JP2002173715A - 鉄損の低い方向性珪素鋼板の製造方法及び脱炭焼鈍炉 - Google Patents
鉄損の低い方向性珪素鋼板の製造方法及び脱炭焼鈍炉Info
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- JP2002173715A JP2002173715A JP2000366918A JP2000366918A JP2002173715A JP 2002173715 A JP2002173715 A JP 2002173715A JP 2000366918 A JP2000366918 A JP 2000366918A JP 2000366918 A JP2000366918 A JP 2000366918A JP 2002173715 A JP2002173715 A JP 2002173715A
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- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 脱炭焼鈍の操業安定化または一次再結晶組織
の適正化により、方向性珪素鋼板の磁気特性を改善す
る。 【解決手段】 脱炭焼鈍炉の加熱帯と均熱帯の間をシー
ルしてこれらの雰囲気を分離し、更に加熱帯の雰囲気ガ
スをシリカが形成されない酸化度（Ｐ H2 O ／ＰH2 ）
に、また均熱帯の雰囲気ガスを鉄系酸化物が形成されな
い酸化度に制御して焼鈍することを特徴とする鉄損の低
い方向性珪素鋼板の製造方法。また、方向性電磁鋼板の
脱炭焼鈍炉において、加熱帯と均熱帯の間に雰囲気シー
ル装置を配設したことを特徴とする脱炭焼鈍炉。
の適正化により、方向性珪素鋼板の磁気特性を改善す
る。 【解決手段】 脱炭焼鈍炉の加熱帯と均熱帯の間をシー
ルしてこれらの雰囲気を分離し、更に加熱帯の雰囲気ガ
スをシリカが形成されない酸化度（Ｐ H2 O ／ＰH2 ）
に、また均熱帯の雰囲気ガスを鉄系酸化物が形成されな
い酸化度に制御して焼鈍することを特徴とする鉄損の低
い方向性珪素鋼板の製造方法。また、方向性電磁鋼板の
脱炭焼鈍炉において、加熱帯と均熱帯の間に雰囲気シー
ル装置を配設したことを特徴とする脱炭焼鈍炉。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、主として変圧器そ
の他の電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素
鋼板の製造方法及び脱炭焼鈍炉に関するものである。特
に、その表面を効果的に仕上げることにより、鉄損特性
の向上を図るものである。
の他の電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素
鋼板の製造方法及び脱炭焼鈍炉に関するものである。特
に、その表面を効果的に仕上げることにより、鉄損特性
の向上を図るものである。
【０００２】
【従来の技術】一方向性珪素鋼板は、磁気鉄心として多
くの電気機器に用いられている。一方向性珪素鋼板は、
Ｓｉを０．８〜４．８％含有し、製品の結晶粒の方位を
｛１１０｝＜００１＞方位に高度に集積させた鋼板であ
る。その磁気特性として磁束密度が高く（Ｂ８値で代表
される）、鉄損が低い（Ｗ17/50 値で代表される）こと
が要求される。特に最近では、省エネルギーの見地から
電力損失の低減に対する要求が高まっている。この要求
にこたえ、一方向性珪素鋼板の鉄損を低減させる手段と
して磁区を細分化する技術が開発された。
くの電気機器に用いられている。一方向性珪素鋼板は、
Ｓｉを０．８〜４．８％含有し、製品の結晶粒の方位を
｛１１０｝＜００１＞方位に高度に集積させた鋼板であ
る。その磁気特性として磁束密度が高く（Ｂ８値で代表
される）、鉄損が低い（Ｗ17/50 値で代表される）こと
が要求される。特に最近では、省エネルギーの見地から
電力損失の低減に対する要求が高まっている。この要求
にこたえ、一方向性珪素鋼板の鉄損を低減させる手段と
して磁区を細分化する技術が開発された。
【０００３】積み鉄心の場合、仕上げ焼鈍後の鋼板にレ
ーザービームを照射して局部的な微少歪を与えることに
より磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例えば
特開昭５８−２６４０５号公報に開示されている。しか
しながらこれらの磁区の動きを観察すると、鋼板表面の
グラス皮膜の凹凸によりピン止めされ、動かない磁区も
存在していることが分かった。従って、方向性電磁鋼板
の鉄損値を更に低減させるためには、磁区細分化と合わ
せて磁区の動きを阻害する鋼板表面のグラス皮膜の凹凸
によるピン止め効果をなくすことが重要であると考えら
れる。
ーザービームを照射して局部的な微少歪を与えることに
より磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例えば
特開昭５８−２６４０５号公報に開示されている。しか
しながらこれらの磁区の動きを観察すると、鋼板表面の
グラス皮膜の凹凸によりピン止めされ、動かない磁区も
存在していることが分かった。従って、方向性電磁鋼板
の鉄損値を更に低減させるためには、磁区細分化と合わ
せて磁区の動きを阻害する鋼板表面のグラス皮膜の凹凸
によるピン止め効果をなくすことが重要であると考えら
れる。
【０００４】そのためには、磁区の動きを阻害する鋼板
表面のグラス皮膜を形成させない事が有効であると考え
られ、その手段として、焼鈍分離剤として粗大高純アル
ミナを用いることによりグラス皮膜を形成させない方法
が、例えば米国特許第３７８５８８２号に提示されてい
る。しかしながら、この方法では表面直下の介在物をな
くすことができず、その介在物によるピニング効果のた
め、鉄損の向上代はＷ15/60 で高々２％に過ぎない。
表面のグラス皮膜を形成させない事が有効であると考え
られ、その手段として、焼鈍分離剤として粗大高純アル
ミナを用いることによりグラス皮膜を形成させない方法
が、例えば米国特許第３７８５８８２号に提示されてい
る。しかしながら、この方法では表面直下の介在物をな
くすことができず、その介在物によるピニング効果のた
め、鉄損の向上代はＷ15/60 で高々２％に過ぎない。
【０００５】この表面直下の介在物を制御し、かつ表面
の鏡面化を達成する方法として、仕上げ焼鈍後に表面酸
化層を除去した後に化学研磨或いは電解研磨を行う方法
が、例えば特開昭４９−９６９２０号公報、特開昭６４
−８３６２０号公報に開示されている。しかしながら、
化学研磨・電解研磨等の方法は、研究室レベルでの少試
料の材料を加工することは可能であるが、工業的規模で
行うには薬液の濃度管理、温度管理、公害設備の付与等
の点で大きな問題があり、いまだ実用化されるに至って
いない。
の鏡面化を達成する方法として、仕上げ焼鈍後に表面酸
化層を除去した後に化学研磨或いは電解研磨を行う方法
が、例えば特開昭４９−９６９２０号公報、特開昭６４
−８３６２０号公報に開示されている。しかしながら、
化学研磨・電解研磨等の方法は、研究室レベルでの少試
料の材料を加工することは可能であるが、工業的規模で
行うには薬液の濃度管理、温度管理、公害設備の付与等
の点で大きな問題があり、いまだ実用化されるに至って
いない。
【０００６】本発明者等は、上記課題を解決するために
種々の実験を行い、脱炭焼鈍の露点を制御し、脱炭焼鈍
時に形成される酸化層においてＦｅ系酸化物（Ｆｅ2 Ｓ
ｉＯ 4 、ＦｅＯ等）を形成させないことが、表面の介在
物を消去することに有効であること（特開平７−１１８
７５０号公報）、またこのような酸化層の制御と脱炭を
両立させるためには、脱炭焼鈍工程において加熱速度を
９℃／秒以上で７７０〜８６０℃の温度域まで加熱し、
Ｆｅ系酸化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 、ＦｅＯ等）を形成させ
ない雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）を０．０
１〜０．１５で焼鈍を行えば良いこと（特開平７−２７
８６６８号公報）を開示している。
種々の実験を行い、脱炭焼鈍の露点を制御し、脱炭焼鈍
時に形成される酸化層においてＦｅ系酸化物（Ｆｅ2 Ｓ
ｉＯ 4 、ＦｅＯ等）を形成させないことが、表面の介在
物を消去することに有効であること（特開平７−１１８
７５０号公報）、またこのような酸化層の制御と脱炭を
両立させるためには、脱炭焼鈍工程において加熱速度を
９℃／秒以上で７７０〜８６０℃の温度域まで加熱し、
Ｆｅ系酸化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 、ＦｅＯ等）を形成させ
ない雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）を０．０
１〜０．１５で焼鈍を行えば良いこと（特開平７−２７
８６６８号公報）を開示している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】脱炭焼鈍のヒートサイ
クルは、例えば特開平１−２９０７１６号公報、特開平
６−２１２２６２号公報、特公平８−３２９２９号公
報、特開平９−２５６０５１号公報等に開示されるよう
に、製品の磁気特性に影響を及ぼす一次再結晶組織を調
整するうえで重要な制御因子である。本発明は、脱炭焼
鈍の雰囲気ガスを加熱帯と均熱帯で分離制御することに
より、特開平７−２７８６６８号公報に開示されたヒー
トサイクルの適正範囲を更に広げる方法を提供するもの
である。この方法により、脱炭焼鈍の操業安定化または
一次再結晶組織の適正化により製品の磁気特性を一層改
善することができる。
クルは、例えば特開平１−２９０７１６号公報、特開平
６−２１２２６２号公報、特公平８−３２９２９号公
報、特開平９−２５６０５１号公報等に開示されるよう
に、製品の磁気特性に影響を及ぼす一次再結晶組織を調
整するうえで重要な制御因子である。本発明は、脱炭焼
鈍の雰囲気ガスを加熱帯と均熱帯で分離制御することに
より、特開平７−２７８６６８号公報に開示されたヒー
トサイクルの適正範囲を更に広げる方法を提供するもの
である。この方法により、脱炭焼鈍の操業安定化または
一次再結晶組織の適正化により製品の磁気特性を一層改
善することができる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために種々の実験を行い、脱炭焼鈍炉の加熱
帯と均熱帯の間をシールし、これらの炉帯の雰囲気を分
離すること、更に加熱帯の雰囲気ガスをシリカが形成さ
れない酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）、また均熱帯の雰囲
気ガスを、鉄系酸化物が形成されない酸化度に制御して
焼鈍することにより、加熱帯、均熱帯のヒートサイクル
の適正領域が広い範囲で鋼板表面の酸化層制御と脱炭が
両立できることを見いだした。
を解決するために種々の実験を行い、脱炭焼鈍炉の加熱
帯と均熱帯の間をシールし、これらの炉帯の雰囲気を分
離すること、更に加熱帯の雰囲気ガスをシリカが形成さ
れない酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）、また均熱帯の雰囲
気ガスを、鉄系酸化物が形成されない酸化度に制御して
焼鈍することにより、加熱帯、均熱帯のヒートサイクル
の適正領域が広い範囲で鋼板表面の酸化層制御と脱炭が
両立できることを見いだした。
【０００９】すなわち、本発明の要旨は以下の通りであ
る。 （１） 質量で、Ｓｉ：０．８〜４．８％、Ｃ ：０．
００３〜０．１％含有する珪素鋼帯を冷延・脱炭焼鈍
後、焼鈍分離剤を塗布し仕上げ焼鈍を施す方向性珪素鋼
板の製造方法において、脱炭焼鈍炉の加熱帯と均熱帯の
間をシールしてこれらの雰囲気を分離し、更に加熱帯の
雰囲気ガスをシリカが形成されない酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）に、また均熱帯の雰囲気ガスを鉄系酸化物が形
成されない酸化度に制御して焼鈍することを特徴とする
鉄損の低い方向性珪素鋼板の製造方法。 （２） 脱炭焼鈍において、加熱帯の雰囲気ガスの酸化
度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2）を実質的にシリカが形成されな
い０．０００５以下とし、均熱帯の雰囲気ガスの酸化度
（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）を、鉄系酸化物が形成されない
０．０１以上０．１５以下として焼鈍することを特徴と
する前記（１）記載の鉄損の低い方向性珪素鋼板の製造
方法。 （３） 焼鈍分離剤として、アルミナを主成分として使
用する前記（１）または（２）記載の鉄損の低い方向性
珪素鋼板の製造方法。 （４） 焼鈍分離剤として、マグネシアを主成分として
使用する前記（１）または（２）記載の鉄損の低い方向
性珪素鋼板の製造方法。 （５） 方向性電磁鋼板の脱炭焼鈍炉において、加熱帯
と均熱帯の間に雰囲気シール装置を配設したことを特徴
とする脱炭焼鈍炉。
る。 （１） 質量で、Ｓｉ：０．８〜４．８％、Ｃ ：０．
００３〜０．１％含有する珪素鋼帯を冷延・脱炭焼鈍
後、焼鈍分離剤を塗布し仕上げ焼鈍を施す方向性珪素鋼
板の製造方法において、脱炭焼鈍炉の加熱帯と均熱帯の
間をシールしてこれらの雰囲気を分離し、更に加熱帯の
雰囲気ガスをシリカが形成されない酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）に、また均熱帯の雰囲気ガスを鉄系酸化物が形
成されない酸化度に制御して焼鈍することを特徴とする
鉄損の低い方向性珪素鋼板の製造方法。 （２） 脱炭焼鈍において、加熱帯の雰囲気ガスの酸化
度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2）を実質的にシリカが形成されな
い０．０００５以下とし、均熱帯の雰囲気ガスの酸化度
（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）を、鉄系酸化物が形成されない
０．０１以上０．１５以下として焼鈍することを特徴と
する前記（１）記載の鉄損の低い方向性珪素鋼板の製造
方法。 （３） 焼鈍分離剤として、アルミナを主成分として使
用する前記（１）または（２）記載の鉄損の低い方向性
珪素鋼板の製造方法。 （４） 焼鈍分離剤として、マグネシアを主成分として
使用する前記（１）または（２）記載の鉄損の低い方向
性珪素鋼板の製造方法。 （５） 方向性電磁鋼板の脱炭焼鈍炉において、加熱帯
と均熱帯の間に雰囲気シール装置を配設したことを特徴
とする脱炭焼鈍炉。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明者等は、珪素鋼板の脱炭挙動に対し、脱炭焼鈍初
期（加熱過程）で形成される酸化層が以降の脱炭挙動に
大きな影響を及ぼすものと考え、これに関連した種々の
実験を行った。
本発明者等は、珪素鋼板の脱炭挙動に対し、脱炭焼鈍初
期（加熱過程）で形成される酸化層が以降の脱炭挙動に
大きな影響を及ぼすものと考え、これに関連した種々の
実験を行った。
【００１１】質量で、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１４
％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａ
ｌ：０．０２８％、Ｎ：０．００８％の珪素鋼スラブを
１１５０℃で加熱した後、板厚１．６ｍｍに熱延した。
この熱延板を１１２０℃で２分間焼鈍した後、最終板厚
０．１５ｍｍに冷延した。この冷延板に脱炭焼鈍を施し
た。その際、脱炭設備の加熱帯と均熱帯の間をシール
し、これらの炉帯の雰囲気を分離した。
％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａ
ｌ：０．０２８％、Ｎ：０．００８％の珪素鋼スラブを
１１５０℃で加熱した後、板厚１．６ｍｍに熱延した。
この熱延板を１１２０℃で２分間焼鈍した後、最終板厚
０．１５ｍｍに冷延した。この冷延板に脱炭焼鈍を施し
た。その際、脱炭設備の加熱帯と均熱帯の間をシール
し、これらの炉帯の雰囲気を分離した。
【００１２】加熱帯の雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）：（１）０．０６及び（２）０．０００５の湿
潤ガス中で８３０℃まで加熱し、８３０℃で９０秒間、
酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）：０．０６の雰囲気ガス中
で脱炭焼鈍を施した。ここで、脱炭焼鈍の加熱時間とし
て、（１）３０秒（２８℃／秒）、（２）６０秒（１４
℃／秒）、（３）９０秒（９℃／秒）、（４）１２０秒
（７℃／秒）、（５）１８０秒（５℃／秒）の条件で焼
鈍を行った。
Ｐ H2 ）：（１）０．０６及び（２）０．０００５の湿
潤ガス中で８３０℃まで加熱し、８３０℃で９０秒間、
酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）：０．０６の雰囲気ガス中
で脱炭焼鈍を施した。ここで、脱炭焼鈍の加熱時間とし
て、（１）３０秒（２８℃／秒）、（２）６０秒（１４
℃／秒）、（３）９０秒（９℃／秒）、（４）１２０秒
（７℃／秒）、（５）１８０秒（５℃／秒）の条件で焼
鈍を行った。
【００１３】焼鈍後の炭素量を図１に示す。図１より、
雰囲気ガスの酸化度が０．０６の場合は、加熱速度９℃
／秒以上で鋼中炭素量が０．００３％以下になるが、雰
囲気ガスの酸化度が０．０００５の場合には、全ての加
熱速度で鋼中炭素量が０．００３％以下になることが分
かる。
雰囲気ガスの酸化度が０．０６の場合は、加熱速度９℃
／秒以上で鋼中炭素量が０．００３％以下になるが、雰
囲気ガスの酸化度が０．０００５の場合には、全ての加
熱速度で鋼中炭素量が０．００３％以下になることが分
かる。
【００１４】この原因は、加熱過程で鋼板表面に形成さ
れるシリカに依存するものと考えられる。即ち、脱炭焼
鈍の表面においては、一般に脱炭（鋼中炭素の酸化）反
応とシリカ形成（鋼中シリコンの酸化）反応が雰囲気の
水分に対して競合して行われている。鉄系酸化物が形成
しないような低酸化度雰囲気ガス中で焼鈍すると、一般
にシリカは稠密な膜状で生成し脱炭を阻害するが、加熱
速度を高めこのシリカ膜が全面を覆わないうちに脱炭反
応を開始させることにより、脱炭反応のサイトでのシリ
カ形成が抑制され、引き続いて脱炭反応が起こるものと
考えられる。
れるシリカに依存するものと考えられる。即ち、脱炭焼
鈍の表面においては、一般に脱炭（鋼中炭素の酸化）反
応とシリカ形成（鋼中シリコンの酸化）反応が雰囲気の
水分に対して競合して行われている。鉄系酸化物が形成
しないような低酸化度雰囲気ガス中で焼鈍すると、一般
にシリカは稠密な膜状で生成し脱炭を阻害するが、加熱
速度を高めこのシリカ膜が全面を覆わないうちに脱炭反
応を開始させることにより、脱炭反応のサイトでのシリ
カ形成が抑制され、引き続いて脱炭反応が起こるものと
考えられる。
【００１５】本発明は、加熱過程におけるシリカの形成
反応を雰囲気ガスの酸化度を下げることにより抑制し、
均熱過程に移行し脱炭反応を開始するものである。本実
験試料を加熱直後に引き出して、ＧＤＳ（glow dischar
ge spectroscopy ）等で表面分析を行った結果、雰囲気
ガスの酸化度が０．０６の場合には表面にシリカ層が形
成しているが、雰囲気の酸化度が０．０００５と低い場
合には表面のシリカ層が認められないことを確認した。
反応を雰囲気ガスの酸化度を下げることにより抑制し、
均熱過程に移行し脱炭反応を開始するものである。本実
験試料を加熱直後に引き出して、ＧＤＳ（glow dischar
ge spectroscopy ）等で表面分析を行った結果、雰囲気
ガスの酸化度が０．０６の場合には表面にシリカ層が形
成しているが、雰囲気の酸化度が０．０００５と低い場
合には表面のシリカ層が認められないことを確認した。
【００１６】この結果を基に、脱炭焼鈍温度の影響を調
べた。即ち、先述の冷延板を雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H
2 O ／Ｐ H2 ）：（１）０．０６及び（２）０．０００
５の湿潤ガス中で、加熱速度２８℃／秒で７４０〜９２
０℃の温度範囲で焼鈍を行った。焼鈍後の炭素量を図２
に示す。図２より、雰囲気ガスの酸化度が０．０６の場
合は焼鈍温度７７０〜８６０℃の範囲で鋼中炭素量が
０．００３％以下になるが、雰囲気ガスの酸化度が０．
０００５の場合には、全ての焼鈍温度で鋼中炭素量が
０．００３％以下になることが分かる。
べた。即ち、先述の冷延板を雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H
2 O ／Ｐ H2 ）：（１）０．０６及び（２）０．０００
５の湿潤ガス中で、加熱速度２８℃／秒で７４０〜９２
０℃の温度範囲で焼鈍を行った。焼鈍後の炭素量を図２
に示す。図２より、雰囲気ガスの酸化度が０．０６の場
合は焼鈍温度７７０〜８６０℃の範囲で鋼中炭素量が
０．００３％以下になるが、雰囲気ガスの酸化度が０．
０００５の場合には、全ての焼鈍温度で鋼中炭素量が
０．００３％以下になることが分かる。
【００１７】以上の結果より、脱炭焼鈍炉の加熱帯と均
熱帯の間をシールし、これらの各炉帯の雰囲気ガスを分
離すること、更に加熱帯の雰囲気ガスをシリカが形成さ
れない酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）、また均熱帯の雰囲
気ガスを、鉄系酸化物が形成されない酸化度に制御して
焼鈍することにより、鋼板表面の酸化層制御と脱炭を両
立可能な加熱帯、均熱帯のヒートサイクルの適正領域を
広げることが可能となった。
熱帯の間をシールし、これらの各炉帯の雰囲気ガスを分
離すること、更に加熱帯の雰囲気ガスをシリカが形成さ
れない酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）、また均熱帯の雰囲
気ガスを、鉄系酸化物が形成されない酸化度に制御して
焼鈍することにより、鋼板表面の酸化層制御と脱炭を両
立可能な加熱帯、均熱帯のヒートサイクルの適正領域を
広げることが可能となった。
【００１８】この様に、脱炭焼鈍の加熱帯で形成される
シリカの形成を雰囲気ガスの酸化度を制御して抑制する
ことにより、加熱帯、均熱帯のヒートサイクルの適正領
域が広い範囲で鋼板表面の酸化層と脱炭が両立できる。
加熱帯の雰囲気ガスの酸化度は、通常連続焼鈍で行う脱
炭焼鈍の加熱速度範囲（１℃／秒以上）においてシリカ
が実質的に形成されない０．０００５以下とすれば良
い。また均熱帯の雰囲気ガスは酸化度は、特開平７−２
７８６６８号号公報に記載があるような、０．０１以上
０．１５以下として焼鈍すれば良い。酸化度が０．１５
を超えた場合、製品の表面下に介在物が生成し、鉄損低
下の障害となる。また、酸化度が０．０１より低いと脱
炭速度が遅くなり、工業的に問題となる。
シリカの形成を雰囲気ガスの酸化度を制御して抑制する
ことにより、加熱帯、均熱帯のヒートサイクルの適正領
域が広い範囲で鋼板表面の酸化層と脱炭が両立できる。
加熱帯の雰囲気ガスの酸化度は、通常連続焼鈍で行う脱
炭焼鈍の加熱速度範囲（１℃／秒以上）においてシリカ
が実質的に形成されない０．０００５以下とすれば良
い。また均熱帯の雰囲気ガスは酸化度は、特開平７−２
７８６６８号号公報に記載があるような、０．０１以上
０．１５以下として焼鈍すれば良い。酸化度が０．１５
を超えた場合、製品の表面下に介在物が生成し、鉄損低
下の障害となる。また、酸化度が０．０１より低いと脱
炭速度が遅くなり、工業的に問題となる。
【００１９】以下、本発明の実施の形態を説明する。基
本的な製造法としては、磁束密度Ｂ8 が高い製品を製造
できる田口・坂倉等によるＡｌＮとＭｎＳを主インヒビ
ターとして用いる製造法（例えば特公昭４０−１５６４
４号公報）、または小松等による（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを主
インヒビターとして用いる製造法（例えば特公昭６２−
４５２８５号公報）を適用すれば良い。
本的な製造法としては、磁束密度Ｂ8 が高い製品を製造
できる田口・坂倉等によるＡｌＮとＭｎＳを主インヒビ
ターとして用いる製造法（例えば特公昭４０−１５６４
４号公報）、または小松等による（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを主
インヒビターとして用いる製造法（例えば特公昭６２−
４５２８５号公報）を適用すれば良い。
【００２０】次に、成分の限定理由について説明する。
Ｓｉは電気抵抗を高め、鉄損を下げる上で重要な元素で
ある。含有量が４．８％を超えると、冷間圧延時に材料
が割れ易くなり圧延不可能となる。一方、Ｓｉ量を下げ
ると仕上げ焼鈍時にα→γ変態を生じ、結晶の方向性が
損なわれるので、実質的に結晶の方向性に影響を及ぼさ
ない０．８％を下限とする。
Ｓｉは電気抵抗を高め、鉄損を下げる上で重要な元素で
ある。含有量が４．８％を超えると、冷間圧延時に材料
が割れ易くなり圧延不可能となる。一方、Ｓｉ量を下げ
ると仕上げ焼鈍時にα→γ変態を生じ、結晶の方向性が
損なわれるので、実質的に結晶の方向性に影響を及ぼさ
ない０．８％を下限とする。
【００２１】酸可溶性Ａｌは、Ｎと結合してＡｌＮまた
は（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎとしてインヒビターとして機能する
ために必須の元素である。磁束密度が高くなる０．０１
２〜０．０５０％を限定範囲とする。
は（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎとしてインヒビターとして機能する
ために必須の元素である。磁束密度が高くなる０．０１
２〜０．０５０％を限定範囲とする。
【００２２】Ｎは、製鋼時に０．０１％以上添加する
と、ブリスターとよばれる鋼板中の空孔を生じるので、
０．０１％を上限とする．
と、ブリスターとよばれる鋼板中の空孔を生じるので、
０．０１％を上限とする．
【００２３】他のインヒビター構成元素として、Ｂ，Ｂ
ｉ，Ｓｅ，Ｐｂ，Ｓｎ，Ｔｉ等を添加することもでき
る。
ｉ，Ｓｅ，Ｐｂ，Ｓｎ，Ｔｉ等を添加することもでき
る。
【００２４】Ｃは、残留すると製品特性（鉄損）の低下
を引き起こすので、０．００３％以下に抑えることが必
要とされている。しかしながら、製鋼段階でＣ量を低く
すると熱延板の結晶組織に粗大な｛１００｝伸長粒が存
在し、二次再結晶に悪影響を及ぼす。また、析出物や一
次再結晶集合組織制御の観点からも、Ｃはある程度製鋼
段階で添加することが必要である。従って、製鋼段階で
は０．００３％以上、好ましくはα／γ変態が生じる
０．０２％以上添加することが望ましい。一方、０．１
％より多く添加しても、上述の結晶組織、析出物等への
影響はほぼ飽和し、脱炭に必要な時間が長くなるので、
０．１％を上限とする。
を引き起こすので、０．００３％以下に抑えることが必
要とされている。しかしながら、製鋼段階でＣ量を低く
すると熱延板の結晶組織に粗大な｛１００｝伸長粒が存
在し、二次再結晶に悪影響を及ぼす。また、析出物や一
次再結晶集合組織制御の観点からも、Ｃはある程度製鋼
段階で添加することが必要である。従って、製鋼段階で
は０．００３％以上、好ましくはα／γ変態が生じる
０．０２％以上添加することが望ましい。一方、０．１
％より多く添加しても、上述の結晶組織、析出物等への
影響はほぼ飽和し、脱炭に必要な時間が長くなるので、
０．１％を上限とする。
【００２５】上記成分の溶鋼は、通常の工程により熱延
板とされるか、もしくは溶鋼を連続鋳造して薄帯とす
る。前記熱延板または連続鋳造薄帯は、直ちにもしくは
短時間焼鈍を経て冷間圧延される。上記焼鈍は７５０〜
１２００℃の温度域で３０秒〜３０分間行われ、この焼
鈍は製品の磁気特性を高めるために有効である。望む製
品の特性レベルとコストを勘案して採否を決めるとよ
い。冷間圧延は、基本的には特公昭４０−１５６４４号
公報に開示されているように、最終冷延圧下率８０％以
上とすれば良い。
板とされるか、もしくは溶鋼を連続鋳造して薄帯とす
る。前記熱延板または連続鋳造薄帯は、直ちにもしくは
短時間焼鈍を経て冷間圧延される。上記焼鈍は７５０〜
１２００℃の温度域で３０秒〜３０分間行われ、この焼
鈍は製品の磁気特性を高めるために有効である。望む製
品の特性レベルとコストを勘案して採否を決めるとよ
い。冷間圧延は、基本的には特公昭４０−１５６４４号
公報に開示されているように、最終冷延圧下率８０％以
上とすれば良い。
【００２６】冷間圧延後の材料は、鋼中に含まれる炭素
を除去するために湿水素雰囲気中で脱炭焼鈍を行う。脱
炭設備の加熱帯と均熱帯の間をシールし、これらの雰囲
気を分離すること、更に加熱帯の雰囲気ガスをシリカの
形成しない酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）、また均熱帯の
雰囲気ガスを、鉄系酸化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 、ＦｅＯ
等）の形成しない酸化度に制御して焼鈍すること、が本
発明のポイントである。
を除去するために湿水素雰囲気中で脱炭焼鈍を行う。脱
炭設備の加熱帯と均熱帯の間をシールし、これらの雰囲
気を分離すること、更に加熱帯の雰囲気ガスをシリカの
形成しない酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）、また均熱帯の
雰囲気ガスを、鉄系酸化物（Ｆｅ2 ＳｉＯ4 、ＦｅＯ
等）の形成しない酸化度に制御して焼鈍すること、が本
発明のポイントである。
【００２７】この温度域での脱炭終了後に、粒径調整の
ために更に高温で焼鈍する場合もある。この脱炭焼鈍板
に（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを主インヒビターとして用いる製造
法（例えば特公昭６２−４５２８５号公報）において
は、窒化処理を施す。この窒化処理の方法は特に限定す
るものではなく、アンモニア等の窒化能のある雰囲気ガ
ス中で行う方法等がある。量的には０．００５％以上、
望ましくは全窒素量として鋼中のＡｌ当量以上に窒化す
れば良い。
ために更に高温で焼鈍する場合もある。この脱炭焼鈍板
に（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎを主インヒビターとして用いる製造
法（例えば特公昭６２−４５２８５号公報）において
は、窒化処理を施す。この窒化処理の方法は特に限定す
るものではなく、アンモニア等の窒化能のある雰囲気ガ
ス中で行う方法等がある。量的には０．００５％以上、
望ましくは全窒素量として鋼中のＡｌ当量以上に窒化す
れば良い。
【００２８】これらの脱炭焼鈍板を積層する際に、シリ
カと反応し難いアルミナを主成分とする焼鈍分離剤を水
スラリーもしくは静電塗布法等により塗布することによ
り、仕上げ焼鈍後の表面を鏡面状に仕上げ、鉄損を大き
く低下させることができる。また、従来のようにマグネ
シアを主成分とする焼鈍分離剤を水スラリーで塗布する
か、もしくは静電塗布法等によりドライ・コートするこ
とも有効である。この場合は、焼鈍分離剤としてアルミ
ナを用いた場合のように表面は鏡面にならないが、表面
グラス被膜の凸凹を低減し、鉄損を従来製品よりも低下
させることができる。
カと反応し難いアルミナを主成分とする焼鈍分離剤を水
スラリーもしくは静電塗布法等により塗布することによ
り、仕上げ焼鈍後の表面を鏡面状に仕上げ、鉄損を大き
く低下させることができる。また、従来のようにマグネ
シアを主成分とする焼鈍分離剤を水スラリーで塗布する
か、もしくは静電塗布法等によりドライ・コートするこ
とも有効である。この場合は、焼鈍分離剤としてアルミ
ナを用いた場合のように表面は鏡面にならないが、表面
グラス被膜の凸凹を低減し、鉄損を従来製品よりも低下
させることができる。
【００２９】この積層した脱炭焼鈍板を仕上げ焼鈍し
て、二次再結晶と窒化物等の純化を行う。二次再結晶は
特開平２−２５８９２９号公報に開示される様に、一定
の温度で保持する等の手段により所定の温度域で行うこ
とは、磁束密度を上げるうえで有効である。二次再結晶
完了後、窒化物等の純化を行うために、１００％水素で
１１００℃以上の温度で焼鈍する。仕上げ焼鈍後、表面
に張力コーテイング処理を行い、必要に応じてレーザー
照射等の磁区細分化処理を施せば良い。
て、二次再結晶と窒化物等の純化を行う。二次再結晶は
特開平２−２５８９２９号公報に開示される様に、一定
の温度で保持する等の手段により所定の温度域で行うこ
とは、磁束密度を上げるうえで有効である。二次再結晶
完了後、窒化物等の純化を行うために、１００％水素で
１１００℃以上の温度で焼鈍する。仕上げ焼鈍後、表面
に張力コーテイング処理を行い、必要に応じてレーザー
照射等の磁区細分化処理を施せば良い。
【００３０】
【実施例】（実施例１）質量で、Ｓｉ：３．３％、Ｍ
ｎ：０．１４％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、
酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：０．００８％含有す
る珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した後、板厚２．０
ｍｍに熱延した。この熱延板を１１２０℃で２分間焼鈍
した後、最終板厚０．１４ｍｍに冷延した。この冷延板
に脱炭焼鈍を施した。その際、脱炭設備の加熱帯と均熱
帯の間をシールし、これらの炉帯の雰囲気を分離した。
ｎ：０．１４％、Ｃ：０．０５％、Ｓ：０．００７％、
酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：０．００８％含有す
る珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した後、板厚２．０
ｍｍに熱延した。この熱延板を１１２０℃で２分間焼鈍
した後、最終板厚０．１４ｍｍに冷延した。この冷延板
に脱炭焼鈍を施した。その際、脱炭設備の加熱帯と均熱
帯の間をシールし、これらの炉帯の雰囲気を分離した。
【００３１】加熱帯の雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）を、（１）０．０００２、（２）０．０００
５、（３）０．００１４、（４）０．００８、（５）
０．０６と変化させた湿潤ガス中で、５℃／秒の加熱速
度で８３０℃まで加熱し、均熱帯では８３０℃で１１０
秒間、酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）：０．１２の雰囲気
ガス中で脱炭焼鈍を施した。焼鈍後の炭素量を表１に示
す。表１から、加熱帯の酸化度が０．０００５以下で３
０ppm 以下の炭素量になっていることが分かる。
Ｐ H2 ）を、（１）０．０００２、（２）０．０００
５、（３）０．００１４、（４）０．００８、（５）
０．０６と変化させた湿潤ガス中で、５℃／秒の加熱速
度で８３０℃まで加熱し、均熱帯では８３０℃で１１０
秒間、酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）：０．１２の雰囲気
ガス中で脱炭焼鈍を施した。焼鈍後の炭素量を表１に示
す。表１から、加熱帯の酸化度が０．０００５以下で３
０ppm 以下の炭素量になっていることが分かる。
【００３２】
【表１】
【００３３】（実施例２）質量で、Ｓｉ：３．３％、Ｍ
ｎ：０．１％、Ｃ：０．０６％、Ｓ：０．００７％、酸
可溶性Ａｌ：０．０３％、Ｎ：０．００８％、Ｓｎ：
０．０５％含有する珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱し
た後、板厚２．０ｍｍの熱延板とした。この熱延板を１
１００℃で２分間焼鈍した後、最終板厚０．２２ｍｍに
冷延した。この冷延板を（１）加熱帯酸化度（Ｐ H2 O
／Ｐ H2 ）：０．０００５で８２０℃まで加熱速度２８
℃／秒で加熱し、均熱帯では８３０℃で酸化度（Ｐ H2
O／Ｐ H2 ）：０．１２で１１０秒間焼鈍した。また比
較例として、（２）加熱帯及び均熱帯の酸化度（Ｐ H2
O ／Ｐ H2 ）：０．３３（従来法）で加熱速度２８℃／
秒で加熱し、８３０℃で１１０秒間焼鈍した。
ｎ：０．１％、Ｃ：０．０６％、Ｓ：０．００７％、酸
可溶性Ａｌ：０．０３％、Ｎ：０．００８％、Ｓｎ：
０．０５％含有する珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱し
た後、板厚２．０ｍｍの熱延板とした。この熱延板を１
１００℃で２分間焼鈍した後、最終板厚０．２２ｍｍに
冷延した。この冷延板を（１）加熱帯酸化度（Ｐ H2 O
／Ｐ H2 ）：０．０００５で８２０℃まで加熱速度２８
℃／秒で加熱し、均熱帯では８３０℃で酸化度（Ｐ H2
O／Ｐ H2 ）：０．１２で１１０秒間焼鈍した。また比
較例として、（２）加熱帯及び均熱帯の酸化度（Ｐ H2
O ／Ｐ H2 ）：０．３３（従来法）で加熱速度２８℃／
秒で加熱し、８３０℃で１１０秒間焼鈍した。
【００３４】これらの鋼板をその後、一部はアルミナ
（Ａｌ2 Ｏ3 ）を、一部は従来のようにマグネシア（Ｍ
ｇＯ）を主成分とする焼鈍分離剤を水スラリーで塗布し
た後、仕上げ焼鈍を施した。これらの試料を張力コーテ
イング処理を施した後、レーザー照射して磁区細分化し
た。得られた製品の磁気特性を表２に示す。表２から、
本発明例は優れた磁気特性を有していることが分かる。
（Ａｌ2 Ｏ3 ）を、一部は従来のようにマグネシア（Ｍ
ｇＯ）を主成分とする焼鈍分離剤を水スラリーで塗布し
た後、仕上げ焼鈍を施した。これらの試料を張力コーテ
イング処理を施した後、レーザー照射して磁区細分化し
た。得られた製品の磁気特性を表２に示す。表２から、
本発明例は優れた磁気特性を有していることが分かる。
【００３５】
【表２】
【００３６】（実施例３）質量で、Ｓｉ：３．２％、Ｍ
ｎ：０．０７％、Ｃ：０．０８％、Ｓ：０．０２５％、
酸可溶性Ａｌ：０．０２６％、Ｎ：０．００８％、Ｓ
ｎ：０．１２％、Ｃｕ：０．１％含有する珪素鋼スラブ
を１３５０℃で加熱した後、板厚２．３ｍｍの熱延板と
した。この熱延板を１１２０℃で２分間焼鈍した後、最
終板厚０．２２ｍｍに冷延した。この冷延板に脱炭焼鈍
を施した。その際、脱炭設備の加熱帯と均熱帯の間をシ
ールし、これらの炉帯の雰囲気を分離した。
ｎ：０．０７％、Ｃ：０．０８％、Ｓ：０．０２５％、
酸可溶性Ａｌ：０．０２６％、Ｎ：０．００８％、Ｓ
ｎ：０．１２％、Ｃｕ：０．１％含有する珪素鋼スラブ
を１３５０℃で加熱した後、板厚２．３ｍｍの熱延板と
した。この熱延板を１１２０℃で２分間焼鈍した後、最
終板厚０．２２ｍｍに冷延した。この冷延板に脱炭焼鈍
を施した。その際、脱炭設備の加熱帯と均熱帯の間をシ
ールし、これらの炉帯の雰囲気を分離した。
【００３７】加熱帯の雰囲気ガスの酸化度（Ｐ H2 O ／
Ｐ H2 ）を、（１）０．０００２、（２）０．０００
５、（３）０．００１４、（４）０．００８、（５）
０．０６と変化させた湿潤ガス中で、５℃／秒の加熱速
度で８３０℃まで加熱し、均熱帯では８３０℃で１５０
秒間、酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）：０．１４の雰囲気
ガス中で脱炭焼鈍を施した。焼鈍後の炭素量を表３に示
す。表３から、加熱帯の酸化度が０．０００５以下で３
０ppm 以下の炭素量になっていることが分かる。
Ｐ H2 ）を、（１）０．０００２、（２）０．０００
５、（３）０．００１４、（４）０．００８、（５）
０．０６と変化させた湿潤ガス中で、５℃／秒の加熱速
度で８３０℃まで加熱し、均熱帯では８３０℃で１５０
秒間、酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）：０．１４の雰囲気
ガス中で脱炭焼鈍を施した。焼鈍後の炭素量を表３に示
す。表３から、加熱帯の酸化度が０．０００５以下で３
０ppm 以下の炭素量になっていることが分かる。
【００３８】
【表３】
【００３９】（実施例４）実施例３の脱炭板にアルミナ
を主成分とする焼鈍分離剤を、水スラリー状で塗布した
後、仕上げ焼鈍を施した。これらの試料を張力コーテイ
ング処理を施した後、レーザー照射して磁区細分化し
た。得られた製品の磁気特性を表４に示す。本発明の条
件範囲において低鉄損化が達成されることが分かる。
を主成分とする焼鈍分離剤を、水スラリー状で塗布した
後、仕上げ焼鈍を施した。これらの試料を張力コーテイ
ング処理を施した後、レーザー照射して磁区細分化し
た。得られた製品の磁気特性を表４に示す。本発明の条
件範囲において低鉄損化が達成されることが分かる。
【００４０】
【表４】
【００４１】
【発明の効果】本発明により、製品の表面を効果的に仕
上げることで、従来製品よりも低い鉄損の方向性電磁鋼
板をコストアップすることなく製造することができる。
即ち脱炭焼鈍工程において、鋼板表面の酸化層制御と脱
炭が広い範囲のヒートサイクルで両立でき、脱炭焼鈍の
操業安定化または一次再結晶組織の適正化により、製品
の磁気特性を顕著に改善することができる。
上げることで、従来製品よりも低い鉄損の方向性電磁鋼
板をコストアップすることなく製造することができる。
即ち脱炭焼鈍工程において、鋼板表面の酸化層制御と脱
炭が広い範囲のヒートサイクルで両立でき、脱炭焼鈍の
操業安定化または一次再結晶組織の適正化により、製品
の磁気特性を顕著に改善することができる。
【図１】脱炭焼鈍時の加熱速度と脱炭焼鈍後の炭素残留
量の関係を示す図である。
量の関係を示す図である。
【図２】脱炭焼鈍時の焼鈍温度と脱炭焼鈍後の炭素残留
量の関係を示す図である。
量の関係を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤井 浩康 北九州市戸畑区飛幡町１−１ 新日本製鐵 株式会社八幡製鐵所内 (72)発明者 村上 健一 北九州市戸畑区飛幡町１−１ 新日本製鐵 株式会社八幡製鐵所内 Ｆターム(参考） 4K033 JA04 LA01 SA02 TA02 UA02
Claims (5)
- 【請求項１】 質量で、 Ｓｉ：０．８〜４．８％、 Ｃ ：０．００３〜０．１％ 含有する珪素鋼帯を冷延・脱炭焼鈍後、焼鈍分離剤を塗
布し仕上げ焼鈍を施す方向性珪素鋼板の製造方法におい
て、脱炭焼鈍炉の加熱帯と均熱帯の間をシールしてこれ
らの雰囲気を分離し、更に加熱帯の雰囲気ガスをシリカ
が形成されない酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）に、また均
熱帯の雰囲気ガスを鉄系酸化物が形成されない酸化度に
制御して焼鈍することを特徴とする鉄損の低い方向性珪
素鋼板の製造方法。 - 【請求項２】 脱炭焼鈍において、加熱帯の雰囲気ガス
の酸化度（Ｐ H2 O／Ｐ H2 ）を実質的にシリカが形成
されない０．０００５以下とし、均熱帯の雰囲気ガスの
酸化度（Ｐ H2 O ／Ｐ H2 ）を、鉄系酸化物が形成され
ない０．０１以上０．１５以下として焼鈍することを特
徴とする請求項１記載の鉄損の低い方向性珪素鋼板の製
造方法。 - 【請求項３】 焼鈍分離剤として、アルミナを主成分と
して使用する請求項１または２記載の鉄損の低い方向性
珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項４】 焼鈍分離剤として、マグネシアを主成分
として使用する請求項１または２記載の鉄損の低い方向
性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項５】 方向性電磁鋼板の脱炭焼鈍炉において、
加熱帯と均熱帯の間に雰囲気シール装置を配設したこと
を特徴とする脱炭焼鈍炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000366918A JP4331886B2 (ja) | 2000-12-01 | 2000-12-01 | 方向性珪素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000366918A JP4331886B2 (ja) | 2000-12-01 | 2000-12-01 | 方向性珪素鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002173715A true JP2002173715A (ja) | 2002-06-21 |
| JP4331886B2 JP4331886B2 (ja) | 2009-09-16 |
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ID=18837456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000366918A Expired - Fee Related JP4331886B2 (ja) | 2000-12-01 | 2000-12-01 | 方向性珪素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4331886B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008126911A1 (ja) | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Nippon Steel Corporation | キュリー点を有する鋼帯の連続焼鈍方法および連続焼鈍設備 |
| WO2020012666A1 (ja) | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板及びその製造方法 |
| WO2020149344A1 (ja) | 2019-01-16 | 2020-07-23 | 日本製鉄株式会社 | フォルステライト皮膜を有しない絶縁皮膜密着性に優れる方向性電磁鋼板 |
| WO2020149348A1 (ja) | 2019-01-16 | 2020-07-23 | 日本製鉄株式会社 | 一方向性電磁鋼板の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| BR112021013639A2 (pt) * | 2019-01-16 | 2021-09-14 | Nippon Steel Corporation | Método para fabricar uma chapa de aço elétrico com grão orientado |
| KR102579761B1 (ko) * | 2019-01-16 | 2023-09-19 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 방향성 전자 강판의 제조 방법 |
-
2000
- 2000-12-01 JP JP2000366918A patent/JP4331886B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008126911A1 (ja) | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Nippon Steel Corporation | キュリー点を有する鋼帯の連続焼鈍方法および連続焼鈍設備 |
| WO2020012666A1 (ja) | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 日本製鉄株式会社 | 方向性電磁鋼板及びその製造方法 |
| KR20210018433A (ko) | 2018-07-13 | 2021-02-17 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 방향성 전자 강판 및 그의 제조 방법 |
| WO2020149344A1 (ja) | 2019-01-16 | 2020-07-23 | 日本製鉄株式会社 | フォルステライト皮膜を有しない絶縁皮膜密着性に優れる方向性電磁鋼板 |
| WO2020149348A1 (ja) | 2019-01-16 | 2020-07-23 | 日本製鉄株式会社 | 一方向性電磁鋼板の製造方法 |
| KR20210110681A (ko) | 2019-01-16 | 2021-09-08 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 포르스테라이트 피막을 갖지 않는 절연 피막 밀착성이 우수한 방향성 전자 강판 |
| KR20210110866A (ko) | 2019-01-16 | 2021-09-09 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 일방향성 전자 강판의 제조 방법 |
| US11952646B2 (en) | 2019-01-16 | 2024-04-09 | Nippon Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet having excellent insulation coating adhesion without forsterite coating |
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|---|---|
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