JP2002012744A - ポリアリーレン組成物 - Google Patents
ポリアリーレン組成物Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Secondary Cells (AREA)
- Fuel Cell (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Primary Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリアリーレンのスルホン化物に特定の混合
溶媒を加えることにより、得られる組成物の溶液粘度を
下げて、フィルム成形性に優れ、その結果、厚膜化が可
能で、表面平滑性に優れ、ピンホールなどの欠陥のない
優れた物性を有するフィルムが得られるポリアリーレン
のスルホン化物の有機溶剤系組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）ポリアリーレンのスルホン化物、
ならびに（Ｂ）（ｂ１）沸点が１００℃以下のアルコー
ル５〜７５重量％および（ｂ２）沸点が１００℃を超え
る有機溶媒９５〜２５重量％〔ただし、（ｂ１）＋（ｂ
２）＝１００重量％〕からなる溶媒を含有するポリアリ
ーレン組成物。
溶媒を加えることにより、得られる組成物の溶液粘度を
下げて、フィルム成形性に優れ、その結果、厚膜化が可
能で、表面平滑性に優れ、ピンホールなどの欠陥のない
優れた物性を有するフィルムが得られるポリアリーレン
のスルホン化物の有機溶剤系組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）ポリアリーレンのスルホン化物、
ならびに（Ｂ）（ｂ１）沸点が１００℃以下のアルコー
ル５〜７５重量％および（ｂ２）沸点が１００℃を超え
る有機溶媒９５〜２５重量％〔ただし、（ｂ１）＋（ｂ
２）＝１００重量％〕からなる溶媒を含有するポリアリ
ーレン組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリアリーレンの
スルホン化物と特定組成の溶媒を主成分とするポリアリ
ーレン組成物に関し、さらに詳細には、一次電池用電解
質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、
表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデン
サー、イオン交換膜などに利用可能なプロトン伝導膜に
有用なポリアリーレン組成物に関する。
スルホン化物と特定組成の溶媒を主成分とするポリアリ
ーレン組成物に関し、さらに詳細には、一次電池用電解
質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、
表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデン
サー、イオン交換膜などに利用可能なプロトン伝導膜に
有用なポリアリーレン組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】電解質は、通常、（水）溶液で用いられ
ることが多い。しかし、近年、これを固体系に置き替え
ていく傾向が高まってきている。その第１の理由として
は、例えば、上記の電気・電子材料に応用する場合のプ
ロセッシングの容易さであり、第２の理由としては、軽
薄短小・高電力化への移行である。従来、プロトン伝導
性材料としては、無機物からなるもの、有機物からなる
ものの両方が知られている。無機物の例としては、例え
ば水和化合物であるリン酸ウラニルが挙げられるが、こ
れら無機化合物は界面での接触が充分でなく、伝導層を
基板あるいは電極上に形成するには問題が多い。
ることが多い。しかし、近年、これを固体系に置き替え
ていく傾向が高まってきている。その第１の理由として
は、例えば、上記の電気・電子材料に応用する場合のプ
ロセッシングの容易さであり、第２の理由としては、軽
薄短小・高電力化への移行である。従来、プロトン伝導
性材料としては、無機物からなるもの、有機物からなる
ものの両方が知られている。無機物の例としては、例え
ば水和化合物であるリン酸ウラニルが挙げられるが、こ
れら無機化合物は界面での接触が充分でなく、伝導層を
基板あるいは電極上に形成するには問題が多い。
【０００３】一方、有機化合物の例としては、いわゆる
陽イオン交換樹脂に属するポリマー、例えばポリスチレ
ンスルホン酸などのビニル系ポリマーのスルホン化物、
ナフィオン（デュポン社製）を代表とするパーフルオロ
アルキルスルホン酸ポリマー、パーフルオロアルキルカ
ルボン酸ポリマーや、ポリベンズイミダゾール、ポリエ
ーテルエーテルケトンなどの耐熱性高分子にスルホン酸
基やリン酸基を導入したポリマー〔Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐ
ｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．
７，ｐ．２４９０〜２４９２（１９９３）、Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４
３，Ｎｏ．３，ｐ．７３５〜７３６（１９９４）、Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏ
ｌ．４２，Ｎｏ．３，ｐ７３０（１９９３）〕などの有
機系ポリマーが挙げられる。
陽イオン交換樹脂に属するポリマー、例えばポリスチレ
ンスルホン酸などのビニル系ポリマーのスルホン化物、
ナフィオン（デュポン社製）を代表とするパーフルオロ
アルキルスルホン酸ポリマー、パーフルオロアルキルカ
ルボン酸ポリマーや、ポリベンズイミダゾール、ポリエ
ーテルエーテルケトンなどの耐熱性高分子にスルホン酸
基やリン酸基を導入したポリマー〔Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐ
ｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．
７，ｐ．２４９０〜２４９２（１９９３）、Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４
３，Ｎｏ．３，ｐ．７３５〜７３６（１９９４）、Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏ
ｌ．４２，Ｎｏ．３，ｐ７３０（１９９３）〕などの有
機系ポリマーが挙げられる。
【０００４】これら有機系ポリマーは、通常、フィルム
状で用いられるが、溶媒に可溶性であること、または熱
可塑性であることを利用し、電極上に伝導膜を接合加工
できる。しかしながら、これら有機系ポリマーの多く
は、プロトン伝導性がまだ充分でないことに加え、耐久
性や高温（１００℃以上）でプロトン伝導性が低下して
しまうことや、湿度条件下の依存性が大きいこと、ある
いは電極との密着性が充分満足のいくものとはいえなか
ったり、含水ポリマー構造に起因する稼働中の過度の膨
潤による強度の低下や形状の崩壊に至るという問題があ
る。したがって、これらの有機ポリマーは、上記の電気
・電子材料などに応用するには種々問題がある。
状で用いられるが、溶媒に可溶性であること、または熱
可塑性であることを利用し、電極上に伝導膜を接合加工
できる。しかしながら、これら有機系ポリマーの多く
は、プロトン伝導性がまだ充分でないことに加え、耐久
性や高温（１００℃以上）でプロトン伝導性が低下して
しまうことや、湿度条件下の依存性が大きいこと、ある
いは電極との密着性が充分満足のいくものとはいえなか
ったり、含水ポリマー構造に起因する稼働中の過度の膨
潤による強度の低下や形状の崩壊に至るという問題があ
る。したがって、これらの有機ポリマーは、上記の電気
・電子材料などに応用するには種々問題がある。
【０００５】さらに、米国特許第５，４０３，６７５号
明細書では、スルホン化された剛直ポリフェニレン（す
なわち、ポリアリーレン構造を主成分とするスルホン化
物）からなる固体高分子電解質が提案されている。この
ポリマーは、芳香族化合物を重合して得られるフェニレ
ン連鎖からなるポリマー（同明細書カラム９記載の構
造）を主成分とし、これをスルホン化剤と反応させてス
ルホン酸基を導入して、プロトン伝導度を向上させてい
る。
明細書では、スルホン化された剛直ポリフェニレン（す
なわち、ポリアリーレン構造を主成分とするスルホン化
物）からなる固体高分子電解質が提案されている。この
ポリマーは、芳香族化合物を重合して得られるフェニレ
ン連鎖からなるポリマー（同明細書カラム９記載の構
造）を主成分とし、これをスルホン化剤と反応させてス
ルホン酸基を導入して、プロトン伝導度を向上させてい
る。
【０００６】上記ポリアリーレンのスルホン化物も、伝
導膜などの電気・電子材料に用いる場合、通常、フィル
ムとして成形される。例えば、ポリアリーレンのスルホ
ン化物を用いて、伝導膜を成形するには、通常、このポ
リマーを溶媒に溶解し、流延法によりフィルム化してい
る。しかしながら、ポリアリーレンのスルホン化物の有
機溶媒系の溶液粘度は高く、厚膜化が難しく、表面平滑
性に劣るなど、成形加工性に優れたものとはいえない。
導膜などの電気・電子材料に用いる場合、通常、フィル
ムとして成形される。例えば、ポリアリーレンのスルホ
ン化物を用いて、伝導膜を成形するには、通常、このポ
リマーを溶媒に溶解し、流延法によりフィルム化してい
る。しかしながら、ポリアリーレンのスルホン化物の有
機溶媒系の溶液粘度は高く、厚膜化が難しく、表面平滑
性に劣るなど、成形加工性に優れたものとはいえない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ポリアリー
レンのスルホン化物の有機溶媒系の溶液粘度を下げるこ
とにより、フィルム成形性に優れ、その結果、厚膜化が
可能で、表面平滑性に優れ、ピンホールなどの欠陥のな
い優れた物性を有するフィルムが得られるポリアリーレ
ンのスルホン化物の有機溶剤系組成物を提供することを
目的とする。
レンのスルホン化物の有機溶媒系の溶液粘度を下げるこ
とにより、フィルム成形性に優れ、その結果、厚膜化が
可能で、表面平滑性に優れ、ピンホールなどの欠陥のな
い優れた物性を有するフィルムが得られるポリアリーレ
ンのスルホン化物の有機溶剤系組成物を提供することを
目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）ポリア
リーレンのスルホン化物、ならびに（Ｂ）（ｂ１）沸点
が１００℃以下のアルコール５〜７５重量％および（ｂ
２）沸点が１００℃を超える有機溶媒９５〜２５重量％
〔ただし、（ｂ１）＋（ｂ２）＝１００重量％〕からな
る溶媒を含有することを特徴とするポリアリーレン組成
物に関する。上記（Ａ）成分を構成するポリアリーレン
としては、下記一般式（１）で表される構造単位からな
るポリアリーレンが好ましい。
リーレンのスルホン化物、ならびに（Ｂ）（ｂ１）沸点
が１００℃以下のアルコール５〜７５重量％および（ｂ
２）沸点が１００℃を超える有機溶媒９５〜２５重量％
〔ただし、（ｂ１）＋（ｂ２）＝１００重量％〕からな
る溶媒を含有することを特徴とするポリアリーレン組成
物に関する。上記（Ａ）成分を構成するポリアリーレン
としては、下記一般式（１）で表される構造単位からな
るポリアリーレンが好ましい。
【０００９】
【化２】
【００１０】〔一般式（１）中、Ｘは−ＣＱＱ′−（こ
こで、Ｑ，Ｑ′は同一または異なり、ハロゲン化アルキ
ル基、アルキル基、水素原子、ハロゲン原子またはアリ
ール基を示す）で表される基およびフルオレニレン基の
群から選ばれる基であり、Ｒ1〜Ｒ36は同一または異な
り、水素原子、ハロゲン原子または１価の有機基を示
し、Ｙは−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＣＯＮＨ−
および−ＳＯ2 −基の群から選ばれる基であり、ｐは０
〜１００モル％、ｑは０〜１００モル％、ｒは０〜１０
０モル％、ｓは０〜１００モル％（ただし、ｐ＋ｑ＋ｒ
＋ｓ＝１００モル％）、ｔは０か１である。〕 また、上記（ｂ１）沸点が１００℃以下のアルコールと
しては、メタノールが好ましい。さらに、上記（ｂ２）
沸点が１００℃を超える有機溶媒としては、Ｎ−メチル
−２−ピロリドンが溶解性の点で好ましい。
こで、Ｑ，Ｑ′は同一または異なり、ハロゲン化アルキ
ル基、アルキル基、水素原子、ハロゲン原子またはアリ
ール基を示す）で表される基およびフルオレニレン基の
群から選ばれる基であり、Ｒ1〜Ｒ36は同一または異な
り、水素原子、ハロゲン原子または１価の有機基を示
し、Ｙは−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＣＯＮＨ−
および−ＳＯ2 −基の群から選ばれる基であり、ｐは０
〜１００モル％、ｑは０〜１００モル％、ｒは０〜１０
０モル％、ｓは０〜１００モル％（ただし、ｐ＋ｑ＋ｒ
＋ｓ＝１００モル％）、ｔは０か１である。〕 また、上記（ｂ１）沸点が１００℃以下のアルコールと
しては、メタノールが好ましい。さらに、上記（ｂ２）
沸点が１００℃を超える有機溶媒としては、Ｎ−メチル
−２−ピロリドンが溶解性の点で好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明では、ポリアリーレンのス
ルホン化物の流延法によるフィルム化において、加工溶
媒として、その一部に低沸点アルコールを用いると、溶
液粘度が低下し、高濃度での流延法による成形加工がで
きること、また、高濃度での成形加工によって、厚膜化
対策と表面平滑度に優れ、ピンホールなどの欠陥の少な
い膜質の優れたフィルムができ、さらに、低沸点アルコ
ールは基材に塗布後のフィルム化工程で第２成分の溶媒
よりも沸点が低いので、第２成分が充分に蒸発するまで
に蒸発し、高濃度化されて高品質の膜質のフィルムを得
るものである。
ルホン化物の流延法によるフィルム化において、加工溶
媒として、その一部に低沸点アルコールを用いると、溶
液粘度が低下し、高濃度での流延法による成形加工がで
きること、また、高濃度での成形加工によって、厚膜化
対策と表面平滑度に優れ、ピンホールなどの欠陥の少な
い膜質の優れたフィルムができ、さらに、低沸点アルコ
ールは基材に塗布後のフィルム化工程で第２成分の溶媒
よりも沸点が低いので、第２成分が充分に蒸発するまで
に蒸発し、高濃度化されて高品質の膜質のフィルムを得
るものである。
【００１２】（Ａ）ポリアリーレンのスルホン化物 （Ａ）ポリアリーレンのスルホン化物は、好ましくは上
記一般式（１）で表されるポリアリーレン（以下「ポリ
マー（１）」ともいう）をスルホン化したスルホン化物
である。ここで、ポリマー（１）は、上記一般式（１）
で表される繰り返し構造単位を有する。以下、一般式
（１）において、ｐで括られた構造単位を「構造単位
ｐ」、ｑで括られた構造単位を「構造単位ｑ」、ｒで括
られた構造単位を「構造単位ｒ」、ｓで括られた構造単
位を「構造単位ｓ」ともいう。
記一般式（１）で表されるポリアリーレン（以下「ポリ
マー（１）」ともいう）をスルホン化したスルホン化物
である。ここで、ポリマー（１）は、上記一般式（１）
で表される繰り返し構造単位を有する。以下、一般式
（１）において、ｐで括られた構造単位を「構造単位
ｐ」、ｑで括られた構造単位を「構造単位ｑ」、ｒで括
られた構造単位を「構造単位ｒ」、ｓで括られた構造単
位を「構造単位ｓ」ともいう。
【００１３】上記一般式（１）中、Ｘは、−ＣＱＱ′−
（ここで、Ｑ，Ｑ′は同一または異なり、ハロゲン化ア
ルキル基、アルキル基、水素原子、ハロゲン原子または
アリール基を示す）で表される基およびフルオレニレン
基の群から選ばれる基である。ここで、Ｑ，Ｑ′のう
ち、ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチ
ル基、ペンタフルオロエチレン基などが、またアリール
基としては、フェニル基、ビフェニル基、トリル基、ペ
ンタフルオロフェニル基などが挙げられる。上記一般式
（１）中、Ｒ1 〜Ｒ36は、同一または異なり、水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子、１価の有機基（例え
ば、ハロゲン化アルキル基、またはポリアリーレン生成
の重合反応を阻害しない官能基を含む１価の有機基）を
示す。Ｒ1 〜Ｒ36中、アルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル
基などが挙げられる。また、ハロゲン原子としては、フ
ッ素が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、ト
リフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフル
オロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロ
ペンチル基、パーフルオロヘキシル基などが挙げられ
る。さらに、ポリアリーレン生成の重合反応を阻害しな
い官能基を含む１価の有機基としては、例えばアリール
オキシ、アリールオキソ、アリールチオカルボニル、ア
リールオキシカルボニル、アリールチオ、アリールスル
ホンなどが挙げられる。これらは、また、２つ以上の官
能基を含む１価の有機基、例えばアリールオキシアリー
ルオキソ、アリールオキシアリールスルホン、アリール
チオアリールオキソなどが挙げられる。さらに、これら
は、アリール基の代わりに、アルキル基、アルキルアリ
ール基、アリールアルキル基に代えて用いてもよい。さ
らに、上記一般式（１）中、Ｙは−Ｏ−，−ＣＯ−，−
ＣＯＯ−，−ＣＯＮＨ−，および−ＳＯ2 −基の群から
選ばれた少なくとも１種であり、ｐは０〜１００モル
％、ｑは０〜１００モル％、ｒは０〜１００モル％、ｓ
は０〜１００モル％（ただし、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＝１００
モル％）、ｔは０か１である。〕
（ここで、Ｑ，Ｑ′は同一または異なり、ハロゲン化ア
ルキル基、アルキル基、水素原子、ハロゲン原子または
アリール基を示す）で表される基およびフルオレニレン
基の群から選ばれる基である。ここで、Ｑ，Ｑ′のう
ち、ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチ
ル基、ペンタフルオロエチレン基などが、またアリール
基としては、フェニル基、ビフェニル基、トリル基、ペ
ンタフルオロフェニル基などが挙げられる。上記一般式
（１）中、Ｒ1 〜Ｒ36は、同一または異なり、水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子、１価の有機基（例え
ば、ハロゲン化アルキル基、またはポリアリーレン生成
の重合反応を阻害しない官能基を含む１価の有機基）を
示す。Ｒ1 〜Ｒ36中、アルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル
基などが挙げられる。また、ハロゲン原子としては、フ
ッ素が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、ト
リフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフル
オロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロ
ペンチル基、パーフルオロヘキシル基などが挙げられ
る。さらに、ポリアリーレン生成の重合反応を阻害しな
い官能基を含む１価の有機基としては、例えばアリール
オキシ、アリールオキソ、アリールチオカルボニル、ア
リールオキシカルボニル、アリールチオ、アリールスル
ホンなどが挙げられる。これらは、また、２つ以上の官
能基を含む１価の有機基、例えばアリールオキシアリー
ルオキソ、アリールオキシアリールスルホン、アリール
チオアリールオキソなどが挙げられる。さらに、これら
は、アリール基の代わりに、アルキル基、アルキルアリ
ール基、アリールアルキル基に代えて用いてもよい。さ
らに、上記一般式（１）中、Ｙは−Ｏ−，−ＣＯ−，−
ＣＯＯ−，−ＣＯＮＨ−，および−ＳＯ2 −基の群から
選ばれた少なくとも１種であり、ｐは０〜１００モル
％、ｑは０〜１００モル％、ｒは０〜１００モル％、ｓ
は０〜１００モル％（ただし、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＝１００
モル％）、ｔは０か１である。〕
【００１４】式（１）において、構造単位ｐを構成する
モノマー（以下「モノマーｐ」ともいう）としては、
２，２−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシフェニル）メタン、ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４
−メチルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロキシ
−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロ
キシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−メチルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−フルオロフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）プロパン、２，
２−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−フェニルスルフォニロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−フェニルスルフ
ォニロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−プロペニル
フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−フェニルスル
フォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−フ
ルオロフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−メチルフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフォニ
ロキシ−３−プロペニルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）プロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）プロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）プロパン、ビス
（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−フルオロフェニ
ル）プロパン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−
３，５−ジフルオロフェニル）プロパン、９，９−ビス
（４−メチルスルフォニロキシフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−メチ
ルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−メチルス
ルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−
プロペニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−
メチルスルフォニロキシ−３−フェニルフェニル）フル
オレン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−メチ
ルフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−メチルスル
フォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニル
メタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−プロ
ペニルフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−メチル
スルフォニロキシ−３−フルオロフェニル）ジフェニル
メタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３，５−
ジフルオロフェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビス
（４−メチルスルフォニロキシ−３−フルオロフェニ
ル）フルオレン、９，９−ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）フルオレン、ビ
ス（４−メチルスルフォニロキシフェニル）メタン、ビ
ス（４−メチルスルフォニロキシ−３−メチルフェニ
ル）メタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３，
５−ジメチルフェニル）メタン、ビス（４−メチルスル
フォニロキシ−３−プロペニルフェニル）メタン、ビス
（４−メチルスルフォニロキシフェニル）トリフルオロ
メチルフェニルメタン、ビス（４−メチルスルフォニロ
キシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ト
リフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル）メタン、ビス（４−トリフルオロ
メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルメタン、
２，２−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−３−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−３−プロペニルフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，２−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−
トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３−メチルフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フ
ルオレン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチルスル
フォニロキシ−３−プロペニルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−３−フェニルフェニル）フルオレン、ビス（４−ト
リフルオロメチルスルフォニロキシ−３−メチルフェニ
ル）ジフェニルメタン、ビス（４−トリフルオロメチル
スルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェ
ニルメタン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−３−プロペニルフェニル）ジフェニルメタン、
ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３−
フルオロフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−トリ
フルオロメチルスルフォニロキシ−３，５−ジフルオロ
フェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビス（４−トリ
フルオロメチルスルフォニロキシ−３−フルオロフェニ
ル）フルオレン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチ
ルスルフォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）フ
ルオレン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル）メタン、ビス（４−トリフルオロメチル
スルフォニロキシ−３−メチルフェニル）メタン、ビス
（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３，５−
ジメチルフェニル）メタン、ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニル）メタ
ン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフ
ェニル）トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス（４
−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）、
２，２−ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−フェニルスル
フォニロキシフェニル）メタン、ビス（４−フェニルス
ルフォニロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−
ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−メチルフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−フ
ェニルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニル）ヘ
キサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−フェニルス
ルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、９，９−ビス（４−フェニルスルフォ
ニロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−フ
ェニルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）フルオ
レン、９，９−ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−
３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス
（４−フェニルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−フェニルスルフ
ォニロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、ビス
（４−フェニルスルフォニロキシ−３−メチルフェニ
ル）ジフェニルメタン、ビス（４−フェニルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルメタ
ン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−プロペ
ニルフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−フェニル
スルフォニロキシ−３−フルオロフェニル）ジフェニル
メタン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３，５
−ジフルオロフェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビ
ス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−フルオロフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−フェニルスルフ
ォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）フルオレ
ン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニル）メ
タン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−メチ
ルフェニル）メタン、ビス（４−フェニルスルフォニロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン、ビス（４−
フェニルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニル）
メタン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニ
ル）トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス（４−フ
ェニルスルフォニロキシフェニル）フェニルメタン、
２，２−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、ビス（ｐ−トリルスルフォニ
ロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフォニ
ロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ
−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェニ
ル）フルオレン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニ
ロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビ
ス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフ
ェニル）フルオレン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−フェ
ニルフェニル）フルオレン、ビス（ｐ−トリルスルフォ
ニロキシ−３−メチルフェニル）ジフェニルメタン、ビ
ス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフ
ェニル）ジフェニルメタン、ビス（ｐ−トリルスルフォ
ニロキシ−３−プロペニルフェニル）ジフェニルメタ
ン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−フルオロ
フェニル）ジフェニルメタン、ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）ジフェニル
メタン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−
３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニ
ル）フルオレン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフ
ェニル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−
３−メチルフェニル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン、ビス
（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニ
ル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェニ
ル）トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス（ｐ−ト
リルスルフォニロキシフェニル）フェニルメタンなどを
挙げることができる。上記モノマーｐは、１種単独であ
るいは２種以上を併用することができる。
モノマー（以下「モノマーｐ」ともいう）としては、
２，２−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシフェニル）メタン、ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４
−メチルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロキシ
−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロ
キシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−メチルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−フルオロフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）プロパン、２，
２−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−フェニルスルフォニロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−フェニルスルフ
ォニロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−プロペニル
フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−フェニルスル
フォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−フ
ルオロフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−メチルフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフォニ
ロキシ−３−プロペニルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）プロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）プロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）プロパン、ビス
（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−フルオロフェニ
ル）プロパン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−
３，５−ジフルオロフェニル）プロパン、９，９−ビス
（４−メチルスルフォニロキシフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−メチ
ルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−メチルス
ルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−
プロペニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−
メチルスルフォニロキシ−３−フェニルフェニル）フル
オレン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−メチ
ルフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−メチルスル
フォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニル
メタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３−プロ
ペニルフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−メチル
スルフォニロキシ−３−フルオロフェニル）ジフェニル
メタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３，５−
ジフルオロフェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビス
（４−メチルスルフォニロキシ−３−フルオロフェニ
ル）フルオレン、９，９−ビス（４−メチルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）フルオレン、ビ
ス（４−メチルスルフォニロキシフェニル）メタン、ビ
ス（４−メチルスルフォニロキシ−３−メチルフェニ
ル）メタン、ビス（４−メチルスルフォニロキシ−３，
５−ジメチルフェニル）メタン、ビス（４−メチルスル
フォニロキシ−３−プロペニルフェニル）メタン、ビス
（４−メチルスルフォニロキシフェニル）トリフルオロ
メチルフェニルメタン、ビス（４−メチルスルフォニロ
キシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ト
リフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル）メタン、ビス（４−トリフルオロ
メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルメタン、
２，２−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−３−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−３−プロペニルフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，２−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−
トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３−メチルフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フ
ルオレン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチルスル
フォニロキシ−３−プロペニルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シ−３−フェニルフェニル）フルオレン、ビス（４−ト
リフルオロメチルスルフォニロキシ−３−メチルフェニ
ル）ジフェニルメタン、ビス（４−トリフルオロメチル
スルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェ
ニルメタン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシ−３−プロペニルフェニル）ジフェニルメタン、
ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３−
フルオロフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−トリ
フルオロメチルスルフォニロキシ−３，５−ジフルオロ
フェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビス（４−トリ
フルオロメチルスルフォニロキシ−３−フルオロフェニ
ル）フルオレン、９，９−ビス（４−トリフルオロメチ
ルスルフォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）フ
ルオレン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル）メタン、ビス（４−トリフルオロメチル
スルフォニロキシ−３−メチルフェニル）メタン、ビス
（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ−３，５−
ジメチルフェニル）メタン、ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニル）メタ
ン、ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフ
ェニル）トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス（４
−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）、
２，２−ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−フェニルスル
フォニロキシフェニル）メタン、ビス（４−フェニルス
ルフォニロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−
ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−メチルフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−フ
ェニルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニル）ヘ
キサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−フェニルス
ルフォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、９，９−ビス（４−フェニルスルフォ
ニロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−フ
ェニルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）フルオ
レン、９，９−ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−
３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス
（４−フェニルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−フェニルスルフ
ォニロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、ビス
（４−フェニルスルフォニロキシ−３−メチルフェニ
ル）ジフェニルメタン、ビス（４−フェニルスルフォニ
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルメタ
ン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−プロペ
ニルフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−フェニル
スルフォニロキシ−３−フルオロフェニル）ジフェニル
メタン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３，５
−ジフルオロフェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビ
ス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−フルオロフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−フェニルスルフ
ォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）フルオレ
ン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニル）メ
タン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシ−３−メチ
ルフェニル）メタン、ビス（４−フェニルスルフォニロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン、ビス（４−
フェニルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニル）
メタン、ビス（４−フェニルスルフォニロキシフェニ
ル）トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス（４−フ
ェニルスルフォニロキシフェニル）フェニルメタン、
２，２−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、ビス（ｐ−トリルスルフォニ
ロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフォニ
ロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシ−３−メチルフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ
−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェニ
ル）フルオレン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニ
ロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビ
ス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフ
ェニル）フルオレン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３−プロペニルフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−フェ
ニルフェニル）フルオレン、ビス（ｐ−トリルスルフォ
ニロキシ−３−メチルフェニル）ジフェニルメタン、ビ
ス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジメチルフ
ェニル）ジフェニルメタン、ビス（ｐ−トリルスルフォ
ニロキシ−３−プロペニルフェニル）ジフェニルメタ
ン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−フルオロ
フェニル）ジフェニルメタン、ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）ジフェニル
メタン、９，９−ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−
３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（ｐ
−トリルスルフォニロキシ−３，５−ジフルオロフェニ
ル）フルオレン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフ
ェニル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシ−
３−メチルフェニル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフ
ォニロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン、ビス
（ｐ−トリルスルフォニロキシ−３−プロペニルフェニ
ル）メタン、ビス（ｐ−トリルスルフォニロキシフェニ
ル）トリフルオロメチルフェニルメタン、ビス（ｐ−ト
リルスルフォニロキシフェニル）フェニルメタンなどを
挙げることができる。上記モノマーｐは、１種単独であ
るいは２種以上を併用することができる。
【００１５】また、式（１）において、構造単位ｑを構
成するモノマー（以下「モノマーｑ」ともいう）として
は、例えば、４，４′−ジメチルスルフォニロキシビフ
ェニル、４，４′−ジメチルスルフォニロキシ−３，
３′−ジプロペニルビフェニル、４，４′−ジブロモビ
フェニル、４，４′−ジヨードビフェニル、４，４′−
ジメチルスルフォニロキシ−３，３′−ジメチルビフェ
ニル、４，４′−ジメチルスルフォニロキシ−３，３′
−ジフルオロビフェニル、４，４′−ジメチルスルフォ
ニロキシ−３，３′，５，５′−テトラフルオロビフェ
ニル、４，４′−ジブロモオクタフルオロビフェニル、
４，４−メチルスルフォニロキシオクタフルオロビフェ
ニル、３，３′−ジアリル−４，４′−ビス（４−フル
オロベンゼンスルフォニロキシ）ビフェニル、４，４′
−ジクロロ−２，２′−トリフルオロメチルビフェニ
ル、４，４′−ジブロモ−２，２′−トリフルオロメチ
ルビフェニル、４，４′−ジヨード−２，２′−トリフ
ルオロメチルビフェニル、ビス（４−クロロフェニル）
スルフォン、４，４′−ジクロロベンゾフェノン、２，
４−ジクロロベンゾフェノンなどを挙げることができ
る。上記モノマーｑは、１種単独であるいは２種以上を
併用することができる。
成するモノマー（以下「モノマーｑ」ともいう）として
は、例えば、４，４′−ジメチルスルフォニロキシビフ
ェニル、４，４′−ジメチルスルフォニロキシ−３，
３′−ジプロペニルビフェニル、４，４′−ジブロモビ
フェニル、４，４′−ジヨードビフェニル、４，４′−
ジメチルスルフォニロキシ−３，３′−ジメチルビフェ
ニル、４，４′−ジメチルスルフォニロキシ−３，３′
−ジフルオロビフェニル、４，４′−ジメチルスルフォ
ニロキシ−３，３′，５，５′−テトラフルオロビフェ
ニル、４，４′−ジブロモオクタフルオロビフェニル、
４，４−メチルスルフォニロキシオクタフルオロビフェ
ニル、３，３′−ジアリル−４，４′−ビス（４−フル
オロベンゼンスルフォニロキシ）ビフェニル、４，４′
−ジクロロ−２，２′−トリフルオロメチルビフェニ
ル、４，４′−ジブロモ−２，２′−トリフルオロメチ
ルビフェニル、４，４′−ジヨード−２，２′−トリフ
ルオロメチルビフェニル、ビス（４−クロロフェニル）
スルフォン、４，４′−ジクロロベンゾフェノン、２，
４−ジクロロベンゾフェノンなどを挙げることができ
る。上記モノマーｑは、１種単独であるいは２種以上を
併用することができる。
【００１６】さらに、式（１）において、構造単位ｒを
構成するモノマー（以下「モノマーｒ」ともいう）とし
ては、例えば、ｐ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジブロモベ
ンゼン、ｐ−ジヨードベンゼン、ｐ−ジメチルスルフォ
ニロキシベンゼン、２，５−ジクロロトルエン、２，５
−ジブロモトルエン、２，５−ジヨードトルエン、２，
５−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、２，５−ジク
ロロ−ｐ−キシレン、２，５−ジブロモ−ｐ−キシレ
ン、２，５−ジヨード−ｐ−キシレン、２，５−ジクロ
ロベンゾトリフルオライド、２，５−ジブロモベンゾト
リフルオライド、２，５−ジヨードベンゾトリフルオラ
イド、１，４−ジクロロ−２，３，５，６−テトラフル
オロベンゼン、１，４−ジブロモ−２，３，５，６−テ
トラフルオロベンゼン、１，４−ジヨード−２，３，
５，６−テトラフルオロベンゼン、２，５−ジクロロ安
息香酸、２，５−ジブロモ安息香酸、２，５−ジクロロ
安息香酸メチル、２，５−ジブロモ安息香酸メチル、
２，５−ジクロロ安息香酸−ｔ−ブチル、２，５−ジブ
ロモ安息香酸−ｔ−ブチル、３，６−ジクロロフタル酸
無水物などを挙げることができ、好ましくはｐ−ジクロ
ロベンゼン、ｐ−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、
２，５−ジクロロトルエン、２，５−ジクロロベンゾト
リフルオライド、２，５−ジクロロベンゾフェノン、
２，５−ジクロロフェノキシベンゼンなどである。
構成するモノマー（以下「モノマーｒ」ともいう）とし
ては、例えば、ｐ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジブロモベ
ンゼン、ｐ−ジヨードベンゼン、ｐ−ジメチルスルフォ
ニロキシベンゼン、２，５−ジクロロトルエン、２，５
−ジブロモトルエン、２，５−ジヨードトルエン、２，
５−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、２，５−ジク
ロロ−ｐ−キシレン、２，５−ジブロモ−ｐ−キシレ
ン、２，５−ジヨード−ｐ−キシレン、２，５−ジクロ
ロベンゾトリフルオライド、２，５−ジブロモベンゾト
リフルオライド、２，５−ジヨードベンゾトリフルオラ
イド、１，４−ジクロロ−２，３，５，６−テトラフル
オロベンゼン、１，４−ジブロモ−２，３，５，６−テ
トラフルオロベンゼン、１，４−ジヨード−２，３，
５，６−テトラフルオロベンゼン、２，５−ジクロロ安
息香酸、２，５−ジブロモ安息香酸、２，５−ジクロロ
安息香酸メチル、２，５−ジブロモ安息香酸メチル、
２，５−ジクロロ安息香酸−ｔ−ブチル、２，５−ジブ
ロモ安息香酸−ｔ−ブチル、３，６−ジクロロフタル酸
無水物などを挙げることができ、好ましくはｐ−ジクロ
ロベンゼン、ｐ−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、
２，５−ジクロロトルエン、２，５−ジクロロベンゾト
リフルオライド、２，５−ジクロロベンゾフェノン、
２，５−ジクロロフェノキシベンゼンなどである。
【００１７】また、上記モノマーｒとしては、例えば、
ｍ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジブロモベンゼン、ｍ−ジ
ヨードベンゼン、ｍ−ジメチルスルフォニロキシベンゼ
ン、２，４−ジクロロトルエン、２，４−ジブロモトル
エン、２，４−ジヨードトルエン、３，５−ジクロロト
ルエン、３，５−ジブロモトルエン、３，５−ジヨード
トルエン、２，６−ジクロロトルエン、２，６−ジブロ
モトルエン、２，６−ジヨードトルエン、３，５−ジメ
チルスルフォニロキシトルエン、２，６−ジメチルスル
フォニロキシトルエン、２，４−ジクロロベンゾトリフ
ルオライド、２，４−ジブロモベンゾトリフルオライ
ド、２，４−ジヨードベンゾトリフルオライド、３，５
−ジクロロベンゾトリフルオライド、３，５−ジブロモ
トリフルオライド、３，５−ジヨードベンゾトリフルオ
ライド、１，３−ジブロモ−２，４，５，６−テトラフ
ルオロベンゼン、２，４−ジクロロベンジルアルコー
ル、３，５−ジクロロベンジルアルコール、２，４−ジ
ブロモベンジルアルコール、３，５−ジブロモベンジル
アルコール、３，５−ジクロロフェノール、３，５−ジ
ブロモフェノール、３，５−ジクロロ−ｔ−ブトキシカ
ルボニロキシフェニル、３，５−ジブロモ−ｔ−ブトキ
シカルボニロキシフェニル、２，４−ジクロロ安息香
酸、３，５−ジクロロ安息香酸、２，４−ジブロモ安息
香酸、３，５−ジブロモ安息香酸、２，４−ジクロロ安
息香酸メチル、３，５−ジクロロ安息香酸メチル、３，
５−ジブロモ安息香酸メチル、２，４−ジブロモ安息香
酸メチル、２，４−ジクロロ安息香酸−ｔ−ブチル、
３，５−ジクロロ安息香酸−ｔ−ブチル、２，４−ジブ
ロモ安息香酸−ｔ−ブチル、３，５−ジブロモ安息香酸
−ｔ−ブチルなどを挙げることもでき、好ましくはｍ−
ジクロロベンゼン、２，４−ジクロロトルエン、３，５
−ジメチルスルフォニロキシトルエン、２，４−ジクロ
ロベンゾトリフルオライド、２，４−ジクロロベンゾフ
ェノン、２，４−ジクロロフェノキシベンゼンなどであ
る。
ｍ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジブロモベンゼン、ｍ−ジ
ヨードベンゼン、ｍ−ジメチルスルフォニロキシベンゼ
ン、２，４−ジクロロトルエン、２，４−ジブロモトル
エン、２，４−ジヨードトルエン、３，５−ジクロロト
ルエン、３，５−ジブロモトルエン、３，５−ジヨード
トルエン、２，６−ジクロロトルエン、２，６−ジブロ
モトルエン、２，６−ジヨードトルエン、３，５−ジメ
チルスルフォニロキシトルエン、２，６−ジメチルスル
フォニロキシトルエン、２，４−ジクロロベンゾトリフ
ルオライド、２，４−ジブロモベンゾトリフルオライ
ド、２，４−ジヨードベンゾトリフルオライド、３，５
−ジクロロベンゾトリフルオライド、３，５−ジブロモ
トリフルオライド、３，５−ジヨードベンゾトリフルオ
ライド、１，３−ジブロモ−２，４，５，６−テトラフ
ルオロベンゼン、２，４−ジクロロベンジルアルコー
ル、３，５−ジクロロベンジルアルコール、２，４−ジ
ブロモベンジルアルコール、３，５−ジブロモベンジル
アルコール、３，５−ジクロロフェノール、３，５−ジ
ブロモフェノール、３，５−ジクロロ−ｔ−ブトキシカ
ルボニロキシフェニル、３，５−ジブロモ−ｔ−ブトキ
シカルボニロキシフェニル、２，４−ジクロロ安息香
酸、３，５−ジクロロ安息香酸、２，４−ジブロモ安息
香酸、３，５−ジブロモ安息香酸、２，４−ジクロロ安
息香酸メチル、３，５−ジクロロ安息香酸メチル、３，
５−ジブロモ安息香酸メチル、２，４−ジブロモ安息香
酸メチル、２，４−ジクロロ安息香酸−ｔ−ブチル、
３，５−ジクロロ安息香酸−ｔ−ブチル、２，４−ジブ
ロモ安息香酸−ｔ−ブチル、３，５−ジブロモ安息香酸
−ｔ−ブチルなどを挙げることもでき、好ましくはｍ−
ジクロロベンゼン、２，４−ジクロロトルエン、３，５
−ジメチルスルフォニロキシトルエン、２，４−ジクロ
ロベンゾトリフルオライド、２，４−ジクロロベンゾフ
ェノン、２，４−ジクロロフェノキシベンゼンなどであ
る。
【００１８】さらに、式（１）において、構造単位ｓを
構成するモノマー（以下「モノマーｓ」ともいう）とし
ては、例えば、４，４′−ビス（４−クロロベンゾイ
ル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−クロロ
ベンゾイル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（４
−ブロモベンゾイル）ジフェニルエーテル、４，４′−
ビス（３−ブロモベンゾイル）ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス（４−ヨードベンゾイル）ジフェニルエ
ーテル、４，４′−ビス（３−ヨードベンゾイル）ジフ
ェニルエーテル、４，４′−ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス（３−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
（４−メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルエ
ーテル、４，４′−ビス（３−メチルスルフォニロキシ
フェニル）ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
構成するモノマー（以下「モノマーｓ」ともいう）とし
ては、例えば、４，４′−ビス（４−クロロベンゾイ
ル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−クロロ
ベンゾイル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（４
−ブロモベンゾイル）ジフェニルエーテル、４，４′−
ビス（３−ブロモベンゾイル）ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス（４−ヨードベンゾイル）ジフェニルエ
ーテル、４，４′−ビス（３−ヨードベンゾイル）ジフ
ェニルエーテル、４，４′−ビス（４−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス（３−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
（４−メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルエ
ーテル、４，４′−ビス（３−メチルスルフォニロキシ
フェニル）ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
【００１９】また、上記モノマーｓとしては、例えば
４′−ビス（４−クロロベンゾイルアミノ）ジフェニル
エーテル、３，４′−ビス（４−クロロベンゾイルア
ミ）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−クロロ
ベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテル、３，４′−ビ
ス（３−クロロベンゾイル）ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス（４−ブロモベンゾイルアミノ）ジフェニル
エーテル、３，４′−ビス（４−ブロモベンゾイルアミ
ノ）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−ブロモ
ベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテル、３，４′−ビ
ス（３−ブロモベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス（４−ヨードベンゾイルアミノ）ジ
フェニルエーテル、３，４′−ビス（４−ヨードベンゾ
イルアミノ）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３
−ヨードベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス（３−ヨードベンゾイルアミノ）ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス（４−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ
フェニル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）ジフェ
ニルエーテル、３，４′−ビス（３−トリフルオロメチ
ルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニ
ル）ジフェニルエーテル、３，４′−ビス（４−メチル
スルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス（３−メチルスルフォニロキシフェニル）ジ
フェニルエーテル、３，４′−ビス（３−メチルスルフ
ォニロキシフェニル）ジフェニルエーテルなどが挙げら
れる。
４′−ビス（４−クロロベンゾイルアミノ）ジフェニル
エーテル、３，４′−ビス（４−クロロベンゾイルア
ミ）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−クロロ
ベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテル、３，４′−ビ
ス（３−クロロベンゾイル）ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス（４−ブロモベンゾイルアミノ）ジフェニル
エーテル、３，４′−ビス（４−ブロモベンゾイルアミ
ノ）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−ブロモ
ベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテル、３，４′−ビ
ス（３−ブロモベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス（４−ヨードベンゾイルアミノ）ジ
フェニルエーテル、３，４′−ビス（４−ヨードベンゾ
イルアミノ）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３
−ヨードベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス（３−ヨードベンゾイルアミノ）ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス（４−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ
フェニル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）ジフェ
ニルエーテル、３，４′−ビス（３−トリフルオロメチ
ルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニ
ル）ジフェニルエーテル、３，４′−ビス（４−メチル
スルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス（３−メチルスルフォニロキシフェニル）ジ
フェニルエーテル、３，４′−ビス（３−メチルスルフ
ォニロキシフェニル）ジフェニルエーテルなどが挙げら
れる。
【００２０】さらに、上記モノマーｓとしては、例えば
４，４′−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ジフ
ェニルエーテル、４′−ビス（４−クロロフェニルスル
ホニル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−ク
ロロフェニルスルホニル）ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス（３−クロロフェニルスルホニル）ジフェニ
ルエーテル、４，４′−ビス（４−ブロモフェニルスル
ホニル）ジフェニルエーテル、４′−ビス（４−ブロモ
フェニルスルホニル）ジフェニルエーテル、４，４′−
ビス（３−ブロモフェニルスルホニル）ジフェニルエー
テル、３，４′−ビス（３−ブロモフェニルスルホニ
ル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（４−ヨード
フェニルスルホニル）ジフェニルエーテル、４′−ビス
（４−ヨードフェニルスルホニル）ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス（３−ヨードフェニルスルホニル）
ジフェニルエーテル、３，４′−ビス（３−ヨードフェ
ニルスルホニル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニスル
ホニル）ジフェニルエーテル、４′−ビス（４−トリフ
ルオロメチルスルフォニロキシフェニルスルホニル）ジ
フェニルエーテル、４，４′−ビス（３−トリフルオロ
メチルスルフォニロキシフェニスルホニル）ジフェニル
エーテル、３，４′−ビス（３−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニルスルホニル）ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェ
ニスルホニル）ジフェニルエーテル、４′−ビス（４−
メチルスルフォニロキシフェニルスルホニル）ジフェニ
ルエーテル、４，４′−ビス（３−メチルスルフォニロ
キシフェニスルホニル）ジフェニルエーテル、３，４′
−ビス（３−メチルスルフォニロキシフェニルスルホニ
ル）ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
４，４′−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ジフ
ェニルエーテル、４′−ビス（４−クロロフェニルスル
ホニル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（３−ク
ロロフェニルスルホニル）ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス（３−クロロフェニルスルホニル）ジフェニ
ルエーテル、４，４′−ビス（４−ブロモフェニルスル
ホニル）ジフェニルエーテル、４′−ビス（４−ブロモ
フェニルスルホニル）ジフェニルエーテル、４，４′−
ビス（３−ブロモフェニルスルホニル）ジフェニルエー
テル、３，４′−ビス（３−ブロモフェニルスルホニ
ル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス（４−ヨード
フェニルスルホニル）ジフェニルエーテル、４′−ビス
（４−ヨードフェニルスルホニル）ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス（３−ヨードフェニルスルホニル）
ジフェニルエーテル、３，４′−ビス（３−ヨードフェ
ニルスルホニル）ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニスル
ホニル）ジフェニルエーテル、４′−ビス（４−トリフ
ルオロメチルスルフォニロキシフェニルスルホニル）ジ
フェニルエーテル、４，４′−ビス（３−トリフルオロ
メチルスルフォニロキシフェニスルホニル）ジフェニル
エーテル、３，４′−ビス（３−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニルスルホニル）ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェ
ニスルホニル）ジフェニルエーテル、４′−ビス（４−
メチルスルフォニロキシフェニルスルホニル）ジフェニ
ルエーテル、４，４′−ビス（３−メチルスルフォニロ
キシフェニスルホニル）ジフェニルエーテル、３，４′
−ビス（３−メチルスルフォニロキシフェニルスルホニ
ル）ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
【００２１】さらに、上記モノマーｓとしては、例えば
４，４′−ビス（４−クロロフェニル）ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、３，４′−ビス（４−クロロ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
４，４′−ビス（３−クロロフェニル）ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、３，４′−ビス（３−クロロ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
４，４′−ビス（４−ブロモフェニル）ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、３，４′−ビス（４−ブロモ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
４，４′−ビス（３−ブロモフェニル）ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、３，４′−ビス（３−ブロモ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
４′−ビス（４−ヨードフェニル）ジフェニルエーテル
ジカルボキシレート、３，４′−ビス（４−ヨードフェ
ニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、４，
４′−ビス（３−ヨードフェニル）ジフェニルエーテル
ジカルボキシレート、３，４′−ビス（３−ヨードフェ
ニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、４，
４′−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
３，４′−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレー
ト、４，４′−ビス（３−トリフルオロメチルスルフォ
ニロキシフェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレ
ート、３，４′−ビス（３−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシ
レート、４，４′−ビス（４−メチルスルフォニロキシ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
３，４′−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニ
ル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、４，４′
−ビス（３−メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェ
ニルエーテルジカルボキシレート、３，４′−ビス（３
−メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテ
ルジカルボキシレートなどが挙げられる。
４，４′−ビス（４−クロロフェニル）ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、３，４′−ビス（４−クロロ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
４，４′−ビス（３−クロロフェニル）ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、３，４′−ビス（３−クロロ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
４，４′−ビス（４−ブロモフェニル）ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、３，４′−ビス（４−ブロモ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
４，４′−ビス（３−ブロモフェニル）ジフェニルエー
テルジカルボキシレート、３，４′−ビス（３−ブロモ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
４′−ビス（４−ヨードフェニル）ジフェニルエーテル
ジカルボキシレート、３，４′−ビス（４−ヨードフェ
ニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、４，
４′−ビス（３−ヨードフェニル）ジフェニルエーテル
ジカルボキシレート、３，４′−ビス（３−ヨードフェ
ニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、４，
４′−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
３，４′−ビス（４−トリフルオロメチルスルフォニロ
キシフェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレー
ト、４，４′−ビス（３−トリフルオロメチルスルフォ
ニロキシフェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレ
ート、３，４′−ビス（３−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシフェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシ
レート、４，４′−ビス（４−メチルスルフォニロキシ
フェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、
３，４′−ビス（４−メチルスルフォニロキシフェニ
ル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、４，４′
−ビス（３−メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェ
ニルエーテルジカルボキシレート、３，４′−ビス（３
−メチルスルフォニロキシフェニル）ジフェニルエーテ
ルジカルボキシレートなどが挙げられる。
【００２２】さらに、上記モノマーｓとしては、例えば
４，４′−ビス〔（４−クロロフェニル）−１，１，
１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニル
エーテル、３，４′−ビス〔（４−クロロフェニル）−
１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−クロロフェ
ニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロ
ピル〕ジフェニルエーテル、３，４′−ビス〔（３−ク
ロロフェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフル
オロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
［（４−ブロモフェニル）−１，１，１，３，３，３―
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス〔（４−ブロモフェニル）−１，１，１，
３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエー
テル、４，４′−ビス〔（３−ブロモフェニル）−１，
１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェ
ニルエーテル、３，４′−ビス〔（３−ブロモフェニ
ル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピ
ル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−ヨー
ドフェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、３，４′−ビス
〔（４−ヨードフェニル）−１，１，１，３，３，３―
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４′−
ビス〔（３−ヨードフェニル）−１，１，１，３，３，
３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、
３，４′−ビス〔（３−ヨードフェニル）−１，１，
１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス〔（４−トリフルオロメチル
スルフォニロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３
―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス〔（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シフェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、４′−ビス〔（３−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）−１，
１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェ
ニルエーテル、３，４′−ビス〔（３−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシフェニル）−１，１，１，３，
３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（４−メチルスルフォニロキシフ
ェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、３，４′−ビス〔（４−
メチルスルフォニロキシフェニル）−１，１，１，３，
３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（３−メチルスルフォニロキシフ
ェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、３，４′−ビス〔（３−
メチルスルフォニロキシフェニル）−１，１，１，３，
３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル
などが挙げられる。
４，４′−ビス〔（４−クロロフェニル）−１，１，
１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニル
エーテル、３，４′−ビス〔（４−クロロフェニル）−
１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−クロロフェ
ニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロ
ピル〕ジフェニルエーテル、３，４′−ビス〔（３−ク
ロロフェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフル
オロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
［（４−ブロモフェニル）−１，１，１，３，３，３―
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス〔（４−ブロモフェニル）−１，１，１，
３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエー
テル、４，４′−ビス〔（３−ブロモフェニル）−１，
１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェ
ニルエーテル、３，４′−ビス〔（３−ブロモフェニ
ル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピ
ル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−ヨー
ドフェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、３，４′−ビス
〔（４−ヨードフェニル）−１，１，１，３，３，３―
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４′−
ビス〔（３−ヨードフェニル）−１，１，１，３，３，
３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、
３，４′−ビス〔（３−ヨードフェニル）−１，１，
１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス〔（４−トリフルオロメチル
スルフォニロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３
―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、３，
４′−ビス〔（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シフェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、４′−ビス〔（３−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）−１，
１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェ
ニルエーテル、３，４′−ビス〔（３−トリフルオロメ
チルスルフォニロキシフェニル）−１，１，１，３，
３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（４−メチルスルフォニロキシフ
ェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、３，４′−ビス〔（４−
メチルスルフォニロキシフェニル）−１，１，１，３，
３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（３−メチルスルフォニロキシフ
ェニル）−１，１，１，３，３，３―ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、３，４′−ビス〔（３−
メチルスルフォニロキシフェニル）−１，１，１，３，
３，３―ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル
などが挙げられる。
【００２３】さらに、上記モノマーｓとしては、例えば
４，４′−ビス〔（４−クロロフェニル）テトラフルオ
ロエチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３
−クロロフェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス〔（４−クロロフェニル）ヘ
キサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′
−ビス〔（３−クロロフェニル）ヘキサフルオロプロピ
ル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−クロ
ロフェニル）オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（３−クロロフェニル）オクタフ
ルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
〔（４−クロロフェニル）デカフルオロペンチル〕ジフ
ェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−クロロフェニ
ル）デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（４−ブロモフェニル）テトラフルオロエ
チル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−ブ
ロモフェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエー
テル、４，４′−ビス〔（４−ブロモフェニル）ヘキサ
フルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビ
ス〔（３−ブロモフェニル）ヘキサフルオロプロピル〕
ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−ブロモフ
ェニル）オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（３−ブロモフェニル）オクタフルオ
ロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４
−ブロモフェニル）デカフルオロペンチル〕ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス〔（３−ブロモフェニル）デ
カフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−
ビス〔（４−ヨードフェニル）テトラフルオロエチル〕
ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−ヨードフ
ェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（４−ヨードフェニル）ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
〔（３−ヨードフェニル）ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−ヨードフェ
ニル）オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（３−ヨードフェニル）オクタフルオ
ロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４
−ヨードフェニル）デカフルオロペンチル〕ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス〔（３−ヨードフェニル）デ
カフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−
ビス〔（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェ
ニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（３−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシフェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエ
ーテル、４，４′−ビス〔（４−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニル）ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−トリフルオ
ロメチルスルフォニロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）オクタ
フルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
〔（３−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニ
ル）オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シフェニル）デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（３−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシ）デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（４−メチルスルフォニロキシフ
ェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（３−メチルスルフォニロキシフェニ
ル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（４−メチルスルフォニロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（３−メチルスルフォニロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（４−メチルスルフォニロキシフェニル）
オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′
−ビス〔（３−メチルスルフォニロキシフェニル）オク
タフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビ
ス〔（４−メチルスルフォニロキシフェニル）デカフル
オロペンチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
〔（３−メチルスルフォニロキシ）デカフルオロペンチ
ル〕ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
４，４′−ビス〔（４−クロロフェニル）テトラフルオ
ロエチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３
−クロロフェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス〔（４−クロロフェニル）ヘ
キサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′
−ビス〔（３−クロロフェニル）ヘキサフルオロプロピ
ル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−クロ
ロフェニル）オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（３−クロロフェニル）オクタフ
ルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
〔（４−クロロフェニル）デカフルオロペンチル〕ジフ
ェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−クロロフェニ
ル）デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（４−ブロモフェニル）テトラフルオロエ
チル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−ブ
ロモフェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエー
テル、４，４′−ビス〔（４−ブロモフェニル）ヘキサ
フルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビ
ス〔（３−ブロモフェニル）ヘキサフルオロプロピル〕
ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−ブロモフ
ェニル）オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（３−ブロモフェニル）オクタフルオ
ロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４
−ブロモフェニル）デカフルオロペンチル〕ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス〔（３−ブロモフェニル）デ
カフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−
ビス〔（４−ヨードフェニル）テトラフルオロエチル〕
ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−ヨードフ
ェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（４−ヨードフェニル）ヘキサフルオ
ロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
〔（３−ヨードフェニル）ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−ヨードフェ
ニル）オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（３−ヨードフェニル）オクタフルオ
ロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４
−ヨードフェニル）デカフルオロペンチル〕ジフェニル
エーテル、４，４′−ビス〔（３−ヨードフェニル）デ
カフルオロペンチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−
ビス〔（４−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェ
ニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（３−トリフルオロメチルスルフォニ
ロキシフェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエ
ーテル、４，４′−ビス〔（４−トリフルオロメチルス
ルフォニロキシフェニル）ヘキサフルオロプロピル〕ジ
フェニルエーテル、４，４′−ビス〔（３−トリフルオ
ロメチルスルフォニロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロピル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス〔（４−
トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニル）オクタ
フルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
〔（３−トリフルオロメチルスルフォニロキシフェニ
ル）オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（４−トリフルオロメチルスルフォニロキ
シフェニル）デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（３−トリフルオロメチルスルフ
ォニロキシ）デカフルオロペンチル〕ジフェニルエーテ
ル、４，４′−ビス〔（４−メチルスルフォニロキシフ
ェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、
４，４′−ビス〔（３−メチルスルフォニロキシフェニ
ル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（４−メチルスルフォニロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（３−メチルスルフォニロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，
４′−ビス〔（４−メチルスルフォニロキシフェニル）
オクタフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′
−ビス〔（３−メチルスルフォニロキシフェニル）オク
タフルオロブチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビ
ス〔（４−メチルスルフォニロキシフェニル）デカフル
オロペンチル〕ジフェニルエーテル、４，４′−ビス
〔（３−メチルスルフォニロキシ）デカフルオロペンチ
ル〕ジフェニルエーテルなどが挙げられる。
【００２４】また、上記モノマーｐ〜ｓ以外にも、例え
ば、ｏ−ジクロロベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、ｏ
−ジヨードベンゼン、ｏ−ジメチルスルフォニロキシベ
ンゼン、２，３−ジクロロトルエン、２，３−ジブロモ
トルエン、２，３−ジヨードトルエン、３，４−ジクロ
ロトルエン、３，４−ジブロモトルエン、３，４−ジヨ
ードトルエン、２，３−ジメチルスルフォニロキシベン
ゼン、３，４−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、
３，４−ジクロロベンゾトリフルオライド、３，４−ジ
ブロモベンゾトリフルオライド、３，４−ジヨードベン
ゾトリフルオライド、１，２−ジブロモ−３，４，５，
６−テトラフルオロベンゼン、４，５−ジクロロフタル
酸無水物などを共重合させることができる。
ば、ｏ−ジクロロベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、ｏ
−ジヨードベンゼン、ｏ−ジメチルスルフォニロキシベ
ンゼン、２，３−ジクロロトルエン、２，３−ジブロモ
トルエン、２，３−ジヨードトルエン、３，４−ジクロ
ロトルエン、３，４−ジブロモトルエン、３，４−ジヨ
ードトルエン、２，３−ジメチルスルフォニロキシベン
ゼン、３，４−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、
３，４−ジクロロベンゾトリフルオライド、３，４−ジ
ブロモベンゾトリフルオライド、３，４−ジヨードベン
ゾトリフルオライド、１，２−ジブロモ−３，４，５，
６−テトラフルオロベンゼン、４，５−ジクロロフタル
酸無水物などを共重合させることができる。
【００２５】ポリアリーレン中の繰り返し構造単位の割
合は、上記式（１）において、ｐが０〜１００モル％、
ｑが０〜１００モル％、ｒが０〜１００モル％、ｓが０
〜１００モル％、好ましくは、ｐが５０〜１００モル
％、ｑが０〜５０モル％、ｒが５０〜１００モル％、ｓ
が０〜５０モル％（ただし、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＝１００モ
ル％）である。
合は、上記式（１）において、ｐが０〜１００モル％、
ｑが０〜１００モル％、ｒが０〜１００モル％、ｓが０
〜１００モル％、好ましくは、ｐが５０〜１００モル
％、ｑが０〜５０モル％、ｒが５０〜１００モル％、ｓ
が０〜５０モル％（ただし、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＝１００モ
ル％）である。
【００２６】本発明に用いられるポリアリーレンを製造
する際に用いられる触媒は、遷移金属化合物を含む触媒
系が好ましく、この触媒系としては、遷移金属塩およ
び配位子、または配位子が配位された遷移金属（塩）、
ならびに還元剤を必須成分とし、さらに、重合速度を
上げるために、「塩」を添加してもよい。
する際に用いられる触媒は、遷移金属化合物を含む触媒
系が好ましく、この触媒系としては、遷移金属塩およ
び配位子、または配位子が配位された遷移金属（塩）、
ならびに還元剤を必須成分とし、さらに、重合速度を
上げるために、「塩」を添加してもよい。
【００２７】ここで、遷移金属塩としては、塩化ニッケ
ル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、ニッケルアセチル
アセトナートなどのニッケル化合物、塩化パラジウム、
臭化パラジウム、ヨウ化パラジウムなどのパラジウム化
合物、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などの鉄化合物、塩化
コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルトなどのコバル
ト化合物などを挙げることができる。これらのうち特
に、塩化ニッケル、臭化ニッケルなどが好ましい。
ル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、ニッケルアセチル
アセトナートなどのニッケル化合物、塩化パラジウム、
臭化パラジウム、ヨウ化パラジウムなどのパラジウム化
合物、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などの鉄化合物、塩化
コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルトなどのコバル
ト化合物などを挙げることができる。これらのうち特
に、塩化ニッケル、臭化ニッケルなどが好ましい。
【００２８】また、配位子としては、トリフェニルホス
フィン、２，２′−ビピリジン、１，５−シクロオクタ
ジエン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパ
ンなどを挙げることができるが、トリフェニルホスフィ
ン、２，２′−ビピリジンが好ましい。上記配位子は、
１種単独でまたは２種以上を組合わせて用いることがで
きる。
フィン、２，２′−ビピリジン、１，５−シクロオクタ
ジエン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパ
ンなどを挙げることができるが、トリフェニルホスフィ
ン、２，２′−ビピリジンが好ましい。上記配位子は、
１種単独でまたは２種以上を組合わせて用いることがで
きる。
【００２９】さらに、あらかじめ配位子が配位された遷
移金属（塩）としては、例えば、塩化ニッケル２トリフ
ェニルホスフィン、臭化ニッケル２トリフェニルホスフ
ィン、ヨウ化ニッケル２トリフェニルホスフィン、硝酸
ニッケル２−トリフェニルホスフィン、塩化ニッケル
２，２′ビピリジン、臭化ニッケル２，２′ビピリジ
ン、ヨウ化ニッケル２，２′ビピリジン、硝酸ニッケル
２，２′ビピリジン、ビス（１，５−シクロオクタジエ
ン）ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）
ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスファイト）ニ
ッケル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジ
ウムなどを挙げることができるが、塩化ニッケル２トリ
フェニルホスフィン、塩化ニッケル２，２′ビピリジン
が好ましい。
移金属（塩）としては、例えば、塩化ニッケル２トリフ
ェニルホスフィン、臭化ニッケル２トリフェニルホスフ
ィン、ヨウ化ニッケル２トリフェニルホスフィン、硝酸
ニッケル２−トリフェニルホスフィン、塩化ニッケル
２，２′ビピリジン、臭化ニッケル２，２′ビピリジ
ン、ヨウ化ニッケル２，２′ビピリジン、硝酸ニッケル
２，２′ビピリジン、ビス（１，５−シクロオクタジエ
ン）ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）
ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスファイト）ニ
ッケル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジ
ウムなどを挙げることができるが、塩化ニッケル２トリ
フェニルホスフィン、塩化ニッケル２，２′ビピリジン
が好ましい。
【００３０】このような触媒系において使用することが
できる上記還元剤としては、例えば、鉄、亜鉛、マンガ
ン、アルミニウム、マグネシウム、ナトリウム、カルシ
ウムなどを挙げることできるが、亜鉛、マンガンが好ま
しい。これらの還元剤は、酸や有機酸に接触させること
により、より活性化して用いることができる。
できる上記還元剤としては、例えば、鉄、亜鉛、マンガ
ン、アルミニウム、マグネシウム、ナトリウム、カルシ
ウムなどを挙げることできるが、亜鉛、マンガンが好ま
しい。これらの還元剤は、酸や有機酸に接触させること
により、より活性化して用いることができる。
【００３１】また、このような触媒系において使用する
ことのできる「塩」としては、フッ化ナトリウム、塩化
ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、硫酸
ナトリウムなどのナトリウム化合物、フッ化カリウム、
塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、硫酸カ
リウムなどのカリウム化合物、フッ化テトラエチルアン
モニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ
エチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウ
ム、硫酸テトラエチルアンモニウムなどのアンモニウム
化合物などを挙げることができるが、臭化ナトリウム、
ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、臭化テトラエチルア
ンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウムが好まし
い。
ことのできる「塩」としては、フッ化ナトリウム、塩化
ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、硫酸
ナトリウムなどのナトリウム化合物、フッ化カリウム、
塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、硫酸カ
リウムなどのカリウム化合物、フッ化テトラエチルアン
モニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ
エチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウ
ム、硫酸テトラエチルアンモニウムなどのアンモニウム
化合物などを挙げることができるが、臭化ナトリウム、
ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、臭化テトラエチルア
ンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウムが好まし
い。
【００３２】このような触媒系における各成分の使用割
合は、遷移金属塩または配位子が配位された遷移金属
（塩）が、上記モノマーｐ〜ｓの総量１モルに対し、通
常、０．０００１〜１０モル、好ましくは０．０１〜
０．５モルである。０．０００１モル未満であると、重
合反応が充分に進行せず、一方、１０モルを超えると、
分子量が低下することがある。
合は、遷移金属塩または配位子が配位された遷移金属
（塩）が、上記モノマーｐ〜ｓの総量１モルに対し、通
常、０．０００１〜１０モル、好ましくは０．０１〜
０．５モルである。０．０００１モル未満であると、重
合反応が充分に進行せず、一方、１０モルを超えると、
分子量が低下することがある。
【００３３】このような触媒系において、遷移金属塩お
よび配位子を用いる場合、この配位子の使用割合は、遷
移金属塩１モルに対し、通常、０．１〜１００モル、好
ましくは１〜１０モルである。０．１モル未満では、触
媒活性が不充分となり、一方、１００モルを超えると、
分子量が低下するという問題がある。
よび配位子を用いる場合、この配位子の使用割合は、遷
移金属塩１モルに対し、通常、０．１〜１００モル、好
ましくは１〜１０モルである。０．１モル未満では、触
媒活性が不充分となり、一方、１００モルを超えると、
分子量が低下するという問題がある。
【００３４】また、触媒系における還元剤の使用割合
は、モノマーｐ〜ｓの総量１モルに対し、通常、０．１
〜１００モル、好ましくは１〜１０モルである。０．１
モル未満であると、重合が充分進行せず、１００モルを
超えると、得られるポリアリーレンの精製が困難になる
ことがある。
は、モノマーｐ〜ｓの総量１モルに対し、通常、０．１
〜１００モル、好ましくは１〜１０モルである。０．１
モル未満であると、重合が充分進行せず、１００モルを
超えると、得られるポリアリーレンの精製が困難になる
ことがある。
【００３５】さらに、触媒系に「塩」を使用する場合、
その使用割合は、上記モノマーｐ〜ｓの総量１モルに対
し、通常、０．００１〜１００モル、好ましくは０．０
１〜１モルである。０．００１モル未満であると、重合
速度を上げる効果が不充分であり、１００モルを超える
と、得られるポリアリーレンの精製が困難となることが
ある。
その使用割合は、上記モノマーｐ〜ｓの総量１モルに対
し、通常、０．００１〜１００モル、好ましくは０．０
１〜１モルである。０．００１モル未満であると、重合
速度を上げる効果が不充分であり、１００モルを超える
と、得られるポリアリーレンの精製が困難となることが
ある。
【００３６】本発明で使用することのできる重合溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノ
ン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２
−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタ
ムなどを挙げることができ、テトラヒドロフラン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、１−メチル−２−ピロリドンが好ましい。これら
の重合溶媒は、充分に乾燥してから用いることが好まし
い。
しては、例えば、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノ
ン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２
−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタ
ムなどを挙げることができ、テトラヒドロフラン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、１−メチル−２−ピロリドンが好ましい。これら
の重合溶媒は、充分に乾燥してから用いることが好まし
い。
【００３７】重合溶媒中における上記モノマーｐ〜ｓの
総量の濃度は、通常、１〜１００重量％、好ましくは５
〜４０重量％である。
総量の濃度は、通常、１〜１００重量％、好ましくは５
〜４０重量％である。
【００３８】また、本発明のポリアリーレンを重合する
際の重合温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは５０
〜８０℃である。また、重合時間は、通常、０．５〜１
００時間、好ましくは１〜４０時間である。なお、本発
明に用いられるポリアリーレンのポリスチレン換算の重
量平均分子量は、通常、１，０００〜１，０００，００
０である。
際の重合温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは５０
〜８０℃である。また、重合時間は、通常、０．５〜１
００時間、好ましくは１〜４０時間である。なお、本発
明に用いられるポリアリーレンのポリスチレン換算の重
量平均分子量は、通常、１，０００〜１，０００，００
０である。
【００３９】本発明に用いられるポリアリーレンのスル
ホン化物は、スルホン酸基を有しない上記ポリアリーレ
ンに、スルホン化剤を用い、常法によりスルホン酸基を
導入することにより得ることができる。スルホン酸基を
導入する方法としては、例えば、上記ポリアリーレン
を、無水硫酸、発煙硫酸、クロルスルホン酸、硫酸、亜
硫酸水素ナトリウムなどの公知のスルホン化剤を用い
て、公知の条件でスルホン化することができる〔Ｐｏｌ
ｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．
４２，Ｎｏ．３，ｐ．７３０（１９９３）；Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４
２，Ｎｏ．３，ｐ．７３６（１９９４）；Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４２，
Ｎｏ．７，ｐ．２４９０〜２４９２（１９９３）〕。
ホン化物は、スルホン酸基を有しない上記ポリアリーレ
ンに、スルホン化剤を用い、常法によりスルホン酸基を
導入することにより得ることができる。スルホン酸基を
導入する方法としては、例えば、上記ポリアリーレン
を、無水硫酸、発煙硫酸、クロルスルホン酸、硫酸、亜
硫酸水素ナトリウムなどの公知のスルホン化剤を用い
て、公知の条件でスルホン化することができる〔Ｐｏｌ
ｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．
４２，Ｎｏ．３，ｐ．７３０（１９９３）；Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４
２，Ｎｏ．３，ｐ．７３６（１９９４）；Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４２，
Ｎｏ．７，ｐ．２４９０〜２４９２（１９９３）〕。
【００４０】すなわち、このスルホン化の反応条件とし
ては、上記ポリアリーレンを、無溶剤下、あるいは溶剤
存在下で、上記スルホン化剤と反応させる。溶剤として
は、例えばｎ−ヘキサンなどの炭化水素溶剤、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシ
ドのような非プロトン系極性溶剤のほか、テトラクロロ
エタン、ジクロロエタン、クロロホルム、塩化メチレン
などのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。反応温度
は、特に制限はないが、通常、−５０〜２００℃、好ま
しくは−１０〜１００℃である。また、反応時間は、通
常、０．５〜１，０００時間、好ましくは１〜２００時
間である。
ては、上記ポリアリーレンを、無溶剤下、あるいは溶剤
存在下で、上記スルホン化剤と反応させる。溶剤として
は、例えばｎ−ヘキサンなどの炭化水素溶剤、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシ
ドのような非プロトン系極性溶剤のほか、テトラクロロ
エタン、ジクロロエタン、クロロホルム、塩化メチレン
などのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。反応温度
は、特に制限はないが、通常、−５０〜２００℃、好ま
しくは−１０〜１００℃である。また、反応時間は、通
常、０．５〜１，０００時間、好ましくは１〜２００時
間である。
【００４１】このようにして得られる、上記ポリアリー
レンのスルホン化物中のスルホン酸基量は、重合体を構
成する単位ｐ〜ｒの１ユニットに対して、通常、０．０
５〜２個、好ましくは０．３〜１．５個である。０．０
５個未満では、プロトン伝導性が上がらず、一方２個を
超えると、親水性が向上し、水溶性ポリマーとなってし
まうか、また水溶性に至らずとも耐久性が低下する。
レンのスルホン化物中のスルホン酸基量は、重合体を構
成する単位ｐ〜ｒの１ユニットに対して、通常、０．０
５〜２個、好ましくは０．３〜１．５個である。０．０
５個未満では、プロトン伝導性が上がらず、一方２個を
超えると、親水性が向上し、水溶性ポリマーとなってし
まうか、また水溶性に至らずとも耐久性が低下する。
【００４２】また、このようにして得られるポリアリー
レンのスルホン化物は、スルホン化前のベースポリマー
の分子量が、ポリスチレン換算重量平均分子量で１，０
００〜１，０００，０００、好ましくは１，５００〜３
００，０００である。１，０００未満では、成形フィル
ムにクラックが発生するなど、塗膜性が不充分であり、
また強度的性質にも問題がある。一方、１，０００，０
００を超えると、溶解性が不充分となり、また溶液粘度
が高く、加工性が不良になるなどの問題がある。
レンのスルホン化物は、スルホン化前のベースポリマー
の分子量が、ポリスチレン換算重量平均分子量で１，０
００〜１，０００，０００、好ましくは１，５００〜３
００，０００である。１，０００未満では、成形フィル
ムにクラックが発生するなど、塗膜性が不充分であり、
また強度的性質にも問題がある。一方、１，０００，０
００を超えると、溶解性が不充分となり、また溶液粘度
が高く、加工性が不良になるなどの問題がある。
【００４３】なお、本発明に用いられるポリアリーレン
のスルホン化物は、上記スルホン化物以外に、硫酸、リ
ン酸などの無機酸、カルボン酸を含む有機酸、適量の水
などを併用しても良い。
のスルホン化物は、上記スルホン化物以外に、硫酸、リ
ン酸などの無機酸、カルボン酸を含む有機酸、適量の水
などを併用しても良い。
【００４４】（Ｂ）溶媒 本発明に用いられる（Ｂ）溶媒は、（ｂ１）沸点が１０
０℃以下のアルコール５〜７５重量％および（ｂ２）沸
点が１００℃を超える有機溶媒９５〜２５重量％〔ただ
し、（ｂ１）＋（ｂ２）＝１００重量％〕からなる。こ
こで、（ｂ１）沸点が１００℃以下のアルコールとして
は、メタノール（ｂｐ＝６４．１℃）、エタノール（ｂ
ｐ＝７８．５℃）、プロピルアルコール（ｂｐ＝９７．
４℃）、ｉ−プロピルアルコール（ｂｐ＝８２．４
℃）、ｓｅｃ−ブチルアルコール（ｂｐ＝１００℃）、
ｔ−ブチルアルコール（ｂｐ＝８２．８℃）が挙げられ
るが、特に、メタノールが他の溶媒と併用時に幅広い組
成範囲で溶液粘度を下げる効果があり好ましい。これら
の（ｂ−１）アルコールは、１種単独であるいは２種以
上を併用することができる。
０℃以下のアルコール５〜７５重量％および（ｂ２）沸
点が１００℃を超える有機溶媒９５〜２５重量％〔ただ
し、（ｂ１）＋（ｂ２）＝１００重量％〕からなる。こ
こで、（ｂ１）沸点が１００℃以下のアルコールとして
は、メタノール（ｂｐ＝６４．１℃）、エタノール（ｂ
ｐ＝７８．５℃）、プロピルアルコール（ｂｐ＝９７．
４℃）、ｉ−プロピルアルコール（ｂｐ＝８２．４
℃）、ｓｅｃ−ブチルアルコール（ｂｐ＝１００℃）、
ｔ−ブチルアルコール（ｂｐ＝８２．８℃）が挙げられ
るが、特に、メタノールが他の溶媒と併用時に幅広い組
成範囲で溶液粘度を下げる効果があり好ましい。これら
の（ｂ−１）アルコールは、１種単独であるいは２種以
上を併用することができる。
【００４５】また、（ｂ２）沸点が１００℃を超える有
機溶媒としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ｂｐ＝
２０２℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｂｐ＝１
５３℃）、γ−ブチロラクトン（ｂｐ＝２０３〜２０４
℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ｂｐ＝１６５．
５℃）、ジメチルスルホキシド〔ｂｐ＝１８９℃（分
解）〕、ジメチル尿素（ｂｐ＝２６８〜２７０℃）など
の非プロトン系極性溶剤が挙げられるが、特に、溶解
性、溶液粘度の面から、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
（以下「ＮＭＰ」ともいう）が好ましい。
機溶媒としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ｂｐ＝
２０２℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｂｐ＝１
５３℃）、γ−ブチロラクトン（ｂｐ＝２０３〜２０４
℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ｂｐ＝１６５．
５℃）、ジメチルスルホキシド〔ｂｐ＝１８９℃（分
解）〕、ジメチル尿素（ｂｐ＝２６８〜２７０℃）など
の非プロトン系極性溶剤が挙げられるが、特に、溶解
性、溶液粘度の面から、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
（以下「ＮＭＰ」ともいう）が好ましい。
【００４６】（Ｂ）溶媒中における（ｂ１）と（ｂ２）
の割合は、（ｂ１）が２５〜９５重量％、好ましくは２
５〜７５重量％、（ｂ２）が７５〜５重量％、好ましく
は７５〜２５重量％〔ただし、（ｂ１）＋（ｂ２）＝１
００重量％〕である。（ｂ１）成分が２５重量％未満で
は、溶液粘度の低下が充分でなく、一方、９５重量％を
超えると、溶液粘度が著しく増加するので好ましくな
い。
の割合は、（ｂ１）が２５〜９５重量％、好ましくは２
５〜７５重量％、（ｂ２）が７５〜５重量％、好ましく
は７５〜２５重量％〔ただし、（ｂ１）＋（ｂ２）＝１
００重量％〕である。（ｂ１）成分が２５重量％未満で
は、溶液粘度の低下が充分でなく、一方、９５重量％を
超えると、溶液粘度が著しく増加するので好ましくな
い。
【００４７】本発明の組成物によれば、（Ａ）ポリアリ
ーレンのスルホン化物の溶媒として、低沸点の（ｂ１）
アルコールと、これよりも沸点の高い（ｂ２）有機溶媒
を併用しているため、規定組成範囲内で溶液粘度を下げ
ることができ、また、塗膜形成後、（ｂ１）成分が優先
的に蒸発するので、一旦、高高度の塗膜が形成されて、
ピンホールなどの欠陥ができ難くなる。（Ｂ）溶媒を構
成する（ｂ２）有機溶媒と（ｂ１）低沸点アルコールの
沸点差は、好ましくは５０℃以上、さらに好ましくは７
０℃以上である。
ーレンのスルホン化物の溶媒として、低沸点の（ｂ１）
アルコールと、これよりも沸点の高い（ｂ２）有機溶媒
を併用しているため、規定組成範囲内で溶液粘度を下げ
ることができ、また、塗膜形成後、（ｂ１）成分が優先
的に蒸発するので、一旦、高高度の塗膜が形成されて、
ピンホールなどの欠陥ができ難くなる。（Ｂ）溶媒を構
成する（ｂ２）有機溶媒と（ｂ１）低沸点アルコールの
沸点差は、好ましくは５０℃以上、さらに好ましくは７
０℃以上である。
【００４８】なお、本発明のポリアリーレン組成物は、
上記（Ａ）〜（Ｂ）成分を主成分とするが、そのほか、
塗布基板との剥離性を促進させる離型剤や、可塑剤など
を配合してもよい。
上記（Ａ）〜（Ｂ）成分を主成分とするが、そのほか、
塗布基板との剥離性を促進させる離型剤や、可塑剤など
を配合してもよい。
【００４９】本発明の組成物を用いたフィルム成形 本発明の組成物を用い、例えば、プロトン伝導性に優れ
たフィルム（プロトン伝導膜）を製造するには、（Ａ）
ポリアリーレンのスルホン化物を、（Ｂ）溶剤に溶解し
て、本発明のポリアリーレン組成物としたのち、キャス
ティングにより、基体上に流延し、フィルム状に成形す
るキャスティング法などにより、フィルムを製造する方
法が挙げられる。ここで、上記基体としては、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどが挙げられ
るが、これに限定されるものではなく、通常の溶液キャ
スティング法に用いられる基体であれば、如何なる素材
でもよく、例えばプラスチック製でも、金属製でも特に
制限されるものではない。
たフィルム（プロトン伝導膜）を製造するには、（Ａ）
ポリアリーレンのスルホン化物を、（Ｂ）溶剤に溶解し
て、本発明のポリアリーレン組成物としたのち、キャス
ティングにより、基体上に流延し、フィルム状に成形す
るキャスティング法などにより、フィルムを製造する方
法が挙げられる。ここで、上記基体としては、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムなどが挙げられ
るが、これに限定されるものではなく、通常の溶液キャ
スティング法に用いられる基体であれば、如何なる素材
でもよく、例えばプラスチック製でも、金属製でも特に
制限されるものではない。
【００５０】この際のポリマー濃度〔組成物中の（Ａ）
成分の割合〕は、（Ａ）成分の分子量にもよるが、通
常、５〜４０重量％、好ましくは７〜２５重量％であ
る。５重量％未満では、厚膜化し難く、また、ピンホー
ルが生成しやすい。一方、４０重量％を超えると、溶液
粘度が高すぎてフィルム化し難く、また、表面平滑性に
欠けることがある。
成分の割合〕は、（Ａ）成分の分子量にもよるが、通
常、５〜４０重量％、好ましくは７〜２５重量％であ
る。５重量％未満では、厚膜化し難く、また、ピンホー
ルが生成しやすい。一方、４０重量％を超えると、溶液
粘度が高すぎてフィルム化し難く、また、表面平滑性に
欠けることがある。
【００５１】なお、本発明の組成物の溶液粘度は、
（Ａ）成分の分子量や、ポリマー濃度にもよるが、通
常、２，０００〜１００，０００ｍＰａ・ｓ、好ましく
は３，０００〜５０，０００ｍＰａ・ｓである。２，０
００ｍＰａ・ｓ未満では、加工中の溶液の滞留性が悪
く、基体から流れてしまう。一方、１００，０００ｍＰ
ａ・ｓを超えると、高粘度過ぎて、ダイからの押し出し
ができず、流延法によるフィルム化が困難となる。
（Ａ）成分の分子量や、ポリマー濃度にもよるが、通
常、２，０００〜１００，０００ｍＰａ・ｓ、好ましく
は３，０００〜５０，０００ｍＰａ・ｓである。２，０
００ｍＰａ・ｓ未満では、加工中の溶液の滞留性が悪
く、基体から流れてしまう。一方、１００，０００ｍＰ
ａ・ｓを超えると、高粘度過ぎて、ダイからの押し出し
ができず、流延法によるフィルム化が困難となる。
【００５２】上記キャスティング法による製膜後、３
０〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃で１０〜１８０
分、好ましくは１５〜６０分乾燥し、次いで、５０〜
１５０℃で、好ましくは５００ｍｍＨｇ〜０．１ｍｍＨ
ｇの減圧下、０．５〜２４時間、真空乾燥することによ
り、プロトン伝導性に優れたフィルム（プロトン伝導
膜）を得ることができる。上記の工程においては、低
沸点溶媒である（ｂ１）成分が優先的に蒸発し、いった
ん高濃度の塗膜が形成されるので、ピンホールなどの欠
陥ができ難い。また、上記の工程では、（ｂ２）成分
がさらに蒸発した溶媒含有量の少ないフィルムが得られ
る。
０〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃で１０〜１８０
分、好ましくは１５〜６０分乾燥し、次いで、５０〜
１５０℃で、好ましくは５００ｍｍＨｇ〜０．１ｍｍＨ
ｇの減圧下、０．５〜２４時間、真空乾燥することによ
り、プロトン伝導性に優れたフィルム（プロトン伝導
膜）を得ることができる。上記の工程においては、低
沸点溶媒である（ｂ１）成分が優先的に蒸発し、いった
ん高濃度の塗膜が形成されるので、ピンホールなどの欠
陥ができ難い。また、上記の工程では、（ｂ２）成分
がさらに蒸発した溶媒含有量の少ないフィルムが得られ
る。
【００５３】本発明の組成物より得られるフィルム（プ
ロトン伝導膜）は、ピンホール欠陥の極めて少ない製膜
が可能であり、その乾燥膜厚は、通常、１０〜１００μ
ｍ、好ましくは２０〜８０μｍである。
ロトン伝導膜）は、ピンホール欠陥の極めて少ない製膜
が可能であり、その乾燥膜厚は、通常、１０〜１００μ
ｍ、好ましくは２０〜８０μｍである。
【００５４】本発明の組成物より得られるフィルム（プ
ロトン伝導膜）は、厚膜化が可能で、表面平滑性に優
れ、ピンホールなどの欠陥が少ない高品質の膜質を有す
る。したがって、本発明の組成物から得られるフィルム
（プロトン伝導膜）は、例えば、一次電池用電解質、二
次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、表示素
子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデンサー、
イオン交換膜などに利用可能なプロトン伝導性の伝導膜
に利用可能である。
ロトン伝導膜）は、厚膜化が可能で、表面平滑性に優
れ、ピンホールなどの欠陥が少ない高品質の膜質を有す
る。したがって、本発明の組成物から得られるフィルム
（プロトン伝導膜）は、例えば、一次電池用電解質、二
次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、表示素
子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデンサー、
イオン交換膜などに利用可能なプロトン伝導性の伝導膜
に利用可能である。
【００５５】
【実施例】以下、実施例を挙げ本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。なお、実施例中の各種の測定項目は、下記のよ
うにして求めた。
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。なお、実施例中の各種の測定項目は、下記のよ
うにして求めた。
【００５６】重量平均分子量 スルホン化前のポリマーの重量平均分子量は、溶媒にテ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用い、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、ポリスチ
レン換算の分子量を求めた。
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用い、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、ポリスチ
レン換算の分子量を求めた。
【００５７】スルホン化率 スルホン化後のポリマーの所定量を、テトラヒドロフラ
ン／水の混合溶剤に溶解し、フェノールフタレインを指
示薬として、ＮａＯＨの標準液を用いて滴定し、中和点
からスルホン化率を求めた。
ン／水の混合溶剤に溶解し、フェノールフタレインを指
示薬として、ＮａＯＨの標準液を用いて滴定し、中和点
からスルホン化率を求めた。
【００５８】溶液粘度 ポリアリーレンのスルホン化物を溶媒に溶解し、本発明
のポリアリーレン組成物としたのち、Ｂ型回転粘度計を
用いて、溶液粘度を求めた。
のポリアリーレン組成物としたのち、Ｂ型回転粘度計を
用いて、溶液粘度を求めた。
【００５９】平滑性 本発明のポリアリーレン組成物をキャスティング法によ
りフィルム状に成形し、得られたフィルム（プロトン伝
導膜）表面を目視により、その平滑性を観察した。ピンホール 本発明のポリアリーレン組成物をキャスティング法によ
りフィルム状に成形し、得られたフィルム（プロトン伝
導膜）表面を顕微鏡観察により、ピンホール数を求め
た。
りフィルム状に成形し、得られたフィルム（プロトン伝
導膜）表面を目視により、その平滑性を観察した。ピンホール 本発明のポリアリーレン組成物をキャスティング法によ
りフィルム状に成形し、得られたフィルム（プロトン伝
導膜）表面を顕微鏡観察により、ピンホール数を求め
た。
【００６０】プロトン伝導度の測定 １００％相対湿度下に置かれた直径１３ｍｍのフィルム
状試料を、白金電極に挟み、密閉セルに封入し、インピ
ーダンスアナライザー（ＨＹＰ４１９２Ａ）を用いて、
周波数５〜１３ＭＨｚ、印加電圧１２ｍＶ、温度２０
℃、５０℃、１００℃にてセルのインピーダンスの絶対
値と位相角を測定した。得られたデータは、コンピュー
タを用いて発振レベル１２ｍＶにて複素インピーダンス
測定を行い、プロトン伝導率を算出した。
状試料を、白金電極に挟み、密閉セルに封入し、インピ
ーダンスアナライザー（ＨＹＰ４１９２Ａ）を用いて、
周波数５〜１３ＭＨｚ、印加電圧１２ｍＶ、温度２０
℃、５０℃、１００℃にてセルのインピーダンスの絶対
値と位相角を測定した。得られたデータは、コンピュー
タを用いて発振レベル１２ｍＶにて複素インピーダンス
測定を行い、プロトン伝導率を算出した。
【００６１】実施例１ 重量平均分子量１４．５万のポリ（４−フェノキシベン
ゾイル−１，４−フェニレン）を濃硫酸でスルホン化し
たスルホン化物（繰り返し単位に対し、８５モル％をス
ルホン化）２００ｇを、メタノール２００ｇおよびＮＭ
Ｐ６００ｇの混合溶媒に溶解させ、濃度２０重量％の溶
液を調製した。溶液粘度は、１６，０００ｍＰａ・ｓで
あった。得られたポリマー溶液を、ＰＥＴフィルム上に
流延し、１００℃で１時間、さらに真空乾燥機で１００
℃で１昼夜乾燥し、乾燥膜厚５０μｍのフィルムを調製
した。得られたフィルムの表面は、非常に平滑であっ
た。また、表面を顕微鏡観察すると、ピンホールなどの
欠陥も見られなかった。また、このフィルムのプロトン
伝導度は、０．００２Ｓ／ｃｍであった。
ゾイル−１，４−フェニレン）を濃硫酸でスルホン化し
たスルホン化物（繰り返し単位に対し、８５モル％をス
ルホン化）２００ｇを、メタノール２００ｇおよびＮＭ
Ｐ６００ｇの混合溶媒に溶解させ、濃度２０重量％の溶
液を調製した。溶液粘度は、１６，０００ｍＰａ・ｓで
あった。得られたポリマー溶液を、ＰＥＴフィルム上に
流延し、１００℃で１時間、さらに真空乾燥機で１００
℃で１昼夜乾燥し、乾燥膜厚５０μｍのフィルムを調製
した。得られたフィルムの表面は、非常に平滑であっ
た。また、表面を顕微鏡観察すると、ピンホールなどの
欠陥も見られなかった。また、このフィルムのプロトン
伝導度は、０．００２Ｓ／ｃｍであった。
【００６２】比較例１ 実施例１で用いたメタノールとＮＭＰの混合溶媒の代わ
りに、ＮＭＰ８００ｇを用い、濃度２０重量％の溶液を
調製した。この溶液粘度は、２５，０００ｍＰａ・ｓで
あった。得られたポリマー溶液を用い、実施例１と同様
にしてフィルムを調製したが、フィルム表面にはダイラ
インが生じており、平滑な表面が得られなかった。ま
た、表面を顕微鏡観察すると、ピンホールが幾つか観察
された。なお、このフィルムのプロトン伝導度は、０．
００２Ｓ／ｃｍと、実施例１と同様のプロトン伝導性を
示していた。
りに、ＮＭＰ８００ｇを用い、濃度２０重量％の溶液を
調製した。この溶液粘度は、２５，０００ｍＰａ・ｓで
あった。得られたポリマー溶液を用い、実施例１と同様
にしてフィルムを調製したが、フィルム表面にはダイラ
インが生じており、平滑な表面が得られなかった。ま
た、表面を顕微鏡観察すると、ピンホールが幾つか観察
された。なお、このフィルムのプロトン伝導度は、０．
００２Ｓ／ｃｍと、実施例１と同様のプロトン伝導性を
示していた。
【００６３】比較例２ 実施例１で用いたメタノールとＮＭＰの混合溶媒の代わ
りに、メタノール８００ｇを用い、濃度１５重量％の溶
液を調製した。この溶液粘度は、５０，０００ｍＰａ・
ｓであった。このポリマー溶液では、粘度が高すぎて、
流延法によるフィルム化は困難であった。
りに、メタノール８００ｇを用い、濃度１５重量％の溶
液を調製した。この溶液粘度は、５０，０００ｍＰａ・
ｓであった。このポリマー溶液では、粘度が高すぎて、
流延法によるフィルム化は困難であった。
【００６４】実施例２ 実施例１で用いたポリ（４−フェノキシベンゾイル−
１，４−フェニレン）の単独重合体のスルホン化物の代
わりに、重量平均分子量１５万の、（４−フェノキシベ
ンゾイル−１，４−フェニレン）の繰り返し単位（Ａ）
と（ジフェニルメタノン−４，４′−ジイル）の繰り返
し単位（Ｂ）からなる共重合体〔共重合体組成；（Ａ）
／（Ｂ）＝９０／１０重量％〕を濃硫酸でスルホン化し
たスルホン化物〔繰り返し単位に対し、（Ａ）ユニット
の９０モル％がスルホン化されており、（Ｂ）ユニット
はスルホン化されていなかった〕を用いた。このポリア
リーレンのスルホン化物１５０ｇを、メタノール２１２
ｇおよびＮＭＰ６３８ｇの混合溶媒に溶解させ、濃度１
５重量％の溶液を調製した。溶液粘度は、１０，１００
ｍＰａ・ｓであった。これ以外は、実施例１と同様にし
て、５０μｍのフィルムを調製した。得られたフィルム
の表面は、非常に平滑であった。また、表面を顕微鏡観
察すると、ピンホールなどの欠陥も見られなかった。ま
た、このフィルムのプロトン伝導度は、０．００２Ｓ／
ｃｍであった。
１，４−フェニレン）の単独重合体のスルホン化物の代
わりに、重量平均分子量１５万の、（４−フェノキシベ
ンゾイル−１，４−フェニレン）の繰り返し単位（Ａ）
と（ジフェニルメタノン−４，４′−ジイル）の繰り返
し単位（Ｂ）からなる共重合体〔共重合体組成；（Ａ）
／（Ｂ）＝９０／１０重量％〕を濃硫酸でスルホン化し
たスルホン化物〔繰り返し単位に対し、（Ａ）ユニット
の９０モル％がスルホン化されており、（Ｂ）ユニット
はスルホン化されていなかった〕を用いた。このポリア
リーレンのスルホン化物１５０ｇを、メタノール２１２
ｇおよびＮＭＰ６３８ｇの混合溶媒に溶解させ、濃度１
５重量％の溶液を調製した。溶液粘度は、１０，１００
ｍＰａ・ｓであった。これ以外は、実施例１と同様にし
て、５０μｍのフィルムを調製した。得られたフィルム
の表面は、非常に平滑であった。また、表面を顕微鏡観
察すると、ピンホールなどの欠陥も見られなかった。ま
た、このフィルムのプロトン伝導度は、０．００２Ｓ／
ｃｍであった。
【００６５】比較例３ 実施例１で用いたメタノールとＮＭＰの混合溶媒の代わ
りに、ＮＭＰ８５０ｇを用いて濃度１５重量％の溶液を
調製した。この溶液粘度は、１８，３００ｍＰａ・ｓで
あった。得られたポリマー溶液を用い、実施例１と同様
にしてフィルムを調製したが、フィルム表面にはダイラ
インが生じており、平滑な表面が得られなかった。ま
た、表面を顕微鏡観察すると、ピンホールが幾つか観察
された。なお、このフィルムのプロトン伝導度は、０．
００２Ｓ／ｃｍと、実施例１と同様のプロトン伝導性を
示していた。
りに、ＮＭＰ８５０ｇを用いて濃度１５重量％の溶液を
調製した。この溶液粘度は、１８，３００ｍＰａ・ｓで
あった。得られたポリマー溶液を用い、実施例１と同様
にしてフィルムを調製したが、フィルム表面にはダイラ
インが生じており、平滑な表面が得られなかった。ま
た、表面を顕微鏡観察すると、ピンホールが幾つか観察
された。なお、このフィルムのプロトン伝導度は、０．
００２Ｓ／ｃｍと、実施例１と同様のプロトン伝導性を
示していた。
【００６６】比較例４ 実施例１で用いたメタノールとＮＭＰの混合溶媒の代わ
りに、メタノール８５０ｇを用いて濃度１５重量％の溶
液を調製した。この溶液粘度は、１００，０００ｍＰａ
・ｓであった。このポリマー溶液では、粘度が高すぎ
て、流延法によるフィルム化は困難であった。
りに、メタノール８５０ｇを用いて濃度１５重量％の溶
液を調製した。この溶液粘度は、１００，０００ｍＰａ
・ｓであった。このポリマー溶液では、粘度が高すぎ
て、流延法によるフィルム化は困難であった。
【００６７】
【発明の効果】本発明のポリアリーレン組成物は、ポリ
アリーレンのスルホン化物と特定の混合溶媒を主成分と
し、これにより、組成物の溶液粘度を下げることがで
き、フィルム成形性に優れ、その結果、厚膜化が可能
で、表面平滑性に優れ、ピンホールなどの欠陥のない優
れた物性を有するフィルム（プロトン伝導膜）が得られ
る。したがって、本発明の組成物から得られるフィルム
（プロトン伝導膜）は、伝導膜として、広い温度範囲に
わたって高いプロントン伝導性を有し、一次電池用電解
質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、
表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデン
サー、イオン交換膜などの伝導膜として利用可能であ
り、この工業的意義は極めて大である。
アリーレンのスルホン化物と特定の混合溶媒を主成分と
し、これにより、組成物の溶液粘度を下げることがで
き、フィルム成形性に優れ、その結果、厚膜化が可能
で、表面平滑性に優れ、ピンホールなどの欠陥のない優
れた物性を有するフィルム（プロトン伝導膜）が得られ
る。したがって、本発明の組成物から得られるフィルム
（プロトン伝導膜）は、伝導膜として、広い温度範囲に
わたって高いプロントン伝導性を有し、一次電池用電解
質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、
表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデン
サー、イオン交換膜などの伝導膜として利用可能であ
り、この工業的意義は極めて大である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｍ 6/18 Ｈ０１Ｍ 6/18 Ｅ 8/02 8/02 Ｐ 10/40 10/40 Ｂ Ｆターム(参考） 4J002 CE001 EC036 EL067 EP017 ET017 EU027 EV207 GQ02 4J032 CA04 CA14 CB05 CG01 5H024 FF14 FF21 HH01 HH11 5H026 AA06 CX05 EE18 HH05 HH08 5H029 AM16 DJ09 HJ01 HJ02 HJ14
Claims (4)
- 【請求項１】 （Ａ）ポリアリーレンのスルホン化物、
ならびに（Ｂ）（ｂ１）沸点が１００℃以下のアルコー
ル５〜７５重量％および（ｂ２）沸点が１００℃を超え
る有機溶媒９５〜２５重量％〔ただし、（ｂ１）＋（ｂ
２）＝１００重量％〕からなる溶媒を含有することを特
徴とするポリアリーレン組成物。 - 【請求項２】 （Ａ）成分を構成するポリアリーレンが
下記一般式（１）で表される構造単位からなる請求項１
記載のポリアリーレン組成物。 【化１】 〔一般式（１）中、Ｘは−ＣＱＱ′−（ここで、Ｑ，
Ｑ′は同一または異なり、ハロゲン化アルキル基、アル
キル基、水素原子、ハロゲン原子またはアリール基を示
す）で表される基およびフルオレニレン基の群から選ば
れる基であり、Ｒ1〜Ｒ36は同一または異なり、水素原
子、ハロゲン原子または１価の有機基を示し、Ｙは−Ｏ
−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＣＯＮＨ−および−ＳＯ
2 −基の群から選ばれる基であり、ｐは０〜１００モル
％、ｑは０〜１００モル％、ｒは０〜１００モル％、ｓ
は０〜１００モル％（ただし、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＝１００
モル％）、ｔは０か１である。〕 - 【請求項３】 （ｂ１）沸点が１００℃以下のアルコー
ルがメタノールである請求項１記載のポリアリーレン組
成物。 - 【請求項４】 （ｂ２）沸点が１００℃を超える有機溶
媒がＮ−メチル−２−ピロリドンである請求項１記載の
ポリアリーレン組成物。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1321996A1 (en) * | 2001-12-20 | 2003-06-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process of producing a polymer electrolyte membrane |
| JP2004025672A (ja) * | 2002-06-26 | 2004-01-29 | Jsr Corp | プロトン伝導性フィルムの製造法およびプロトン伝導性フィルム |
| JP2004342610A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-12-02 | Toray Ind Inc | 高分子電解質材、高分子電解質膜、膜電極複合体およびそれを用いた燃料電池 |
| DE10318398B4 (de) * | 2002-04-24 | 2008-05-21 | Honda Giken Kogyo K.K. | Verfahren zum Herstellen einer Elektrolytmembran-Verbundelektrode und eine Lackzusammensetzung, die darin verwendet wird |
| JP2008184608A (ja) * | 2007-01-30 | 2008-08-14 | Cheil Industries Inc | 陽イオン伝導性高分子複合膜製造用のコーティング液及びこれを用いる陽イオン伝導性高分子複合膜の製造方法、膜−電極接合体並びに燃料電池 |
-
2000
- 2000-06-30 JP JP2000197461A patent/JP4424456B2/ja not_active Expired - Fee Related
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