JP2001176724A - 磁性材料、磁気ヘッド及びその製造方法、並びに磁気記録再生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い飽和磁束密度及び良好な軟磁気特性に加
え優れた耐蝕性を有する磁性材料を提供する。 【解決手段】 磁性材料は、ＣｏＮｉＦｅＸ（ＸはＣ
ｒ，Ｔｉ，Ｖ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ及びＰｔ
の中から選択される少なくとも１種類の元素）を主成分
とする。そして、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｘの重量成分比を
それぞれａ、ｂ、ｃ、ｄとしたとき、４０％≦ａ≦７５
％、５％≦ｂ≦２０％、１０％≦ｃ≦３０％、０％＜ｄ
≦１０％となっている。このような組成のときに、高い
飽和磁束密度及び良好な軟磁気特性に加え優れた耐蝕性
が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録用磁気コアに
適した磁性材料、この磁性材料を用いた磁気ヘッド及び
その製造方法、並びにこの磁気ヘッドを用いた磁気記録
再生装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク装置等の磁気記録再生装置
用の磁気ヘッドは、高密度な磁気記録を行うため、強く
かつ急峻な書き込み磁界を発生することが求められてい
る。書き込み磁界を強くするには、記録用磁気コアの磁
性材料が飽和磁束密度の高いものでなければならない。
また、この磁性材料は、書き込みコイルに電流を流すこ
とで容易に励磁される必要があるため、保磁力が小さく
透磁率の高いもの、すなわち優れた軟磁性特性を有する
ことが必要である。

【０００３】従来よく用いられてきた記録用磁気コアの
磁性材料は、パ−マロイ（商標）と呼ばれるニッケル・
鉄合金膜のうち、磁歪定数が０に近いニッケル含有量が
８２％程度の領域のものであった。この領域のパ−マロ
イを、以下「８２パ−マロイ」と呼ぶ。８２パ−マロイ
の飽和磁束密度は１［Ｔ］程度である。８２パ−マロイ
よりも飽和磁束密度の高い磁性材料を用いれば、書き込
み磁界がより強くて急峻な磁気ヘッドを作ることができ
る。

【０００４】高い飽和磁束密度を実現した磁性材料とし
て、例えば特開平２−６８９０６号公報に、三元系めっ
きＣｏＮｉＦｅ膜が開示されている。この三元系めっき
ＣｏＮｉＦｅ膜では、高い飽和磁束密度を得るために、
Ｎｉの組成値をできる限り小さくすることが必要とされ
る。しかし、これとは逆に、良好な軟磁気特性（磁歪が
小さい等）を有するｆｃｃ結晶構造を得るためには、Ｎ
ｉ濃度を高い値に設定しなければならなかった。このよ
うに、三元系めっきＣｏＮｉＦｅ膜では、高い飽和磁束
密度と良好な軟磁気特性とを両立させることが困難であ
った。

【０００５】これに対して、本発明者らの一部が発明者
となっている特開平１１−７４１２２号公報には、高い
飽和磁束密度と良好な軟磁気特性との両立を可能にする
三元系めっきＣｏＮｉＦｅ膜が開示されている。この三
元系めっきＣｏＮｉＦｅ膜は、サッカリン等の添加剤を
用いないで成膜することにより、Ｎｉの組成値が１０
［ｗｔ％］前後であっても、２．０［Ｔ］以上の飽和磁
束密度を達成したものである。三元系めっきＣｏＮｉＦ
ｅ膜（サッカリン添加なし）のｆｃｃとｂｃｃとの結晶
構造の境界ラインを図６、三元系めっきＣｏＮｉＦｅ膜
（サッカリン添加あり）のｆｃｃとｂｃｃとの結晶構造
の境界ラインを図７にそれぞれ示す。これらの図面から
明らかなように、三元系めっきＣｏＮｉＦｅ膜（サッカ
リン添加なし）は、三元系めっきＣｏＮｉＦｅ膜（サッ
カリン添加あり）に比べて、ｆｃｃとｂｃｃとの結晶構
造の境界ラインがＮｉ組成の低い側へ大きくシフトして
いる。このように、三元系めっきＣｏＮｉＦｅ膜の結晶
構造は、各元素の組成のみではなく、プロセス条件によ
っても調整できることがわかる。以上のとおり、特開平
１１−７４１２２号公報には、ｆｃｃ結晶面を優先的に
配向させることで良好な軟磁気特性を得るとともに、
１．８〜２．０［Ｔ］の高い飽和磁束密度を有する磁性
材料が開示されている。なお、ｆｃｃとは面心立方格
子、ｂｃｃとは体心立方格子のことである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】１０ギガビット以上の
更に高い記録密度の磁気記録再生装置を実現するために
は、熱揺らぎのない４０００エルステッド以上の高保磁
力を有する磁気媒体に対して記録及び再生を行うことが
必要とされる。この場合、記録用の磁気ヘッドに対して
も、従来以上に急峻な磁界勾配及び高い飽和磁束密度が
要求される。

【０００７】しかしながら、上記特開平１１−７４１２
２号公報に開示されている三元系めっきＣｏＮｉＦｅ膜
でも、１．０［Ｔ］程度の飽和磁束密度のＮｉＦｅを下
地層として用いた場合には、４０００エルステッド以上
の高保磁力の磁気媒体に十分な書き込みを行うことがで
きなかった。また、このＮｉＦｅの代わりに、三元系め
っきＣｏＮｉＦｅ膜と同組成のＣｏＮｉＦｅを下地層と
して用いた場合には、軟磁気特性に必要な低保磁力が得
られない、耐蝕性が悪いために製造プロセス途中で溶解
する、などの問題が生じた。なお、下地層は、三元系め
っきＣｏＮｉＦｅ膜形成時の電極として必要なものであ
り、めっき浴に対する耐蝕性が要求される。

【０００８】

【発明の目的】そこで、本発明の目的は、高い飽和磁束
密度及び良好な軟磁気特性に加え優れた耐蝕性を有する
磁性材料、この磁性材料を用いた磁気ヘッド及びその製
造方法、並びにこの磁気ヘッドを用いた磁気記録再生装
置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁性材料
は、ＣｏＮｉＦｅＸ（ＸはＣｒ，Ｔｉ，Ｖ，Ｒｕ，Ｒ
ｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ及びＰｔの中から選択される少な
くとも１種類の元素）を主成分とする磁性材料であっ
て、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｘの重量成分比をそれぞれａ、
ｂ、ｃ、ｄとしたとき、４０％≦ａ≦７５％、５％≦ｂ
≦２０％、１０％≦ｃ≦３０％、０％＜ｄ≦１０％であ
ることを特徴とするものである。当然のことながら、ａ
＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００％である。このような組成のとき
に、高い飽和磁束密度及び良好な軟磁気特性に加え優れ
た耐蝕性が得られる。

【００１０】また、Ｘ線回折によるｂｃｃ（１１０）の
ピ−ク強度がｆｃｃ（１１１）のピ−ク強度の０．１倍
以上かつ１．０倍以下であるもの、としてもよい。更
に、配向制御層上に設けてもよい。この配向制御層は、
Ｔａ，Ｚｒ，Ｔｉ、Ｍｏ，Ｃｒ，Ｖ及びＮｉＦｅの中か
ら選択される少なくとも１種類からなるものとしてもよ
い。配向制御層の厚さは、１０［ｎｍ］以上かつ１００
［ｎｍ］以下としてもよい。これらの場合は、更に諸特
性が向上する。

【００１１】本発明に係る磁気ヘッドは、記録ギャップ
層を挟んで一方の記録用磁気コアと他方の記録用磁気コ
アとが設けられ、これらの記録用磁気コアの間に絶縁層
により絶縁されたコイルが設けられ、コイルにより励磁
された記録用磁気コアの磁束が記録ギャップ層から漏れ
ることにより記録を行う磁気ヘッドにおいて、他方の記
録用磁気コアが第一の磁性層と第二の磁性層との積層か
らなり、第一の磁性層が本発明に係る磁性材料からな
り、第二の磁性層がＣｏＮｉＦｅを主成分とする磁性材
料からなることを特徴とするものである。第一の磁性層
が本発明に係る磁性材料からなるので、第一の磁性層を
下地層として第二の磁性層を電気めっき法で形成するこ
とにより、書き込み磁界が強くて急峻な磁気ヘッドを高
歩留まりで作ることができる。

【００１２】また、第二の磁性層がＣｏＮｉＦｅを主成
分とする磁性層とＮｉＦｅを主成分とする磁性層との積
層からなり、ＣｏＮｉＦｅを主成分とする磁性層が第一
の磁性層に近い側に設けられているものとしてもよい。
更に、対向する二枚の磁気シールド層間に磁気分離層を
介して磁気抵抗効果素子が設けられ、磁気シールド層の
一方が一方の記録用磁気コアとして兼用されるものとし
てもよい。

【００１３】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、本
発明に係る磁気ヘッドを製造する方法であって、第一の
磁性層（本発明に係る磁性材料からなる）が物理的気相
形成法により形成され、第二の磁性層が電気めっき法
（電着法ともいう）により形成されるものである。物理
的気相形成法とは、例えば蒸着やスパッタリング等であ
る。第一の磁性層を下地層として、第二の磁性層が電気
めっき法により形成される。

【００１４】本発明に係る磁気記録再生装置は、本発明
に係る磁気ヘッドと、保磁力が４０００エルステッド以
上かつ１平方インチ当りの記録密度が１０ギガビット以
上である磁気媒体と、を備えたものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】本実施形態の磁性材料は、ＣｏＮ
ｉＦｅＸ（ＸはＣｒ，Ｔｉ，Ｖ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏ
ｓ，Ｉｒ及びＰｔの中から選択される少なくとも１種類
の元素）を主成分とする。そして、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、
Ｘの重量成分比をそれぞれａ、ｂ、ｃ、ｄとしたとき、
４０％≦ａ≦７５％、５％≦ｂ≦２０％、１０％≦ｃ≦
３０％、０％＜ｄ≦１０％となっている。

【００１６】粒径の小さい領域としてｆｃｃとｂｃｃと
の混晶又は混晶近傍のｆｃｃ領域において、Ｃｒ等の添
加剤を用いてＣｏＮｉＦｅの結晶構造を制御した。その
結果、Ｘ線回折によるピ−ク強度比ｆｃｃ（２００）／
ｆｃｃ（１１１）＜０．２５であり、ｂｃｃ（１１０）
のピ−ク強度がｆｃｃ（１１１）のピ−ク強度の０．１
倍以上かつ１．０倍以下となる領域において、保磁力及
び磁歪定数が小さくかつ２［Ｔ］以上の飽和磁束密度を
有する磁性材料が得られた。具体的には、保磁力が２
［Ｏｅ］以下及び磁歪定数が５×１０^-6以下と軟磁気特
性が良好であり、１．８〜２．０［Ｔ］と飽和磁束密度
の高い磁性材料が得られた。

【００１７】また、優先的にｆｃｃ配向面となるＴｉ、
ＮｉＦｅ等からなる配向制御層上に本実施形態の磁性材
料を設けることにより、ＣｏＮｉＦｅ膜のｆｃｃ配向が
更に優先され、良好な軟磁気特性となることがわかっ
た。この配向制御層の膜厚の下限値は、ｆｃｃ配向膜と
して十分に機能すること、薄いほど急峻な磁界勾配が得
られることから、１０［ｎｍ］とすることが好ましい。
この配向制御層の膜厚の上限値は、ギャップ値に影響を
与えない（他のギャップ構成材料による膜厚調整可能で
ある）大きさである必要性から、１００［ｎｍ］とする
ことが好ましい。

【００１８】図１［１］は、本実施形態の磁性材料にお
けるｂｃｃ（１１０）とｆｃｃ（１１１）とのピ−ク強
度比及び保持力ＨｃのＣｒ添加量依存性を示す図表であ
る。

【００１９】この図から次のことが明らかになった。
．Ｃｒ添加量が増加するにつれて、ｂｃｃ（１１０）
ピ−ク強度が小さくなるとともに、ｆｃｃ（１１１）ピ
−ク強度が大きくなる。．Ｃｒ添加量が増加するにつ
れて、保磁力が小さくなる。．Ｔｉのようなｆｃｃ配
向制御層を設けた場合においても、Ｃｒ添加量が増加す
るにつれて、ｂｃｃ（１１０）ピ−ク強度に対するｆｃ
ｃ（１１１）ピ−ク強度が大きくなり、保持力も低減す
る。

【００２０】図１［２］は、本実施形態の磁性材料にお
ける塩化ナトリウム溶液中の孔蝕電位のＣｒ添加量依存
性を示す図表である。

【００２１】この図から、Ｃｒ添加により、孔蝕電位が
貴電位にシフトするので、磁性材料の耐蝕効果が向上す
ることがわかった。なお、Ｃｒ添加量が増加するにつれ
て、飽和磁束密度は減少していく。例えばＣｒを１０重
量％添加した場合には、飽和磁束密度は１．４［Ｔ］ま
で減少する。 このことから、本実施形態の磁性材料で
あるＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒの各重量成分比をａ、ｂ、
ｃ、ｄとしたとき、４０％≦ａ≦７５％、５％≦ｂ≦２
０％、１０％≦ｃ≦３０％、０％＜ｄ≦１０％の範囲で
あれば、従来例に比較し、その磁気特性の改善が得られ
ることを確認した。

【００２２】また、Ｃｒ以外の添加材料Ｔｉ、Ｖ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔにおいても、上記効
果を奏することを確認した。

【００２３】図２は、本発明に係る磁気ヘッドの第一実
施形態を示す断面図である。以下、この図面に基づき説
明する。

【００２４】図２は、磁気媒体と対抗する面であるエア
・ベアリング・サ−フェス（ＡＢＳ）面と垂直な断面図
である。スライダとなる基体１は、アルミナとチタンカ
ーバイドとからなる複合セラミックである。この上に再
生機能を有するＧＭＲ（giant magnetoresistivity）ヘ
ッドが形成されている。ＧＭＲヘッドは、パタン化され
たＣｏＺｒＴａ膜からなる下シールド層２と、Ｎｉが８
０重量％程度のＮｉＦｅ膜からなる上シールド層５と、
これらの間にあってアルミナからなる磁気分離層３を介
したＧＭＲ素子４とからなる。下シールド層２の厚さは
１［μｍ］、上シールド層５の厚さは３［μｍ］であ
る。また、下シールド層２と上シールド層５との間のギ
ャップは０．１３［μｍ］である。ＧＭＲヘッド上に
は、めっきＮｉＦｅからなる上シールド層５が形成され
ている。なお、上シ−ルド層５は、ＩＤ（inductive）
ヘッドの記録用磁気コア６と同一である。

【００２５】記録用磁気コア６上に、膜厚０．１８［μ
ｍ］のアルミナによる記録ギャップ７層が形成されてい
る。そして、記録ギャップ７層を介して存在する非磁性
絶縁体からなる絶縁層８によって、ゼロスロートハイト
が規定されている。また、絶縁層８上にＣｕめっき膜か
らなるコイル９が形成され、更に非磁性絶縁体からなる
絶縁層１０によりコイル９が絶縁されている。非磁性絶
縁体は例えばフォトレジストである。

【００２６】記録用磁気コア１１は、第一の磁性層１１
１及び第二の磁性層１１２からなる。第二の磁性層１１
２は、下磁性層１１Ｄ及び上磁性層１１Ｕからなる。第
一の磁性層１１１は、本発明に係る磁性材料からなり、
下磁性層１１Ｄである電解めっき膜の下地層として機能
する。第一の磁性層１１１は、ｒｆマグネトロンスパッ
タリング法により形成され、膜厚１０［ｎｍ］のＴｉの
配向制御層（図示せず）と、その上の膜厚１００［ｎ
ｍ］のＣｏＮｉＦｅにＣｒを添加した磁性材料とからな
る。この磁性材料の組成は、６５Ｃｏ−１０Ｎｉ−２１
Ｆｅ−４Ｃｒ（ｗｔ％）である。

【００２７】第一の磁性層１１１上に、サッカリンを含
まないめっき浴を用いて、飽和磁束密度Ｂｓが２［Ｔ］
のＣｏＮｉＦｅ膜からなる下磁性層１１Ｄを形成した。
このときのめっき浴条件の一例を、図３［１］に示す。
下磁性層１１Ｄの上に、同様のめっき法により、飽和磁
束密度Ｂｓが１．６［Ｔ］のＮｉＦｅ膜からなる上磁性
層１１Ｕを形成した。下磁性層１１Ｄの膜厚は０．５５
［μｍ］、下磁性層１１Ｄの組成はＣｏが６５重量％、
Ｎｉが１２重量％、Ｆｅが２３重量％である。上磁性層
１１Ｕの膜厚は３．０［μｍ］、上磁性層１１Ｕの組成
はＮｉが４５重量％、Ｆｅが５５重量％である。

【００２８】また、比較例の磁気ヘッドとして、第一の
磁性層１１１を８２パ−マロイ膜、第二の磁性層１１２
をＣｏＮｉＦｅ膜に置き換えたものを試作した。

【００２９】本実施形態の磁気ヘッドによれば、電解め
っき膜の下地に高飽和磁束密度の材料を採用することに
より、従来の８２パ−マロイ等のスパッタ下地材料を用
いた場合（比較例）に比べて、１０％程度の飽和磁束密
度の増加が得られた。また、Ｃｒ等の添加剤を用いるこ
とによって、先に示したように下地材料の保持力が小さ
くなることにより、ノイズ等のリ−ドライト特性にも優
れていた。Ｔｉ，Ｖ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ，
Ｐｔ等を添加した場合においても、Ｃｒと同様に軟磁気
特性の優れた膜を形成することができた。またこれらの
添加剤は、良好な不動態膜等を形成しやすくすることか
ら、耐蝕性に優れた膜となり、その後の磁気ヘッド製造
工程の例えば下地除去プロセスに対しても、十分に効果
があることが確認された。

【００３０】次に、本発明に係る磁気ヘッドの第二実施
形態を説明する。ただし、第一実施形態と同じことは説
明を省略する。本実施形態では、第一実施形態における
配向制御層のＴｉをＴａ，Ｚｒ，Ｔｉ、Ｍｏ，Ｃｒ，
Ｖ，ＮｉＦｅ等に置き換え、他は第一実施形態と同じに
した磁気ヘッドを作製した。この場合においても、第一
実施形態と同様に良好な軟磁気特性を示す膜が得られ、
この膜を用いた磁気ヘッドも良好なリ−ドライト特性を
示した。

【００３１】次に、本発明に係る磁気ヘッドの第三実施
形態を説明する。ただし、第一実施形態と同じことは説
明を省略する。本実施形態では、第一実施形態における
下磁性層１１Ｄを、図３［２］に示すめっき浴組成及び
めっき条件で形成したＣｏＮｉＦｅＣｒ膜に置き換え、
他は第一実施形態と同じにした磁気ヘッドを作製した。
この下磁性層１１Ｄの飽和磁束密度Ｂｓは１．８〜２．
０［Ｔ］、組成はＣｏが６５重量％、Ｎｉが１０重量
％、Ｆｅが２１重量％、Ｃｒが４重量％である。この場
合においても、第一実施形態と同様に良好な軟磁気特性
を示す膜が得られ、この膜を用いた磁気ヘッドも良好な
リ−ドライト特性を示した。

【００３２】このように、下地に高飽和磁束密度の材料
を採用することにより、従来の８２パ−マロイ等のスパ
ッタ下地材料を用いた場合（比較例）に比較し、１０％
程度の飽和磁束密度の増加が得られた。また、Ｃｒ等の
添加剤を用いることによって、先に示したように、下地
材料の保持力が小さくなるのでノイズ等のリ−ドライト
特性にも優れるとともに、より耐蝕性にも優れた膜とな
った。Ｔｉ，Ｖ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ
等を添加した場合においてもＣｒと同様に軟磁気特性の
優れた膜を形成することができた。また、下磁性層１１
ＤにもＣｒを添加していることから、従来のＣｒ添加の
ない膜に比べ、飽和磁束密度は低下するもののより耐蝕
性に優れた膜となったので、その後の磁気ヘッド製造工
程に十分に効果があることが確認された。

【００３３】図４は、本発明に係る磁気ヘッドの外観斜
視図である。図５は、本発明に係る磁気ヘッドを搭載し
た磁気記録再生装置を示すブロック図である。以下、こ
れらの図面に基づき説明する。

【００３４】図４に示すように、磁気ヘッド２５は、ス
ライダ２６、電極２７、記録再生素子２８が配置されて
いる。図５に磁気記録再生装置２９が示されている。ス
ピンドルモータ３０で回転する磁気媒体３１の磁気記録
面に対向して、磁気ヘッド２５がサスペンション３３及
びアーム３４により取り付けられている。磁気ヘッド２
５は、ヴォイスコイルモータ（ＶＣＭ）３５で磁気媒体
３１上をトラッキングされる。磁記録再生動作は、磁気
ヘッド２５への記録再生チャネル３６からの信号により
行われる。記録再生チャネル３６、磁気ヘッド２５の位
置決めを行うＶＣＭ３５、及び磁気媒体３１を回転させ
るスピンドルモータ３０は、それぞれ制御ユニット３７
によって制御される。

【００３５】以上の構成において、磁気媒体３１の保磁
力を４０００［Ｏｅ］以上、磁気媒体３１と磁気ヘッド
２５との磁気間隙を３５［ｎｍ］とすることによって、
およそ１０ギガビット／平方インチ又はそれ以上の記録
密度を有する磁気記録再生装置２９が実現される。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁性
材料によれば、ＣｏＮｉＦｅにＣｒ等を添加し、これら
の組成比を適切な範囲とすることにより、高い飽和磁束
密度及び良好な軟磁気特性に加え優れた耐蝕性を得るこ
とができる。例えば、１．８〜２．０［Ｔ］の高い飽和
磁束密度と保磁力２．５［Ｏｅ］以下の優れた軟磁気特
性とを兼ね備えた磁性材料を得ることができる。また、
本発明に係る磁気ヘッドによれば、本発明に係る磁性材
料を用いたことにより、急峻な磁界勾配及び大きな磁界
を出力可能なＩＤヘッドを得ることができる。また、本
発明に係る磁気ヘッドと高保磁力の磁気媒体とを組み合
わせることにより、１平方インチ当りの記録密度が１０
ギガビット以上の磁気記録再生装置を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は本発明に係る磁性材料の一実施形態を
示し、図１［１］はｂｃｃ（１１０）とｆｃｃ（１１
１）とのピ−ク強度比及び保持力ＨｃのＣｒ添加量依存
性を示す図表であり、図１［２］は塩化ナトリウム溶液
中の孔蝕電位のＣｒ添加量依存性を示す図表である。

【図２】 本発明に係る磁気ヘッドの第一実施形態を示
す断面図である。

【図３】 本発明に係る磁気ヘッドの各実施形態におけ
るめっき浴組成及びめっき条件を示す図表であり、図３
［１］は第一実施形態、図３［２］は第三実施形態であ
る。

【図４】 本発明に係る磁気ヘッドの外観斜視図であ
る。

【図５】 本発明に係る磁気ヘッドを搭載した磁気記録
再生装置を示すブロック図である。

【図６】 サッカリン添加剤のない場合における三元系
めっきＣｏＮｉＦｅ膜の結晶相を示すグラフである。

【図７】 サッカリン添加剤のある場合における三元系
めっきＣｏＮｉＦｅ膜の結晶相を示すグラフである。

【符号の説明】

１ 基体 ２ 下シ−ルド層（磁気シールド層） ３ 磁気分離層 ４ ＧＭＲ素子（磁気抵抗効果素子） ５ 上シールド層（磁気シールド層） ６ 記録用磁気コア ７ 記録ギャップ層 ８，１０ 絶縁層 ９ コイル １１ 記録用磁気コア １１１ 第一の磁性層 １１２ 第二の磁性層 １１Ｄ 下磁性層 １１Ｕ 上磁性層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石 勉 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 本庄 弘明 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 鳥羽 環 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 斉藤 信作 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 野中 義弘 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 Ｆターム(参考） 5D033 BA03 BA08 BB43 CA01 CA06 DA03 DA04 DA31 5D034 BA02 BB09 DA07 5E049 AA04 AA09 BA12

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＣｏＮｉＦｅＸ（ＸはＣｒ，Ｔｉ，Ｖ，
   Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ及びＰｔの中から選択さ
   れる少なくとも１種類の元素）を主成分とする磁性材料
   であって、前記Ｃｏ、前記Ｎｉ、前記Ｆｅ、前記Ｘの重
   量成分比をそれぞれａ、ｂ、ｃ、ｄとしたとき、４０％
   ≦ａ≦７５％、５％≦ｂ≦２０％、１０％≦ｃ≦３０
   ％、０％＜ｄ≦１０％であることを特徴とする磁性材
   料。
2. 【請求項２】 Ｘ線回折によるｂｃｃ（１１０）のピ−
   ク強度がｆｃｃ（１１１）のピ−ク強度の０．１倍以上
   かつ１．０倍以下である、請求項１記載の磁性材料。
3. 【請求項３】 配向制御層上に設けられた、請求項１又
   は２記載の磁性材料。
4. 【請求項４】 前記配向制御層が、Ｔａ，Ｚｒ，Ｔｉ、
   Ｍｏ，Ｃｒ，Ｖ及びＮｉＦｅの中から選択される少なく
   とも１種類からなる、請求項３記載の磁性材料。
5. 【請求項５】 前記配向制御層の厚さが１０［ｎｍ］以
   上かつ１００［ｎｍ］以下である、請求項４記載の磁性
   材料。
6. 【請求項６】 記録ギャップ層を挟んで一方の記録用磁
   気コアと他方の記録用磁気コアとが設けられ、これらの
   記録用磁気コアの間に絶縁層により絶縁されたコイルが
   設けられ、前記コイルにより励磁された前記記録用磁気
   コアの磁束が前記記録ギャップ層から漏れることにより
   記録を行う磁気ヘッドにおいて、前記他方の記録用磁気
   コアが第一の磁性層と第二の磁性層との積層からなり、
   前記第一の磁性層が請求項１，２，３，４又は５記載の
   磁性材料からなり、前記第二の磁性層がＣｏＮｉＦｅを
   主成分とする磁性材料からなることを特徴とする磁気ヘ
   ッド。
7. 【請求項７】 前記第二の磁性層がＣｏＮｉＦｅを主成
   分とする磁性層とＮｉＦｅを主成分とする磁性層との積
   層からなり、ＣｏＮｉＦｅを主成分とする磁性層が前記
   第一の磁性層に近い側に設けられている、請求項６記載
   の磁気ヘッド。
8. 【請求項８】 対向する二枚の磁気シールド層間に磁気
   分離層を介して磁気抵抗効果素子が設けられ、前記磁気
   シールド層の一方が前記一方の記録用磁気コアとして兼
   用される、請求項６又は７記載の磁気ヘッド。
9. 【請求項９】 請求項６，７又は８記載の磁気ヘッドを
   製造する方法であって、前記第一の磁性層が物理的気相
   形成法により形成され、前記第二の磁性層が電気めっき
   法により形成されることを特徴とする磁気ヘッドの製造
   方法。
10. 【請求項１０】 請求項６，７又は８記載の磁気ヘッド
    と、保磁力が４０００エルステッド以上かつ１平方イン
    チ当りの記録密度が１０ギガビット以上である磁気媒体
    と、を備えた磁気記録再生装置。