スルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン
酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸等が挙げ
られ、無機酸としては、ヘキサフルオロリン酸、テトラ
フルオロホウ酸、チオシアン酸等が挙げられる。

【００９０】更に、特開昭５４−３０１２１号公報に記
載の主鎖がポリエステル基であるジアゾ樹脂；特開昭６
１−２７３５３８号公報に記載の無水カルボン酸残基を
有する重合体と、ヒドロキシル基を有するジアゾ化合物
を反応してなるジアゾ樹脂；ポリイソシアネート化合物
とヒドロキシル基を有するジアゾ化合物を反応してなる
ジアゾ樹脂等も使用しうる。

【００９１】本発明において、ジアゾ樹脂の含有量は、
感光性層若しくは感熱性層全固形分に対して、０〜４０
重量％程度が好ましい。また必要に応じて、２種以上の
ジアゾ樹脂を併用してもよい。

【００９２】「光重合開始剤及び付加重合性不飽和化合
物」ネガ作用感応性組成物において使用される付加重合
性不飽和化合物及び光重合開始剤としては、米国特許第
２，７６０，８６３号、同第３，０６０，０２３号、特
開昭６２−１２１４４８号等に記載の２個またはそれ以
上の末端エチレン基を有する付加重合性不飽和化合物及
び光重合開始剤が挙げられる。

【００９３】本発明において、付加重合性不飽和化合物
の含有量は、感光性層若しくは感熱性層全固形分に対し
て、５〜９５重量％程度であり、５〜８０重量％が好ま
しい。また、光重合開始剤の含有量は、感光性層若しく
は感熱性層全固形分に対して、１〜８０重量％程度であ
り、５〜５０重量％が好ましい。

【００９４】「酸発生剤」ネガ作用感応性組成物におい
て使用される酸発生剤は、前記ポジ作用感応性組成物で
用いられる酸発生剤と同様である。

【００９５】「酸架橋性化合物」ネガ作用感応性組成物
において使用される酸架橋性化合物とは、酸の存在下で
架橋する化合物を指し、例えば、ヒドロキシメチル基、
アセトキシメチル基、若しくはアルコキシメチル基でポ
リ置換されている芳香族化合物及び複素環化合物が挙げ
られるが、その中でも好ましい例として、フェノール類
とアルデヒド類を塩基性条件下で縮合させた化合物が挙
げられる。前記の化合物のうち好ましいものとしては、
例えば、フェノールとホルムアルデヒドを前記のように
塩基性条件下で縮合させた化合物、同様にして、ｍ−ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られる化合物、ビス
フェノールＡとホルムアルデヒドから得られる化合物、
４，４’−ビスフェノールとホルムアルデヒドから得ら
れる化合物、その他、ＧＢ第２，０８２，３３９号にレ
ゾール樹脂として開示された化合物等が挙げられる。こ
れらの酸架橋性化合物は、重量平均分子量が５００〜１
００，０００で数平均分子量が２００〜５０，０００の
ものが好ましい。

【００９６】他の好ましい例としては、ＥＰ−Ａ第０，
２１２，４８２号に開示されているアルコキシメチル又
はオキシラニルメチル基で置換された芳香族化合物、Ｅ
Ｐ−Ａ第０，１３３，２１６号、ＤＥ−Ａ第３，６３
４，６７１号、ＤＥ第３，７１１，２６４号に開示され
た単量体及びオリゴマーメラミン−ホルムアルデヒド縮
合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ−Ａ第
０，２１２，４８２号に開示されたアルコキシ置換化合
物等がある。さらに他の好ましい例は、例えば、少なく
とも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル、Ｎ−アルコキシ
メチル又はＮ−アシルオキシメチル基を有するメラミン
−ホルムアルデヒド誘導体である。このなかでは、Ｎ−
アルコキシメチル誘導体が特に好ましい。また、低分子
量又はオリゴマーシラノールは、ケイ素含有架橋剤とし
て使用できる。これらの例は、ジメチル−及びジフェニ
ル−シランジオール、並びに既に予備縮合され且つこれ
らの単位を含有するオリゴマーであり、例えば、ＥＰ−
Ａ第０，３７７，１５５号に開示されたものを使用でき
る。

【００９７】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明の範囲はこれらによって限定されるもので
はない。〔表面修飾粒子の合成例１〕下記の操作によって末端に
シランカップリング基を有する親水性ポリマーでシリカ
粒子表面を修飾された表面修飾粒子（Ｓ−１）を合成し
た。

【００９８】（末端にシランカップリング基を有する親
水性ポリマー（Ｐ−１）の合成）三口フラスコにアクリ
ルアミド２５ｇ、３−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン３．５ｇ、ジメチルホルムアミド５１．３ｇを入
れて窒素気流下、６５℃まで加熱し、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．２５ｇ添加
し、反応を開始した。６時間撹拌した後、室温まで戻し
て酢酸エチル１．５Ｌ中に投入したところ固体が析出し
た。その後、ろ過を行い、十分酢酸エチルで洗浄し、乾
燥を行った（収量２１ｇ）。ＧＰＣ（ポリスチレン標
準）により５０００の重量平均分子量を有するポリマー
であることが分かった。

【００９９】（表面修飾シリカ粒子（Ｓ−１）の合成）
高速撹拌機にシリカ微粒子（富士シリシア化学（株）
製、サイリシア３５０）１０ｇ、上記末端にシランカッ
プリング基を有する親水性ポリマー８ｇ、ベンゾオキサ
シレピンジメチルエステル１ｇ、２５％アンモニア水溶
液５ｇ、トルエン２００ｍｌを入れ１８０００ｒｐｍに
て１時間撹拌して混合した。この混合液を撹拌機、冷却
管、脱水用トラップを備えたフラスコに入れ、トルエン
還流温度の下で２時間加熱撹拌を行った。撹拌したの
ち、フラスコ内容物を遠心分離機に入れて７０００ｒｐ
ｍにて３０分間の分離操作を行い、トルエン溶液と沈積
物とに分離した。超音波分離機を用いてこの沈積物を水
４００ｍｌ中に分散し、分散後、再び遠心分離機により
分離操作を行うことによって沈積物を洗浄した。このア
セトン洗浄の操作をさらに２回繰り返した後、得られた
沈積物を自然乾燥して白色粉末（Ｓ−１）１４．４ｇを
得た。ＴＧ−ＤＴＡ（セイコー電子工業（株）製）を用
いて有機物の熱重量減少を測定したところ１２．５％の
重量減少が見られた。

【０１００】〔表面修飾粒子の合成例２〕下記の操作に
よって末端にシランカップリング基を有する親水性ポリ
マーでシリカ粒子表面を修飾された表面修飾粒子（Ｓ−
２）を合成した。

【０１０１】（末端にシランカップリング基を有する親
水性ポリマー（Ｐ−２）の合成）三口フラスコに２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸２５ｇ、
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン１．２ｇ、
メタノール５２．４ｇを入れて窒素気流下、６０℃まで
加熱し、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル０．２
５ｇ添加し、反応を開始した。６時間撹拌した後、室温
まで戻してアセトン１．５Ｌ中に投入したところ固体が
析出した。その後、ろ過を行い、十分アセトンで洗浄
し、乾燥を行った（収量１９ｇ）。ＧＰＣ（ポリスチレ
ン標準）により３５００の重量平均分子量を有するポリ
マーであることが分かった。

【０１０２】（表面修飾シリカ粒子（Ｓ−２）の合成）
末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマー
（Ｐ−２）を用いた以外は上記表面修飾粒子の合成例１
と同様の方法で表面修飾粒子（Ｓ−２）を合成した。収
量１３．２ｇでＴＧ−ＤＴＡ（セイコー電子工業（株）
製）による熱重量減少量は１０．５％であることが分か
った。

【０１０３】〔表面修飾粒子の合成例３〕下記の操作に
よって末端にシランカップリング基を有する親水性ポリ
マーでシリカ粒子表面を修飾された表面修飾粒子（Ｓ−
３）を合成した。

【０１０４】（末端にシランカップリング基を有する親
水性ポリマー（Ｐ−３）の合成）三口フラスコにＮ−ビ
ニルアセトアミド５０ｇ、３−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン５．８ｇ、ジメチルアセトアミド１１
１．５ｇを入れて窒素気流下、６５℃まで加熱し、２，
２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）
０．５ｇ添加し、反応を開始した。６時間撹拌した後、
室温まで戻して酢酸エチル２．０Ｌ中に投入したところ
固体が析出した。その後、ろ過を行い、十分アセトンで
洗浄し、乾燥を行った（収量４２ｇ）。ＧＰＣ（ポリス
チレン標準）により６０００の重量平均分子量を有する
ポリマーであることが分かった。

【０１０５】（表面修飾シリカ粒子（Ｓ−３）の合成）
三口フラスコにコロイダルシリカ水溶液（日産化学
（株）製、スノーテックスＺＬ）５０ｇ、末端にシラン
カップリング基を有する親水性ポリマー（Ｐ−３）６ｇ
を入れてｐＨ７．５に調製した後、７０℃、４ｈ撹拌し
た。その後、室温まで冷却、アセトン５００ｍＬ中に投
入したところ固体が析出、取り出しを行い、乾燥を行っ
た。乾燥後、水に再分散し遠心分離機により分離操作を
行うことによりシリカ粒子を沈降させ上澄み液を除去、
これを２回繰り返して精製を行った。精製後の表面修飾
シリカ粒子（Ｓ−３）の収量は１５ｇであった。ＴＧ−
ＤＴＡ（セイコー電子工業（株）製）を用いて有機物の
熱重量減少を測定したところ１９．５％の重量減少が見
られた。

【０１０６】〔表面修飾粒子の合成例４〕下記の操作に
よって末端にシランカップリング基を有する親水性ポリ
マーでシリカ粒子表面を修飾された表面修飾粒子（Ｓ−
４）を合成した。

【０１０７】（末端にシランカップリング基をする親水
性ポリマー（Ｐ−４）の合成）三口フラスコにアクリル
酸５０ｇ、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
６．８ｇ、ジメチルアセトアミド１１４ｇを入れて窒素
気流下、６５℃まで加熱し、２，２’−アゾビス（２，
４−ジメチルバレロニトリル）０．５ｇ添加し、反応を
開始した。６時間撹拌した後、室温まで戻して酢酸エチ
ル２．０Ｌ中に投入したところ固体が析出した。その
後、ろ過を行い、十分アセトンで洗浄し、乾燥を行った
（収量４５ｇ）。ＧＰＣ（ポリスチレン標準）により１
５００の重量平均分子量を有するポリマーであることが
分かった。

【０１０８】（表面修飾シリカ粒子（Ｓ−４）の合成）
末端にシランカップリング基を有する親水性ポリマー
（Ｐ−４）を用いた以外は表面修飾粒子の合成例３と同
様の方法で表面修飾シリカ粒子（Ｓ−４）の合成を行っ
た。収量１２．５ｇでＴＧ−ＤＴＡ（セイコ−電子工業
（株）製）による熱重量減少量は１８．６％であること
が分かった。

【０１０９】〔表面修飾粒子の合成例５〕下記の操作に
よって、シリカ粒子表面にグラフト的に親水性ポリマー
が導入された表面修飾粒子（Ｓ−５）を合成した。

【０１１０】三口フラスコにシリカ微粒子（日本アエロ
ジル（株）製、Ａｅｒｏｓｉｌ２００）６ｇ、３−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン４ｇ、トルエン１９
６ｍｌを入れて窒素気流下、トルエンｒｅｆｌｕｘ温度
で１２時間反応させた。反応後、室温まで戻しメタノー
ル１Ｌ中に投入して２４時間放置し、その後沈殿物をろ
過して乾繰を行った（収量５．２ｇ）。

【０１１１】次に三口フラスコに得られたシリカ４ｇ、
４．７ｍｏｌ／Ｌアクリルアミド水溶液７２ｍｌ、１ｍ
ｏｌ／Ｌの硝酸水溶液で調製した０．２ｍｏｌ／Ｌ硝酸
二アンモニウムセリウム（IV）硝酸水溶液８ｍＬを入れ
て窒素気流下、３０℃で１ｈ反応させた。反応後、アセ
トン１Ｌ中に投入したところ固体が析出、取り出しを行
い、乾燥を行った。乾燥後、水に再分散し遠心分離機に
より分離操作を行うことによりシリカ粒子を沈降させ上
澄み液を除去、これを２回繰り返して精製を行った。精
製後の表面修飾シリカ粒子（Ｓ−５）の収量は３．５ｇ
であった。ＴＧ−ＤＴＡ（セイコー電子工業（株）製）
を用いて有機物の熱重量減少を測定したところ２０．５
％の重量減少が見られた。

【０１１２】〔表面修飾粒子の合成例６〕下記の操作に
よって、シリカ粒子表面にグラフト的に親水性ポリマー
が導入された表面修飾粒子（Ｓ−６）を合成した。

【０１１３】アクリルアミド水溶液の代わりに２−アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸水溶液を用
いた以外は合成例５と同様の方法でシリカ粒子表面にグ
ラフト的に親水性ポリマーが導入された表面修飾粒子Ｓ
−６を合成した。収量３．１ｇでＴＧ−ＤＴＡ（セイコ
ー電子工業（株）製）による熱重量減少量は１９．３％
であることが分かった。

【０１１４】実施例１（ポジ型感光性平版印刷版用原
版）〔親水性層の作成〕上記表面修飾粒子（Ｓ−１）１ｇに
メタノール３ｇを加えガラスビーズを用いてペイントシ
ェイカーで３０分振とうさせることにより表面修飾粒子
（Ｓ−１）のメタノール分散物を行た。この分散物にテ
トラエトキシシラン０．３ｇ、リン酸／水（１／１重量
比）０．０６ｇを添加し、室温で２０分間撹拌し、加水
分解させて均一分散液を得た。

【０１１５】得られた分散液を、親水性接着剤層で被覆
した厚さ２５０μｍ（３６０ｇ／ｍ ²）を有するポリエ
チレンテレフタレートフィルム支持体上に、ロットバー
＃１０を用いて塗布を行い、１００℃、１０分乾燥して
親水性層を得た。得られた親水性層の接触角（空中水
滴、協和界面化学（株）製、ＣＡ−Ｚ）を測定したとこ
ろ、１０°であった。このようにして作成した親水性層
上にポジの感光層として以下の画像形成層を塗布し、ポ
ジ型感光性平版印刷版用原版を作製し、露光、現像及び
印刷性評価を行った。

【０１１６】〔画像形成層処方〕（アルカリ可溶性ポリマー・ナフトキノン−１，２−ジ
アジド系（コンベンショナルポジ系））ナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリドとピロガロ
ール−アセトン樹脂とのエステル化合物０．９ｇ、ビク
トリアピュアブルーＢＯＨ、０．０５ｇ、クレゾールと
ホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂（メタ：
パラ＝６：４、重量平均分子量１８００）２．０ｇ、メ
チルエチルケトン２０ｇ、メチルアルコール７ｇからな
る組成物を前記の親水層に塗布したものを実施例１のポ
ジ型平版印刷版用原版とした。得られた実施例１のポジ
型平版印刷版用原版を富士フイルム社製ステップガイド
を通してＰＳライトで露光した後、富士フイルム社製現
像液ＤＰ−４（１：８）を仕込んだ自動現像機を通して
処理した。ついでハイデルＫＯＲ−Ｄ印刷機で印刷し
た。非画像部に汚れのない良好な印刷物が５，０００枚
得られた。

【０１１７】実施例２〜５親水性ポリマーで修飾された粒子として下記の表１に示
す各表面修飾粒子を使用した以外は、実施例１と同様の
操作を行い、感光性平版印刷版用原版を作製し、露光、
現像及び印刷性を評価した。詳価結果を表１に示す。

【０１１８】

【表１】

【０１１９】実施例６ネガ型感熱性平版印刷版用原版支持体及び親水性層は実施例１と同様のものを使用し
た。但し、画像形成層である感熱層は下記処方の組成物
を塗布し、ネガ型感光性平版印刷版用原版を作製し、露
光、現像及び印刷性を評価した。

【０１２０】〔架橋剤Ａの合成〕１−〔α−メチル−α
−（４−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α，α
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン２
０ｇを水酸化カリウム水溶液（１０％）１００ｍｌに溶
解させた。この反応液にホルマリン（３７％）６０ｍｌ
を室温で撹拌しながら１時間かけて滴下した。反応液を
室温にてさらに６時間撹拌した後、硫酸水溶液中に投入
し、晶析させた。得られたペースト状沈殿をよく水洗し
た後、メタノール３０ｍｌを用いて再結晶することによ
り、白色粉末を得た（収量２０ｇ）。

【０１２１】得られた化合物は、ＮＭＲにより１−〔α
−メチル−α−（４−ヒドロキシフェニル）エチル〕−
４−〔α，α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチ
ル〕ベンゼンのヘキサメチロール化合物であることが分
かった。逆相ＨＰＬＣ（カラム：ＳｈｉｍｐａｃＣＬ
Ｃ−ＯＤＳ（島津製作所製）、溶媒：メタノール／水＝
６０／４０→９０／１０）によるヘキサメチロール化合
物の純度は９２％であった。このヘキサメチロール化合
物２０ｇをメタノール１０００ｍｌに加温溶解させ、濃
硫酸１ｍｌを加え１２時間加熱還流した。反応液を冷却
後、炭酸カリウム２ｇを加え、さらに撹拌後、濃縮し、
酢酸エチル３００ｍｌを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留
去し、白色固体を得た（収量２２ｇ）。得られた化合物
は１−（α−メチル−α−（４−ヒドロキシフェニル）
エチル〕−４−〔α，α−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エチル〕ベンゼンのヘキサメトキシメチル化合物で
あることが分かった。逆相ＨＰＬＣ（カラム：Ｓｈｉｍ
ｐａｃＣＬＣ−ＯＤＳ（島津製作所製）、溶媒：メタ
ノール／水＝６０／４０→９０／１０）によるヘキサメ
トキシメチル化合物の純度は９０％であった。

【０１２２】〔画像形成層処方〕ＩＲＧ２２（ＩＲ染
料、日本化薬製）０．１ｇ、上記架橋剤Ａ０．２１ｇ、
フェノールホルムアルデヒドノボラック（重量平均分子
量１２０００）２．１ｇ、ジフェニルヨードニウム−
９，１０−ジメトキシアントラセンスルホネート０．０
２ｇ、メガファックＦ−１７６（大日本インキ化学工業
（株））製フッ素系界面活性剤）０．０６ｇ、メチルエ
チルケトン１５ｇ、２−メトキシ−１−プロパノール１
２ｇからなる組成物を前記実施例と同様の支持体に塗布
したものを実施例６のネガ型感熱性平版印刷版用原版と
した。

【０１２３】得られた実施例６のネガ型平版印刷版を、
ヒートモードレーザとしての半導体レーザ（波長８２５
ｎｍ、ビーム系：１／ｅ²＝６μｍ）を用い、線速度８
ｍ／ｓｅｃで版面出力１１０ｍＷに調節し、露光した。
露光後１１０℃で１分間加熱処理した後、富土写真フイ
ルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）、リンス液Ｆ
Ｒ−３（１：７）を仕込んだ自動現像機を通して処理し
た。次いで富士写真フイルム（株）製ガムＧＵ−７
（１：１）で版面を処理し、ハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印
刷した。非画像部に汚れのない印刷物が６０００枚得ら
れた。次にこの実施例６のネガ型平版印刷版を４５℃、
相対湿度７５％で保存し、同様の処理をしたが、同様に
非画像都の汚れのない良好な印刷物が得られた。この際
得られた印刷枚数は５０００枚であった。

【０１２４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の、支持体
上に、親水性ポリマーが化学的に表面結合した固体粒子
を含有する親水性層と直接化学的に結合し、かつ親水性
官能基を有する高分子化合物からなる親水性層を設けて
なる平版印刷版用基板を用いることにより、その上に適
宜感応層を順に設けることにより、膜強度が低下するこ
となく優れた親水性を得ることができ、特に印刷汚れ性
が著しく改善され、厳しい印刷条件においても、汚れが
生じない印刷物が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H025 AA12 AA13 AD01 AD03 DA36 FA17 2H096 AA06 BA01 BA09 CA05 CA20 GA08 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 AA28 BA01 BA10 DA15 DA56 DA75 EA01 EA02 EA05 GA32

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に、親水性ポリマーが化学的に
表面に結合した固体粒子を含有する親水性層を有するこ
とを特徴とする平版印刷版用基板。
【請求項２】支持体と親水性層との間に下塗り層を有
することを特徴とする請求項１記載の平版印刷版用基
板。