JPH0268906A - 高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッド - Google Patents
高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッドInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録再生用の磁気ヘッドに用いる高
磁束密度軟質磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド（薄膜
磁気ヘッドを含む）に関するものである。
磁束密度軟質磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド（薄膜
磁気ヘッドを含む）に関するものである。
従来の技術
高密度の磁気記録に要求される大きな抗磁力（Ｈａ）の
記録媒体に対して磁気記録ヘッド用材料には高い飽和磁
束密ｆ（Ｂ１１）が・ら要とされているが、従来の高Ｂ
ａ値を有するヘッド用軟質磁性材料としては、Ｆｅ系及
びＧｏ系非晶質合金やセンダスト合金等の限られた種類
のものしかなかった。
記録媒体に対して磁気記録ヘッド用材料には高い飽和磁
束密ｆ（Ｂ１１）が・ら要とされているが、従来の高Ｂ
ａ値を有するヘッド用軟質磁性材料としては、Ｆｅ系及
びＧｏ系非晶質合金やセンダスト合金等の限られた種類
のものしかなかった。
これ等の合金は各々、高飽和磁束密度と同時に抵抗磁力
（Ｈａ）、高透磁率（μｍ）をも兼ね備えた材料として
実用レベルとして１００００ Ｇａｕｓｓ 前後のも
のが知られてきた。
（Ｈａ）、高透磁率（μｍ）をも兼ね備えた材料として
実用レベルとして１００００ Ｇａｕｓｓ 前後のも
のが知られてきた。
発明が解決しようとする課題
上記の従来の材料に対して、よ）磁気記録再生効率の向
上をはかるため、さらに大きなりｓ（ｒＭをもつ材料を
得るにはＦｌ系非晶質膜では十分に小さな磁歪を得るこ
とが困難であり、熱処理に対する軟磁気特性の安定性に
大きな問題があった。
上をはかるため、さらに大きなりｓ（ｒＭをもつ材料を
得るにはＦｌ系非晶質膜では十分に小さな磁歪を得るこ
とが困難であり、熱処理に対する軟磁気特性の安定性に
大きな問題があった。
Ｃｏ系の非晶質材料においては低磁歪が実現でき。
また熱安定性についても良好なものが実用化されている
が、Ｂｓ値の上限は１４０００Ｇ＆ｕｌｌＢ前後が限度
であシ、このＢｓ値の大きさの材料ではやけ如実用上の
熱安定性に問題があった。さらにまた、センダスト合金
薄膜においては熱安定性の問題点は比較的小さいが、軟
磁気特性てついては十分とはいえなく、シ値の上限は実
用値として１１ ｏｏｏＧａｕｓｓｓ 〜１２０００Ｇ
＆ｕｌｌｌ！ｌ までであった。
が、Ｂｓ値の上限は１４０００Ｇ＆ｕｌｌＢ前後が限度
であシ、このＢｓ値の大きさの材料ではやけ如実用上の
熱安定性に問題があった。さらにまた、センダスト合金
薄膜においては熱安定性の問題点は比較的小さいが、軟
磁気特性てついては十分とはいえなく、シ値の上限は実
用値として１１ ｏｏｏＧａｕｓｓｓ 〜１２０００Ｇ
＆ｕｌｌｌ！ｌ までであった。
上記のような従来の軟磁性薄膜のもつ問題点に対して、
およそ１５０００Ｇ＆ｕｌＨＩ以上（７）ＢＳ値を有し
、なお且つ良好な軟磁気特性（低抗磁力（Ｈｃ）。
およそ１５０００Ｇ＆ｕｌＨＩ以上（７）ＢＳ値を有し
、なお且つ良好な軟磁気特性（低抗磁力（Ｈｃ）。
高い初透ｒａ率（μｚ）＋低い磁歪（λＳ））を有する
熱的にも安定なヘッド用材料が実用土必要である。
熱的にも安定なヘッド用材料が実用土必要である。
従来、 Ｆｅ−ｃｏ−Ｎｉ ３元系合金に関してはｒ
パーマロイ合金」として、そのいくつかの磁気特性に関
する報告が知られているが、これ等はバルク材料（固体
）のみに限られ、軟磁気特性に限っても同組成であって
も−、没に面配向の著しい薄膜材料についてはほとんど
知られていなかった。
パーマロイ合金」として、そのいくつかの磁気特性に関
する報告が知られているが、これ等はバルク材料（固体
）のみに限られ、軟磁気特性に限っても同組成であって
も−、没に面配向の著しい薄膜材料についてはほとんど
知られていなかった。
蒸着法、又は電着法による製法の面心立方格子のＦｅ、
Ｃｏ、Ｎｉを主成分とする薄膜においては。
Ｃｏ、Ｎｉを主成分とする薄膜においては。
例えば図１に示すように、およそＮｉの原子（ａｔ％）
に主として依存した飽和磁束密度の値を有し。
に主として依存した飽和磁束密度の値を有し。
Ｎ：Ｌ（７０＆ｔ％ で従来の軟磁性薄膜にないＢｓ
＞ １２０００ ＧａｕｓＳを得ルコトカテキル。シカ
し、Ｎｉ ＜２０ ａｔπでは室温における。面心立方
格子構造の安定性はなく、体心立方格子構造が安定とな
るため、薄膜の軟磁気特性へ大きな悪影響を及ぼす。ま
た、同様なことが図２からＦｅ≧７１５１Ｌｔ％ につ
いても言える（即ち２０（Ｎｉ（７０〔％）、Ｆｅ（７
６にが必要）。
＞ １２０００ ＧａｕｓＳを得ルコトカテキル。シカ
し、Ｎｉ ＜２０ ａｔπでは室温における。面心立方
格子構造の安定性はなく、体心立方格子構造が安定とな
るため、薄膜の軟磁気特性へ大きな悪影響を及ぼす。ま
た、同様なことが図２からＦｅ≧７１５１Ｌｔ％ につ
いても言える（即ち２０（Ｎｉ（７０〔％）、Ｆｅ（７
６にが必要）。
通常結晶磁気異方性定数及び磁歪定数が軟磁気特性に大
きく影響を及ぼすが１両者は各合金元素成分組成に依存
するだけでなく、各結晶面内における値によって大きさ
符号とも、大きく相違するため、−２投に薄膜材料の面
配向性、結晶粒径の大きさ、形状によって大きく左右さ
れるため、バルク材料として知られている従来のデータ
とは同組成であっでも異なっている。
きく影響を及ぼすが１両者は各合金元素成分組成に依存
するだけでなく、各結晶面内における値によって大きさ
符号とも、大きく相違するため、−２投に薄膜材料の面
配向性、結晶粒径の大きさ、形状によって大きく左右さ
れるため、バルク材料として知られている従来のデータ
とは同組成であっでも異なっている。
課題を解決するための手段
上記の要求を満たすため本発明は 、Ｆｅ、Ｃｏ。
Ｎｉの３成分を主成分とし、各成分、ｉＩＬ成が原子％
で２０％（Ｆｅ（ｙｓ％、且”：）１％（Ｃｏ（４６％
、且つ２０％（Ｎｉ（７０％である合金薄７漠であって
、薄膜面として面心立方格子構造の（２２０）面または
（１１１）面を優先的に面配向させたことを特徴とする
。
で２０％（Ｆｅ（ｙｓ％、且”：）１％（Ｃｏ（４６％
、且つ２０％（Ｎｉ（７０％である合金薄７漠であって
、薄膜面として面心立方格子構造の（２２０）面または
（１１１）面を優先的に面配向させたことを特徴とする
。
作用
スパッタ蒸着法、電子ビーム蒸着法、或いは電着法等の
薄膜作製方法によれば、 Ｆｅ 、Ｃｏ 、Ｎｉの３成
分を主成分とする合金薄膜において１面心立方構造の（
２２０）面又は（１１１）面を作成条件を選ぶことによ
って薄、漢面として優先的に面配向させることが可能で
ある。これ等の面配向をもつ漠の薄膜面内の軟磁気特性
に良好な特性を確認した。しかし、これ等の面配向をも
つ薄膜面内の良好な軟磁気特性を得るためには組成的に
はＮｉ ＞ ２ ｏ１％に加えて、Ｆｅ ） ２０ ａ
ｔ％ 、且っＣｏ （４５＆ｔ％が必要であることがわ
かった。
薄膜作製方法によれば、 Ｆｅ 、Ｃｏ 、Ｎｉの３成
分を主成分とする合金薄膜において１面心立方構造の（
２２０）面又は（１１１）面を作成条件を選ぶことによ
って薄、漢面として優先的に面配向させることが可能で
ある。これ等の面配向をもつ漠の薄膜面内の軟磁気特性
に良好な特性を確認した。しかし、これ等の面配向をも
つ薄膜面内の良好な軟磁気特性を得るためには組成的に
はＮｉ ＞ ２ ｏ１％に加えて、Ｆｅ ） ２０ ａ
ｔ％ 、且っＣｏ （４５＆ｔ％が必要であることがわ
かった。
この組戎領呟内のものを選べば薄膜の作成条件や熱処理
条件を適当に選ぶことにより面配向、結晶粒径や形状を
開開することで初透磁率μ１）ｓｏｏ。
条件を適当に選ぶことにより面配向、結晶粒径や形状を
開開することで初透磁率μ１）ｓｏｏ。
Ｈａ （ａ Ｏｓ のものを得ることができる。一方。
ｃｏ ＜ ｅｓ ａｔに の薄膜についてはパーマロイ
合金をはじめとしたＮｉ−Ｆｅ系合金２元系薄膜として
従来から知られている材料とほぼ同様な薄膜といえる。
合金をはじめとしたＮｉ−Ｆｅ系合金２元系薄膜として
従来から知られている材料とほぼ同様な薄膜といえる。
上記のｙｅ ｃｏ Ｎｉ３成分を主成分とする合金の軟
磁気特性は例えば実施例に示したように岨食性向上のた
めのＯｒ結晶粒径を制御するＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ’等の機
微（５イ未′ｔｉ）の添／ＪＯによって、配向性に対す
る大きな影拶を及ぼさない限り、はぼ同等かそれ以上（
第４元素の煕添加）の軟磁気特性が期待できることは言
うまでもない。この場合でもＢＳＩ直の大きな低下性な
い。
磁気特性は例えば実施例に示したように岨食性向上のた
めのＯｒ結晶粒径を制御するＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ’等の機
微（５イ未′ｔｉ）の添／ＪＯによって、配向性に対す
る大きな影拶を及ぼさない限り、はぼ同等かそれ以上（
第４元素の煕添加）の軟磁気特性が期待できることは言
うまでもない。この場合でもＢＳＩ直の大きな低下性な
い。
実施例
第１図は本発明の第１実施例におけるＦｅ 、 Ｇｏ
。
。
Ｎｉ を主成分とする高協和磁束密度軟磁性膜の飽和磁
束密度の組成依存性を示した（ａｔπ）。
束密度の組成依存性を示した（ａｔπ）。
第１図の特性は、いずれもスパｙり蒸着法による製法に
よるものである。
よるものである。
第２図にＩｄ、第１図の試料と同じ試料について。
熱処理前の蒸着膜の結晶構造を調べた結果である。
表１は第２図の結果によって確かめられた各結晶構造の
ものについて、：１．［の面配向性と対比させながら各
合金組成における初透磁率（μｉ）、抗磁力（Ｈａ）等
の特性を７００’ＣＯ，５Ｈｒ 、又は６００℃０．５
ＨｒＯ熱処理嘆についてまとめたものである。
ものについて、：１．［の面配向性と対比させながら各
合金組成における初透磁率（μｉ）、抗磁力（Ｈａ）等
の特性を７００’ＣＯ，５Ｈｒ 、又は６００℃０．５
ＨｒＯ熱処理嘆についてまとめたものである。
ここで、冷却は全て空冷をとった。
（表
本発明の第２実施例ておけるＦｅ Ｇｏ Ｎｉを主成分
とする高飽和磁束密度を有するスパッタ蒸着膜について
、第３図に示すような積層型ビデオへラドコア材料とし
て使用し、良好な磁気記録再生特性を得た。同図のヘッ
ドは、磁気コア層１を非磁性基板２．３により挾んだ積
層体２個を、ギャップ４を形成して突き合わせた構造で
ある。６は巻線窓である。
とする高飽和磁束密度を有するスパッタ蒸着膜について
、第３図に示すような積層型ビデオへラドコア材料とし
て使用し、良好な磁気記録再生特性を得た。同図のヘッ
ドは、磁気コア層１を非磁性基板２．３により挾んだ積
層体２個を、ギャップ４を形成して突き合わせた構造で
ある。６は巻線窓である。
本発明の第３実施例におけるＦｅＣｏ Ｎｉを主成分と
する高飽和磁束密度を有する電着歓磁性、模（−軸磁界
中亀着）について、第４図に示すようなＲ摸磁気ヘッド
用ヨーク材料（下部磁性層及び上部磁性層）として吏用
し、良好な磁気記録再生特性を得た。同図において、１
は基板であり、その上には絶盪層２を介して下部磁性層
３が形成されている。更にギャップ層４を介して、絶縁
層６とコイル層７が積層され、その上部に上部磁性層６
が形成されている。ただし、先端部分においては下部磁
性層３と上部磁性層６とはギャップ層４のみを介して対
向している。８は保護層である。
する高飽和磁束密度を有する電着歓磁性、模（−軸磁界
中亀着）について、第４図に示すようなＲ摸磁気ヘッド
用ヨーク材料（下部磁性層及び上部磁性層）として吏用
し、良好な磁気記録再生特性を得た。同図において、１
は基板であり、その上には絶盪層２を介して下部磁性層
３が形成されている。更にギャップ層４を介して、絶縁
層６とコイル層７が積層され、その上部に上部磁性層６
が形成されている。ただし、先端部分においては下部磁
性層３と上部磁性層６とはギャップ層４のみを介して対
向している。８は保護層である。
発明の効果
本発明の高飽和磁束密度を有する軟磁性模を得ることが
でき、又この歌磁性７Ａを用いて、より磁気記録再生効
率の向上した各踵の磁気ヘッドを実現することができる
。
でき、又この歌磁性７Ａを用いて、より磁気記録再生効
率の向上した各踵の磁気ヘッドを実現することができる
。
第１図は本発明の第１実施例における高飽和磁束密度Ｕ
；ａ性漠の主成分Ｆｅ Ｃｏ Ｎｉの各組成に対する飽
和磁束密度依存性を示すグラフ、第２図はその各スパッ
タ蒸着膜の未熟処理時の室温における結晶構造を示すグ
ラフ、第３図は本発明の第２実施例における積層型ビデ
オヘッドの概略斜視図及びその磁気ギャップ部分の拡大
図、第４図は本発明の第３実施例における薄膜磁気ヘッ
ドの平面図及びＸ−ＹｒＦｒ面図である。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第 図 く湿気キマツプ邪分Ａの拡大図〉
；ａ性漠の主成分Ｆｅ Ｃｏ Ｎｉの各組成に対する飽
和磁束密度依存性を示すグラフ、第２図はその各スパッ
タ蒸着膜の未熟処理時の室温における結晶構造を示すグ
ラフ、第３図は本発明の第２実施例における積層型ビデ
オヘッドの概略斜視図及びその磁気ギャップ部分の拡大
図、第４図は本発明の第３実施例における薄膜磁気ヘッ
ドの平面図及びＸ−ＹｒＦｒ面図である。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第 図 く湿気キマツプ邪分Ａの拡大図〉
Claims (5)
- （１）Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉの３成分を主成分とし、各成分
組成が原子％で２０％＜Ｆｅ＜７５％且つ ５％＜Ｃｏ＜４５％且つ ２０＜Ｎｉ＜７０％ である合金薄膜であって、薄膜面として面心立方格子溝
造の（２２０）面または（１１１）面を優先的に面配向
させたことを特徴とする高飽和磁束密度軟磁性膜。 - （２）Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉの３成分を主成分とする薄膜合
金を蒸着法によって作成したことを特徴とする請求項１
記載の高飽和磁束密度軟磁性膜。 - （３）Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉの３成分を主成分とする薄膜合
金を電着法（電解メッキ法）によって作成したことを特
徴とする請求項１記載の高飽和磁束密度軟磁性膜。 - （４）Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉの３成分を主成分とする薄膜合
金に対し５ａｔ％未満のＣｒ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆを添加
したことを特徴とする請求項１記載の高飽和磁束密度軟
磁性膜。 - （５）請求項１記載の高飽和磁束密度軟磁性膜を用いた
磁気ヘッド。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373403A (ja) * | 1988-10-14 | 1991-03-28 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US6262867B1 (en) | 1995-02-03 | 2001-07-17 | Hitachi, Ltd | Thin film magnetic head with Ni-Fe alloy thin film |
| US6592811B1 (en) | 1999-10-06 | 2003-07-15 | Nec Corporation | Magnetic material having a high saturation magnetic flux density and a low coercive force |
| US7433153B2 (en) | 2001-09-07 | 2008-10-07 | Tdk Corporation | Soft magnetic film and thin film magnetic head using soft magnetic film, process for manufacturing soft magnetic film and process for manufacturing thin film magnetic head |
| WO2010007980A1 (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-21 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5135818A (en) * | 1989-03-28 | 1992-08-04 | Hitachi Maxell, Ltd. | Thin soft magnetic film and method of manufacturing the same |
| US5287239A (en) * | 1989-07-05 | 1994-02-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head using high saturated magnetic flux density film and manufacturing method thereof |
| US5614329A (en) * | 1991-03-05 | 1997-03-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Soft-magnetic thin film |
| DE4306655C2 (de) * | 1992-03-04 | 1997-04-30 | Toshiba Kawasaki Kk | Verfahren zum Herstellen eines planaren Induktionselements |
| US5570251A (en) * | 1993-07-07 | 1996-10-29 | Tdk Corporation | Thin film magnetic device with plural valves of magnetostriction |
| US5891586A (en) * | 1995-01-27 | 1999-04-06 | Alps Electric Co., Ltd. | Multilayer thin-film for magnetoresistive device |
| US6342311B1 (en) | 1999-10-08 | 2002-01-29 | Seagate Technology, Inc. | High magnetic moment seed layer materials for writer pole tips |
| AU2003211604A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Fujitsu Limited | Vertical magnetic recording medium |
| EP1594163A1 (en) | 2004-05-03 | 2005-11-09 | Commissariat A L'energie Atomique | A screened electrical device and a process for manufacturing the same |
| CN1315641C (zh) * | 2004-11-30 | 2007-05-16 | 北京科技大学 | 一种镍铁薄膜及其制备方法 |
| US20070253103A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-01 | Heraeus, Inc. | Soft magnetic underlayer in magnetic media and soft magnetic alloy based sputter target |
| US20110238177A1 (en) * | 2010-03-25 | 2011-09-29 | Joseph Anthony Farco | Biomechatronic Device |
| CN112301255B (zh) * | 2020-10-27 | 2021-07-30 | 上海交通大学 | 一种模具用高导热高强Co-Fe-Ni合金及其增材制造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4917325A (ja) * | 1972-06-10 | 1974-02-15 | ||
| JPS61224115A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-04 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド |
| JPS6237914A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-18 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 薄膜形成雰囲気変動に対し磁気特性の安定した軟磁性薄膜 |
| JPS6358807A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Nec Home Electronics Ltd | 磁気ヘツド用鉄薄膜 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5758226A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-07 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium |
| JPS59219448A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-10 | Tohoku Tokushuko Kk | 蒸着テ−プ用記録磁性体合金 |
| JPS6025014A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-07 | Hitachi Ltd | 磁気記録再生装置 |
| JPS6176642A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Hitachi Ltd | Ｃｏ―Ｎｉ―Ｆｅ合金の電気めっき浴及び電気めっき方法 |
| JPS61126618A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気抵抗効果薄膜ヘツド |
| JPS61158017A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-17 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS62202307A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Sharp Corp | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
| JPS62204504A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アモルフアス軟磁性膜及びその製造方法 |
| JPH0834154B2 (ja) * | 1986-11-06 | 1996-03-29 | ソニー株式会社 | 軟磁性薄膜 |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP63220935A patent/JPH0744110B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-08-30 US US07/400,921 patent/US5091266A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-01 EP EP89116184A patent/EP0360055B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-01 DE DE89116184T patent/DE68911082T2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4917325A (ja) * | 1972-06-10 | 1974-02-15 | ||
| JPS61224115A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-04 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド |
| JPS6237914A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-18 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 薄膜形成雰囲気変動に対し磁気特性の安定した軟磁性薄膜 |
| JPS6358807A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Nec Home Electronics Ltd | 磁気ヘツド用鉄薄膜 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373403A (ja) * | 1988-10-14 | 1991-03-28 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US6262867B1 (en) | 1995-02-03 | 2001-07-17 | Hitachi, Ltd | Thin film magnetic head with Ni-Fe alloy thin film |
| US6385009B2 (en) | 1995-02-03 | 2002-05-07 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and assembled construction thereof |
| US6490131B2 (en) | 1995-02-03 | 2002-12-03 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head with electroplated Ni-Fe alloy thin film having small average crystal grain size range |
| US6661606B2 (en) | 1995-02-03 | 2003-12-09 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk apparatus with magnetic head having upper and lower magnetic cores of an electroplated thin film |
| US6592811B1 (en) | 1999-10-06 | 2003-07-15 | Nec Corporation | Magnetic material having a high saturation magnetic flux density and a low coercive force |
| US6780530B2 (en) | 1999-10-06 | 2004-08-24 | Nec Corporation | Magnetic material having a high saturation magnetic flux density and a low coercive force |
| US7433153B2 (en) | 2001-09-07 | 2008-10-07 | Tdk Corporation | Soft magnetic film and thin film magnetic head using soft magnetic film, process for manufacturing soft magnetic film and process for manufacturing thin film magnetic head |
| WO2010007980A1 (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-21 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 |
| JP2010018869A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 |
Also Published As
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