JP2002254510A

JP2002254510A - フレキシブルディスク用二軸配向ポリエステルフィルム

Info

Publication number: JP2002254510A
Application number: JP2001056435A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Ogawa; 達也小川; Hirobumi Murooka; 博文室岡
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2001-03-01
Filing date: 2001-03-01
Publication date: 2002-09-11

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】フレキシブルディスク用ベースフィルムその
ものの寸法安定性と、ベースフィルムに磁性層を塗布す
る際に加わる張力によって寸法安定性が悪化しない、接
着性、耐ブロッキング性及び塗工性に優れたフレキシブ
ルディスク用二軸配向ポリエステルフィルムを提供す
る。【解決手段】（ａ）フィルム表面内における屈折率と
裏面内における屈折率の差が０〜０．００２の範囲にあ
り、（ｂ）無荷重下、３０分間、１０５℃で加熱したと
きの熱収縮率がフィルム面内の全ての方向で０〜０．６
％の範囲にあり、（ｃ）フィルム表面の、大きさ１０μ
ｍ以上、高さ０．２７μｍ以上の粗大突起の数が１００
ｃｍ²当たり２０個以下であり、かつ（ｄ）フィルム表
面の中心線平均粗さＲａが１〜６ｎｍ、１０点平均粗さ
Ｒｚが２０〜１５０ｎｍの範囲にあることを特徴とする
フレキシブルディスク用二軸配向ポリエステルフィル
ム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はフレキシブルディス
ク用二軸配向ポリエステルフィルムに関し、さらに詳し
くは加工時、加工後の寸法変化がなく、ハンドリング
性、電磁変換特性に優れた大容量フレキシブルディスク
用二軸配向ポリエステルフィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】二軸配向ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、二軸配向ポリエチレンナフタレートフィルムに
代表される二軸配向ポリエステルフィルムは、その優れ
た物理的、化学的特性の故に、特に磁気記録媒体のベー
スフィルムとして広く用いられている。そして、近年で
は磁性層との接着性向上、および磁気記録媒体製造の工
程簡易化（生産効率化）の目的から、二軸配向ポリエス
テルフィルムに易接着層を塗布した易接着性ポリエステ
ルフィルムがその主流になりつつある。

【０００３】一方、パーソナルコンピュータ等の普及と
ともに記憶装置としてのフロッピー（登録商標）ディス
クドライブ装置およびフロッピーディスクが広く普及
し、またフロッピーディスクの大容量化、高密度化も平
行して進行しつつある。そこで、べースフィルムとし
て、表面性がより平坦で、且つ、よりハンドリング性の
向上したものが求められている。

【０００４】更には、近年のノート型パーソナルコンピ
ュータの性能向上に伴い、フロッピードライブ等を搭載
したタイプのパーソナルコンピュータではドライブ内の
温度が高く、高密度磁気記録媒体の寸法安定性が極めて
重要な課題となっている。

【０００５】また、ベースフィルムとして、表面性のよ
り平坦なものが求められるようになり、耐ブロッキング
性の向上がさらに要求されるようになってきた。あわせ
て、ベースフィルムの表面性の平坦化に伴い、塗布欠点
が磁気テープの電磁変換特性に影響を及ぼし易くなって
きており、市場からは塗布欠点のない塗工性に優れた易
接着性ポリエステルフィルムが望まれている。

【０００６】これらの要望に応えるものとして、ＷＯ
００／２１７３１に記載のベースフィルムが提供され、
成果を挙げてきたが、高密度大容量、低エラーレート化
に関する市場の要求水準がより一段と高くなり、対応が
求められている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フロ
ッピーディスク等のフレキシブルディスク用ベースフィ
ルムそのものの寸法安定性と、ベースフィルムに磁性層
を塗布する際に加わる張力によって寸法安定性が悪化し
ない、平坦で且つハンドリング性に優れ、エラーにつな
がる粗大突起が非常に少ない、特に高密度大容量磁気記
録フレキシブルディスクに有用な二軸配向ポリエステル
フィルムを提供することにある。

【０００８】本発明の他の目的は、上記特性に加えて、
接着性、耐ブロッキング性及び塗工性に優れたフレキシ
ブルディスク用二軸配向ポリエステルフィルムを提供す
ることにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、第１に、（ａ）フィルム表面内における屈折
率と裏面内における屈折率の差が０〜０．００２の範囲
にあり、（ｂ）無荷重下、３０分間、１０５℃で加熱し
たときの熱収縮率がフィルム面内の全ての方向で０〜
０．６％の範囲にあり、（ｃ）フィルム表面の、大きさ
１０μｍ以上、高さ０．２７μｍ以上の粗大突起の数が
１００ｃｍ²当たり２０個以下であり、かつ（ｄ）フィ
ルム表面の中心線平均粗さＲａが１〜６ｎｍ、１０点平
均粗さＲｚが２０〜１５０ｎｍの範囲にあることを特徴
とするフレキシブルディスク用二軸配向ポリエステルフ
ィルムによって達成される。

【００１０】さらに、この二軸配向ポリエステルフィル
ムは、好ましい実施態様として、（１）フィルムの厚み
が２０〜８０μｍであること、（２）フィルム中に平均
粒径０．０１〜０．２μｍの不活性微粒子（Ａ）を０．
１〜０．５重量％含有すること、（３）不活性微粒子
（Ａ）が球状シリカ粒子であること、（４）フィルム中
に平均粒径０．０１〜０．２μｍの不活性微粒子（Ａ）
を０．１〜０．５重量％及び平均粒径０．２５〜０．８
μｍの不活性微粒子（Ｂ）を０．００１〜０．１重量％
含有すること、（５）該不活性微粒子（Ａ）が球状シリ
カ粒子であり、不活性微粒子（Ｂ）が球状シリカ粒子及
び／又は耐熱性高分子粒子であること、特に該不活性微
粒子（Ａ）、（Ｂ）が、それぞれ球状シリカ粒子である
こと、（６）該不活性微粒子（Ａ）、（Ｂ）が、それぞ
れ、微粒子の９９％以上の粒子粒径が平均粒径aに対し
て０.５a〜１.５aの範囲内にあり、該微粒子の８０％以
上の粒子粒径が平均粒径aに対して０.８a〜１.２aの範
囲内にあること、（７）フィルムの両面に平均粒径１０
〜２００ｎｍのコロイド粒子（Ｃ）を含有する易接着層
が設けてあり、該層の樹脂成分が主としてスルホン酸塩
基を含有する水性ポリエステル樹脂からなること、
（８）易接着層が、（Ａ）分子内にスルホン酸塩基を５
〜１８モル％（全ジカルボン酸成分当たり）有し、かつ
ガラス転移温度が５０〜８５℃の水性ポリエステル樹
脂、（Ｂ）ＨＬＢ値が１１〜２０のポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル界面活性剤および（Ｃ）平均
粒径が１０〜２００ｎｍのコロイド粒子を含み、かつ該
（Ｂ）成分および（Ｃ）成分が、前記（Ａ）成分１００
重量部に対して、（Ｂ）成分１〜１００重量部および
（Ｃ）成分５〜１５０重量部を含有してなる塗布層であ
ること、（９）易接着層の厚み（ｎｍ）とコロイド粒子
（Ｃ）の平均粒径（ｎｍ）との関係が下記（１）式

【００１１】

【数２】

【００１２】を満足すること、（１０）コロイド粒子
（Ｃ）が球状シリカ粒子または耐熱性高分子粒子である
こと、（１１）ポリエステルがポリエチレン―２，６―
ナフタレンジカルボキシレートであること、（１２）フ
レキシブルディスクの容量が１００ＭＢであること、な
どの一つ以上を満足することを包含している。

【００１３】[ポリエステル]本発明におけるポリエステ
ルは、芳香族カルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グ
リコールを主たるグリコール成分とするポリエステルで
ある。このポリエステルは実質的に線状であり、フィル
ム形成性、特に溶融成形によるフィルム形成性を有す
る。

【００１４】前記芳香族ジカルボン酸としては、例え
ば、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、イソフタ
ル酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルジ
カルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェ
ニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボ
ン酸、アンスラセンジカルボン酸などを挙げることがで
きる。

【００１５】また、前記脂肪族グリコールとしては、例
えば、エチレングリコール、トリメチレングリコール、
テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、デカメチレングリコー
ルなどの如き炭素数２〜１０のポリメチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール
などを挙げることができる。

【００１６】かかるポリエステルの中でも、アルキレン
テレフタレートおよび／またはアルキレンナフタレンジ
カルボキシレート（アルキレンナフタレートと云うこと
がある）を主たる繰り返し構成成分とするものが好まし
い。さらには、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レン―２，６―ナフタレート系ポリエステルであって、
全ジカルボン酸成分の８０モル％以上、更には９０モル
％以上がテレフタル酸または２，６―ナフタレンジカル
ボン酸であり、全グリコール成分の８０モル％以上、更
には９０モル％以上がエチレングリコールである単一重
合体ないし共重合体が好ましい。なかでもエチレン―
２，６―ナフタレート成分が９５モル％以上のポリエス
テルは、二軸配向フィルムが加工時の張力や、使用時の
温度上昇に対する寸法安定性に優れる点で、特に好まし
い。

【００１７】この共重合体の場合、全酸成分の２０モル
％未満、更には１０モル％未満は、テレフタル酸または
２，６―ナフタレンジカルボン酸以外の上記ジカルボン
酸であることができ、また、例えばアジビン酸、ゼバチ
ン酸などの如き脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキサン―
１，４―ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸である
ことができる。また、全グリコール成分の２０用モル％
未満、更には１０モル％未満はエチレングリコール以外
の上記グリコールであることができ、また、例えばハイ
ドロキノン、レゾルシン、２，２―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）プロパンなどの如き芳香族ジオール、１，
４―ジヒドロキシジメチルベンゼンの如き芳香環を有す
る脂肪族ジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなど
の如きポリアルキレングリコール（ポリオキシアルキレ
ングリコール）などであることもできる。

【００１８】また、本発明におけるポリエステルには、
例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω―
ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸などのオキ
シカルボン酸を、ジカルボン酸成分とオキシカルボン酸
成分の総量に対して２０モル％以下、更にには１０モル
％以下の量で共重合したものも包含される。この共重合
量が２０モル％を超えると、物理的、化学的性質が低下
し、フレキシブルディスクのベースフィルムとして使用
することが難しい。

【００１９】さらに、本発明におけるポリエステルに
は、実質的に線状である範囲の量、例えば、全酸成分に
対して２モル％以下の量で、三官能以上のポリカルボン
酸成分またはポリヒドロキシ化合物成分、例えばトリメ
リット酸またはペンタエリスリトールなどを共重合した
ものも包含される。この共重合量が２モル％を超える
と、線状ポリマーとしての特性が損なわれ、フィルムの
形成性が低下する。

【００２０】上記のポリエステルはそれ自体公知であ
り、公知の溶融重合法で製造することができる。そし
て、得られるポリエステルの重合度は、o―クロロフェ
ノール溶液中、３５℃で測定して求めた固有粘度が０．
４〜０．９程度、更には０．４５〜０．７５のものが好
ましい。固有粘度が０．４未満では、所望の物性が得ら
れず、一方固有粘度が０．９を超えると、成形が困難と
なる。

【００２１】[フィルム物性]本発明における二軸配向ポ
リエステルフィルムは、フィルム表面内における屈折率
と、これと同方向の、裏面内における屈折率との表裏差
が０〜０．００２の範囲にあることが必要である。好ま
しくは０〜０.００１である。この屈折率の表裏差が０.
００２より大きいと、磁性層を塗布した後のキュアリン
グの際にフィルムがカールをしてしまい、出来上がった
フレキシブルディスクの平面性が損なわれて使用できな
くなる。

【００２２】前記二軸配向ポリエステルフィルムは、さ
らに１０５℃３０分間の無荷重下で保持したときの熱収
縮率が、フィルム面内の全ての方向で、０〜０.６％で
あることが必要である。好ましくは０〜０.５％であ
る。この熱収縮率が０．６％より大きいと、磁性層を塗
布した後のフレキシブルディスクの熱収縮率も大きくな
り、トラックずれ等の問題が生じる。

【００２３】前記二軸配向ポリエステルフィルムは、フ
ィルム両面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が１〜６ｎｍ、好
ましくは２〜５ｎｍであることが必要である。この表面
粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ未満ではフィルム製造時に極端に
傷が発生しやすく、一方６ｎｍを超えると、記録出力が
低下するため好ましくない。なお、この中心線平均粗さ
は、易接着層がフィルム表面に積層されている場合は易
接着層表面を測定した値を意味する。

【００２４】さらに、前記二軸配向ポリエステルフィル
ムは、フィルム表面の、大きさ１０μｍ以上、高さ０．
２７μｍ以上の粗大突起の数が１００ｃｍ²当たり２０
個以下であり、１０点平均粗さＲｚが２０〜１５０ｎｍ
の範囲にあることが必要である。この粗大突起の数が１
００ｃｍ²当たり２０個を超えると、容量１００ＭＢ以
上のフレキシブルディスクのベースフィルムとして用い
る場合にエラーが増加し、信頼性が低下する。また、１
０点平均粗さＲｚが２０ｎｍ未満であると、フィルム製
造時に極端に傷が発生しやすく、一方１５０ｎｍを超え
ると、記録出力が低下し、エラーレートが増加するた
め、好ましくない。

【００２５】[不活性微粒子]かかる表面特性を満足させ
るためには、フィルム中に平均粒径０.０１μｍ以上
０．２μｍ以下の不活性微粒子（Ａ）を０．１〜０．５
重量％含有させのが好ましく、さらには該不活性微粒子
（Ａ）との併用で平均粒径０．２５μｍ以上０．８μｍ
以下の不活性微粒子（Ｂ）を０．００１〜０．１重量％
含有させるのが好ましい。

【００２６】かかる微粒子としては外部添加粒子が好ま
しく、内部析出粒子は粒径のコントロールが難しいた
め、これを主な粒子とすることは好ましくない。外部添
加粒子としては、例えば炭酸カルシウム、球状シリカ、
凝集シリカ、アルミナ、有機粒子（例えば、架橋ジビニ
ルベンゼン粒子、架橋シリコーン粒子など）などを好ま
しく挙げることができる。これら微粒子は単一粒子（非
凝集粒子）か凝集粒子からなるが、表面粗さの再現性、
粗大な突起を減少させる等の観点から、単一粒子、特に
球状シリカ、有機粒子を主な粒子として含有させる場合
が好ましい。かかる単一粒子は、更に、球状粒子である
ことが好ましい。また、粒径の異なる単一粒子を組合せ
て（例えば、球状シリカと炭酸カルシウムを組合せて、
または球状シリカと球状シリカを組合せて）添加しても
よく、粒径の異なる単一粒子と凝集粒子を組合せて（例
えば、コロイダルシリカ、炭酸カルシウムまたは有機粒
子とアルミナを組合せて）添加してもよいが、前者の方
が好ましい。

【００２７】不活性微粒子（Ａ）の平均粒径は０．０１
μｍ以上０．２μｍ以下、好ましくは０．０１μｍ以上
０．１８μｍ未満、更に好ましくは、０．０５μｍ以上
０．１５μｍ未満である。この平均粒径が０．０１μｍ
未満ではフィルムの易滑性が十分ではなく、一方０．２
μｍ超では記録出力が低下するため好ましくない。該微
粒子の含有量は所定の表面粗さを得るために０．１〜
０．５重量％の範囲で適宜選択される。好ましくは０．
１〜０．３重量％である。

【００２８】また、不活性微粒子（Ｂ）の平均粒径は、
０．２５μｍ以上０．８μｍ以下、好ましくは０．２５
ｍ以上０．７μｍ未満、更に好ましくは０．２５μｍ以
上０．６μｍ未満である。この平均粒径が０．２５μｍ
未満ではフィルムの易滑性が不十分となり易く、一方
０．８μｍ超では記録出力が低下するため好ましくな
い。該微粒子の含有量は所定の摩擦係数を得るため０．
００１〜０．１重量％範囲で適宜選択される。好ましく
は０．００５〜０．０５重量％である。

【００２９】また、不活性微粒子（Ａ）、（Ｂ）を併用
する場合、不活性微粒子（Ａ）が小粒子、不活性微粒子
（Ｂ）が大粒子となり、これらの平均粒径の差は少なく
とも０．１５μｍであることが好ましい。さらに、不活
性微粒子（Ａ）、（Ｂ）は、それぞれ、球状シリカ粒子
であることが好ましい。

【００３０】前記不活性微粒子（Ａ）、（Ｂ）、特に球
状シリカ粒子は、その９９％以上の粒子粒径が、平均粒
径ａに対して、０．５ａ〜１.５ａ、更には０．７ａ〜
１.３ａの範囲内にあることが好ましい。さらに、該微
粒子の８０％以上の粒子粒径が平均粒径aに対して０.８
a〜１.２a、更には０．９ａ〜１．１ａの範囲内にあ
る、ことが好ましい。このような微粒子を用いることに
よって、フィルム表面の粗大突起の数を効率よく低減す
ることができる。

【００３１】[易接着層]本発明における二軸配向ポリエ
ステルフィルムは、フィルム同士の静摩擦係数（μｓ）
が０．５５以下であることが好ましい。また、動摩擦係
数（μｄ）は、０．２〜０．５５であることが好まし
い。動摩擦係数（μｄ）が０.５５を超えると、製膜工
程中および磁性層塗布加工中でのハンドリング性が悪く
なり、例えば工程内のロール上での走行中またはロール
状に巻取る際にしわやスクラッチといった欠点を生じ
る。

【００３２】本発明における二軸配向ポリエステルフィ
ルムは、前記した摩擦係数を得るために、コロイド粒
子、特に単分散粒子を含有した易接着層をフィルム表面
に積層することが好ましい。この層は磁性層との接着性
を向上する層（易接層）であるが、磁性層を設ける迄は
コロイド粒子を層の表面に保持している為に易滑層にも
なる。

【００３３】この易接層は、（Ａ）分子内にスルホン酸
塩基を５〜１８モル％（全ジカルボン酸成分当たり）有
し、かつガラス転移温度が５０〜８５℃の水性ポリエス
テル樹脂、（Ｂ）ＨＬＢ値が１１〜２０のポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル界面活性剤、および
（Ｃ）平均粒径が１０〜２００ｎｍのコロイド粒子を含
み、かつ該（Ｂ）成分および（Ｃ）成分が、前記（Ａ）
成分１００重量部に対して（Ｂ）成分１〜１００重量部
および（Ｃ）成分５〜１５０重量部を含有してなる塗布
層であることが好ましい。

【００３４】前記水性ポリエステル樹脂（Ａ）の分子内
に含有されるスルホン酸塩基は、―ＳＯ₃Ｍ（ここで、
Ｍは、―ＳＯ₃と同当量の金属原子、アンモニウム基ま
たは第４級アミンである。）で表される基が好ましく、
その割合は、全ジカルボン酸成分当たり、５〜１８モル
％、好ましくは８〜１６モル％、特に好ましくは９〜１
２モル％である。この割合が５モル％未満では、ポリエ
ステル樹脂の水分散性や塗工性が悪くなり、一方１８モ
ル％を超えると、接着性や耐ブロッキング性が低下する
ので好ましくない。

【００３５】ポリマー分子内にスルホン酸塩基を導入す
るには、スルホン酸塩基を有する二官能性化合物、例え
ば５―Ｎａスルホイソフタル酸、５―アンモニウムスル
ホイソフタル酸、４―Ｎａスルホイソフタル酸、４―メ
チルアンモニウムイソフタル酸、２―Ｎａスルホイソフ
タル酸、５―Ｋスルホイソフタル酸、４―Ｋスルホイソ
フタル酸、２―Ｋスルホテレフタル酸などのスルホン酸
塩基を有するジカルボン酸成分、あるいは下記一般式
（１）、（２）で示されるスルホン酸塩基を有するジヒ
ドロキシ化合物などを用いることが好ましい。

【００３６】

【化１】

【００３７】（ここで、ｍ、ｎは１〜２の数で、ｍ＋ｎ
は２〜４である。）あるいは

【００３８】

【化２】

【００３９】（ここで、ｐ、ｑは１〜２の数で、ｐ＋ｑ
は２〜４である。）これらの中、スルホン酸塩基を有するジカルボン酸成分
が好ましく、またこれらは２種以上用いることができ
る。

【００４０】前記水性ポリエステル樹脂（Ａ）を構成す
る酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタ
ル酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４'―ジ
フェニルジカルボン酸、１，４―シクロヘキサンジカル
ボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピ
ロメリット酸、ダイマー酸などを例示することができ
る。これらの成分は２種以上を用いることができる。

【００４１】さらに、これら成分とともに、マレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などの如き不飽和多塩基酸
やｐ―ヒドロキシ安息香酸、ｐ―（β―ヒドロキシエト
キシ）安息香酸などの如きヒドロキシカルボン酸を小割
合用いることができる。不飽和多塩基酸成分やヒドロキ
シカルボン酸成分の割合は、高々１０モル％、好ましく
は５モル％以下である。これら酸成分の割合が１０モル
％を超えると、ポリエステル樹脂の耐削れ性や耐ブロッ
キング性が低下する。

【００４２】また、前記水性ポリエステル樹脂（Ａ）を
構成するジヒドロキシ化合物成分としては、エチレング
リコール、１，４―ブタンジオール、ネオペンチルグリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、１，６―ヘキサンジオー
ル、１，４―シクロヘキサンジメタノール、キシリレン
グリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、
トリメチロールプロパン、ポリ（エチレンオキシド）グ
リコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコー
ル、ビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加物など
を例示することができる。これら成分は２種以上を用い
ることができる。

【００４３】前記水性ポリエステル樹脂（Ａ）のガラス
転移温度（ＤＳＣ法）は、５０〜８５℃、好ましくは６
０〜８０℃、さらに好ましくは６５〜７５℃である。こ
のガラス転移温度が５０℃未満では、易接着層の耐削れ
性や耐ブロッキング性が低下し、一方８５℃を超える
と、接着性や塗工性が低下する。

【００４４】前記水性ポリエステル樹脂（Ａ）は、ポリ
エステルの製造法として知られているいずれの方法でも
製造することができる。その際、ジカルボン酸成分およ
びジビドロキシ化合物成分の種類、割合は、上述したポ
リマー特性から勘案して適宜選択することができる。ま
た、水性ポリエステル樹脂の数平均分子量は自由に選び
得るが、５，０００〜２８，０００が好ましい。この数
平均分子量が５，０００未満であると、所望のポリマー
特性が得られず、易接着層の耐削れ性や耐ブロッキング
性が低下し、一方２８，０００を超えると、均一な塗液
を形成させることが困難となり、接着性や塗工性が低下
する。

【００４５】前記界面活性剤（Ｂ）はポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル界面活性剤であって、ＨＬ
Ｂ値が１１〜２０のものである。この界面活性剤（Ｂ）
は、（Ａ）水性ポリエステル樹脂１００重量部に対し、
１〜１００重量部、更には３〜７０重量部用いられるこ
とが好ましい。

【００４６】前記ポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテル界面活性剤としては、例えば、下記一般式
（３）で示されるポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテルを挙げることができる。

【００４７】

【化３】

【００４８】この化合物は、ｎ＝８・５のときＨＬＢ値
１２・６、またｎ＝３０のときＨＬＢ値１７．１であ
る。

【００４９】そして、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル界面活性剤のＨＬＢ値が２０を超えると、
親水性が強く、塗液の塗工性か低下し、一方１１未満で
は、界面の特性が弱く、塗液の安定性が低下し、同じく
塗工性が低下する。また、上記界面活性剤の使用量が１
重量部未満では界面の特性がやや弱く、塗液の安定性が
低下し、一方１００重量部を超えると、塗液中の水性ポ
リエステル樹脂の含有率が低下し、接着性が低下する。

【００５０】前記界面活性剤（Ｂ）の使用に際しては、
ＨＬＢ値が１１〜２０の範囲にある異なったＨＬＢ値の
界面活性剤を組み合わせるのが好ましく、特に水性ポリ
エステル樹脂（Ａ）１００重量部に対し、ＨＬＢ値が１
１〜１３のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル界面活性剤０．５〜５０重量部とＨＬＢ値が１３〜２
０のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル界面
活性剤０．５〜９９．５重量部を使用するのが好まし
い。このＨＬＢ値範囲１３〜２０の界面活性剤のＨＬＢ
値としては、１３〜１９が好ましく、１７〜１８がさら
に好ましい。

【００５１】かかる組み合わせにより、使用する界面活
性剤の親水性と親油性のバランスが好適に設定されるの
で、塗工性に優れ、かつ耐ブロッキング性と接着性を兼
ね備えた特性が得られる。

【００５２】前記コロイド粒子（Ｃ）の平均粒径は、１
０〜２００ｎｍ、好ましくは３０〜１５０ｎｍ、さらに
好ましくは５０〜１２０ｎｍである。この平均粒径が１
０ｎｍ未満では、粒子が小さすぎて、耐ブロッキング性
や磁性層の耐削れ性に対する効果が充分に発揮されず、
一方平均粒径が２００ｎｍを超えると、粒子が削れ落ち
易くなり、ベースの耐削れ性が悪くなる。

【００５３】さらに、このコロイド粒子（Ｃ）は、下記
式（２）で表される体積形状係数（ｆ）が０．４〜π／
６の範囲内にあることが好ましい。

【００５４】

【数３】

【００５５】（式中、ｆ＝体積形状係数、Ｖ＝粒子の平
均体積（μｍ³）、Ｄ＝粒子の平均最大径（μｍ）であ
る。）この体積形状係数（ｆ）が０．４未満では、耐ブロッキ
ング性や磁性層の耐削れ性に対する効果が充分に発揮さ
れない。

【００５６】前記コロイド粒子（Ｃ）の配合量は、前記
水性ポリエステル樹脂（Ａ）１００重量部に対して、５
〜１５０重量部、好ましくは１０〜１００重量部、さら
に好ましくは２０〜８０重量部である、この配合量が５
重量部未満では、耐ブロッキング性に対する効果が充分
発揮されず、一方１５０重量部を超えると、粒子が凝縮
し易くなり、ベースの耐削れ性が悪くなる。

【００５７】また、乾燥後の易接着層の塗布厚み（ｎ
ｍ）は、コロイド粒子（Ｃ）の平均粒径（ｎｍ）と次式
（１）の関係にあることが好ましい。

【００５８】

【数４】

【００５９】さらに好ましくは次式（３）の関係、特に
好ましくは次式（４）の関係にあることが望ましい。

【００６０】

【数５】

【００６１】

【数６】

【００６２】ここで、（塗布層の厚み／コロイド粒子の
平均粒径）の値が０．２未満では粒子が削れ落ち易く、
ベースの耐削れ性が悪くなり、一方３．０を超えると耐
ブロッキング性や磁性層の耐削れ性に対する効果が充分
に発揮できない。

【００６３】前記コロイド粒子（Ｃ）としては、球状シ
リカ粒子、耐熱性高分子粒子が好ましく例示できる。

【００６４】この球状シリカ粒子は不活性微粒子（Ａ）
で説明したとおりであるが、耐熱性高分子粒子として
は、窒素ガス雰囲気下で５％加熱減温度が３１０℃以
上、さらには３３Ｏ℃以上、特に３５０℃以上のポリマ
ーからなる粒子が好ましい。かかる粒子の例としては架
橋シリコーン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポ
リスチレン粒子、テフロン（登録商標）粒子、ポリイミ
ド粒子等を挙げることができる。なかでも架橋シリコー
ン樹脂粒子あるいは架橋アクリル樹脂粒子が好ましく、
バインダーとの接着性からコアシェル型の粒子が好まし
い。

【００６５】また、易接着層形成の塗液、好ましくは水
性塗液には、必要に応じて、他の樹脂、帯電防止剤、滑
剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面
活性剤を添加してもよく、また易接剤の耐熱性、耐ブロ
ッキング性を向上させる為にメラミン、エポキシ、アジ
リジン化合物等の架橋剤等を添加することができる。水
性塗液には少量の有機溶剤が含まれていてもよい。

【００６６】塗液の固形分濃度は任意に決められるが、
１〜１５ｗｔ％、好ましくは１〜１２ｗｔ％、更に好ま
しくは１〜１０ｗｔ％である。

【００６７】塗液の塗布量は、走行するフィルム（一軸
延伸後のフィルム）１ｍ²当り０．５〜２０ｇが好まし
く、さらには１〜１０ｇが好ましい。また乾燥後の塗布
厚みは５〜２００ｎｍ、更に１０〜１００ｎｍが好まし
い。

【００６８】塗布方法としては、公知の任意の塗工法が
適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート
法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、スプレー
コート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテン
コート法などを単独又は組み合わせて適用するとよい。

【００６９】塗液の塗布は二軸配向ポリエステルフィル
ムに施してもよいが、縦一軸延伸ポリエステルフィルム
に施すのが好ましい。水性塗液を塗布した一軸延伸ポリ
エステルフィルムは、乾燥され、横延伸、所望により再
縦延伸、次いで熱固定処理等の工程に導かれる。例え
ば、水性塗液を塗布した縦一軸延伸ポリエステルフィル
ムは、ステンターに導かれて横延伸、所望により再縦延
伸、及び熱固定される。この間塗布液は乾燥し、フィル
ム上に連続皮膜を形成する。乾燥は横延伸前或いは横延
伸時や熱固定時に実施すると良い。

【００７０】本発明における二軸配向ポリエステルフィ
ルムは、特に高密度磁気記録フレキシブルディスク用で
あることが好ましく、このためフィルムの厚みは２０〜
８０μｍ、さらには２５〜７５μｍであることが好まし
い。さらに前記表面粗さを有することが好ましい。これ
らは高密度記録方式の要請を充たすもので、フィルム厚
さ２０μｍ未満ではディスクとしての剛性度が極端に低
く、８０μｍを超えると磁気ヘッドによる記録再生にお
いてフィルムの柔軟性が不足するため好ましくない。

【００７１】[製膜法]本発明における二軸配向ポリエス
テルフィルムは、公知の逐次二軸延伸法に準じて製造さ
れるのが好ましいが、同時二軸延伸法によって製造され
たものや、簡易な試験装置で製造されたものであってよ
い。

【００７２】例えば、十分に乾燥されたポリエステルを
（融点＋１０）〜（融点＋７０）℃の温度で溶融押出
し、キャスティングドラム上で急冷して未延伸フィルム
とし、次いで該未延伸フィルムを逐次又は同時二軸延伸
し、熱固定する方法で製造することができる。ポリマー
中の粗大粒子の個数を減らすには、溶融押出しに先立
ち、溶融物のフィルターとして線径１５μｍ以下のステ
ンレス鋼細線よりなる平均目開き１０〜３０μｍ、好ま
しくは１５〜２５μｍの不織布型フィルターを用い、溶
融ポリマーを濾過することが好ましい。この濾過によ
り、大きさ１０μｍ以上、高さ０.２７μｍ以上の突起
数を、１００ｃｍ²当たり２０個以下にすることが実現
できる。

【００７３】二軸延伸は逐次二軸延伸が好ましく、その
際未延伸フィルムを縦方向に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋
７０）℃の温度（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス
転移温度）で２．５〜５．０倍延伸する。この時、屈折
率のフィルム表裏差が０.００２以下になるように、延
伸時のフィルム表面温度の表裏差が１０℃以下になる様
に延伸温度を調整、または延伸前に補助加熱を実施する
のが好ましい。要すれば一軸延伸フィルムに前記の塗工
を施し、次いで、上記延伸方向と直角方向（一段目延伸
が縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる）にＴ
ｇ（℃）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜５．０倍
の倍率で延伸することにより製造できる。この場合、面
積延伸倍率は９〜３０倍、さらには１２〜２２倍にする
のが好ましい。

【００７４】二軸延伸フィルムは、さらに、（Ｔｇ＋７
０）℃〜Ｔｍ（℃）の温度で熱固定することのが好まし
い。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムにつ
いては、１８０〜２３５℃で熱固定することが好まし
い。ポリエチレン―２，６―ナフタレートフィルムにつ
いては１８５〜２４０℃で熱固定することが好ましい。
熱固定温度が上記範囲より低いと、１０５℃熱収縮率が
０.６％を超えることがある。熱固定温度が上記範囲よ
り高いと、ステンターの中央付近で物性が各方向に均等
であっても端の方では斜め配向が強くなる傾向が強ま
る。この現象は上記熱固定温度好適範囲の低温側でも避
けられないが、程度は比較的小さい。熱固定時間は、例
えば１〜６０秒である。熱固定領域で１〜１０％レール
幅にトウイン（先狭め）を与えると、主として横方向の
熱収縮率を小さくすることができる。熱固定領域を経過
し、フィルム温度が１２０℃程度になったところで、ナ
イフ刃でステンタークリップからフィルムを切り離し、
引き取り速度をステンターより１〜１０％遅くすること
で縦方向の熱収縮率を小さくすることができる。これら
弛緩処理は過度に実施するとフィルムの平面性を損なう
ので注意を要する。

【００７５】本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは
磁気ディスクのベースに使用するので、物性の面内方向
差は小さいことが望まれ、可及的に低温熱固定して端部
分の物性方向差を抑制し、弛緩処理によって熱収縮率を
下げるのが一つの望ましい方法である。また、縦方向及
び横方向の延伸条件は得られる二軸配向ポリエステルフ
ィルムの物性が両方向にほぼ等しくなり、面内方向のヤ
ング率が４７０ｋｇ／ｍｍ²以上で、最大値と最小値の
差が１００ｋｇ／ｍｍ²以下になる様な条件を選択する
のが好ましい。

【００７６】同時二軸延伸の場合においても、上記延伸
温度、延伸倍率、熱固定温度等を適用することができ
る。

【００７７】また、必要に応じて二軸延伸ポリエステル
フィルムを、さらに縦方向及び／又は横方向に再延伸す
る、いわゆる３段延伸法、４段延伸法も採用することが
できる。

【００７８】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。なお、実施例および比較例における「部」
および「％」は、特に断らない限り重量基準であり、本発
明における物性値および特性は、それぞれ以下の方法で
測定したものである。

【００７９】（１）フィルム表裏面における屈折率差フィルムの屈折率はナトリウムＤ繰（５８９ｎｍ）を光
源として、アッベ式屈折計を用いて、中間液にイオウ沃
化メチレンを使用し、フィルム面内方向に１０度ピッチ
で表裏１８個づつサンプリングし、屈折率を測定する。
同方向の表裏屈折率の差が０〜０.００２の範囲にある
とき、本発明における屈折率の表裏差を満足するものと
する。

【００８０】（２）熱収縮率温度１０５℃に設定されたオーブン中に予め正確な長さ
を測定した長さ約３０ｃｍ四方のフィルムを懸垂し、無
荷重下に３０分間保持処理した後取り出し、室温に戻し
てからその寸法の変化を読み取る。熱収縮率は下記式で
定義される。

【００８１】

【数７】

【００８２】ここで、ΔＬ＝｜Ｌ₀−Ｌ｜、Ｌ₀：熱処理
前のフィルムの長さ、Ｌ：熱処理後のフィルムの同方向
の長さである。

【００８３】熱収縮率は、フィルム面内の各方向、例え
ばフィルムの長手方向から角度１５度ピッチで１２個の
試料を採り、各試料について上記の如くして測定して求
めた値が０〜０.６％の範囲にあるとき、本発明におけ
る熱収縮率を満足するものとする。

【００８４】（３）表面粗さ（中心線平均表面粗さＲ
ａ）（株）小坂研究所製の触針式表面粗さ計を用いて、触針
荷重８０ｍｇ、測定長４ｍｍ、カットオフ０．２５ｍｍ
の条件で測定する。なお、Ｒａの定義は、例えば奈良治
郎著「表面粗さの測定・評価法」（総合技術センター、
１９８３）に示されているものである。

【００８５】（４）表面粗さ（１０点平均粗さＲｚ）ＷＹＫＯ社製非接触式三次元粗さ計（ＮＴ―２０００）
を用いて測定倍率４０倍、測定面積２４６.６×１８７.
５μｍ（０.０４６２ｍｍ²）の条件にて、測定数ｎが１
０回以上の測定を行い、内蔵表面解析ソフトにより、１
０点平均粗さＲｚを求める。ピーク（Ｈｐ）の高い方か
ら５点と谷（Ｈｖ）の低い方から５点をとり、その平均
粗さをＲｚとする。

【００８６】（５）粗大突起の数フィルム表面に透過観察が可能な程度の薄いアルミニウ
ム蒸着を行い、光学顕微鏡により大きさ１０μｍ以上の
突起を５ｃｍ²の測定面積にて抽出する。次に、抽出し
た突起の高さを二光束干渉顕微鏡を用いて測定波長０．
５４μｍにて測定する。この際、１次以上の干渉縞を示
すものを高さ０．２７μｍ以上の突起とする（１次縞：
λ／２＝０．２７μｍ）。この突起数を１００ｃｍ²当
たりの数に換算し、５回測定した平均値を面積１００ｃ
ｍ²当たりの粗大突起の数とする。

【００８７】（６）粒子の平均粒径株式会社島津製作所製「ＣＰ−５０型セントリヒューグ
ルパーテイクルサイズアナライザー（Centrifugal P
article Size Analyzer）」を用いて測定する。得られ
る遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在
量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒
径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径
（ｎｍ）とする（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発
行、１９７５年、頁２４２〜２４７）。

【００８８】（７）ヤング率フィルム面内方向に１０度ピッチで幅１０ｍｍ、チャッ
ク間長さ１００ｍｍとなるようにサンプリングし、各サ
ンプルフィルムを引張試験機にセットし、２３℃、６５
％ＲＨの条件下で引張速度２００ｍｍ／分で測定する。

【００８９】（８）静摩擦係数（μｓ）、動摩擦係数
（μｄ）７５ｍｍ（幅）×１００ｍｍ（長さ）のカットフィルム
（サンプル）を２枚重ねた上に重量２００ｇの荷重
（Ｗ：ｇ）を乗せ、上側のフィルムを１５０ｍｍ／分の
速度で滑らせ、滑り始めの引っ張り力（Ｆｓ）から静摩
擦係数（μｓ）を、滑らせている時の力（Ｆｄ：ｇ）か
ら動摩擦係数（μｄ）を計算する。

【００９０】

【数８】

【００９１】

【数９】

【００９２】フィルムは２３℃、６５％ＲＨで２４時間
調湿する。評価基準は、次ぎの通りである。 ○：μｓ、μｄともに０.５以下 ×：μｓ、μｄのいずれか、またはいずれもが０.５超

【００９３】（９）フィルムの全体の厚みゴミの入らないようにしてフィルムを１０枚重ね、打点
式電子マイクロメータにて厚みを測定し、１枚当たりの
フィルム厚みを計算する。

【００９４】（１０）カール量６０℃、湿度５０％の雰囲気下で直径８．９ｍｍ（３．
５インチ）の円形サンプルを２４時間放置した後取り出
し、１時間室温（湿度５０％）で放置する。このサンプ
ルを垂直に吊るした際に垂直軸とのフィルムエヅジ部の
ずれ量を測定する。この測定を円周方向に１０度ピッチ
で実施し、最大値をもってカール量とする。（長手方向
を０度として右回りに測定）評価基準は、次ぎの通りで
ある。 ○：カール量２ｍｍ以下 ×：カール量２ｍｍ超

【００９５】（１１）ガラス転移温度ＤＳＣを用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ポリエ
ステルのガラス転移温度を求める。

【００９６】（１２）接着性（ＭＡＧ傷評価）サンプルフィルムの塗布面に下記「評価磁性塗料」をマ
イヤーバーで乾燥後の厚さが約４μｍになるように塗布
し、１００℃で３分間乾燥する。その後、６０℃で２４
時間エイジングする。

【００９７】「評価磁性塗料」固形分換算で、ポリエステル樹脂：東洋紡績株式会社製、商品名「バイロン２０ＳＳ」３０部塩ビ・酢ビ樹脂：積水化学株式会社製、商品名「エスレックＡ」１０部分散剤：理研ビタミン株式会社製、商品名「レシオンＰ」３部磁性剤：戸田工業株式会社製、商品名「ＣＴＸ−９７０」２６０部をメチルエチルケトン／トルエン／メチルイソブチルケ
トン混合容媒に溶解して３０％溶液とし、サンドグライ
ンダーで２時間分散する。その後、架橋剤である日本ポ
リウレタン株式会社製、商品名「コロネートＬ」１２部
（固形分換算）を添加し、よく擬件して磁性塗料を得
る。

【００９８】こうして得られた磁性塗料塗布面を剛性の
高い繊維（登録商標「ケブラー」糸）を張ったスクラッチ
テスターで１ｋｇの荷重下で引っかき、磁性塗料塗布面
の傷を評価する。この評価法は、磁気媒体製造における
磁性層塗布後の磁性面の削れ（ＭＡＧ傷）とよく対応す
るものである。＜判定＞ ◎：磁性層が全くはがれていない ○：磁性層が少しはがれている ×：磁性層がかなりはがれている

【００９９】（１３）塗工性易接着層を設けたフィルムの塗布面を目視で観察し、塗
布斑を評価する。＜判定＞ ◎：塗布斑はほとんどない ○：塗布斑が少しある ×：塗布斑がかなり多い

【０１００】（１４）耐ブロッキング性易接着層を両面に塗布したポリエステルフィルムを２枚
重ね合わせ、１５０ｋｇ／ｃｍ²の荷重下で、温度６０
℃、湿度８０％ＲＨの温湿条件で６５時間処理した後、
引張試験機にて２枚のフィルムの剥離強度を測定し、判
定する。＜判定＞ ◎：剥離強度が０〜１０ｇ未満／１０ｃｍ ○：剥離強度が１０〜２０ｇ未満／１０ｃｍ △：剥離強度が２０〜３０ｇ未満／１０ｃｍ ×：剥離強度が３０ｇ／１０ｃｍ〜破断

【０１０１】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、さらに不活性粒子として平均粒径０．
３μｍの球状シリカ０．０１％および平均粒径０．１２
μｍの球状シリカ０．３％を添加して、常法により重合
し、固有粘度（オルソクロロフェノール、３５℃）０．
６２ｄl／ｇのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
を得た。

【０１０２】このポリエチレンテレフタレートのペレツ
トを１７０℃で３時間乾燥した後、押出機ホッパーに供
給し、溶融温度２８０〜３００℃で溶融し、この溶融ポ
リマーを平均目開き１５μｍのステンレス細鋼線不織布
形フィルターでろ過し、１ｍｍのスリット状ダイを通し
て表面仕上げ０．３ｓ程度、表面温度２０℃の回転ドラ
ム上に押出し、７６０μｍの未延伸フィルムを得た。

【０１０３】このようにして得られた未延伸フィルムを
７５℃に予熱し、さらに低速、高速のロール間で１５ｍ
ｍ上方より７５０℃の、下方より７００℃の表面温度の
ＩＲ（赤外線）ヒーターにて延伸時のフィルム表面温度
を上方、下方それぞれ９０℃に加熱して、３．５倍に延
伸し、急冷した後、テレフタル酸―５Ｎａスルホイソフ
タル酸（１１モル％）―エチレングリコール―ジエチレ
ングリコール共重合ポリエステル樹脂（ガラス転移温度
Ｔｇ＝７０℃）１００部と平均粒径８０ｎｍのコロイダ
ルシリカ７０部および界面活性剤としてＨＬＢ１２．６
のポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル２部とＨ
ＬＢ１７．１のポリオキシエチレンノニルフェニルエー
テル６０部からなる組成の水性塗液（固形分濃度：６．
０％）を一軸延伸フィルムの両面に、リバースコータで
二軸延伸後の乾燥塗布厚みが８０ｎｍ（固形分換算）に
なるように塗布し、横延伸機で１１５℃にて横方向に
３．６倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２０
０℃の温度で１０秒間熱固定しながら幅方向に３％弛緩
処理し、フィルム温度が１２０℃前後になった個所にお
いて把持具近辺に剃刀刃を入れて把持具からフィルムを
切り離し、把持具の走行速度より３％遅い速度で巻き取
って６４μｍの厚さの二軸配向ポリエステルフィルムを
得た。このフィルムの特性を表１に示す。

【０１０４】［実施例２］実施例１におけるポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）をポリエチレン―２，６―
ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）に変えた。
２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００部とエ
チレングリコール６０部の混合物に、酢酸マンガン・４
水塩０．０３部を添加し、１５０℃から２４０℃に徐々
に昇温しながらエステル交換反応を行った。途中反応温
度が１７０℃に達した時点で三酸化アンチモン０．０２
４部を添加し、さらに実施例１記載の粒径を有する２種
類の球状シリカを同量添加して、次いで２２０℃に達し
た時点で３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テト
ラブチルホスホニウム塩０．０４２部（２ｍｍｏｌ％に
相当）を添加した。引き続いてエステル交換反応を行
い、エステル交換反応終了後燐酸トリメチル０．０２３
部を添加した。その後反応生成物を重合反応器に移し、
２９０℃まで昇温し、０．２ｍｍＨｇ以下の高真空下に
て重縮合反応を行って２５℃のｏ−クロロフェノール溶
液で測定した固有粘度が０．６１ｄｌ／ｇのＰＥＮポリ
マーを得た。このポリマーを１７０℃において６時間乾
燥させた後、押出機に供給し、溶融温度３１０℃で溶融
し、開度１ｍｍのスリット状ダイを通して、表面仕上げ
０．３Ｓ、表面温度５０℃の回転ドラム上に押出し、５
５０μｍ厚みの未延伸フィルムを得た。

【０１０５】こうして得られた未延伸フィルムを１１０
℃に予熱し、さらに低速、高速のロール間で１５ｍｍ上
方より８５０℃の、下方より８００℃の表面温度のＩＲ
（赤外線）ヒーターにて延伸時のフィルム表面温度を上
方、下方それぞれ１４０℃に加熱して縦方向に３．３倍
に延伸し、急冷後実施例１と同じ塗工を両面に施し、次
いで１４０℃で横方向に３．７倍延伸し、さらに２３０
℃で５秒間熱固定処理及び幅方向に１０％収縮させ（ト
ウイン）、厚さ５０μｍのＰＥＮフィルムを得た。これ
らのフィルムの特性を表１に示す。

【０１０６】［比較例１］ＰＥＴに滑剤粒子を添加しな
かった。上部ＩＲヒータを９５０℃とし、下部ＩＲヒー
タを用いなかった。それ以外は実施例１と同様にして厚
み６４μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。こ
れらフィルムの特性を表１に示す。縦延伸時に温度の表
裏差があったためか屈折率の表裏差が大でカール傾向が
あった。また、耐ブロッキング性が不良であった。

【０１０７】[比較例２]実施例１において、未延伸フィ
ルムの厚みを８９９μｍとし、延伸倍率（縦×横）を
３.６×３.９倍として、縦横の熱弛緩処理は実施しなか
った。それ以外は実施例１に準じて厚み６４μｍの二軸
配向ポリエステルフィルムを得た。これらフィルムの特
性を表１に示す。

【０１０８】１０５℃の熱収縮率が過大で、大容量フレ
キシブルディスク用途に不適である。

【０１０９】[比較例３]平均粒径２.３μｍの多孔質シ
リカを０.０５％添加し、平均目開き８０μｍの焼結金
属フィルターを用いた以外は実施例１に準じて厚み６４
μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。これらフ
ィルムの特性を表１に示す。

【０１１０】粗大突起数が多く、表面粗さが過大であ
り、大容量フレキシブルディスク用途に不適である。

【０１１１】

【表１】

【０１１２】表１から明らかな様に本発明の二軸配向ポ
リエステルフィルムは粗大表面突起が少なく、しかも摩
擦係数が小さくて作業性に優れており、優れた接着性、
耐ブロッキング性、塗工性を有して、さらに寸法安定性
に優れたものである。

【０１１３】

【発明の効果】本発明によれば、エラーにつながり易い
粗大突起が少なく、優れた寸法安定性と耐カール性を有
したベースフィルムを提供することができる。さらに、
該ベースフィルムの表面に、特に分子内にスルホン酸塩
基を５〜１８モル％有し、かつ二次転移点が５０〜８５
℃の水性ポリエステル樹脂と特定のコロイド粒子を含有
する易接着層において、特定の界面性特性を有する化合
物を選定し、これらを組み合わせた塗布層を設けること
により、接着性、耐ブロッキング性および塗工性に優れ
た易接着性ポリエステルフィルムを取得することがで
き、特に高記録密度大容量のフレキシブルディスク用ベ
ースフィルムとして優れた特性を有している。

フロントページの続きＦターム(参考） 4F100 AA20A AH02B AK41A AK41B AK42A BA01 BA02 CA18B DE01A DE01B GB41 JA20A JA20B JB09B JG00 JK16 JL04 JL05 JL11B JN18A YY00A YY00B 4F210 AA24 AB17 AF16 AG01 AG03 AH38 QC05 QC06 QD08 QG01 QG15 QG18 5D006 CB01 CB05 CB07 CB08 DA02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）フィルム表面内における屈折率と
裏面内における屈折率の差が０〜０．００２の範囲にあ
り、（ｂ）無荷重下、３０分間、１０５℃で加熱したと
きの熱収縮率がフィルム面内の全ての方向で０〜０．６
％の範囲にあり、（ｃ）フィルム表面の、大きさ１０μ
ｍ以上、高さ０．２７μｍ以上の粗大突起の数が１００
ｃｍ²当たり２０個以下であり、かつ（ｄ）フィルム表
面の中心線平均粗さＲａが１〜６ｎｍ、１０点平均粗さ
Ｒｚが２０〜１５０ｎｍの範囲にあることを特徴とする
フレキシブルディスク用二軸配向ポリエステルフィル
ム。
【請求項２】フィルムの厚みが２０〜８０μｍであ
る、請求項１記載のフレキシブルディスク用二軸配向ポ
リエステルフィルム。
【請求項３】フィルム中に平均粒径０．０１〜０．２
μｍの不活性微粒子（Ａ）を０．１〜０．５重量％含有
する、請求項１記載のフレキシブルディスク用二軸配向
ポリエステルフィルム。
【請求項４】不活性微粒子（Ａ）が球状シリカ粒子で
ある、請求項３記載のフレキシブルディスク用二軸配向
ポリエステルフィルム。
【請求項５】フィルム中に平均粒径０．０１〜０．２
μｍの不活性微粒子（Ａ）を０．１〜０．５重量％及び
平均粒径０．２５〜０．８μｍの不活性微粒子（Ｂ）を
０．００１〜０．１重量％含有する、請求項１記載のフ
レキシブルディスク用二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項６】不活性微粒子（Ａ）が球状シリカ粒子で
あり、不活性微粒子（Ｂ）が球状シリカ粒子及び／又は
耐熱性高分子粒子である、請求項５記載のフレキシブル
ディスク用二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項７】不活性微粒子（Ａ）、（Ｂ）がそれぞれ
球状シリカ粒子である、請求項６記載のフレキシブルデ
ィスク用二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項８】不活性微粒子（Ａ）、（Ｂ）が、それぞ
れ、該微粒子の９９％以上の粒子粒径が平均粒径aに対
して０.５a〜１.５aの範囲内にあり、該微粒子の８０％
以上の粒子粒径が平均粒径aに対して０.８a〜１.２aの
範囲内にある、請求項３〜７のいずれかに記載のフレキ
シブルディスク用二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項９】フィルムの両面に平均粒径１０〜２００
ｎｍのコロイド粒子（Ｃ）を含有する易接着層が設けて
あり、該層の樹脂成分が主としてスルホン酸塩基を含有
する水性ポリエステル樹脂からなる、請求項１〜８のい
ずれかに記載のフレキシブルディスク用二軸配向ポリエ
ステルフィルム。
【請求項１０】易接着層が、（Ａ）分子内にスルホン
酸塩基を５〜１８モル％（全ジカルボン酸成分当たり）
有し、かつガラス転移温度が５０〜８５℃の水性ポリエ
ステル樹脂、（Ｂ）ＨＬＢ値が１１〜２０のポリオキシ
エチレンアルキルフェニルエーテル界面活性剤および
（Ｃ）平均粒径が１０〜２００ｎｍのコロイド粒子を含
み、かつ該（Ｂ）成分および（Ｃ）成分が、前記（Ａ）
成分１００重量部に対して、（Ｂ）成分１〜１００重量
部および（Ｃ）成分５〜１５０重量部を含有してなる塗
布層である請求項９記載のフレキシブルディスク用二軸
配向ポリエステルフィルム。
【請求項１１】易接着層の厚み（ｎｍ）とコロイド粒
子（Ｃ）の平均粒径（ｎｍ）との関係が下記（１）式を
満足する、請求項９または１０記載のフレキシブルディ
スク用二軸配向ポリエステルフィルム。【数１】
【請求項１２】コロイド粒子（Ｃ）が球状シリカ粒子
または耐熱性高分子粒子である、請求項９〜１１のいず
れかに記載のフレキシブルディスク用二軸配向ポリエス
テルフィルム。
【請求項１３】フィルムの動摩擦係数は０．２〜０．
５５である、請求項９〜１２のいずれかに記載のフレキ
シブルディスク用二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項１４】ポリエステルの主たる成分がポリエチ
レン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートである、
請求項１〜１３のいずれかに記載のフレキシブルディス
ク用二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項１５】１枚当たりの容量が１００ＭＢ以上の
フレキシブルディスクに用いる、請求項１〜１４のいず
れかに記載のフレキシブルディスク用二軸配向ポリエス
テルフィルム。