JP2002183909A5

JP2002183909A5 -

Info

Publication number: JP2002183909A5
Application number: JP2000377989A
Authority: JP
Filing date: 2000-12-07
Publication date: 2005-10-27

Claims

薄膜磁気ヘッドにおける記録ヘッドの上部コア又は下部コアの少なくとも一方を製造するに際し、
40≦Co≦70wt％、10≦Ni≦25wt％、10≦Fe≦30wt％の組成からなるCo、Ni及びFeを含有する磁性膜をスパッタ法により形成し、
該磁性膜上に40≦Co≦70wt％、10≦Ni≦25wt％、10≦Fe≦30wt％の組成からなるCo、Ni及びFeを含有する磁性膜を電気めっき法により形成し、
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、サッカリンナトリウムを含有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
前記スパッタ法により形成された磁性膜は主として体心立方晶相からなり、前記電気めっき法により形成された磁性膜はX線回折における面心立方晶fcc（111）面、fcc（200）面、及び体心立方晶bcc(110)面のピーク強度を、それぞれI(111)，I(200)，I(110)とすると、ピーク強度比がI(200)/I(111)≧0.5、かつI(110)／I（111）≧1であることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、面心立方晶相と体心立方晶相の構成比が40≦体心立方晶相≦80％、20％≦面心立方晶≦60％、且つ、面心立方晶相+体心立方晶相＝100％であることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、0.5〜2ｇ/ｌのサッカリンナトリウムを含むめっき浴から形成されることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、めっき浴温度25℃〜35℃、電流密度3〜12ｍA/ｃｍ２、ｐH3.2〜4.0の範囲で電気めっきを行うことにより形成されることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
前記電気めっき法により形成された磁性膜の飽和磁束密度（Bs）は、前記スパッタ法により形成された磁性膜の飽和磁束密度よりも大きいことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
薄膜磁気ヘッドにおける記録ヘッドの上部コア又は下部コアの少なくとも一方が、
スパッタ法により形成され、40≦Co≦70wt％、10≦Ni≦25wt％、10≦Fe≦30wt％の組成からなるCo、Ni及びFeを含有する磁性膜と、該磁性膜上に電気めっき法により形成され、40≦Co≦70wt％、10≦Ni≦25wt％、10≦Fe≦30wt％の組成からなるCo、Ni及びFeを含有する磁性膜とを有する磁極層であり、
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、サッカリンナトリウムを含有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、X線回折における面心立方晶fcc（111）面、fcc（200）面、及び体心立方晶bcc(110)面のピーク強度を、それぞれI(111)，I(200)，I(110)とすると、ピーク強度比がI(200)/I(111)≧0.5、かつI(110)／I（111）≧1であることを特徴とする請求項７記載の薄膜磁気ヘッド。
前記電気めっき法により形成された磁性膜は、面心立方晶相と体心立方晶相とから構成され、該面心立方晶相と体心立方晶相の構成比が40％≦体心立方晶相≦80％、20％≦面心立方晶≦60％であることを特徴とする請求項７記載の薄膜磁気ヘッド。
前記磁性膜の磁気特性は、飽和磁束密度Bsが17500ガウス≦Bs＜20000ガウスであり、困難軸方向の保磁力HchがHch＜1.5Oeであることを特徴とする請求項７記載の薄膜磁気ヘッド。
保磁力4000 Oe以上の磁気記録媒体と、磁気抵抗効果素子を用いた再生ヘッドと、ギャップを介した一対の磁極を用いた記録ヘッドとを備え、
前記記録ヘッドは、請求項７〜１０の何れかに記載の薄膜磁気ヘッドであることを特徴とする磁気記録装置。