JP3513105B2 - 回転式基板処理装置 - Google Patents
回転式基板処理装置Info
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- JP3513105B2 JP3513105B2 JP2000357227A JP2000357227A JP3513105B2 JP 3513105 B2 JP3513105 B2 JP 3513105B2 JP 2000357227 A JP2000357227 A JP 2000357227A JP 2000357227 A JP2000357227 A JP 2000357227A JP 3513105 B2 JP3513105 B2 JP 3513105B2
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- Materials For Photolithography (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体（シリコ
ン）ウエハ、液晶ガラス基板、フォトマスク用ガラス基
板、光ディスク用基板などの基板を回転させながら、そ
の上面及び／又は下面に各種処理液を供給して処理を行
う回転式基板処理装置に関する。
ン）ウエハ、液晶ガラス基板、フォトマスク用ガラス基
板、光ディスク用基板などの基板を回転させながら、そ
の上面及び／又は下面に各種処理液を供給して処理を行
う回転式基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、液晶基板を構成するＴＦＴ基
板は、種々の工程を経て製造されるが、そのうち、基板
の表面に回路パターンを形成するには、現像液やレジス
ト膜の塗布、剥離等、各種処理が繰り返し行われる。ま
た、そのような処理の前後や処理中などには基板の洗浄
が繰り返し行なわれる。そのため、処理能率や、薬液塗
布の均一性などを考慮して、基板を水平に支持した状態
で回転させながら処理を行なえる基板回転式の処理装置
が一般に使用されている。
板は、種々の工程を経て製造されるが、そのうち、基板
の表面に回路パターンを形成するには、現像液やレジス
ト膜の塗布、剥離等、各種処理が繰り返し行われる。ま
た、そのような処理の前後や処理中などには基板の洗浄
が繰り返し行なわれる。そのため、処理能率や、薬液塗
布の均一性などを考慮して、基板を水平に支持した状態
で回転させながら処理を行なえる基板回転式の処理装置
が一般に使用されている。
【０００３】このような回転式の基板処理装置では、一
般に、ロボットによる搬入が行なわれ、円板形状の基板
支持台の所定位置に基板を載置する。そののち、基板支
持台は水平に回転し、各種処理が行なわれたあと、再び
ロボットによる搬出が行なわれる。この基板支持台の上
面には、基板を浮かせた状態で撓まないように支持する
ため、適宜の間隔で基板の裏面に接する支持ピンや、支
持ピンよりも少し長く、基板の外縁に当接することによ
って水平方向から基板を拘束し基板に回転力を伝達する
ガイドピンなどが設けられている。したがって、ロボッ
トに対する基板の授受のために、基板支持台は所定の角
度位置に正確に位置決めされる必要がある。
般に、ロボットによる搬入が行なわれ、円板形状の基板
支持台の所定位置に基板を載置する。そののち、基板支
持台は水平に回転し、各種処理が行なわれたあと、再び
ロボットによる搬出が行なわれる。この基板支持台の上
面には、基板を浮かせた状態で撓まないように支持する
ため、適宜の間隔で基板の裏面に接する支持ピンや、支
持ピンよりも少し長く、基板の外縁に当接することによ
って水平方向から基板を拘束し基板に回転力を伝達する
ガイドピンなどが設けられている。したがって、ロボッ
トに対する基板の授受のために、基板支持台は所定の角
度位置に正確に位置決めされる必要がある。
【０００４】そのような位置決めを行なう手段として、
基板支持台を回転駆動する駆動手段にサーボ機構を設け
たものや、基板支持台の中央に連結されている回転軸に
凹部を設けて、それに固定ピンを嵌入する構成のものが
ある。
基板支持台を回転駆動する駆動手段にサーボ機構を設け
たものや、基板支持台の中央に連結されている回転軸に
凹部を設けて、それに固定ピンを嵌入する構成のものが
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、サーボ
機構による位置決め手段では停止時に微少な振動が生じ
やすく、固定ピンによる位置決め手段では、嵌め合いの
ために高精度に位置決めができないという問題がある。
このような問題は、近年、基板の大型化が進行するにつ
れて深刻なものとなってきている。すなわち、基板の大
型化によって基板の外縁が回転中心より遠ざかるにつれ
て、従来の位置決め手段における周方向のずれが拡大さ
れる。そこで、サーボ機構の分解能を上げ、比較修正動
作の間隔を小さくして停止角度の位置制御の精度をあげ
ようとすると、停止時の追従動作の振動が大きくなり、
載置されている基板に損傷を与えるおそれが生じる。一
方、回転軸を固定ピンで固定する方法では、もともと、
嵌入動作のために凹部との間にある程度の隙間が必要で
あり、回転中心より遠い位置での周方向の誤差を小さく
しようとすることは構造上できない。こうして位置決め
にずれのある基板支持台に対して、ロボットが基板を載
置しようとすると基板がガイドピンの頭部に当たって損
壊するなど、重大な問題が引き起こされる。
機構による位置決め手段では停止時に微少な振動が生じ
やすく、固定ピンによる位置決め手段では、嵌め合いの
ために高精度に位置決めができないという問題がある。
このような問題は、近年、基板の大型化が進行するにつ
れて深刻なものとなってきている。すなわち、基板の大
型化によって基板の外縁が回転中心より遠ざかるにつれ
て、従来の位置決め手段における周方向のずれが拡大さ
れる。そこで、サーボ機構の分解能を上げ、比較修正動
作の間隔を小さくして停止角度の位置制御の精度をあげ
ようとすると、停止時の追従動作の振動が大きくなり、
載置されている基板に損傷を与えるおそれが生じる。一
方、回転軸を固定ピンで固定する方法では、もともと、
嵌入動作のために凹部との間にある程度の隙間が必要で
あり、回転中心より遠い位置での周方向の誤差を小さく
しようとすることは構造上できない。こうして位置決め
にずれのある基板支持台に対して、ロボットが基板を載
置しようとすると基板がガイドピンの頭部に当たって損
壊するなど、重大な問題が引き起こされる。
【０００６】そこで、本発明は、基板を所定の角度位置
に高精度に位置決めすることができる回転式基板処理装
置およびその位置決め方法を提供することを目的として
おり、とくに、基板の大型化に際して有効に効力を発揮
し得る回転式基板処理装置およびその位置決め方法を提
供することを目的とする。
に高精度に位置決めすることができる回転式基板処理装
置およびその位置決め方法を提供することを目的として
おり、とくに、基板の大型化に際して有効に効力を発揮
し得る回転式基板処理装置およびその位置決め方法を提
供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその効果】本発明の回
転式基板処理装置は、前記目的を達成するために、回転
軸と、該回転軸の回転駆動手段と、前記回転軸の上端回
りに設けられ、その外径が少なくとも基板の対角線より
も大きい円板形状を呈し、当該基板を載置して前記回転
軸とともに当該回転軸の軸心を中心に水平回転する基板
支持台と、該基板支持台を所定角度位置に位置決めする
位置決め手段とを備えて構成される。
転式基板処理装置は、前記目的を達成するために、回転
軸と、該回転軸の回転駆動手段と、前記回転軸の上端回
りに設けられ、その外径が少なくとも基板の対角線より
も大きい円板形状を呈し、当該基板を載置して前記回転
軸とともに当該回転軸の軸心を中心に水平回転する基板
支持台と、該基板支持台を所定角度位置に位置決めする
位置決め手段とを備えて構成される。
【０００８】そして、前記位置決め手段は、前記基板支
持台の外周に形成された凹部と、前記基板支持台の近傍
に配設され、前記凹部に対し進退可能に設けられた係合
体と、前記係合体を前記凹部に向けて進出させ、前記凹
部と前記係合体とを係合せしめる係合体駆動手段とを備
えて構成され、係合体駆動手段は、前記基板支持台の径
方向外方から中心に向かって進出させるように前記係合
体を支持するロッドと、該ロッドを進退させる直線駆動
機構と、前記ロッドを摺動自在に支持するガイドとを備
えて構成されるとともに、前記係合体の進出位置を多段
階に変化可能に構成される。
持台の外周に形成された凹部と、前記基板支持台の近傍
に配設され、前記凹部に対し進退可能に設けられた係合
体と、前記係合体を前記凹部に向けて進出させ、前記凹
部と前記係合体とを係合せしめる係合体駆動手段とを備
えて構成され、係合体駆動手段は、前記基板支持台の径
方向外方から中心に向かって進出させるように前記係合
体を支持するロッドと、該ロッドを進退させる直線駆動
機構と、前記ロッドを摺動自在に支持するガイドとを備
えて構成されるとともに、前記係合体の進出位置を多段
階に変化可能に構成される。
【０００９】この装置では、基板支持台の外周が、載置
された基板の外縁よりも外側 に位置し、且つ位置決め手
段を構成する凹部を当該基板支持台の外周に形成し、こ
の凹部に係合体を係合させることにより、当該該基板支
持台を所定角度位置に位置決めするように構成したの
で、大きな基板であっても精度よく、所定の角度位置に
位置決めすることができる。尚、かかる凹部は、外周に
適宜な間隔を空けて複数設けられていることが好まし
く、そうすることによって所定の角度位置を複数設定す
ることができる。係合体も同様に複数設けてもよい。
された基板の外縁よりも外側 に位置し、且つ位置決め手
段を構成する凹部を当該基板支持台の外周に形成し、こ
の凹部に係合体を係合させることにより、当該該基板支
持台を所定角度位置に位置決めするように構成したの
で、大きな基板であっても精度よく、所定の角度位置に
位置決めすることができる。尚、かかる凹部は、外周に
適宜な間隔を空けて複数設けられていることが好まし
く、そうすることによって所定の角度位置を複数設定す
ることができる。係合体も同様に複数設けてもよい。
【００１０】また、係合体を支持するロッドをガイドに
よって摺動自在に支持しているので、係合体の直進性が
良好となり、凹部との係合位置を正確に所定角度位置と
することができ、高精度な位置決めを実現できる。尚、
直進駆動手段としては、従来からあるシリンダ、ロッド
レスシリンダなど流体圧によるもののほか、電動モータ
によるものでも、ロッドを直進させうるものを適宜利用
することができる。
よって摺動自在に支持しているので、係合体の直進性が
良好となり、凹部との係合位置を正確に所定角度位置と
することができ、高精度な位置決めを実現できる。尚、
直進駆動手段としては、従来からあるシリンダ、ロッド
レスシリンダなど流体圧によるもののほか、電動モータ
によるものでも、ロッドを直進させうるものを適宜利用
することができる。
【００１１】また、前記係合体駆動手段が、係合体の進
出位置を基板支持台の外径に合わせて多段階に変化させ
うるように構成されているので、大きさの異なる基板へ
の変更にも容易に対応できる。
出位置を基板支持台の外径に合わせて多段階に変化させ
うるように構成されているので、大きさの異なる基板へ
の変更にも容易に対応できる。
【００１２】そして、かかる係合体駆動手段は、複数の
直線駆動機構を、それぞれ他の直線駆動機構を進退させ
るように直列的に組み合わせ、各直線駆動機構のストロ
ークで前記係合体の進出位置を多段階に制御させる構成
とすることができる。
直線駆動機構を、それぞれ他の直線駆動機構を進退させ
るように直列的に組み合わせ、各直線駆動機構のストロ
ークで前記係合体の進出位置を多段階に制御させる構成
とすることができる。
【００１３】たとえば、係合体を支持するロッドを駆動
する直線駆動機構を第１直線駆動機構とし、さらにこの
第１直線駆動機構を進退させる第２直線駆動機構を、第
１直線駆動機構のストロークの向きと第２直線駆動機構
のストロークの向きとが一致し直列となるように設ける
ことによって、第１、第２直線駆動機構のストロークで
係合体の進出位置を２段階制御することができる。さら
に、第３、第４・・の直線駆動機構を同様に直列に設け
ることによって３段階以上の多段階制御を容易に行なう
ことができる。
する直線駆動機構を第１直線駆動機構とし、さらにこの
第１直線駆動機構を進退させる第２直線駆動機構を、第
１直線駆動機構のストロークの向きと第２直線駆動機構
のストロークの向きとが一致し直列となるように設ける
ことによって、第１、第２直線駆動機構のストロークで
係合体の進出位置を２段階制御することができる。さら
に、第３、第４・・の直線駆動機構を同様に直列に設け
ることによって３段階以上の多段階制御を容易に行なう
ことができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を説明す
る。図１は、本発明の基板処理装置の一実施形態の正面
図であり、図２はその平面図、図３は、要部の平面図と
動作図である。
る。図１は、本発明の基板処理装置の一実施形態の正面
図であり、図２はその平面図、図３は、要部の平面図と
動作図である。
【００１５】図１において、本発明の回転式基板処理装
置は、基板１を支持する基板支持台２を中心にして、基
板支持台２を支持する回転軸３、回転駆動手段４、基板
支持台２上にあって各種処理液を基板１に供給する手段
（図示せず）、基板１の下側に処理液を供給するための
ノズル３１，３２、供給された処理液を回収するカップ
１０などを備えた処理室Ｓ内に、基板支持台２を所定の
角度位置に位置決めする位置決め手段５を設けたもので
ある。位置決め手段５は、基板支持台２の外周に設けら
れた被係合部（凹部）６と、被係合部（凹部）６に係合
する係合部材（係合体）７と、係合部材（係合体）７を
進退させる係合体駆動手段８からなり、係合体駆動手段
８は、処理室Ｓの外枠９に設けられている。
置は、基板１を支持する基板支持台２を中心にして、基
板支持台２を支持する回転軸３、回転駆動手段４、基板
支持台２上にあって各種処理液を基板１に供給する手段
（図示せず）、基板１の下側に処理液を供給するための
ノズル３１，３２、供給された処理液を回収するカップ
１０などを備えた処理室Ｓ内に、基板支持台２を所定の
角度位置に位置決めする位置決め手段５を設けたもので
ある。位置決め手段５は、基板支持台２の外周に設けら
れた被係合部（凹部）６と、被係合部（凹部）６に係合
する係合部材（係合体）７と、係合部材（係合体）７を
進退させる係合体駆動手段８からなり、係合体駆動手段
８は、処理室Ｓの外枠９に設けられている。
【００１６】図１において、回転軸３は、処理室Ｓ中央
に垂直に立設されており、回転軸３の下方に連結された
回転駆動手段４によって、軸心３０を中心に回転駆動さ
れる。回転軸３の上端回りには基板支持台２が、ボルト
締めによって取り外し可能に取り付けられている。ま
た、回転軸３の上端は、基板支持台２の上面よりわずか
に突出しており、回転軸３の上端に設けられたノズル３
１、３２から処理液が、基板１の裏面の中央から外縁部
に向けて供給される。
に垂直に立設されており、回転軸３の下方に連結された
回転駆動手段４によって、軸心３０を中心に回転駆動さ
れる。回転軸３の上端回りには基板支持台２が、ボルト
締めによって取り外し可能に取り付けられている。ま
た、回転軸３の上端は、基板支持台２の上面よりわずか
に突出しており、回転軸３の上端に設けられたノズル３
１、３２から処理液が、基板１の裏面の中央から外縁部
に向けて供給される。
【００１７】基板支持台２は円板形状であり、上面には
外径の等しい円板２０が同心上に設けられている。これ
らは、回転軸３とともに回転軸３の軸心３０を中心に回
転するように、回転軸３に取り付けられている。図２に
示されるように、基板支持台２の中心は開口しており、
この開口の周りは環状に厚肉にされてボス２ｃが形成さ
れている。回転軸３は、このボス２ｃの内周側に嵌入さ
れて固定されている。また、円板２０は、ボス２ｃの外
周側に嵌着されている。基板支持台２のボス２ｃから外
周に向けて、放射状に略扇形の中空部２ａが複数個設け
られている。
外径の等しい円板２０が同心上に設けられている。これ
らは、回転軸３とともに回転軸３の軸心３０を中心に回
転するように、回転軸３に取り付けられている。図２に
示されるように、基板支持台２の中心は開口しており、
この開口の周りは環状に厚肉にされてボス２ｃが形成さ
れている。回転軸３は、このボス２ｃの内周側に嵌入さ
れて固定されている。また、円板２０は、ボス２ｃの外
周側に嵌着されている。基板支持台２のボス２ｃから外
周に向けて、放射状に略扇形の中空部２ａが複数個設け
られている。
【００１８】また、図２に示されるように、基板支持台
２の中空部２ａのあいだのスポーク部２ｂの上面には、
支持ピン２１と吸着体２２が立設されており、スポーク
部２ｂの内部に通路２３が形成されている。支持ピン２
１と吸着体２２によって基板１は、基板支持台２の上面
側に、上面から離れた状態で支持される。支持ピン２１
は、撓みを防止するために基板１の下面全体に適宜な間
隔をあけて複数本設けられているが、ノズル３１，３２
から供給される処理液の妨げにならないように、先端が
細く点接触するように形成されている。また、吸着体２
２の内部にはスポーク部２ｂの内部に形成された通路２
３と連通して上端が開口している吸引部２２ａが形成さ
れており、通路２３は、回転軸３を経由して外部に設け
られた真空ポンプ（図示せず）に連絡しており、吸引部
２２ａの上端に載置された基板１の端を吸引して吸着す
る。図１に示されるように、吸着体２２の上面の吸引部
２２ａの外側には突起２２ｂが設けられており、基板１
の外縁に外周側から当接して横方向から基板１を拘束
し、基板支持台２の回転力を基板１に伝えるとともに、
回転中の基板１のずれを防止する。
２の中空部２ａのあいだのスポーク部２ｂの上面には、
支持ピン２１と吸着体２２が立設されており、スポーク
部２ｂの内部に通路２３が形成されている。支持ピン２
１と吸着体２２によって基板１は、基板支持台２の上面
側に、上面から離れた状態で支持される。支持ピン２１
は、撓みを防止するために基板１の下面全体に適宜な間
隔をあけて複数本設けられているが、ノズル３１，３２
から供給される処理液の妨げにならないように、先端が
細く点接触するように形成されている。また、吸着体２
２の内部にはスポーク部２ｂの内部に形成された通路２
３と連通して上端が開口している吸引部２２ａが形成さ
れており、通路２３は、回転軸３を経由して外部に設け
られた真空ポンプ（図示せず）に連絡しており、吸引部
２２ａの上端に載置された基板１の端を吸引して吸着す
る。図１に示されるように、吸着体２２の上面の吸引部
２２ａの外側には突起２２ｂが設けられており、基板１
の外縁に外周側から当接して横方向から基板１を拘束
し、基板支持台２の回転力を基板１に伝えるとともに、
回転中の基板１のずれを防止する。
【００１９】基板支持台２の外径は、少なくとも上面に
載置される基板１の対角線の長さよりも大きくなるよう
に、また、基板支持台２の大きさに対して、あまりにも
小さな基板を載置することのないように、基板１の大き
さに合わせて、適当な大きさの基板支持台２を使用する
ことが好ましい。そこで、基板支持台２は、回転軸３に
対して取り外し可能に取り付けられており、基板の大き
さや形状に合わせて適宜変更される。
載置される基板１の対角線の長さよりも大きくなるよう
に、また、基板支持台２の大きさに対して、あまりにも
小さな基板を載置することのないように、基板１の大き
さに合わせて、適当な大きさの基板支持台２を使用する
ことが好ましい。そこで、基板支持台２は、回転軸３に
対して取り外し可能に取り付けられており、基板の大き
さや形状に合わせて適宜変更される。
【００２０】回転軸３の回転駆動手段４は、位置制御の
容易なサーボモータであることが好ましく、また、振動
が生じない程度の精度で所定の角度位置に停止するよう
に制御され、停止時には、回転自在とされることが好ま
しい。そうすることによって回転駆動手段４は、回転軸
３および基板支持台２を略所定の角度位置に振動なくス
ムーズに停止させることができる。
容易なサーボモータであることが好ましく、また、振動
が生じない程度の精度で所定の角度位置に停止するよう
に制御され、停止時には、回転自在とされることが好ま
しい。そうすることによって回転駆動手段４は、回転軸
３および基板支持台２を略所定の角度位置に振動なくス
ムーズに停止させることができる。
【００２１】カップ１０は、その内径側は回転軸３の外
周に近接し、外径側は、基板支持台２の外縁よりもさら
に外側で適当な大きさを有し、上下２段に構成されて、
上部１０ａは、必要に応じて上方にせりあがる。カップ
１０内は図示しない排気機構によって排気され、使用後
の処理液の回収が迅速に行なわれる。
周に近接し、外径側は、基板支持台２の外縁よりもさら
に外側で適当な大きさを有し、上下２段に構成されて、
上部１０ａは、必要に応じて上方にせりあがる。カップ
１０内は図示しない排気機構によって排気され、使用後
の処理液の回収が迅速に行なわれる。
【００２２】次に、図３に基づいて、位置決め手段５を
説明する。図３において、基板支持台２は、より大きな
外径を有する基板支持台２ａに変更可能である。
説明する。図３において、基板支持台２は、より大きな
外径を有する基板支持台２ａに変更可能である。
【００２３】凹部６は、基板支持台２の外周に、外径方
向に向けて開口するように形成されている。入口開口の
幅Ｈは、回転駆動手段４による停止位置制御の誤差（停
止角度の誤差）を含みうる大きさを有している。また、
入口開口から奥に向けて開口の幅は狭くなり、最奥部
は、挿入されるローラ状の係合体７の大きさに合わせた
扇形となっている。
向に向けて開口するように形成されている。入口開口の
幅Ｈは、回転駆動手段４による停止位置制御の誤差（停
止角度の誤差）を含みうる大きさを有している。また、
入口開口から奥に向けて開口の幅は狭くなり、最奥部
は、挿入されるローラ状の係合体７の大きさに合わせた
扇形となっている。
【００２４】係合体７は、ロッド８１の先端に回転可能
に支持されたローラ状のものであり、係合体駆動手段８
によって凹部６に向けて進退する。
に支持されたローラ状のものであり、係合体駆動手段８
によって凹部６に向けて進退する。
【００２５】係合体駆動手段８は、先端に係合体６を支
持するロッド８１と、ロッド８１を進退させる第１直線
駆動機構８２と、第１直線駆動機構８２を進退させる第
２直線駆動機構８３と、第２直線駆動機構８３を固定す
るハウジング８４とからなる。また、第１直線駆動機構
８２の先端のロッド８１の摺動部には、直進性を向上さ
せるためにガイド８５が設けられている。
持するロッド８１と、ロッド８１を進退させる第１直線
駆動機構８２と、第１直線駆動機構８２を進退させる第
２直線駆動機構８３と、第２直線駆動機構８３を固定す
るハウジング８４とからなる。また、第１直線駆動機構
８２の先端のロッド８１の摺動部には、直進性を向上さ
せるためにガイド８５が設けられている。
【００２６】第１直線駆動機構８２は、ロッドレスシリ
ンダを内蔵し、ピストンの動きに沿って移動するテーブ
ルをガイドする部材がシリンダの外周に設けられて、テ
ーブルに取り付けられたロッド８１の直進性が高精度に
されたものが最適に利用される。第２直線駆動機構８３
も同様な構成で、テーブルに取り付けられた第１直線駆
動手段８２の直進性が高精度となるように調整されてい
ることが好ましい。第２直線駆動機構のストロークＳ２
によって、第１直線駆動機構８２は進出し、第１直線駆
動機構８１のストロークＳ１によってロッド８１が進出
する。
ンダを内蔵し、ピストンの動きに沿って移動するテーブ
ルをガイドする部材がシリンダの外周に設けられて、テ
ーブルに取り付けられたロッド８１の直進性が高精度に
されたものが最適に利用される。第２直線駆動機構８３
も同様な構成で、テーブルに取り付けられた第１直線駆
動手段８２の直進性が高精度となるように調整されてい
ることが好ましい。第２直線駆動機構のストロークＳ２
によって、第１直線駆動機構８２は進出し、第１直線駆
動機構８１のストロークＳ１によってロッド８１が進出
する。
【００２７】ガイド８５は、第１直線駆動機構８２のロ
ッド８１の進出する側の先端部分に設けられており、内
部に適当な長さを有するベアリング８６が備えられてお
り、ベアリング８６でロッド８１を摺動自在に支持し、
ロッド８１の直進性の精度を上げている。
ッド８１の進出する側の先端部分に設けられており、内
部に適当な長さを有するベアリング８６が備えられてお
り、ベアリング８６でロッド８１を摺動自在に支持し、
ロッド８１の直進性の精度を上げている。
【００２８】次に、係合体７の動作を図３に基づいて説
明する。図３において、係合体７は、基板１の処理が行
なわれている間など、基板の位置決めを必要としないと
きには、退避位置Ｐ０に退避している。そして、基板の
搬入や搬出が行なわれるときには、基板支持台２または
基板支持台２ａは、回転駆動手段４によって、略所定の
角度位置に停止する。
明する。図３において、係合体７は、基板１の処理が行
なわれている間など、基板の位置決めを必要としないと
きには、退避位置Ｐ０に退避している。そして、基板の
搬入や搬出が行なわれるときには、基板支持台２または
基板支持台２ａは、回転駆動手段４によって、略所定の
角度位置に停止する。
【００２９】図３において、実線で示される比較的外径
の小さな基板支持台２の、所定の角度位置Ｐへの正確な
位置決めを行なうときには、まず、第２直線駆動機構８
３を駆動させ、ストロークＳ２の距離だけ第１直線駆動
手段８２を進出させ、係合体７を位置Ｐ２まで進出させ
る。続いて、第１直線駆動機構８２を駆動させ、ストロ
ークＳ１の距離だけロッド８１を進出させ、係合体７を
位置Ｐ２まで進出させる。位置Ｐ２では、凹部６は略所
定の角度位置にあって、所定角度位置Ｐ（一点鎖線で示
される）に位置決めされておらず、位置Ｐ２の手前で、
係合体７は、凹部の入口開口の幅Ｈ内のいずれかに当接
する。そのまま、第１直線駆動機構８２によって押され
て、係合体７は凹部６の奥部に向けて摺動しながら進出
し、凹部６に伴なって基板支持台２を周方向に移動さ
せ、所定の角度位置Ｐに位置決めする。
の小さな基板支持台２の、所定の角度位置Ｐへの正確な
位置決めを行なうときには、まず、第２直線駆動機構８
３を駆動させ、ストロークＳ２の距離だけ第１直線駆動
手段８２を進出させ、係合体７を位置Ｐ２まで進出させ
る。続いて、第１直線駆動機構８２を駆動させ、ストロ
ークＳ１の距離だけロッド８１を進出させ、係合体７を
位置Ｐ２まで進出させる。位置Ｐ２では、凹部６は略所
定の角度位置にあって、所定角度位置Ｐ（一点鎖線で示
される）に位置決めされておらず、位置Ｐ２の手前で、
係合体７は、凹部の入口開口の幅Ｈ内のいずれかに当接
する。そのまま、第１直線駆動機構８２によって押され
て、係合体７は凹部６の奥部に向けて摺動しながら進出
し、凹部６に伴なって基板支持台２を周方向に移動さ
せ、所定の角度位置Ｐに位置決めする。
【００３０】図３において、２点鎖線で示される大型の
基板支持台２ａの位置決めを行なうときには、第２直線
駆動手段８３のみを駆動させて、係合体７を進出位置Ｐ
２で凹部６ａと係合させ、凹部６ａに伴なって基板支持
台２ａを周方向に移動させ、所定角度位置Ｐに位置決め
する。
基板支持台２ａの位置決めを行なうときには、第２直線
駆動手段８３のみを駆動させて、係合体７を進出位置Ｐ
２で凹部６ａと係合させ、凹部６ａに伴なって基板支持
台２ａを周方向に移動させ、所定角度位置Ｐに位置決め
する。
【図１】図１は、本発明の回転式基板処理装置の一実施
形態を示す正面図である。
形態を示す正面図である。
【図２】図２は、図１の回転式基板処理装置の平面図で
ある。
ある。
【図３】図３は、図２の回転式基板処理装置の要部の構
成図と動作説明図である。
成図と動作説明図である。
１ 基板
２、２ａ 基板支持台
３ 回転軸
４ 回転駆動手段
５ 位置決め手段
６ 凹部（被係合部）
７ 係合体（係合部材）
８ 係合体駆動手段
３０ 軸心
８１ ロッド
８２ 第１直線駆動機構
８３ 第２直線駆動機構
８５ ガイド
Ｐ 所定角度位置
Ｐ１、Ｐ２ 進出位置
Ｓ１、Ｓ２ ストローク
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ
５６９Ｃ
(56)参考文献 特開 平５−228796（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−146843（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−92709（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/68
B05C 11/08
B05C 13/02
G03F 7/16 501
G03F 7/30 501
H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 回転軸と、該回転軸の回転駆動手段と、
前記回転軸の上端回りに設けられ、その外径が少なくと
も基板の対角線よりも大きい円板形状を呈し、当該基板
を載置して前記回転軸とともに当該回転軸の軸心を中心
に水平回転する基板支持台と、該基板支持台を所定角度
位置に位置決めする位置決め手段とを備えて構成される
回転式基板処理装置であって、 前記位置決め手段は、前記基板支持台の外周に形成され
た凹部と、前記基板支持台の近傍に配設され、前記凹部
に対し進退可能に設けられた係合体と、前記係合体を前
記凹部に向けて進出させ、前記凹部と前記係合体とを係
合せしめる係合体駆動手段とを備えて構成され、 前記係合体駆動手段は、前記基板支持台の径方向外方か
ら中心に向かって進出させるように前記係合体を支持す
るロッドと、該ロッドを進退させる直線駆動機構と、前
記ロッドを摺動自在に支持するガイドとを備えて構成さ
れるとともに、前記係合体の進出位置を多段階に変化可
能に構成されてなることを特徴とする回転式基板処理装
置。 - 【請求項２】 前記係合体駆動手段は、複数の直線駆動
機構を、それぞれ他の直線駆動機構を進退させるように
直列的に組み合わせ、各直線駆動機構のストロークで前
記係合体の進出位置を多段階に制御させるように構成さ
れてなる請求項１記載の回転式基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000357227A JP3513105B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000357227A JP3513105B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 回転式基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002164415A JP2002164415A (ja) | 2002-06-07 |
| JP3513105B2 true JP3513105B2 (ja) | 2004-03-31 |
Family
ID=18829327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000357227A Expired - Fee Related JP3513105B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 回転式基板処理装置 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3513105B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP6847770B2 (ja) * | 2017-05-31 | 2021-03-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| CN109003933B (zh) * | 2018-09-07 | 2024-03-15 | 武汉灿光光电有限公司 | 一种to精密定位装置 |
-
2000
- 2000-11-24 JP JP2000357227A patent/JP3513105B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002164415A (ja) | 2002-06-07 |
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