JP2002048299A - 集積化ガス制御装置 - Google Patents
集積化ガス制御装置Info
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Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 40
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 20
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 19
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 8
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 216
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 12
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000003496 welding fume Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJEPCLZVXSSTRW-UHFFFAOYSA-N F.F.F.Cl Chemical compound F.F.F.Cl GJEPCLZVXSSTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 N 2 O Chemical compound 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000003562 lightweight material Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/003—Housing formed from a plurality of the same valve elements
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
- F17D1/00—Pipe-line systems
- F17D1/02—Pipe-line systems for gases or vapours
- F17D1/04—Pipe-line systems for gases or vapours for distribution of gas
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/877—With flow control means for branched passages
- Y10T137/87885—Sectional block structure
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Valve Housings (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
Abstract
の短縮化、低コスト化、メンテナンスの簡易化等を図る
ことができ、また、確実なシール状態を得て信頼性を向
上させることができ、更には使用するガス制御機器に型
式の差異による制約を受けないようにして利便性を向上
させることができる。 【解決手段】 基台10の凹所36に複数の中間流路ブ
ロック11と終端流路ブロック12を配置する。基台1
0の両側突出部35に取付け装置13、14を取付け
る。取付け装置13、14により複数種のガス制御機器
2〜9における第1のガス流路17、31、第2のガス
流路18、32を流路ブロック11、12のガス流路4
0、47にメタルガスケットを介して連通させた位置決
め状態で、ガス制御機器2〜9を流路ブロック11、1
2側へ加圧してガス制御機器2〜9を流路ブロック1
1、12に接続する。
Description
製造装置において、高純度のガスの供給制御、パージガ
スによる浄化等の所望の用途でパネル状に集積化して使
用される集積化ガス制御装置に関する。
ス制御装置としては、大別して3つの方式が知られてい
る。第1の方式にあっては、複数種のガス制御機器を継
手、配管により連結してガス制御ラインを構成する。そ
して、この多数組を並列に配置してパネル状に集積化し
ている。
00−146071号公報に記載されているように、複
数の流路ブロックをベースプレート上に固定し、前記流
路ブロック上にシール材を介してガス制御機器を載せて
前記流路ブロックのガス流路と前記ガス制御機器の流路
とを連通させ、前記ガス制御機器のフランジ、若しくは
突出ブロックを前記流路ブロックにねじにより取外し可
能に取付けてガス制御ラインを構成する。そして、この
多数組を並列に配置してパネル状に集積化している。
願平11−124377号として提案したように、複数
組のガス制御機器取付けブロックと流路ブロックとを組
合せてベースプレート上に取付け、前記ガス制御機器取
付けブロックの円筒状部に前記ガス制御機器の円柱状の
ボディを挿入してこのボディと前記流路ブロックとの間
にシール材を介在させるとともに、前記ボディのガス流
路を前記流路ブロックのガス流路に連通させ、前記ガス
制御機器のボディの外周に設けたユニオンナットを前記
ガス制御機器取付けブロックの円筒状部に形成されてい
るねじ部に螺着してガス制御ラインを構成する。そし
て、この多数組を並列に配置してパネル状に集積化して
いる。
来例のうち、第1の方式のように複数種のガス制御機器
を配管、継手を用いて連結すると、ガス制御ラインが長
くなり、半導体製造装置に占めるガス制御装置の内容積
が増大する。また、ガス制御ラインは、一般的に各々異
なる流路構成となるが、ガス制御機器の着脱が困難であ
るため、設計、製作、組立のためのトータル製作リード
タイムが長くなり、新設時の初期立上がり時間が長くな
り、製作にも手数を要し、高価となる。その上、ガス制
御機器の交換が困難であるため、流路変更の必要が生じ
た場合、これに対応することができない。また、性能面
では、溶接ヒューム、パーティクルが発生し、溶接部の
脆性劣化が生じて配管の寿命が短くなり、コスト面で
は、製品歩留りが悪く、メンテナンス費が高価となる。
更に、ガス制御装置のコンパクト化を図ることができな
いため、パネル状に構成するに当たり、表、裏の多面配
置や多層配置を必要とするケースが多い。
並べた流路ブロックにガス制御機器を取付けるので、装
置全体のコンパクト化を図って半導体製造装置に占める
内容積を減少させることができ、しかも、溶接ヒューム
等の発生の解消による装置の長寿命化等を図ることがで
きる。また、ガス制御機器を流路ブロックに対して容易
に着脱することができるので、ガス制御機器を容易に交
換することができ、したがって、トータル製作リードタ
イムの短縮化、製作の簡易化による低コスト化、メンテ
ナンスの簡易化によるメンテナンス費の低減等を図るこ
とができる。しかしながら、ガス制御機器のフランジ、
若しくは突出ブロックを複数箇所でねじにより取付ける
に際し、ガス制御機器と流路ブロックとの間にはOリン
グ等の弾性シール材が介在されており、しかも、ガス制
御機器の姿勢を一定に保つ機能も備えていないため、片
締めが発生しやすく、信頼性に劣る。
ブロックと組合わせたガス制御機器取付けブロックに取
付けるようにしているので、前記のような第2の方式に
よる利点を有する。更には、ガス制御機器のボディの外
周に設けたユニオンナットをガス制御機器取付けブロッ
クの円筒状部に螺着することにより、ガス制御機器を流
路ブロックに接続するので、ガス制御機器の全体を偶力
を発生させずにバランス良く締め付けることができ、緊
密なシールを確保することができ、したがって、信頼性
を向上させることができる。しかしながら、ガス制御機
器のボディの形状が円柱状に特定されてしまうため、第
2の方式で用いたフランジ、若しくは突出ブロックを備
えたガス制御機器に交換使用することができず、利用者
の利便性を図ることができない。
を解決するものであり、流路ブロックを用いた前記従来
例が有する装置全体のコンパクト化、製作リードタイム
の短縮化、低コスト化、メンテナンスの簡易化等の各利
点を得ることができることは勿論のこと、ガス制御機器
の全体を片締を抑制しながらバランス良く締め付けるこ
とができて流路ブロックとの緊密なシール確保すること
ができ、したがって、信頼性を向上させることができ、
また、フランジ部、若しくは突出ブロックを一体的に備
えたねじ止めタイプのガス制御機器に交換使用すること
ができるようにして交換使用するガス制御機器の型式の
制約を抑制することができ、したがって、利用者の利便
性を向上させることができるようにした集積化ガス制御
装置を提供するにある。
に本発明の集積化ガス制御装置は、底面側に開放した第
1のガス流路および第2のガス流路を有する複数種のガ
ス制御機器と、両側に突出部を有し、これら突出部間に
溝状の凹所を有する基台と、前記基台の凹所における中
間部に配置され、両側部を頂部側へ開放したガス流路を
有する中間流路ブロックと、前記基台の凹所における両
側端部に配置され、一側部を前記の隣り合う中間流路ブ
ロック側寄り位置で頂部側へ開放したガス流路を有する
終端流路ブロックと、前記基台の両側突出部に取外し可
能に取付けられ、前記各ガス制御機器の第1のガス流路
および第2のガス流路における開放部を前記の隣り合う
流路ブロックのガス流路における隣り合う開放部に連通
し得る位置決め状態で、前記各ガス制御機器を前記流路
ブロック側へ移動し得るように支持し得る支持手段およ
び前記各支持手段により位置決め状態に支持された前記
各ガス制御機器を前記流路ブロック側に加圧して接続す
るための接続手段から成るガス制御機器取付け手段と、
前記各ガス制御機器の各ガス流路と前記各流路ブロック
のガス流路とを連通させた状態で両者間をシールするシ
ール手段とを備えたものである。
および第2のガス流路を底面側に開放した円柱状のボデ
ィを有し、前記ガス制御機器取付け手段における支持手
段が、前記ガス制御機器のボディを挿入することができ
る円筒状部、この円筒状部の下部外周に一体的に設けら
れ、基台の両側突出部上に重ねられるフランジ部を有す
る支持台を備え、前記ガス制御機器取付け手段における
接続手段が、前記支持台の円筒状部における上部周囲に
形成されたねじ部と、前記ガス制御機器のボディの外周
に設けられ、前記ボディを前記支持台の円筒状部に挿入
した状態で、前記ねじ部に螺着して前記ボディを前記流
路ブロック側へ加圧する筒状接続部材とを備えることが
でき、この場合、前記ガス制御機器取付け手段における
支持台と前記中間流路ブロックおよび終端流路ブロック
とを互いに形成された凹凸状の位置決め用係合部により
位置決めし、また、前記ガス制御機器取付け手段におけ
る支持手段のフランジ部を前記基台の両側突出部に頂面
側から底面側へ向かって形成されたねじ穴にねじにより
取付けるようにするのが好ましい。
央部に第1のガス流路および第2のガス流路を底面側に
開放した突出ブロックを有し、前記ガス制御機器取付け
手段における支持手段が、前記突出ブロックを支持する
ように前記基台の両側突出部の4箇所に立設された支柱
を備え、前記ガス制御機器取付け手段における接続手段
が、前記突出ブロックの両側に配置された前記支柱に跨
って連係され、中央部に貫通するねじ穴を有するクラン
プ用ブロックと、前記クランプ用ブロックのねじ穴に螺
合され、前記突出ブロックを前記流路ブロック側へ加圧
するボルトとを備えることができ、この場合、前記ガス
制御機器取付け手段における支柱を前記基台の両側突出
部に頂面側から底面側へ向かって形成されたねじ穴に螺
入するのが好ましい。
おける第1のガス流路および第2のガス流路の底面開放
側の周縁部に形成されたシーリング用環状突出部と、前
記中間流路ブロックおよび終端流路ブロックの頂面開放
側の周縁部に形成されたシーリング用環状突出部と、前
記各ガス制御機器における第1のガス流路および第2の
ガス流路と前記流路ブロックのガス流路とを連通させる
穴を有し、前記ガス制御機器と前記流路ブロックとの間
に前記各シーリング用環状突出部の食い込み状態で介在
されるメタルガスケットとを備えることができる。この
メタルガスケットはガス制御機器側に保持手段により保
持させておくのが好ましい。
ックが、前記ガス制御機器取付け手段により前記ガス制
御機器を接続する際に前記シール手段を介して前記基台
に対して取外し可能に押圧固定されるように構成するこ
とができる。
組立てられた状態で前記ガス制御機器取付け手段により
前記流路ブロックに取外し可能に接続するように構成す
ることができる。
として、トグル型手動ダイヤフラム弁、フィルタユニッ
ト、レギュレータ、圧力トランスデューサ、自動ダイヤ
フラム弁、パージ弁から選択使用することができ、前記
突出ブロックを有するガス制御機器としてマスフローコ
ントローラを用いることができる。
て図面を参照しながら説明する。図1ないし図12はそ
れぞれ本発明の一実施形態に係る集積化ガス制御装置を
示し、図1は一列のガス制御ラインの全体平面図、図2
は一列のガス制御ラインの全体正面図、図3、図4、図
5は図2における左側部、中間部、右側部の拡大縦断面
図、図6、図7は一部分解斜視図、図8はガス制御機器
を取付ける前の状態の平面図、図9(a)、(b)、
(c)はそれぞれ一方のタイプの中間流路ブロックを示
す平面図、側面図、中央部縦断面図、図10(a)、
(b)、(c)はそれぞれ他方のタイプの中間流路ブロ
ックを示す平面図、側面図、中央部縦断面図、図11
(a)、(b)、(c)はそれぞれ終端流路ブロックを
示す平面図、側面図、中央部縦断面図、図12(a)、
(b)、(c)はそれぞれ支持台を示す平面図、一部破
断側側面図、中央部縦断面図である。
示すようなガス制御ライン1が複数列(図示例では一列
のみ示している)に並設される。各ガス制御ライン1
は、縦型に構成された所望のガス制御機器が組み合わさ
れて構成される。本実施形態におけるガス制御ライン1
は、その一例として、ガス流路を開閉するトグル型手動
ダイヤフラム弁2、ガス中に含まれる不純物を除去する
フィルタユニット3、ガスの圧力を調整するレギュレー
タ4、流れるガスの圧力を検出する圧力トランスデュー
サ5、流路を開閉する自動ダイヤフラム弁6、パージガ
スの供給に用いるパージ弁7、ガスの流量を制御するマ
スフローコントローラ8、ガス流路を開閉する自動ダイ
ヤフラム弁9が組み合わされ、基台10に設けられた中
間流路ブロック11、終端流路ブロック12に取付け装
置13、14により接続された状態で取外し可能に取付
けられる。
ユニット3、レギュレータ4、圧力トランスデューサ
5、自動ダイヤフラム弁6、パージ弁7、マスフローコ
ントローラ8および自動ダイヤフラム弁9は、それぞれ
備えている機能においては公知であるので、その詳細に
ついては説明を省略するが、図3ないし図5から明らか
なように、それぞれ機能部分が内蔵され、一つの構成単
位として組立てられた状態で一体的に取付け装置13、
14により中間流路ブロック11、終端流路ブロック1
2に接続され、若しくは交換のために一つの構成単位と
して組立てられた状態で一体的に中間流路ブロック1
1、終端流路ブロック12から外されるように構成され
ている。
ユニット3、レギュレータ4、圧力トランスデューサ
5、自動ダイヤフラム弁6、パージ弁7および自動ダイ
ヤフラム弁9は、ボディ15を有している(なお、トグ
ル型手動ダイヤフラム弁2、フィルタユニット3、レギ
ュレータ4、圧力トランスデューサ5、自動ダイヤフラ
ム弁6、パージ弁7および自動ダイヤフラム弁9の機能
等により各ボディ15はその長さ、形状等を異にし、そ
の他についてもその長さ、方向等を異にするが、ここで
は説明の便宜上、以下においても同一機能部分について
は同一符号を付して説明する。)。
を有し、円柱状部16より底部側には円柱状部16の外
径より小さい長方形状部17を有し、長方形状部17は
トグル型手動ダイヤフラム弁6等の配列方向に沿う両側
が長辺となり、トグル型手動ダイヤフラム弁6等の配列
方向と直角方向の両側が短辺となり、底面が平坦面を有
するように形成されている。各ボディ15内には第1の
ガス流路18と第2のガス流路19とが形成され、各ガ
ス流路18、19の一方は機能部分側へ開放され、他方
は底面側に開放され、底面側の開放部は軸心からほぼ等
距離位置でほぼ同径となるように設定されている。ボデ
ィ15の底面には各ガス流路18、19の開放部周縁に
おいてシーリング用環状突出部20、21が形成され、
各環状突出部20、21は先端部が断面において尖るよ
うに形成されている。トグル型手動ダイヤフラム弁2、
圧力トランスデューサ5、自動ダイヤフラム弁6、パー
ジ弁7、自動ダイヤフラム弁9の各ボディ15の上部外
周にはフランジ部22が一体的に設けられ、各フランジ
部22にはほぼ180度位相をずらした位置で位置決め
用係合部23,24が切欠かれている。フィルタユニッ
ト3、レギュレータ4の各ボディ15の中間部における
段部25にはほぼ180度位相をずらした位置で位置決
め用係合部23、24が切欠かれている。
側に突出ブロック26、27を有し、各突出ブロック2
6、27は基部側の幅が広く、その先方の幅が狭く、そ
の両側面が係合部28となっている(図7参照)。各突
出ブロック26、27の幅狭部における底部側には円形
状の溝29により円形状部30が形成され、この円形状
部30の底面が平坦面を有するように形成されている。
マスフローコントローラ8の突出ブロック26、27に
は第1のガス流路31と第2のガス流路32とが形成さ
れ、各ガス流路31、32の一方は機能部分側へ開放さ
れ、他方は突出ブロック26、27の円形状部30の軸
心に沿うようにしてその底部平坦面側に開放されてい
る。突出ブロック26、27の底面には各ガス流路3
1、32の開放部周縁においてシーリング用環状突出部
33、34が形成され、各環状突出部は先端側が断面に
おいて湾曲するように形成されている。
アルミニウム等から成り、長辺方向に沿う両側に突出部
35を有し、両側の突出部35間に長辺方向に沿う溝状
の凹所36を有している。両側突出部35の頂面は平面
状に形成され、凹所36は垂直壁と平面状の底面とによ
り横断面において矩形状に形成されている。
ユニット3との間、フィルタユニット3とレギュレータ
4との間、レギュレータ4と圧力トランスデューサ5と
の間、圧力トランスデューサ5と自動ダイヤフラム弁6
との間、自動ダイヤフラム弁6とパージ弁7との間にそ
れぞれ跨って使用される中間流路ブロック11はステン
レス鋼等により同様に構成される。特に、図9(a)〜
(c)から明らかなように、基台10の凹所36の幅に
適合する幅を有し、全体として直方体状に形成され、頂
面側において、中央部に位置決め用係合部37が突出さ
れ、位置決め用係合部37の両側にそれより少し低い位
置決め用係合部38が突出され、位置決め用係合部38
の外側の端部側にはそれより低い平坦状の接続部39が
形成されている。接続部39の位置決め用係合部38側
は中間流路ブロック11の中央部側へ突出する円弧状に
形成されている。各中間流路ブロック11にはガス流路
40が形成されている。各ガス流路40はその中間部分
が中間流路ブロック11の軸心に沿うように水平方向に
形成され、この水平部の両端部で頂面側へ直角方向に屈
曲されて接続部39に開放されている(なお、各ガス流
路40は前記のようにU字状に形成するほか、V字状に
形成することもできる。)。各接続部39にはガス流路
40の開放部周縁においてシーリング用環状突出部41
が突設され、このシーリング用環状突出部41は先端部
が断面において尖るように形成され、位置決め用係合部
38より低くなるように設定されている。各中間流路ブ
ロック11が基台10の凹所36に挿入された状態で、
位置決め用係合部37、38が基台10の突出部35よ
り高く突出されるように設定されている(図3ないし図
5参照)。
の間、マスフローコントローラ8と自動ダイヤクラム弁
9との間にそれぞれ跨って使用される中間流路ブロック
11は、特に、図10(a)〜(c)から明らかなよう
に、位置決め用係合部37の一側に位置決め用係合部3
8が突設され、他側にマスフローコントローラ8の突出
ブロック26、27における幅狭部の底面を載せる載置
面42が位置決め用係合部38より少し低く、しかも、
シーリング用環状突出部41より僅かに高く形成され、
平坦状の接続部39が円形状に形成され、環状突出部4
1の先端側が断面において湾曲するように形成された点
を除き、図9に示す前記中間流路ブロック11とほぼ同
様の構成である。そして、この各中間流路ブロック11
は、基台10の凹所36に挿入された状態で位置決め用
係合部37、38が基台10の突出部35より高く突出
され、載置面42が突出部35とほぼ同じ高さになるよ
うに設定されている(図4、図5参照)。
により同様に構成される。特に、図11(a)〜(c)
から明らかなように、基台10の凹所36の幅に適合す
る幅を有し、中央部から一側部に亘って直方体状に形成
され、他側部が円柱状に形成されている。直方体状部の
頂面側において、円柱状部側の端部に位置決め用係合部
43が突設され、位置決め用係合部43の一側端部側に
はそれより順次低くなる位置決め用係合部44、平坦状
の接続部45が形成されている。接続部45の位置決め
用係合部44側は終端流路ブロック12の中央部側へ突
出する円弧状に形成されている。円柱状部の中間部外周
にはねじ46が形成されている。各終端流路ブロック1
2にはガス流路47が形成されている。各ガス流路47
は円柱状部の端面側から終端流路ブロック12の軸心に
沿うように水平方向に形成され、この水平部の端部で頂
面側へ直角方向に屈曲されて接続部45に開放されてい
る。各接続部45にはガス流路47の開放部周縁におい
てシーリング用環状突出部48が突設され、このシーリ
ング用環状突出部48はその先端側が断面において尖る
ように形成され、位置決め用係合部44より低くなるよ
うに設定されている。各円柱状部の端面にもガス流路4
7の開放部周縁においてシーリング用環状突出部49が
突設されている。
12とは位置決め用係合部37と43、位置決め用係合
部38と44、接続部39と45、シーリング用環状突
出部41と48がそれぞれほぼ同一高さとなるように設
定されている。
凹所36にはその両端部において終端流路ブロック12
の直方体状部が取外し可能に挿入され、各終端流路ブロ
ック12のねじ部46が基台10の外方に突出され、凹
所36にはその中間部において中間流路ブロック11が
取外し可能に挿入されている。トグル型手動ダイヤフラ
ム弁2とフィルタユニット3との間、フィルタユニット
3とレギュレータ4との間、レギュレータ4と圧力トラ
ンスデューサ5との間、圧力トランスデューサ5と自動
ダイヤフラム弁6との間、自動ダイヤフラム弁6とパー
ジ弁7との間にそれぞれ跨る中間流路ブロック11とし
ては、図9(a)〜(c)に示すように、両側に位置決
め用係合部38を有するタイプのものが用いられて一方
の終端流路ブロック12に隣接するように配置されてい
る。パージ弁7とマスフローコントローラ8との間、マ
スフローコントローラ8と自動ダイヤフラム弁9との間
にそれぞれ跨る一対の中間流路ブロック11としては、
図10(a)〜(c)に示すように、一側に位置決め用
係合部38を有し、他側に載置面42を有するタイプの
ものが用いられ、互いに間隔を存して前記最終段の中間
流路ブロック11と他方の終端流路ブロック12に隣接
するように配置されている。
ユニット3、レギュレータ4、圧力トランスデューサ
5、自動ダイヤフラム弁6、パージ弁7および自動ダイ
ヤフラム弁9の取付け装置13は、支持台50、筒状接
続部材であるユニオンナット51等から構成され、これ
ら支持台50、ユニオンナット51はトグル型手動ダイ
ヤフラム弁2等の形状等により高さ、外径等を異にする
が、基本的構造については同様であるので、便宜上、同
じ機能を有する部分については同じ符号を付し、異なる
部分についてのみ異なる符号を付して説明する。
特に、図12(a)〜(c)から明らかなように、円筒
状部52の下端部外周に角形状のフランジ部53が一体
的に設けられている。円筒状部52の外周には雄ねじ5
4が形成され、フランジ部52の四隅部には座ぐりを有
するねじ取付け穴55が形成されている。各ねじ取付け
穴55は前記基台10の両側突出部35にトグル型手動
ダイヤフラム弁2等の各取付け位置に対応して各4箇所
に頂面側から底面側へ向かって形成されたねじ穴56に
対応するように設定されている。円筒状部52はトグル
型手動ダイヤフラム弁2等のボディ15を挿入し、かつ
ボディ15の円柱状部16を密に嵌合し得るように設定
され、円筒状部52の頂面にはほぼ180度位相をずら
した位置で位置決め用係合部57、58が一体的に突出
されている。
態で、円筒状部52の位置決め用係合部57,58にボ
ディ15側の位置決め用係合部23、24が係合され、
円筒状部52にボディ15が位置決め状態で軸方向にの
み移動し得るように支持されるようになっている(図3
ないし図5参照)。このとき、例えば、対応する位置決
め用係合部57および位置決め用係合部23の幅と、位
置決め用係合部58および位置決め用係合部24の幅と
を変えるなどにより、ボディ15を円筒状部52に挿入
する際、ボディ15の円筒状部52に対する挿入方向、
すなわち、第1のガス流路18と第2のガス流路19の
位置が正しくなるように規制することができる。
59が凹入され、この位置決め用係合部59は中間流路
ブロック11の位置決め用係合部38、終端流路ブロッ
ク12の位置決め用係合部44に係合し得るような幅、
深さに設定されている。そして、支持台50の位置決め
用係合部59が終端流路ブロック12の位置決め用係合
部44と終端流路ブロック12に隣接する中間流路ブロ
ック11の位置決め用係合部38に跨って係合され、隣
接する中間流路ブロック11同士の位置決め用係合部3
8に跨って係合される。
付け穴55が基台10のねじ穴56に対応し得るように
位置決めされ、また、フランジ部53の側面が隣接する
終端流路ブロック12の位置決め用係合部43と中間流
路ブロック11の位置決め用係合部37の側面、隣接す
る中間流路ブロック11同士の位置決め用係合部37の
側面に係合され、支持台50と中間流路ブロック11と
がトグル型手動ダイヤフラム弁2等の配列方向において
位置決めされるようになっている。なお、終端流路ブロ
ック12を基台10に図示していない係合穴と係合ピン
との係合など、所望の位置決め手段により位置決めする
ことにより、全体を外れないように位置決めすることが
できる(図1ないし図5、図8参照)。
ないし図8、特に、図8から明らかなように、終端流路
ブロック12の接続部45と中間流路ブロック11にお
ける終端流路ブロック12との隣接側の接続部39およ
び隣接する中間流路ブロック11の隣接側の接続部39
同士が支持台50内に位置するようにし、基台10の凹
部36内における頂部開放側で円弧状部を両側に有する
ほぼ長円形状に凹入されている。そして、この凹入部、
すなわち、平坦部が支持台50に支持されるボディ15
における底部平坦面に対応し得るようになっている。ま
た、終端流路ブロック12のガス流路47における頂面
側開放部およびシーリング用環状突出部48および隣接
する中間流路ブロック11のガス流路40における終端
流路ブロック12隣接側の頂面側開放部と、隣接する中
間流路ブロック11のガス流路40における隣接側の頂
面開放部およびシーリング用環状突出部41とがそれぞ
れ支持台50に支持されるボディ15の第1のガス流路
18、第2のガス流路19における底面側開放部および
シーリング用環状突出部20、21と対応し得るように
なっている。
で、ねじ60が支持台50のフランジ部53のねじ取付
け穴55から基台10のねじ穴56に螺入されて支持台
50のフランジ部53が基台10に取外し可能で固定状
態に取付けられることにより、終端流路ブロック12、
中間流路ブロック11は位置決め状態で、しかも、抜止
め状態に保持されている。
に、トグル型手動ダイヤフラム弁2、圧力トランスデュ
ーサ5、自動ダイヤフラム弁6、パージ弁7および自動
ダイヤフラム弁9のボディ15の外周部には組立時にボ
ディ15の上方からステンレス鋼等から成るユニオンナ
ット51が軸回りで回転可能に、かつフランジ部の内面
がボディ15フランジ部22の頂面に係合されるように
嵌合されている。フィルタユニット3、レギュレータ4
にあっては、その組立時にボディの上方からユニオンナ
ット51を嵌合することができない。そこで、ユニオン
ナット51がボディ15に底部側から嵌合された後、底
部側からステンレス鋼等から成る係合用ナット61が嵌
合され、位置決め用係合部23、24の上方における大
径のねじ部62に螺着されてユニオンナット51のフラ
ンジ部の内面が係合用ナット61の頂面に係合されてい
る。
鋼等から成る枠状の保持部材63が取外し可能に取付け
られ、保持部材63によりボディ15の底面側にステン
レス鋼等から成るメタルガスケット64が保持されてい
る。メタルガスケット64の底面は保持部材63から突
出され、この突出部の外周形状は、前記のように流路ブ
ロック11、12の接続部44および38、接続部38
および38と基台10の凹所36における垂直壁との組
合わせで形成される長円形状の凹入部(図8参照)に対
応する長円形状にされている。メタルガスケット64の
両側部には穴65、66が形成され、これらの65、6
6は第1のガス流路18、第2のガス流路19に連通さ
れている。
うにトグル型手動ダイヤフラム弁2等のボディ15がメ
タルガスケット64等と共に挿入されて位置決め状態に
支持され、メタルガスケット64の底部側が前記のよう
に流路ブロック11、12の接続部44および38、接
続部38および38における長円形状の凹入部に挿入さ
れる。トグル型手動ダイヤフラム弁2、自動ダイヤフラ
ム弁9にあっては、それらのボディ15における第1の
ガス流路18と第2のガス流路19の開放部がメタルガ
スケット64の穴65と66により隣接する終端流路ブ
ロック12のガス流路47の開放部と中間流路ブロック
11のガス流路40の開放部に連通されている。フィル
タユニット3、レギュレータ4、圧力トランスデューサ
5、自動ダイヤフラム弁6、パージ弁7にあっては、そ
れらのボディ15における第1のガス流路18と第2の
ガス流路19の開放部がメタルガスケット64の穴65
と66により隣接する中間流路ブロック11のガス流路
40の開放部に連通されている。
の各ボディ15に嵌合されているユニオンナット51が
支持台50の円筒状部52における外周の雄ねじ部54
に螺着され、各ボディ15、メタルガスケット64等が
流路ブロック11、12側へ加圧されることにより、メ
タルガスケット64がボディ15の底部平坦面と流路ブ
ロック11、12の接続部44、39である平坦面との
間でメタルガスケット64の穴65、66の周縁部にシ
ーリング用環状突出部20、21、48、41が食い込
んだ確実なシール状態で介在され、トグル型手動ダイヤ
フラム弁2等が流路ブロック11、12に接続された状
態に保持される。前記のようにシーリング用環状突出部
20、21、48、41の先端側が尖るように形成する
ことにより、これらを比較的小さい加圧力でメタルガス
ケット64に食い込ませることができる。このとき、メ
タルガスケット64がボディ15の底面平坦面と流路ブ
ロック11、12の平坦面に当接することにより、メタ
ルガスケット64に対するシーリング用環状突出部2
0、21、48、41の食い込みを規制することができ
るが、シーリング用環状突出部20、21、48、41
の先端側を断面において湾曲させることにより、メタル
ガスケット64に対する食い込みを規制する必要がない
ので、平坦面をメタルガスケット64に当接させないよ
うにすることもできる。
ロック11、12に対する接続に際し、前記のようにト
グル型手動ダイヤフラム弁2等はそのボディ15が支持
台50に流路ブロック11、12に対して位置決めさ
れ、流路ブロック11、12側へ移動可能に支持された
状態でユニオンナット51により加圧される。したがっ
て、トグル型手動ダイヤフラム弁2等の流路ブロック1
1、12に対する接続時にトグル型手動ダイヤフラム弁
2等が前記位置決め状態から傾くおそれがないので、片
締めのおそれがなく、緊密なシールを確保することがで
きる。特に、前記のようにボディ15の外周に設けたユ
ニオンナット51を支持台50に螺着することにより、
トグル型手動ダイヤフラム弁2等を流路ブロック11、
12に接続するので、トグル型手動ダイヤフラム弁2等
の全体を簡単な操作で偶力を発生させずにバランス良く
締め付けることができる。
4は、特に、図5、図7から明らかなように、支柱6
7、クランプ用ブロック68、ボルト69等から構成さ
れる。支柱67はステンレス鋼等から成り、底部側外周
にねじ70を有し、頂部側に頂部71、中間部72より
小径となる支持部73が形成されている。前記基台10
の両側突出部35にはパージ弁7と自動ダイヤフラム弁
9との間でマスフローコントローラ8の取付け位置に対
応して頂面側から底面側へ向かって計4箇所にねじ穴7
4が形成され、各ねじ穴74に支柱67のねじ70が螺
着されている。クランプ用ブロック68はステンレス鋼
等から成り、両側に支柱67の支持部73に軸方向に沿
って移動し得る係合溝75が形成され、クランプ用ブロ
ック68の頂面側で係合溝75の側方開放側における端
部にはクランプ用ブロック68の上昇時に支柱67の頂
部71に係合し得る係合用突部76が一体的に設けられ
ている。クランプ用ブロック68の中央部には頂面から
底面に貫通するねじ穴77が形成され、このねじ穴77
にボルト69が挿通状態で螺合されるようになってい
る。
26、27における底部の円形状部外周部には溝29内
でステンレス鋼等から成る枠状の保持部材78が取外し
可能に取付けられ、保持部材78により突出ブロック2
6、27の底部側にステンレス鋼等から成るメタルガス
ケット79が保持されている。メタルガスケット79の
底面は保持部材78から突出され、この突出部の外周形
状は前記のように中間流路ブロック11における円形で
平坦状の接続部39に対応する円形状に形成されてい
る。メタルガスケット79の中央部には穴80が形成さ
れ、この穴80が第1のガス流路31、若しくは第2の
ガス流路32に連通されている。
フローコントローラ8の突出ブロック26、27におけ
る基部両側部の係合部28が係合されて位置決め状態で
上下動が許されるように支持され、メタルガスケット7
9の底部側が前記のように中間流路ブロック11におけ
る円形状の接続部39に挿入される。これに伴い、突出
ブロック26、27の平坦面が中間流路ブロック11に
おける平坦状の接続部39に対応され、突出ブロック2
6、27における第1のガス流路31と第2のガス流路
32の開放部およびシーリング用環状突出部33、34
がメタルガスケット79を介して中間流路ブロック11
のガス流路40の開放部およびシーリング用環状突出部
41に対応されている。
の支柱67における支持部73にクランプ用ブロック6
8における係合溝75が上下動可能に係合されている。
各クランプ用ブロック68のねじ穴77にボルト69が
挿通状態で螺合され、各ボルト69の先端の曲面状突出
部81が突出ブロック26、27の頂面中央部に形成さ
れた曲面状凹入部82に係合される。そして、ボルト6
9が回転されることにより、まず、両側の支柱67によ
り回転規制されているクランプ用ブロック68が上昇
し、支柱67の頂部71の底面に当接されて上昇規制さ
れ、この状態で係合用突部76が頂部71に係合され、
クランプ用ブロック68はその係合溝75の奥側と係合
用突部76とで頂部71を挟むことになり、支柱67か
らの離脱が防止される。続いて、ボルト69が回転され
てクランプ用ブロック68のねじ穴77からの下方への
突出長さが長くなることにより、ボルト69の曲面状突
出部81により突出ブロック26、27の曲面状凹入部
82が加圧され、メタルガスケット79の穴80の周縁
部にシーリング用環状突出部33、34、41が食い込
むとともに、突出ブロック26、27の幅狭の突出部が
中間流路ブロック11の載置面42に載置された安定状
態で、かつ確実なシール状態でマスフローコントローラ
38が中間流路ブロック11に接続された状態に保持さ
れる。勿論、このマスフローコントローラ8の接続に際
し、シーリング用環状突出部33、34、41の先端側
を断面において尖らせておくこともでき、この場合に
は、メタルガスケット79に対するシーリング用環状突
出部33、34、41の食い込みを規制するためにメタ
ルガスケット79を突出ブロック26、27の平坦面と
中間流路ブロック11の接続部39である平坦面との間
に当接状態に介在させるようにすればよい。
ック11に対する接続に際し、前記のようにマスフロー
コントローラ8はその突出ブロック26、27がその係
合部28と支柱67により流路ブロック11に対して位
置決めされ、流路ブロック11側へ移動可能に支持され
た状態でボルト69により加圧される。したがって、マ
スフローコントローラ8が前記位置決め状態から支柱6
7により狭まれた方向においては傾くおそれがなく、支
柱67により狭まれていない方向のみの片締めに注意す
ればよいので、片締めのおそれが少なく、緊密なシール
状態を確保することができる。
弁2等の所望のガス制御機器が流路ブロック11、12
により接続されることにより、図1、図2に示すよう
に、ガス制御ライン1が構成され、所望本数のガス制御
ライン1が並列されることにより、パネル状の集積化ガ
ス制御装置が構成される。このような集積化ガス制御装
置において、一方の終端に位置する終端流路ブロック1
2がねじ部36によりガス供給源側に接続され、他方の
終端に位置する終端流路ブロック12がねじ部36によ
り所望のガス供給先側に接続される。そして、前記のよ
うにパネル状に構成された集積化ガス制御装置に用いる
ことにより、多数のガス制御ライン1において、トグル
型手動ダイヤフラム弁2等のガス制御機器を作動させる
ことにより、窒素ガス、水素ガス、モノシラン、シジラ
ン、水素希釈ホスフィン、N2O、三弗化クロライド等
の高純度ガスの圧力制御、流量制御、混合、パージガス
等の供給時の制御を確実に安定して行うことができる。
置において、支持台50を用いて取付けているトグル型
手動ダイヤフラム弁2等のいずれかのガス制御機器を交
換するには、そのユニオンナット51を緩めることによ
り、トグル型手動ダイヤフラム弁2等をメタルガスケッ
ト64と共に支持台50から外す。そして、新しいガス
制御機器をメタルガスケット64と共に、前記と同様に
して、支持台50に取付けて流路ブロック11、12と
接続状態に保持することができる。マスフローコントロ
ーラ8を交換するには、まず、ボルト69を緩め、突出
ブロック26、27の押圧状態を解放するとともに、ク
ランプ用ブロック68を支柱67の支持部73内で下降
させて係合用突部76を支柱67の頂部71から離脱さ
せる。続いて、クランプ用ブロック68を支柱67から
外し、マスフローコントローラ8をメタルガスケット7
9と共に支柱67に沿って上方へ外す。そして、新しい
マスフローコントローラ8をメタルガスケット79と共
に、前記と同様にして、支柱67にクランプ用ブロック
68、ボルト69等により取付けて流路ブロック11と
接続状態に保持することができる。
等の各ガス制御機器の交換に際し、各ガス制御機器は、
前記のように一つの構成単位として組立てられた状態を
維持して一体的に取り外し、取付けることができるの
で、その作業性を向上させることができるとともに、利
用者の利便性を向上させることができる。
手動ダイヤフラム弁2等のいずれかのガス制御機器を支
持台50と共に交換するには、支持台50のねじ60を
外すことにより、トグル型手動ダイヤフラム弁2等をメ
タルガスケット64、支持台50と共に外す。そして、
新しいガス制御機器をメタルガスケット64、支持台5
0と共に交換する。その際、前記と同様に、まず、支持
台50を基台10にねじ60により取付け、その後、ガ
ス制御機器をメタルガスケット64と共にユニオンナッ
ト51により支持台50に取付けて流路ブロック11、
12と接続状態に保持することができる。この場合、支
持台50のねじ60による取付け位置を標準化しておく
ことにより、別の機能を有するガス制御機器を交換使用
することができる。
手動ダイヤフラム弁2等のいずれかのガス制御機器を支
持台50、流路ブロック11、12と共に交換するに
は、支持台50のねじ60を外すことにより、トグル型
手動ダイヤフラム弁2等をメタルガスケット64、支持
台50と共に外す。終端流路ブロック12については端
部に位置するトグル型手動ダイヤフラム弁2、自動ダイ
ヤフラム弁9を支持台50と共に外すことにより、その
まま基台10から外して交換することができる。しかし
ながら、中間流路ブロック11については、隣接するガ
ス制御機器によりメタルガスケット64、79を介して
加圧されているため、この隣接するガス制御機器を支持
台50に対して緩め、若しくは外すことにより、その下
側の中間流路ブロック11の加圧状態を解除することが
できるので、その中間流路ブロック11を全体を分解す
ることなく、基台10から外して交換することができ
る。
について標準化しておくことにより、前記トグル型手動
ダイヤフラム弁2等の所望のガス制御機器、若しくはす
べてのガス制御機器を必要に応じて前記従来のようにフ
ランジを一体的に有するガス制御機器に交換することも
可能である。また、マスフローコントローラ8について
も基台10におけるねじ穴74の配置について標準化し
ておくことにより、前記従来例のように突出ブロックに
ガス流路の両側に位置してねじ取付け穴を有するタイプ
のマスフローコントローラに交換することも可能であ
る。なお、これらの交換に際しては、本実施形態のよう
に支持台50や支柱67によりガス制御機器を位置決め
して支持した状態で取付けることができないため、片締
めの問題を生じ、流路ブロック11、12との確実な接
続状態を得ることができないおそれがあることについて
は、前記のように従来技術の問題として記載していると
おりである。
よれば、ガス制御ライン1を分解せずに、ユニオンナッ
ト51やボルト69を螺着したり、外したり、更には支
持台50をねじ60で取付けたり、外したりすることに
より、所望のガス制御機器を簡単に着脱できるので、メ
ンテナンスが簡単で、その費用も安価となる。また、ガ
ス制御ライン1は、標準化された支持台50、流路ブロ
ック11、12を用いることにより、高自由度な流路構
成を得ることができるとともに、設計、製作、組立に要
するトータル製作リードタイムを短縮することができ、
したがって、半導体製造装置等を新設する際の初期立上
り時間を短縮することができ、その上、流路構成の短縮
化、直線化を図ることができ、しかも、置換性、応答性
等の性能も向上する。
ロック11を用いるので、流路ブロック同士を接続する
必要がなく、ガス制御ライン1の長さを短縮化すること
ができる。また、ガス制御機器をユニオンナット51、
ボルト69により加圧することにより、中間流路ブロッ
ク11、終端流路ブロック12を基台10に固定するこ
とができ、中間流路ブロック11、終端流路ブロック1
2自体を基台10に固定しなくてもよいので、組立作業
を容易に、かつ迅速に行うことができることは勿論のこ
と、加工箇所、部品点数を削減することができ、しか
も、ガス制御機器のボディ15、中間流路ブロック1
1、終端流路ブロック12、支持台50等を標準化する
ことができるので、更に一層、製作リードタイムの短縮
化とコスト低減を実現することができる。
型手動ダイヤフラム弁2等の各ガス制御機器にあって
は、そのボディ15を支持台50の円筒状部52に挿入
し、ボディ15の外周に嵌合したナットを円筒状部52
の内周に形成した雌ねじに螺合することもできるが、前
記本実施形態のように、各ガス制御機器のボディ15を
支持台50の円筒状部52に挿入し、ボディ15の外周
に嵌合したユニオンナット51を円筒状部52の外周に
形成した雄ねじ54に螺合することにより、ユニオンナ
ット51を雄ねじ54に対して着脱する際に両ねじ部か
ら発生するパーティクル等が円筒状部52内に侵入する
のを防止することができる。
ロック12についてはガス中に不純物が混入しないよう
にするために、前記のようにステンレス鋼を用いるのが
好ましいが、基台10についてはガスと接触しないの
で、前記のようにアルミニウム等の軽量な材料を用いる
ことができ、全体の軽量化を図ることができる。
0に取外し可能に取付けることに限定されるものではな
く、例えば、クランプ装置のような他の取付け手段によ
り基台10に取外し可能に取付けるようにしてもよい。
また、トグル型手動ダイヤフラム弁2等を位置決め状態
で支持する手段も前記実施形態における支持台50の構
成に限定されるものではなく、前記支持手段にトグル型
手動ダイヤフラム弁2等を取付けて流路ブロック11、
12と接続した状態に保持する手段もユニオンナット5
1に限定されるものではなく、トグル型手動ダイヤフラ
ム弁2等を支持手段により位置決め状態に支持している
ので、いかなる接続手段を用いても片締めを生じるおそ
れはない。また、マスフローコントローラ8を位置決め
状態で支持する手段も支柱67に限定されるものではな
く、任意の手段を採用することができ、マスフローコン
トローラ8を流路ブロック11と接続した状態に保持す
る手段もクランプ用ブロック68、ボルト69等に限定
されるものではなく、マスフローコントローラ8を支持
手段により位置決め状態に支持しているので、いかなる
接続手段を用いても片締めを抑制することができる。こ
のほか、本発明は、その基本的技術思想を逸脱しない範
囲で種々設計変更することができる。
間流路ブロック、終端流路ブロックにより複数のガス制
御機器を接続するので、装置全体のコンパクト化、製作
リードタイムの短縮化、低コスト化、メンテナンスの簡
易化等を図ることができる。また、基台の凹所に中間流
路ブロックと終端流路ブロックを挿入し、基台の両側突
出部に複数箇所で取外し可能に取付けた支持手段にガス
制御機器を位置決めして支持した状態で接続手段により
流路ブロックにシール手段を介して接続状態に保持する
ことができるので、ガス制御機器を簡単な操作で片締め
を抑制しながら、そのガス流路を流路ブロックのガス流
路と連通した確実なシ−ル状態で接続することができ、
したがって、信頼性を向上させることができる。また、
基台の両側突出部にねじ穴を形成しておくことにより、
従来のトグル型手動ダイヤフラム弁等のようにボディの
下端部外周にフランジ部を一体的に有し、フランジ部の
隅部にねじ取付け穴を有するタイプの各ガス制御機器や
従来のマスフローコントローラのように両側の突出ブロ
ックにガス流路の両側に位置してねじ取付け穴を有する
ガス制御機器に交換使用することができるようにし、使
用するガス制御機器に型式の差異による制約を受けない
ようにすることでき、したがって、利用者の利便性を向
上させることができる。
における一列のガス制御ラインを示す全体の平面図であ
る。
ンを示す全体の正面図である。
における中央部縦断面図である。
における中央部縦断面図である。
における中央部縦断面図である。
ある。
ある。
を取付ける前の状態における基台、流路ブロック、支持
台等を示す平面図である。
ス制御装置に用いる一方のタイプの中間流路ブロックを
示す平面図、側面図、中央部縦断面図である。
ガス制御装置に用いる他方のタイプの中間流路ブロック
を示す平面図、側面図、中央部縦断面図である。
ガス制御装置に用いる終端流路ブロックを示す平面図、
側面図、中央部縦断面図である。
ガス制御装置に用いる支持台を示す平面図、一部破断側
面図、中央部縦断面図である。
を解決するものであり、流路ブロックを用いた前記従来
例が有する装置全体のコンパクト化、製作リードタイム
の短縮化、低コスト化、メンテナンスの簡易化等の各利
点を得ることができることは勿論のこと、ガス制御機器
の全体を片締を抑制しながらバランス良く締め付けるこ
とができて流路ブロックとの緊密なシール状態を確保す
ることができ、したがって、信頼性を向上させることが
でき、また、フランジ部、若しくは突出ブロックを一体
的に備えたねじ止めタイプのガス制御機器に交換使用す
ることができるようにして交換使用するガス制御機器の
型式の制約を抑制することができ、したがって、利用者
の利便性を向上させることができるようにした集積化ガ
ス制御装置を提供するにある。
ック11に対する接続に際し、前記のようにマスフロー
コントローラ8はその突出ブロック26、27がその係
合部28と支柱67により流路ブロック11に対して位
置決めされ、流路ブロック11側へ移動可能に支持され
た状態でボルト69により加圧される。したがって、マ
スフローコントローラ8が前記位置決め状態から支柱6
7により挟まれた方向においては傾くおそれがなく、支
柱67により挟まれていない方向のみの片締めに注意す
ればよいので、片締めのおそれが少なく、緊密なシール
状態を確保することができる。
Claims (12)
- 【請求項1】 底面側に開放した第1のガス流路および
第2のガス流路を有する複数種のガス制御機器と、両側
に突出部を有し、これら突出部間に溝状の凹所を有する
基台と、前記基台の凹所における中間部に配置され、両
側部を頂部側へ開放したガス流路を有する中間流路ブロ
ックと、前記基台の凹所における両側端部に配置され、
一側部を前記の隣り合う中間流路ブロック側寄り位置で
頂部側へ開放したガス流路を有する終端流路ブロック
と、前記基台の両側突出部に取外し可能に取付けられ、
前記各ガス制御機器の第1のガス流路および第2のガス
流路における開放部を前記の隣り合う流路ブロックのガ
ス流路における隣り合う開放部に連通し得る位置決め状
態で、前記各ガス制御機器を前記流路ブロック側へ移動
し得るように支持し得る支持手段および前記各支持手段
により位置決め状態に支持された前記各ガス制御機器を
前記流路ブロック側に加圧して接続するための接続手段
から成るガス制御機器取付け手段と、前記各ガス制御機
器の各ガス流路と前記各流路ブロックのガス流路とを連
通させた状態で両者間をシールするシール手段とを備え
た集積化ガス制御機器。 - 【請求項2】 ガス制御機器が、第1のガス流路および
第2のガス流路を底面側に開放した円柱状のボディを有
し、ガス制御機器取付け手段における支持手段が、前記
ガス制御機器のボディを挿入することができる円筒状
部、この円筒状部の下部外周に一体的に設けられ、基台
の両側突出部上に重ねられるフランジ部を有する支持台
を備え、前記ガス制御機器取付け手段における接続手段
が、前記支持台の円筒状部における上部周囲に形成され
たねじ部と、前記ガス制御機器のボディの外周に設けら
れ、前記ボディを前記支持台の円筒状部に挿入した状態
で、前記ねじ部に螺着して前記ボディを流路ブロック側
へ加圧する筒状接続部材とを備えた請求項1記載の集積
化ガス制御装置。 - 【請求項3】 ガス制御機器取付け手段における支持台
と中間流路ブロックおよび終端流路ブロックとが互いに
形成された凹凸状の位置決め用係合部により位置決めさ
れる請求項2記載の集積化ガス制御装置。 - 【請求項4】 ガス制御機器取付け手段における支持手
段のフランジ部が、基台の両側突出部に頂面側から底面
側へ向かって形成されたねじ穴にねじにより取付けられ
た請求項2または3記載の集積化ガス制御装置。 - 【請求項5】 ガス制御機器が、底部の両側中央部に第
1のガス流路および第2のガス流路を底面側に開放した
突出ブロックを有し、ガス制御機器取付け手段における
支持手段が、前記突出ブロックを支持するように基台の
両側突出部の4箇所に立設された支柱を備え、前記ガス
制御機器取付け手段における接続手段が、前記突出ブロ
ックの両側に配置された前記支柱に跨って連係され、中
央部に貫通するねじ穴を有するクランプ用ブロックと、
前記クランプ用ブロックのねじ穴に螺合され、前記突出
ブロックを流路ブロック側へ加圧するボルトとを備えた
請求項1ないし4のいずれかに記載の集積化ガス制御装
置。 - 【請求項6】 ガス制御機器取付け手段における支柱
が、基台の両側突出部に頂面側から底面側へ向かって形
成されたねじ穴に螺入された請求項5記載の集積化ガス
制御装置。 - 【請求項7】 シール手段が、各ガス制御機器における
第1のガス流路および第2のガス流路の底面開放側周縁
部に形成されたシーリング用環状突出部と、中間流路ブ
ロックおよび終端流路ブロックの頂面開放側周縁部に形
成されたシーリング用環状突出部と、前記各ガス制御機
器における第1のガス流路および第2のガス流路と前記
流路ブロックのガス流路とを連通させる穴を有し、前記
ガス制御機器と前記流路ブロックとの間に前記各シーリ
ング用環状突出部の食い込み状態で介在されるメタルガ
スケットとを備えた請求項1ないし6のいずれかに記載
の集積化ガス制御装置。 - 【請求項8】 メタルガスケットがガス制御機器側に保
持手段により保持された請求項7記載の集積化ガス制御
装置。 - 【請求項9】 中間流路ブロックおよび終端流路ブロッ
クが、ガス制御機器取付け手段によりガス制御機器を接
続する際にシール手段を介して基台に対して取外し可能
に押圧固定される請求項1ないし8のいずれかに記載の
集積化ガス制御装置。 - 【請求項10】 ガス制御機器が一つの構成単位として
組立てられた状態でガス制御機器取付け手段により流路
ブロックに取外し可能に接続される請求項1ないし9の
いずれかに記載の集積化ガス制御装置。 - 【請求項11】 ガス制御機器が、トグル型手動ダイヤ
フラム弁、フィルタユニット、レギュレータ、圧力トラ
ンスデューサ、自動ダイヤフラム弁、パージ弁から選択
使用される請求項2ないし4のいずれかに記載の集積化
ガス制御装置。 - 【請求項12】 ガス制御機器がマスフローコントロー
ラである請求項5または6記載の集積化ガス制御装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000233756A JP4156184B2 (ja) | 2000-08-01 | 2000-08-01 | 集積化ガス制御装置 |
KR1020010045011A KR100718936B1 (ko) | 2000-08-01 | 2001-07-26 | 집적화 가스 제어 장치 |
US09/915,299 US6546961B2 (en) | 2000-08-01 | 2001-07-27 | Integrated gas control device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000233756A JP4156184B2 (ja) | 2000-08-01 | 2000-08-01 | 集積化ガス制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002048299A true JP2002048299A (ja) | 2002-02-15 |
JP4156184B2 JP4156184B2 (ja) | 2008-09-24 |
Family
ID=18726233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000233756A Expired - Fee Related JP4156184B2 (ja) | 2000-08-01 | 2000-08-01 | 集積化ガス制御装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6546961B2 (ja) |
JP (1) | JP4156184B2 (ja) |
KR (1) | KR100718936B1 (ja) |
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---|---|
KR100718936B1 (ko) | 2007-05-16 |
US20020017329A1 (en) | 2002-02-14 |
US6546961B2 (en) | 2003-04-15 |
JP4156184B2 (ja) | 2008-09-24 |
KR20020011331A (ko) | 2002-02-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040422 |
|
A977 | Report on retrieval |
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