CN111123646A - 一种紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件及其形成图像的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,所述的可成像元件包含:(a)底基、(b)覆盖在底基上方的内涂层、(c)覆盖在内涂层上方的外涂层。所述的内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体和丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P;所述的外涂层包含一种光敏剂和不同于内涂层的另一种聚合物粘合剂Q。如此设计使得该可成像元件不仅可对最大波长为350~450 nm的辐射敏感,而且当其用作平版印刷版前体时对化学溶剂具有良好的耐抗性,在使用过程中不易发生被印刷化学品侵蚀、溶解的现象,从而有利于延长平版印刷版的使用寿命。
Description
技术领域
本发明属于平版胶印用印刷版材领域,具体涉及一种紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件。本发明也涉及从该可成像元件获得平版印刷版的方法。
背景技术
用于制备平版印刷版材的可成像元件通常包含施加在载体亲水表面(或中间层)上的一个或多个可成像层,该可成像层包含一种或多种分散在粘结剂中的辐射敏感成分。在辐射成像后,通过合适的显影剂将可成像层的曝光区域或非曝光区域除去,露出下方的载体亲水表面。如果除去的是曝光区域,该可成像元件则被认为是阳图制版,相反地,如果除去的是非曝光的区域,该可成像元件被认为是阴图制版。无论哪种情况,可成像层中未被除去的区域是油墨接受性的,而通过显影过程露出的亲水表面则是接受水或水性溶液(通常是润版液)而排斥油墨的。
现有技术中用于阳图制版的可成像元件的辐射敏感成分通常是含有酚醛清漆或其它酚醛聚合物粘结剂和重氮醌成像组分的可成像组合物。除此之外,还有基于各种酚醛树脂和红外辐射吸收化合物的可成像组合物。在实际的平版印刷中,常用的印刷室化学品对可成像组合物具有侵蚀作用,例如印版清洗剂、转印布洗涤剂和润版液中的醇替代物,尤其是在使用可紫外线固化的油墨的印刷方法中所用到的具有高的酯类、醚类或酮类含量的漂洗剂。因此,为了保证可紫外线固化油墨的正常印刷,可成像组合物中使用的辐射敏感性组合物必须要有良好的耐侵蚀性。
然而,现有技术中常用的醌二叠氮化合物和酚醛树脂辐射敏感性组合物均可溶于清洁印刷版用的二醇醚溶剂,并不利于可紫外线固化油墨的印刷。因此,如何提高可成像组合物对溶剂和印刷室化学品的耐受性已成为本领域亟待解决的一个技术问题。
发明内容
本发明要解决的主要技术问题在于克服现有用于阳图型可成像元件的材料易受化学品侵蚀的缺陷,进而提供一种对含醇类化学品具有良好耐抗性的红外敏感可成像元件及利用该材料制得的平版印刷版前体。
本发明解决上述技术问题的技术方案为:
一种紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其包含:
(a)底基;
(b)覆盖在底基上方的内涂层, 其中包含一种衍生自马来酰亚胺单体和丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P;
(c)覆盖在内涂层上方的外涂层,包含一种光敏剂和不同于内涂层的另一种聚合物粘结剂Q。
所述的内涂层所包含的聚合物粘结剂P可由下面构造式(I)表示:
— (A) x—(B)y—(C)z—
(I)
A代表衍生自一种或多种马来酰亚胺单体 ( ) 的重复单元,其中R 可以任选取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基; B代表衍生自一种或多种丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺单体 ( ) 的重复单元,其中R1可以任选氢,取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基;R2可以任选氢或甲基; C代表衍生自一种或多种不同于A和B的其它烯键式不饱和可聚合单体的重复单元;其中基于构造式(I)聚合物粘结剂P的总重量 x+y+z= 100%,可以选择x为1~85重量%、y为1~80重量%、z为1~80重量%的任意组合;并且所述聚合物粘合剂P占内涂层总重量的40 ~ 99.9 wt%。
所述的内涂层还可以选择包含一种背景对比染料,所述背景对比染料为在可见光区域中具有高吸收的染料,优选自油溶性染料和/或碱性染料中的一种或多种混合。所述背景对比染料的添加量占所述内涂层总重量的0.1~8 wt%。
所述的内涂层还可以选择包含一种产酸剂,所述产酸剂为鎓盐、三嗪、磺酸酯中的一种或多种。所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.1~10 wt%。
所述内涂层还包含有一种聚合物粘结剂P1,所述聚合物粘结剂P1可选自酚醛树酯、聚苯乙烯衍生物、聚氨酯和不同于聚合物粘结剂P的聚丙烯酸酯中的一种或多种,所述聚合物粘结剂P1的添加量占所述内涂层总重量的1~60 wt%。
所述的外涂层至少包含一种具有波长吸收范围在350-450nm之间的光敏剂,所述光敏剂优选自重氮萘醌磺酸酯类化合物的一种或多种。所述光敏剂的添加量占所述组合物总重量的5~50wt%。
所述的外涂层还包含一种聚合物粘结剂Q,所述聚合物粘结剂Q可衍生自酚醛树酯、聚羟基苯乙烯、聚氨酯和不同于内涂层聚合物粘结剂P的聚丙烯酸酯中的一种或多种,所述粘结剂Q的添加量占所述外涂层总重量的50~95wt%。
所述的外涂层还可以选择包含一种溶解抑制剂,所述溶解抑制剂可选自三芳基甲烷染料、鎓盐、酮和酯类化合物中的一种或多种,所述溶解抑制剂的添加量占所述外涂层总重量的0.1~20wt%。
所述的外涂层还可以选择包含一种产酸剂,所述产酸剂可选自鎓盐、三嗪、磺酸酯的一种或多种,所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.2~10wt%。
所述的阳图型可成像元件为一种具有亲水性底基的阳图型平版印刷版前体。并且所述亲水性底基优选一种经电解粗糙化及阳极氧化处理的铝基材。
本发明所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件提供一种形成图像的方法,所述方法包括:A) 采用波长 350-450 nm辐射的紫外和可见光激光器对所述的可成像元件实施按图像曝光,从而形成含曝光和未曝光区域的已成像元件,B) 使所述已成像元件与pH值小于14的碱性显影剂接触以仅除去所述曝光区域,制成已成像并显影的元件。
所述形成图像的方法获得的平版印刷版。
本文中用到的术语"可成像元件"和"平版印刷版前体"具有类似的性能。
本发明所述的多层可成像元件可以有多种方式使用,优选的用途是作为平版印刷版前体,但这不意味着是本发明的唯一用途。例如,本发明的可成像元件也可用来制备光刻胶、印刷电路板、微电子和微光学装置,或具有其它非成像用途如用在油漆或涂料组合物中。
(一)可成像元件的组份
本发明的可成像元件通常包含底基、内涂层 (也称"底层") 和覆盖在所述内涂层上的外涂层 (也称"顶层")。辐射成像前,所述外涂层不可被碱性显影剂除去,但在辐射成像后,所述外涂层的成像 (曝光) 区域可被碱性显影剂除去。所述内涂层也可被碱性显影剂除去。本发明的可成像元件中存在辐射吸收化合物,所述辐射吸收化合物通常为吸收波长在350-450nm范围的紫外和可见光吸收化合物。优选该化合物全部单独存在于外涂层中,但也可以选择同时分别存在于外涂层和内涂层中。
本发明的可成像元件的底基通常采用具有平整表面的材料,且在使用条件下是坚固、稳定、韧性及尺寸不变。所述底基可为任何自支承材料,包括聚合物膜 (如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纤维素酯聚合物和聚苯乙烯膜)、玻璃、陶瓷、金属板或箔、或硬纸 (包括树脂涂布纸和镀金属纸)、或任何这些材料的叠合物 (如铝箔与聚酯膜的叠合物)。金属载体包括铝、铜、锌、钛及其合金的板或箔。
平版印刷版前体优选的底基由铝载体组成,所述铝载体可用本领域熟知的技术处理,所述技术包括物理磨版、电化学磨版、化学磨版和阳极氧化处理。
所述的化学磨版和阳极氧化处理的铝载体可进一步采用例如硅酸盐、糊精、六氟硅酸、含碱金属卣化物 (如氟化钠)的碱金属磷酸盐溶液、聚(乙烯基膦酸) (PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚 (丙烯酸) 或丙烯酸共聚物处理形成一层亲水层。本发明优选磨版和阳极化处理的铝载体用已知程序经碱金属磷酸盐溶液处理以改进表面亲水性。
底基的厚度可变,但应足以承受来自印刷的磨损而又足够薄以包绕印刷版。优选的实施方案包括厚度0.1-0.6|mm的铝箔。
底基也可为其上施加各种层组合物的柱面并从而构成印刷机的一体部分。这类成像滚筒的使用见述于例如美国专利5,713,287中。
本发明的可成像元件的内涂层至少包含一种衍生自马来酰亚胺单体和(甲基)丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P。所述的内涂层所包含的聚合物粘结剂P可由下面构造式(I)表示:
— (A) x—(B)y—(C)z—
(I)
A代表衍生自一种或多种马来酰亚胺单体 ( ) 的重复单元,其中R 可以任选取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基,例如但不限于:甲基、乙基、丙基、异丙基、叔丁基、氯代乙基、2-羟乙基、2-羧乙基、6-氨基己基、环戊基、环己基、4-甲基环己基、苯基、3-甲基苯基、4-羟基苯基、3-甲氧基苯基、4-羧基苯基、2-硝基苯基、2,4,6-三氯苯基、4-氰基苯基、萘基、蒽基、芘基、2-呋喃基、3-吡咯基、吡啶基、吲哚基、三唑基、咪唑基、羟基、优选R = 甲基、乙基、环己基、苯基、 4-羟基苯基、 4-羧基苯基。
B代表衍生自一种或多种丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺单体 ( ) 的重复单元,其中R1可以任选氢、取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基,例如但不限于:氢、甲基、乙基、丙基、异丙基、叔丁基、羟甲基、2-羟乙基、3-氨基丙基、环戊基、环己基、苯基、苄基、3-甲基苯基、4-羟基苯基、3-甲氧基苯基、4-羧基苯基、4-磺酰胺基苯基、2-硝基苯基、2,4,6-三氯苯基、4-氰基苯基、萘基、蒽基、芘基、吡啶基、吲哚基、三唑基、咪唑基、羟甲基、甲氧基、丁氧基,优选R1 = 氢、甲基、乙基、苯基、苄基、2-羟基乙基、 4-羟基苯基。 R2可以任选氢或甲基。
C代表衍生自一种或多种不同于A和B的其它烯键式不饱和可聚合单体的重复单元,优选自但不限于,例如:如(甲基)丙烯酸甲酯、 (甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、N-(4-甲基吡啶基)(甲基)丙烯酸酯、 (甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯腈、苯乙烯、取代苯乙烯、4-羧基-苯乙烯(酯)、乙烯基吡啶、醋酸乙烯酯、甲基乙烯基醚、己内酰胺、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咔唑、马来酸酐、马来酸酐半酯、乙烯基聚烷基硅烷。
同时,基于构造式(I)聚合物粘结剂P总重量为 x+y+z= 100%的设定,可以选择x为1~85wt%、y为1~80wt%、z为1~80wt%的任意组合。
通常内涂层组合物中存在的聚合物粘合剂P占内涂层总重量的40~ 99.9wt%,优选70~99.9wt% 。
聚合物粘结剂P可用已知的起始原料(单体和聚合引发剂) 和溶剂及合适的反应条件制备。代表性的合成方法在下文实施例中描述。
为了使本发明的涂层着色,可以在内涂层加入一种背景对比染料。在可见光区域中具有高吸收的染料都合适用作背景对比染料,优选油溶性染料和碱性染料。背景对比染料的具体实例可选自甲基紫、乙基紫、结晶紫、孔雀石绿、亮绿、维多利亚纯蓝、维多利亚蓝R、维多利亚蓝BO、罗丹明B、亚甲基蓝、油溶黄101、油溶绿BG、油溶蓝BOS、油溶蓝603、油溶黑BY、油溶黑T-505、溶剂黑和日本专利公开293247/1987中描述的染料中的一种或几种的混合物。此外,还可以合适地使用诸如酞菁颜料,偶氮颜料和氧化钛的颜料。基于内涂层总重量,所述背景对比染料的添加量为0.1~8wt%,优选为0.1~5wt%。
所述的内涂层还可能包含一种产酸剂,所述产酸剂可选自鎓盐、三嗪、酸酐、磺酸酯中的一种或多种混合。产酸剂是通过热引发分解而产生质子酸的前体,根据电负性的差异,产酸剂可分为非离子型产酸剂和离子型产酸剂,其中非离子型产酸剂包括卤代烷基取代的三嗪,所述三嗪见述于美国专利3,779,778中,例如2-苯基-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)均三嗪、2-甲基-4,6-双(三氯甲基)均三嗪;非离子型产酸剂还包括有机酸的酸酐,例如乙酸酐、邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、马来酸酐、均苯四甲酸二酐;非离子型产酸剂还包括磺酸酯, 例如芳基对甲苯磺酸酯、N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯、磺酸肟酯、重氮萘醌磺酸酯。离子型产酸剂包括鎓盐,其中鎓阳离子为碘鎓、锍鎓、鏻鎓、氧基氧化锍鎓(oxysulphoxonium)、氧基锍鎓(oxysulphonium)、季铵盐、重氮、或鉮鎓,常用的鎓盐包括二苯基碘鎓盐、三苯基锍鎓盐、苯基重氮盐、四烷基季铵盐、四芳基季铵盐、氨基酸内盐和美国专利6,787,281、5,491,046、7,217,499、 7,033,722中描述的产酸剂。本发明优选的产酸剂比如Ciba 公司的Irgacure 250,SanboChemical 公司的TL-TSTF、TL-DITF、PC、BC、ST、PQ-614、RR-4320,Wako公司的WPI-169、WPI-170,以及三嗪A、三嗪B、三嗪D。所述产酸剂的添加量占所述组合物总重量的 0.1~10wt%,优选为1~5wt%。
所述的内涂层还可能包含另一种聚合物粘结剂P1,所述粘结剂P1可选自改性酚醛树酯、聚苯乙烯衍生物、聚氨酯和聚丙烯酸(酯)中的一种或多种,一般而言,从不削弱可成像元件敏感性的观点出发,聚合物粘结剂通常是碱溶性聚合物,本发明优选的聚合物粘结剂P1为酚醛树脂和聚丙烯酸(酯),包括苯酚和甲醛的缩合聚合物、间甲酚和甲醛的缩合聚合物、对甲酚和甲醛的缩合聚合物、间/对混合甲酚和甲醛的缩合聚合物、苯酚与甲酚(间、对或间/对混合物)和甲醛的缩合聚合物、焦榈酚和丙酮的缩合共聚物。所述粘结剂的添加量占所述组合物总重量的1~40wt%,优选1~20wt%。
除此之外,本发明所述的内涂层组合物还可以按常规量包括各种添加剂,例如分散剂、保湿剂、杀生物剂、增塑剂、用于可涂布性或其它性能的表面活性剂、增粘剂、填料和增量剂、pH值调节剂、干燥剂、消泡剂、防腐剂、抗氧化剂、显影助剂、流变性改进剂或它们的组合,或常用于平版印刷技术的任何其它附加物。
在本发明中所述的外涂层组合物需至少包含一种具有波长吸收范围在350-450nm之间的光敏剂,优选自重氮萘醌磺酸酯类化合物,并进一步限定其酯化母体可以是低分子多元酚类化合物,也可以是线性酚醛树脂等酚类高分子化合物;优选采用线性酚醛树脂作为酯化母体的重氮萘醌磺酸酯类光敏剂,例如2,1,4-重氮萘醌磺酸酯化酚醛树脂和2,1,5-重氮萘醌磺酸酯化酚醛树脂中的一种或多种。其它可选的光敏剂还记载在许多出版物中,包括美国专利4971887和5279918及其所引用的参考文献。本发明优选的光敏剂是2,1,4-重氮萘醌磺酸酯化酚醛树脂,比如来源于Merck公司的PW205光敏剂,Sanbo Chemical 公司的PQ-C、PQ-614、RR-4320、RR-5326光敏剂,MS公司的MS-816,青岛蓝帆的412光敏剂和威海天成的KF光敏剂。所述光敏剂的添加量占所述外涂层组合物总重量的5~50wt%,优选10~40wt%。
本发明中的外涂层组合物还需至少包含一种聚合物粘结剂Q,先前文献中已用于多层可成像元件的外层中的任何聚合物粘结剂均可用于本发明的可成像元件中的外涂层组合物。所述聚合物粘结剂Q可衍生自酚醛树酯、聚(羟基苯乙烯)、聚氨酯和聚丙烯酸(酯)中的一种或多种。
优选外涂层中的聚合物粘结剂Q为不溶于水而可溶于碱性显影剂的含多个酚羟基的酚醛树脂,或在主链上或在侧基上含一个或多个酚羟基的其它聚合物。例如线型酚醛树脂、甲阶酚醛树脂、含酚基侧基的丙烯酸树脂、和聚乙烯基酚树脂,优选酚醛树脂。更优选线型酚醛树脂。
线型酚醛树脂有市售并是本领域熟知的。线型酚醛树脂通常通过酚如苯朌、间曱酚、邻曱酚、对曱酚等与醛如甲醛、多聚曱醛、乙醛等或酮如丙酮在酸催化剂存在下的缩合反应制备。重均分子量通常为 1,000到30,000。典型的线型酚醛树脂包括例如苯酚-甲醛树脂、曱酚 -曱醛树脂、苯酚-曱酚-甲醛树脂、对叔丁基苯酚-甲醛树脂和邻苯三酚-丙酮树脂。特别有用的线型酚醛树脂通过采用本领域技术人员熟知的条件使间甲酚、间甲酚与对甲酚的混合物或苯酚与甲醛反应制备。
常用的含羟基的聚合物的实例包括EP0090G, NTR6050 (Asahi);ALNOVOLSPN452、SPN465、 SPN400、 (Clariant GmbH); DURITE PD443、PD423A、PD140A 、 BAKELITE9900、 6564LB、 6866LB03 (Hexion/Bakelite AG)。特别有用的聚合物为下面的实施例中描述的EP0090G、D140A 和LB6564。
除上述酚醛树脂外或代替上述酚醛树脂,外涂层也可含非酚聚合物材料作为成膜基料材料。这样的非酚聚合物材料包括自马来酸酑和一种或多种苯乙烯单体 (即苯乙烯和苯环上有各种取代基的苯乙烯类衍生物) 形成的聚合物、(曱基)丙烯酸酯和一种或多种含羧基的单体形成的聚合物及其混合物。衍生自马来酸酐的聚合物通常包含1-50%摩尔衍生自马来酸酐的重复单元,剩余的重复单元衍生自苯乙烯类单体及任选其他的可聚合单体。衍生自(曱基)丙烯酸酯和含羧基的单体形成的聚合物通常包含80-98%摩尔(甲基)丙烯酸酯的重复单元。含羧基的重复单元可衍生自例如丙烯酸、曱基丙烯酸、衣康酸、马来酸和本领域内熟知的类似单体。
外涂层中的聚合物粘结剂也可使用羟基苯乙烯聚合物,例如含衍生自4-羟基苯乙烯的重复单元。
所述聚合物粘结剂Q的添加量占所述外涂层总重量的50~95wt%,优选60-85 wt%的量存在于外涂层中。
本发明中的外涂层组合还可能包含一种溶解抑制剂,它通常具有极性官能团,其被认为是用作与聚合物粘结剂Q或光敏剂的羟基氢键结合的接受部位。最普通的溶解抑制剂为三芳基甲烷染料如甲基紫、乙基紫、结晶紫、孔雀绿、亮绿、维多利亚蓝B、维多利亚蓝R、维多利亚蓝BO、 BASONYL紫610的一种或多种的混合物。这些化合物也可同时作为外涂层显色的背景染料。
含荷正电(即季铵化)氮原子的化合物也可用作溶解抑制剂,例如四烷基铵化合物、喹啉鎓(quinolinium)化合物、苯并噻唑鎓(benzothiazolium)化合物、吡啶鎓(pyridinium)化合物和咪唑鎓(imidazolium)化合物。代表性的四烷基铵溶解抑制剂化合物包括四丙基溴化铵、四乙基溴化铵、四丙基氯化铵、四甲基烷基氯化铵和三甲基烷基溴化铵如三甲基辛基溴化铵和三甲基癸基氯化铵。代表性的喹啉鎓溶解抑制剂化合物包括1-乙基-2-甲基碘化喹啉盐;代表性的苯并噻唑鎓化合物包括3-乙基-2-甲基碘化苯并噻唑。
重氮盐也可用作溶解抑制剂化合物,其包括例如取代和未取代的二苯胺重氮盐如甲氧基取代的二苯胺重氮六氟磷酸盐。还有酯类化合物也可用作溶解抑制剂化合物的代表性磺酸酯包括苯磺酸乙酯、苯磺酸正己酯、对曱苯磺酸乙酯、对甲苯磺酸叔丁酯和对甲苯磺酸苯酯;代表性的磷酸酯包括磷酸三甲酯、磷酸三乙酯和磷酸三甲苯酯。可用的砜包括含芳基的那些如二苯砜。
当外涂层中存在溶解抑制剂化合物时,其通常占外涂层总重的0.1-20 wt %,优选1-15 wt %。
本发明所述的外涂层还可能包含一种产酸剂,所述产酸剂可选内涂层所述的产酸剂的一种或多种混合,所述产酸剂的添加量占所述外涂层总重量的0.1~10wt%,优选1-5 wt%。
除此之外,本发明所述的外涂层还可以按常规量包括各种添加剂,例如表面活性剂、流平剂、分散助剂、润湿剂、杀生物剂、增粘剂、干燥剂、消泡剂、防腐剂、抗氧化剂。涂料表面活性剂和流平剂是特别有用的。
(二)可成像元件的制备方法
本发明所述的平版印刷印版前体是将上述的内涂层涂覆在所述底基载体上、再将上述的外涂层涂覆在内涂层上而制成。具体地说,是将所述的内涂层和外涂层分别分散或溶解于适合的涂覆溶剂中,并采用适合的设备和程序如旋转涂布、刮刀涂布、凹版涂布、口模式涂布、狭缝涂布、拉棒涂布、绕线棒涂布、辊涂或挤出机料斗涂布,将所述内涂层溶液施加到底基载体的表面上,通过70~160℃烘箱内干燥除去内涂层的溶剂,然后将所述外涂层溶液施加到内涂层的表面上,再一次通过70~160℃烘箱内干燥除去外涂层的溶剂,即得所述平版印刷印版前体。内涂层的覆盖率通常为0.3-3.5g/m2,优选0.5-2.5g/m2;外涂层的覆盖率通常为0.1-3.5g/m2,优选0.3-1.8g/m2。
其中所述涂覆溶剂的选择取决于所述紫外和可见光辐射敏感组合物中的聚合物粘结剂和其他组分的性质,通常使用本领域中熟知的条件和技术,采用包括丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮、甲基异丁基酮、乙二醇、1-甲氧基-2-丙醇、2-乙氧基-乙醇、乳酸甲酯、γ-丁内脂、1,3-二氧戊烷、四氢呋喃和水中的一种或多种。
实际上本发明的可成像元件可以具有任何形式,包括但不限于印刷印版前体、印刷滚筒、印刷套管和印刷带(包括挠性印刷网幅)。优选地,本发明的可成像元件是用于形成平版印刷版的平版印刷印版前体。
(三)可成像元件的成像和显影
对于本发明的实施方案而言,用于将本发明的平版印刷印版前体曝光的激光可以是碳弧灯、高压水银灯、氙灯、金属卤化物灯、荧光灯、钨灯、卤素灯、氦镉激光、氩离子激光、FD—YAG激光、氦氖激光、半导体激光(350nm — 450nm) 对感光层进行图像曝光。目前可商购的图像数码制版机中使用的高性能激光器或激光二极管的发射波长为405 nm,成像设备可以配置为平板式记录器或鼓式记录器,其中可成像元件安装到鼓的内或外圆柱表面。合适的曝光设备例如:CRON(科雷)和AMSKY (保利特)的 CTCP/UV成像机、 BasysPrint 的XeikonUV装置、Liischer的 Xpose UV机、 ECRM 的Nautilius 设备。取决于辐射感光层的感光度,一般采用30 mJ/cm2至500 mJ/cm2,优选 50 mJ/cm2至 300 mJ/cm2的能量进行该成像。
可成像元件的成像过程产生包括成像(曝光)和未成像(未曝光)区域的潜像的准成像元件,然后通过采用适合的碱性显影剂水溶液将准成像元件冲洗除去曝光区域的外涂层及其下面的内涂层而露出底基的亲水表面。更特别地,显影进行的时间应足以除去曝光区域的外涂层和内涂层而不长到足以除去未曝光区域的涂层。因此,该可成像元件是"阳图"的。
在本发明的实施方案中,此种含水碱性显影剂水溶液的pH值通常至少为9,优选至少为11。本发明可选的碱性显影剂水溶液包括DV-UX、DV-T、DV-T1、DV-PT (可从浙江康尔达新材料股份有限公司获得)、GOLDSTAR Developer、GOLDSTAR Plus Developer、GOLDSTARPremium Developer、K300、K400 (都可从 Eastman Kodak Company获得)以及THD-200 (可从Agfa获得),这些碱性显影剂水溶液通常还包括表面活性剂、螯合剂和各种碱性剂例如无机偏硅酸盐、有机偏硅酸盐、氢氧化物和碳酸盐。
碱性显影剂水溶液通常还包含一种或多种可与水混溶的有机溶剂。可用的有机溶剂包括酚与环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物,如乙二醇乙基醚、乙二醇丁基醚、丙二醇单甲醚、丙三醇(醚)等。有机溶剂通常以占总显影剂重量的0.5-15%的量存在。代表性的基于溶剂的碱性显影剂包括ND-1显影剂、955显影剂和956显影剂(可从Eastman Kodak Company买到)。
当可成像元件显影之后,可以用水清洗该可成像元件并按适合的方式干燥,还可以用常规的树胶溶液,优选阿拉伯胶处理其元件,也可以将成像后的元件置于烘烤箱中进行烘烤处理,如在220~240℃下烘烤7~10分钟,或在120℃下烘烤30分钟,这样可进一步提高所得的成像元件的运转寿命。
最后在平版印刷胶印机上将油墨和润版液涂覆到可成像元件的印刷面上进行印刷,通过成像元件未曝光或未去除区域吸收油墨,而曝光区域和经显影处理而露出的基材载体的亲水表面吸收润版溶液,然后将该油墨转移至适合的接收材料如布、纸、金属、玻璃或塑料上,也可以使用“转印布”辊将油墨从可成像元件转移到接收材料上。
与现有技术相比,本发明的上述技术方案具有如下优点:
1、通过设计聚合物粘结剂P,使得本发明的可成像元件可在波长为350~450nm范围内辐射敏感,是一种优良的辐射敏感阳图型平版印刷版前体。由该前体制成的平版印刷印版对异丙醇的侵蚀具有优异的耐抗性,因此利用本发明所述的紫外和可见光敏感组合物制备得到的可成像元件,在印刷过程中不易发生被印刷化学品侵蚀、溶解的现象,从而有利于延长平版印刷印版前体的使用寿命。
2、本发明所述的可成像元件采用双层涂布技术。相比于单层涂布产品,其优点在于将树脂的功能分开到各自的涂层中,最大限度地提高可成像层的抗溶剂性能和感光速度。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的技术方案进行更具体地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。此外,下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。提供下面的实施例是为了说明本发明的实施而非意在以任何方式限制本发明。
以下为聚合物粘结剂P的合成实施例,为便于区别,依合成实施例顺序分别表示为聚合物粘结剂PB-a、聚合物粘结剂PB-b…..等:
合成实施例A聚合物粘结剂PB-a的合成:
将4.0克对-羟基苯基丙烯酰胺、15.5克N-对-甲基苯基马来酰亚胺、0.5克甲基丙烯酸、0.2克自由基引发剂AIBN和60克乙二醇单甲醚加入到装配有加热套、温度控制器、机械搅拌器、冷凝器和氮气进出口的250ml四颈圆底烧瓶中。在氮气保护下将反应混合物加热至70oC,然后在该温度下搅拌反应5小时。补加入0.1克AIBN,继续在氮气保护和65-75 oC下搅拌反应15个小时。冷却后将反应混合物滴加到400克搅拌中的甲醇(加2滴浓盐酸)里。沉淀出来的固体经抽滤收集后,再放入250克的冷水中搅拌15分钟。抽滤收集,放在滤纸上铺开晾干过夜,最后在45度烘箱里烘干。收率13.5克微黄色固体。
合成实施例B聚合物粘结剂PB-b的合成:
将6.0克对-磺酰胺基苯基丙烯酰胺、13.5克N-对-甲基苯基马来酰亚胺、0.5克甲基丙烯酸、 0.2克AIBN和60克N,N-二甲基乙酰胺加入到装配有加热套、温度控制器、机械搅拌器、冷凝器和氮气进出口的250ml四颈圆底烧瓶中。在氮气保护下将反应混合物加热至70oC,然后在该温度下搅拌反应5小时。补加入0.1克AIBN,继续在氮气保护和65-75 oC下搅拌反应15个小时。冷却后将反应混合物滴加到400克搅拌中的甲醇(加2滴浓盐酸)里。沉淀出来的固体经抽滤收集后,再放入250克的冷水中搅拌15分钟。抽滤收集,放在滤纸上铺开晾干过夜,最后在45度烘箱里烘干。收率16.0克微黄色固体。
合成实施例C聚合物粘结剂PB-c的合成:
将7.5克对-磺酰胺基苯基丙烯酰胺、10.5克N-苯基马来酰亚胺、2克甲基丙烯酸甲酯、0.2克AIBN和60克乙二醇单甲醚加入到装配有加热套、温度控制器、机械搅拌器、冷凝器和氮气进出口的200ml四颈圆底烧瓶中。在氮气保护下将反应混合物加热至70 oC,然后在该温度下搅拌反应5小时。补加入0.1克AIBN,继续在氮气保护和65-75 oC下搅拌反应15个小时。冷却后将反应混合物滴加到400克搅拌中的甲醇(加2滴浓盐酸)里。沉淀出来的固体经抽滤收集后,再放入250克的冷水中搅拌15分钟。抽滤收集,放在滤纸上铺开晾干过夜,最后在45度烘箱里烘干。收率17.2克微黄色固体。
合成实施例D聚合物粘结剂PB-d的合成:
将4.5克对-羟基苯基丙烯酰胺、9克N-苯基马来酰亚胺、11克丙烯晴、12克甲基丙烯酸甲酯、3.5克甲基丙烯酸、 0.4克AIBN和120克乙二醇单甲醚加入到装配有加热套、温度控制器、机械搅拌器、冷凝器和氮气进出口的250ml四颈圆底烧瓶中。在氮气保护下将反应混合物加热至70 oC,然后在该温度下搅拌反应5小时。补加入0.2克AIBN,继续在氮气保护和65-75 oC下搅拌反应15个小时。冷却后将反应混合物滴加到800克搅拌中的水(加4滴浓盐酸)里。沉淀出来的固体经抽滤收集后,再放入500克的冷水中搅拌15分钟。抽滤收集,放在滤纸上铺开晾干过夜,最后在45度烘箱里烘干。收率37.9克微黄色固体。
合成实施例E聚合物粘结剂PB-e的合成:
将10.0克N-对-乙基苯基马来酰亚胺、 4.0克对-羟基苯基丙烯酰胺和110克N,N-二甲基乙酰胺加入到装配有加热套、温度控制器、机械搅拌器、冷凝器、恒压滴液漏斗和氮气进出口的250ml多口圆底烧瓶中。恒压滴液漏斗装有 0.4克AIBN溶解于10克N,N-二甲基乙酰胺、4.0克甲基丙烯酸甲酯、4.0克苯乙烯、4.0克甲基丙烯酸、14克丙烯晴的混合液。在氮气保护下将烧瓶里的混合物加热至70 oC,并开始滴加恒压漏斗中的单体混合液到烧瓶中,约30分钟加完,继续在该温度下搅拌反应5小时。补加入0.2克AIBN,继续在氮气保护和65-75oC下搅拌反应15个小时。冷却后将反应混合物滴加到800克搅拌中的水(加4滴浓盐酸)里。沉淀出来的固体经抽滤收集后,再放入500克的冷水中搅拌15分钟。抽滤收集,放在滤纸上铺开晾干过夜,最后在45度烘箱里烘干。收率40.2克微黄色固体。
合成实施例F聚合物粘结剂PB-f的合成:
将6.2克甲基丙烯酰胺、11.6克N-苯基马来酰亚胺、 2.2克甲基丙烯酸、 0.2克AIBN和60克乙二醇单甲醚加入到装配有加热套、温度控制器、机械搅拌器、冷凝器和氮气进出口的200ml四颈圆底烧瓶中。在氮气保护下将反应混合物加热至70 oC,然后在该温度下搅拌反应5小时。补加入0.1克AIBN,继续在氮气保护和65-75 oC下搅拌反应15个小时。冷却后将反应混合物滴加到400克搅拌中的甲醇(加2滴浓盐酸)里。沉淀出来的固体经抽滤收集后,再放入250克的冷水中搅拌15分钟。抽滤收集,放在滤纸上铺开晾干过夜,最后在45度烘箱里烘干。收率18.7克微黄色固体。
合成实施例G聚合物粘结剂PB-g的合成:
将6.0克N,N-二甲基丙烯酰胺、12.8克N-对-羟基苯基马来酰亚胺、 1.2克甲基丙烯酸、0.2克AIBN和60克乙二醇单甲醚加入到装配有加热套、温度控制器、机械搅拌器、冷凝器和氮气进出口的200ml四颈圆底烧瓶中。在氮气保护下将反应混合物加热至70 oC,然后在该温度下搅拌反应5小时。补加入0.1克AIBN,继续在氮气保护和65-75 oC下搅拌反应15个小时。冷却后将反应混合物滴加到400克搅拌中的甲醇(加2滴浓盐酸)里。沉淀出来的固体经抽滤收集后,再放入250克的冷水中搅拌15分钟。抽滤收集,放在滤纸上铺开晾干过夜,最后在45度烘箱里烘干。收率17.9克微黄色固体。
合成实施例H聚合物粘结剂PB-h的合成:
将2.2克丙烯酰胺、5.4克N-苯基马来酰亚胺、 4.0克甲基丙烯酸乙酯、 6.2克丙烯腈、2.2克甲基丙烯酸、 0.2克AIBN和60克乙二醇单甲醚加入到装配有加热套、温度控制器、机械搅拌器、冷凝器和氮气进出口的200ml四颈圆底烧瓶中。在氮气保护下将反应混合物加热至70 oC,然后在该温度下搅拌反应5小时。补加入0.1克AIBN,继续在氮气保护和65-75 oC下搅拌反应15个小时。冷却后将反应混合物滴加到400克搅拌中的甲醇(加2滴浓盐酸)里。沉淀出来的固体经抽滤收集后,再放入250克的冷水中搅拌15分钟。抽滤收集,放在滤纸上铺开晾干过夜,最后在45度烘箱里烘干。收率18.9克微黄色固体。
以下为制备平版印刷版前体的实施例,为便于区别,依合成实施例顺序分别表示为平版印刷版前体PP -a、平版印刷版前体PP -b…..等:
可成像元件实施例1 制备平版印刷版前体(PP-a)
(1)内涂层:将0.50克聚合物粘结剂PB-a和0.01克背景染料维多利亚蓝BO溶解于 6.5克乙二醇单乙醚、 2.0克丁酮-2、 0.5克丁内酯和0.5克水的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将上述组合物溶液涂布在经电化学粗化和阳极氧化处理得到的铝版基上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到1.2克/m2的内涂层重量。内涂层侵泡在异丙醇1分钟没有明显的溶解或脱落,展示其优异的抗醇能力。
(2)外涂层:将0.10克光敏剂PW205、 0.33克酚醛树酯6564LB、和0.01克甲基紫溶解于 5.8克丙二醇单甲醚和3.8克甲基异丁基酮的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将该组合物溶液涂布到上述的内涂层上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到内涂层和外涂层总重量约为2.0克/m2的平版印刷印版前体(PP-a)。
将实施例1制备得到的平版印刷版前体(PP-a)在CRON (科雷)的UVP-820G+型CTcP制版机上使用405nm 激光器,转鼓旋转速度1050rpm,激光功率45mW,进行图形扫描曝光。曝光后的原版在25℃下用Konita DV-UX显影液(来源于浙江康尔达新材料股份有限公司)显影35秒,显影后实施例1得到的平版印刷版前体的曝光部分的涂层完全溶解,而非曝光部分的涂层保留。版材图像清晰、边缘锐利整齐。
可成像元件实施例2 制备平版印刷版前体(PP-b)
(1)内涂层:将0.50克聚合物粘结剂PB-b、0.01克产酸剂WPI-169和0.01克维多利亚蓝BO溶解于 6.5克乙二醇单乙醚、 2.0克丁酮-2、 0.5克丁内酯和0.5克水的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将上述组合物溶液涂布在经电化学粗化和阳极氧化处理得到的铝版基上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到1.2克/m2的内涂层重量。内涂层侵泡在异丙醇1分钟没有明显的溶解或脱落,展示其优异的抗醇能力。
(2)外涂层:将0.10克PW205光敏剂、 0.31克EP-0090G、0.02克产酸剂三嗪D和0.01克甲基紫溶解于 5.8克丙二醇单甲醚和3.8克丁酮-2的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将该组合物溶液涂布到上述的内涂层上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到内涂层和外涂层总重量约为2.0克/m2的平版印刷版前体(PP-b)。
将本实施例制备得到的平版印刷版前体(PP-b)在CRON (科雷)的UVP-820G+型CTcP制版机上使用405nm 激光器,转鼓旋转速度1050rpm,激光功率45mW,进行图形扫描曝光。曝光后的原版在25℃下用水稀释的Konita DV-U显影液显影35秒,显影后所得到的平版印刷版前体的曝光部分的涂层都溶完全,而非曝光部分的涂层保留。图像清晰、边缘锐利整齐。
可成像元件实施例3 制备平版印刷版前体(PP-c)
(1)内涂层:将0.45克聚合物粘结剂PB-c、0.05克酚醛树酯PD494A和0.01克维多利亚蓝BO溶解于 4.5克乙二醇单甲醚、 3.5克丁酮-2、 1.0克丁内酯和1.0克水的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将上述组合物溶液涂布在经电化学粗化和阳极氧化处理得到的铝版基上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到1.2克/m2的内涂层重量。内涂层侵泡在异丙醇1分钟没有明显的溶解或脱落,展示其优异的抗醇能力。
(2)外涂层:将0.09克光敏剂PW205、0.32克酚醛树酯 6564LB、0.02克产酸剂Irgacure 250和0.01克甲基紫溶解于 5.8克丙二醇单甲醚和3.8克丁酮-2的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将该组合物溶液涂布到上述的内涂层上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到内涂层和外涂层总重量约为2.0克/m2的平版印刷版前体(PP-c)。
将本实施例制备得到的平版印刷版前体(PP-c)在CRON (科雷)的UVP-820G+型CTcP制版机上使用405nm 激光器,转鼓旋转速度1050rpm,激光功率45mW,进行图形扫描曝光。曝光后的原版在25℃下用Konita DV-UX显影液显影35秒,显影后所得到的平版印刷版前体的曝光部分的涂层溶解完全,而非曝光部分的涂层保留。图像清晰、边缘锐利整齐。
可成像元件实施例4 制备平版印刷版前体(PP-d)
(1)内涂层:将0.50克聚合物粘结剂PB-d和0.01克维多利亚蓝BO溶解于 4.5克乙二醇单甲醚、 3.5克丁酮-2、 1.0克丁内酯和1.0克水的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将上述组合物溶液涂布在经电化学粗化和阳极氧化处理得到的铝版基上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到1.2克/m2的内涂层重量。内涂层侵泡在异丙醇1分钟没有明显的溶解或脱落,展示其优异的抗醇能力。
(2)外涂层:将0.09克光敏剂MS-816、0.25克酚醛树酯 6564LB、0.08克酚醛树酯PD140A和0.01克甲基紫溶解于 5.8克丙二醇单甲醚和3.8克丁酮-2的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将该组合物溶液涂布到上述的内涂层上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到内涂层和外涂层总重量约为2.0克/m2的平版印刷版前体(PP-d)。
将本实施例制备得到的平版印刷版前体(PP-d)在CRON (科雷)的UVP-820G+型CTcP制版机上使用405nm 激光器,转鼓旋转速度1050rpm,激光功率45mW,进行图形扫描曝光。曝光后的原版在25℃下用水稀释的Konita DV-T显影液显影25秒,显影后所得到的平版印刷版前体的曝光部分的涂层溶解完全,而非曝光部分的涂层保留。图像清晰、边缘锐利整齐。
可成像元件实施例5 制备平版印刷版前体(PP-e)
(1)内涂层:将0.50克聚合物粘结剂PB-e和0.01克维多利亚蓝BO溶解于 4.5克乙二醇单甲醚、 3.5克丁酮-2、 1.0克丁内酯和1.0克水的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将上述组合物溶液涂布在经电化学粗化和阳极氧化处理得到的铝版基上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到1.2克/m2的内涂层重量。内涂层侵泡在异丙醇1分钟没有明显的溶解或脱落,展示其优异的抗醇能力。
(2)外涂层:将0.10克光敏剂MS-816、0.32克酚醛树酯SPN400和0.01克甲基紫溶解于 5.8克丙二醇单甲醚和3.8克丁酮-2的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将该组合物溶液涂布到上述的内涂层上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到内涂层和外涂层总重量约为2.0克/m2的平版印刷版前体(PP-e)。
将本实施例制备得到的平版印刷版前体(PP-e)在CRON (科雷)的UVP-820G+型CTcP制版机上使用405nm 激光器,转鼓旋转速度1050rpm,激光功率45mW,进行图形扫描曝光。曝光后的原版在25℃下用Konita DV-T显影液和乙二醇乙醚混合后实施显影35秒,显影后所得到的平版印刷版前体的曝光部分的涂层溶解完全,而非曝光部分的涂层保留。图像清晰、边缘锐利整齐。
可成像元件实施例6 制备平版印刷版前体(PP-f)
(1)内涂层:将0.50克聚合物粘结剂PB-f和0.01克维多利亚蓝BO溶解于 6.5克乙二醇单乙醚、 2.0克丁酮-2、 0.5克丁内酯和0.5克水的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将上述组合物溶液涂布在经电化学粗化和阳极氧化处理得到的铝版基上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到1.2克/m2的内涂层重量。内涂层侵泡在异丙醇1分钟没有明显的溶解或脱落,展示其优异的抗醇能力。
(2)外涂层:将0.10克光敏剂PW205、 0.33克酚醛树酯LB6564和0.01克甲基紫溶解于 5.8克丙二醇单甲醚和3.8克丁酮-2的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将该组合物溶液涂布到上述的内涂层上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到内涂层和外涂层总重量约为2.0克/m2的平版印刷版前体(PP-f)。
将本实施例制备得到的平版印刷版前体(PP-f)在CRON (科雷)的UVP-820G+型CTcP制版机上使用405nm 激光器,转鼓旋转速度1050rpm,激光功率45mW,进行图形扫描曝光。曝光后的原版在25℃下用Konita DV-T显影液和乙二醇甲醚混合后实施显影35秒,显影后所得到的平版印刷版前体的曝光部分的涂层溶解完全,而非曝光部分的涂层保留。图像清晰、边缘锐利整齐。
可成像元件实施例7 制备平版印刷版前体(PP-g)
(1)内涂层:将0.45克聚合物粘结剂PB-g、0.05克甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸共聚物和0.01克维多利亚蓝BO溶解于 6.5克乙二醇单乙醚、 2.0克丁酮-2、 0.5克丁内酯和0.5克水的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将上述组合物溶液涂布在经电化学粗化和阳极氧化处理得到的铝版基上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到1.2克/m2的内涂层重量。内涂层侵泡在异丙醇1分钟没有明显的溶解或脱落,展示其优异的抗醇能力。
(2)外涂层:将0.10克光敏剂PW205、 0.32克酚醛树酯LB6564、0.01克产酸剂BC和0.01克甲基紫溶解于 5.8克丙二醇单甲醚和3.8克丁酮-2的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将该组合物溶液涂布到上述的内涂层上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到内涂层和外涂层总重量约为2.0克/m2的平版印刷版前体(PP-g)。
将本实施例制备得到的平版印刷版前体(PP-g)在CRON (科雷)的UVP-820G+型CTcP制版机上使用405nm 激光器,转鼓旋转速度1050rpm,激光功率45mW,进行图形扫描曝光。曝光后的原版在25℃下用水稀释的Konita DV-T显影液实施显影35秒,显影后所得到的平版印刷版前体的曝光部分的涂层溶解完全,而非曝光部分的涂层保留。图像清晰、边缘锐利整齐。
可成像元件实施例8 制备平版印刷版前体(PP-h)
(1)内涂层:将0.25克聚合物粘结剂PB-h、0.25克聚合物粘结剂PB-f和0.01克维多利亚蓝BO溶解于 6.5克乙二醇单乙醚、 2.0克丁酮-2、 0.5克丁内酯和0.5克水的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将上述组合物溶液涂布在经电化学粗化和阳极氧化处理得到的铝版基上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到1.2克/m2的内涂层重量。内涂层侵泡在异丙醇1分钟没有明显的溶解或脱落,展示其优异的抗醇能力。
(2)外涂层:将0.10克光敏剂PW205、 0.32克酚醛树酯LB6564、0.01克产酸剂三嗪B和0.02克甲基紫溶解于 5.8克丙二醇单甲醚和3.8克丁酮-2的溶剂混合物中。利用旋转涂布方法将该组合物溶液涂布到上述的内涂层上,然后在145℃烘箱内干燥3分钟,得到内涂层和外涂层总重量约为2.1克/m2的平版印刷版前体(PP-h)。
将本实施例制备得到的平版印刷版前体(PP-h)在CRON (科雷)的UVP-820G+型CTcP制版机上使用405nm 激光器,转鼓旋转速度1050rpm,激光功率45mW,进行图形扫描曝光。曝光后的原版在25℃下用水稀释的Konita DV-T显影液实施显影35秒,显影后所得到的平版印刷版前体的曝光部分的涂层溶解完全,而非曝光部分的涂层保留。图像清晰、边缘锐利整齐。
Claims (16)
1.一种紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于包含:
(a)底基;
(b)覆盖在底基上方的内涂层, 所述内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体和丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P;
(c)覆盖在内涂层上方的外涂层,所述外涂层包含一种光敏剂和不同于内涂层的另一种聚合物粘结剂Q。
2.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述的内涂层所包含的聚合物粘结剂P可由下面构造式(I)表示:
— (A) x—(B)y—(C)z—
(I)
A代表衍生自一种或多种马来酰亚胺单体 ( ) 的重复单元,其中R 可以任选取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基; B代表衍生自一种或多种丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺单体 ( ) 的重复单元,其中R1可以任选氢、取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基;R2可以任选氢或甲基; C代表衍生自一种或多种不同于A和B的其它烯键式不饱和可聚合单体的重复单元;其中基于构造式(I)聚合物粘结剂P的总重量 x+y+z= 100%,其中x为1~85wt%、y为1~80wt%、z为1~80wt%的任意组合。
3.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件, 其特征在于:所述聚合物粘合剂P占内涂层总重量的40 ~ 99.9 wt%。
4.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件, 其特征在于:所述的内涂层还包含一种背景对比染料,所述背景对比染料为在可见光区域中具有高吸收的染料,所述背景对比染料的添加量占所述内涂层总重量的0.1~8 wt%。
5.根据权利要求4所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述背景对比染料为油溶性染料和/或碱性染料中的一种或多种混合。
6.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述的内涂层还包含一种产酸剂,所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.1~10 wt%。
7.根据权利要求6所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述产酸剂为鎓盐、三嗪、磺酸酯中的一种或多种。
8.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述内涂层还包含一种聚合物粘结剂P1,所述聚合物粘结剂P1可选自酚醛树酯、聚苯乙烯衍生物、聚氨酯和不同于聚合物粘结剂P的聚丙烯酸酯中的一种或多种,所述粘结剂P1的添加量占所述内涂层总重量的1~60 wt%。
9.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述的外涂层包含一种具有波长吸收范围在350-450nm之间的光敏剂和不同于内涂层的另一种聚合物粘结剂Q;所述光敏剂的添加量占所述外涂层总重量的5~50wt%;所述聚合物粘结剂Q的添加量占所述外涂层总重量的50~95wt%。
10.根据权利要求9所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件, 其特征在于:所述的光敏剂选自重氮萘醌磺酸酯类化合物的一种或多种;所述聚合物粘结剂Q选自酚醛树酯、聚羟基苯乙烯、聚氨酯和聚丙烯酸酯中的一种或多种。
11.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述外涂层还包含一种溶解抑制剂,所述溶解抑制剂为三芳基甲烷染料、鎓盐、酮或酯类化合物中的一种或多种,所述溶解抑制剂的添加量占所述外涂层总重量的0.1~20wt%。
12.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述外涂层还可以选择包含一种产酸剂,所述产酸剂可选自鎓盐、三嗪、磺酸酯的一种或多种,所述产酸剂的添加量占所述外涂层总重量的0.2~10 wt%。
13.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件,其特征在于:所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件为一种具有亲水性底基的阳图型平版印刷版前体,所述亲水性底基为一种经电解粗糙化及阳极氧化处理的铝基材。
14.一种权利要求1-13任一项所述的紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件形成图像的方法,其特征在于:所述方法包括:A) 对所述的可成像元件实施按图像曝光,从而形成含曝光和未曝光区域的已成像元件;B) 使所述已成像元件与一种碱性显影剂接触以仅除去所述曝光区域,制成已成像并显影的元件。
15.根据权利要求14所述的形成图像的方法,其特征在于:所述按图像曝光是采用波长350-450 nm的紫外和可见光激光器进行辐射;并且所述碱性显影剂是pH值小于14的水性溶液。
16.权利要求14所述的方法制得的平版印刷版。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202010035664.7A CN111123646A (zh) | 2020-01-14 | 2020-01-14 | 一种紫外和可见光敏感的阳图型可成像元件及其形成图像的方法 |
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CN (1) | CN111123646A (zh) |
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