JP2001524386A - 蒸気コーティング装置および方法 - Google Patents

蒸気コーティング装置および方法

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Abstract

(57)【要約】 あらゆる溶剤をまったく含まないか、あるいは組成物の1種類以上の成分の溶解を促進するより少ない量で効果のある比較的少量の溶剤を含む多種多様のコーティング可能な組成物からコーティング層を形成することができるコーティングシステムおよび方法。流体組成物を霧化して、キャリアーガスと接触させる。この接触は、霧化した流体組成物の実質的に全部が霧化して凝縮温度を有する蒸気を生成するような条件で行われる。蒸気を基材の表面まで流動させる。表面の温度は蒸気の凝縮温度より低い。その結果、蒸気が表面に凝縮してコーティング層が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 発明の技術分野 本発明は、蒸気を発生させ基材上に凝縮させてコーティング層を形成するため
の装置および方法に関する。より具体的に言えば、本発明は、コーティングする
材料を含む霧状にしたミストから蒸気を発生させるような装置および方法に関す
る。
【0002】 発明の背景 コーティング層は、様々な目的のため多種多様な基材に適用される。多くの異
なる種類のコーティング層のいくつかの例としては、接着剤コーティング層、プ
ライマーコーティング層、装飾コーティング層、保護硬質コーティング層、ワニ
スコーティング層、反射防止コーティング層、反射コーティング層、干渉コーテ
ィング層、剥離コーティング層、誘電性コーティング層、フォトレジストコーテ
ィング層、導電性コーティング層、非線形光学コーティング層、エレクトロクロ
ミック/エレクトロルミネセントコーティング層、バリアーコーティング層、生
物学的活性コーティング層、生物学的不活性コーティング層、などが挙げられる
。このようなコーティング層は、多くの異なる種類の材料から作られ多種多様な
形状の基材に適用することができる。例えば、材料に関しては、基材は、金属、
木材、布、ポリマー、セラミック、紙、鉱物、ガラス、複合材料などであっても
よい。形状に関しては、基材は、平坦、湾曲、波形、ねじれ、微細構造、平滑、
粗面、多孔質、粒子状、繊維状、中空形状、三次元、規則的または不規則的表面
などであってもよい。
【0003】 従来の工業的コーティング工程では、コーティング成分と適切な溶剤とを含む
混合物(エマルション、溶液、スラリー、2相流体混合物などであってもよい)
を、吹き付け、ロールコーティング、はけ塗り、スピンコーティングなどの適し
たコーティング方法を用いて基材に適用する。次に、通常はコーティング層を固
化させるために、コーティングされた組成物を乾燥および硬化させる。乾燥中に
、溶剤がコーティング層から除去され環境中に廃棄されるあるいは回収される。
【0004】 一般に溶剤は、種々の理由からコーティング組成物の重要成分である。第1に
、溶剤は、コーティング組成物が適切なコーティング剤粘度を得るために役立っ
ている。また溶剤は、コーティング組成物が基材に均一に適用され均一なコーテ
ィング層を形成できるようにするためにも役立つ。また溶剤によって、組成物が
許容できる貯蔵寿命をもつようにすることもできる。
【0005】 しかし、溶剤の存在には欠点がある。使用後に溶剤を廃棄する場合、溶剤は環
境中の廃棄物となる。溶剤が有害である場合には、このことは特に問題となる。
実際、有害な溶剤の廃棄には、廃棄による環境の被害を最小限にするための政府
の専門家による高価で念入りな廃棄計画の規制が関与する傾向がある。従って、
溶剤の回収が溶剤の廃棄よりも好ましいことも多い。しかし、溶剤の回収も、溶
剤の廃棄と同様にいくつかの欠点に悩まされる。溶剤の回収には、高価な手順お
よび装置が必要となりがちである。
【0006】 コーティング作業における溶剤への対処の必要は、工業的に負担となっている
。従って、溶剤の廃棄または回収が必要という負担を避けるために、溶剤の使用
を最小限にする、より好ましくは無溶剤の方法でコーティング作業を行う方法を
検討することが望ましい。
【0007】 発明の要約 本発明者らは、あらゆる溶剤をまったく含まないか、あるいは組成物の1種類
以上の成分の溶解を助けるために効果的である比較的少量の溶剤を含む多種多様
のコーティング可能な組成物からコーティング層を形成することができる非常に
汎用性のあるコーティングシステムおよび方法を発見した。これによって、従来
のコーティング方法で使用される溶剤に関するすべての環境的欠点や問題が解消
される。
【0008】 本発明は、無溶剤であることが好ましい流体コーティング組成物を霧状にして
複数の微細な液滴を形成するという概念に基づいている。液滴をキャリアーガス
と接触させることによって、液滴の沸点よりも十分に低い温度でさえも液滴が気
化する。キャリアーガスと混合した蒸気の分圧は蒸気の飽和圧よりも十分低いの
で、気化は急速かつ完全に進行する。ガスを加熱する場合は、ガスによって気化
の熱的/力学的エネルギーが得られる。
【0009】 気化の後、蒸気はコーティングを行う基材に向かって流れる。基材は、蒸気の
凝縮点よりも十分に低い温度に維持する。これによって蒸気は、種々の硬化機構
によって後に硬化させることが希望するなら可能である薄く、均一で、実質的に
欠陥のないコーティング層として凝縮する。このコーティング層は連続的でも不
連続的でもよい。本発明は、約0.001μm〜約5μmの範囲内の厚さを有す
る薄膜を形成するために特に有用である。より厚いコーティング層は、基材の蒸
気への露出時間を延長する、流体組成物の流速を増加させる、キャリアーガス温
度を上昇させる、および/またはキャリアーガスの圧力を増加させることによっ
て形成することができる。可撓性ウェブ基材の場合、基材を蒸気にさらす時間を
延長することは、システムに多数の蒸気源を取り付けるか、またはシステムに通
すウェブの速度を低下させることによって行うことができる。異なる材料の層状
コーティング層は、各付着において異なるコーティング材料を使用してコーティ
ング層を連続的に付着させることによって形成することができる。
【0010】 本発明の原理は減圧下で実施することができる。しかし、好都合には、霧化、
気化、およびコーティングは、雰囲気圧を含む任意の希望する圧力で行うことが
できる。このため、従来公知であった蒸気コーティング方法で一般に使用される
高価な減圧室に頼る必要がなくなる。別の利点としては、霧化、気化、およびコ
ーティングを比較的低温で行うことができるので、より高温における別の方法で
可能性のある分解を起こさずに温度感受性材料をコーティングすることができる
。また本発明は非常に汎用性が高い。ある程度の蒸気圧を有するほとんどすべて
の液体材料、または液体材料の組み合わせをコーティング層の形成に使用するこ
とができる。
【0011】 一般に、流体コーティング組成物の霧化は、超音波霧化、スピニングディスク
霧化などの当技術分野において公知である任意の霧化技術を使用して行うことが
できる。特に好ましい実施態様では、キャリアーガス流を流体組成物流とを強く
衝突させることで霧化を行う。好ましくは、キャリアーガスを加熱し、流体流は
衝突時に層流となる。衝突のエネルギーによって層流の流体コーティング組成物
が非常に微細な液滴に分断されることが好ましい。一部の他の霧化技術で実現可
能なものと比較して、サイズ分布がより狭く、単位体積当りの液滴数密度がより
均一となるより小さい霧化液滴が形成されるので、霧化を実現するこの種類の衝
突の利用は特に好都合である。さらに、得られる液滴はほとんどすぐにキャリア
ーガスと均一に接触するため、急速かつ効率的に気化が起こる。本発明は減圧下
のコーティング作業のために使用することができるが、キャリアーガスは室内の
圧力を増加させる傾向にあるので霧化のためのガス衝突の利用は減圧室での使用
には適していない。
【0012】 態様の1つでは、本発明は、基材表面の少なくとも一部にコーティング層を形
成する方法に関する。キャリアーガス流を流体組成物流と衝突される。衝突は、
流体組成物の実質的に全部が気化して凝縮温度を有する蒸気を形成するような条
件下で行われる。キャリアーガスの速度および運動量のために、蒸気は基材表面
に向かって流動する。この表面は、蒸気の凝縮温度よりも低温である。その結果
、蒸気が表面で凝縮して液体となりコーティング層が形成される。好都合には、
キャリアーガスの速度および運動量が蒸気に与えられ、この結果、凝縮したコー
ティング層の基材への付着を促進するために十分な力で強制的に基材に送られる
【0013】 基材上にコーティング層を形成するための本発明の別の態様では、流体組成物
を霧状にして、キャリアーガスと接触させる。霧化した流体組成物の実質的にす
べてが気化して、凝縮温度を有する蒸気を形成するような条件で接触が行われる
。蒸気を基材表面に向けて流動させる。この表面は、蒸気の凝縮温度よりも低温
である。そのため、蒸気は表面上で凝縮してコーティング層を形成する。本発明
のこの態様では、流体流およびガス流をまず互いに混合して、次に従来の霧化手
段を使用して霧状にする。この方法では、得られる霧化した流体の液滴はすぐに
ガスと混合される。あるいは、従来の霧化手段を使用して流体を霧化し、キャリ
アーガス中に霧化した液滴を噴出するかあるいは別の方法で噴霧する。さらに別
の方法では、霧化した流体液滴をキャリアーガスと接触させることができるよう
な方法で、2つ以上の流体流を衝突させることで霧化を行うことができる。さら
に別の方法では、実際的な方法として、1段階で霧化と接触を行うために、少な
くとも1つの流体流を少なくとも1つのキャリアーガス流と接触させることがで
きる。
【0014】 さらに別の態様では、本発明は、基材上にポリマーコーティング層を形成する
方法に関する。前の段落の方法を、1種類以上のポリマー前躯物質成分を含む流
体組成物を使用して行う。
【0015】 さらに別の態様では、本発明は、前述のように流体組成物流をキャリアーガス
流と接触させる工程を含む蒸気発生方法に関する。
【0016】 また本発明は、実質的に全部の流体組成物の気化が起こって凝縮温度を有する
蒸気を生成するような条件下でキャリアーガスを流体組成物の霧化した多数の液
滴と接触させる入口領域を有するチャンバーを含むコーティング装置にも関する
。この装置は、流体組成物およびキャリアーガスをチャンバーに送り込むための
入口端を含む。霧化手段は、チャンバー内で流体組成物のミストを発生させるた
めの入口端と隣接する位置にある。コーティングされる基材を支持し冷却面を有
する基材支持体が設けられている。冷却面は、蒸気の凝縮温度よりも低温に到達
させることができる。冷却面は、蒸気が冷却面に向かって流動できるように配置
している。
【0017】 本発明の好ましい実施態様の詳細な説明 以下に説明する本発明の実施態様は、網羅的なものを意図したものではないし
、また以下の詳細な説明において開示される形態のみに本発明が限定されること
を意図するものでもない。むしろこれらの実施態様は、当業者であれば本発明の
原理と実施を評価かつ理解できるように選択し説明している。
【0018】 図1aは、基材16の表面14上へのコーティング層12の形成に適した本発
明のシステム10の一実施態様の略図であり、ここでコーティング層12は流体
組成物18の供給によって形成される。一般に、流体組成物18の流れ20は、
チャンバー17内の衝突点26でキャリアーガス24の流れ22と衝突する。衝
突のエネルギーによって流体流20が霧化し、その結果液滴28のミストが形成
される。理解しやすいようにするため、1つの流体流20と1つのキャリアーガ
ス流22のみを示している。別の方法では、複数の流体流および/またはキャリ
アーガス流を使用して、1つ以上の衝突点において連続的あるいは希望するなら
一度に衝突させることができる。また、コーティング作業中に基材16がチャン
バー17内部ににあるように示しているが、ある実施態様では基材16をチャン
バー17の外側に置くことができる。しかし、このような実施態様では、チャン
バー17には、気化した流体組成物18が通過して基材表面14に向かわせるこ
とができる適当なオリフィス(図示していない)が備えられる。
【0019】 好都合なことには、キャリアーガス流22を層流状液流20と衝突させること
による層流条件下の流体流20の霧化によって、超音波霧化装置やスピニングデ
ィスク霧化装置などに依存したより従来の霧化技術で達成可能なもの、あるいは
液滴系に体積変化が起こりやすい乱流の液流条件に依存したものよりも、より狭
い粒径分布でより均一な数密度を有するより平均粒径の小さい液的28を得るこ
とができる。この性能は、薄く、実質的に欠陥のないコーティング層を均一な厚
さで形成するために特に有益である。
【0020】 流れ22および20の間の衝突は、実質的に一部、好ましくは実質的にすべて
、より好ましくはすべての流体流20が衝突によって霧化するような広範囲の条
件下で発生させることができる。流れ22および20の衝突は、平均液滴サイズ
が200μm未満、好ましくは100μm未満、より好ましくは30μm未満の
液滴28が衝突によって得られるように行われることが好ましい。液滴サイズに
影響する傾向があると思われる要因としては、流れ22および20の形状、衝突
時の流れ22および20の速度、流体組成物18の性質などが挙げられる。
【0021】 例えば、流れ22および20は、有益な結果が得られる様々な形状で発生させ
ることができる。図1aに概略的に示される代表的なアプローチによると、流れ
22および20は、2つの流れの間の角度が約10°〜約180°、好ましくは
15°〜135°、より好ましくは約30°〜60°、最も好ましくは43°〜
47°の範囲で互いの流れが近づきあうように噴出させて発生させることができ
る。特に、15°〜135°の好ましい範囲内の角度で衝突させた流れ22およ
び20は、衝突後に液滴28およびキャリアーガス24が基材16に向かって移
動するのを助けるような矢印VLで示される速度の側面成分を有する。図1aに 示される実施態様では、流体流20およびキャリアーガス流22は、ノズル23
のノズルオリフィス25aおよび25bから噴出させることで発生させる。ノズ
ルオリフィス25aおよび25bは任意の希望の形状であってよい。例えば、流
れ22および20は、環状形ノズルオリフィス、楕円形オリフィス、正方形オリ
フィス、平面の流れを放出するように適合させた長方形オリフィス、中空の流れ
を放出するように適合させたオリフィス、およびこれらの組み合わせなどから放
出させることができる。
【0022】 他の用途のため流れを衝突させるために使用する従来公知である種々のノズル
構造を、流れ22および20を発生させるために本発明で使用することができる
。このようなノズル構造は、例えば、Lefebvre,A.H.によるAto
mization and Sprays,Hemisphere Publi
shing Corp.,U.S.A.(1989);Harariらによる、
Atomization and Sprays,vol.7,pp.97−1
13(1997)に記載されている。流れの衝突を発生させるために特に好まし
い本発明のノズル構造は、図5a、5b、および5cに示され、これについては
後述する。別の特に好ましい本発明のノズル構造は図7に示され、これについて
は後述する。
【0023】 流れ22および20のそれぞれの適切な速度の選択には、競合関係のバランス
が要求される。例えば、衝突時の流体流20の速度が遅すぎると、流れ20は衝
突点26に到達するために十分な運動量をもつことができない。逆に、速度が速
すぎると、層流条件下で流体流20をノズルから放出することが困難となりうる
。キャリアーガス流22の速度が遅すぎると、液滴28の平均サイズが大きくな
りすぎて、効率的に気化できなかったり、希望する均一性のコーティング層12
が形成されなかったりすることがある。一方、キャリアーガス流22の速度は希
望するだけ速くすることができる。実際、ガスの速度が速いほど、粘稠/連続性
のより高い液体組成物をうまく霧化させ気化させることができる。しかし、ガス
速度がある範囲を超えると、基材の振動および非効率的な凝縮のためコーティン
グ層に悪影響が現われることがある。これらの関係のバランスをとるため、流れ
20は0.1メートル毎秒(m/s)〜30m/s、より好ましくは1m/s〜
20m/s、最も好ましくは約10m/sの速度であることが好ましく、キャリ
アーガス流22は40〜350m/s、より好ましくは約60〜300m/s、
最も好ましくは約180〜200m/sの速度であることが好ましい。
【0024】 再び図1aを参照すると、システム10は非常に汎用性があり、非常に多くの
種類の流体組成物18からコーティング層を形成するために使用することができ
る。流体組成物には、接着剤コーティング層、プライマーコーティング層、装飾
コーティング層、保護硬質コーティング層、ワニスコーティング層、反射防止コ
ーティング層、反射コーティング層、干渉コーティング層、剥離コーティング層
、誘電性コーティング層、フォトレジストコーティング層、導電性コーティング
層、非線形光学コーティング層、エレクトロクロミック/エレクトロルミネセン
トコーティング層、バリアーコーティング層、生物学的活性コーティング層、生
物学的不活性コーティング層などの形成に効果的であるものを使用することがで
きる。
【0025】 好ましくは、流体組成物18は、成分の沸点より低温でのキャリアーガス24
との接触によって気化が起こる程度に高い蒸気を有する少なくとも1種類の流体
成分を含む。より好ましくは、流体組成物18のすべての流体成分がこのような
蒸気圧を有する。一般に、実質的にすべての流体成分が気化してキャリアーガス
24と混合物を形成し、なお得られる気体混合物の分圧がその成分の飽和蒸気圧
より低くなる場合に、流体成分はこの目的のための十分に高い蒸気圧を有する。
代表的なコーティング作業では、好ましい流体成分は、標準温度および標準圧力
における蒸気圧が0.13mPa〜13kPa(1×10-6Torr〜100T
orr)の範囲内である。
【0026】 流体成分が必要な蒸気圧を有する限り、このような成分は有機、無機、水性、
非水性などであってよい。相の特性に関しては、流体組成物18は均一でも複数
の成分の多相混合物でもよいし、溶液、スラリー、多相流体組成物などの形態で
あってもよい。ポリマーコーティング層を形成するために、流体組成物18はモ
ノマー、オリゴマー、またはポリマーである1種類以上の成分を含むことができ
るが、通常比較的定分子量のポリマー、例えば、10,000未満、好ましくは
約7500未満、より好ましくは約4500未満の数平均分子量を有するポリマ
ーのみが、本発明の実施において気化させるための十分な蒸気圧を有するであろ
う。ここで使用する用語「モノマー」は、それ自身あるいは他のモノマーとの結
合によってオリゴマーまたはポリマーを生成することができる単独の1単位の分
子を意味する。用語「オリゴマー」は、2〜10個のモノマーが結合した化合物
を意味する。用語「ポリマー」は、11個以上のモノマーが結合した化合物を意
味する。
【0027】 少なくとも1つの流体成分の代表例としては、水;有機溶剤、無機液体、炭素
−炭素二重結合官能基を有する放射線硬化性モノマーおよびオリゴマー(この中
で、アルケン、(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド類、スチレン
類、およびアリルエーテル材料が代表的である)、フルオロポリエーテルモノマ
ー、オリゴマー、およびポリマー、フッ素化(メタ)アクリレート類、蝋、シリ
コーン類、シランカップリング剤、ジシラザン類、アルコール類、エポキシ類、
イソシアネート類、カルボン酸類、カルボン酸誘導体、カルボン酸とアルコール
とのエステル、カルボン酸無水物、芳香族化合物、芳香族ハロゲン化物、フェノ
ール類、フェニルエーテル類、キノン類、多環式芳香族化合物、非芳香族複素環
、アズラクトン類、フラン、ピロール、チオフェン、アゾール類、ピリジン、ア
ニリン、キノリン、イソキノリン、ジアジン類、ピロン類、ピリリウム塩類、テ
ルペン類、ステロイド類、アルカロイド類、アミン類、カルバメート類、尿素類
、アジド類、ジアゾ化合物、ジアゾニウム類、チオール類、スルフィド類、硫酸
エステル類、無水物、アルカン、ハロゲン化アルキル、エーテル類、アルケン、
アルキン、アルデヒド類、ケトン類、有機金属種、チタン酸塩、ジルコン酸塩、
アルミン酸塩、スルホン酸塩、ホスフィン類、ホスホニウム塩、ホスホン酸塩、
ホスホン酸エステル類、硫黄安定化カルボアニオン類、リン安定化カルボアニオ
ンル、炭水化物、アミノ酸類、ペプチド類、およびこれらの材料から誘導され必
要な蒸気圧を有する流体であるかまたは必要な蒸気圧を有する流体に転化するこ
とができる(例えば、溶融、溶解など)反応生成物、およびこれらの混合物など
の化学種が挙げられる。これらの材料の中で、パラフィン蝋などの周囲条件で固
体であるものは、本発明の原理を使用して処理するために、溶融させるか別の流
体成分に溶解することができる。
【0028】 本発明のある実施態様では、流体組成物18に含まれる流体成分は、このよう
な成分が冷却されることが実質的に部分的な理由で、基材16上に固体のコーテ
ィング層を形成することができる。例えば通常、蝋の蒸気は基材表面14上に液
体として凝縮するが、その後コーティング層の温度が蝋の融点よりも低温に冷却
されるために固化する。この相変化挙動を示す他の有用なコーティング材料の例
としては、ナフタレンやアントラセンなどの多環式芳香族化合物が挙げられる。
【0029】 本発明の別の実施態様では、流体組成物18は、1種類以上の異なる流体成分
であって、互いに反応してそれらの成分を含む反応物から誘導される反応生成物
のコーティング層が形成される流体成分を含むことができる。これらの成分はモ
ノマー、オリゴマー、および/または低分子量ポリマー(ここでは一括して「ポ
リマー前躯物質」と呼ぶ)であってもよく、これによって成分間の反応によりポ
リマーコーティング層を形成することができる。例えば、流体組成物18は、ジ
オールおよび/またはトリオールなどのポリオール成分、、ジイソシアネートお
よび/またはトリイソシアネートなどのポリイソシアネート、および任意に適当
な触媒を含むことができる(または、別の方法として、基材表面14を触媒で予
備処理して、基材表面14と接触するまでは反応成分が反応しないようにするこ
とができる)。コーティングが起こることで、次に成分が互いに反応してポリウ
レタンコーティング層を基材16上に形成することができる。
【0030】 ポリマー前駆物質を使用する方法の別の例では、流体組成物18は、2種類以
上の有機官能基を有するシランまたはチタン酸エステルモノマーを含むことがで
きる。このような有機官能基を有するシランまたはチタン酸エステルモノマーは
、一般に乾燥および加熱によって架橋させて、ポリマーシロキサン型またはチタ
ン酸エステル型マトリックスを形成することができる。多種多様な有機官能基含
有シランまたはチタン酸エステルモノマーを、本発明の実施に使用することがで
きる。代表例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン
、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、(メタ)アクリ
ロキシアルキルトリメトキシシラン、イソシアナトプロピルトリエトキシシラン
、メルカプトプロピルトリエトキシシラン、(メタ)アクリロキシトリクロロシ
ラン、フェニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、グリ
シドキシアルキルトリメトキシシラン、グリシドキシアルキルトリエトキシシラ
ン、グリシドキシアルキルトリクロロシラン、ペルフルオロアルキルトリアルコ
キシシラン、ペルフルオロメチルアルキルトリアルコキシシラン、ペルフルオロ
アルキルトリクロロシラン、ペルフロオロオクチルスルホンアミド−プロピルメ
トキシシラン、チタンイソプロポキシド、イソプロピルジメタクリル−イソステ
アロイルチタネート、トリ(N−エチレンジアミン)エチルチタン酸イソプロピ
ル、およびこれらの組み合わせなどが挙げられる。
【0031】 本発明のさらに別の実施態様では、流体組成物18は、基材16上に硬化性液
体コーティング層を形成することができる少なくとも1つのポリマー前駆物質成
分を含むことができ、ここでこの成分はコーティング層を硬化および固化(すな
わち重合および/または架橋)させるための放射硬化エネルギーにさらすことで
液体コーティング層が硬化可能となるような放射線架橋性官能基を含む。放射硬
化エネルギーの代表例としては、電磁エネルギー(例えば、赤外エネルギー、マ
イクロ波エネルギー、可視光、紫外光など)、加速粒子(例えば、電子線エネル
ギー)、および/または放電によるエネルギー(例えば、コロナ、プラズマ、グ
ロー放電、または無声放電)が挙げられる。
【0032】 本発明の実施において、放射線架橋性官能基は、放射硬化エネルギーの適当な
供給源にさらすことによる架橋および/または重合反応に関係するモノマー、オ
リゴマーまたはポリマー主鎖(場合に応じて)に直接または間接的に結合する官
能基を意味する。一般にこのような官能基は、放射線に曝露することでカチオン
機構によって架橋する基だけではなく、フリーラジカル機構によって架橋する基
も含まれる。本発明の実施に適した放射線架橋性基の代表例としては、エポキシ
基、(メタ)アクリレート基、オレフィン系炭素−炭素二重結合、アリルエーテ
ル基、スチレン基、(メタ)アクリルアミド基、およびこれらの組み合わせなど
が挙げられる。
【0033】 好ましいフリーラジカル硬化性モノマー、オリゴマー、および/またはポリマ
ーのそれぞれは、1つ以上のフリーラジカル重合性炭素−炭素二重結合を含むた
め、このような材料の平均官能基数が1分子当り少なくとも1つのフリーラジカ
ル性炭素−炭素二重結合である。このような部分を有する材料は、これらの炭素
−炭素二重結合官能基を介して互いに共重合および/または架橋することができ
る。本発明の実施に適したフリーラジカル硬化性モノマーは、1種類以上の1、
2、3および4官能性のフリーラジカル硬化性モノマーから選択されることが好
ましい。最終コーティング層に希望する性質に応じて、様々な量の1、2、3お
よび4官能性フリーラジカル硬化性モノマーを本発明に取り入れることができる
。例えば、耐摩耗性および耐衝撃性の高いコーティング層を得るためには、組成
物は、組成物に含まれるフリーラジカル硬化性モノマーの1分子当りの平均フリ
ーラジカル硬化性官能基数が1を超えるように、1種類以上の多官能性フリーラ
ジカル硬化性モノマー、好ましくは少なくとも2官能性と3官能性の両方のフリ
ーラジカル硬化性モノマーを含むことが望ましい。
【0034】 本発明の好ましい組成物は、フリーラジカル硬化性モノマーの平均官能基数が
1を超える、好ましくは1.1〜4、より好ましくは1.5〜3となる条件にお
いて、1〜100重量部の1官能性フリーラジカル硬化性モノマー、0〜75重
量部の2官能性フリーラジカル硬化性モノマー、0〜75重量部の3官能性フリ
ーラジカル硬化性モノマー、および0〜75重量部の4官能性フリーラジカル硬
化性モノマーを含むことができる。
【0035】 本発明の実施に適した1官能性フリーラジカル硬化性モノマーの代表的な種類
には、炭素−炭素二重結合が直接または間接的に芳香環と結合した化合物が含ま
れる。このような化合物の例としては、スチレン、アルキル化スチレン、アルコ
キシスチレン、ハロゲン化スチレン、フリーラジカル硬化性ナフタレン、ビニル
ナフタレン、アルキル化ビニルナフタレン、アルコキシビニルナフタレン、およ
びこれらの組み合わせなどが挙げられる。1官能性フリーラジカル硬化性モノマ
ーの他の代表的な種類としては、炭素−炭素二重結合が脂環式、複素環式、およ
び/または脂肪族部分に結合した化合物、例えば5−ビニル−2−ノルボルネン
、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、1−ビニル−2−ピロリジノン、
1−ビニルカプロラクタム、1−ビニルイミダゾール、N−ビニルホルムアミド
などが挙げられる。
【0036】 このような1官能性フリーラジカル硬化性モノマーの別の代表的な種類として
は、式:
【化1】 の部分を含む(メタ)アクリレート官能基を有するモノマーが挙げられ、式中R
は水素、ハロゲン、メチルなどの1価部分である。このような部分を含むモノマ
ーの代表例としては、(メタ)アクリルアミド類、クロロ(メタ)アクリルアミ
ド、1〜10個、好ましくは1〜8個の炭素原子を含む(メタ)アクリル酸の線
状、分岐、または脂環式エステル、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸エ
チル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシ
ル、およびアクリル酸イソオクチル;アルカン酸のアルキル部分が2〜10個、
好ましくは2〜4個の炭素原子を含み線状、分岐、環状のいずれでもよいアルカ
ン酸のビニルエーテル;(メタ)アクリル酸イソボルニル;酢酸ビニル;(メタ
)アクリル酸アリルなどが挙げられる。
【0037】 このような(メタ)アクリレート官能基を有するモノマーは、水酸官能基、ニ
トリル官能基、エポキシ官能基、カルボキシル官能基、チオール官能基、アミン
官能基、イソシアネート官能基、スルホニル官能基、ペルフルオロ官能基、スル
ホンアミド、フェニル官能基、およびこれらの組み合わせなどの他種官能基も含
むことができる。このようなフリーラジカル硬化性化合物の代表例としては、(
メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリロニトリル、β−シアノエチル−
(メタ)アクリレート、2−シアノエトキシエチル(メタ)アクリレート、p−
シアノスチレン、p−(シアノメチル)スチレン、α,β−不飽和カルボン酸と
ジオールとのエステル、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、ま
たは(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル;1,3−ジヒドロキシプロピ
ル−2−(メタ)アクリレート;2,3−ジヒドロキシプロピル−1−(メタ)
アクリレート;α,β−不飽和カルボン酸とカプロラクトンとの付加生成物;2
−ヒドロキシエチルビニルエーテルなどのアルカノールビニルエーテル;4−ビ
ニルベンジルアルコール;アリルアルコール;p−メチロールスチレン、N,N
−ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無
水マレイン酸、(メタ)アクリル酸トリフルオロエチル、(メタ)アクリル酸テ
トラフルオロプロピル、(メタ)アクリル酸ヘキサフルオロブチル、ブチルペル
フルオロオクチルスルホンアミドエチル(メタ)アクリレート、エチルペルフル
オロオクチルスルホンアミドエチル(メタ)アクリレート、およびそれらの混合
物などが挙げられる。
【0038】 本発明の実施に適した1官能性フリーラジカル硬化性モノマーの別の種類とし
ては、1種類以上のN,N−二置換(メタ)アクリルアミドが挙げられる。N,
N−二置換(メタ)アクリルアミドを使用すると、多くの利点が得られる。例え
ば、この種類のモノマーの使用によって、ポリカーボネート基材への接着力が向
上した帯電防止コーティング層が得られる。さらに、この種類のモノマーを使用
することで、耐候性および靭性の向上したコーティング層も得られる。好ましく
は、N,N−二置換(メタ)アクリルアミドは99〜約500、好ましくは約9
9〜約200の範囲内の分子量を有する。
【0039】 一般にN,N−二置換(メタ)アクリルアミドモノマーは式:
【化2】 を有し、式中R1およびR2はそれぞれ独立に、水素、水酸基、ハロゲン基、カル
ボニル基、およびアミド基を任意に有する(C1−C8)アルキル基(線状、分岐
、または環状)、カルボニル基およびアミド基を任意に有する(C1−C8)アル
キレン基、(C1−C4)アルコキシメチル基、(C4−C10)アリール基、(C1 −C3)アルク(C4−C10)アリール基、または(C4−C10)ヘテロアリール 基であり;ただしR1とR2のうち一方のみが水素であり;R3は水素、ハロゲン 、またはメチル基。好ましくは、R1が(C1−C4)アルキル基であり;R2が(
1−C4)アルキル基であり;R3が水素、またはメチル基である。R1とR2は 同種でも異種でもよい。より好ましくは、R1とR2がそれぞれCH3であり、R3 が水素である。
【0040】 このような好適な(メタ)アクリルアミド類の例としては、N−t−ブチルア
クリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルア
ミド、N−(5,5−ジメチルヘキシル)アクリルアミド、N−(1,1−ジメ
チル−3−オキソブチル)アクリルアミド、N−(ヒドロキシメチル)アクリル
アミド、N−(イソブトキシメチル)アクリルアミド、N−イソプロピルアクリ
ルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−メチル
−N−エチルアクリルアミド、およびN,N’−メチレン−ビスアクリルアミド
が挙げられる。特に好ましい(メタ)アクリルアミドはN,N−ジメチル(メタ
)アクリルアミドである。
【0041】 フリーラジカル硬化性モノマーの他の例としては、アリルオキシ部分を含む、
エテン、1−プロペン、1−ブテン、2−ブテン(シスまたはトランス)化合物
などのアルケンなどが挙げられる。
【0042】 1官能性フリーラジカル硬化性モノマーに加えて、あるいはその代替物として
、2、3、および/または4個のフリーラジカル硬化性官能基を有することが好
ましいあらゆる種類の多官能性フリーラジカル硬化性モノマーも本発明で使用す
ることができる。このような多官能性(メタ)アクリレート化合物は、多くの種
類の供給元より市販されている。あるいは、このような化合物は、種々の公知の
反応機構を用いて調製することができる。例えば、ある方法によると、(メタ)
アクリル酸またはハロゲン化アシルなどを少なくとも2個、好ましくは2〜4個
の水酸基を有するポリオールと反応させる。この方法は、以下の概略的反応図式
で表すことができ、説明の目的でアクリル酸とトリオールの間の反応で示してい
る:
【化3】 この反応図式で示されるように、3官能性アクリレートが得られる。2または4
官能性化合物を得るために、それぞれ対応するジオールおよびテトロールをトリ
オールの代わりに使用することができる。
【0043】 別の方法によると、水酸基またはアミン基を有する(メタ)アクリレート化合
物等を、2〜4個のNCO基またはこれに相当するものを有するポリイソシアネ
ートまたはイソシアヌレート等と反応させる。この方法は以下の概略的反応図式
によって表すことができ、説明のためアクリル酸ヒドロキシエチルとジイソシア
ネートの間の反応で示しており:
【化4】 式中それぞれのWは、
【化5】 である。この反応図式に示されるように2官能性(メタ)アクリレートが生成す
る。3または4官能性化合物を得るために、それぞれ対応する3または4官能性
イソシアネートをジイソシアネートの代わりに使用することができる。
【0044】 多官能性(メタ)アクリレート官能基を有する化合物の別の好ましい種類とし
ては、1種類以上の多官能性エチレン系不飽和の(メタ)アクリル酸エステルが
挙げられ、次式で表すことができ:
【化6】 式中R4は水素、ハロゲン、または(C1−C4)アルキル基であり;R5は原子価
mの多価有機基であり、炭素原子、水素原子、窒素原子、非ペルオキシ酸素原子
、硫黄原子、またはリン原子を有する、環式、分岐、または線状の、脂肪族、芳
香族または複素環であることができ;mはエステル中のアクリル基またはメタク
リル基の数を表す整数であり、2〜4の値である。好ましくは、R4は水素、メ チル、またはエチルであり、R5は約14〜100の分子量を有し、mは2〜4 の値である。多官能性アクリレートおよび/またはメタクリレートの混合物を使
用する場合は、mの平均値が約1.05〜3であることが好ましい。
【0045】 好適な多官能性エチレン系不飽和(メタ)アクリル酸エステルの具体例は、多
価アルコール類のポリアクリル酸またはポリメタクリル酸エステルであり、例え
ば、エチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2−ジメチル−1,3
−プロパンジオール、1,3−シクロペンタンジオール、1−エトキシ−2,3
−プロパンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、1,4−シクロ
ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジオー
ル、1,6−シクロヘキサンジメタノール;ヘキサフルオロデカンジオール、オ
クタフルオロヘキサンジオール、ペルフルオロポリエーテルジオールなどの脂肪
族ジオールのジアクリル酸およびジメタクリル酸エステル、グリセリン、1,2
,3−プロパントリメタノール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,5−
ペンタントリオール、1,3,6−ヘキサントリオール、および1,5,10−
デカントリオールなどの脂肪族トリオールのトリアクリル酸およびトリメタクリ
ル酸エステル;トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリアクリル酸
およびトリメタクリル酸エステル;1,2,3,4ブタンテトロール、1,1,
2,2,−テトラメチロールエタン、および1,1,3,3−テトラメチロール
プロパンなどの脂肪族トリオールのテトラアクリル酸およびテトラメタクリル酸
エステル;ピロカテコール、およびビスフェノールAなどの法王族ジオールのジ
アクリル酸およびジメタクリル酸エステル;およびそれらの混合物などが挙げら
れる。
【0046】 さらに図1aを参照すると、キャリアーガス24には任意のガスまたは複数の
ガスの組み合わせであってよく、希望であれば流体組成物18の全部または一部
に関して不活性でも反応性であってもよい。しかし、多くの用途においては、キ
ャリアーガス24が流体組成物18のすべての成分に関して不活性であることが
好ましい。特に、流体組成物18が有機液体を含む場合には、キャリアーガス2
4は酸素などの酸化性ガスを含まないことが好ましい。不活性ガスの代表例とし
ては、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素、およびこれらの組み合わせなど
が挙げられる。酸化が問題とはならない流体組成物18の場合は、希望であれば
通常の周囲空気をキャリアーガス24として使用することもできる。
【0047】 霧化後に、液滴28は気化して、蒸気30として図示するような非光散乱性気
相としてキャリアーガス24中に分散していく。蒸気30は本当の蒸気であるこ
とが好ましいが、分散した液滴が例えば、平均サイズが約30nm未満で可視光
および/または630nm〜670nmの波長を有するレーザー光で散乱されな
い程度に小さい分散相であってもよい。従って、図1aでは蒸気30を複数の液
滴として図示しているが、実際には蒸気30は目に見えない。
【0048】 実際には、流れ22および20の衝突後に液滴28が距離dにわたって見えな
いということは、実質的にすべての流体組成物18が効率的に気化する条件で衝
突が起こったことを示している。霧化した液滴28の気化が完全に起こる実際の
距離dは、流体組成物18やキャリアーガス24の性質、流体組成物18とキャ
リアーガス24のそれぞれの温度、衝突時の流れ22および20の速度、霧化お
よび気化が起こるチャンバー17内の温度などを含めた種々の要因次第で変動す
る。通常、以下の実施態様で説明する装置規模において、dは2cm〜200c
mの範囲内である。従って、他種多様のコーティング材料を扱うことができるよ
うにするためには、チャンバー17を使用する場合には通常その長さは少なくと
もdである。
【0049】 チャンバー17は必要なものではないが、蒸気をより効率的に基材16に送る
のに役立ち、また蒸気30の形状を整えてコーティング性能を向上させるのにも
役立つ。使用する場合は、チャンバー17は、霧化の領域から蒸気30が基材1
6と接触する領域まで延びる長さに沿った直線状にすることができるが、これは
必要なものではない。実際、チャンバー17に複数のねじれや曲がりがある場合
でさえ、蒸気30はなお基材16に向かって流動する傾向にある。例えば、図3
は直線上のチャンバーの蒸気移送管を示しているが、図4は90°で折れ曲がっ
たチャンバーを示している。
【0050】 流体成分の気化が起こる沸点よりも通常は十分低温である蒸気30の凝縮点よ
りも高温で十分なキャリアーガス24が使用される限り、蒸気30は真の気相と
してキャリアーガス24との混合物として存在することができる。キャリアーガ
ス24と流体組成物の接触は、蒸気30の分圧が飽和蒸気圧より低くなる条件下
で行われるため、より高温、例えば、流体成分の沸点以上の温度は気化を実現し
維持するためには必要ではない。より高温に頼ることなく成分を気化させるこの
能力は、成分の1種類以上が高温において破壊されたりその他の劣化を起こした
りする可能性のある流体組成物18を使用する場合に特に好都合である。
【0051】 流体組成物18の成分が高温によって害を受けない場合は、キャリアーガス2
4を流体成分の沸点よりも高温で供給することができる。実際、このようなより
高温の使用は、ある用途においては有用となりうる。例えば、キャリアーガス2
4によって気化熱エネルギーが運ばれてくるので、ある程度液体を気化させるた
めに十分な熱エネルギーを、特により速い液体の流速において供給するために、
より高いガス温度が必要および/または望ましくなることもある。このような場
合、得られるキャリアーガス24と蒸気30の混合物は、キャリアーガス24の
初期温度流体組成物18の初期温度、およびこれら2つの材料の相対的な流速な
どの要因に依存して、1種類以上の気相成分の沸点よりも高温あるいは低温とな
る。
【0052】 例えば蒸気30は、それより高温では蒸気30のすべてが気相中に残留しやす
くなるような凝縮温度を有する。逆に凝縮温度より低温では、蒸気30は凝縮し
て液相になりやすくなる。従って、キャリアーガス24の流れ22は、蒸気30
の凝縮点よりも高温でチャンバー17に供給されることが好ましい。好ましくは
、キャリアーガス24を凝縮点よりも高温に加熱するが、それでもなお流体組成
物の少なくとも1つの成分の沸点より低温、より好ましくは流体組成物18のす
べての流体成分の沸点よりも低温である。
【0053】 この議論から、蒸気30が基材表面14に到達する前にキャリアーガス24と
蒸気30の混合物が蒸気30の凝縮温度より低い温度になると、蒸気30の少な
くとも一部が予定より早く凝縮することがあることが分かる。これを避けるため
に、蒸気の凝縮温度より高温に気体混合物を維持できるようにチャンバー17が
加熱可能であることが好ましい。任意の希望する手段によってチャンバー17に
熱を与えることができる。例えば、チャンバー17の内容に、赤外線、マイクロ
波、RFエネルギー、またはレーザーエネルギーを照射することができる。別の
例としては、チャンバー17の壁19を、電熱コイルまたは熱いガスまたは液体
、例えば液流を循環させる加熱ジャケットによって、壁19の周囲あるいは内部
から加熱することができる。
【0054】 キャリアーガス24と蒸気30の混合物は、基材16の表面14に向かって流
れ、蒸気30の凝縮温度よりも低温に冷却される。その結果、蒸気30は表面1
4上で凝縮して、薄く実質的に均一なコーティング層12を形成する。基材16
は、任意の従来の冷却手段を用いて冷却することができる。図においては、基材
16は、冷却支持部材32と熱的に接触させて配置することで冷却される。支持
部材32の使用は、冷却効果が、キャリアーガス24と蒸気30の混合物などの
システム10の他の部分ではなく、最初に基材16へと熱的に移動するので特に
好都合である。これによって、基材16に到達する前に凝縮する蒸気30の量が
最小限になる。支持部材32は、任意の希望する冷却方法を用いて冷却すること
ができる。図においては、支持部材32は、冷却媒体供給ライン34から支持部
材32中に冷却水などの適当な冷却媒体を循環させることで冷却している。冷却
媒体は、排出ライン36を通して支持部材32から回収される。
【0055】 本発明によるコーティングに適した基材は、多くの異なる種類の材料から作る
ことができるし、様々な異なる形状であってもよい。例えば、材料に関しては、
基材は、金属、木材、布、ポリマー、セラミック、紙、鉱物、ガラス、複合材料
などであってよい。形状に関しては、基材は、平坦、湾曲、波形、ねじれ、微細
構造、平滑、粗面、多孔質、粒子状、繊維状、中空形状、三次元、規則的または
不規則的表面などであってよい。本発明の蒸気流の近傍に基材を配置する方法は
、希望するコーティングおよび基材に依存する。好適な方法としては、例えば、
可撓性ウェブ様基材および繊維における移送技術、粒子状基材における振動また
は懸濁技術、三次元基材における可動性蒸気源または基材が挙げられる。
【0056】 図1aに示す実施態様では、基材16と支持部材32はコーティング中に移動
しない。従って、図1aに示す実施態様はバッチ式コーティング作業の実施に適
している。しかし、1つの選択として、コーティング作業を定常状態で行うこと
ができる。例えば、図3および4では、定常状態のコーティング作業において、
移動する基材の長い距離をコーティングする本発明の実施態様を示している。
【0057】 好都合な点として、本発明は、広範囲の幅を有するコーティング層12などの
コーティング層の形成に使用することができる。好ましい実施態様では、0.0
1μm〜5μmの範囲の均一な厚さを有するコーティング層が1回で容易に形成
される。より厚い皮膜、または異なる材料からなる多層皮膜は、複数回のコーテ
ィング工程にかけるか、あるいは1回の工程で複数の層を付着させて基材16を
コーティングすることで形成することができる。好都合なことには、本発明は実
質的にピンホールのないコーティング層を形成することもできる。コーティング
層は、別々の蒸気および/または蒸気混合物が共凝集するときに相分離が起こら
ないとも考えられている。
【0058】 表面14上に蒸気30が凝集してコーティング層12が最初形成された後に、
コーティング層12に希望する性質次第でコーティング層12をさらなる任意工
程に任意にかけることができる。例えば、放射硬化エネルギーにさらすことで硬
化または架橋および固化が可能な成分からコーティング層12が形成されている
場合は、コーティング層を硬化させるためにコーティング層12を適切な線量の
放射硬化エネルギーで照射することができる。加熱によって熱硬化および固化が
起こる成分でコーティング層が形成されている場合は、硬化させるために好適な
条件下でコーティング層12を加熱することができる。さらに冷却することによ
る相変化によって固化する成分からコーティング層12が形成されている場合は
、 成分の固化が起こる温度までコーティング層12を冷却することができる。
図1Aに排出ガス39として一括して示している過剰のキャリアーガス24およ
び蒸気30は、排出口38を介してチャンバー17から排出することができる。
【0059】 図1aでは、流れ22を流れ20と衝突させることで霧化を行っており、この
場合衝突エネルギーが流体組成物18を微細な液滴28のミストに分解している
。液滴および後の蒸気の体積濃度が時間経過に伴って変動しうる振動が生じずに
円滑に流体組成物18を気化させることができるので、層流条件下の衝突による
霧化は好都合である。霧化は他の手段によって行うことも可能であるが、他の霧
化手段は霧化中に振動が発生する性質を有する傾向にある。例えば、流体組成物
18に従来の霧化手段を使用して霧化し、液滴28を気化させることができるよ
うに、霧化した液滴28をキャリアーガス24中に放出あるいは噴霧することが
できる。このような他の霧化方法としては、超音波霧化、スピニングディスク霧
化などが挙げられる。図1bはこれを概略的に示している。図1bは、流れの衝
突の代わりに霧化装置構成要素21を使用して流体流20を霧化していることを
除けば図1aとほぼ同様である。霧化装置構成要素21としての使用に適した様
々な種類の代表的霧化装置構造は、Lefebvre,A.H.,Atomiz
ation and Sprays,Hemisphere Publishi
ng Corp.,U.S.A.(1989);Harari et al.,
Atomization and Sprays,vol.7,pp.97−1
13(1997)に記載されている。
【0060】 別の代替法として、まず流体流20およびガス流22を予備混合した後、従来
の霧化手段を使用して流体組成物18を霧化することができる。この方法では、
得られる霧化された液滴28は、霧化の際にキャリアーガス24と十分に混合さ
れる。有利な点は、予備混合した流体流20およびキャリアーガス流24では、
図1aの衝突法よりもキャリアーガス24の使用量が少ないことである。しかし
、衝突で形成された液滴28は、予備混合方法で形成された液滴28よりも小さ
く早く気化する傾向にある。別の代替法として、結果として得られる霧化した液
滴28がキャリアーガス24と接触できるような方法で、流体組成物18の2つ
以上の流れを衝突させることより霧化を行うことができる。
【0061】 図2aは、図1aのシステム10の操作100の好ましい方式の概略を示す流
れ図である。この方法の流れ図の操作100の方式の考察は、図2bの流れ図に
示す本発明の操作100’の別の方式を評価するために特に有用である。まず図
2aを参照すると、流体組成物104の流れ102とキャリアーガス108の流
れ106は、ステップ110において流体組成物104の霧化および気化に効率
的な条件下で合流し、キャリアーガス108と気化した流体組成物とを含む気相
混合物を形成する。ステップ112では、蒸気が冷却した基材の表面に向かって
流動し、ここでステップ114において蒸気が液体に凝縮して基材上にコーティ
ング層を形成する。ステップ116では、コーティング層は任意の凝縮後工程に
かけられる。
【0062】 操作100の方式は、周囲条件下で通常固体である1種類以上の成分から誘導
されるおよび/または含有する流体組成物104を扱えるように容易に適合させ
ることができる。例えば、蝋などの融解して気化可能な流体が容易に生成する材
料を、溶融させた後で溶融形態の流体組成物104に混入することができる。他
の固体は、流体組成物104の別の流体成分と混合した場合に容易に溶解するこ
とができる溶解性を有する場合がある。例として、多くの固体の光開始剤は、光
開始剤の存在下で重合が有利に促進される放射線硬化性モノマーを含む流体に溶
解性である。他の固体材料は、担体108と接触させた場合に溶融するか、ある
いはコーティング蒸気と共にコーティング位置に移動できるほど小さいかのいず
れかの微細粒子として供給することができる。
【0063】 図2bは、別の方式の操作100’を示しており、操作100’の方式では複
数の流体流102a’、102b’等を、対応する複数のキャリアーガス流10
6a’、106b’等とを、流体流102a’、102b’等を効率的に霧化お
よび気化する方法で連結することができることを除けば、図2aの操作100の
方式とほぼ同じである。このような蒸気の発生は、同じチャンバー内で実質的に
同時に行って混合された蒸気を発生することができる。同時に蒸気を発生させる
ことは、通常は互いに非混和性である流体から均一なコーティング層を形成する
ためには特に好ましい。あるいは、蒸気の発生を、同じチャンバー内で連続的に
行って、多層のコーティング層を形成することができる。あるいは、このような
蒸気の発生を別々のチャンバーで行った後、別々のチャンバーから各蒸気を同時
に基材上に吹き付けることができる。別々のチャンバーから各蒸気を同時に基材
上に吹き付けることは、互いに反応性である蒸気からコーティング層を形成する
場合に好ましい。
【0064】 図3は、本発明の装置200の具体例を示しており、供給ロール208から冷
却支持部材206を通過し巻取りロール210まで移動する可撓性ウェブ204
上にコーティング層(分かりやすくするため図示していない)を形成するために
有用である。通常、コーティング作業は、広い速度範囲の希望する任意の速度で
可撓性ウェブ204を移動させながら行うことができる。例えば、可撓性ウェブ
204は約1cm/s〜1000cm/sの範囲内の速度で移動させることがで
きる。可撓性ウェブ204は、ポリマー、紙、天然および/または合成繊維から
製造された繊維状材料および布、金属、セラミック組成物などの種々の材料から
可撓性製造することができる。ガイドローラー212は、支持部材206の表面
214を横断するように可撓性ウェブ204を誘導する働きをする。支持部材2
06は、供給ライン216から支持部材206に入り排出ライン218から排出
される冷却媒体によって冷却される。冷却媒体の冷却効果は、支持部材206と
熱的に接触する可撓性ウェブ204の一部に伝達される。
【0065】 コーティング操作は蒸気移送管224を使用して行われる。蒸気移送管224
は、可撓性ウェブ204に蒸気を移動させる働きをし、より良好なコーティング
性能を得るために蒸気流を整えるのにも役立つ。蒸気移送管224は2つの半体
203および205で構成される。各半体203および205は、接合する端部
においてそれぞれフランジ207および209を含み、この部分でねじ、ボルト
、ねじのかみ合いなどの適当な固定手段によって互いに取り外し可能に両半体を
固定することができる。2つの半体203および205は開放することができ、
保守点検のためチャンバー222に到達することができる。
【0066】 蒸気移送管224は、入口端226と出口端228を有する。入口端226に
は、流体コーティング材料およびキャリアーガスの流れが蒸気移送管224のチ
ャンバー222の放出および衝突が行われるノズル230が取り付けられる。こ
のような衝突によって、コーティング材料の霧化および気化が起こる。コーティ
ング材料は、供給ライン232を通ってノズル230に供給される。供給ライン
232からの材料の移送は、定量ポンプ236を使用して行われる。キャリアー
ガスは供給ライン234を通ってノズル230に供給される。供給ライン234
には、流量調節器235とキャリアーガスが蒸気移送管224に流入する前にキ
ャリアーガスを予備加熱するための任意の熱交換器238とが取り付けられる。
蒸気移送管224の壁242を加熱するための加熱要素240などの加熱手段を
使用して、チャンバー222に熱を供給することができる。図3に示す加熱要素
240は、希望する熱量を与えるための、壁242と熱的に接触するように蒸気
移送管224周囲にらせん状に巻き付けられた電気抵抗加熱要素の形態である。
【0067】 蒸気移送管224の出口端228は、チャンバー222内で発生した蒸気を可
撓性ウェブ204上に向けるオリフィス244を有するエンドキャップ246を
備える。エンドキャップ246は、保守点検のためチャンバー222に通じるこ
とができるように任意に着脱自在であってもよい。蒸気の凝縮温度より低温に維
持された冷却ウェブ204と蒸気が接触すると、蒸気が凝縮してウェブ204上
でコーティング層を形成する。移動するウェブ204にコーティング層が適用さ
れた後、このコーティング層を硬化ユニット250として図示する好適な硬化処
理にかけることができる。例えば、1つの選択として、コーティング層が放射線
架橋性官能基を含む場合、硬化ユニット250は放射硬化エネルギー源であって
もよい。もう1つの選択として、コーティング層が熱硬化性官能基を含む場合、
硬化ユニット250はオーブンであってもよい。
【0068】 図4は、移動可能なウェブ302上への放射線硬化コーティング層の形成の適
した本発明の特に好ましいシステム300を示しており、コーティング層は1種
類以上の流体の放射線架橋性コーティング材料から形成される。システム300
は、内壁306と外壁308を含む二重壁カバー304を備える。内壁306に
よってコーティングチャンバー310が定められる。内部隔壁312は、コーテ
ィングチャンバー310を上部チャンバー314と下部チャンバー316に分割
する。ウェブ302上のコーティング層の形成に使用される放射線架橋性コーテ
ィング材料の反応性のためと、清浄なコーティング環境を維持するために役立つ
ようにするため、下部チャンバー316は不活性雰囲気に維持される。
【0069】 不活性雰囲気は、硬化工程および凝縮後工程にかけられる材料に関して不活性
である任意のガスおよび複数のガスの組み合わせであってよい。好適な不活性ガ
スの例としては、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素、およびこれらの組み
合わせなどが挙げられる。不活性雰囲気は、コーティング作業を行うために効率
的な任意の好都合な温度で供給することができる。しかし、不活性雰囲気が熱す
ぎるまたは冷たすぎる場合には、ウェブ温度および/または蒸気温度を調節する
ことがより困難になるおそれがある。従って、一般に0℃〜100℃の範囲の温
度の不活性雰囲気を供給することが好適である。不活性雰囲気はガス流入口32
0から下部チャンバー316に供給され、ガス排出口322から排出される。周
囲のガス、粒子、および他の汚染物質を下部チャンバー316から排出できるよ
うにするため、下部チャンバー316はわずかな正圧、例えば、0.04psi
g(250Pa)に維持される。
【0070】 可撓性ウェブ302は、供給ロール326(上部チャンバースペース314に
位置する)から、ドラム324(下部チャンバースペース316に位置する)へ
、そして巻取りロール328(これも上部チャンバー314に位置する)へと案
内される。ガイドローラー325はウェブ302のこのような移動中に案内を補
助する。好ましくは、ドラム324は、ラム324の周囲でウェブ302を移動
させるための、矢印330の方向に回転することができる水冷式回転可能ドラム
である。本発明を使用して形成することができる非常に薄いコーティング層厚さ
のため、ドラム324の表面332は正確(すなわちドラムの軸に対して平行)
で滑らかであるべきである。水冷式ドラム324の特に好ましい実施態様は、表
面332の内部だが表面と隣接する位置にある二重らせん状に巻かれた冷却管に
流される循環冷却水によって冷却される。
【0071】 ドラム324は、少なくとも一部、好ましくは全部の放射線架橋性コーティン
グ材料の凝固温度より低い温度に維持される。ドラム324と熱的に接触するウ
ェブ204の熱容量はドラム324と比べると比較的小さいので、ドラム324
と熱的に接触するウェブ部分は支持部材温度に実質的に対応する温度まで冷却さ
れる。このためウェブ302上への蒸気状コーティング材料の凝縮が促進される
。冷却温度はコーティングする材料の性質次第で変動する。通常、ドラム324
を0℃〜80℃の範囲の温度に維持すると好都合である。
【0072】 ドラム324の回転速度は、コーティング速度が各コーティング操作において
最適化することができるように調節することが好ましい。一般に、好適な速度範
囲では、ウェブ速度が0.001cm/s〜2000cm/s、好ましくは1c
m/s〜1000cm/s、より好ましくは1cm/s〜300cm/sの範囲
でコーティングすることができる。
【0073】 プライマー処理ユニット336は、ウェブ302のプライマー処理を行うため
、ドラム324の送り込み側に任意に備えることができる。このような処理は、
必ずしも必要ではないが、適切な条件でコーティング層のウェブ302に対する
接着力を向上させるために行うことができる。行うプライマー処理の種類は重要
ではなく、ウェブ302表面を十分にプライマー処理することが可能な任意の方
法を使用することができる。一例として、プライマー処理ユニット336は、コ
ロナ放電をウェブ表面に向けることでウェブ302のプライマー処理が可能なコ
ロナ処理ユニットであってもよい。コロナ処理ユニットは、多数の販売元から市
販されている。例えば、Pillar Technologies社(Milw
aukee,Wisconsin)より市販されるコロナ処理装置が好適である
ことを確認している。
【0074】 コーティング蒸気は、蒸気移送管340からウェブ302上に向けられる。蒸
気移送管340は、主管部分341とコーティングヘッド部分343を備える。
任意に、コーティングヘッド部分343は、主管部分と一体的に形成されていて
もよいし、あるいは主管部分341と取り外し自在に固定することができる分離
した部品として形成されてもよい。あるいは、主管部分341とコーティングヘ
ッド部分343のそれぞれは、使用されるコーティング材料に関して不活性であ
る任意の種々の材料から別々に作製してもよい。このような材料の例としては、
ガラス、ステンレス鋼、アルミニウム、銅、およびこれらの組み合わせなどが挙
げられる。主管部分341は、気化の状態を視覚的に評価できるようにガラス製
壁を含むことが好ましい。コーティングヘッド部分343も、希望するのであれ
ばガラスまたは他の好適な材料から作製してもよい。
【0075】 蒸気移送管340は入口端342と出口端344を有する。入口端342には
、放射線硬化性コーティング材料とキャリアーガスのそれぞれの流れが通過して
蒸気移送管340のチャンバー348内に放出され衝突するノズル346が取り
付けられる。このような衝突によって、コーティング材料の霧化および気化が起
こる。コーティング材料は供給ライン350を通ってノズル346に供給され、
キャリアーガスは供給ライン352を通ってノズル346に供給される。供給ラ
イン350は容積式ポンプまたは定量ポンプ354を備える。供給ライン352
にはガスを加熱するための熱交換器356が取り付けられる。前述したような任
意の好適な加熱手段(図示していない)を使用してチャンバー348に熱を供給
することができる。
【0076】 ノズル346を通過するコーティング材料とキャリアーガスの流速は、コーテ
ィング性能に影響する要因の1つである。一般に、キャリアーガスが蒸気で飽和
せずにすべてのコーティング材料が気化できるようにするため、キャリアーガス
の流速はコーティング材料の流速よりも速い。通常のコーティング操作では、コ
ーティング材料は0.01ml/min〜50ml/minの範囲の流速で供給
することができ、キャリアーガスは4l/min〜400l/minの流速で供
給することができる。キャリアーガス流速のコーティング材料流速に対する比は
通常103〜106の範囲内である。
【0077】 蒸気移送管340の出口端344には、オリフィス360が設けられており、
ここを通過してチャンバー348で発生した蒸気がウェブ302に向けられる。
蒸気の凝縮温度より低温に維持された冷却ウェブ302と蒸気が接触すると、蒸
気が凝縮してウェブ302上にコーティング層を形成する。凝縮したコーティン
グ層が移動するウェブ302に適用された後で、放射線硬化ユニット362とし
て図示される適当な硬化条件にコーティング層をかけることができる。次に、コ
ーティングされたウェブは、必要であればさらに加工することができ、あるいは
図示するように巻取りロール328に巻取って保管することができる。
【0078】 図5a、5b、および5cは、本発明の原理の実施に有用な特に好ましいノズ
ル400の実施態様を示している。ノズル400は、上述の任意の実施態様を含
めた本発明の任意の実施態様に取り入れることができる。ノズル400は、主要
構成要素として、主バレル402、エンドキャップ404、アダプター406、
および出口カバー408を備える。これらの主要構成要素は、保守点検のため必
要となるノズル400の分解および再組立が容易となるように、螺合により組み
立てられるようになっている。
【0079】 主バレル402は、段面409が形成されるように円筒形ボディ407と連結
する円錐形ヘッド405を含む。ボディ407の反対側の端では、ボディ407
の外周412から外部円筒形壁410が長手方向に延びている。ボディ407の
内側部分416から内部円筒形壁414が長手方向に延びている。内部円筒形壁
414の長さは外部円筒形壁410よりも長いため、エンドキャップ404が内
部円筒形壁414周囲に螺合して連結部418で外部円筒形壁410と密封状に
係合することができる。内部円筒形壁414と外部円筒形壁410は互いに間隔
があけられ、このため主バレル402とエンドキャップ404をボディ407と
合わせて組み合わせた場合に、環状チャンバー422の一部を形成する間隙42
0(図5c参照)が定められる。ボディ407の外面424にはねじ山が付けら
れ、アダプター406と螺合する大きさとなっている。内部円筒形壁414の外
面426にもねじ山が付けられ、エンドキャップ404と螺合する大きさとなっ
ている。
【0080】 間隙420の間、従って環状チャンバー422および段面409に流体が流れ
るようにするため、ボディ407に少なくとも1つの貫通した開口部428が設
けられる。図に示す好ましい実施態様では、4つの開口部428が設けられ、段
面409の周囲において間隔が等距離になっている。主バレル402は、主バレ
ル402の軸に沿った長手方向に内部円筒形壁414の入口端421から円錐形
ヘッド405の放出端423まで延びる貫通した開口部429をさらに含む。貫
通開口部429は通常円筒形であるが、放出端423において先細りして直径が
減少する。貫通開口部429は、層流を実現するために、端421および423
において十分なランド長さとオリフィス直径を有することが好ましい。
【0081】 一般にエンドキャップ404は端壁430と周囲の側壁432とを含む。端壁
430の中心には、主バレル402の内部円筒形壁414の外部に取り付けられ
螺合するよう適合した開口部434が配置している。図5cに最も良く示される
ようにエンドキャップ404と主バレル402を螺合させることによって組み立
てると、側壁432は連結部418において主バレル402の外部円筒形壁41
0と密封状に係合するが、内部円筒形壁414とは間隔があけられる。従って側
壁432は、入口端421近傍の内部円筒形壁414の始まりの部分の周囲の環
状チャンバー422を定める。側壁412は、ノノズル400が組み立てられた
場合にズル400外部と環状チャンバー422の間を連絡する開口部435を含
む。ノズル400の組立および分解の時にエンドキャップ404をつかみやすく
するために、エンドキャップ404の外面436にはローレットが切られている
【0082】 アダプター406は、外部段面446が形成されるようにボディ444と連結
し平端面442を有する円錐形ヘッド440を備える。ボディ444の反対の端
部では、ボディ444の外周450から円筒形壁448が長手方向に延びている
。ボディ444の外面452にはねじ山が付けられており出口カバー408と螺
合する大きさとなっている。円筒形壁448の内面453にはねじ山が付けられ
ており、主バレル402のボディ407と螺合する大きさとなっている。円筒形
壁448の外面454にはローレットが切られており、ノズル400の組立およ
び分解の際にアダプター406をつかみやすいようになっている。
【0083】 ボディ444および円錐形ヘッド440は、開口部456を通して主バレル4
02の円錐形ヘッド405を受け入れるようにテーパーが付けられている。内部
段面455の距離は、貫通開口部456の端457から円筒形壁448の内面4
52まで及んでいる。端面442からちょうど円錐形ヘッド405の放出端42
3が突出するように、円錐形ヘッド405はテーパー貫通開口部456に密封状
に受けられる。さらに、貫通開口部456に円錐形ヘッド405が十分に挿入さ
れると、主バレル402の段面409は内部段面455から間隔があき、これに
よって第2環状チャンバー458が定められる。ボディ444は、内部段面45
5と外部段面446の間で流体が連絡する複数の弓形貫通くぼみ460を含む。
弓形貫通くぼみ460は、第2環状チャンバー458を経由して主バレル402
の貫通開口部428と連絡する。弓形貫通くぼみ460は、開口部428から現
れた実質的な線状流線流を、弓形くぼみ460からほぼ環状の流動形式となって
現われるように分散させる。
【0084】 出口カバー408は末端部分470と側壁472を含む。側壁472の内面4
74荷はねじ山が付けられ、アダプター406のボディ444と螺合する大きさ
となっている。側壁472の外面476にはローレットが切られており、ノズル
400の組立および分解の際に出口カバーを握りやすいようになっている。末端
部分470はテーパー貫通開口部478を定める内壁480を有し、この開口部
478はアダプター406のテーパーヘッド440と間隙があいて受け入れるよ
うに適合しており、これによって内壁480とテーパーヘッド440の間に延び
る円錐形流路482が定められる。従って流路482は、弓形貫通くぼみ460
近傍の入口484と端面442近傍の出口485とを有する。出口485は円環
形であり、貫通開口部429の放出端423を囲んでいる。
【0085】 ノズル400の操作の好ましい形式では、供給コーティング材料は貫通流路4
29入口端421に入り、次に放出端423まで流れていき、ここでコーティン
グ材料の流れはノズル400の縦軸に沿って放出され、好ましくは層流状態で衝
突点490に向かう。その間、供給キャリアーガスは開口部435から環状チャ
ンバー422に入る。次にキャリアーガス流が環状チャンバー422から流路4
28を通って第2環状チャンバー458へと進む間にキャリアーガス流が圧縮さ
れる。第2環状チャンバー458から、キャリアーガス流が弓形流路460に入
り、これによって流路428からの圧縮された流れが再分配され、実質的に円環
形の流れが形成される。弓形流路460から、キャリアーガス流はテーパー流路
482内に再び制限され、次に円錐形で中空の流れとなって衝突点490に向か
って放出される。衝突点490では、コーティング材料とキャリアーがすの流れ
が衝突し、コーティング材料の霧化および気化が起こる。
【0086】 図5a、5b、および5cに示されるノズルの特徴と関連する図6は、ノズル
400を使用して発生した衝突流とガス流の幾何学的配置をより詳細に示してい
る。内部領域504を有する中空で実質的に円錐形であるキャリアーガス流50
0は、ノズル400の環状オリフィス485から現れ、頂点502の方に集束す
る。環状オリフィス485のほぼ中央に位置するオリフィス425は、流体の円
柱形の流れ506を内部領域504から頂点502に向けて放出し、ここで流れ
500および506が衝突する。従って流体流506は大きな力で霧化される。
【0087】 この方法によると、性能においてさまざまな利点が得られる。まず、ノズル4
00の構造によって、粘着性または比較的粘稠な流体材料を含む流体流の霧化が
より容易になる。ノズル400からこのような流体成分を移動させるためには比
較的低い圧力が要求され、他のノズル構造を使用した霧化構成と比較すると驚く
べきことにこのような成分がノズル400が詰まらせる傾向が減少する。理論と
むすび付けて考察しようとするものではないが、この性能の向上を説明できると
思われる根拠を提案することはできる。迅速に移動する中空で円錐形のキャリア
ーガス流500によって内部領域504が減圧状態となり、これによって流体組
成物がノズル400から引き出されやすくなると考えられる。この引き出される
力が、他の方法ではノズルのつまりの原因となりうる粘稠および粘着性の影響を
克服する助けとなる。別の利点としては、この方法で、キャリアーガス流500
が流体流506の実質的すべての周辺部を囲む流体流506と大きな力で衝突す
るので、非常に良好に流体流506の霧化が起こる。
【0088】 ある用途では、互いが十分に非相溶性であるため2種類以上の液体組成物から
均一な蒸気を発生させることが望ましいことがあるので、ノズル400の使用は
このような組成物の均一な霧化および/または気化混合物を生成するためにはあ
まり適していない。工程で使用する液体材料が、ノズル10から均一に流れ出す
ことができない2種類以上の非混和性成分を含む場合などでは、ノズル400の
使用はあまり適していない。あるいは、液体状態で互いに反応性である2種類以
上の成分を含む液体材料の場合、ノズル400から1つの流れとしてこのような
材料を移送するとノズル400がつまる可能性があるので、ノズル400の使用
はあまり適していない。
【0089】 このような状況において、図7は、複数の液流から均一な霧化および/または
気化混合物を形成するために特に有用である本発明の特に好ましい実施態様であ
るノズル400’を示している。ノズル400’は、主バレル402がただ1つ
の貫通開口部429ではなく同時に複数の流体流を扱うための複数の貫通開口部
429’を含むことを除けばノズル10とほぼ同じである。説明のため、3つの
貫通開口部429’を示しているが、扱うべき流体流の数次第でこれより多いあ
るいは少ない数を使用することができる。例えば、他の実施態様では、主バレル
402’は2〜5個のこのような貫通開口部429’を含むことができる。ノズ
ル400’は、それぞれのこのような貫通開口部429’からそれぞれの流体流
を供給するための管状材料431’も含む。このように、ノズル400’によっ
て、実質的に同時で内破的で高エネルギーで複数の流体流の霧化および気化が可
能となる。この方法では、複数のノズルから多成分蒸気を発生させ混合しようと
試みた場合よりも、実質的により均一な蒸気が得られる。
【0090】 これより以下の実施例を参照にして本発明をより詳細に説明する: 実施例1 以下のようにして、液流を霧化し、気化し、基材上で凝縮させ、これを後に基
材上で重合させた:標準圧力で沸点が295℃である1,6−ヘキサンジオール
ジアクリレート(UCB Chemicals社より入手できる)5.3重量部
と、10mmHg(1400Pa)で沸点が100℃であるペルフルオロオクチ
ルアクリレート(FC 5165としてMinnesota Mining a
nd Manufacturing Company社より入手できる)94.
7重量部との溶液で構成される液流を、シリンジポンプ(Harvard Ap
paratus社より入手できるModel 55−2222)を用いて図5a
、5b、および5cに示される霧化ノズルに通して移送した。0.35mPa(
34psi)のガス流(低温等級の窒素、Praxair社より入手できる)を
127℃に加熱し、ノズルに通した。液流は速度0.5ml/minで移動し、
ガス流は速度27l/minで移動した(標準温度および標準圧力すなわちST
P)。液流とガス流の両方は、図5a、5b、および5cの前述の説明のように
別々の流路を通ってノズルを通過した。ガス流は環状オリフィスから放出され、
ノズル端から3.2mm(0.125インチ)に位置する中央の先端に向かった
。この位置で、ガス流が中央の液流と衝突した。液流が霧化して、ガス流中で液
滴のミストを形成した。次に、ガス流中の霧化した液滴は、蒸気移送チャンバー
を通って移動する流れと急速に気化した。蒸気移送チャンバーは、直径10cm
長さ5cmのガラス管と、直径10cm長さ25cmのアルミニウム管の2つの
部品を含んでいた。ノズルの出口端はガラス管の一端の内部に約16mm(0.
64インチ)延びており、アルミニウム管はガラス管の反対側の端と連結した。
蒸気移送チャンバーの壁に蒸気が凝縮するのを防止するために、アルミニウム管
を管の外側に巻き付けた加熱テープで加熱した。
【0091】 気化を2つの方法によって観察した。第1の方法は肉眼による目視観察を含み
、第2の方法はレーザー光散乱を含むものであった。肉眼で観察する場合、霧化
した液滴を、ノズル出口から2cm未満で延びる狭い円錐形領域に限られた微細
なミストとして見ることができた。この後、このミストは見ることができなくな
ったが、これはこの領域を越えて完全に気化が進行したことを示している。液体
の霧化および気化は、波長630〜670nmの「ペンライト」レーザー(Ly
te Optronics,Inc.社製のOptiTM)のレーザー光を蒸気移
送チャンバーのガラス部分に照射することによっても観察した。レーザー光は、
ノズル出口から2cm未満に存在する液滴からの散乱光として見ることができた
。蒸気移送チャンバーの残りの部分は透明であったが、これは液体の気化が完全
に進行したか、あるいは少なくとも液滴が30nm未満の検出限界未満の直径ま
で縮小したことを示している。
【0092】 蒸気とガスの混合物は、アルミニウム管の末端のスロットを通って蒸気移送チ
ャンバー出口から排出した。このスロットは長さ50mm幅1.3mm(2イン
チ×0.05インチ)であった。蒸気とガスの混合物の温度は蒸気移送チャンバ
ー出口の3cm前の位置で136℃であった。厚さ100μm幅23cmの二軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの基材を、フィルム移動速度を1.0
cm/sに調節した機械的駆動システムによって蒸気移送出口を通過させた。水
冷式プレート上でフィルムを通過させながら、蒸気とガスの混合物をフィルムと
接触させた。蒸気出口と冷却プレートとの間隔は約2mmであった。ガスと蒸気
の混合物中の蒸気はフィルム上に凝縮し、幅50mm(2インチ)の未乾燥コー
ティング層の条片が形成された。
【0093】 次に、窒素雰囲気において222nmの単色紫外ランプシステム(ドイツのH
eraeus社より入手できるNoblelight Excimer Lab
orSystem 222)にコーティングしたフィルムを通過させることで、
コーティング層をフリーラジカル重合させた。このランプは放射度30mW/c
2であり、フィルム速度は約2.1m/分(7fpm)であった。
【0094】 実施例2 凝縮コーティング中の基材速度が2.6cm/sであり、ノズルに入る窒素の
温度が150℃であり、蒸気移送チャンバーの出口の3cm前の位置での蒸気と
ガスの混合物の温度が142℃であることを除けば、実施例1と同様にして基材
のコーティングおよび硬化を行った。
【0095】 実施例3 凝縮コーティング中の基材速度が8.9cm/sであり、ノズルに入る窒素の
温度が122℃であり、蒸気移送チャンバーの出口の3cm前の位置での蒸気と
ガスの混合物の温度が127℃であることを除けば、実施例1と同様にして基材
のコーティングおよび硬化を行った。
【0096】 実施例1〜3の結果 実施例1〜2の重合させたコーティング層は、固体で透明であり、肉眼でかす
かに見ることができた。しかし、それぞれのコーティングにある角度で光を当て
ると虹色の模様が観察され、一般にこれは1μm未満の厚さで空隙のあまりない
実施的に完全なコーティング層に対応するものである。実施例3の重合させたコ
ーティング層は肉眼で見ることができなかった。各コーティング層をX線光電子
分光法と減衰全反射赤外分光法によって分析し、コーティング層中にフルオロカ
ーボンアクリレートと架橋剤の両方が存在することを確認し、これより液流の両
方の成分が気化し凝縮したことが確認できた。
【0097】 実施例4 異なる液体および異なる工程条件を使用したことを除けば、実施例1と同様の
方法で基材のコーティングを行った。蒸気移送チャンバーと出口スロットも異な
り、コーティング層は硬化させなかった。液流は、大気圧での沸点が174℃で
あるフルオロカーボン液体(Minnesota Mining and Ma
nufacturing Co.社より入手できるFluorinertTM
C−43)で構成された。液体の流速は1.0ml/minで、窒素の流速は2
5l/min(STP)であった。ノズルに入る時の窒素温度はほぼ100℃で
あった。蒸気移送チャンバーは、直径10cmで長さ23cmのガラス管で構成
され、蒸気移送チャンバーの壁に蒸気が凝縮するのを防止するために管の外側に
加熱テープを巻き付けて加熱した。レーザー光は出口から1cm未満で散乱した
が、1cmより離れた位置では散乱しなかった。蒸気とガスの混合物は蒸気移送
チャンバーの3cm前の位置で90℃であった。アルミニウム管の端のスロット
は長さ9cmで幅1cm(3.5インチ×0.4インチ)であった。基材は、蒸
気移送出口スロットから約5mmの位置に約2秒間置いた。
【0098】 実施例5 液体の流速が2.0ml/minであり、蒸気移送チャンバーの出口の3cm
前の位置における蒸気とガスの混合物の温度が94℃であり、ミストを目視でき
ノズル出口から3cm未満の領域でレーザー光を散乱したことを除けば実施例4
と同様にして基材にコーティングした。
【0099】 実施例6 液体の流速が10.0ml/minであり、蒸気移送チャンバーの出口の3c
m前の位置における蒸気とガスの混合物の温度が99℃であり、ミストを目視で
きノズル出口から22cm未満の領域でレーザー光を散乱したことを除けば実施
例4と同様にして基材にコーティングした。
【0100】 実施例4〜6の結果 実施例4〜6のコーティング層は液体であった。実施例4および5のコーティ
ング層にある角度で光を当てると、一般に1μm未満の厚さで空隙のあまりない
実施的に完全なコーティング層に対応する虹色の模様が観察できた。実施例6の
コーティング層ははるかに厚いように思われ、虹色の模様は見られなかった。
【0101】 実施例7 異なるガス、ノズル、および工程条件を使用したことを除けば実施例4と同様
にして基材にコーティングを行った。ガスは圧縮空気であり、移動速度は4l/
min(STP)とした。ノズルはIVEK Corp.社(Vermont)
のSonicairTMノズルを入手した。液流とガス流をノズル内で混合して、
ノズルの直径0.05cm(0.020インチ)のオリフィスから放出した。ノ
ズルから混合物が放出された時に液体が霧化した。ガス流と接触する霧化した液
滴は、直径11cmで長さ30mであり外面に加熱テープを巻き付けたアルミニ
ウム管で構成される蒸気移送チャンバーにこれらが流入する時に急速に気化した
。ノズルの出口端は、アルミニウム管の内部に約13mm(0.5インチ)延び
た。霧化および気化は、出口スロットから蒸気移送チャンバーに通過する際に見
ることができた。霧化した液滴およびレーザー光は、ノズル出口付近の限定され
た領域でそれぞれ微細なミストおよび光の散乱として観察できた。蒸気とガスの
混合物の温度は、蒸気移送チャンバーの出口の5cm前の位置で85℃であった
【0102】 実施例7のコーティング層は液体であった。光をある角度でコーティングされ
た基材に照射すると、虹色の模様を観察できた。
【0103】 実施例8 光開始剤を加え、コーティング層の幅を広くし、紫外光発生のために異なる種
類のランプを使用したことを除けば、実施例1と同様の方法で基材にコーティン
グを行った。光開始剤はAldrich Chemical Co.社より入手
したアセトフェノンであり、STPにおいて295℃の沸点を有する2官能性モ
ノマーの1,6−ヘキサンジオールアクリレート100部当りに約1部含まれる
ものであった。次に、図4に示すシステムを用いて蒸気を基材上に凝縮させた。
蒸気とガスの混合物を、長さ25cmのスロットを通過させてコーティングヘッ
ドの出口から放出させた。幅30cmの基材を窒素雰囲気中でコロナ電極アセン
ブリに通し、次に直径41cm(16インチ)で幅36cm(14インチ)の金
属製冷却ロールと接触させながらコーティングヘッド出口を通過させた。冷却ロ
ールは冷却機からの水によって冷却した。コロナ電極アセンブリは、3つのセラ
ミック管電極(Sherman Treater,Ltd.社(UK)より入手
できる)を有し、それぞれ有効長30cm(12インチ)でありフィルムから2
mmの間隔をあけた。放電は、コロナ発生装置(ENI Power Syst
ems社(Rochester,New York)より入手できるモデルRS
−48B)によって電力を供給した。コロナ放電で使用する窒素は、電極アセン
ブリの後方から導入し、電極を通過し放電領域まで流れるようにした。蒸気出口
と冷却プレートとの間隙は約2mmであった。ガスと蒸気との混合物中の蒸気は
フィルム上に凝縮し、幅約25cmの未乾燥コーティング層の条片を形成した。
紫外線ランプシステムには、高強度水銀アークランプを使用した。
【0104】 実施例8の重合させたコーティング層は、固体で透明となり、肉眼でかろうじ
て見ることができたが、反射光によって虹色の模様を形成した。
【0105】 実施例9 異なる液体を使用することができ、光開始剤を使用せず、基材が異なる種類の
ものであり、紫外光源および条件が実施例1と同様であることを除けば、実施例
8と同様の方法で基材にコーティングを行うことができた。液流には、大気圧で
の沸点が139℃であるアクリル酸(Sigma−Aldrich Corp.
社(Milwaukee,Wisconsin)より入手できる)2重量部と、
標準圧力での沸点が216℃であるイソオクチルアクリレート(Sartome
r社(Exton,PA)より入手できるSR440)98重量部からなる溶液
を使用した。基材は厚さ約50μmの二軸延伸ポリプロピレンであった。
【0106】 実施例9の重合させたコーティング層は、固体で透明となり、肉眼でかろうじ
て見ることができたが、反射光によって虹色の模様を形成した。
【0107】 実施例10 異なる液体を使用することができ、光開始剤を使用せず、基材が異なる種類の
ものであり、異なる重合機構を使用したことを除けば、実施例8と同様の方法で
基材にコーティングを行うことができた。液流は、標準圧力での沸点が212℃
である縮重合性材料のメルカプトプロピルトリメトキシシラン(Sigma−A
ldrich Corp.社より入手できる)99重量部と、大気圧での沸点が
290℃であるアミン触媒(Huntsman社より入手できるJeffcat
ZR−50)1重量部とから構成される溶液であった。基材は厚さ約50μm
のシリカ下塗り二軸延伸ポリプロピレンであった。このシリカ下塗りフィルムは
米国特許第5,576,076号(Slootmanらに付与された)に記載さ
れるようにして作製した。コーティング層は空気中に数日間放置することで重合
させた。
【0108】 実施例10の重合させたコーティング層は、硬質で透明となり、かろうじて目
に見えるものであった。
【0109】 本発明の他の実施態様は、当業者であれば本明細書の考察本明細書に開示した
本発明の実施によって明らかとなるであろう。当業者であれば、特許請求の範囲
に示される本発明の真の範囲および精神から逸脱することなしに、本明細書に記
載される原理および実施態様の種々の省略、修正、および変更を行うことができ
るであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1a】 霧化を実現するために流れの衝突を利用する本発明のコーティ
ングシステムの略図である。
【図1b】 霧化を実現するために別の手段を利用する本発明のコーティン
グシステムの略図である。
【図2a】 図1aおよび1bのコーティングシステムの流れ図である。
【図2b】 コーティング前に蒸気として混合される複数のコーティング材
料を使用する場合の本発明の別のコーティングシステムの流れ図である。
【図3】 本発明のコーティングシステムの別の実施例の略図である。
【図4】 可撓性基材上への紫外線硬化コーティング層の形成に適した本発
明のコーティングシステムの実施例の略図である。
【図5a】 実質的に全部を霧化する本発明の好ましいノズルの実施例の分
解組立斜視図である。
【図5b】 図5aの分解したノズルの断面を示す側面図である。
【図5c】 図5aのノズルを組み立てたものの断面を示す側面図である。
【図6】 説明のため部品を取り外した図5cの組み立てたノズルによって
発生する流体流およびキャリアーガスの斜視図である。
【図7】 複数の流体流の霧化/気化に適した本発明の別の好ましいノズル
の実施例の部品を取り外した分解組立斜視図である。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成11年12月22日(1999.12.22)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項2
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項3
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項4
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項5
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項7
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項8
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項9
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項10
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項11
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項12
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項13
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項14
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項15
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0071
【補正方法】変更
【補正内容】
【0071】 ドラム324は、少なくとも一部、好ましくは全部の放射線架橋性コーティン
グ材料の凝固温度より低い温度に維持される。ドラム324と熱的に接触するウ
ェブ302の熱容量はドラム324と比べると比較的小さいので、ドラム324
と熱的に接触するウェブ部分は支持部材温度に実質的に対応する温度まで冷却さ
れる。このためウェブ302上への蒸気状コーティング材料の凝縮が促進される
。冷却温度はコーティングする材料の性質次第で変動する。通常、ドラム324
を0℃〜80℃の範囲の温度に維持すると好都合である。
【手続補正16】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1a
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1a】
【手続補正17】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2b
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2b】
【手続補正18】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート・ジェイ・フレミング アメリカ合衆国55133−3427ミネソタ州セ ント・ポール、ポスト・オフィス・ボック ス33427 (72)発明者 ラッセル・イー・ブレット アメリカ合衆国55133−3427ミネソタ州セ ント・ポール、ポスト・オフィス・ボック ス33427 (72)発明者 ロビン・イー・ライト アメリカ合衆国55133−3427ミネソタ州セ ント・ポール、ポスト・オフィス・ボック ス33427 (72)発明者 ジェフリー・エイチ・トーキー アメリカ合衆国55133−3427ミネソタ州セ ント・ポール、ポスト・オフィス・ボック ス33427 Fターム(参考) 4D075 AA06 AA76 BB79X CA48 EA05 EB16 EB22 4F033 QA01 QB02X QB02Y QB15Y QB18 QD07 QD21 QD25 QF15Y QG33 QG38

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材の少なくとも一部の表面上にコーティング層を形成する
    方法であって、 (a)キャリアーガスの流れを流体組成物の流れと衝突させ、実質的にすべて
    の流体組成物が気化して凝縮温度を有する蒸気が発生するような条件下で前記衝
    突が行われる工程と、 (b)前記蒸気を前記基材の前記表面まで流動させ、前記表面が前記蒸気の前
    記凝縮温度より低温である工程と、 (c)前記表面上で前記蒸気が液体として凝縮して前記コーティング層を形成
    する工程とを含む方法。
  2. 【請求項2】 前記流体組成物が前記キャリアーガスに対して実質的に非反
    応性である請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記蒸気が第1蒸気であって、前記方法が、 (1)第2キャリアーガスの流れを第2流体組成物の流れと衝突させ、実質的
    にすべての前記第2流体組成物が気化して第2凝縮温度を有する第2蒸気が発生
    するような条件下で前記衝突が行われる工程と、 (2)前記蒸気を表面が前記蒸気の前記凝縮温度よりも低温である前記基材の
    前記表面まで流動させる工程と、 (3)前記表面上で前記第2蒸気が凝集してコーティング層の一部を形成する
    工程とをさらに含む請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記流体組成物が、互いに反応することができる第1および
    第2成分を少なくとも含み、それによって前記基材上に形成された前記コーティ
    ング層が、前記第1および第2成分から誘導される反応生成物を含む請求項1に
    記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記キャリアーガスが前記流体組成物の少なくとも1つの成
    分の沸点よりも低い温度に加熱される請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 工程(b)における前記蒸気が、前記衝突が起こる入口端と
    、前記蒸気を前記基材の前記表面上に向けるオリフィスを有する放出端とを有す
    るチャンバー中を流動し、前記チャンバーが前記蒸気の前記凝縮温度より高温に
    維持される請求項1に記載の方法。
  7. 【請求項7】 工程(a)が、キャリアーガスと流体組成物の前記流れのそ
    れぞれを少なくともノズルの第1および第2オリフィスから前記流れが衝突する
    ように放出することを含む請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 (a)前記第1オリフィスが、円環形であり、前記キャリア
    ーガスの流れが前記第1オリフィスから移動する際に、頂点に向かって内側に先
    細りする中空で実施的に円錐形のキャリアーガスの流れを放出するように適合し
    ており、前記キャリアーガスの流れは内部領域を有し、 (b)前記第2オリフィスが、前記キャリアーガスの流れの前記内部領域を通
    って前記キャリアーガスの流れと実質的に前記頂点において衝突するように前記
    流体組成物の流れを放出するように適合している請求項7に記載の方法。
  9. 【請求項9】 基材の少なくとも一部の表面にコーティング層を形成する方
    法であって、 (a)流体組成物を霧化する工程と、 (b)前記霧化流体組成物をキャリアーガスと接触させ、実質的にすべての前
    記霧化流体組成物の気化が起こって凝縮温度を有する蒸気が発生するような条件
    下で前記接触が行われる工程と、 (c)前記蒸気を前記基材の前記表面まで流動させ、前記表面が前記蒸気の前
    記凝縮温度より低温である工程と、 (d)前記表面上に前記蒸気を液体として凝縮させて前記コーティング層を形
    成する工程とを含む方法。
  10. 【請求項10】 前記流体組成物が実質的に溶剤を含まない請求項9に記載
    の方法。
  11. 【請求項11】 前記蒸気が第1蒸気であって、前記方法が、 (1)第2流体組成物を霧化する工程と、 (2)前記霧化第2流体組成物を第2キャリアーガスと接触させ、実質的にす
    べての前記霧化第2流体組成物の気化が起こって第2凝縮温度を有する第2蒸気
    が発生するような条件下で前記接触が行われる工程と、 (3)前記第2蒸気を前記基材の前記表面まで流動させ、前記表面が前記第2
    蒸気の前記凝縮温度より低温である工程と、 (4)前記表面上に前記第2蒸気を凝縮させて前記コーティング層の一部を形
    成する工程とをさらに含む請求項9に記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記流体組成物が少なくとも1種類の放射線硬化性成分を
    含み、前記方法が、前記凝縮した蒸気に前記コーティング層の固化に有効な線量
    の放射硬化エネルギーを照射する工程をさらに含む請求項9に記載の方法。
  13. 【請求項13】 前記流体組成物が硬化性ポリマーコーティング前駆体と、
    前記ポリマーコーティング前駆物質の硬化を促進するために有効な量の硬化剤と
    を含む請求項9に記載の方法。
  14. 【請求項14】 工程(b)が前記キャリアーガスがノズルの第1オリフィ
    スから放出され、前記流体組成物が同じノズルの第2オリフィスから放出される
    ことを含み、 (a)前記第1オリフィスが、円環形であり、前記キャリアーガスの流れが前
    記第1オリフィスから移動する際に、頂点に向かって内側に先細りする中空で実
    施的に円錐形のキャリアーガスの流れを放出するように適合しており、前記キャ
    リアーガスの流れが内部領域を有し、 (b)前記第2オリフィスが、前記キャリアーガスの流れの前記内部領域を通
    って前記キャリアーガスの流れと実質的に前記頂点において衝突するように前記
    流体組成物の流れを放出するように適合している請求項9に記載の方法
  15. 【請求項15】 (a)キャリアーガスを第1液体組成物の複数の気化した
    液滴と、実質的にすべての前記第1液体組成物が気化して凝縮温度を有する蒸気
    を発生するような条件下で接触させる入口領域を有するチャンバーと、 (b)前記第1液体組成物と前記キャリアーガスとが通過して前記チャンバー
    に入る入口端と、 (c)前記第1液体組成物のミストを前記チャンバ−内で発生させるための前
    記入口端の近傍に位置する霧化手段であって、前記霧化手段が、前記流体組成物
    を気化させるために前記第1流体組成物の少なくとも1つの流れと前記キャリア
    ーガスの少なくとも1つの流れとを放出して前記流れがノズル前方で衝突するよ
    うに適合させたノズルを含む霧化手段と、 (d)コーティングを行う基材を支持し冷却面を有する基材支持体であって、
    前記冷却面が前記蒸気の前記凝縮温度より低温に到達可能であり、前記冷却面は
    前記蒸気が前記冷却面まで流れることができる位置にある基材支持体とを含むコ
    ーティング装置。
  16. 【請求項16】 前記蒸気の前記凝縮温度よりも高温に前記チャンバーを維
    持するための加熱手段をさらに含む請求項15に記載のコーティング装置。
  17. 【請求項17】 前記ノズルが、 (a)前記ノズルに前記ガスが流入するためのガス流入口と、 (b)前記ガス流入口とは分離しており前記第1液体組成物が前記ノズルに流
    入するための第1液体流入口と、 (c)(i)前記第1液体組成物の少なくとも1つの流れをノズルから放出す
    るための少なくとも1つの第1液体放出口と、 (ii)ガスの少なくとも1つの流れを前記ノズルから放出して、前記第1液
    体組成物の前記放出した流れと衝突させてそれによって霧化するための少なくと
    も1つのガス放出口とを含む放出端と、 (d)前記第1液体流入口と前記第1液体放出口とを相互連絡する第1液体流
    路と、 (e)前記第1液体流路とは分離しており前記ガス流入口と少なくとも1つの
    ガス放出口とを相互連絡するガス流路とを含み、前記ガス流路が前記ガス流路の
    下流端よりも単位ノズル長当りの体積が大きいガスチャンバーを有し前記チャン
    バー内の前記ガスから前記第1組成物に熱が伝達できるように位置している請求
    項15に記載のコーティング装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016531749A (ja) * 2013-09-09 2016-10-13 ベネク・オサケユキテュアBeneq Oy 基板をコーティングする方法
JP2018507773A (ja) * 2015-02-04 2018-03-22 アウトラスト テクノロジーズ,リミテッド ライアビリティ カンパニー 相変化材料を含む熱管理フィルム

Families Citing this family (179)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6224948B1 (en) 1997-09-29 2001-05-01 Battelle Memorial Institute Plasma enhanced chemical deposition with low vapor pressure compounds
FR2774013B1 (fr) * 1998-01-23 2000-04-07 Jean Paul Garidel Procede de traitement thermique d'une piece a l'aide d'au moins un liquide de transfert thermique et four a condensation pour sa mise en oeuvre
US6546757B1 (en) * 1998-07-28 2003-04-15 Brown University Research Foundation Liquid spray pyrolysis method for the fabrication of optical fiber preforms, with reactant mixing
WO2000026973A1 (en) * 1998-11-02 2000-05-11 Presstek, Inc. Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
US6207239B1 (en) 1998-12-16 2001-03-27 Battelle Memorial Institute Plasma enhanced chemical deposition of conjugated polymer
US6228434B1 (en) 1998-12-16 2001-05-08 Battelle Memorial Institute Method of making a conformal coating of a microtextured surface
US6274204B1 (en) 1998-12-16 2001-08-14 Battelle Memorial Institute Method of making non-linear optical polymer
US6207238B1 (en) 1998-12-16 2001-03-27 Battelle Memorial Institute Plasma enhanced chemical deposition for high and/or low index of refraction polymers
US6217947B1 (en) 1998-12-16 2001-04-17 Battelle Memorial Institute Plasma enhanced polymer deposition onto fixtures
US6268695B1 (en) 1998-12-16 2001-07-31 Battelle Memorial Institute Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making
US6228436B1 (en) 1998-12-16 2001-05-08 Battelle Memorial Institute Method of making light emitting polymer composite material
US6503564B1 (en) * 1999-02-26 2003-01-07 3M Innovative Properties Company Method of coating microstructured substrates with polymeric layer(s), allowing preservation of surface feature profile
US6358570B1 (en) 1999-03-31 2002-03-19 Battelle Memorial Institute Vacuum deposition and curing of oligomers and resins
US6506461B2 (en) * 1999-03-31 2003-01-14 Battelle Memorial Institute Methods for making polyurethanes as thin films
US6503561B1 (en) * 1999-07-08 2003-01-07 Air Products And Chemicals, Inc. Liquid precursor mixtures for deposition of multicomponent metal containing materials
US6238734B1 (en) * 1999-07-08 2001-05-29 Air Products And Chemicals, Inc. Liquid precursor mixtures for deposition of multicomponent metal containing materials
US6229640B1 (en) * 1999-08-11 2001-05-08 Adc Telecommunications, Inc. Microelectromechanical optical switch and method of manufacture thereof
US7081277B1 (en) * 1999-10-22 2006-07-25 Fujitsu Limited Magnetic disk drive having a surface coating on a magnetic disk
US20090191342A1 (en) * 1999-10-25 2009-07-30 Vitex Systems, Inc. Method for edge sealing barrier films
US20100330748A1 (en) 1999-10-25 2010-12-30 Xi Chu Method of encapsulating an environmentally sensitive device
US6573652B1 (en) 1999-10-25 2003-06-03 Battelle Memorial Institute Encapsulated display devices
US6548912B1 (en) 1999-10-25 2003-04-15 Battelle Memorial Institute Semicoductor passivation using barrier coatings
US6623861B2 (en) 2001-04-16 2003-09-23 Battelle Memorial Institute Multilayer plastic substrates
US6866901B2 (en) 1999-10-25 2005-03-15 Vitex Systems, Inc. Method for edge sealing barrier films
US20070196682A1 (en) * 1999-10-25 2007-08-23 Visser Robert J Three dimensional multilayer barrier and method of making
US6413645B1 (en) 2000-04-20 2002-07-02 Battelle Memorial Institute Ultrabarrier substrates
US6492026B1 (en) 2000-04-20 2002-12-10 Battelle Memorial Institute Smoothing and barrier layers on high Tg substrates
DE10057491A1 (de) * 2000-11-20 2002-05-23 Aixtron Ag Vorrichtung und Verfahren zum Zuführen eines in die Gasform gebrachten flüssigen Ausgangsstoffes in einen CVD-Reaktor
DE10058700A1 (de) * 2000-11-25 2002-06-06 Saint Gobain Glasscheibe mit einem metallisch reflektierenden Schichtsystem
US6468595B1 (en) * 2001-02-13 2002-10-22 Sigma Technologies International, Inc. Vaccum deposition of cationic polymer systems
US20090208754A1 (en) * 2001-09-28 2009-08-20 Vitex Systems, Inc. Method for edge sealing barrier films
US7442227B2 (en) * 2001-10-09 2008-10-28 Washington Unniversity Tightly agglomerated non-oxide particles and method for producing the same
US6709514B1 (en) 2001-12-28 2004-03-23 Advanced Cardiovascular Systems, Inc. Rotary coating apparatus for coating implantable medical devices
US7119418B2 (en) * 2001-12-31 2006-10-10 Advanced Technology Materials, Inc. Supercritical fluid-assisted deposition of materials on semiconductor substrates
US7030168B2 (en) * 2001-12-31 2006-04-18 Advanced Technology Materials, Inc. Supercritical fluid-assisted deposition of materials on semiconductor substrates
US7208195B2 (en) * 2002-03-27 2007-04-24 Ener1Group, Inc. Methods and apparatus for deposition of thin films
US8900366B2 (en) * 2002-04-15 2014-12-02 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets
US8808457B2 (en) 2002-04-15 2014-08-19 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets
US7095009B2 (en) * 2002-05-21 2006-08-22 3M Innovative Properties Company Photopic detector system and filter therefor
US20050041292A1 (en) * 2002-05-21 2005-02-24 Wheatley John A. Visible wavelength detector systems and filters therefor
US6818291B2 (en) * 2002-08-17 2004-11-16 3M Innovative Properties Company Durable transparent EMI shielding film
US7215473B2 (en) 2002-08-17 2007-05-08 3M Innovative Properties Company Enhanced heat mirror films
US6929864B2 (en) * 2002-08-17 2005-08-16 3M Innovative Properties Company Extensible, visible light-transmissive and infrared-reflective film and methods of making and using the film
US6933051B2 (en) 2002-08-17 2005-08-23 3M Innovative Properties Company Flexible electrically conductive film
US7018713B2 (en) 2003-04-02 2006-03-28 3M Innovative Properties Company Flexible high-temperature ultrabarrier
US7510913B2 (en) * 2003-04-11 2009-03-31 Vitex Systems, Inc. Method of making an encapsulated plasma sensitive device
US7648925B2 (en) 2003-04-11 2010-01-19 Vitex Systems, Inc. Multilayer barrier stacks and methods of making multilayer barrier stacks
US20040202708A1 (en) * 2003-04-14 2004-10-14 3M Innovative Properties Company Transdermal drug delivery device with translucent inorganic barrier layer
JP2004335564A (ja) * 2003-05-01 2004-11-25 Japan Pionics Co Ltd 気化器
US7442412B2 (en) * 2003-05-08 2008-10-28 Texas Instruments Incorporated Hydrophobic coating for oxide surfaces
US7051282B2 (en) * 2003-06-13 2006-05-23 Microsoft Corporation Multi-layer graphical user interface
US7758699B2 (en) * 2003-06-26 2010-07-20 Superpower, Inc. Apparatus for and method of continuous HTS tape buffer layer deposition using large scale ion beam assisted deposition
US20040261707A1 (en) * 2003-06-26 2004-12-30 Venkat Selvamanickam Apparatus for and method of cooling and positioning a translating substrate tape for use with a continuous vapor deposition process
US7052772B2 (en) * 2003-08-14 2006-05-30 3M Innovative Properties Company Material for packaging electronic components
US20050079278A1 (en) * 2003-10-14 2005-04-14 Burrows Paul E. Method and apparatus for coating an organic thin film on a substrate from a fluid source with continuous feed capability
FI115209B (fi) * 2003-12-15 2005-03-31 Waertsilae Finland Oy Järjestely vesialuksessa
JP4787173B2 (ja) * 2003-12-30 2011-10-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 色シフティング再帰反射体およびその製造方法
US7399668B2 (en) * 2004-09-30 2008-07-15 3M Innovative Properties Company Method for making electronic devices having a dielectric layer surface treatment
KR101165487B1 (ko) * 2004-10-29 2012-07-13 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 시클릭 올레핀 공중합체를 혼입한 광학 필름
US7435353B2 (en) * 2004-12-09 2008-10-14 President And Fellows Of Harvard College Patterning by energetically-stimulated local removal of solid-condensed-gas layers and solid state chemical reactions produced with such layers
US20070014018A1 (en) * 2004-12-30 2007-01-18 Wheatley John A Internal components of optical device comprising hardcoat
ES2525324T3 (es) * 2005-04-26 2014-12-22 Bayer Intellectual Property Gmbh Nuevo aparato y procedimiento de recubrimiento de sustratos portadores para la detección de analitos mediante un procedimiento de detección por afinidad
US20070020451A1 (en) 2005-07-20 2007-01-25 3M Innovative Properties Company Moisture barrier coatings
US7767498B2 (en) * 2005-08-25 2010-08-03 Vitex Systems, Inc. Encapsulated devices and method of making
US8945684B2 (en) * 2005-11-04 2015-02-03 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Process for coating an article with an anti-fouling surface coating by vacuum evaporation
US8658248B2 (en) * 2005-12-29 2014-02-25 3M Innovative Properties Company Method for atomizing material for coating processes
US20070194470A1 (en) * 2006-02-17 2007-08-23 Aviza Technology, Inc. Direct liquid injector device
US20070237897A1 (en) * 2006-03-28 2007-10-11 Erich Thallner Device and method for coating a microstructured and/or nanostructured structural substrate
EP1840940B8 (de) * 2006-03-28 2014-11-26 Thallner, Erich, Dipl.-Ing. Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines mikro- und/oder nanostrukturierten Struktursubstrats
JP2007260895A (ja) 2006-03-28 2007-10-11 Erich Thallner マイクロ構造および/またはナノ構造の構造基板をコーティングするための装置および方法
US20070243258A1 (en) * 2006-04-13 2007-10-18 3M Innovative Properties Company Method and apparatus for forming crosslinked chromonic nanoparticles
US20070285778A1 (en) * 2006-06-13 2007-12-13 Walker Christopher B Optical films comprising high refractive index and antireflective coatings
US20070285779A1 (en) * 2006-06-13 2007-12-13 Walker Christopher B Optical films comprising high refractive index and antireflective coatings
US20080006819A1 (en) * 2006-06-19 2008-01-10 3M Innovative Properties Company Moisture barrier coatings for organic light emitting diode devices
US20080033336A1 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 Sangha Jangbir S Specimen collector with dissolvable coating
WO2008079209A1 (en) * 2006-12-19 2008-07-03 Veeco Instruments Inc. Vapor deposition sources and methods
EP2125361B1 (en) * 2006-12-28 2019-01-23 3M Innovative Properties Company Nucleation layer for thin film metal layer formation
US8120854B2 (en) * 2006-12-28 2012-02-21 3M Innovative Properties Company Interference films having acrylamide layer and method of making same
JP5249240B2 (ja) * 2006-12-29 2013-07-31 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 金属アルコキシド含有フィルムの硬化方法
WO2008083304A2 (en) * 2006-12-29 2008-07-10 3M Innovative Properties Company Method of making inorganic or inorganic/organic hybrid films
US8084102B2 (en) * 2007-02-06 2011-12-27 Sion Power Corporation Methods for co-flash evaporation of polymerizable monomers and non-polymerizable carrier solvent/salt mixtures/solutions
EP2193024A4 (en) 2007-09-25 2013-11-06 Entrotech Inc PAINT SHEET FILMS, COMPOUNDS THEREOF AND RELATED METHODS
WO2009055989A1 (en) * 2007-10-30 2009-05-07 Acm Research (Shanghai) Inc. Method and apparatus to prewet wafer surface for metallization from electrolyte solution
US9295167B2 (en) 2007-10-30 2016-03-22 Acm Research (Shanghai) Inc. Method to prewet wafer surface
EP2212726A1 (en) * 2007-10-30 2010-08-04 3M Innovative Properties Company Multi-stack optical bandpass film with electro magnetic interference shielding for optical display filters
CN104327758A (zh) * 2007-12-28 2015-02-04 3M创新有限公司 柔性封装膜系统
BRPI0821436A2 (pt) * 2007-12-28 2015-06-16 3M Innovative Properties Co Filmes refletores de infravermelho para controle solar e outros usos
US10981371B2 (en) 2008-01-19 2021-04-20 Entrotech, Inc. Protected graphics and related methods
JP5231028B2 (ja) * 2008-01-21 2013-07-10 東京エレクトロン株式会社 塗布液供給装置
JP5421237B2 (ja) * 2008-02-29 2014-02-19 株式会社康井精機 複合材料シートの製造装置
KR101554890B1 (ko) * 2008-04-16 2015-09-22 단프로텍스 에이/에스 물품의 함침을 위한 방법 및 장치
US8350451B2 (en) * 2008-06-05 2013-01-08 3M Innovative Properties Company Ultrathin transparent EMI shielding film comprising a polymer basecoat and crosslinked polymer transparent dielectric layer
EP2304069A4 (en) 2008-06-30 2012-01-04 3M Innovative Properties Co PROCESS FOR PRODUCING INORGANIC OR INORGANIC / ORGANIC HYBRID BARRIER FILMS
US9790318B2 (en) * 2008-09-26 2017-10-17 entrotech, inc Methods for polymerizing films in-situ
KR20110071069A (ko) * 2008-10-23 2011-06-28 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 고밀도 데이터 저장을 위한 방법 및 장치
US20110223434A1 (en) * 2008-11-17 2011-09-15 Roehrig Mark A Gradient composition barrier
KR20110110187A (ko) * 2008-12-18 2011-10-06 비코 인스트루먼트 아이엔씨. 열확산 오리피스를 갖는 진공 증착원
US9337446B2 (en) * 2008-12-22 2016-05-10 Samsung Display Co., Ltd. Encapsulated RGB OLEDs having enhanced optical output
US9184410B2 (en) 2008-12-22 2015-11-10 Samsung Display Co., Ltd. Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output
US20100167002A1 (en) * 2008-12-30 2010-07-01 Vitex Systems, Inc. Method for encapsulating environmentally sensitive devices
EP2408947A1 (en) * 2009-03-19 2012-01-25 Anthony Herbert Apparatus and method for deposition of functional coatings
WO2010110871A2 (en) * 2009-03-25 2010-09-30 Veeco Instruments Inc. Deposition of high vapor pressure materials
CN102449508B (zh) 2009-04-15 2014-12-17 3M创新有限公司 光学膜
US9291752B2 (en) 2013-08-19 2016-03-22 3M Innovative Properties Company Retroreflecting optical construction
US9464179B2 (en) 2009-04-15 2016-10-11 3M Innovative Properties Company Process and apparatus for a nanovoided article
WO2010120468A1 (en) 2009-04-15 2010-10-21 3M Innovative Properties Company Process and apparatus for a nanovoided article
EP2419265A4 (en) 2009-04-15 2012-12-05 3M Innovative Properties Co REFLECTIVE OPTICAL CONSTRUCTION
SG178225A1 (en) 2009-08-03 2012-03-29 3M Innovative Properties Co Process for forming optically clear conductive metal or metal alloy thin films and films made therefrom
WO2011062836A1 (en) 2009-11-18 2011-05-26 3M Innovative Properties Company Multi-layer optical films
US20120236528A1 (en) * 2009-12-02 2012-09-20 Le John D Multilayer emi shielding thin film with high rf permeability
US8590338B2 (en) 2009-12-31 2013-11-26 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Evaporator with internal restriction
US8828303B2 (en) 2010-03-31 2014-09-09 Entrotech, Inc. Methods for polymerizing films in-situ using a radiation source
WO2011129832A1 (en) 2010-04-15 2011-10-20 3M Innovative Properties Company Retroreflective articles including optically active areas and optically inactive areas
US9618663B2 (en) 2010-04-15 2017-04-11 3M Innovative Properties Company Retroreflective articles including optically active areas and optically inactive areas
KR101954457B1 (ko) 2010-04-15 2019-03-05 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 광학적 활성 영역 및 광학적 불활성 영역을 포함하는 재귀반사성 물품
US8555965B2 (en) * 2010-05-06 2013-10-15 Schlumberger Technology Corporation High frequency surface treatment methods and apparatus to extend downhole tool survivability
KR101913870B1 (ko) 2010-07-02 2018-10-31 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 배리어 조립체
US9254506B2 (en) 2010-07-02 2016-02-09 3M Innovative Properties Company Moisture resistant coating for barrier films
RU2445150C1 (ru) * 2010-08-09 2012-03-20 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный горный институт имени Г.В. Плеханова (технический университет)" Способ очистки от углеводородов парогазовой среды
TW201209219A (en) * 2010-08-16 2012-03-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Coating apparatus and coating method
DE112011102927T5 (de) * 2010-09-03 2013-07-04 Ulvac, Inc. Verfahren zum Ausbilden eines Schutzfilms und Verfahren zur Oberflächenabflachung
BR112013006753A2 (pt) 2010-10-06 2016-06-21 3M Innovative Properties Co artigos antirreflexivos com revestimentos à base de nanossílica e camada de barreira
KR20170137206A (ko) 2010-10-06 2017-12-12 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 나노실리카계 코팅을 갖는 반사방지 물품
DE102011014311A1 (de) * 2011-03-17 2012-09-20 Centrotherm Thermal Solutions Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum Einbringen eines Prozessgases in einem Prozessraum einer Prozesskammer
SG2014007876A (en) 2011-08-04 2014-03-28 3M Innovative Properties Co Edge protected barrier assemblies
EP2739765B1 (en) 2011-08-05 2019-01-16 3M Innovative Properties Company Systems and methods for processing vapor
KR101930849B1 (ko) * 2011-12-28 2018-12-20 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치 및 그것을 이용한 박막 증착 방법
EP2868767B1 (en) * 2012-06-29 2019-08-07 ULVAC, Inc. Organic thin film formation device
SG11201500952VA (en) 2012-08-08 2015-03-30 3M Innovative Properties Co Photovoltaic devices with encapsulating barrier film
JP6316813B2 (ja) 2012-08-08 2018-04-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー バリアフィルム構築及びその作製方法
TWI610806B (zh) 2012-08-08 2018-01-11 3M新設資產公司 障壁膜,製造該障壁膜之方法,及包含該障壁膜之物件
US10784455B2 (en) 2012-08-08 2020-09-22 3M Innovative Properties Company Coatings for barrier films and methods of making and using the same
CN104768957B (zh) 2012-08-08 2019-01-22 3M创新有限公司 脲(多)-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯-硅烷组合物及包含所述组合物的制品
US20150302990A1 (en) 2012-11-21 2015-10-22 3M Innovative Properties Company Multilayer film including first and second dielectric layers
US20150294793A1 (en) 2012-11-21 2015-10-15 3M Innovative Properties Company Multilayer film including first and second dielectric layers
TWI624519B (zh) 2012-12-20 2018-05-21 3M新設資產公司 包含具有吸收紫外線基團之寡聚物之氟聚合物組合物
JP6074059B2 (ja) 2012-12-20 2017-02-01 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 紫外線吸収基を含むコポリマー、及びそれを含むフルオロポリマー組成物
JP2016519039A (ja) * 2013-03-15 2016-06-30 エヌディーエスユー リサーチ ファウンデーション 直接注入による液状ヒドロロシラン組成物を用いたシリコン含有材料の合成方法
US20150024522A1 (en) * 2013-07-22 2015-01-22 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Organometal materials and process
CN105431477B (zh) 2013-07-24 2019-09-17 3M创新有限公司 粘性阻挡膜构造
US9782955B2 (en) 2013-09-24 2017-10-10 3M Innovative Properties Company Transferable transparent conductive patterns and display stack materials
EP3084092B1 (en) 2013-12-19 2021-07-28 3M Innovative Properties Company Barrier films and vacuum insulated panels employing same
US10821240B2 (en) 2014-02-11 2020-11-03 Vapor Cartridge Technology Llc Methods and drug delivery devices using cannabis
US9380813B2 (en) * 2014-02-11 2016-07-05 Timothy McCullough Drug delivery system and method
US9220294B2 (en) 2014-02-11 2015-12-29 Timothy McCullough Methods and devices using cannabis vapors
KR101540969B1 (ko) 2014-05-28 2015-08-03 한국원자력연구원 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
KR101884576B1 (ko) 2014-06-25 2018-08-29 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 적어도 하나의 올리고머를 포함하는 플루오로중합체 조성물
US11110689B2 (en) 2014-06-25 2021-09-07 3M Innovative Properties Company Pressure sensitive adhesive composition including ultraviolet light-absorbing oligomer
CN106661400B (zh) 2014-06-25 2018-11-13 3M创新有限公司 包括紫外光吸收低聚物的压敏粘合剂组合物
CN105633300B (zh) * 2014-11-07 2018-03-06 罗门哈斯电子材料有限公司 金属有机材料和方法
RU2594423C1 (ru) * 2015-05-29 2016-08-20 Общество с ограниченной ответственностью "КОРА Инжиниринг" Установка для дозированной подачи компонентов композитного материала
KR20160147482A (ko) * 2015-06-15 2016-12-23 삼성전자주식회사 가스 혼합부를 갖는 반도체 소자 제조 설비
CN107709385B (zh) 2015-06-25 2020-06-12 3M创新有限公司 包含紫外光吸收基团的共聚物和包含该共聚物的组合物
WO2017003791A1 (en) 2015-06-30 2017-01-05 3M Innovative Properties Company Discontinuous coatings and methods of forming the same
CN107925010B (zh) 2015-08-17 2020-11-06 3M创新有限公司 阻挡膜构造
CN107922805B (zh) 2015-08-17 2020-09-15 3M创新有限公司 纳米粘土填充的阻挡粘合剂组合物
TW201726414A (zh) 2015-08-19 2017-08-01 3M新設資產公司 包括多層障壁總成之複合物品及其製造方法
TW201726411A (zh) 2015-08-19 2017-08-01 3M新設資產公司 包括多層障壁總成之複合物品及其製造方法
EP3337847B1 (en) 2015-08-19 2019-07-10 3M Innovative Properties Company Composite article and methods of making the same
US10658096B2 (en) 2016-03-04 2020-05-19 3M Innovative Properties Company Magnetic multilayer sheet
WO2017165522A1 (en) 2016-03-25 2017-09-28 3M Innovative Properties Company Multilayer barrier films
CN108884567A (zh) 2016-04-01 2018-11-23 3M创新有限公司 辊到辊原子层沉积设备和方法
CH712376A1 (de) * 2016-04-19 2017-10-31 Camag Derivatisierungsgerät und -verfahren.
JP2019523804A (ja) 2016-06-16 2019-08-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ナノ粒子充填バリア接着剤組成物
EP3472253A4 (en) 2016-06-16 2019-12-25 3M Innovative Properties Company BARRIER FILLED ADHESIVE COMPOSITIONS WITH NANOPARTICLES
CN110139756A (zh) 2016-09-20 2019-08-16 安特科技有限公司 减少缺陷的漆膜贴花、制品和方法
EP3533090A1 (en) 2016-10-28 2019-09-04 3M Innovative Properties Company Nanostructured article
CN106901460A (zh) * 2017-03-22 2017-06-30 岳西县海创饰品有限公司 一种利用蜡蒸汽冷凝附着的拉链打蜡装置
CN106880135A (zh) * 2017-03-22 2017-06-23 岳西县海创饰品有限公司 一种拉链打蜡设备
CN110476268A (zh) 2017-03-30 2019-11-19 3M创新有限公司 转移制品
CN110536945B (zh) 2017-04-21 2022-04-29 3M创新有限公司 阻隔性粘合剂组合物和制品
US10510995B1 (en) * 2017-09-28 2019-12-17 Sharp Kabushiki Kaisha Film formation method and method of manufacturing display device using the same
CN109628910B (zh) * 2017-10-07 2023-06-30 株式会社Flosfia 形成膜的方法
US11591501B2 (en) 2017-12-06 2023-02-28 3M Innovative Properties Company Barrier adhesive compositions and articles
EP4030941A1 (en) 2019-09-16 2022-07-27 Vapor Cartridge Technology LLC Drug delivery system with stackable substrates
EP4260378A1 (en) 2020-12-09 2023-10-18 3M Innovative Properties Company Barrier assembly for solar cells
EP4341086A1 (en) 2021-05-19 2024-03-27 3M Innovative Properties Company Packaged abrasive articles
WO2022243772A1 (en) 2021-05-20 2022-11-24 3M Innovative Properties Company Micro-cut patterned article and method of making same
WO2024105565A1 (en) 2022-11-17 2024-05-23 3M Innovative Properties Company Structured ultraviolet light shielding articles and solar arrays including the same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60239921A (ja) * 1984-05-11 1985-11-28 Fujitsu Ltd 磁気記録媒体表面の潤滑膜形成方法
JPH03238061A (ja) * 1990-02-15 1991-10-23 Nordson Kk ノズル孔より流出する液体又は溶融体をその周辺よりの気体噴出流により偏向分配する方法
JPH05138083A (ja) * 1991-11-15 1993-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液体の微粒化装置
JPH0829273B2 (ja) * 1988-08-24 1996-03-27 マークテック株式会社 複数のノズルを持つ二流体スプレーガン
JP2543337B2 (ja) * 1985-07-22 1996-10-16 ノ−ドソン株式会社 熱可塑性接着剤の塗布方法
JPH08512256A (ja) * 1993-10-04 1996-12-24 カタリナ コーティングス,インコーポレイティド コンデンサーの誘電体及び酸素バリヤーを形成するのに有用な架橋アクリレートコーティング材料

Family Cites Families (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3379803A (en) * 1964-05-04 1968-04-23 Union Carbide Corp Coating method and apparatus for deposition of polymer-forming vapor under vacuum
US3374111A (en) * 1964-06-30 1968-03-19 Ibm Method for depositing thin dielectric polymer films
GB1168641A (en) * 1966-05-19 1969-10-29 British Iron Steel Research Formation of Polymer Coatings on Substrates.
US3518111A (en) * 1966-12-01 1970-06-30 Gen Electric Photopolymerized film,coating and product,and method of forming
US3665269A (en) * 1969-12-29 1972-05-23 Gen Electric Capacitors having a photopolymerized dielectric film
FR2110622A5 (ja) * 1970-10-23 1972-06-02 Commissariat Energie Atomique
CA1071035A (en) * 1975-01-20 1980-02-05 Rudolph J. Angelo Gas-barrier coated films, sheets or foils and method of preparation
US4104438A (en) * 1975-01-20 1978-08-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Gas-barrier coated films, sheets or foils and method of preparation
US4076866A (en) * 1975-03-30 1978-02-28 Massachusetts Institute Of Technology Method of growing films by flash vaporization
US4325986A (en) * 1979-05-29 1982-04-20 University Of Delaware Method for continuous deposition by vacuum evaporation
US4290384A (en) * 1979-10-18 1981-09-22 The Perkin-Elmer Corporation Coating apparatus
JPS57134558A (en) * 1981-02-16 1982-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd Production of organic vapor deposited thin film
US4734451A (en) * 1983-09-01 1988-03-29 Battelle Memorial Institute Supercritical fluid molecular spray thin films and fine powders
US4734227A (en) * 1983-09-01 1988-03-29 Battelle Memorial Institute Method of making supercritical fluid molecular spray films, powder and fibers
US5097800A (en) * 1983-12-19 1992-03-24 Spectrum Control, Inc. High speed apparatus for forming capacitors
US4842893A (en) * 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US5125138A (en) * 1983-12-19 1992-06-30 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same
US5018048A (en) * 1983-12-19 1991-05-21 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making
US5032461A (en) * 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
US4499520A (en) * 1983-12-19 1985-02-12 General Electric Company Capacitor with dielectric comprising poly-functional acrylate polymer and method of making
DE3571772D1 (en) * 1984-03-21 1989-08-31 Ulvac Corp Improvements in or relating to the covering of substrates with synthetic resin films
US4722515A (en) * 1984-11-06 1988-02-02 Spectrum Control, Inc. Atomizing device for vaporization
US4682565A (en) * 1984-11-19 1987-07-28 Sfe Technologies Vapor nozzle with gas barrier bars
EP0242460A1 (en) * 1985-01-18 1987-10-28 SPECTRUM CONTROL, INC. (a Pennsylvania corporation) Monomer atomizer for vaporization
DE3682130D1 (de) * 1985-07-15 1991-11-28 Japan Res Dev Corp Verfahren zur herstellung von ultrafeinen organischen verbindungen.
US4675270A (en) * 1986-02-10 1987-06-23 Loctite (Ireland) Limited Imaging method for vapor deposited photoresists of anionically polymerizable monomer
US4954371A (en) * 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
US4771946A (en) * 1986-11-13 1988-09-20 Ashland Oil, Inc. Modified spray guns for vaporous amine-assisted spray coatings and method therefor
IT1199795B (it) * 1986-12-17 1988-12-30 Ausimont Spa Processo per il consolidamento di materiali a struttura discontinua
EP0283311B1 (en) * 1987-03-18 2001-08-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Thin film forming method
US4891249A (en) * 1987-05-26 1990-01-02 Acumeter Laboratories, Inc. Method of and apparatus for somewhat-to-highly viscous fluid spraying for fiber or filament generation, controlled droplet generation, and combinations of fiber and droplet generation, intermittent and continuous, and for air-controlling spray deposition
US5316579A (en) * 1988-12-27 1994-05-31 Symetrix Corporation Apparatus for forming a thin film with a mist forming means
US5456945A (en) * 1988-12-27 1995-10-10 Symetrix Corporation Method and apparatus for material deposition
DE3921255A1 (de) * 1989-06-29 1991-01-03 Krebsoege Gmbh Sintermetall Verfahren zur erzeugung eines in einem traegergasstrom foerderbaren fluessigkeitsnebels und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
US5090985A (en) * 1989-10-17 1992-02-25 Libbey-Owens-Ford Co. Method for preparing vaporized reactants for chemical vapor deposition
US5190592A (en) * 1990-05-02 1993-03-02 Commissariat A L'energie Atomique Aerosol injection system for producing composite layers by pyrolysis
US5229171A (en) * 1991-12-23 1993-07-20 Research Triangle Institute Apparatus and method for uniformly coating a substrate in an evacuable chamber
DE69218152T2 (de) * 1991-12-26 1997-08-28 Canon Kk Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen Schicht mittels CVD, unter Verwendung von flüssigem Rohstoff und dazu geeignete Vorrichtung
JP3222518B2 (ja) * 1991-12-26 2001-10-29 キヤノン株式会社 液体原料気化装置および薄膜形成装置
DE4202652C2 (de) * 1992-01-30 1996-03-28 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Aufbringen einer UV- und/oder elektronenstrahlempfindlichen Lackschicht
NL9200415A (nl) * 1992-03-06 1993-10-01 Bronkhorst High Tech Bv Werkwijze voor het omzetten van een vloeistofstroom in een gasstroom, en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
US5271957A (en) * 1992-06-18 1993-12-21 Eastman Kodak Company Chemical vapor deposition of niobium and tantalum oxide films
FR2704558B1 (fr) 1993-04-29 1995-06-23 Air Liquide Procede et dispositif pour creer un depot d'oxyde de silicium sur un substrat solide en defilement.
US5440446A (en) * 1993-10-04 1995-08-08 Catalina Coatings, Inc. Acrylate coating material
US5630878A (en) * 1994-02-20 1997-05-20 Stec Inc. Liquid material-vaporizing and supplying apparatus
US5492724A (en) * 1994-02-22 1996-02-20 Osram Sylvania Inc. Method for the controlled delivery of vaporized chemical precursor to an LPCVD reactor
US5478014A (en) * 1994-04-20 1995-12-26 Hynds; James E. Method and system for hot air spray coating and atomizing device for use therein
US5776254A (en) * 1994-12-28 1998-07-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Apparatus for forming thin film by chemical vapor deposition
US5607789A (en) * 1995-01-23 1997-03-04 Duracell Inc. Light transparent multilayer moisture barrier for electrochemical cell tester and cell employing same
US5540959A (en) * 1995-02-21 1996-07-30 Howard J. Greenwald Process for preparing a coated substrate
US5877895A (en) * 1995-03-20 1999-03-02 Catalina Coatings, Inc. Multicolor interference coating
US5653813A (en) * 1995-04-03 1997-08-05 Novellus Systems, Inc. Cyclone evaporator
US5811183A (en) 1995-04-06 1998-09-22 Shaw; David G. Acrylate polymer release coated sheet materials and method of production thereof
US5681615A (en) * 1995-07-27 1997-10-28 Battelle Memorial Institute Vacuum flash evaporated polymer composites
US5711994A (en) * 1995-12-08 1998-01-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Treated nonwoven fabrics
US5958510A (en) * 1996-01-08 1999-09-28 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for forming a thin polymer layer on an integrated circuit structure
JP2002502465A (ja) * 1997-06-02 2002-01-22 エムエスピー・コーポレーション 蒸気発生および膜析出のための方法及び装置
US5882416A (en) * 1997-06-19 1999-03-16 Advanced Technology Materials, Inc. Liquid delivery system, heater apparatus for liquid delivery system, and vaporizer
US6203898B1 (en) 1997-08-29 2001-03-20 3M Innovatave Properties Company Article comprising a substrate having a silicone coating

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60239921A (ja) * 1984-05-11 1985-11-28 Fujitsu Ltd 磁気記録媒体表面の潤滑膜形成方法
JP2543337B2 (ja) * 1985-07-22 1996-10-16 ノ−ドソン株式会社 熱可塑性接着剤の塗布方法
JPH0829273B2 (ja) * 1988-08-24 1996-03-27 マークテック株式会社 複数のノズルを持つ二流体スプレーガン
JPH03238061A (ja) * 1990-02-15 1991-10-23 Nordson Kk ノズル孔より流出する液体又は溶融体をその周辺よりの気体噴出流により偏向分配する方法
JPH05138083A (ja) * 1991-11-15 1993-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液体の微粒化装置
JPH08512256A (ja) * 1993-10-04 1996-12-24 カタリナ コーティングス,インコーポレイティド コンデンサーの誘電体及び酸素バリヤーを形成するのに有用な架橋アクリレートコーティング材料

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016531749A (ja) * 2013-09-09 2016-10-13 ベネク・オサケユキテュアBeneq Oy 基板をコーティングする方法
JP2018507773A (ja) * 2015-02-04 2018-03-22 アウトラスト テクノロジーズ,リミテッド ライアビリティ カンパニー 相変化材料を含む熱管理フィルム

Also Published As

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