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ＡｒＦ液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
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パターン形成方法
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2013-02-18 |
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住友化学株式会社 |
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2013-09-11 |
2016-04-13 |
信越化学工業株式会社 |
スルホニウム塩、化学増幅型レジスト組成物、及びパターン形成方法
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2014-01-10 |
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信越化学工業株式会社 |
オニウム塩、化学増幅型ポジ型レジスト組成物、及びパターン形成方法
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2014-01-10 |
2016-10-19 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅型ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
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2014-03-24 |
2017-01-11 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅型ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
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2014-06-09 |
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信越化学工業株式会社 |
化学増幅型レジスト組成物及びパターン形成方法
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レジスト組成物
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信越化学工業株式会社 |
新規オニウム塩化合物及びレジスト組成物並びにパターン形成方法
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(ja)
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2014-11-07 |
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信越化学工業株式会社 |
新規オニウム塩化合物及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法
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Shrink material and pattern forming process
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信越化学工業株式会社 |
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
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2015-04-13 |
2019-06-19 |
信越化学工業株式会社 |
新規オニウム塩化合物を用いた化学増幅型ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
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2015-04-28 |
2018-09-26 |
信越化学工業株式会社 |
レジスト組成物及びパターン形成方法
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感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
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2017-07-20 |
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感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物
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2016-04-28 |
2019-10-02 |
信越化学工業株式会社 |
新規カルボン酸オニウム塩、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法
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(ja)
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2016-05-11 |
2019-10-02 |
信越化学工業株式会社 |
新規スルホニウム化合物及びその製造方法、レジスト組成物、並びにパターン形成方法
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2016-08-05 |
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信越化学工業株式会社 |
ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
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(ja)
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2016-10-12 |
2021-03-24 |
信越化学工業株式会社 |
スルホニウム化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法
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2016-12-28 |
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2016-12-28 |
2022-01-26 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
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(ja)
|
2016-12-28 |
2022-01-26 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
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(ja)
*
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2018-08-09 |
2023-01-10 |
住友ベークライト株式会社 |
感光性樹脂組成物、及び、電子装置
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(ja)
|
2018-09-05 |
2022-03-08 |
信越化学工業株式会社 |
スルホニウム化合物、ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
|
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(ja)
|
2018-09-11 |
2023-10-19 |
信越化学工業株式会社 |
ヨードニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法
|
|
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(ja)
|
2018-09-28 |
2023-01-17 |
信越化学工業株式会社 |
オニウム塩、レジスト組成物及びパターン形成方法
|
|
JP7099250B2
(ja)
|
2018-10-25 |
2022-07-12 |
信越化学工業株式会社 |
オニウム塩、ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
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(ja)
|
2019-03-06 |
2022-12-20 |
信越化学工業株式会社 |
エポキシ化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法
|
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(ja)
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2019-03-06 |
2023-10-24 |
信越化学工業株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
|
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JP7096189B2
(ja)
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2019-03-22 |
2022-07-05 |
信越化学工業株式会社 |
レジスト組成物及びパターン形成方法
|
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(ja)
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2021-02-12 |
2024-01-17 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
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JP7415972B2
(ja)
|
2021-02-12 |
2024-01-17 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
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(ja)
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2022-04-26 |
2023-11-08 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
|
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(ja)
|
2022-06-01 |
2023-12-13 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
|
JP2023177272A
(ja)
|
2022-06-01 |
2023-12-13 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
|
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(ja)
|
2022-06-01 |
2023-12-13 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
|
JP2023177048A
(ja)
|
2022-06-01 |
2023-12-13 |
信越化学工業株式会社 |
化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
|
JP2023182038A
(ja)
|
2022-06-14 |
2023-12-26 |
信越化学工業株式会社 |
オニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法
|