JP2000320697A - ガス供給制御ライン用弁 - Google Patents

ガス供給制御ライン用弁

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JP2000320697A
JP2000320697A JP11131142A JP13114299A JP2000320697A JP 2000320697 A JP2000320697 A JP 2000320697A JP 11131142 A JP11131142 A JP 11131142A JP 13114299 A JP13114299 A JP 13114299A JP 2000320697 A JP2000320697 A JP 2000320697A
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flow path
opening
supply control
valve
gas supply
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Yoshitomo Fukushima
良知 福島
Satoru Fukatsu
悟 深津
Yoshiro Kimura
美良 木村
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Benkan Corp
Original Assignee
Benkan Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 集積化ガス供給制御装置の小型化、ガス供給
制御ラインの増設、拡張の簡易化、集積用ブロックの流
路おける不純物の生成、付着等の効果的な防止等を図
る。 【解決手段】 集積用ブロック2に接続し得る弁本体3
1にプロセスガスを供給し得る第1の流路38、第2の
流路39と、パージ、若しくは排気用の第3の流路42
を形成する。第1の流路38は第1の開口部を集積用ブ
ロック2の流路における流出側開口部に連通することが
できる。第2の流路39は第1の開口部を集積用ブロッ
ク2の流路における流入側開口部に連通することができ
る。第3の流路42は第1の開口部を弁本体31の頂部
において、外部配管90等に連通することができる。第
1の流路38および第2の流路39における第2の開口
部を弁室40側で常時連通させる。弁室40に設けた弁
座45とダイヤフラム47により第1の流路38および
第2の流路39における第2の開口部と第3の流路42
における第2の開口部とを連通させ、若しくは遮断す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体、液晶等の
製造装置に用い、高純度のガスを供給、制御するために
各種のガス供給制御機器が複数列のガス供給制御ライン
を構成するようにパネル状に集積化されたガス供給制御
装置において、安全対策のために各ガス供給制御ライン
間に跨るように接続し、パージライン、排気ライン等に
用いるのに適するガス供給制御ライン用弁に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば、半導体製造装置におい
て、高純度のガスを供給、制御するために用いる集積化
ガス供給制御装置は、ベースプレート上にガス供給制御
ラインが複数列に構成されている。上記各ガス供給制御
ラインは、ガスの上流側から下流側に向かって自動ダイ
ヤフラム弁等の種々の弁、フィルタ、レギュレータ、マ
スフローコントローラ、マスフローメータ等、所望のガ
ス供給制御機器を組み合わせて接続する。また、上記の
ような高純度ガスの供給制御装置においては、安全対策
のために各ガス供給制御ラインに跨るようにパージライ
ン、排気ラインを接続する。従来、上記各ガス供給制御
ラインを構成するには、その一例として、所望のガス供
給制御機器を配管、継手の介在により順次接続するとと
もに、ベースプレート上に取付ける。また、パージライ
ン、排気ラインに逆止め弁と止め弁の二つの弁を組み合
わせて使用するが、これらの二つの弁も他のガス供給制
御機器と同様に、配管、継手の介在により接続するとと
もに、ベースプレート上に取り付けている。
【0003】しかしながら、上記従来例のように、すべ
てのガス制御供給機器を配管、継手の介在により接続す
ると、配管、継手に要するスペースを含むため、装置の
コンパクト化に自ら制約を受ける。また、配管、継手等
は流路の無駄な部分(デッドスペース)となるため、ガ
スの置換特性、流路抵抗の改善の妨げとなっている。更
に、組立て作業に手間と時間を要し、組立て作業能率に
劣る。
【0004】従来の他の例として、上記従来例の問題を
解消すべく、流路を有する集積用ブロックを用いて所望
のガス供給制御機器を順次接続するとともに、集積用ブ
ロックをベースプレートに取付けている。この集積化方
式には、パージライン、排気ラインに逆止め弁と止め弁
の二つの弁を組み合わせて用いる場合と、自動弁を用い
る場合とがある。前者においては、複連用の一つの集積
用ブロックにガス供給制御ライン方向に並べた状態で逆
止め弁と止め弁を取付け、止め弁を集積用ブロックの流
路によりガス供給制御ラインに接続し、逆止め弁を集積
用ブロックの流路により止め弁に接続するとともに、逆
止め弁をガス供給制御ライン間で配管により接続する。
後者においては、ガス供給制御ライン間に跨る複連用の
一つの集積用ブロックに自動弁を取付け、この自動弁を
集積用ブロックの流路によりガス供給制御ラインに接続
するとともに、集積用ブロックの直交方向の流路により
ガス供給制御ライン間で接続する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例のうち、逆止め弁と止め弁の二つを組合せて集積用
ブロックに取付けるようにした前者の構成では、逆止め
弁と止め弁をガス供給制御ラインの方向に沿って直列状
に並べるため、ガス供給制御ラインの短縮化に自ら制約
を伴う。また、逆止め弁はガス供給制御ラインと止め弁
とを接続する流路を避けて上方に形成した流路を利用し
て接続するため、集積用ブロックの流路と止め弁内の流
路とに垂直方向に無駄な比較的長い流路(デッドボリュ
ーム)を必要とし、装置全体の高さが高くなる。一方、
複連用の集積用ブロックに自動弁を取り付けるようにし
た後者の構成では、複連用の集積用ブロックによりガス
供給制御ライン数が規制されるため、ガス供給制御ライ
ンの増設、拡張に困難を伴う。また、複連用の集積用ブ
ロックでは、流路における不純物の生成、付着防止等の
ために加熱する際、集積用ブロックの両端面、すなわ
ち、両側のガス供給制御ライン部分しか加熱することが
できないため、中間のガス供給制御ライン部分を加熱す
ることができず、流路における不純物の生成、付着防止
等の効果に劣る。
【0006】本発明は、上記のような従来の問題を解決
しようとするものであり、ガス供給制御ライン方向の長
さ、ガス供給制御ラインの並列方向の間隔を短縮するこ
とができるとともに、高さを低くすることができて集積
化ガス供給制御装置全体の小型化を図ることができ、ま
た、ガス供給制御ラインの増設、拡張を容易に行うこと
ができて半導体等の製造効率の低下を防止することがで
き、更に、各列のガス供給制御ラインごとに集積用ブロ
ックを加熱することができて流路等における不純物の生
成、付着等を効果的に防止することができるようにした
ガス供給制御ライン用弁を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のガス供給制御ライン用弁は、集積用ブロック
に接続し得る弁本体と、この弁本体に形成され、第1の
開口部を上記集積用ブロックの流路における流出側開口
部に連通し得る第1の流路と、上記弁本体に形成され、
第1の開口部を上記集積用ブロックの流路における流入
側開口部に連通し得る第2の流路と、上記弁本体に形成
され、第1の開口部を上記弁本体の外部配管に連通し得
る第3の流路と、上記第1の流路および上記第2の流路
における第2の開口部を常時連通させ、上記第1の流路
および上記第2の流路における第2の開口部と上記第3
の流路における第2の開口部とを連通させ、若しくは遮
断し得る開閉手段と、上記開閉手段の開閉動作を行わせ
る駆動手段とを備えたものである。
【0008】そして、上記構成において、開閉手段とし
て、第1の流路および第2の流路における第2の開口部
を囲み、第3の流路における第2の開口部とを区画し得
るように設けられた弁座と、この弁座に対して当接し、
若しくは離隔し得るように設けられたダイヤフラムとを
備えることができる。
【0009】第1の流路および第2の流路における第2
の開口部側を共有となるように一本の流路にまとめるの
が好ましく、また、第3の流路を弁本体の頂部で外部配
管と連通させるのが好ましい。
【0010】上記のように構成された本発明のよれば、
開閉手段により第3の流路における第2の開口部を第1
の流路および第2の流路における第2の開口部に対して
遮断することにより、常時、連通状態にある第1の流路
および第2の流路にプロセスガスを流すことができ、開
閉手段により第3の流路における第2の開口部を第1の
流路および第2の流路における第2の開口部に対して連
通させることにより、第3の流路から第1の流路および
第2の流路にパージガスを流し、若しくは第1の流路、
第2の流路および第3の流路を利用して排気することが
できる。このように、一つの弁でパージ、若しくは排気
を行うようにし、また、パージ、若しくは排気に利用す
る第3の流路をガス供給制御ライン間に跨る外部配管で
接続するようにしているので、ガス供給制御ライン方向
の長さ、ガス供給制御ラインの並列方向の間隔を短縮す
ることができるとともに、高さを低くすることができ
る。また、上記のようにパージ、若しくは排気に利用す
る第3の流路をガス供給制御ライン間に跨る外部配管で
接続するようにしているので、ガス供給制御ラインの増
設、拡張を容易に行うことができ、更に、各列のガス供
給制御ラインごとに集積用ブロックを加熱することがで
きる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。図1は本発明の一実施
形態に係るガス供給制御ライン用弁を示し、右半部は第
3の流路を閉じた状態、左半部は第3の流路を開いた状
態の縦断面図、図2、図3は同ガス供給制御ライン用弁
を用いた集積化ガス供給制御装置を示す一部平面図、正
面図である。
【0012】図1において、1はベースプレート、2は
ベースプレート1上に取付けられる集積用ブロック、3
は集積用ブロック2に取外し可能に取付けられる本発明
のガス供給制御ライン用弁である。ベースプレート1上
には半導体製造装置において、高純度ガスを供給制御す
るために、本発明のガス供給制御ライン用弁3を含む各
種のガス供給制御機器が集積用ブロック2を介して取外
し可能に取り付けられる。図2、図3に示す例にあって
は、ガス供給制御機器として、本発明のガス供給制御ラ
イン用弁3のほかに、トグル型手動ダイヤフラム弁4、
フィルタ5、プレッシャートランスデューサ(圧力セン
サ)6、自動ダイヤフラム弁7、8、マスフローコント
ローラ9が用いられ、これらのガス供給制御機器が組み
合わされて複数のガス供給制御ライン10が構成され
る。
【0013】集積用ブロック2の一例について概略説明
すると、図1ないし図3に示すように、取付けブロック
11と、中間流路ブロック12、13と、終端流路ブロ
ック14とから構成される。隣り合う取付けブロック1
1における水平方向の貫通穴15の各一側部に中間流路
ブロック12の両側の挿入部16、中間流路ブロック1
3の一側の挿入部16が密に挿入され、終端部の取付け
ブロック11における貫通穴15の外側部に終端流路ブ
ロック14の挿入部16が密に挿入されている。各取付
けブロック11には上向き開口の挿入穴17が形成さ
れ、挿入穴17の底部に各挿入部16に形成された平坦
面18が配置されている。中間流路ブロック12、13
に形成された流路19、20の端部が平坦面18に開口
され、終端流路ブロック14に形成された流路21の一
端が平坦面18に開口され、各平坦面18には流路1
9、20、21の開口部外周縁部にシーリングビード2
0が形成されている。このように取付けブロック11、
中間流路ブロック12、13、終端流路ブロック14が
組み合わされた状態でベースプレート1上に載せられ、
中間流路ブロック12の中間部、終端流路ブロック14
の中間部がベースプレート1にボルト22により取外し
可能に取り付けられるとともに、中間流路ブロック13
の中間部がボルト23によりベースプレート1に取外し
可能に取付けられている。各取付けブロック11には挿
入穴17の外周部において機器取付け用のねじ24が形
成されている。
【0014】本発明のガス供給制御ライン用弁3につい
て説明すると、図1に示すように、弁本体31は、胴部
32と蓋体33とから構成される。胴部32は中間部の
下部寄り位置から上方が筒状に形成され、筒状部の上部
内周に形成されたねじ34の上部に蓋体33の下方突出
部の外周に形成されたねじ35が螺着されている。この
螺着状態で胴部32の筒状部上端面と蓋体33の中間部
の段差面との間に大径で環状のガスケット36と小径で
環状のガスケット37とが介在されてシール状態に接続
されている。
【0015】胴部32の下部には第1の流路38と第2
の流路39とが形成されている。第1の流路38と第2
の流路39は、各第1(下部)の開口部が底部下面の両
側部に開放され、第2(上部)の開口部が筒状部内の底
部における弁室40の中央部に開放されるように上下方
向に、かつ傾斜方向に形成されている。これら第1の流
路38と第2の流路39は上部側、すなわち、第2の開
口部側が共有となるように1つ(一本の流路)にまとめ
られて弁室40の中央部に開放されている。第1の流路
38と第2の流路39における第1の開口部は集積用ブ
ロック2の流路19、20、21の平坦面18における
流出側開口部と流入側開口部に連通し得るように配置さ
れ、各流路38、39における第1の開口部の周縁部に
シーリングビード41が形成されている。
【0016】弁本体31には第3の流路42が形成され
る。第3の流路42は、胴部32と蓋体33の側方で垂
直方向に形成された側方垂直部と、この側方垂直部の上
端に続いて中央部側へ向かって水平方向に形成された水
平部と、この水平部の中央部側内端に続いて蓋体33の
上部の接続手段43に第1の開口部を開放させるように
形成された垂直部と、上記側方垂直部の下端に続いて中
央部側へ向かって斜め下方へ傾斜するように形成された
傾斜部と、この傾斜部の下端に続いて上方垂直方向に形
成され、第2の開口部を弁室40の側方に開放させるよ
うに形成された垂直部とを有している。第3の流路42
の側方垂直部は胴部32と蓋体33との接続部におい
て、環状のガスケット36、37間の空間を利用して形
成されている。
【0017】弁室40の底部には第1、第2の流路3
8、39における第2の開口部を囲むように環状の突出
部43が形成され、この突出部44には環状溝が形成さ
れ、この環状溝に弁座45の基部が挿入され、突出部4
4の外周縁のかしめ加工により弁座45が固定されてい
る。このとき、上記のように第1の流路38、第2の流
路39における第2の開口部が一本の流路にまとめられ
て弁室40に開放されているので、環状の突出部44お
よび弁座45を小径に形成することができる。弁室40
の周縁部に環状の突出部46が形成され、突出部46上
にダイヤフラム47の周縁部が載せられ、ダイヤフラム
47の周縁部が突出部46とボンネット48とにより挟
持されている。胴部32における弁室40の上部内周に
形成されたねじ49にホルダ50のねじ51が螺着され
いる。ホルダ50の先端がボンネット48に係合され、
ボンネット48がダイヤフラム47の周縁部を突出部4
6とで固定状態に保持することができる。ボンネット4
8の内側にはダイヤフラム47を開閉するための押さえ
ピース52が軸方向(上下方向)に移動可能に支持され
ている。
【0018】第1の流路38と第2の流路39における
第2の開口部は弁座45の内側に開放されているので、
常時、連通状態となっている。そして、ダイヤフラム4
7が押さえピース52により弁座45に密着されること
により、第1の流路38および第2の流路39における
第2の開口部と第3の流路42における第2の開口部と
が遮断される(図1の右半部参照)、これとは逆に、押
さえピース52によるダイヤフラム47に対する押圧力
が解除され、ダイヤフラム47が自身の復元力により押
さえピース52を押し上げて弁座45から離隔すること
により、第1の流路38および第2の流路39における
第2の開口部と第3の流路42における第2の開口部と
が連通される(図1の左半部参照)。
【0019】押さえピース52を作動させる駆動手段
は、その一例として、ノーマルクローズタイプに構成さ
れている。具体的に説明すると、胴部32の中間部内側
において、胴部32の内側に形成された段部53と胴部
32の内側に取り付けられた係止部材54との間に支持
板55が挟持されて固定され、支持板55の外周の環状
溝に挿入されたOリング56が上記環状溝と胴部32の
内周面とに圧縮状態で介在されて両者間がシールされて
いる。胴部32内の上部には蓋体33の下側においてホ
ルダ57が設けられ、ホルダ57はその外周部に形成さ
れたねじ58が胴部32のねじ34における下部に螺着
されている。胴部32の内側における支持板55とホル
ダ58との間にピストン59が設けられ、ピストン59
と一体の軸部60がホルダ57の中央下側の凹入穴61
に挿入されている。ピストン59の外周の環状溝に挿入
されたOリング62が上記環状溝と胴部32の内周面と
に圧縮状態で介在されて両者間がシールされ、軸部60
の外周の環状溝に挿入されたOリング63が上記環状溝
とホルダ57の凹入穴61の内周面とに圧縮状態で介在
されて両者間がシールされ、このシール状態でピストン
59および軸部60が軸方向に移動し得るようになって
いる。
【0020】胴部32の内側におけるホルダ50と支持
板55との間にピストン64が設けられ、ピストン64
と一体の軸部65が支持板55の中央部の穴に挿通さ
れ、ピストン64と一体の軸部66がホルダ50の中央
部の穴に挿通されている。ピストン64の外周の環状溝
に挿入されたOリング67が上記環状溝と胴部32の内
周面とに圧縮状態で介在されてシールされ、支持板55
の内周の環状溝に挿入されたOリング68が上記環状溝
と軸部65の外周面とに圧縮状態で介在されて両者間が
シールされ、軸部66の外周の環状溝に挿入されたOリ
ング69が上記環状溝とホルダ50の内周面とに圧縮状
態で介在されて両者間がシールされ、このシール状態で
ピストン64および軸部65、66が軸方向に移動し得
るようになっている。軸部65の上端面がピストン59
の下面に当接され、軸部66の下端面が押さえピース5
2の上面に当接されている。
【0021】蓋体33には上面の一側部から下面中心部
に向かって斜め方向にエア流路70が形成され、ホルダ
58の中央部にはエア流路70の下面開口部に凹入穴6
1に連通するエア流路71が形成されている。ホルダ5
8の上面にエア流路71の外周部において形成された環
状溝にOリング72が挿入され、このOリング72が上
記環状溝と蓋体33におけるエア流路70の外周部下面
とに圧縮状態で介在されて両者間がシールされている。
軸部60の上端面中央部からピストン59の下端面中央
部に貫通し、ホルダ58の凹入穴61、すなわち、エア
流路71に連通するエア流路73が形成され、軸部65
の上端面中央部から軸部66の上部内側に至るエア流路
74がエア流路73と連通状態で形成されている。エア
流路74の上部と下部には支持板55と上位のピストン
59との間、下位のピストン64とホルダ50との間に
開放されるエア流路75と76が分岐して形成されてい
る。エア流路70の上部には接続手段77を介してエア
供給管(図示省略)の一端が接続され、エア供給管の他
端は圧縮空気供給源(図示省略)に接続されている。
【0022】上位のピストン59の外周部上面とホルダ
58の外周部下面との間には圧縮ばね78が介在され、
この圧縮ばね78の弾性により複式のピストン59、6
4および軸部60、65、66が一体的に下方へ付勢さ
れている。そして、エア流路70に圧縮空気が供給され
ていない状態では、圧縮ばね78の弾性により複式のピ
ストン59、64および軸部60、65、66が常時、
一体的に下方へ前進される。これに伴い、押さえピース
52が下方へ前進されてダイヤフラム47が弁座45に
密着される(図1の右半部参照)。これとは逆に、エア
流路70に圧縮空気が供給されると、この圧縮空気がエ
ア流路71、凹入穴61、エア流路73、74、75、
76を通って支持板55と上位のピストン59との間、
ホルダ50と下位のピストン64との間に供給され、ピ
ストン59、64および軸部60、65、66が圧縮ば
ね78の弾性に抗して上方へ後退される。これに伴い、
押さえピース52およびダイヤフラム47の押圧力が解
放され、ダイヤフラム47が自身の復元力により弁座4
5から離隔される(図1の左半部参照)。
【0023】胴部32における第1、第2の流路38、
39を有する下部は集積用ブロック2の挿入穴17に挿
入し得る大きさに形成され、その中間部外周にねじ79
が形成され、このねじ79に係合用のナット80が螺着
されている。胴部32の下部外周にはユニオンナット8
1が回転可能に嵌合され、ユニオンナット81の上部内
周の係合部がナット80に係合されて下方へ抜け止めさ
れている。
【0024】なお、図中の符号82は上位のピストン5
9とホルダ58との間において胴部32に形成されたエ
ア抜き用の穴、83は支持板55と下位のピストン64
との間において胴部32と支持板55に形成されたエア
抜き用の穴、84は胴部32とボンネット48に形成さ
れたリークテスト用の穴、85は第3の流路42におけ
る上部の水平部を形成する際に利用した胴部32の穴を
閉塞する蓋、86は第2の流路42における下部の傾斜
部を形成する際に利用した胴部32の穴を閉塞する蓋で
ある。
【0025】上記のように縦型に構成された本発明のガ
ス供給制御ライン用弁3をガス供給制御ラインに用いる
には、胴部32の下部を集積用ブロック2における取付
けブロック11の挿入穴17に挿入するとともに、メタ
ルガスケット87をシーリングビード20と41との間
に挿入する。メタルガスケット87は穴88、89を有
し、これらの穴88、89がガス供給制御ライン用弁3
の第1の流路38と第2の流路39における第1の開口
部を集積用ブロック2の流路19、20、21における
流出側開口部と流入側開口部に連通させている。そし
て、ガス供給制御ライン用弁3のユニオンナット81を
集積用ブロック2のねじ24に螺着することにより、ガ
ス供給制御ライン用弁3を集積用ブロック2に取り付け
ることができる。このとき、必要に応じ、集積用ブロッ
ク2とガス供給制御ライン用弁3とに流出側開口部と第
1の流路38、流入側開口部と第2の流路39とを位置
合わせするための位置決め手段を設けることができ、そ
の一例として、図示していないが、集積用ブロック2に
180度位相をずらして大小の幅の突出部を設け、ナッ
ト80に上記突出部を係合し得る切欠きを形成すること
ができる。この取付け状態でシーリングビード41と2
0がメタルガスケット87に食い込み、確実なシール状
態を得ることができる。
【0026】このように、ガス供給制御ライン用弁3の
外周に設けた1個のユニオンナット81を集積用ブロッ
ク2に螺着することにより、ガス供給制御ライン用弁3
を集積用ブロック2に取付けることができるので、その
取付け作業を簡単に、かつ迅速に行うことができ、ま
た、ガス供給制御ライン用弁3の全体を偶力を発生させ
ずにバランス良く締め付けることができる。したがっ
て、組立て作業能率を向上させることができるととも
に、緊密なシール性を確保することができて信頼性を向
上させることができる。また、ユニオンナット81を用
い、このユニオンナット81を集積用ブロック2の外周
のねじ24に螺着することによりガス供給制御ライン用
弁3を集積用ブロック2に接続するので、ガス供給制御
ライン用弁3を集積用ブロック2に対して着脱する際に
ねじ部から生じるパーティクルが集積用ブロック2の挿
入穴17から流路19,20,21に侵入することがな
くなる。したがって、ガスの高純度化に貢献することが
できる。
【0027】上記のように、他の各ガス供給制御機器と
して用いられるトグル型手動ダイヤフラム弁4、フィル
タ5、プレッシャートランスデューサ6、自動ダイヤフ
ラム弁7、8もその本体部が集積用ブロック2にガス供
給制御ライン用弁3と同様にして取付けられる。図1、
図2に示す例では、一方のガス供給制御ライン10にお
いては、ガスの上流側から下流側へ向かってトグル型手
動ダイヤフラム弁4、フィルタ5、プレッシャートラン
スデューサ6、自動ダイヤフラム弁7、本発明のガス供
給制御ライン用弁3の順でベースプレート1上の集積用
ブロック2に取付けられ、続いて、ベースプレート1上
にマスフローコントローラ9の中間流路ブロック13が
取付けられ、続いて、本発明のガス供給制御ライン用弁
3、3、自動ダイヤフラム弁8の順でベースプレート1
上の集積用ブロック2に取付けられている。自動ダイヤ
フラム弁7とマスフローコントローラ9との間に配置さ
れたガス供給制御ライン用弁3がパージに用いられ、マ
スフローコントローラ9の下流側に配置された各ガス供
給制御ライン用弁3が排気に用いられている。他方のガ
ス供給制御ライン10においては、上記ガス供給制御ラ
イン10におけるガスフローコントローラ9の下流側に
ガス供給制御ライン用弁3に替えてフィルタ5を用いて
いる。
【0028】そして、各ガス供給制御ライン10におけ
るパージ用のガス供給制御ライン用弁3は、その頂部に
取付けられた接続手段43により第3の流路42を各ガ
ス供給制御ライン10に跨る外部配管90によりパージ
ガス供給源(図示省略)に接続している。一方のガス供
給制御ライン10におけるガスフローコントローラ9の
下流側に位置する排気用のガス供給制御ライン用弁3
は、その頂部に取付けられた接続手段43により第3の
流路42を外部配管91により排気装置(図示省略)に
接続している。各ガス供給制御ライン10におけるガス
フローコントローラ9の2個下流側に位置する排気用の
ガス供給制御ライン用弁3は、その頂部に取付けられた
接続手段43により第3の流路42を各ガス供給制御ラ
イン10に跨る外部配管92により排気装置(図示省
略)に接続している。
【0029】以上の構成において、以下、その動作につ
いて説明する。今、図1の右半部に示すように、各ガス
供給制御ライン用弁3において、圧縮ばね78の弾性に
よりピストン59、64および軸部60、65、66が
一体的に下方へ前進され、これに伴い、押さえピース5
2が前進されてダイヤフラム47が弁座45に密着さ
れ、第3の流路42における第2の開口部が第1の流路
38および第2の流路39における第2の開口部に対し
て遮断されているとする。この状態では第1の流路38
および第2の流路39のみが連通しているので、プロセ
スガスが、集積用ブロック2の流路19、20、21お
よび上流側のガス供給制御機器を通り、矢印で示すよう
に、集積用ブロック2の流出側開口部、メタルガスケッ
ト87の穴88を通ってパージ用のガス供給制御ライン
用弁3における第1の流路38に流入する。このプロセ
スガスは、続いて第2の流路39、メタルガスケット8
7の穴89を通って集積用ブロック2の流入側開口部か
ら流路19に流入し、下流側のガス供給制御機器、排気
用のガス供給制御ライン用弁3および集積用ブロック2
の流路19、20、21を通って所望の供給先に供給さ
れる。
【0030】プロセスガスの供給停止状態で、圧縮空気
供給源からエア流路70、71、凹入穴61、エア流路
73、74、75、76を通り、支持板55とピストン
59との間、ホルダ50とピストン64との間に圧縮空
気を供給することにより、図1の左半部に示すように、
ピストン59、64および軸部60、65、66が一体
的に上方へ後退される。これに伴い、押さえピース52
が解放され、ダイヤフラム47が自身の反撥弾性により
押さえピース52を押し上げて復元し、第1の流路38
および第2の流路39における第2の開口部と第3の流
路42における第2の開口部とを連通させる。そして、
パージ用のガス供給制御ライン用弁3においては、パー
ジガス供給源から外部配管90を通って矢印で示すよう
に第3の流路42に流入したパージガスを弁室40、第
1の流路38および第2の流路39、メタルガスケット
87の穴88、89からガス供給制御系に供給すること
ができる。また、排気用のガス供給制御ライン用弁3に
おいては、ガス供給制御系のガスを、メタルガスケット
87の穴88、89、第1の流路38、第2の流路3
9、弁室40および第2の流路42に通して外部管配9
1、92に排出することができる。
【0031】なお、上記実施形態においては、第1の流
路38および第2の流路39における第2の開口部側を
一本の流路にまとめて弁室40に開放し、弁座45の径
の縮小化を図って弁全体の小型化を図るようにしている
が、第1の流路38および第2の流路39における第2
の開口部側を別々に弁室40に開放するようにしてもよ
い。また、ダイヤフラム47の駆動手段として、ノーマ
ルクローズタイプに構成した場合について説明したが、
ノーマルオープンタイプに構成してもよい。また、この
ような自動による駆動手段に限らず、手動による駆動手
段を用いてもよい。更に、集積用ブロック2との取付け
方式も上記実施形態に限定されるものではなく、集積用
ブロック2も種々の構成のものを用いることができる。
このほか、本発明は、その基本的技術思想を逸脱しない
範囲で種々設計変更することができる。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように本発明のよれば、開
閉手段により第3の流路における第2の開口部を第1の
流路および第2の流路における第2の開口部に対して遮
断することにより、常時、連通状態にある第1の流路お
よび第2の流路にプロセスガスを流すことができ、開閉
手段により第3の流路における第2の開口部を第1の流
路および第2の流路における第2の開口部に対して連通
させることにより、第3の流路から第1の流路および第
2の流路にパージガスを流し、若しくは第1の流路、第
2の流路および第3の流路を利用して排気することがで
きる。このように、一つの弁でパージ、若しくは排気を
行うようにし、また、パージ、若しくは排気に利用する
第3の流路をガス供給制御ライン間に跨る外部配管で接
続するようにしているので、ガス供給制御ライン方向の
長さ、ガス供給制御ラインの並列方向の間隔を短縮する
ことができるとともに、高さを低くすることができる。
したがって、集積化ガス供給制御装置全体の小型化を図
ることができる。また、上記のようにパージ、若しくは
排気に利用する第3の流路をガス供給制御ライン間に跨
る外部配管で接続するようにしているので、ガス供給制
御ラインの増設、拡張を容易に行うことができ、したが
って、半導体等の製造効率の低下を防止することがで
き、更に、各列のガス供給制御ラインごとに集積用ブロ
ックを加熱することができ、したがって、流路等におけ
る不純物の生成、付着等を効果的に防止することができ
る。
【0033】弁本体における第1の流路および第2の流
路における第2の開口部側を共有となるように一本の流
路にまとめて上記弁室に開放することにより、弁全体の
小型化を図ることができる。
【0034】弁本体における第3の流路を弁本体の頂部
で外部配管と連通させることにより、ガス供給制御ライ
ンの間隔を更に一層、短縮することができるとともに、
配管作業を簡単に、かつ迅速に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係るガス供給制御ライン
用弁を示し、右半部は第3の流路を閉じた状態、左半部
は第3の流路を開いた状態の縦断面図である。
【図2】同ガス供給制御ライン用弁を用いた集積化ガス
制御装置を示す一部平面図である。
【図3】同集積化ガス制御装置を示す正面図である。
【符号の説明】
1 ベースプレート 2 集積用ブロック 3 本発明のガス供給制御ライン用弁 31 弁本体 38 第1の流路 39 第2の流路 40 弁室 42 第3の流路 43 接続手段 45 弁座 47 ダイヤフラム 52 押さえピース 59 ピストン 64 ピストン 81 ユニオンナット 87 メタルガスケット 90 外部配管 91 外部配管 92 外部配管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 美良 群馬県新田郡藪塚本町六千石東浦5 株式 会社ベンカン群馬製作所内 Fターム(参考) 3H056 AA01 BB32 BB41 CA01 CB02 CD04 EE10 GG03 GG14 3H067 AA01 CC32 CC54 DD05 DD33 EC04 EC21 EC25 FF09 FF11 GG01 GG28

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 集積用ブロックに接続し得る弁本体と、
    この弁本体に形成され、第1の開口部を上記集積用ブロ
    ックの流路における流出側開口部に連通し得る第1の流
    路と、上記弁本体に形成され、第1の開口部を上記集積
    用ブロックの流路における流入側開口部に連通し得る第
    2の流路と、上記弁本体に形成され、第1の開口部を上
    記弁本体の外部配管に連通し得る第3の流路と、上記第
    1の流路および上記第2の流路における第2の開口部を
    常時連通させ、上記第1の流路および上記第2の流路に
    おける第2の開口部と上記第3の流路における第2の開
    口部とを連通させ、若しくは遮断し得る開閉手段と、上
    記開閉手段の開閉動作を行わせる駆動手段とを備えたガ
    ス供給制御ライン用弁。
  2. 【請求項2】 開閉手段が、第1の流路および第2の流
    路における第2の開口部を囲み、第3の流路における第
    2の開口部とを区画し得るように設けられた弁座と、こ
    の弁座に対して当接し、若しくは離隔し得るように設け
    られたダイヤフラムとを備えた請求項1記載のガス供給
    制御ライン用弁。
  3. 【請求項3】 第1の流路および第2の流路における第
    2の開口部側が共有となるように一本の流路にまとめら
    れた請求項1または2記載のガス供給制御ライン用弁。
  4. 【請求項4】 第3の流路が弁本体の頂部で外部配管と
    連通される請求項1ないし3のいずれかに記載のガス供
    給制御ライン用弁。
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