JP2002202591A - 導電性パターンの形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精細パターンの形成が可能で、製造効率
の、基板として樹脂基板または樹脂フィルムを使用する
際に好適に用いられる導電性パターンの形成方法を提供
すること。 【解決手段】 （Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶
性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物および
（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を用いて導
電層を形成し、当該導電層を露光処理し、当該導電層を
現像処理してパターンを形成する導電性パターンの形成
方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＣＤ、有機ＥＬ
のようなディスプレイ材料の各表示セルを構成する導電
性パターンの形成において、高精細パターンの形成が可
能で、従来の方法に比べて簡便な導電性パターンの形成
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＬＣＤ、有機ＥＬなどに用いられる導電
性パターンの形成方法としては、導電層の形成方法とし
て、従来、導電性粒子を真空中で蒸発させて、基板上に
付着させる真空蒸発法や酸化物ターゲットや金属ターゲ
ットを用いるスパッタリング法などが知られている。ま
たパターニングの方法としては、予めマスクを介して導
電層を形成する方法、導電層形成後にフォトレジストマ
スクを介してエッチング処理する方法やパターンの雌型
に導電層を形成後、雌型を除去するリフトオフ法などが
知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、真空蒸
着法、スパッタリング法のような導電層形成は各パネル
毎に雰囲気を制御して処理しなければならず、導電層形
成に多大なコストがかかり、導電性パターンの形成には
極めて不都合である。また、パターニングにおいても、
マスクを介して導電層を形成する方法は、各ディスプレ
イにおけるパネルの大型化、高精細化などに伴い、パタ
ーンの位置精度の要求が非常に厳しくなり、対応が非常
に困難になるという問題がある。導電層形成後にフォト
レジストマスクを介してエッチング処理する方法やパタ
ーンの雌型に導電層を形成後、雌型を除去するリフトオ
フ法についても工程が煩雑であるという問題があった。

【０００４】本発明の第１の目的は、高精細パターンの
形成が可能で、従来の方法に比べて簡便な導電性パター
ンの形成方法を提供することにある。本発明の第２の目
的は、感光性転写フィルムを用いることで従来の製造方
法に比べて、実質的に作業性を向上することができる製
造効率の優れた導電性パターンの形成方法を提供するこ
とにある。本発明の第３の目的は、基板として樹脂基板
または樹脂フィルムを使用する際に好適に用いられる導
電性パターンの形成方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の第一の導電性パ
ターンの形成方法（以下、「導電性パターンの形成方法
」ともいう）は、（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ
可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物およ
び（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を基板上
に塗布して導電層を形成する工程、当該導電層を露光処
理する工程、当該導電層を現像処理してパターンを形成
する工程を含むことを特徴とする。

【０００６】また、本発明の第二の導電性パターンの形
成方法（以下、「導電性パターンの形成方法」ともい
う）は、支持フィルム上に形成された （Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）
エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始
剤を含有する感光性転写層を基板上に転写し、導電層を
形成する工程、当該導電層を露光処理する工程、当該導
電層を現像処理してパターンを形成する工程を含むこと
を特徴とする。

【０００７】本発明の導電性パターンの形成方法におけ
る好ましい実施形態は次のとおりである （ａ）導電性パターンの高さが０．１〜５μｍであるこ
と。 （ｂ）導電層中の（Ａ）導電性粒子が７０〜９５質量％
であること。 （ｃ）（Ａ）導電性粒子が透明導電性粒子であること。 （ｄ）導電性パターンを樹脂基板または樹脂フィルム上
に形成すること。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。導電性パターンの形成方法 導電性パターンの形成方法においては、〔１〕導電層
の形成工程、〔２〕導電層の露光工程、〔３〕導電層の
現像工程を含む工程により、導電性パターンを形成す
る。

【０００９】〔１〕導電層の形成工程 この工程においては、（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカ
リ可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物お
よび（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を基板
上に塗布して導電層を形成する。通常、感光性組成物に
は（Ａ）〜（Ｄ）成分に加えて溶剤が添加されている。
上記感光性組成物の具体的組成については後述する。導
電層は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布
法、流延塗布法等種々の方法によって感光性組成物を塗
布した後、通常、塗膜を乾燥することにより形成するこ
とができる。塗膜の乾燥条件としては、例えば、５０〜
１５０℃で０．５〜１５分間程度とされ、乾燥後におけ
る溶剤の残存割合（導電層中の含有率）は、通常、２質
量％以内とされる。導電層の膜厚としては、通常、０．
１〜５μｍ、好ましくは０．５〜２μｍである。

【００１０】〔２〕導電層の露光工程 この工程においては、基板上に形成された導電層の表面
に、露光用マスクを介して、放射線を選択的照射（露
光）して、導電性パターンの潜像を形成する。露光工程
において選択的照射（露光）される放射線としては、可
視光線、紫外線、遠紫外線、電子線あるいはＸ線等を含
むものであり、好ましくは可視光線、紫外線および遠紫
外線が用いられ、さらに好ましくは紫外線が用いられ
る。放射線照射装置としては、フォトリソグラフィー法
で使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表
示装置を製造する際に使用されている露光装置など特に
限定されるものではない。

【００１１】〔３〕導電層の現像工程 この工程においては、露光された導電層を現像処理する
ことにより、導電性パターン（潜像）を顕在化させ、導
電層残留部と導電層除去部とから構成される導電性パタ
ーン（露光用マスクに対応するパターン）が形成され
る。現像工程で使用される現像液としては、アルカリ現
像液を使用することができる。これにより、導電層に含
有されるアルカリ可溶性樹脂を容易に溶解除去すること
ができる。なお、導電層に含有される導電性粒子は、ア
ルカリ可溶性樹脂により均一に分散されているため、バ
インダーであるアルカリ可溶性樹脂を溶解させ、洗浄す
ることにより、導電性粒子も同時に除去される。ここ
に、現像処理条件として、現像液の種類・組成・濃度、
現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動
法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置な
どを適宜選択することができる。なお、アルカリ現像液
による現像処理がなされた後は、水洗処理や必要に応じ
て現像処理後に導電性パターン側面および基板露出部に
残存する不要分を擦り取る工程を含んでもよい。また、
現像処理後の導電性パターンは後述する基板材料におけ
る耐熱性の範囲内で熱処理されてもよい。

【００１２】導電性パターンの形成方法 導電性パターンの形成方法における工程としては、
〔１〕導電層の形成工程、〔２〕導電層の露光工程、
〔３〕導電層の現像工程を含む工程、が挙げられ、当該
〔２〕、〔３〕の工程はそれぞれ、導電性パターンの形
成方法における〔２〕、〔３〕のそれぞれの工程にお
ける条件と同様でよい。 〔１〕導電層の形成工程 導電性パターンの形成方法においては、（Ａ）導電性
粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不
飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有する
感光性転写層が支持フィルム上に形成された感光性転写
フィルムを使用し、当該感光性転写フィルムを構成する
感光性転写層を基板の表面に転写して導電層を形成する
点に特徴を有するものである。ここに、感光性転写フィ
ルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成さ
れた感光性転写層とを有してなり、当該感光性転写層の
表面には保護フィルム層が設けられていてもよい。感光
性転写フィルムの具体的構成については後述する。

【００１３】導電層の形成工程の一例を示せば以下のと
おりである。必要に応じて使用される感光性転写フィル
ムの保護フィルム層を剥離した後、基板表面に、感光性
転写層の表面が当接されるように感光性転写フィルムを
重ね合わせ、加熱ローラなどにより熱圧着し、これによ
り、基板の表面に感光性転写層が転写されて密着した状
態となる。感光性転写層上の支持フィルムは〔２〕導電
層の露光工程の前に剥離除去してもよく、また、露光工
程の後、〔３〕導電層の現像工程の前に剥離除去しても
よい。感度上昇の観点から、感光性転写層上の支持フィ
ルムは露光工程の後、現像工程の前に剥離除去すること
が好ましい。感光性転写フィルムの転写条件としては、
例えば、加熱ローラの表面温度が６０〜１２０℃、加熱
ローラによるロール圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ² 、加熱ロー
ラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分を示すことがで
きる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度と
しては例えば４０〜１００℃とすることができる。導電
性パターンの形成方法によれば、導電層が基板上に転
写形成されるので、工程の簡略化による製造効率を向上
させることができる。

【００１４】好ましい実施形態 本発明の導電性パターンの形成方法において、導電性パ
ターンの高さが０．１〜５μｍであることが好ましい。
また、導電層中の（Ａ）導電性粒子が７０〜９５質量％
であること、（Ａ）導電性粒子が透明導電性粒子である
ことが好ましい。以上の条件を満たすことによって、Ｌ
ＣＤ、有機ＥＬのようなディスプレイ材料においてより
導電性、透明性に優れ、高精細な導電性パターンを得る
ことができる。

【００１５】用いられる材料、条件 以下に、前記の各工程に用いられる材料、各種条件など
について説明する。 ＜基板＞基板材料としては、例えばガラス、シリコン、
ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリ
アミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板
状部材である。ここで、基板材料として、ポリカーボネ
ート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミ
ド、ポリイミドなどの樹脂基板または樹脂フィルムが使
用されることが好ましい。樹脂基板または樹脂フィルム
が使用されることにより、ＬＣＤ、有機ＥＬのようなデ
ィスプレイ材料の軽量化が可能となる。この板状部材の
表面に対しては、必要に応じて、シランカップリング剤
などによる薬品処理のような適宜の前処理を施されてい
てもよく、また適当な膜形成やパターン形成がなされて
いてもよい。

【００１６】＜感光性組成物＞本発明の導電性パターン
の形成方法において導電層を形成するために用いられる
感光性組成物は、（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可
溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物、
（Ｄ）光重合開始剤、必要に応じて（Ｅ）溶剤および
（Ｆ）各種添加剤を、ディゾルバー、ミキサー、ホモミ
キサー、ボールミル、ビーズミルなどの攪拌機を用いて
混合分散することにより調製することができる。上記の
ようにして調製される感光性組成物は、塗布に適した流
動性を有する液状の組成物であり、その粘度は、通常１
〜１０，０００ｃｐとされ、好ましくは５〜１，０００
ｃｐとされる。以下、感光性組成物を構成する各成分に
ついて説明する。

【００１７】（Ａ）導電性粒子 感光性組成物に使用される導電性粒子は、Ａｇ、Ａｕ、
Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ−Ｐｄ合金、Ｃｕ、Ｃｒ、酸化インジ
ウム、酸化錫、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アン
チモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素添加酸化インジウ
ム（ＦＩＯ）、フッ素添加酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素添
加酸化亜鉛（ＦＺＯ）、ならびに、Ａｌ、Ｃｏ、Ｆｅ、
Ｉｎ、ＳｎおよびＴｉから選ばれた一種もしくは二種以
上の金属を含有する酸化亜鉛微粒子などを挙げることが
できる。これらのうち、ＬＣＤ、有機ＥＬのようなディ
スプレイ材料における透明性確保の観点から、酸化イン
ジウム、酸化錫、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、ア
ンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素添加酸化インジ
ウム（ＦＩＯ）、フッ素添加酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素
添加酸化亜鉛（ＦＺＯ）、ならびに、Ａｌ、Ｃｏ、Ｆ
ｅ、Ｉｎ、ＳｎおよびＴｉから選ばれた一種もしくは二
種以上の金属を含有する酸化亜鉛微粒子などの透明導電
性粒子を用いることが好ましい。

【００１８】導電性粒子の平均粒径としては、好ましく
は０．０１〜２μｍ、より好ましくは０．０．０５〜１
μｍである。上記導電性粒子は単独であるいは異なる組
成、異なる形状、異なる平均粒径を有する導電性粒子を
２種以上組み合わせて使用することができる。導電性粒
子の含有量としては、導電層中に７０〜９５質量％配合
されることが好ましい。導電性粒子の含有量が７０質量
％未満の場合は、導電層の導電性が著しく低下する恐れ
があり、導電性粒子の含有量が９５質量％を超える場合
は、導電層の感光性能が著しく低下する恐れがある。

【００１９】（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 感光性組成物に使用されるアルカリ可溶性樹脂として
は、種々の樹脂を用いることができる。ここに、「アル
カリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解
し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有
する性質をいう。かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例と
しては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシス
チレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを
挙げることができる。このようなアルカリ可溶性樹脂の
うち、特に好ましいものとしては、下記のモノマー
（イ）とモノマー（ハ）との共重合体、モノマー
（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合
体などの（メタ）アクリル系樹脂を挙げることができ
る。

【００２０】モノマー（イ）：カルボキシル基含有モノ
マー類 アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ク
ロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケ
イ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシ
エチル）、マレイン酸モノ（２−（メタ）アクリロイロ
キシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモ
ノ（メタ）アクリレート、２−ヘキサヒドロフタロイル
エチル（メタ）アクリレートなど。 モノマー（ロ）：ＯＨ含有モノマー類 ２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレートなどの水酸基含有モノマ
ー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレ
ン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基
含有モノマー類など。 モノマー（ハ）：その他の共重合可能なモノマー類 メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレ
ート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレート、ｎ−ラウリル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル
（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチル
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタ
ニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシ
エチル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）ア
クリレートなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリ
ル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの
芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンな
どの共役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチル（メタ）
アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレート、ポリ
ベンジル（メタ）アクリレート等のポリマー鎖の一方の
末端に（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を
有するマクロモノマー類：

【００２１】上記モノマー（イ）とモノマー（ハ）との
共重合体や、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモ
ノマー（ハ）の共重合体は、モノマー（イ）および／ま
たはモノマー（ロ）に由来する共重合成分の存在によ
り、アルカリ可溶性を有するものとなる。これらの共重
合体は、導電性粒子の分散安定性や後述するアルカリ現
像液への溶解性の観点から特に好ましい。これらの共重
合体におけるモノマー（イ）に由来する共重合成分の含
有率は、好ましくは５〜６０質量％、特に好ましくは１
０〜５０質量％であり、モノマー（ロ）に由来する共重
合成分の含有率は、好ましくは０〜５０質量％、特に好
ましくは５〜３０質量％である。また、モノマー（ロ）
成分としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、
３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどが好
ましい。

【００２２】感光性組成物を構成するアルカリ可溶性樹
脂の分子量としては、ＧＰＣによるポリスチレン換算の
重量平均分子量（以下、単に「重量平均分子量（Ｍ
ｗ）」ともいう）として、１，０００〜２００，０００
であることが好ましく、さらに好ましくは５，０００〜
１００，０００とされる。感光性組成物におけるアルカ
リ可溶性樹脂の含有割合としては、導電性粒子１００質
量部に対して、通常１〜３０質量部とされ、好ましくは
２〜２０質量部とされる。なお、感光性組成物中にアル
カリ可溶性樹脂以外の樹脂を含有してもよい。

【００２３】（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物 感光性組成物を構成するエチレン性不飽和基含有化合物
としては、エチレン性不飽和基を含有し、後述する光重
合開始剤により、ラジカル重合反応し得る化合物である
限り特に限定はされないが、通常、（メタ）アクリレー
ト化合物が用いられる。かかる（メタ）アクリレート化
合物の具体例としては、前述したアルカリ可溶性樹脂を
構成するモノマー（イ）、（ロ）および（ハ）に示され
た化合物などの（メタ）アクリル酸モノエステル類；エ
チレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキ
レングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリ
アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両
末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリ
イソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなど
の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレー
ト類；グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、ト
リメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３
価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート
類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコ
ール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シ
クロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類な
どの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポ
リエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）ア
クリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド
樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）ア
クリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオ
リゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ
る。

【００２４】これらの市販品としては、（メタ）アクリ
ル酸モノエステル類として、アロニックスＭ−１０１、
同Ｍ−１０２、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１３、同Ｍ−１
１４、同Ｍ−１１７（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡ
ＹＡＲＡＤ Ｒ−５６４（日本化薬（株）製）など；２
価アルコールのジ（メタ）アクリレート類として、アロ
ニックスＭ−２１０（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲ
ＡＤ Ｒ−５５１、同Ｒ−７１２（以上、日本化薬
（株）製）など；アルキレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコールなどのジ（メ
タ）アクリレート類として、アロニックスＭ−２２０、
同Ｍ−２４０、同Ｍ−２４５、同Ｍ−２６０、同Ｍ−２
７０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｈ
ＤＤＡ、同ＮＰＧＤＡ、同ＴＰＧＤＡ、同ＰＥＧ４００
ＤＡ、同ＭＡＮＤＡ、同ＨＸ−２２０、同ＨＸ−６２０
（以上、日本化薬（株）製）など；ポリエステルジ（メ
タ）アクリレート類として、アロニックスＭ−６１０
０、同Ｍ−６２００、同Ｍ−６２５０、同Ｍ−６３０
０、同Ｍ−６４００、同Ｍ−６５００（以上、東亞合成
（株）製）など；３価以上の多価アルコールのポリ（メ
タ）アクリレート類や３価以上の多価アルコールのポリ
アルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレー
ト類として、アロニックスＭ−３０９、同Ｍ−３１０、
同Ｍ−４５０、同Ｍ−４００（以上、東亞合成（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＣＡ−２
０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ
−１２０（日本化薬（株）製）、Ｖ−２９５、Ｖ−３０
０、Ｖ−３６０、Ｖ−ＧＰＴ、Ｖ−３ＰＡ、Ｖ−４００
（以上、大阪有機化学工業（株）製）など；３価以上の
ポリエステル（メタ）アクリレート類として、アロニッ
クスＭ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、
同Ｍ−８１００、同Ｍ−９０５０（以上、東亞合成
（株）製）などが挙げられる。これらの（メタ）アクリ
レート化合物のうち、２価以上、さらに好ましくは３価
以上の多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用
いられる。これらの（メタ）アクリレート化合物は、単
独でまたは２種以上を組み合わせて使用することがで
き、通常、前述のアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対
して２０〜５００質量部、より好ましくは、４０〜２５
０質量部で用いられる。

【００２５】（Ｄ）光重合開始剤 感光性組成物を構成する構成する光重合開始剤として
は、後述する露光工程においてラジカルを発生し、前述
したエチレン性不飽和基含有化合物の重合反応を開始せ
しめる化合物である限り特に限定はされない。かかる光
重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベ
ンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノ
ン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α，α’−ジ
メトキシアセトキシベンゾフェノン、２，２−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセト
フェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジ
ル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェ
ニル）−ブタン−１−オン、チオキサントン、２，４−
ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサント
ン、アントラキノン、１，４−ナフトキノンなどのカル
ボニル化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキ
シベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホス
フィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベン
ゾイル）−フェニルホスフィンオキサイドなどのホスフ
ィンオキサイド化合物；アゾイソブチロニトリル、４−
アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジ
ド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化
合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
パーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシ
ド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロ
パーオキシドなどの有機パーオキシド；２，４−ビス
（トリクロロメチル）−６−（２’−クロロフェニル）
−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニ
ル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−１，３，５−トリアジン、などのトリハロメタン類；
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，５，
４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾール
などのイミダゾール二量体などを挙げることができ、市
販品としては、イルガキュア１８４、同３６９、同６５
１、同５００、同９０７、ダロキュア１１７３（以上、
チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ルシリ
ンＬＲ８７２８、同ＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）製）などを
上げることができる。これらは単独でまたは２種以上を
組み合わせて使用することができる。また、増感剤、増
感助剤、水素供与体、連鎖移動剤などを併用してもよ
い。光重合開始剤の含有割合としては、前記アルカリ可
溶性樹脂とエチレン性不飽和基含有化合物の合計量１０
０質量部に対して、通常、０．１〜１００質量部とさ
れ、好ましくは１〜５０質量部である。

【００２６】（Ｅ）溶剤 感光性組成物には、通常、溶剤が含有される。上記溶剤
としては、（Ａ）導電性粒子との親和性、（Ｂ）アルカ
リ可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物、
（Ｄ）光重合開始剤および必要に応じて含有される後述
の（Ｆ）各種添加剤の溶解性が良好で、感光性組成物に
適度な粘性を付与することができ、乾燥されることによ
って容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。
かかる溶剤の具体例としては、ジエチルケトン、メチル
ブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンな
どのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペ
ンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコー
ルなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
エチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−
ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン
酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチル
などの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、
エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプ
ロピオネートなどのエーテル系エステル類などを例示す
ることができ、これらは、単独でまたは２種以上を組み
合わせて使用することができる。感光性組成物における
溶剤の含有割合としては、良好な導電層形成性能が得ら
れる範囲内において適宜選択することができるが、通
常、（Ａ）導電性粒子１００質量部に対して、１〜１
０，０００質量部であり、好ましくは１０〜１，０００
質量部とされる。

【００２７】（Ｆ）各種添加剤 感光性組成物には、上記（Ａ）〜（Ｅ）の成分のほか
に、可塑剤、接着助剤、分散剤、保存安定剤、消泡剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、現像促進剤
などの各種添加剤が任意成分として含有されていてもよ
い。

【００２８】＜露光用マスク＞導電層の露光工程におい
て使用される露光用マスクＭの露光パターンとしては、
目的によって異なるが、一般的に１０〜５００μｍ幅の
ストライプである。

【００２９】＜現像液＞導電層の現像工程で使用される
現像液としては、アルカリ現像液を使用することができ
る。

【００３０】アルカリ現像液の有効成分としては、例え
ば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウ
ム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、
リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リ
ン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウ
ム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性
化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリ
メチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙
げることができる。導電層の現像工程で使用されるアル
カリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または２種
以上を水などに溶解させることにより調製することがで
きる。ここに、アルカリ性現像液におけるアルカリ性化
合物の濃度は、通常０．００１〜１０質量％とされ、好
ましくは０．０１〜５質量％とされる。アルカリ現像液
には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が
含有されていてもよい。

【００３１】感光性転写フィルム 本発明の導電性パターンの形成方法において用いられ
る感光性転写フィルムとしては、支持フィルムと、この
支持フィルム上に形成された支持フィルム上に形成され
た （Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）
エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始
剤を含有する感光性転写層とを有してなり、当該感光性
転写層の表面に保護フィルム層が設けられていてもよ
い。

【００３２】＜支持フィルムおよび保護フィルム＞感光
性転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性およ
び耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルム
であることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有する
ことにより、ロールコータ等によって液状組成物を連続
的かつ安定的に塗布して膜厚均一性に優れた感光性転写
層を形成することができ、感光性転写層をロール状に巻
回した状態で保存し、供給することができる。支持フィ
ルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロ
ン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィル
ムの厚さとしては、例えば５〜１００μｍとされる。支
持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好
ましい。これにより、後述のパターンの形成工程におい
て、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができ
る。なお、保護フィルムについても、支持フィルムと同
様のものを用いることができる。また、保護フィルムの
表面には通常離型処理が施され、保護フィルム／感光性
転写層間の剥離強度が、支持フィルム／感光性転写層間
の剥離強度よりも小さいことが必要である。

【００３３】＜感光性転写層＞感光性転写フィルムを構
成する感光性転写層は、上述した感光性組成物を前記支
持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部また
は全部を除去することにより形成することができる。

【００３４】感光性組成物を支持フィルム上に塗布し、
感光性転写層を得る方法としては、膜厚の均一性に優れ
た塗膜を連続的に形成することができるものであること
が好ましく、具体的には、ロールコーターによる塗布方
法、ブレードコーターによる塗布方法、スリットコータ
ーによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、
ワイヤーコーターによる塗布方法などを好ましいものと
して挙げることができる。塗膜の乾燥条件としては、５
０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度とされ、乾燥後に
おける溶剤の残存割合（感光性転写層中の含有率）は、
通常、２質量％以下とされる。上記のようにして支持フ
ィルム上に形成される感光性転写層の膜厚は０．１〜５
μｍであり、好ましくは０．５〜２μｍである。なお、
感光性転写層中の（Ａ）導電性粒子が７０〜９５質量％
であることが好ましい。

【００３５】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、以下において、「部」および「％」は、それぞれ
「質量部」および「質量％」を示す。また、重量平均分
子量（Ｍｗ）は、東ソー株式会社製ゲルパーミィエーシ
ョンクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８
０２Ａ）により測定したポリスチレン換算の平均分子量
である。

【００３６】〔合成例１〕ジシクロペンタニルメタクリ
レート６０部、メタクリル酸３０部、２−ヘキサヒドロ
フタロイルエチルメタクリレート１０部およびアゾビス
イソブチロニトリル３部を３−エトキシプロピオン酸エ
チル２００部に溶解したものを、攪拌機付きオートクレ
ーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一にな
るまで攪拌した後、８０℃で３時間重合させ、さらに１
００℃で１時間重合反応を継続させた後室温まで冷却し
てポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９８％であ
り、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下、
「ポリマー（Ｉ）」という）の重量平均分子量（Ｍｗ）
は、２０，０００であった。

【００３７】〔合成例２〕エチルヘキシルメタクリレー
ト４０部、ヒドロキシプロピルメタクリレート２５部、
メタクリル酸１５部、コハク酸モノ（２−アクリロイロ
キシエチル）２０部およびアゾビスイソブチロニトリル
１部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート２００部に溶解したものをオートクレーブに仕込ん
だこと以外は合成例１と同様にして、ポリマー溶液を得
た。ここに、重合率は９７％であり、このポリマー溶液
から析出した共重合体（以下、「ポリマー（ＩＩ）」と
いう）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、７０，０００であ
った。

【００３８】〔実施例１〕 ＜感光性組成物の調製＞ （Ａ）導電性粒子としてＩＴＯ粉末１００部、（Ｂ）ア
ルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ｉ）１０部、（Ｃ）
エチレン性不飽和基含有化合物として３価以上のポリエ
ステル（メタ）アクリレート（アロニックスＭ−８０６
０（東亞合成（株）製））５部、（Ｄ）光重合開始剤と
して２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキサイド（ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製））
１．５部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン（イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ（株）製））１部、増感剤として、２，４−
ジエチルチオキサントン１部、（Ｅ）溶剤として３−エ
トキシプロピオン酸エチル１００部、（Ｆ）密着助剤と
して、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
０．１部を混合分散することにより、感光性組成物（以
下、「感光性組成物（Ｉ）」という）を調製した。 ＜導電層の形成工程＞ポリカーボネート基板上にスピン
ナーを用いて、感光性組成物（Ｉ）を塗布した後、９０
℃で５分間ホットプレート上で乾燥して、厚さ１μｍの
導電層を形成した。

【００３９】＜導電層の露光工程＞基板上に形成された
導電層に対して、露光用マスク（７０μｍ幅のストライ
プパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波
長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。ここに、照射量は
４００ｍＪ／ｃｍ²とした。

【００４０】＜導電層の現像工程＞露光処理された導電
層に対して、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
０．５質量％水溶液（２５℃）で現像処理を行い、次い
で超純水による水洗処理を行い、これにより、紫外線が
照射されていない未硬化の導電層を除去し、導電性パタ
ーンを形成した。得られた導電性パターンを走査型電子
顕微鏡により観察したところ、寸法精度がきわめて高い
ものであった。またパターンの欠損、欠落は観察されな
かった。

【００４１】〔実施例２〕 ＜感光性転写層の作製＞ （Ａ）導電性粒子としてＩＴＯ粉末１００部、（Ｂ）ア
ルカリ可溶性樹脂としてポリマー（ＩＩ）１２部、
（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物としてトリメチロ
ールプロパントリアクリレート（アロニックスＭ−３０
９（東亞合成（株）製））８部、（Ｄ）光重合開始剤と
して２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（イルガキュ
ア３６９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）
製））２部、（Ｅ）溶剤としてプロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート５０部、（Ｆ）密着助剤と
して、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
０．１部を用いたこと以外は実施例１と同様にして感光
性組成物（以下、「感光性組成物（ＩＩ）」という）を
調製した。次いで、得られた感光性組成物（ＩＩ）を、
予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルムよりなる支持フィルム（厚さ２５μｍ）上
にグラビアコータにより塗布した後、オーブンにて１０
０℃で５分間乾燥することにより、厚さ２μｍの感光性
転写層層が支持フィルム上に形成されてなる感光性転写
フィルムを作製した。

【００４２】＜導電層の形成工程＞ポリカーボネート基
板の表面に、感光性転写層の表面が当接されるよう感光
性転写フィルムを重ね合わせ、この感光性転写フィルム
を加熱ローラにより熱圧着し、これにより、基板上に導
電層を形成した。ここで、圧着条件としては、加熱ロー
ラの表面温度を９０℃、ロール圧を２．５ｋｇ／ｃｍ
² 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。。

【００４３】＜導電層の露光工程＞基板上に形成された
導電層に対して、露光用マスク（７０μｍ幅のストライ
プパターン）を介して、超高圧水銀灯により、支持フィ
ルム上からｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射し
た。ここに、照射量は２００ｍＪ／ｃｍ²とした。露光
処理の終了後、導電層から支持フィルムを剥離除去し
た。

【００４４】＜導電層の現像工程＞露光処理された導電
層に対して、炭酸ナトリウム０．３質量％水溶液（３０
℃）で現像処理を行い、次いで超純水による水洗処理を
行い、これにより、紫外線が照射されていない未硬化の
導電層を除去し、導電性パターンを形成した。得られた
導電性パターンを走査型電子顕微鏡により観察したとこ
ろ、寸法精度がきわめて高いものであった。またパター
ンの欠損、欠落は観察されなかった。

【００４５】

【発明の効果】本発明の導電性パターンの形成方法によ
れば、従来の方法に比べて簡便に高精細パターンの形成
が可能となる。また、感光性転写フィルムを用いること
で実質的に作業性を向上することができる。本発明の導
電性パターンの形成方法はＬＣＤ、有機ＥＬのようなデ
ィスプレイ材料の各表示セルを構成する導電性パターン
の形成において、また、基板として樹脂基板または樹脂
フィルムを使用する際に好適に用いることができる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶
   性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物および
   （Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を基板上に
   塗布して導電層を形成する工程、当該導電層を露光処理
   する工程、当該導電層を現像処理してパターンを形成す
   る工程を含むことを特徴とする導電性パターンの形成方
   法。
2. 【請求項２】 支持フィルム上に形成された （Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）
   エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始
   剤を含有する感光性転写層を基板上に転写し、導電層を
   形成する工程、当該導電層を露光処理する工程、当該導
   電層を現像処理してパターンを形成する工程を含むこと
   を特徴とする導電性パターンの形成方法。
3. 【請求項３】 導電性パターンの高さが０．１〜５μｍ
   であることを特徴とする請求項１乃至２記載の導電性パ
   ターンの形成方法。
4. 【請求項４】 導電層中の（Ａ）導電性粒子が７０〜９
   ５質量％であることを特徴とする、請求項１乃至２記載
   の導電性パターンの形成方法。
5. 【請求項５】 （Ａ）導電性粒子が透明導電性粒子であ
   ることを特徴とする請求項１乃至２記載の導電性パター
   ンの形成方法。
6. 【請求項６】 導電性パターンを樹脂基板または樹脂フ
   ィルム上に形成することを特徴とする請求項１乃至２記
   載の導電性パターンの形成方法。