JP2002181729A - 外観検査装置および外観検査方法 - Google Patents

外観検査装置および外観検査方法

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JP2002181729A JP2000377876A JP2000377876A JP2002181729A JP 2002181729 A JP2002181729 A JP 2002181729A JP 2000377876 A JP2000377876 A JP 2000377876A JP 2000377876 A JP2000377876 A JP 2000377876A JP 2002181729 A JP2002181729 A JP 2002181729A
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吉宏 秋山
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 サイズの大きい基板の外観検査では、基板の
画像が分割され、境界線では検査が難しかった。 【解決手段】 2つのラインセンサ34A、34Bを主
走査方向に設けた走査ヘッドを用いて、被検査物の画像
を一部重複させて2枚撮影し、メモリ44に格納する。
画像処理部45は2枚の画像の重複部分に含まれる複数
の対象物を検出し、2枚の画像間でマッチングさせ、2
枚の画像の任意の点の2次元的なずれを補間により求
め、2枚の画像を貼り合わせて合成する。解析ユニット
46は合成された画像を所定の合否判断基準に照らし、
検査項目ごとに合否を判定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、外観検査技術に
関する。この発明は特に、被検査物の基板面を走査して
画像を取得して検査を行う外観検査装置および外観検査
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子機器の基板の製造工程には、電子部
品を基板上に装着する実装工程と、部品の実装状態を検
査する検査工程が含まれる。実装工程は高密度化が進ん
でおり、数十ミクロンのオーダーで電子部品の実装位置
が決められている。またIT関連機器、特に携帯電話な
ど携帯機器の需要が増加しており、実装工程は年々高速
化している。一方、部品実装後の検査工程は、基板の高
密度化のため、不良を発見することはきわめて難しい課
題となっている。従来の検査では、プローバを用いたI
CT(インサーキットテスタ)など接触型の試験方法が
用いられていたが、最近の実装密度の高さでは接触型の
検査装置による対応が困難になり、非接触型、特に画像
認識技術を用いた外観検査装置の需要が伸びている。
【0003】このような外観検査装置においては、高密
度実装に対応して非常に高い解像度で部品の実装状態を
撮影し、高い精度で不良の検出をする必要がある。その
ため検査にかかる時間が長くなる傾向にある。集積回路
の需要が高まり、実装工程の高速化が進んでも、検査工
程に時間がかかると、製品の出荷が遅れることとなり、
昨今の厳しい製造競争に耐えることができなくなる。そ
こで、精度が高く、検査時間を短縮できる外観検査装置
の開発が進められている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】外観検査装置には、ラ
インセンサを用いて基板面を走査して基板の画像を読み
込み、画像データを用いて検査を行うものがある。数十
ミクロンのオーダーの部品の実装位置を精密に読みとる
ためには、高密度のラインセンサを用いる必要がある。
現在市販されているCCDラインセンサは最大でも5千
〜1万画素であり、たとえば25ミクロンの精度の検出
をするには、主走査方向の読み取り幅は25センチメー
トルが限界である。したがって、幅の大きい基板の場
合、一度に基板面全体の画像を読みとることができず、
複数の画像に分割して読みとることになる。
【0005】しかしながら、複数の画像に分割した場
合、画像の境界線をまたぐ電子部品は検査ができなくな
る。境界線付近では2枚の画像を参照して、境界線をま
たぐ電子部品を検査することもできるが、数十ミクロン
のオーダーで2枚の画像を参照して検査を行うには高精
度のマッチング技術を要し、解析処理が非常に困難なも
のとなる。
【0006】本発明はこうした状況に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、基板を撮影した複数の画像を貼
り合わせて検査を行うための外観検査技術の提供にあ
る。また別の目的は、読み取り幅に限度のあるラインセ
ンサを用いて基板全体の検査を行うための外観検査技術
の提供にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のある態様は、外
観検査方法である。外観検査方法は、被検査物の画像を
一部重複させて撮影する工程と、撮影された画像の重複
部分に含まれる参照情報を検出する工程と、前記参照情
報をもとに前記画像の貼り合わせ情報を取得する工程
と、貼り合わせの結果一枚となった画像をもとに所定の
検査をする工程とを含む。
【0008】前記参照情報は前記被検査物上の複数の対
象物であり、前記貼り合わせ情報を取得する工程は、そ
れらの対象物のマッチングをもとに、前記画像の2次元
的なずれを検出してもよい。前記貼り合わせ情報を取得
する工程は、前記対象物の2次元的なずれを検出し、そ
のずれを補正することにより前記画像上の任意の点のず
れを求めてもよい。貼り合わせ情報は、このようにして
得られる点の対応関係により、画像の重複部分の各部の
対応を定めた情報、または画像の境界線上の点の対応づ
けを定めた情報であってもよい。
【0009】被検査物上の対象物は、画像のマッチング
が可能な被検査物上の対象であり、基板上の電子部品、
導線パターン、スルーホール、および基板に印刷された
部品の名称や型番、規格の名称などの文字列等を含む。
【0010】前記対象物が3つ以上ある場合に、前記対
象物の区間の任意の点のずれを、少なくともその区間を
定める両端の前記対象物のずれを補間することにより求
めてもよい。各区間の任意の点の対応を求める際、その
区間の両端の対象物のずれのみを用いて補間してもよ
く、両端の対象物以外の対象物のずれも用いて補間して
もよい。補間は、線形補間、曲線補間のいずれであって
もよい。
【0011】本発明の別の態様は、外観検査装置であ
る。外観検査装置は、被検査物の基板面を走査して画像
を取り込む走査ヘッドと、前記画像をもとに所定の検査
をするメインユニットとを含む。前記走査ヘッドは、前
記基板面からの反射光を検知する一次元センサを主走査
方向に複数設け、各一次元センサからの前記被検査物の
画像が一部重複するよう構成される。前記メインユニッ
トは、前記一次元センサの各々から取り込まれた前記画
像を、重複部分に含まれる参照情報をもとに貼り合わせ
る画像処理部と、貼り合わせの結果一枚となった画像を
所定の合否判断基準に照らし、検査項目ごとに合否を判
定する解析部とを含む。
【0012】なお、以上の構成要素の任意の組合せ、本
発明の表現を方法、装置、システム、記録媒体、コンピ
ュータプログラムなどの間で変換したものもまた、本発
明の態様として有効である。
【0013】
【発明の実施の形態】図1は、実施の形態に係る外観検
査装置10の構成図である。この装置は、被検査物の検
査面をラインセンサで走査して画像を形成し、画像認識
によって部品実装状態の合否を判定するものである。ラ
インセンサによる主走査方向と垂直な副走査方向に走査
ヘッドを駆動することで順次ラインごとの画像がえら
れ、走査ヘッドの一次元運動で基板面の全体画像が取得
される。外観検査装置の別のタイプとして、検査面を二
次元的に移動させて停止し、これを繰り返してつぎつぎ
にスポット撮影をするものもあるが、その場合、一般に
機構系が複雑になり、検査時間も長い場合が多い。その
点で、この実施の形態の一次元センサを用いる形態は有
利である。本出願人は先に、特開平8−254500号
公報において、このような一次元センサを用いた外観検
査装置を提案しており、それを本実施形態で用いてもよ
い。
【0014】図1のごとく、外観検査装置10は、メイ
ンユニット12と試験ユニット14を備える。試験ユニ
ット14の下部には支持台22が設けられ、被検査体で
ある基板1が把持されている。試験ユニット14の上部
には、走査ヘッド16と、それを駆動するステッピング
モータ20と、走査ヘッド16を支持するリニアガイド
等のガイド18が設けられている。
【0015】走査ヘッド16は照明ユニット30、レン
ズ32A、32B、およびラインセンサ34A、34B
を有する。これらの部材はフレーム36上に固定されて
いる。後述のように、レンズ32A、32Bとラインセ
ンサ34A、34Bは、主走査方向に2組並べて設けら
れており、ラインセンサ34A、34Bの各々から取り
込まれる画像が主走査方向で一部重複するように構成さ
れている。以下2つのレンズ32A、32Bをまとめて
レンズ32とも表記し、2つのラインセンサ34A、3
4Bをまとめてラインセンサ34とも表記する。
【0016】照明ユニット30は、落射照明源、側方照
明源、ハーフミラーなどを内蔵する。基板1から垂直上
方への反射光はハーフミラーでレンズ32へ導かれ、レ
ンズ32を通過した後、一次元CCDセンサであるライ
ンセンサ34へ入力される。ラインセンサ34A、34
Bはそれぞれが取り込んだ画像データ54A、54Bを
メモリ44に出力する。以下2つの画像データ54A、
54Bをまとめて画像データ54とも表記する。
【0017】メインユニット12は、本装置全体を統括
的に制御する。メインユニット12は、通常のコンピュ
ータで実装されてもよい。メインユニット12のヘッド
制御ユニット40はまず、照明制御信号50を照明ユニ
ット30へ出力し、試験の内容に応じて異なる点灯状態
を実現する。ヘッド制御ユニット40はさらに、モータ
制御信号52をモータ20へ、試験開始信号56をメモ
リ制御ユニット42へそれぞれ出力する。モータ制御信
号52によってモータ20のステップ制御がなされ、検
査の開始に際し、走査ヘッド16が基板1の端部へ移動
する。この位置をスタート位置として、以降1ライン走
査されるたびにモータ制御信号52によって走査ヘッド
16が1ライン分進行する。一方、試験開始信号56を
参照し、メモリ制御ユニット42はメモリ44への画像
データ54の書込を制御し、以降、画像データ54がラ
イン単位で記録されていく。
【0018】画像処理部45は、メモリ44から画像デ
ータ54A、54Bを読み込んで、後述のように重複部
分を貼り合わせて合成する処理を行い、合成された画像
データをメモリ44に格納する。メモリ44は、基板面
全体の画像を一枚の画像データとして記憶できるように
大容量の記憶領域が確保される。
【0019】解析ユニット46は、メモリ44から合成
された画像データを読み出し、判定基準記憶部48に予
め記録された判定基準に照らして、検査項目ごとに合否
を判断する。照明ユニット30の照明源を垂直下方に照
明する落射照明源と、横方向から照明する側方照明源と
の間で切り替えることにより、2種類の画像を記録し、
落射試験と側方試験を行う。検査項目として、落射試験
による部品の位置ずれ、欠品、ハンダのヌレの判定な
ど、および側方試験によるハンダブリッジの有無、実装
部品の間違い、極性の反転の判定などがある。
【0020】図2は、走査ヘッド16の2つのラインセ
ンサ34による基板面の走査を説明する図である。レン
ズ32A、32Bとラインセンサ34A、34Bは基板
1の主走査方向74に並べて配置されている。ラインセ
ンサ34Aが読みとる走査ライン70Aと、ラインセン
サ34Bが読みとる走査ライン70Bとは、一部重複が
ある。走査ヘッド16が副走査方向76に駆動されるこ
とにより、一部が重複した2枚の画像データが得られ
る。
【0021】温度、湿度等の環境条件による基板のわず
かなたわみや、走査駆動系の振動など動作条件による誤
差等が影響するため、2枚の画像の間で2次元的なずれ
が生じる。通常はこのようなずれは問題にならないが、
基板上の部品の実装や導線パターンのエッチングは、数
十ミクロンのオーダーの精度で行われているため、この
ずれが検査上、重大な意味をもつ。
【0022】図3は、ラインセンサ34A、34Bが取
り込んだ2枚の画像の説明図である。2枚の画像80
A、80Bは、それぞれ対応するラインセンサ34A、
34Bが取り込んだものであり、重複部分86A、86
Bを有する。画像80Aの左上には検査用の目印90
が、画像80Bの右下には検査用の目印92が撮像され
ている。これらの目印90、92は検査の開始点、終了
点を識別するために用いられる。電子部品82A、82
Bはそれぞれの画像に重複して撮像されている。同様に
基板上に印刷された、規格や部品名を示す文字列84
A、84Bも重複して撮像されている。画像処理部45
は、これらの重複して撮像された対象物を参照基準とし
て検出し、2枚の画像間でマッチングをとり、参照基準
となる対象物の2次元的なずれを求め、2枚の画像80
A、80Bを貼り合わせる処理を行う。
【0023】図4は、補間により2枚の画像の対応づけ
を求める方法を説明する図である。参照基準となる対象
物のマッチングにより、画像80Aの対象物の参照点1
00Aは、画像80Bでは参照点100Bに対応づけら
れる。参照点100Bは参照点100Aよりベクトルa
だけずれている。また、画像80Aのもう一つの参照基
準となる対象物の参照点110Aは、画像80Bでは参
照点110Bに対応づけられ、ずれはベクトルbで与え
られる。画像80Aの重複部分86Aにおいて対応づけ
たい点200Aのずれを与えるベクトルcを次のように
して求める。参照点100Aと対応づけたい点200A
間の距離と、対応づけたい点200Aと参照点110A
間の距離の比がt対(1−t)であるとき、ベクトルc
を式c=(1−t)×a+t×bで求める。これによ
り、対応づけたい点200Aは画像80Bでは点200
Bに対応づけられる。このようにして、2つの参照点間
の任意の点を線形補間により2つの画像間で対応づけ
る。この対応関係の情報を用いて、2枚の画像を重複部
分で貼り合わせ、1枚の画像に合成する。
【0024】2枚の画像の重複部分の2次元的なずれ
は、場所によって方向やずれ量が異なる。そのため、重
複部分の両端で参照基準となる対象物を検出して、その
ずれにより、中間部分を対応づけるだけでは、十分では
ないこともある。そこで、3つ以上の参照点を用いて、
各区間で対応づけを行うのがさらに好ましい。
【0025】図5は、3つの参照点を用いて対応づけを
行う例である。3つの参照基準となる対象物のマッチン
グにより、画像80Aの3つの参照点100A、102
A、110Aは、画像80Bの3つの参照点100B、
102B、110Bに対応づけられる。画像80Aの点
202Aは、2つの参照点100A、102Aのずれを
示す2つのベクトルa、eを用いて上述の線形補間によ
り、画像80Bの点202Bに対応づけられる。一方、
参照点204Aは、2つの参照点102A、110Aの
ずれを示す2つのベクトルe、bを用いて線形補間によ
り、参照点204Bに対応づけられる。他の補間の方法
として、3つの参照点を曲線で補間してもよい。3つの
参照点をもとに自由曲線をたとえばB−スプライン関
数、NURBS関数、ベジェ関数などのパラメトリック
関数として表現し、その関数を補間に用いて他の点の対
応づけを行う。参照点が4つ以上の場合についても同様
に線形補間、曲線補間が用いられる。
【0026】図6は、以上の構成による外観検査装置に
よる外観検査手順を示すフローチャートである。走査ヘ
ッド16は基板面を走査して2枚の画像データを取得
し、メモリ44に記憶する(S10)。画像処理部45
は、メモリ44に記憶された2枚の画像の重複部分から
参照基準となる対象物の位置を検出する(S12)。画
像処理部45は、さらに参照基準となる対象物を2枚の
画像間でマッチングすることにより、2次元的なずれを
検出する(S14)。参照基準となる対象物のずれを補
間して、画像の重複部分の他の点のずれを求める(S1
6)。
【0027】画像処理部45は、2枚の画像の重複部分
のずれの情報を用いて、重複部分の各部を貼り合わせる
情報を求め、2枚の画像を貼り合わせた合成画像を作成
する(S18)。解析ユニット46は、合成画像から検
査用の開始点と終了点を与える目印を検出する(S2
0)。解析ユニット46はさらに合成画像に基づいて、
検査すべき部位について検査項目ごとに、判定基準記憶
部48に記憶された判定基準に基づいた合否判定を行う
(S22)。たとえば、欠品検査では、部品があるべき
位置の画像領域に含まれる画素の輝度に基づいて、部品
の有無を判定する。ハンダ検査では、ハンダ付け箇所を
含む画像領域において明るい画素の面積が所定の値より
小さいか否かで、ハンダ付けの不良を判定する。ズレ検
査では、部品の外周で電極パターンを含む画像領域の輝
度に基づいて、部品がずれて装着されていないかどうか
を判定する。
【0028】以上述べたように、本実施形態の外観検査
システムによれば、2つのラインセンサを用いて、基板
面を2枚の画像に分けて撮像した後、2枚の画像を1枚
に合成して検査を行う。したがって、サイズの大きい基
板であっても合成された画像データをもとに一度に検査
を行うことができる。これにより、基板の幅に合わせて
画素数の大きいラインセンサを特注することなく、市販
のラインセンサで外観検査を行うことが可能である。ま
た2枚の画像を別々に検査する場合に比べ、基板全体の
検査を簡便にかつ確実に行うことができる。
【0029】以上、本発明をいくつかの実施の形態をも
とに説明した。これらの実施の形態は例示であり、それ
らの各構成要素や各処理プロセスの組合せにいろいろな
変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範
囲にあることは当業者に理解されるところである。
【0030】そのような変形例として、上記の説明で
は、2組のレンズとラインセンサを設けて、2枚の画像
を撮像したが、一組のレンズとラインセンサを主走査方
向に駆動させて、2枚の画像を撮像してもよい。また、
3組以上のレンズとラインセンサを設けて、3枚以上の
画像を一部重複させて撮像し、重複部分を貼り合わせて
1枚の画像に合成してもよい。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、基板の複数の画像をも
とに基板全体の検査を効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施の形態に係る外観検査装置の構成図であ
る。
【図2】 走査ヘッドの2つのラインセンサによる基板
面の走査を説明する図である。
【図3】 2つのラインセンサが取り込んだ2枚の画像
の説明図である。
【図4】 補間により2枚の画像の対応づけを求める方
法を説明する図である。
【図5】 3つの参照点を用いて補間により対応づけを
求める方法を説明する図である。
【図6】 外観検査装置による外観検査手順を示すフロ
ーチャートである。
【符号の説明】
1 基板、 10 外観検査装置、 12 メインユニ
ット、 14 試験ユニット、 16 走査ヘッド、
30 照明ユニット、 32 レンズ、 34ラインセ
ンサ、 40 ヘッド制御ユニット、 42 メモリ制
御ユニット、44 メモリ、 45 画像処理部、 4
6 解析ユニット、 48 判定基準記憶部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/00 G01B 11/24 K H04N 1/04 103A Fターム(参考) 2F065 AA54 BB02 CC01 DD02 DD03 FF04 JJ25 LL04 PP02 QQ23 QQ31 QQ38 RR03 2G051 AA65 AB14 AC01 BA01 CA03 CA04 CA07 CB01 CD04 DA07 EA11 EA14 EB01 EB02 EC02 ED15 5B057 AA03 BA02 BA13 CA11 CA16 CB12 CB16 CE10 DA03 DA07 DB02 DC33 5C072 AA01 BA20 DA02 DA05 EA05 FA07 FB02 FB03 UA12 XA10

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査物の画像を一部重複させて撮影す
    る工程と、 撮影された画像の重複部分に含まれる参照情報を検出す
    る工程と、 前記参照情報をもとに前記画像の貼り合わせ情報を取得
    する工程と、 貼り合わせの結果一枚となった画像をもとに所定の検査
    をする工程とを含む外観検査方法。
  2. 【請求項2】 前記参照情報は前記被検査物上の複数の
    対象物であり、前記貼り合わせ情報を取得する工程は、
    それらの対象物のマッチングをもとに、前記画像の2次
    元的なずれを検出することを特徴とする請求項1に記載
    の外観検査方法。
  3. 【請求項3】 前記貼り合わせ情報を取得する工程は、
    前記複数の対象物の2次元的なずれを検出し、そのずれ
    を補間することにより前記画像上の任意の点のずれを求
    めることを特徴とする請求項2に記載の外観検査方法。
  4. 【請求項4】 前記対象物が3つ以上ある場合に、前記
    対象物の区間の任意の点のずれを、少なくともその区間
    を定める両端の前記対象物のずれを補間することにより
    求めることを特徴とする請求項3に記載の外観検査方
    法。
  5. 【請求項5】 被検査物の基板面を走査して画像を取り
    込む走査ヘッドと、 前記画像をもとに所定の検査をするメインユニットとを
    含み、 前記走査ヘッドは、前記基板面からの反射光を検知する
    一次元センサを主走査方向に複数設け、各一次元センサ
    からの前記被検査物の画像が一部重複するよう構成さ
    れ、 前記メインユニットは、 前記一次元センサの各々から取り込まれた前記画像を、
    重複部分に含まれる参照情報をもとに貼り合わせる画像
    処理部と、 貼り合わせの結果一枚となった画像を所定の合否判断基
    準に照らし、検査項目ごとに合否を判定する解析部とを
    含むことを特徴とする外観検査装置。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006184021A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Saki Corp:Kk 外観検査装置
JP2006184019A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Saki Corp:Kk 外観検査装置
JP2008082704A (ja) * 2006-09-25 2008-04-10 Olympus Corp 基板検査装置および基板検査方法
JP2008185511A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Bridgestone Corp タイヤのrro計測方法とその装置
US7512260B2 (en) 2004-09-06 2009-03-31 Omron Corporation Substrate inspection method and apparatus
JP2009111680A (ja) * 2007-10-30 2009-05-21 Ricoh Co Ltd 画像読取装置および原稿読取装置
JP2010109465A (ja) * 2008-10-28 2010-05-13 Mitsubishi Electric Corp 画像読取装置
KR20100110328A (ko) * 2008-01-16 2010-10-12 오르보테크 엘티디. 다중 카메라를 이용한 기판 검사
JP2011095226A (ja) * 2009-11-02 2011-05-12 Saki Corp:Kk 被検査体の検査装置、及び電子基板の位置補正装置
JP2013015665A (ja) * 2011-07-04 2013-01-24 Nikon Corp 顕微鏡装置及び画像形成方法
JP2014534420A (ja) * 2011-12-27 2014-12-18 コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド 基板検査装置の高さ情報生成方法
KR101575289B1 (ko) 2009-12-10 2015-12-10 한화테크윈 주식회사 기준마크를 이용한 부품등록장치 및 방법
JP2019163956A (ja) * 2018-03-19 2019-09-26 東レエンジニアリング株式会社 チップ位置測定装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6364180A (ja) * 1986-09-04 1988-03-22 Alps Electric Co Ltd ハンドスキヤナ入力によるイメ−ジ画像合成方式
JPH02130404A (ja) * 1988-11-10 1990-05-18 Matsushita Electric Works Ltd 画像処理方法
JPH04310062A (ja) * 1991-04-08 1992-11-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像読取方法
JPH09190531A (ja) * 1996-01-09 1997-07-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 実装データ作成方法と装置、および基板と実装の検査方法
JPH1093808A (ja) * 1996-09-18 1998-04-10 Sharp Corp 画像合成装置および方法
JP2000092306A (ja) * 1998-09-10 2000-03-31 Minolta Co Ltd 画像合成方法及びこの方法を用いた画像合成装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6364180A (ja) * 1986-09-04 1988-03-22 Alps Electric Co Ltd ハンドスキヤナ入力によるイメ−ジ画像合成方式
JPH02130404A (ja) * 1988-11-10 1990-05-18 Matsushita Electric Works Ltd 画像処理方法
JPH04310062A (ja) * 1991-04-08 1992-11-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像読取方法
JPH09190531A (ja) * 1996-01-09 1997-07-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 実装データ作成方法と装置、および基板と実装の検査方法
JPH1093808A (ja) * 1996-09-18 1998-04-10 Sharp Corp 画像合成装置および方法
JP2000092306A (ja) * 1998-09-10 2000-03-31 Minolta Co Ltd 画像合成方法及びこの方法を用いた画像合成装置

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7512260B2 (en) 2004-09-06 2009-03-31 Omron Corporation Substrate inspection method and apparatus
JP2006184019A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Saki Corp:Kk 外観検査装置
JP2006184021A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Saki Corp:Kk 外観検査装置
JP2008082704A (ja) * 2006-09-25 2008-04-10 Olympus Corp 基板検査装置および基板検査方法
JP2008185511A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Bridgestone Corp タイヤのrro計測方法とその装置
JP2009111680A (ja) * 2007-10-30 2009-05-21 Ricoh Co Ltd 画像読取装置および原稿読取装置
JP2014206547A (ja) * 2008-01-16 2014-10-30 オルボテック リミテッド 複数のカメラを使用した基板検査
KR101584381B1 (ko) * 2008-01-16 2016-01-11 오르보테크 엘티디. 다중 카메라를 이용한 기판 검사
KR20100110328A (ko) * 2008-01-16 2010-10-12 오르보테크 엘티디. 다중 카메라를 이용한 기판 검사
JP2011510289A (ja) * 2008-01-16 2011-03-31 オルボテック リミテッド 複数のカメラを使用した基板検査
US11113803B2 (en) 2008-01-16 2021-09-07 Orbotech Ltd. Inspection of a substrate using multiple cameras
JP2010109465A (ja) * 2008-10-28 2010-05-13 Mitsubishi Electric Corp 画像読取装置
JP2011095226A (ja) * 2009-11-02 2011-05-12 Saki Corp:Kk 被検査体の検査装置、及び電子基板の位置補正装置
KR101575289B1 (ko) 2009-12-10 2015-12-10 한화테크윈 주식회사 기준마크를 이용한 부품등록장치 및 방법
JP2013015665A (ja) * 2011-07-04 2013-01-24 Nikon Corp 顕微鏡装置及び画像形成方法
JP2014534420A (ja) * 2011-12-27 2014-12-18 コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド 基板検査装置の高さ情報生成方法
JP2019163956A (ja) * 2018-03-19 2019-09-26 東レエンジニアリング株式会社 チップ位置測定装置
WO2019181279A1 (ja) * 2018-03-19 2019-09-26 東レエンジニアリング株式会社 チップ位置測定装置
CN111587358A (zh) * 2018-03-19 2020-08-25 东丽工程株式会社 芯片位置测量装置
TWI794438B (zh) * 2018-03-19 2023-03-01 日商東麗工程股份有限公司 晶片位置測定裝置

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