JP2002164415A - 回転式基板処理装置およびその位置決め方法 - Google Patents
回転式基板処理装置およびその位置決め方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板を支持して回転する基板支持台の位置決
めを高精度に行いうる回転式基板処理装置及び基板の位
置決め方法を提供する。 【解決手段】 回転軸３と、回転軸３の回転駆動手段４
と、回転軸３の上端回りに設けられ、その外径が少なく
とも基板１の対角線よりも大きい円板形状を呈し、基板
１を載置して回転軸３とともに回転軸３の軸心３０を中
心に水平回転する基板支持台２と、基板支持台２の外周
に設けられた凹部６に係合して基板支持台２を所定の角
度位置Ｐに位置決めする位置決め手段５とからなる。位
置決め手段５は、さらに、凹部６に係合する係合体７
と、係合体７を基板支持台２の外方から凹部６に向けて
進出させる係合体駆動手段８を備えており、係合体駆動
手段８は係合体７の進出位置Ｐ１、Ｐ２を多段階に変更
可能である。
めを高精度に行いうる回転式基板処理装置及び基板の位
置決め方法を提供する。 【解決手段】 回転軸３と、回転軸３の回転駆動手段４
と、回転軸３の上端回りに設けられ、その外径が少なく
とも基板１の対角線よりも大きい円板形状を呈し、基板
１を載置して回転軸３とともに回転軸３の軸心３０を中
心に水平回転する基板支持台２と、基板支持台２の外周
に設けられた凹部６に係合して基板支持台２を所定の角
度位置Ｐに位置決めする位置決め手段５とからなる。位
置決め手段５は、さらに、凹部６に係合する係合体７
と、係合体７を基板支持台２の外方から凹部６に向けて
進出させる係合体駆動手段８を備えており、係合体駆動
手段８は係合体７の進出位置Ｐ１、Ｐ２を多段階に変更
可能である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体（シリコ
ン）ウエハ、液晶ガラス基板、フォトマスク用ガラス基
板、光ディスク用基板などの基板を回転させながら、そ
の上面及び／又は下面に各種処理液を供給して処理を行
う回転式基板処理装置及びその位置決め方法に関する。
ン）ウエハ、液晶ガラス基板、フォトマスク用ガラス基
板、光ディスク用基板などの基板を回転させながら、そ
の上面及び／又は下面に各種処理液を供給して処理を行
う回転式基板処理装置及びその位置決め方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、液晶基板を構成するＴＦＴ基
板は、種々の工程を経て製造されるが、そのうち、基板
の表面に回路パターンを形成するには、現像液やレジス
ト膜の塗布、剥離等、各種処理が繰り返し行われる。ま
た、そのような処理の前後や処理中などには基板の洗浄
が繰り返し行なわれる。そのため、処理能率や、薬液塗
布の均一性などを考慮して、基板を水平に支持した状態
で回転させながら処理を行なえる基板回転式の処理装置
が一般に使用されている。
板は、種々の工程を経て製造されるが、そのうち、基板
の表面に回路パターンを形成するには、現像液やレジス
ト膜の塗布、剥離等、各種処理が繰り返し行われる。ま
た、そのような処理の前後や処理中などには基板の洗浄
が繰り返し行なわれる。そのため、処理能率や、薬液塗
布の均一性などを考慮して、基板を水平に支持した状態
で回転させながら処理を行なえる基板回転式の処理装置
が一般に使用されている。
【０００３】このような回転式の基板処理装置では、一
般に、ロボットによる搬入が行なわれ、円板形状の基板
支持台の所定位置に基板を載置する。そののち、基板支
持台は水平に回転し、各種処理が行なわれたあと、再び
ロボットによる搬出が行なわれる。この基板支持台の上
面には、基板を浮かせた状態で撓まないように支持する
ため、適宜の間隔で基板の裏面に接する支持ピンや、支
持ピンよりも少し長く、基板の外縁に当接することによ
って水平方向から基板を拘束し基板に回転力を伝達する
ガイドピンなどが設けられている。したがって、ロボッ
トに対する基板の授受のために、基板支持台は所定の角
度位置に正確に位置決めされる必要がある。
般に、ロボットによる搬入が行なわれ、円板形状の基板
支持台の所定位置に基板を載置する。そののち、基板支
持台は水平に回転し、各種処理が行なわれたあと、再び
ロボットによる搬出が行なわれる。この基板支持台の上
面には、基板を浮かせた状態で撓まないように支持する
ため、適宜の間隔で基板の裏面に接する支持ピンや、支
持ピンよりも少し長く、基板の外縁に当接することによ
って水平方向から基板を拘束し基板に回転力を伝達する
ガイドピンなどが設けられている。したがって、ロボッ
トに対する基板の授受のために、基板支持台は所定の角
度位置に正確に位置決めされる必要がある。
【０００４】そのような位置決めを行なう手段として、
基板支持台を回転駆動する駆動手段にサーボ機構を設け
たものや、基板支持台の中央に連結されている回転軸に
凹部を設けて、それに固定ピンを嵌入する構成のものが
ある。
基板支持台を回転駆動する駆動手段にサーボ機構を設け
たものや、基板支持台の中央に連結されている回転軸に
凹部を設けて、それに固定ピンを嵌入する構成のものが
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、サーボ
機構による位置決め手段では停止時に微少な振動が生じ
やすく、固定ピンによる位置決め手段では、嵌め合いの
ために高精度に位置決めができないという問題がある。
このような問題は、近年、基板の大型化が進行するにつ
れて深刻なものとなってきている。すなわち、基板の大
型化によって基板の外縁が回転中心より遠ざかるにつれ
て、従来の位置決め手段における周方向のずれが拡大さ
れる。そこで、サーボ機構の分解能を上げ、比較修正動
作の間隔を小さくして停止角度の位置制御の精度をあげ
ようとすると、停止時の追従動作の振動が大きくなり、
載置されている基板に損傷を与えるおそれが生じる。一
方、回転軸を固定ピンで固定する方法では、もともと、
嵌入動作のために凹部との間にある程度の隙間が必要で
あり、回転中心より遠い位置での周方向の誤差を小さく
しようとすることは構造上できない。こうして位置決め
にずれのある基板支持台に対して、ロボットが基板を載
置しようとすると基板がガイドピンの頭部に当たって損
壊するなど、重大な問題が引き起こされる。
機構による位置決め手段では停止時に微少な振動が生じ
やすく、固定ピンによる位置決め手段では、嵌め合いの
ために高精度に位置決めができないという問題がある。
このような問題は、近年、基板の大型化が進行するにつ
れて深刻なものとなってきている。すなわち、基板の大
型化によって基板の外縁が回転中心より遠ざかるにつれ
て、従来の位置決め手段における周方向のずれが拡大さ
れる。そこで、サーボ機構の分解能を上げ、比較修正動
作の間隔を小さくして停止角度の位置制御の精度をあげ
ようとすると、停止時の追従動作の振動が大きくなり、
載置されている基板に損傷を与えるおそれが生じる。一
方、回転軸を固定ピンで固定する方法では、もともと、
嵌入動作のために凹部との間にある程度の隙間が必要で
あり、回転中心より遠い位置での周方向の誤差を小さく
しようとすることは構造上できない。こうして位置決め
にずれのある基板支持台に対して、ロボットが基板を載
置しようとすると基板がガイドピンの頭部に当たって損
壊するなど、重大な問題が引き起こされる。
【０００６】そこで、本発明は、基板を所定の角度位置
に高精度に位置決めすることができる回転式基板処理装
置およびその位置決め方法を提供することを目的として
おり、とくに、基板の大型化に際して有効に効力を発揮
し得る回転式基板処理装置およびその位置決め方法を提
供することを目的とする。
に高精度に位置決めすることができる回転式基板処理装
置およびその位置決め方法を提供することを目的として
おり、とくに、基板の大型化に際して有効に効力を発揮
し得る回転式基板処理装置およびその位置決め方法を提
供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその効果】本発明の回
転式基板処理装置は、前記目的を達成するために、回転
軸と、該回転軸の回転駆動手段と、前記回転軸の上端回
りに設けられ、その外径が少なくとも基板の対角線より
も大きい円板形状を呈し、当該基板を載置して前記回転
軸とともに当該回転軸の軸心を中心に水平回転する基板
支持台と、前記基板支持台の外周に設けられた被係合
部、及び前記基板支持台の近傍に設けられた係合部材を
備えてなり、前記係合部材を前記被係合部に係合させる
ことにより、前記基板支持台を所定角度位置に位置決め
する位置決め手段とを設けて構成したことを特徴として
いる。
転式基板処理装置は、前記目的を達成するために、回転
軸と、該回転軸の回転駆動手段と、前記回転軸の上端回
りに設けられ、その外径が少なくとも基板の対角線より
も大きい円板形状を呈し、当該基板を載置して前記回転
軸とともに当該回転軸の軸心を中心に水平回転する基板
支持台と、前記基板支持台の外周に設けられた被係合
部、及び前記基板支持台の近傍に設けられた係合部材を
備えてなり、前記係合部材を前記被係合部に係合させる
ことにより、前記基板支持台を所定角度位置に位置決め
する位置決め手段とを設けて構成したことを特徴として
いる。
【０００８】この装置では、基板支持台の外周が、載置
された基板の外縁よりも外側に位置しており、この外周
およびその近辺に被係合部と係合部材とを有する位置決
め手段を設けたので、大きな基板であっても精度よく、
所定の角度位置に位置決めすることができる。
された基板の外縁よりも外側に位置しており、この外周
およびその近辺に被係合部と係合部材とを有する位置決
め手段を設けたので、大きな基板であっても精度よく、
所定の角度位置に位置決めすることができる。
【０００９】請求項２に係る発明は、請求項１に記載の
発明に加えて、前記位置決め手段が、前記基板支持台の
外周に形成された凹部と、前記基板支持台の近傍に配設
され、前記凹部に対し進退可能に設けられた係合体と、
前記係合体を前記凹部に向けて進出させ、前記凹部と前
記係合体とを係合せしめる係合体駆動手段からなるもの
である。
発明に加えて、前記位置決め手段が、前記基板支持台の
外周に形成された凹部と、前記基板支持台の近傍に配設
され、前記凹部に対し進退可能に設けられた係合体と、
前記係合体を前記凹部に向けて進出させ、前記凹部と前
記係合体とを係合せしめる係合体駆動手段からなるもの
である。
【００１０】請求項１に記載の被係合部と係合部材の組
み合わせとして、凹部と係合体を挙げることができる。
凹部としては、その開口部が外径方向、上方、下方、い
ずれを向いているものでも可能であり、係合体もこれに
対応して、外径方向から内径方向に向けて、下方から上
方に向けて、または、上方から下方に向けて、いずれか
の方向に進出するよう構成される。また、凹部は、外周
に適宜な間隔を空けて複数設けられていることが好まし
く、そうすることによって所定の角度位置を複数設定す
ることができる。係合体も同様に複数設けてもよい。
み合わせとして、凹部と係合体を挙げることができる。
凹部としては、その開口部が外径方向、上方、下方、い
ずれを向いているものでも可能であり、係合体もこれに
対応して、外径方向から内径方向に向けて、下方から上
方に向けて、または、上方から下方に向けて、いずれか
の方向に進出するよう構成される。また、凹部は、外周
に適宜な間隔を空けて複数設けられていることが好まし
く、そうすることによって所定の角度位置を複数設定す
ることができる。係合体も同様に複数設けてもよい。
【００１１】請求項３に係る発明は、請求項２に記載の
発明に加えて、前記係合体駆動手段が、前記基板支持台
の径方向外方から中心に向かって進出させるように前記
係合体を支持するロッドと、該ロッドを進退させる直線
駆動機構とを備えるものであり、前記直線駆動機構のロ
ッド摺動部にロッドの直進性を高めるためのガイドを備
えてなるものである。
発明に加えて、前記係合体駆動手段が、前記基板支持台
の径方向外方から中心に向かって進出させるように前記
係合体を支持するロッドと、該ロッドを進退させる直線
駆動機構とを備えるものであり、前記直線駆動機構のロ
ッド摺動部にロッドの直進性を高めるためのガイドを備
えてなるものである。
【００１２】この構成によると、係合体はガイドによっ
て直進性が向上するので、凹部との係合位置が正確に所
定角度位置となり、さらに高精度な位置決めを実現でき
る。直進駆動手段としては、従来からあるシリンダ、ロ
ッドレスシリンダなど流体圧によるもののほか、電動モ
ータによるものでも、ロッドを直進させうるものを適宜
利用することができる。
て直進性が向上するので、凹部との係合位置が正確に所
定角度位置となり、さらに高精度な位置決めを実現でき
る。直進駆動手段としては、従来からあるシリンダ、ロ
ッドレスシリンダなど流体圧によるもののほか、電動モ
ータによるものでも、ロッドを直進させうるものを適宜
利用することができる。
【００１３】請求項４に記載の発明では、請求項３に記
載の発明に加えて、前記基板支持台が、処理される基板
に合わせて大きさを変更可能であり、前記係合体駆動手
段が、前記係合体の進出位置を、変更された前記基板支
持台の外径に合わせて多段階に変化させうるように構成
されているものである。
載の発明に加えて、前記基板支持台が、処理される基板
に合わせて大きさを変更可能であり、前記係合体駆動手
段が、前記係合体の進出位置を、変更された前記基板支
持台の外径に合わせて多段階に変化させうるように構成
されているものである。
【００１４】大きさの異なる基板への変更にも容易に対
応できる。
応できる。
【００１５】請求項５に係る発明は、請求項４に記載の
発明に加えて、前記係合体駆動手段が、複数の直線駆動
機構を、それぞれ他の直線駆動機構を進退させるように
直列的に組み合わせ、各直線駆動機構のストロークで前
記係合体の進出位置を多段階に制御させるよう構成され
てなるものである。
発明に加えて、前記係合体駆動手段が、複数の直線駆動
機構を、それぞれ他の直線駆動機構を進退させるように
直列的に組み合わせ、各直線駆動機構のストロークで前
記係合体の進出位置を多段階に制御させるよう構成され
てなるものである。
【００１６】この発明では、たとえば、係合体を支持す
るロッドを駆動する直線駆動機構を第１直線駆動機構と
し、さらにこの第１直線駆動機構を進退させる第２直線
駆動機構を、第１直線駆動機構のストロークの向きと第
２直線駆動機構のストロークの向きとが一致し直列とな
るように設けることによって、第１、第２直線駆動機構
のストロークで係合体の進出位置を２段階制御すること
ができる。さらに、第３、第４・・の直線駆動機構を同
様に直列に設けることによって３段階以上の多段階制御
を容易に行なうことができる。
るロッドを駆動する直線駆動機構を第１直線駆動機構と
し、さらにこの第１直線駆動機構を進退させる第２直線
駆動機構を、第１直線駆動機構のストロークの向きと第
２直線駆動機構のストロークの向きとが一致し直列とな
るように設けることによって、第１、第２直線駆動機構
のストロークで係合体の進出位置を２段階制御すること
ができる。さらに、第３、第４・・の直線駆動機構を同
様に直列に設けることによって３段階以上の多段階制御
を容易に行なうことができる。
【００１７】請求項６に係る本発明は、回転軸と、該回
転軸の回転駆動手段と、前記回転軸の上端回りに設けら
れ、その外径が少なくとも基板の対角線よりも大きい円
板形状を呈し、当該基板を載置して前記回転軸とともに
当該回転軸の軸心を中心に水平回転する基板支持台と、
前記基板支持台の外周に設けられた被係合部、及び前記
基板支持台の近傍に設けられた係合部材とを備えてな
り、前記係合部材を前記被係合部に係合させることによ
り、前記基板支持台を所定角度位置に位置決めする位置
決め手段とを設けて構成された回転式基板処理装置の位
置決め方法であって、前記回転駆動手段を制御して、前
記基板支持台を略所定の角度位置に停止させたあと回転
自在になし、その後、前記位置決め手段を用いて所定の
角度位置に位置決めすることを特徴としている。
転軸の回転駆動手段と、前記回転軸の上端回りに設けら
れ、その外径が少なくとも基板の対角線よりも大きい円
板形状を呈し、当該基板を載置して前記回転軸とともに
当該回転軸の軸心を中心に水平回転する基板支持台と、
前記基板支持台の外周に設けられた被係合部、及び前記
基板支持台の近傍に設けられた係合部材とを備えてな
り、前記係合部材を前記被係合部に係合させることによ
り、前記基板支持台を所定角度位置に位置決めする位置
決め手段とを設けて構成された回転式基板処理装置の位
置決め方法であって、前記回転駆動手段を制御して、前
記基板支持台を略所定の角度位置に停止させたあと回転
自在になし、その後、前記位置決め手段を用いて所定の
角度位置に位置決めすることを特徴としている。
【００１８】この発明では、たとえば、回転駆動手段と
してサーボ機構を有するモータなどを適用することによ
って、所定の角度位置に停止させるよう制御する。この
とき、回転軸に振動が生じる前に回転自在な状態とする
ことによって、振動の発生を防ぐことができる。しか
し、実際の停止位置は、所定の角度位置よりわずかにず
れた略所定の角度位置であるので、その後、位置決め手
段を駆動して、所定の位置に位置決めする。この方法に
より、基板支持台は振動することなく滑らかに停止し高
精度に所定の角度位置に位置決めされる。
してサーボ機構を有するモータなどを適用することによ
って、所定の角度位置に停止させるよう制御する。この
とき、回転軸に振動が生じる前に回転自在な状態とする
ことによって、振動の発生を防ぐことができる。しか
し、実際の停止位置は、所定の角度位置よりわずかにず
れた略所定の角度位置であるので、その後、位置決め手
段を駆動して、所定の位置に位置決めする。この方法に
より、基板支持台は振動することなく滑らかに停止し高
精度に所定の角度位置に位置決めされる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を説明す
る。図１は、本発明の基板処理装置の一実施形態の正面
図であり、図２はその平面図、図３は、要部の平面図と
動作図である。
る。図１は、本発明の基板処理装置の一実施形態の正面
図であり、図２はその平面図、図３は、要部の平面図と
動作図である。
【００２０】図１において、本発明の回転式基板処理装
置は、基板１を支持する基板支持台２を中心にして、基
板支持台２を支持する回転軸３、回転駆動手段４、基板
支持台２上にあって各種処理液を基板１に供給する手段
（図示せず）、基板１の下側に処理液を供給するための
ノズル３１，３２、供給された処理液を回収するカップ
１０などを備えた処理室Ｓ内に、基板支持台２を所定の
角度位置に位置決めする位置決め手段５を設けたもので
ある。位置決め手段５は、基板支持台２の外周に設けら
れた被係合部（凹部）６と、被係合部（凹部）６に係合
する係合部材（係合体）７と、係合部材（係合体）７を
進退させる係合体駆動手段８からなり、係合体駆動手段
８は、処理室Ｓの外枠９に設けられている。
置は、基板１を支持する基板支持台２を中心にして、基
板支持台２を支持する回転軸３、回転駆動手段４、基板
支持台２上にあって各種処理液を基板１に供給する手段
（図示せず）、基板１の下側に処理液を供給するための
ノズル３１，３２、供給された処理液を回収するカップ
１０などを備えた処理室Ｓ内に、基板支持台２を所定の
角度位置に位置決めする位置決め手段５を設けたもので
ある。位置決め手段５は、基板支持台２の外周に設けら
れた被係合部（凹部）６と、被係合部（凹部）６に係合
する係合部材（係合体）７と、係合部材（係合体）７を
進退させる係合体駆動手段８からなり、係合体駆動手段
８は、処理室Ｓの外枠９に設けられている。
【００２１】図１において、回転軸３は、処理室Ｓ中央
に垂直に立設されており、回転軸３の下方に連結された
回転駆動手段４によって、軸心３０を中心に回転駆動さ
れる。回転軸３の上端回りには基板支持台２が、ボルト
締めによって取り外し可能に取り付けられている。ま
た、回転軸３の上端は、基板支持台２の上面よりわずか
に突出しており、回転軸３の上端に設けられたノズル３
１、３２から処理液が、基板１の裏面の中央から外縁部
に向けて供給される。
に垂直に立設されており、回転軸３の下方に連結された
回転駆動手段４によって、軸心３０を中心に回転駆動さ
れる。回転軸３の上端回りには基板支持台２が、ボルト
締めによって取り外し可能に取り付けられている。ま
た、回転軸３の上端は、基板支持台２の上面よりわずか
に突出しており、回転軸３の上端に設けられたノズル３
１、３２から処理液が、基板１の裏面の中央から外縁部
に向けて供給される。
【００２２】基板支持台２は円板形状であり、上面には
外径の等しい円板２０が同心上に設けられている。これ
らは、回転軸３とともに回転軸３の軸心３０を中心に回
転するように、回転軸３に取り付けられている。図２に
示されるように、基板支持台２の中心は開口しており、
この開口の周りは環状に厚肉にされてボス２ｃが形成さ
れている。回転軸３は、このボス２ｃの内周側に嵌入さ
れて固定されている。また、円板２０は、ボス２ｃの外
周側に嵌着されている。基板支持台２のボス２ｃから外
周に向けて、放射状に略扇形の中空部２ａが複数個設け
られている。
外径の等しい円板２０が同心上に設けられている。これ
らは、回転軸３とともに回転軸３の軸心３０を中心に回
転するように、回転軸３に取り付けられている。図２に
示されるように、基板支持台２の中心は開口しており、
この開口の周りは環状に厚肉にされてボス２ｃが形成さ
れている。回転軸３は、このボス２ｃの内周側に嵌入さ
れて固定されている。また、円板２０は、ボス２ｃの外
周側に嵌着されている。基板支持台２のボス２ｃから外
周に向けて、放射状に略扇形の中空部２ａが複数個設け
られている。
【００２３】また、図２に示されるように、基板支持台
２の中空部２ａのあいだのスポーク部２ｂの上面には、
支持ピン２１と吸着体２２が立設されており、スポーク
部２ｂの内部に通路２３が形成されている。支持ピン２
１と吸着体２２によって基板１は、基板支持台２の上面
側に、上面から離れた状態で支持される。支持ピン２１
は、撓みを防止するために基板１の下面全体に適宜な間
隔をあけて複数本設けられているが、ノズル３１，３２
から供給される処理液の妨げにならないように、先端が
細く点接触するように形成されている。また、吸着体２
２の内部にはスポーク部２ｂの内部に形成された通路２
３と連通して上端が開口している吸引部２２ａが形成さ
れており、通路２３は、回転軸３を経由して外部に設け
られた真空ポンプ（図示せず）に連絡しており、吸引部
２２ａの上端に載置された基板１の端を吸引して吸着す
る。図１に示されるように、吸着体２２の上面の吸引部
２２ａの外側には突起２２ｂが設けられており、基板１
の外縁に外周側から当接して横方向から基板１を拘束
し、基板支持台２の回転力を基板１に伝えるとともに、
回転中の基板１のずれを防止する。
２の中空部２ａのあいだのスポーク部２ｂの上面には、
支持ピン２１と吸着体２２が立設されており、スポーク
部２ｂの内部に通路２３が形成されている。支持ピン２
１と吸着体２２によって基板１は、基板支持台２の上面
側に、上面から離れた状態で支持される。支持ピン２１
は、撓みを防止するために基板１の下面全体に適宜な間
隔をあけて複数本設けられているが、ノズル３１，３２
から供給される処理液の妨げにならないように、先端が
細く点接触するように形成されている。また、吸着体２
２の内部にはスポーク部２ｂの内部に形成された通路２
３と連通して上端が開口している吸引部２２ａが形成さ
れており、通路２３は、回転軸３を経由して外部に設け
られた真空ポンプ（図示せず）に連絡しており、吸引部
２２ａの上端に載置された基板１の端を吸引して吸着す
る。図１に示されるように、吸着体２２の上面の吸引部
２２ａの外側には突起２２ｂが設けられており、基板１
の外縁に外周側から当接して横方向から基板１を拘束
し、基板支持台２の回転力を基板１に伝えるとともに、
回転中の基板１のずれを防止する。
【００２４】基板支持台２の外径は、少なくとも上面に
載置される基板１の対角線の長さよりも大きくなるよう
に、また、基板支持台２の大きさに対して、あまりにも
小さな基板を載置することのないように、基板１の大き
さに合わせて、適当な大きさの基板支持台２を使用する
ことが好ましい。そこで、基板支持台２は、回転軸３に
対して取り外し可能に取り付けられており、基板の大き
さや形状に合わせて適宜変更される。
載置される基板１の対角線の長さよりも大きくなるよう
に、また、基板支持台２の大きさに対して、あまりにも
小さな基板を載置することのないように、基板１の大き
さに合わせて、適当な大きさの基板支持台２を使用する
ことが好ましい。そこで、基板支持台２は、回転軸３に
対して取り外し可能に取り付けられており、基板の大き
さや形状に合わせて適宜変更される。
【００２５】回転軸３の回転駆動手段４は、位置制御の
容易なサーボモータであることが好ましく、また、振動
が生じない程度の精度で所定の角度位置に停止するよう
に制御され、停止時には、回転自在とされることが好ま
しい。そうすることによって回転駆動手段４は、回転軸
３および基板支持台２を略所定の角度位置に振動なくス
ムーズに停止させることができる。
容易なサーボモータであることが好ましく、また、振動
が生じない程度の精度で所定の角度位置に停止するよう
に制御され、停止時には、回転自在とされることが好ま
しい。そうすることによって回転駆動手段４は、回転軸
３および基板支持台２を略所定の角度位置に振動なくス
ムーズに停止させることができる。
【００２６】カップ１０は、その内径側は回転軸３の外
周に近接し、外径側は、基板支持台２の外縁よりもさら
に外側で適当な大きさを有し、上下２段に構成されて、
上部１０ａは、必要に応じて上方にせりあがる。カップ
１０内は図示しない排気機構によって排気され、使用後
の処理液の回収が迅速に行なわれる。
周に近接し、外径側は、基板支持台２の外縁よりもさら
に外側で適当な大きさを有し、上下２段に構成されて、
上部１０ａは、必要に応じて上方にせりあがる。カップ
１０内は図示しない排気機構によって排気され、使用後
の処理液の回収が迅速に行なわれる。
【００２７】次に、図３に基づいて、位置決め手段５を
説明する。図３において、基板支持台２は、より大きな
外径を有する基板支持台２ａに変更可能である。
説明する。図３において、基板支持台２は、より大きな
外径を有する基板支持台２ａに変更可能である。
【００２８】凹部６は、基板支持台２の外周に、外径方
向に向けて開口するように形成されている。入口開口の
幅Ｈは、回転駆動手段４による停止位置制御の誤差（停
止角度の誤差）を含みうる大きさを有している。また、
入口開口から奥に向けて開口の幅は狭くなり、最奥部
は、挿入されるローラ状の係合体７の大きさに合わせた
扇形となっている。
向に向けて開口するように形成されている。入口開口の
幅Ｈは、回転駆動手段４による停止位置制御の誤差（停
止角度の誤差）を含みうる大きさを有している。また、
入口開口から奥に向けて開口の幅は狭くなり、最奥部
は、挿入されるローラ状の係合体７の大きさに合わせた
扇形となっている。
【００２９】係合体７は、ロッド８１の先端に回転可能
に支持されたローラ状のものであり、係合体駆動手段８
によって凹部６に向けて進退する。
に支持されたローラ状のものであり、係合体駆動手段８
によって凹部６に向けて進退する。
【００３０】係合体駆動手段８は、先端に係合体６を支
持するロッド８１と、ロッド８１を進退させる第１直線
駆動機構８２と、第１直線駆動機構８２を進退させる第
２直線駆動機構８３と、第２直線駆動機構８３を固定す
るハウジング８４とからなる。また、第１直線駆動機構
８２の先端のロッド８１の摺動部には、直進性を向上さ
せるためにガイド８５が設けられている。
持するロッド８１と、ロッド８１を進退させる第１直線
駆動機構８２と、第１直線駆動機構８２を進退させる第
２直線駆動機構８３と、第２直線駆動機構８３を固定す
るハウジング８４とからなる。また、第１直線駆動機構
８２の先端のロッド８１の摺動部には、直進性を向上さ
せるためにガイド８５が設けられている。
【００３１】第１直線駆動機構８２は、ロッドレスシリ
ンダを内蔵し、ピストンの動きに沿って移動するテーブ
ルをガイドする部材がシリンダの外周に設けられて、テ
ーブルに取り付けられたロッド８１の直進性が高精度に
されたものが最適に利用される。第２直線駆動機構８３
も同様な構成で、テーブルに取り付けられた第１直線駆
動手段８２の直進性が高精度となるように調整されてい
ることが好ましい。第２直線駆動機構のストロークＳ２
によって、第１直線駆動機構８２は進出し、第１直線駆
動機構８１のストロークＳ１によってロッド８１が進出
する。
ンダを内蔵し、ピストンの動きに沿って移動するテーブ
ルをガイドする部材がシリンダの外周に設けられて、テ
ーブルに取り付けられたロッド８１の直進性が高精度に
されたものが最適に利用される。第２直線駆動機構８３
も同様な構成で、テーブルに取り付けられた第１直線駆
動手段８２の直進性が高精度となるように調整されてい
ることが好ましい。第２直線駆動機構のストロークＳ２
によって、第１直線駆動機構８２は進出し、第１直線駆
動機構８１のストロークＳ１によってロッド８１が進出
する。
【００３２】ガイド８５は、第１直線駆動機構８２のロ
ッド８１の進出する側の先端部分に設けられており、内
部に適当な長さを有するベアリング８６が備えられてお
り、ベアリング８６でロッド８１を摺動自在に支持し、
ロッド８１の直進性の精度を上げている。
ッド８１の進出する側の先端部分に設けられており、内
部に適当な長さを有するベアリング８６が備えられてお
り、ベアリング８６でロッド８１を摺動自在に支持し、
ロッド８１の直進性の精度を上げている。
【００３３】次に、係合体７の動作を図３に基づいて説
明する。図３において、係合体７は、基板１の処理が行
なわれている間など、基板の位置決めを必要としないと
きには、退避位置Ｐ０に退避している。そして、基板の
搬入や搬出が行なわれるときには、基板支持台２または
基板支持台２ａは、回転駆動手段４によって、略所定の
角度位置に停止する。
明する。図３において、係合体７は、基板１の処理が行
なわれている間など、基板の位置決めを必要としないと
きには、退避位置Ｐ０に退避している。そして、基板の
搬入や搬出が行なわれるときには、基板支持台２または
基板支持台２ａは、回転駆動手段４によって、略所定の
角度位置に停止する。
【００３４】図３において、実線で示される比較的外径
の小さな基板支持台２の、所定の角度位置Ｐへの正確な
位置決めを行なうときには、まず、第２直線駆動機構８
３を駆動させ、ストロークＳ２の距離だけ第１直線駆動
手段８２を進出させ、係合体７を位置Ｐ２まで進出させ
る。続いて、第１直線駆動機構８２を駆動させ、ストロ
ークＳ１の距離だけロッド８１を進出させ、係合体７を
位置Ｐ２まで進出させる。位置Ｐ２では、凹部６は略所
定の角度位置にあって、所定角度位置Ｐ（一点鎖線で示
される）に位置決めされておらず、位置Ｐ２の手前で、
係合体７は、凹部の入口開口の幅Ｈ内のいずれかに当接
する。そのまま、第１直線駆動機構８２によって押され
て、係合体７は凹部６の奥部に向けて摺動しながら進出
し、凹部６に伴なって基板支持台２を周方向に移動さ
せ、所定の角度位置Ｐに位置決めする。
の小さな基板支持台２の、所定の角度位置Ｐへの正確な
位置決めを行なうときには、まず、第２直線駆動機構８
３を駆動させ、ストロークＳ２の距離だけ第１直線駆動
手段８２を進出させ、係合体７を位置Ｐ２まで進出させ
る。続いて、第１直線駆動機構８２を駆動させ、ストロ
ークＳ１の距離だけロッド８１を進出させ、係合体７を
位置Ｐ２まで進出させる。位置Ｐ２では、凹部６は略所
定の角度位置にあって、所定角度位置Ｐ（一点鎖線で示
される）に位置決めされておらず、位置Ｐ２の手前で、
係合体７は、凹部の入口開口の幅Ｈ内のいずれかに当接
する。そのまま、第１直線駆動機構８２によって押され
て、係合体７は凹部６の奥部に向けて摺動しながら進出
し、凹部６に伴なって基板支持台２を周方向に移動さ
せ、所定の角度位置Ｐに位置決めする。
【００３５】図３において、２点鎖線で示される大型の
基板支持台２ａの位置決めを行なうときには、第２直線
駆動手段８３のみを駆動させて、係合体７を進出位置Ｐ
２で凹部６ａと係合させ、凹部６ａに伴なって基板支持
台２ａを周方向に移動させ、所定角度位置Ｐに位置決め
する。
基板支持台２ａの位置決めを行なうときには、第２直線
駆動手段８３のみを駆動させて、係合体７を進出位置Ｐ
２で凹部６ａと係合させ、凹部６ａに伴なって基板支持
台２ａを周方向に移動させ、所定角度位置Ｐに位置決め
する。
【図１】図１は、本発明の回転式基板処理装置の一実施
形態を示す正面図である。
形態を示す正面図である。
【図２】図２は、図１の回転式基板処理装置の平面図で
ある。
ある。
【図３】図３は、図２の回転式基板処理装置の要部の構
成図と動作説明図である。
成図と動作説明図である。
１ 基板 ２、２ａ 基板支持台 ３ 回転軸 ４ 回転駆動手段 ５ 位置決め手段 ６ 凹部（被係合部） ７ 係合体（係合部材） ８ 係合体駆動手段 ３０ 軸心 ８１ ロッド ８２ 第１直線駆動機構 ８３ 第２直線駆動機構 ８５ ガイド Ｐ 所定角度位置 Ｐ１、Ｐ２ 進出位置 Ｓ１、Ｓ２ ストローク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ ５６９Ｃ (72)発明者 中田 勝利 兵庫県尼崎市扶桑町１番10号 住友精密工 業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB08 AB16 AB17 EA05 FA14 2H096 AA00 AA24 AA25 AA27 CA14 GA29 4F042 AA07 BA08 DF07 DF28 DF36 5F031 CA01 CA02 CA05 CA07 KA08 KA15 LA07 MA26 PA18 5F046 JA10 LA05
Claims (6)
- 【請求項１】 回転軸と、該回転軸の回転駆動手段と、
前記回転軸の上端回りに設けられ、その外径が少なくと
も基板の対角線よりも大きい円板形状を呈し、当該基板
を載置して前記回転軸とともに当該回転軸の軸心を中心
に水平回転する基板支持台と、前記基板支持台の外周に
設けられた被係合部、及び前記基板支持台の近傍に設け
られた係合部材を備えてなり、前記係合部材を前記被係
合部に係合させることにより、前記基板支持台を所定角
度位置に位置決めする位置決め手段とを設けて構成した
ことを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項２】 前記位置決め手段が、前記基板支持台の
外周に形成された凹部と、前記基板支持台の近傍に配設
され、前記凹部に対し進退可能に設けられた係合体と、
前記係合体を前記凹部に向けて進出させ、前記凹部と前
記係合体とを係合せしめる係合体駆動手段からなる請求
項１記載の回転式基板処理装置。 - 【請求項３】 前記係合体駆動手段が、前記基板支持台
の径方向外方から中心に向かって進出させるように前記
係合体を支持するロッドと、該ロッドを進退させる直線
駆動機構とを備えるものであり、前記直線駆動機構のロ
ッド摺動部にロッドの直進性を高めるためのガイドを備
えてなる請求項２記載の回転式基板装置。 - 【請求項４】 前記基板支持台が、処理される基板に合
わせて大きさを変更可能であり、前記係合体駆動手段
が、前記係合体の進出位置を、変更された前記基板支持
台の外径に合わせて多段階に変化させうるように構成さ
れている請求項３に記載の回転式基板処理装置。 - 【請求項５】 前記係合体駆動手段が、複数の直線駆動
機構を、それぞれ他の直線駆動機構を進退させるように
直列的に組み合わせ、各直線駆動機構のストロークで前
記係合体の進出位置を多段階に制御させるよう構成され
た請求項４記載の回転式基板処理装置。 - 【請求項６】 回転軸と、該回転軸の回転駆動手段と、
前記回転軸の上端回りに設けられ、その外径が少なくと
も基板の対角線よりも大きい円板形状を呈し、当該基板
を載置して前記回転軸とともに当該回転軸の軸心を中心
に水平回転する基板支持台と、前記基板支持台の外周に
設けられた被係合部、及び前記基板支持台の近傍に設け
られた係合部材とを備えてなり、前記係合部材を前記被
係合部に係合させることにより、前記基板支持台を所定
角度位置に位置決めする位置決め手段とを設けて構成さ
れた回転式基板処理装置の位置決め方法であって、前記
回転駆動手段を制御して、前記基板支持台を略所定の角
度位置に停止させたあと回転自在になし、その後、前記
位置決め手段を用いて所定の角度位置に位置決めするこ
とを特徴とする回転式基板処理装置の位置決め方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000357227A JP3513105B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000357227A JP3513105B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 回転式基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002164415A true JP2002164415A (ja) | 2002-06-07 |
| JP3513105B2 JP3513105B2 (ja) | 2004-03-31 |
Family
ID=18829327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000357227A Expired - Fee Related JP3513105B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 回転式基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3513105B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8628622B2 (en) * | 2005-09-12 | 2014-01-14 | Cree, Inc. | Gas driven rotation apparatus and method for forming crystalline layers |
| CN109003933A (zh) * | 2018-09-07 | 2018-12-14 | 武汉灿光光电有限公司 | 一种to精密定位装置 |
| JP2018206877A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
2000
- 2000-11-24 JP JP2000357227A patent/JP3513105B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8628622B2 (en) * | 2005-09-12 | 2014-01-14 | Cree, Inc. | Gas driven rotation apparatus and method for forming crystalline layers |
| JP2018206877A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| CN109003933A (zh) * | 2018-09-07 | 2018-12-14 | 武汉灿光光电有限公司 | 一种to精密定位装置 |
| CN109003933B (zh) * | 2018-09-07 | 2024-03-15 | 武汉灿光光电有限公司 | 一种to精密定位装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3513105B2 (ja) | 2004-03-31 |
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