JP4971294B2 - 基板処理装置、基板処理方法、及び表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
矩形状の基板に処理液を供給してスピン処理を行う基板処理装置であって、
前記基板の中央部を保持して回転させるステージと、
前記ステージ上に載置された前記基板の四隅を下方より支持する支持ピンと、
前記支持ピンが複数設けられたリングと、
前記リングを上下に移動させる上下駆動機構と、を備え、
前記基板に前記処理液を供給するときは、前記支持ピンが前記基板の四隅を下方より支持して該基板の撓みを補うように前記支持ピンを上昇させ、
前記スピン処理を行うときは、前記支持ピンが前記基板から離れるように前記支持ピンを下降させるものである。
102 吸着ステージ、103 支持ピン、
104 リング、105 ベローズバルブ、
106 モータ、107 カップ、
108 回転軸、111、112 傾斜面、
113 上側エッジ、114 下側エッジ、
115 上側エッジ、116 下側エッジ、
120 ボールブッシュ、121 ベローズ、
122 空気導入孔、
123 上フランジ、124 下フランジ
Claims (8)
- 矩形状の基板に処理液を供給してスピン処理を行う基板処理装置であって、
前記基板の中央部を保持して回転させるステージと、
前記ステージ上に載置された前記基板の四隅を下方より支持する支持ピンと、
前記支持ピンが複数設けられたリングと、
前記リングを上下に移動させる上下駆動機構と、を備え、
前記基板に前記処理液を供給するときは、前記支持ピンが前記基板の四隅を下方より支持して該基板の撓みを補うように前記支持ピンを上昇させ、
前記スピン処理を行うときは、前記支持ピンが前記基板から離れるように前記支持ピンを下降させる基板処理装置。 - 前記上下駆動機構は、
内部が密閉されたベローズと、
前記ベローズ内部に設けられ、前記ベローズの伸縮をガイドするガイド機構と、を備え、
圧縮空気を用いて前記ベローズを伸縮させて、前記リングの上下動作を行う請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記上下駆動機構が前記リングに複数取り付けられており、該複数の上下駆動機構において前記ベローズを伸縮させる前記圧縮空気は、同じ圧縮空気源から同じ長さの配管を介して導入される請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記リングは、
前記基板側の表面が、外周端と内周端の間の位置から前記外周端及び前記内周端に向かって厚みが薄くなる方向に滑らかに傾斜し、
前記外周端及び前記内周端が円弧状にR面取りされている請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記リングの表面は、コーティング処理されている請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記基板に対して現像処理を行う現像処理装置であり、
前記処理液が現像液であり、
前記スピン処理時に前記基板に純水を供給する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板処理装置を用いて基板の処理を行う基板処理方法。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板処理装置を用いて基板の処理を行う工程を備える表示装置の製造方法。
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