JP4685914B2 - ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 132
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 17
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 49
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 49
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 101100327917 Caenorhabditis elegans chup-1 gene Proteins 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 4
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
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- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
回転テーブルに保持された被洗浄物を回転駆動される洗浄ブラシによって洗浄するブラシ洗浄装置において、
上記回転テーブルを回転駆動する第1の駆動手段と、
上記洗浄ブラシを回転駆動する第2の駆動手段と、
上記洗浄ブラシを上記被洗浄物の径方向に沿って揺動させる揺動駆動手段と、
上記洗浄ブラシを被洗浄物の径方向中心部から外方へ揺動させたときに、その揺動の過程において上記洗浄ブラシの上記被洗浄物に接触する端面と上記被洗浄物の上記端面が接触する部分との相対速度が、所望するパーティクル密度で上記被洗浄物を洗浄するために必要な予め設定された相対速度を常に維持するように、上記第1の駆動手段による上記回転テーブルの回転速度と第2の駆動手段による上記洗浄ブラシの回転速度とを上記揺動駆動手段による上記洗浄ブラシの揺動位置と上記径方向中心部にて設定された洗浄条件である上記回転テーブルの回転速度、上記洗浄ブラシの回転速度とに基づいて制御する制御手段と
を具備したことを特徴とする。
回転テーブルに保持された被洗浄物を回転駆動される洗浄ブラシによって洗浄するブラシ洗浄方法において、
上記洗浄ブラシを上記被洗浄物に接触させ径方向中心部から外方へ揺動させる揺動工程と、
上記洗浄ブラシと被洗浄物の接触部位に洗浄液を供給する供給工程と、
上記洗浄ブラシを上記被洗浄物の径方向中心部から外方へ揺動させたときに、その揺動の過程において上記洗浄ブラシの上記被洗浄物に接触する端面と上記被洗浄物の上記端面が接触する部分との相対速度が、所望するパーティクル密度で上記被洗浄物を洗浄するために必要な予め設定された相対速度を常に維持するように、上記回転テーブルの回転速度と上記洗浄ブラシの回転速度とを上記洗浄ブラシの揺動位置と上記径方向中心部にて設定された洗浄条件である上記回転テーブルの回転速度、上記洗浄ブラシの回転速度とに基づいて制御する制御工程と
を具備したことを特徴とする。
16 モータ(第1の駆動手段)
34 モータ(第2の駆動手段)
36 ノズル体
38 スポンジブラシ(洗浄ブラシ)
39 ノズル孔
64 制御装置(制御手段)
Claims (3)
- 回転テーブルに保持された被洗浄物を回転駆動される洗浄ブラシによって洗浄するブラシ洗浄装置において、
上記回転テーブルを回転駆動する第1の駆動手段と、
上記洗浄ブラシを回転駆動する第2の駆動手段と、
上記洗浄ブラシを上記被洗浄物の径方向に沿って揺動させる揺動駆動手段と、
上記洗浄ブラシを被洗浄物の径方向中心部から外方へ揺動させたときに、その揺動の過程において上記洗浄ブラシの上記被洗浄物に接触する端面と上記被洗浄物の上記端面が接触する部分との相対速度が、所望するパーティクル密度で上記被洗浄物を洗浄するために必要な予め設定された相対速度を常に維持するように、上記第1の駆動手段による上記回転テーブルの回転速度と第2の駆動手段による上記洗浄ブラシの回転速度とを上記揺動駆動手段による上記洗浄ブラシの揺動位置と上記径方向中心部にて設定された洗浄条件である上記回転テーブルの回転速度、上記洗浄ブラシの回転速度とに基づいて制御する制御手段と
を具備したことを特徴とするブラシ洗浄装置。 - 上記制御手段には、上記洗浄ブラシの回転数と上記被洗浄物の回転数とを種々の値に設定し上記洗浄ブラシを上記被洗浄物の径方向中心部から外方へ揺動させたときの上記相対速度データである洗浄条件のデータと、上記洗浄条件のデータごとの、被洗浄物の上面に残留するパーティクル密度である清浄度合のデータとが予め記憶されていて、上記清浄度合の入力により、その清浄度合を得るための上記相対速度を決定し、決定した相対速度となるよう上記第1の駆動手段と第2の駆動手段を制御することを特徴とする請求項1記載のブラシ洗浄装置。
- 回転テーブルに保持された被洗浄物を回転駆動される洗浄ブラシによって洗浄するブラシ洗浄方法において、
上記洗浄ブラシを上記被洗浄物に接触させ径方向中心部から外方へ揺動させる揺動工程と、
上記洗浄ブラシと被洗浄物の接触部位に洗浄液を供給する供給工程と、
上記洗浄ブラシを上記被洗浄物の径方向中心部から外方へ揺動させたときに、その揺動の過程において上記洗浄ブラシの上記被洗浄物に接触する端面と上記被洗浄物の上記端面が接触する部分との相対速度が、所望するパーティクル密度で上記被洗浄物を洗浄するために必要な予め設定された相対速度を常に維持するように、上記回転テーブルの回転速度と上記洗浄ブラシの回転速度とを上記洗浄ブラシの揺動位置と上記径方向中心部にて設定された洗浄条件である上記回転テーブルの回転速度、上記洗浄ブラシの回転速度とに基づいて制御する制御工程と
を具備したことを特徴とするブラシ洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008293841A JP4685914B2 (ja) | 2008-11-17 | 2008-11-17 | ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008293841A JP4685914B2 (ja) | 2008-11-17 | 2008-11-17 | ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17613498A Division JP4268237B2 (ja) | 1998-06-23 | 1998-06-23 | ブラシ洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009049432A JP2009049432A (ja) | 2009-03-05 |
JP4685914B2 true JP4685914B2 (ja) | 2011-05-18 |
Family
ID=40501295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008293841A Expired - Fee Related JP4685914B2 (ja) | 2008-11-17 | 2008-11-17 | ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4685914B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170110008A (ko) | 2016-03-22 | 2017-10-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 세정 장치 |
US10643865B2 (en) | 2016-03-22 | 2020-05-05 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning apparatus |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5661564B2 (ja) * | 2011-06-10 | 2015-01-28 | 株式会社荏原製作所 | 洗浄性能予測方法及び基板洗浄方法 |
KR102279523B1 (ko) * | 2018-01-30 | 2021-07-20 | 주식회사 케이씨텍 | 브러쉬 세정 장치 |
JP2019192849A (ja) * | 2018-04-27 | 2019-10-31 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
CN212919048U (zh) * | 2020-07-03 | 2021-04-09 | 苏州众创阳光新能源科技有限公司 | 一种真空泵维修装置 |
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JPH08255776A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-10-01 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置および洗浄方法 |
JPH09162145A (ja) * | 1995-12-13 | 1997-06-20 | Ricoh Co Ltd | ウエハ洗浄装置 |
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US10643865B2 (en) | 2016-03-22 | 2020-05-05 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning apparatus |
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---|---|
JP2009049432A (ja) | 2009-03-05 |
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