JPH1096613A - 欠陥検出方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】同一形状のパターンを、検出画素サイズ以下の
精度で位置合せが行えるようにして、画像検出時の検出
誤差の影響を低減した状態でパターンの欠陥を検出す
る。 【解決手段】基板の表面に形成された繰り返しパターン
を前記基板を載置するＸＹテーブルの走査と同期させて
撮像して第１の画像を得、この第１の画像を記憶手段に
記憶し、繰り返しパターンのうちの第２のパターンを撮
像して第２の画像を得、第２の画像を記憶手段に記憶さ
せると共に記憶手段に記憶させた第１のパターンの画像
を取り出し、この取り出した第１のパターンの画像と第
２のパターンの画像とを画素単位以下の精度で位置合せ
し、二つのパターンの画像のずれ量に基づいてパターン
の欠陥を検出し、この検出した欠陥に関する情報を画面
上に表示する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、ＬＳＩウ
ェーハやＴＦＴなどのパターンを比較して欠陥を検出す
る方法に係り、パターンを撮像して得た画像同士を高精
度に位置合せをして、パターンの欠陥を検出するパター
ン欠陥検出方法及びその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のパターン欠陥検査方法及びその装
置は、特開昭５７−１９６３７７号公報に記載のよう
に、対象のパターンを検出し、検出したパターンを記憶
しておき、一つ前に記憶しておいたパターンと検出した
パターンとを画素単位に位置合わせし、位置合わせした
二つのパターンの誤差を抽出・比較することにより、パ
ターンの欠陥を検査するようになっていた。

【０００３】この検査対象は、図２（ａ）,（ｂ）,
（ｃ）に例示するような、メモリ用ＬＳＩなどの半導体
ウェハのパターン，ＴＦＴ（Thin Film Transister）
のパターン，プリント配線板のパターン，セラミック基
板のパターンまたは、それらを製造する工程で用いるマ
スクやレチクルなどのパターンなどである。ここでは一
例として半導体ウェハのパターンについて説明するが、
他のパターンに対しても同じ事が成り立つ。半導体ウェ
ハのパターンは最終的に切り離されて個別製品となるチ
ップが数十個一枚のウェハに載っており、それらは互い
に同じパターンを持っている。このようなパターンの欠
陥を検査する原理を図２（ａ）〜（ｃ）を用いて説明す
る。

【０００４】図２（ａ）〜（ｃ）は従来の一般的なパタ
ーン比較方法の原理説明図で、図２（ａ）は記憶パター
ン、図２（ｂ）は検出パターン、図２（ｃ）はパターン
差である。各チップが全く同一のパターンを持っている
ことに着目し、図２（ａ）のパターンを検出して記憶し
ておき、図２（ｂ）のそれと同一であるはずの別のパタ
ーンを次に検出して、二つのパターンを画素単位に位置
合わせし、図２（ｃ）の位置合わせした二つのパターン
の誤差を抽出して比較する。いずれのパターンにも欠陥
が存在しない場合にはパターンの差はほとんどないが、
いずれかのパターン、例えば、図２（ｂ）の検出パター
ンに欠陥が存在する場合には、図２（ｃ）のように欠陥
部分でパターンに差があるため、パターンの比較により
誤差を生じる場所を検出することでパターン欠陥を認識
することができる。なお、ここで比較して差があればい
ずれかのパターンに欠陥があると言えるが、いずれのパ
ターンに欠陥があるかを判別することはできない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では画像
をデジタル化して入力するためサンプリング点の情報し
か得られずサンプリング誤差の発生は避けられないが、
このサンプリング誤差の影響で小さい欠陥の認識が困難
となる問題がある。このことを図３（ａ）〜（ｃ）によ
り説明する。

【０００６】図３（ａ）〜（ｃ）は図２（ａ）〜（ｃ）
のＸ−Ｘ’線上のパターンの波形図で、図３（ａ）は図
２（ａ）の記憶パターンの検出信号波形図、図３（ｂ）
は図２（ｂ）の検出パターンの検出信号波形図、図３
（ｃ）は図２（ｂ）の検出パターンのサンプリング誤差
の無い場合の検出信号波形図、図３（ｄ）は図３（ａ）
と図３（ｂ）のサンプリング誤差有りとの差信号波形
図、図３（ｅ）は図３（ａ）と図３（ｃ）のサンプリン
グ誤差無しとの差信号波形図であり、図中の・はサンプ
リング点での検出信号を示している。図３（ｂ），
（ｃ）のように本来は全く同一のパターンに対して同一
点に設定することができないためサンプリング点での検
出波形が異なったものとなり、検出波形や検出パターン
に誤差を生じ、この誤差をサンプリング誤差と呼ぶ。比
較する検出パターンにサンプリング誤差がない場合は図
３（ｅ）のように欠陥部差信号は正常部差信号より十分
大きく欠陥の認識は容易であるが、検出パターンにサン
プリング誤差がある場合は図３（ｄ）のように欠陥部差
信号は正常部差信号と同程度となり欠陥の認識は困難と
なる。検出時の画素サイズに対して認識する欠陥サイズ
が十分大きい場所の面積の違いを利用してサンプリング
誤差と欠陥を識別できるが、小さい場合は欠陥により生
じる差の大きい場所の面積はサンプリング誤差によるそ
れと同程度となり欠陥の識別は困難となる。

【０００７】本発明の目的はパターンの位置合わせの精
度を検出画素サイズ以下としてサンプリング誤差の影響
を軽減できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供
することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のパターン欠陥検出方法及びその装置はパタ
ーン画素単位で位置合わせした後、画素単位以下の精度
で位置合わせをするようにしたものである。

【０００９】すなわち、基板の表面に形成された繰り返
しパターンを基板を載置するＸＹテーブルの走査と同期
させて撮像手段で撮像して第１の画像を得、この第１の
画像を記憶手段に記憶し、繰り返しパターンのうちの第
２のパターンをＸＹテーブルの走査と同期させて撮像手
段で撮像して第２の画像を得、この第２の画像を記憶手
段に記憶させると共に記憶手段に記憶させた第１の画像
を取り出し、この取り出した第１のパターンの画像と撮
像手段で撮像して得た第２のパターンの画像とを画素単
位以下の精度で位置合わせし、この画素単位以下の制度
で位置合わせした二つのパターンの画像のずれ量に基づ
いてパターンの欠陥を検出し、この検出した欠陥に関す
る情報を画面上に表示するものである。

【００１０】この画素単位以下の精度で位置合わせする
には、例えば、次に示す最小二乗法を用いる。二枚のパ
ターンをf(x,y),g(x,y)とするとき、あらかじめ（数
１）のε２(dx,dy)を最小とする位置(dx0,dy0)に画素単
位で位置合わせして、x,y座標とも値が0と1の間に検出
画像と記憶画像のパターンの差を最小とする位置(δx0,
δy0)があるようにする。

【００１１】 ε2(dx,dy)=ε(dx,dy)+ε(dx+1,dy) +ε(dx,dy+1)+ε(dx+1,dy+1) ‥‥‥（数１） ε(dx,dy)=ΣΣ|f(x,y)-g(x+dx,y+dy)| ‥‥‥（数２） ここで、x,yは画素単位のパターンの座標、dx,dyは二枚
のパターンの画素単位の位置合わせ量、dx0,dy0はε2を
最小とする画素以下の位置合わせ量dx,dy,δx,δyは画
素以下の位置合わせ量、δx0,δy0はパターン差を最小
とする画素以下の位置合わせ量dx,dy,ΣΣは位置合わせ
する範囲のx,y座標に関する和を各々示す。

【００１２】 gl(x,y)=g(x+dx,y+dy) ‥‥‥（数３） 画素と画素の中間の値を（数４）,（数５）で定義す
る。

【００１３】 fd(x,δx,y,δy)=f(x,y)+δx*(f(x+1,y)-f(x,y)) +δy*(f(x,y+1)-f(x,y)) ‥‥‥（数４） gld(x,δx,y,δy)=gl(x,y)+δx*(gl(x-1,y)-gl(x,y)) +δy*(gl(x,y-1)-gl(x,y)) ‥‥‥（数５） 二乗誤差は(数６)で定義できる。

【００１４】 εd(δx,δy)= ΣΣ(fd(x, δx,y,δy) -gld(x,δx,y,δy))**2 ‥‥‥（数６） （数６）をδx,δyで偏微分してこれを０と置いたもの
を整理して（数７）,（数８）を得る。

【００１５】

【数７】

【００１６】

【数８】

【００１７】ここで、 Co=f(x,y)-gl(x,y) Ci= (f(x+1,y)-f(x,y))-(gl(x-1,y)-gl(x,y)) ‥‥‥（数９） Cj= (f(x,y+1)-f(x,y))-(gl(x,y-1)-gl(x,y)) 画素以下の位置合わせ量δx0, δy0より位置合わせ後の
パターンf2，g2を次の(数10)，(数11)で計算する。

【００１８】 f2(x,y)=fd(x,δx0,y,δy0) ‥‥‥（数10） g2(x,y)=gld(x,δx0,y,δy0) ‥‥‥（数11） このパターン欠陥検出方法の作用を図４（ａ）〜（ｄ）
および図５により説明する。

【００１９】図４（ａ）〜（ｄ）は本発明による図２の
パターンの画素以下のピッチで位置合わせするサブピク
セル位置合わせの動作例の波形図で、図４（ａ）は記憶
波形、図４（ｂ）は欠陥の無い検出波形、図４（ｃ）は
画素単位の位置合わせのみをした単純差波形、図４
（ｄ）はサブピクセル位置合わせ誤差波形である。図５
は図４（ａ）〜（ｄ）の数値表図で、サンプリング位置
０〜15の記憶波形、検出波形単純差波形、サブピクセル
位置合わせ後のf2，g2，｜f2−g2｜の数値を各々示す。
記憶波形と検出波形が、例えば、図４（ａ）,（ｂ）及
び図５のようであったとし、ここで図４（ｂ）の検出波
形は図４（ａ）の記憶波形の前後二画素の平均をとった
波形でほぼ0.5がそのシフトをさせた波形と同等であ
る。

【００２０】これらの波形に最小二乗法を適用してδx0
を求め、実際に計算するとδx0=0.2となり、この値より
（数10），（数11）を用いて位置合わせ後のパターンf
2，g2を求める。このときサブピクセル位置合わせをし
た場合としない場合の差信号波形は図４（ｃ）,（ｄ）
および図５のようになり、残差は半減している。これに
より、サンプリング誤差によるパターン差の値は欠陥の
値より十分に小さくなるので、欠陥を容易に識別でき
る。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の第一の実施例を図
１、図６により説明する。図１はＬＳＩウエーハのパタ
ーン欠陥検出装置の構成図である。本パターン欠陥検出
装置はウエーハ１を走査するＸＹステージ２とウエーハ
を照明する光源３と照明光学系４と照明されたウエーハ
の光学像を検出する対物レンズ５と一次元イメージセン
サ６よりなる検出部と、一次元イメージセンサ６の信号
をデジタル化して記憶するためのＡ／Ｄ変換器７と画像
メモリ部８よりなる画像入力部９と、画像入力部９に入
力された検出画像10と比較画像11を画像メモリブ８より
取り出す画像取り出し部12、検出画像10と比較画像11よ
り（数２）であらわされる画像の差を計算して比較画像
を（数３）のように移動させて位置合わせをする画素単
位マッチング部13と画素単位マッチング部13よりの画素
単位位置補正の終わった画像14と検出画像10から（数
７）,（数８）で表される画素以下の位置合わせ量δx
0、δy0を計算するサブピクセルマッチング部15とサブ
ピクセルマッチング部よりの位置合わせ量を基に（数1
0），（数11）式で表される位置補正を行う位置合わせ
部16と位置合わせの終わった画像17の差画像17，差画像
17を二値化して差の存在する場所の各種特徴量を抽出し
て欠陥の判定を行う欠陥判定部19よりなる画像処理部20
と、ＸＹステージ２の制御と画像処理部20より出力され
る欠陥情報の記憶や表示と全体シーケンスの管理を行う
計算機で構成された全体制御部21から構成される。

【００２２】この構成によりパターン欠陥を検出する動
作を次に説明する。まず、全体制御部21よりの指令で各
部のイニシャライズ後に、ＸＹステージ２の走査に同期
して、光源３と照明光学系４で照明されたウエーハ１の
パターンを対物レンズ５を介して一次元イメージセンサ
６で光電変換することにより二次元のパターンを検出
し、Ａ／Ｄ変換機７でデジタル化した二次元の検出画像
10として、得られた検出画像は画像メモリ部８に記憶す
る。

【００２３】画像取り出し部12は画像メモリ部８の一定
のアドレスを参照することにより比較画像11を取り出
す。ここで、画素単位マッチング部13の動作を図６によ
り説明する。図６は図１のマッチング部13の動作原理説
明図である。検出画像10と比較画像11より、比較画像を
△Ｘ，△Ｙ方向に位置ずれ許容量の±δ画素（本実施例
ではδ＝１で説明するが、検出対象の寸法精度と欠陥検
出装置の位置決め精度で決まる値であり必要な値を適当
に設定するものとする）だけずらしたときの検出画像10
と比較画像11の画像の差を（数２）で計算し、（数１）
のε2（図６のS１）を最小とするdx0，dy0(図６の△Ｘ
＝−１、△Ｙ＝０)を計算し、比較画像11を（数３）を
用いて位置補正を行い、画素単位位置補正の終わった画
像14を出力する。

【００２４】サブピクセルマッチング部15は画素単位マ
ッチング部13よりの画素単位位置補正の終わった画像14
と検出画像10から（数７）,（数８）で表される画素以
下の位置合わせ量δX0、δy0を計算する。位置合わせ部
16はサブピクセルマッチング部15よりの位置合わせ量を
基に（数10）,（数11）で表される位置補正を行う。差
画像抽出部18は位置補正の終わった画像より次の（数1
2）で差画像17を抽出する。

【００２５】 S(i,j)=|f2(i,j)-g2(i,j) ‥‥‥（数12） 欠陥判定部19は差画像17を欠陥判定の閾値Ｖｔｈで二値
化して、差の存在する場所の面積，幅，投影長などの各
種特徴量を抽出して欠陥の判定を行う。

【００２６】本実施例によれば、検出画像と記憶画像の
二枚のパターンの両方を同じだけ反対方向に移動させて
画素以下の位置合わせ画像を作っているため、画像の平
滑化効果(例えば、δX0=0.5,δy0=0の場合にf2(x,y)=(f
(x+1,y)+f(x,y))/2で平均値フィルタをかけたのと等価)
が二枚のパターンで同じになり、これにより生じる差画
像の誤差を最低限にできる効果がある。

【００２７】本実施例の第1の変形は、（数10）,（数1
1）の代わりに（数13）,（数14）を用いる。

【００２８】 f2(x,y)=f(x,y) ‥‥‥（数13） g2(x,y)= f(x,y)+δx*(f(x-1,y)-f(x,y)) +2*δy*(f(x,y -1)-f(x,y)) if 0.0≦δx<0.25,0.0≦δy<0.25 f(x+1,y)+(1-δx)*(f(x,y)-f(x-1,y)) +2*δy*(f(x-1,y-1)-f(x-1,y)) if 0.25≦δx<0.5,0.0≦δy<0.25 f(x,y+1)+δx* f(x-1,y-1)-f(x,y-1)) +(1-2*δy)*(f(x,y)-f(x,y-1)) if 0.0≦δx<0.25,0.25≦δy<0.5 f(x+1,y+1)+(1-δx)*(f(x,y-1)-f(x-1,y-1)) +(1-2*δy)*(f(x-1,y)-f(x-1,y-1)) if 0.25≦δx<0.5,0.25≦δy<0.5 ‥‥（数14） 本変形によれば、δｘ,δｙが0.5近くの値をとるときに
f2,g2の値をより連続にできる。つまり、図７に示したg
のデータ例に対してdx=0,δx=0.49の場合とdx=1,δx=0.
01の場合の本変形をした場合としない場合のg2の値を図
７に示す。本変形をしない場合は値が大きく異なるのに
対し、本変形をするとほぼ同じ値になる。

【００２９】また、本実施例の第二の変形は、ＸＹステ
ージ10の走査に同期して一次元イメージセンサ14で光電
変換することにより二次元のパターンを検出する代わり
に、ＸＹステージ10をステップ移動させてＴＶカメラで
光電変換することにより二次元のパターンを検出する。
または、一次元イメージセンサ14の代わりにフォトマル
などのポイント型センサと走査機構を用いるなどいろん
な形のセンサを用いることができる。また、画像処理部
は全てハードウェアでなくても、ハードウェア＋ソフト
ウェアで構成することもできる。

【００３０】また、本実施例の第三の変形は検出画像と
記憶画像の差を（数２）で計算し、各ずらし量に対応し
た画像の差をマッチング値として出力する代りに、検出
画像と比較画像にそれぞれフィルタをかけることにより
エッジなどを抽出し、そのフィルタ画像にたいして画像
の差を（数２）で計算し、f2,g2はフィルタをかける前
の画像に対して計算する。または検出画像と比較画像に
各々フィルタをかけて二値化し、そのフィルタ二値画像
にたいして画像の差を（数２）で計算し、f2,g2はフィ
ルタをかける前の画像に対して計算する。本変形によれ
ば、フィルタを用いているため検出画像と比較画像の不
要な情報の違いによる影響を受けにくくする効果があ
る。

【００３１】また、本実施例の第四の変形は（数１）,
（数４）,（数５）,（数９）を（数15−１），（数15−
４），（数15−５），（数15−９）と置き換える。

【００３２】 ε2(dx,dy)= ΣΣε(dx+nx,dy+ny) ‥‥‥（数15−１） fd(x,δx,y,δy)=f(x,y)+ δx*(f(x+n,y)-f(x,y)) +δy*(f(x,y+ n)-f(x,y)) ‥‥‥（数15−４） gld(x,δx,y,δy)=gl(x,y)+δx*(gl(x-n,y)-gl(x,y)) +δy*(gl(x,y-n)-gl(x,y)) ‥‥‥（数15−５） C0=f(x,y)-gl(x,y) Ci=((f(x+n,y)-f(x,y))-(gl(x-n,y)-gl(x,y)) ‥‥‥（数15−９） Cj=(f(x,y+n)-f(x,y))-(gl(x,y-n)-gl(x,y)) ここで、ｎは画素と画素の中間の値の演算のピッチで、
ｎ−１，２，３，・・・（数１）のΣΣはnx，nyの０〜
nまでの和を意味する。（数６），（数７）のΣΣは位置
合わせする範囲のｘ，ｙ座標に関する全ての和、または
ｎ毎の和を示す。

【００３３】（数１）のε2（dx,dy）を最小とする（d
x,dy）に画素単位で位置合わせして、ｘ，ｙ座標とも０
とｎの間に二枚のパターンの差を最小とする位置（（δ
x,δy））があるようにすればよい。

【００３４】本変形によれば、あらかじめ画素単位マッ
チング部で位置合わせして置く範囲がラフでよい特徴が
ある。

【００３５】また、本実施例の第五の変形は画素単位マ
ッチング部13を用いない。対象の条件によっては画素単
位マッチングをしなくても（数１）のε2（dx,dy）を最
小とする位置（δx,δy）がｘ，ｙ座標とも０と１の間
にある。この場合、画素単位の位置合わせは不要であ
る。特に、本実施例の第四の変形をした場合には不要と
なる可能性は高い。本変形によれば、構成が簡単である
特徴がある。

【００３６】また、本実施例の第六の変形は画素単位の
マッチング部13にサブピクセルマッチング部15と同じ方
式を用いる。このとき、一般には画素単位のマッチング
部13には第三の変形と第四の変形を付加する。つまり、
記憶画像ｇを（数16）でｎ画素シフトさせた後ｆ，ｇｏ
に対して、（数17）の平均値フィルタを作用させた、画
素演算のピッチｎで演算を行う。また、（数10），（数
11）は（数18），（数19）を用いる。本変形によれば、
サブピクセルマッチング二段のみなので、ハードウェア
化する時には同一構成の回路が二式となるので効率がよ
い特徴がある。

【００３７】 gs(x,y)=g(x+n,y+n) ‥‥‥（数16） fo(x,y)= ΣΣf(x+i,y+j) go(x,y)= ΣΣgs(x+i,y+j) ‥‥‥（数17） ΣΣはi，j=−m〜mの和を示す。

【００３８】 f2(x,y)=f(x,δx0,y,δy0) ‥‥‥（数18） g2(x,y)=gs(x+1,δx0,y+1,δy0) ‥‥‥（数19） また、本実施例の第七の変形は（数４），（数５）を一
次式ではなく任意の式を用いて（数７），（数８）を解
析的または数値解析的に求めることができればこれらの
式を用いることができる。本変形によれば、任意の式を
用いることができるので、汎用性が高い特徴がある。

【００３９】次に、本発明の第二の実施例を図８により
説明する。図８はパターンの位置誤差を求めて欠陥を検
出するパターン欠陥検出装置の構成図である。本パター
ン欠陥検出装置はウエハ１を位置決めするＸＹステージ
２とウエハを照明する光源３と照明光学系４と照明され
たウエハの光学像を検出する対物レンズ５とＴＶカメラ
22よりなる検出部と、ＴＶカメラ22の信号をデジタル化
して記憶するためのＡ／Ｄ変換機７と画像メモリ部８よ
りなる画像入力部９と、画像入力部に入力された検出画
像10と画像メモリ中の記憶画像11より（数７），（数
８）で表される画素以下の位置合わせ量δx0,y,δy0を
計算するサブピクセルマッチング部15よりなる画像処理
部20と、ＸＹステージ２の制御と画像処理部20より出力
される情報の記憶や表示と全体シーケンスの管理を行う
計算機で構成された全体制御部21から構成される。

【００４０】この構成によりパターン誤差を検出する動
作を次に説明する。まず、全体制御部21よりの指令で各
部のイニシャライズ後に、ＸＹステージ２を駆動して位
置決めし、光源３と照明光学系４で照明されたウエハ１
のパターンを対物レンズ５を介してＴＶカメラ22で光電
変換することにより二次元のパターンを検出し、Ａ／Ｄ
変換器７でデジタル化した二次元の検出画像10とし、得
られた検出画像は画像メモリ部８に記憶する。一つ前に
検出して記憶しておいた画像メモリ８中の記憶画像11を
(20)式で位置画素シフトさせた後（数７），（数８）で
位置の誤差δx0,δy0を計算する。位置の誤差を全体制
御部に渡す。

【００４１】 gl(x,y)=ｇ(ｘ+１,ｙ+１) ‥‥‥（数20） 本発明によれば、パターンの位置合わせ情報をそのまま
用いてパターンの位置誤差として出力しており、高精度
な位置誤差検出ができる特徴がある。

【００４２】本発明の第一の変形は検出画像10と記憶画
像11より（数７），（数８）でδx0,δy0を計算する時
に、画像にマスキングをする方式がある。本変形によれ
ば、ほしい情報のみより位置の誤差δx0,δy0を計算で
き、高精度である特徴がある。

【００４３】本発明の第二の変形はアライメントマーク
の検出に用いて、位置の誤差情報をフィードバックする
ことにより、アライメントを行う。本変形によれば高精
度なアライメントができる特徴がある。

【００４４】本発明の第三の変形は角度検出に用いる。
二点以上の位置の誤差情報を基に角度の計算を行う。本
変形によれば高精度な角度検出ができる特徴がある。

【００４５】

【発明の効果】本発明によれば、パターンの位置合わせ
精度を検出画素サイズ以下としてサンプリング誤差の影
響を軽減でき、画素サイズと同程度の大きさの欠陥の検
出を容易にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のブロック図。

【図２】（ａ）〜（ｃ）は、従来一般的なパターン比較
方式によるパターン比較方式によるパターン欠陥検出方
法の原理説明図。

【図３】（ａ）〜（ｅ）は、図２（ａ）〜（ｃ）のパタ
ーン波形図。

【図４】（ａ）〜（ｄ）は、本発明による図２のパター
ンのサブピクセルマッチング動作例の波形図。

【図５】図４（ａ）〜（ｄ）の数値の説明図。

【図６】図１の画素単位マッチング部の動作説明図。

【図７】第一の実施例の変形の説明図。

【図８】本発明の第二の実施例を示す装置のブロック
図。

【符号の説明】

１…ウエハ、 ２…ＸＹステージ、 ３…光源
４…照明光学系、５…対物レンズ、 ６…一次元
イメージセンサ、 ７…Ａ／Ｄ変換器、８…画像メ
モリ部、 ９…画像入力部、 10…検出画像、
11…比較画像、 12…画像取り出し部、 13…
マッチング部、14…画素単位位置補正の終わった画像、
15…サブピクセルマッチング部 16…位置合わせ部、 17…差画像、 18…差画
像抽出部、19…欠陥判定部、 20…画像処理部、
21…全体制御部、22…サブピクセル演算部、
23…ＴＶカメラ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｇ０６Ｆ 15/62 ４０５Ｃ 15/70 ４５５Ｂ (72)発明者 牧平 担 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板の表面に形成された繰り返しパターン
   を前記基板を載置するＸＹテーブルの走査と同期させて
   撮像手段で撮像して第１の画像を得、該第１の画像を記
   憶手段に記憶し、前記繰り返しパターンのうちの第２の
   パターンを前記ＸＹテーブルの走査と同期させて前記撮
   像手段で撮像して第２の画像を得、該第２の画像を前記
   記憶手段に記憶させると共に前記記憶手段に記憶させた
   前記第１のパターンの画像を取り出し、該取り出した第
   １のパターンの画像と前記撮像手段で撮像して得た第２
   のパターンの画像とを画素単位以下の精度で位置合わせ
   し、該画素単位以下の制度で位置合わせした二つのパタ
   ーンの画像のずれ量に基づいて前記パターンの欠陥を検
   出し、該検出した欠陥に関する情報を画面上に表示する
   ことを特徴とする欠陥検出方法。
2. 【請求項２】基板を載置してＸＹ方向に走査可能なＸＹ
   ステージ手段と、該ＸＹステージ手段に載置した基板上
   に形成された繰り返しパターンを前記ＸＹステージの走
   査に同期して撮像する撮像手段と、該撮像手段で前記Ｘ
   Ｙステージの走査に同期して撮像した前記繰り返しパタ
   ーンの画像を記憶する記憶手段と、該記憶手段に記憶し
   た画像と前記撮像手段で前記ＸＹステージの走査に同期
   して撮像した前記繰り返しパターンの画像とを比較して
   前記繰り返しパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段
   と、該欠陥検出手段で検出した欠陥に関する情報を表示
   する表示手段と、前記ＸＹステージ手段の走査と前記撮
   像手段による前記ＸＹステージの走査に同期させた前記
   繰り返しパターンの撮像と前記記憶手段による前記繰り
   返しパターンを撮像して得た画像の記憶及び取り出しと
   前記欠陥検出手段による前記撮像手段からの画像と前記
   記憶手段から取り出した画像との比較と前記表示手段に
   よる前記欠陥検出手段で検出した欠陥に関する情報の表
   示とを制御する制御手段とを備えたことを特徴とする欠
   陥検出装置。