JP2002212711A - 真空アーク蒸発源 - Google Patents
真空アーク蒸発源Info
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Abstract
クスポットの周回速度を効率的に増加させる。 【解決手段】 蒸発物質4の蒸発面4aに平行な成分を
有する磁力線を発生する磁場発生源6を備えたアーク蒸
発源において、前記磁場発生源6は、前記蒸発面4aの
略中央位置に配置された中央磁極部8と前記蒸発物質4
の外周を囲むように配置された外周磁極部9とを備え、
前記蒸発面4aにおいて前記中央磁極部8と前記外周磁
極部9との間で放射状に延びる磁力線を発生するように
前記中央磁極部8と前記外周磁極部9とは異種磁極とさ
れている。
Description
に関するものである。
質を陰極とするアーク放電により陰極材料を蒸発、イオ
ン化させ基板上に皮膜を堆積させる方法である。この蒸
着法は、切削工具、機械部品、電子部品、プリント回路
などの各分野での耐摩耗性被膜の形成に使用されてい
る。この方法では基板への入射粒子のエネルギーが高い
ため密度が高く強度耐久性に優れた膜を高速に成膜する
ことができる。しかし陰極から数μm以上の径を持つ溶
融粒子が発生し易く、これが基板表面へ付着することで
被膜の面粗度悪化や組成の不均一につながってしまう。
めに、陰極からの溶融粒子の発生あるいは基板への付着
を低減することが求められている。溶融粒子の発生の原
因の一つとして、陰極の蒸発面におけるアークスポット
(陰極点)の位置が偏在することによる蒸発面の局所的
加熱が挙げられる。このような溶融粒子の発生を抑制す
るには、磁場によりアークスポットを移動させ、局所加
熱を防ぐ必要がある。アークスポット移動による溶融粒
子の発生抑制技術としては、特開平11−269634
号公報に記載のものが公知である。この技術では、蒸発
源を同軸状に囲むリング状永久磁石を設け、蒸発面を通
過する磁力線の蒸発面に平行な成分とアーク電流との相
互作用によって、蒸発面上のアークスポットを高速で周
回転させ、局所加熱を防止し、溶融粒子の発生を抑制し
ている。
生を効果的に抑制しようとすれば、アークスポットの移
動速度をより大きくして、局所加熱を防ぐ必要がある。
アークスポットの移動速度は磁束密度の蒸発面に平行な
成分の大きさに比例するため、局所加熱を防ぐには、磁
場を強力にして蒸発面における平行な成分の大きさを強
くすることが求められる。しかし、平行成分を大きくす
るために、単に磁石を大きくすること等で対応すると、
装置が大きく複雑になるという問題がある。特に、前記
従来技術では、磁石によって発生する磁場は蒸発面に垂
直な成分の方が大きいため、単に磁場を強力にしても磁
力線の平行成分の効率的な増加、すなわちアークスポッ
ト周回運動の速度の効率的な増加は期待できない。
線を蒸発面に対してより平行にしてアークスポットの周
回速度を効率的に増加させることにある。
に、本発明は、次の技術的手段を採用した。すなわち、
本発明の特徴は、蒸発物質の蒸発面に平行な成分を有す
る磁力線を発生する磁場発生源を備えたアーク蒸発源に
おいて、前記磁場発生源は、前記蒸発面の略中央位置に
配置された中央磁極部と前記蒸発物質の外周を囲むよう
に配置された外周磁極部とを備え、蒸発面において前記
中央磁極部と前記外周磁極部との間で放射状に延びる磁
力線を発生するように前記中央磁極と前記外周磁極部と
は異種磁極とされている点にある。
力線が単に蒸発面と平行なだけでなく、磁力線が蒸発面
において放射状に延びている必要がある。放射状の磁力
線を形成し、かつその平行成分を大きくするために、本
発明では、外周磁極部に加えて中央磁極部を設けてい
る。中央磁極と外周磁極部は異種磁極であるので、これ
らの間には放射状の磁力線が発生し、しかもこの磁力線
は、従来技術と比べて蒸発面に対してより平行に近くな
る。この平行成分の大きい磁力線によって、アークスポ
ットは蒸発面を高速で周回移動し、局所加熱が防止さ
れ、溶融粒子の発生が抑制される。
採用できるが、永久磁石であれば構成を簡易にすること
ができる。また、蒸発面に対する磁力線の向きを蒸発面
と略平行方向に近づけるために、前記中央磁極部及び/
又は外周磁極部は、前記蒸発面と同レベル又は蒸発面よ
り正面側に突出しているのが好ましい。また、前記中央
磁極部と外周磁極部は磁石だけで構成することもできる
が、前記中央磁極部及び/又は外周磁極部は、蒸発物質
正面側に位置する第1磁性体の背面側に磁石を設けて構
成するのが好ましい。
在するので、この磁性体に磁力線gあ集中し、蒸発面付
近の磁束密度を高くすることでき、より強力な磁場とな
る。また中央磁極部や外周磁極部の蒸発物質正面側はア
ーク蒸着装置の運転時には高温になるので、高温となる
蒸発物質正面側に第1磁性体を設け、この磁性体の背面
側に磁石を設けることで、磁石の磁力劣化を防止でき
る。そして、蒸発面は、磁力線がより平行となる位置に
配置するのが好ましく、このためには、前記第1磁性体
の軸方向寸法の略中央位置が適当である。また、蒸発面
は、蒸発物質の消耗により背面側に後退するので、これ
を考慮すると、蒸発面は、前記略中央位置より正面側で
あるのが好ましい。すなわち、蒸発面は、前記第1磁性
体の軸方向寸法の略中央位置と前記第1磁性体の正面側
端部位置との間であるのが好ましい。
の関係で大きくなる場合もあるが、磁性体が大きくなる
と磁力線が分散するので、磁力線を集中させて磁束密度
を高くするために、前記第1磁性体の前記蒸発物質と接
する面の軸方向寸法が、第1磁性体全体の軸方向寸法よ
り小さく形成されているのが好ましい。この構成であれ
ば、第1磁性体が大きくなっても、蒸発物質と接する面
の寸法を小さくすることで、磁力線が蒸発面付近に集中
し、磁束密度を高くすることができる。
を蒸発物質背面側でつなぐ磁気回路を構成するための第
2磁性体を設けておくと、磁力線は磁気回路内に多く位
置し、周囲へ発散する磁力線が少なくなり、磁場による
周囲への影響を抑えることができる。特に複数のアーク
蒸発源が設置されるアーク蒸着装置の場合には、隣接す
る蒸発源への磁場の影響を防止できる。
基づいて説明する。図1〜図4は、本発明の第1実施形
態を示している。本発明の真空アーク蒸発源1が適用さ
れる真空アーク蒸着装置2は、内部にワークとしての基
板Wが設置される真空チャンバ3を有し、このチャンバ
3内に複数の真空アーク蒸発源1が設けられている。ま
た、この真空アーク蒸発源1は、陰極となる蒸発物質4
を備えている。なお、真空アーク蒸着装置2は、アーク
放電電流を供給するためのアーク電源5を備えている。
うに、陰極となる蒸発物質4の他、磁場発生源6を有し
ている。磁場発生源6は、蒸発物質4の蒸発面4a(図
2の上側面)の略中央位置に配置された中央磁極部8
と、蒸発物質4の外周を囲むように配置されたリング状
の外周磁極部9とを有している。なお、中央磁極部8と
外周磁極部9とは同軸状に配置され、前記蒸発物質4は
中央磁極部8側面と外周磁極部9内周面の間にドーナツ
状に設けられている。前記中央磁極部8は、中央第1磁
性体11と中央永久磁石(ネオジ磁石)12とを有して
いる。中央第1磁性体11は、蒸発物質4の中央孔に嵌
合され、蒸発面4aより正面側(基板W側:図2におい
て上側)にやや突出状に設けられている。中央永久磁石
12は、中央第1磁性体11の背面側に設けられ、蒸発
物質4の背面側に位置している。
くように配置され、図2では正面側がS極とされ、背面
側がN極とされている。したがって、中央磁極部8の蒸
発面4a付近、すなわち中央第1磁性体11にはS極が
現れる。前記外周磁極部9は、外周第1磁性体14と外
周永久磁石(ネオジ磁石)15とを有している。外周第
1磁性体14は、リング状であって蒸発物質4と同軸状
に配置され、蒸発面4aより正面側にやや突出状に設け
られている。なお、前記中央第1磁性体11とこの外周
第1磁性体14の背面は蒸発物質4の背面と面一となっ
ている。
周第1磁性体14背面側に設けられ、蒸発物質4の背面
側に位置している。この外周磁石15は、両磁極が軸方
向を向くように配置され、図2では、正面側がN極とさ
れ、背面側がS極とされている。したがって、外周磁極
部9の蒸発面4a付近、すなわち外周第1磁性体14に
はN極が現れる。中央第1磁性体11はS極であるの
で、外周第1磁性体14の内周面(N極)と中央第1磁
性体22の外周面(S極)との間には、蒸発面4aと略
平行な磁力線Mが放射状に発生する(図2参照)。この
平行な磁力線は、図2の矢印Aで示すように、蒸発面4
a上のアークスポットを高速で周回運動させる。
第1磁性体11,14に集中するため、蒸発面(陰極表
面)4aでの磁束密度が大きくなる。アークスポットの
回転速度は磁束密度の蒸発面4aに平行な成分に比例す
るので、このように形成された磁場によりアークスポッ
トを高速に回転させることができる。したがって、陰極
表面の局所加熱を防ぎ、溶融粒子の発生を抑制すること
ができる。ここで、蒸発面4aは、磁力線分布の最も適
した箇所に配置されるべきである。すなわち、蒸発面4
aは磁力線が平行になる位置に配置するのが好ましい。
平行な磁力線は、各第1磁性体11,14の軸方向寸法
h2の略中央位置に形成されるので、蒸発面4aは、第
1磁性体11,14の軸方向寸法h2の略中央位置に配
置するのが好ましい。言い換えると、第1磁性体11,
14の蒸発面4aに対する突出寸法h1は、h2の略半
分であるのが好ましい。
り後退(図2において下方に消耗)するので、これを考
慮すると、蒸発面4aは、第1磁性体11,14の軸方
向寸法h2の略中央位置と第1磁性体11,14の上面
側端部との間に配置されているのが良い。言い換える
と、第1蒸発体11,14の蒸発面4aに対する突出寸
法h1は、0≦h1≦(h2/2)の範囲であるのが良
い。中央磁石11と外周磁石15の背面には、これら両
者を磁気的に接続する磁気回路を構成するための第2磁
性体17が設けられている。この第2磁性体17は、外
周磁極部9と同径の円盤形状に形成されている。第2磁
性体17を設けることで、各磁石11,15の背面側磁
極からの磁力線の発散が抑えられ、チャンバ3内で隣接
する他の蒸発源1への磁場の影響が少なくなる。
て、磁場発生源6の径方向断面形状は、図2のようにE
字状となる。図3は、図2のような磁場発生源6におけ
る磁力線分布のシミレーション結果を示している。な
お、図3(b)は、図3(a)中の磁場発生源6の構成
対応図である。図3(a)に示すように、磁石12,1
5で発生した磁力線は、第1磁性体11,14に集中
し、蒸発面4aで平行な磁場が形成されている。また、
図4は、蒸発物質4内の磁束密度分布の等高線図を示し
ている。なお、図4中、符号4bは中央第1磁性体11
と接する面を、符号4bは外周第1磁性体14と接する
面を示している。
T以上となり、強い磁場を形成できている。なお、図4
において、a2〜a14は等高線であり、a2は0.0
829T、a3は0.0982T、a4は0.113
T、a5は0.129T、a6は0.144T、a7は
0.159T、a8は0.175T、a9は0.190
T、a10は0.205T、a11は0.221T、a
12は0.236T、a13は0.251T、a14は
0.266Tを示している。図5〜図7は、第2実施形
態に係るアーク蒸発源1を示している。この蒸発源1の
磁場発生源6は、第1実施形態の中央永久磁石12が磁
性体に置き換えられている点で第1実施形態と相違す
る。
体17と接するように延長され、中央磁極部8を構成し
ている。この中央磁極部8は、第2磁性体17を介して
外周永久磁石15と接続されているので、中央磁極部8
には、S極が現れ、N極である外周磁極部9とは異種磁
極となる。中央磁石12を磁性体に置き換えても、図6
の磁力線分布図及び図7の磁束密度等高線図に示すよう
に、第1実施形態とよく似た磁場分布を形成することが
できる。第1実施形態に比べて磁束密度はわずかに小さ
くなるが、蒸発面4aに略平行な磁力線が形成されてい
る。
0.0536T、a3が0.0612T、a4が0.0
689T、a5が0.0766T、a6が0.0842
T、a7が0.0919T、a8が0.996T、a9
が0.107T、a10が0.115T、a11が0.
123T、a12が0.130T、a13が0.138
T、a14が0.146Tを示している。図8及び図9
は、第3実施形態に係るアーク蒸発源1を示している。
この蒸発源1の磁場発生源6は、蒸発物質4と接する部
分において第1磁性体11,14の軸方向厚みを薄くし
ている点で第1実施形態のものと相違する。
一部11aが蒸発物質4側に突出形成され、また、外周
第1磁性体14の内周面の一部14aが蒸発物質4側に
突出形成されている。これら突出形成された部分11
a,14aは磁力線集中部であり、中央第1磁性体11
の外周面又は外周第1磁性体14の内周面から出る磁力
線は、図9に示すように、薄い部分11a,14aに集
中し、蒸発面4aの磁束密度を高くすることができる。
図10は、第4実施形態に係るアーク蒸発源1を示して
いる。この蒸発源1の磁場発生源6は、磁石の配置が第
1実施形態と相違する。この磁場発生源6では、中央磁
極部8は蒸発物質4背面側まで延びる中央磁性体11か
らなり、外周磁極部9は蒸発物質4背面側まで延びる外
周磁性体14からなる。
磁石20が設けられている。この磁石20は、内周面と
外周面に磁極が現れるものであり、図10では、外周側
がN極、内周側がS極とされている。両磁極はそれぞれ
中央磁性体11及び外周磁性体14と接しており、中央
磁極部8正面側にはS極が、外周磁極部9正面側にはN
極が現れる。各磁極から出た磁力線は磁性体11,14
に集中し、中央磁極部8の外周面と外周磁極部9の内周
面との間には蒸発面4aと略平行な磁力線が現れる。
源1を示している。この蒸発源1の磁場発生源6も、磁
石の配置が第1実施形態と相違する。この磁場発生源6
では、中央永久磁石12及び外周永久磁石15が磁性体
11,14より正面側に配置されている。このような配
置であっても、蒸発面4aと略平行な磁力線が得られ
る。上記第2〜5実施形態において説明を省略した点は
第1実施形態と同様である。
ものではない。
に対してより平行な磁力線が得られるので、アークスポ
ットをより高速で周回運動させることができる。
径方向断面図であり、(b)は、同正面図である。
力線分布図であり、(b)は(a)中の磁場発生源の構
成対応図である。
の磁束密度等高線図である。
図である。
図である。
の磁束密度等高線図である。
図である。
図である。
面図である。
面図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 蒸発物質(4)の蒸発面(4a)に平行
な成分を有する磁力線を発生する磁場発生源(6)を備
えたアーク蒸発源において、 前記磁場発生源(6)は、前記蒸発面(4a)の略中央
位置に配置された中央磁極部(8)と前記蒸発物質
(4)の外周を囲むように配置された外周磁極部(9)
とを備え、 前記蒸発面(4a)において前記中央磁極部(8)と前
記外周磁極部(9)との間で放射状に延びる磁力線を発
生するように前記中央磁極部(8)と前記外周磁極部
(9)とは異種磁極とされていることを特徴とする真空
アーク蒸発源。 - 【請求項2】 前記中央磁極部(8)及び/又は外周磁
極部(9)は、前記蒸発面(4a)と同レベル又は蒸発
面(4a)より正面側に突出していることを特徴とする
請求項1記載の真空アーク蒸発源。 - 【請求項3】 前記中央磁極部(8)及び/又は外周磁
極部(9)は、蒸発物質(4)正面側に位置する第1磁
性体(11,14)の背面側に磁石(12,15)を設
けて構成されていることを特徴とする請求項1又は2記
載の真空アーク蒸発源。 - 【請求項4】 前記蒸発面(4a)は、前記第1磁性体
(11,14)の軸方向寸法(h1)の略中央位置と前
記第1磁性体(11,14)の正面側端部位置との間に
配置されていることを特徴とする請求項3記載の真空ア
ーク蒸発源。 - 【請求項5】 前記第1磁性体(11,14)の前記蒸
発物質(4)と接する面の軸方向寸法(h3)が、第1
磁性体(11,14)全体の軸方向寸法(h1)より小
さく形成されていることを特徴とする請求項3又は4記
載のアーク蒸発源。 - 【請求項6】 前記中央磁極部(8)と前記外周磁極部
(9)とを蒸発物質(4)背面側でつなぐ磁気回路を構
成するための第2磁性体(17)が設けられていること
を特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のアーク蒸
発源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001008303A JP3993388B2 (ja) | 2001-01-16 | 2001-01-16 | 真空アーク蒸発源 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2002212711A true JP2002212711A (ja) | 2002-07-31 |
JP3993388B2 JP3993388B2 (ja) | 2007-10-17 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006510803A (ja) * | 2002-12-19 | 2006-03-30 | ユナキス・バルツェルス・アクチェンゲゼルシャフト | 磁界発生装置付き真空アークソース |
WO2009066633A1 (ja) * | 2007-11-21 | 2009-05-28 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | アークイオンプレーティング装置用の蒸発源及びアークイオンプレーティング装置 |
WO2014172722A1 (de) * | 2013-04-22 | 2014-10-30 | Plansee Se | Lichtbogenverdampfungs-beschichtungsquelle mit permanentmagnet |
JP2017101279A (ja) * | 2015-12-01 | 2017-06-08 | 日本アイ・ティ・エフ株式会社 | アーク式成膜装置および成膜方法 |
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2001
- 2001-01-16 JP JP2001008303A patent/JP3993388B2/ja not_active Expired - Fee Related
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KR20150144753A (ko) * | 2013-04-22 | 2015-12-28 | 플란제 에스이 | 영구 자석을 구비하는 아크 증발 코팅 소스 |
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KR102167854B1 (ko) | 2013-04-22 | 2020-10-21 | 플란제 콤포지트 마테리얼스 게엠베하 | 영구 자석을 구비하는 아크 증발 코팅 소스 |
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WO2017094775A1 (ja) * | 2015-12-01 | 2017-06-08 | 日本アイ・ティ・エフ株式会社 | アーク式成膜装置および成膜方法 |
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