JP2001524386A - 蒸気コーティング装置および方法 - Google Patents
蒸気コーティング装置および方法Info
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Abstract
Description
の装置および方法に関する。より具体的に言えば、本発明は、コーティングする
材料を含む霧状にしたミストから蒸気を発生させるような装置および方法に関す
る。
なる種類のコーティング層のいくつかの例としては、接着剤コーティング層、プ
ライマーコーティング層、装飾コーティング層、保護硬質コーティング層、ワニ
スコーティング層、反射防止コーティング層、反射コーティング層、干渉コーテ
ィング層、剥離コーティング層、誘電性コーティング層、フォトレジストコーテ
ィング層、導電性コーティング層、非線形光学コーティング層、エレクトロクロ
ミック/エレクトロルミネセントコーティング層、バリアーコーティング層、生
物学的活性コーティング層、生物学的不活性コーティング層、などが挙げられる
。このようなコーティング層は、多くの異なる種類の材料から作られ多種多様な
形状の基材に適用することができる。例えば、材料に関しては、基材は、金属、
木材、布、ポリマー、セラミック、紙、鉱物、ガラス、複合材料などであっても
よい。形状に関しては、基材は、平坦、湾曲、波形、ねじれ、微細構造、平滑、
粗面、多孔質、粒子状、繊維状、中空形状、三次元、規則的または不規則的表面
などであってもよい。
混合物(エマルション、溶液、スラリー、2相流体混合物などであってもよい)
を、吹き付け、ロールコーティング、はけ塗り、スピンコーティングなどの適し
たコーティング方法を用いて基材に適用する。次に、通常はコーティング層を固
化させるために、コーティングされた組成物を乾燥および硬化させる。乾燥中に
、溶剤がコーティング層から除去され環境中に廃棄されるあるいは回収される。
、溶剤は、コーティング組成物が適切なコーティング剤粘度を得るために役立っ
ている。また溶剤は、コーティング組成物が基材に均一に適用され均一なコーテ
ィング層を形成できるようにするためにも役立つ。また溶剤によって、組成物が
許容できる貯蔵寿命をもつようにすることもできる。
境中の廃棄物となる。溶剤が有害である場合には、このことは特に問題となる。
実際、有害な溶剤の廃棄には、廃棄による環境の被害を最小限にするための政府
の専門家による高価で念入りな廃棄計画の規制が関与する傾向がある。従って、
溶剤の回収が溶剤の廃棄よりも好ましいことも多い。しかし、溶剤の回収も、溶
剤の廃棄と同様にいくつかの欠点に悩まされる。溶剤の回収には、高価な手順お
よび装置が必要となりがちである。
。従って、溶剤の廃棄または回収が必要という負担を避けるために、溶剤の使用
を最小限にする、より好ましくは無溶剤の方法でコーティング作業を行う方法を
検討することが望ましい。
以上の成分の溶解を助けるために効果的である比較的少量の溶剤を含む多種多様
のコーティング可能な組成物からコーティング層を形成することができる非常に
汎用性のあるコーティングシステムおよび方法を発見した。これによって、従来
のコーティング方法で使用される溶剤に関するすべての環境的欠点や問題が解消
される。
複数の微細な液滴を形成するという概念に基づいている。液滴をキャリアーガス
と接触させることによって、液滴の沸点よりも十分に低い温度でさえも液滴が気
化する。キャリアーガスと混合した蒸気の分圧は蒸気の飽和圧よりも十分低いの
で、気化は急速かつ完全に進行する。ガスを加熱する場合は、ガスによって気化
の熱的/力学的エネルギーが得られる。
凝縮点よりも十分に低い温度に維持する。これによって蒸気は、種々の硬化機構
によって後に硬化させることが希望するなら可能である薄く、均一で、実質的に
欠陥のないコーティング層として凝縮する。このコーティング層は連続的でも不
連続的でもよい。本発明は、約0.001μm〜約5μmの範囲内の厚さを有す
る薄膜を形成するために特に有用である。より厚いコーティング層は、基材の蒸
気への露出時間を延長する、流体組成物の流速を増加させる、キャリアーガス温
度を上昇させる、および/またはキャリアーガスの圧力を増加させることによっ
て形成することができる。可撓性ウェブ基材の場合、基材を蒸気にさらす時間を
延長することは、システムに多数の蒸気源を取り付けるか、またはシステムに通
すウェブの速度を低下させることによって行うことができる。異なる材料の層状
コーティング層は、各付着において異なるコーティング材料を使用してコーティ
ング層を連続的に付着させることによって形成することができる。
気化、およびコーティングは、雰囲気圧を含む任意の希望する圧力で行うことが
できる。このため、従来公知であった蒸気コーティング方法で一般に使用される
高価な減圧室に頼る必要がなくなる。別の利点としては、霧化、気化、およびコ
ーティングを比較的低温で行うことができるので、より高温における別の方法で
可能性のある分解を起こさずに温度感受性材料をコーティングすることができる
。また本発明は非常に汎用性が高い。ある程度の蒸気圧を有するほとんどすべて
の液体材料、または液体材料の組み合わせをコーティング層の形成に使用するこ
とができる。
霧化などの当技術分野において公知である任意の霧化技術を使用して行うことが
できる。特に好ましい実施態様では、キャリアーガス流を流体組成物流とを強く
衝突させることで霧化を行う。好ましくは、キャリアーガスを加熱し、流体流は
衝突時に層流となる。衝突のエネルギーによって層流の流体コーティング組成物
が非常に微細な液滴に分断されることが好ましい。一部の他の霧化技術で実現可
能なものと比較して、サイズ分布がより狭く、単位体積当りの液滴数密度がより
均一となるより小さい霧化液滴が形成されるので、霧化を実現するこの種類の衝
突の利用は特に好都合である。さらに、得られる液滴はほとんどすぐにキャリア
ーガスと均一に接触するため、急速かつ効率的に気化が起こる。本発明は減圧下
のコーティング作業のために使用することができるが、キャリアーガスは室内の
圧力を増加させる傾向にあるので霧化のためのガス衝突の利用は減圧室での使用
には適していない。
成する方法に関する。キャリアーガス流を流体組成物流と衝突される。衝突は、
流体組成物の実質的に全部が気化して凝縮温度を有する蒸気を形成するような条
件下で行われる。キャリアーガスの速度および運動量のために、蒸気は基材表面
に向かって流動する。この表面は、蒸気の凝縮温度よりも低温である。その結果
、蒸気が表面で凝縮して液体となりコーティング層が形成される。好都合には、
キャリアーガスの速度および運動量が蒸気に与えられ、この結果、凝縮したコー
ティング層の基材への付着を促進するために十分な力で強制的に基材に送られる
。
を霧状にして、キャリアーガスと接触させる。霧化した流体組成物の実質的にす
べてが気化して、凝縮温度を有する蒸気を形成するような条件で接触が行われる
。蒸気を基材表面に向けて流動させる。この表面は、蒸気の凝縮温度よりも低温
である。そのため、蒸気は表面上で凝縮してコーティング層を形成する。本発明
のこの態様では、流体流およびガス流をまず互いに混合して、次に従来の霧化手
段を使用して霧状にする。この方法では、得られる霧化した流体の液滴はすぐに
ガスと混合される。あるいは、従来の霧化手段を使用して流体を霧化し、キャリ
アーガス中に霧化した液滴を噴出するかあるいは別の方法で噴霧する。さらに別
の方法では、霧化した流体液滴をキャリアーガスと接触させることができるよう
な方法で、2つ以上の流体流を衝突させることで霧化を行うことができる。さら
に別の方法では、実際的な方法として、1段階で霧化と接触を行うために、少な
くとも1つの流体流を少なくとも1つのキャリアーガス流と接触させることがで
きる。
方法に関する。前の段落の方法を、1種類以上のポリマー前躯物質成分を含む流
体組成物を使用して行う。
流と接触させる工程を含む蒸気発生方法に関する。
蒸気を生成するような条件下でキャリアーガスを流体組成物の霧化した多数の液
滴と接触させる入口領域を有するチャンバーを含むコーティング装置にも関する
。この装置は、流体組成物およびキャリアーガスをチャンバーに送り込むための
入口端を含む。霧化手段は、チャンバー内で流体組成物のミストを発生させるた
めの入口端と隣接する位置にある。コーティングされる基材を支持し冷却面を有
する基材支持体が設けられている。冷却面は、蒸気の凝縮温度よりも低温に到達
させることができる。冷却面は、蒸気が冷却面に向かって流動できるように配置
している。
、また以下の詳細な説明において開示される形態のみに本発明が限定されること
を意図するものでもない。むしろこれらの実施態様は、当業者であれば本発明の
原理と実施を評価かつ理解できるように選択し説明している。
明のシステム10の一実施態様の略図であり、ここでコーティング層12は流体
組成物18の供給によって形成される。一般に、流体組成物18の流れ20は、
チャンバー17内の衝突点26でキャリアーガス24の流れ22と衝突する。衝
突のエネルギーによって流体流20が霧化し、その結果液滴28のミストが形成
される。理解しやすいようにするため、1つの流体流20と1つのキャリアーガ
ス流22のみを示している。別の方法では、複数の流体流および/またはキャリ
アーガス流を使用して、1つ以上の衝突点において連続的あるいは希望するなら
一度に衝突させることができる。また、コーティング作業中に基材16がチャン
バー17内部ににあるように示しているが、ある実施態様では基材16をチャン
バー17の外側に置くことができる。しかし、このような実施態様では、チャン
バー17には、気化した流体組成物18が通過して基材表面14に向かわせるこ
とができる適当なオリフィス(図示していない)が備えられる。
による層流条件下の流体流20の霧化によって、超音波霧化装置やスピニングデ
ィスク霧化装置などに依存したより従来の霧化技術で達成可能なもの、あるいは
液滴系に体積変化が起こりやすい乱流の液流条件に依存したものよりも、より狭
い粒径分布でより均一な数密度を有するより平均粒径の小さい液的28を得るこ
とができる。この性能は、薄く、実質的に欠陥のないコーティング層を均一な厚
さで形成するために特に有益である。
、より好ましくはすべての流体流20が衝突によって霧化するような広範囲の条
件下で発生させることができる。流れ22および20の衝突は、平均液滴サイズ
が200μm未満、好ましくは100μm未満、より好ましくは30μm未満の
液滴28が衝突によって得られるように行われることが好ましい。液滴サイズに
影響する傾向があると思われる要因としては、流れ22および20の形状、衝突
時の流れ22および20の速度、流体組成物18の性質などが挙げられる。
ることができる。図1aに概略的に示される代表的なアプローチによると、流れ
22および20は、2つの流れの間の角度が約10°〜約180°、好ましくは
15°〜135°、より好ましくは約30°〜60°、最も好ましくは43°〜
47°の範囲で互いの流れが近づきあうように噴出させて発生させることができ
る。特に、15°〜135°の好ましい範囲内の角度で衝突させた流れ22およ
び20は、衝突後に液滴28およびキャリアーガス24が基材16に向かって移
動するのを助けるような矢印VLで示される速度の側面成分を有する。図1aに 示される実施態様では、流体流20およびキャリアーガス流22は、ノズル23
のノズルオリフィス25aおよび25bから噴出させることで発生させる。ノズ
ルオリフィス25aおよび25bは任意の希望の形状であってよい。例えば、流
れ22および20は、環状形ノズルオリフィス、楕円形オリフィス、正方形オリ
フィス、平面の流れを放出するように適合させた長方形オリフィス、中空の流れ
を放出するように適合させたオリフィス、およびこれらの組み合わせなどから放
出させることができる。
構造を、流れ22および20を発生させるために本発明で使用することができる
。このようなノズル構造は、例えば、Lefebvre,A.H.によるAto
mization and Sprays,Hemisphere Publi
shing Corp.,U.S.A.(1989);Harariらによる、
Atomization and Sprays,vol.7,pp.97−1
13(1997)に記載されている。流れの衝突を発生させるために特に好まし
い本発明のノズル構造は、図5a、5b、および5cに示され、これについては
後述する。別の特に好ましい本発明のノズル構造は図7に示され、これについて
は後述する。
が要求される。例えば、衝突時の流体流20の速度が遅すぎると、流れ20は衝
突点26に到達するために十分な運動量をもつことができない。逆に、速度が速
すぎると、層流条件下で流体流20をノズルから放出することが困難となりうる
。キャリアーガス流22の速度が遅すぎると、液滴28の平均サイズが大きくな
りすぎて、効率的に気化できなかったり、希望する均一性のコーティング層12
が形成されなかったりすることがある。一方、キャリアーガス流22の速度は希
望するだけ速くすることができる。実際、ガスの速度が速いほど、粘稠/連続性
のより高い液体組成物をうまく霧化させ気化させることができる。しかし、ガス
速度がある範囲を超えると、基材の振動および非効率的な凝縮のためコーティン
グ層に悪影響が現われることがある。これらの関係のバランスをとるため、流れ
20は0.1メートル毎秒(m/s)〜30m/s、より好ましくは1m/s〜
20m/s、最も好ましくは約10m/sの速度であることが好ましく、キャリ
アーガス流22は40〜350m/s、より好ましくは約60〜300m/s、
最も好ましくは約180〜200m/sの速度であることが好ましい。
種類の流体組成物18からコーティング層を形成するために使用することができ
る。流体組成物には、接着剤コーティング層、プライマーコーティング層、装飾
コーティング層、保護硬質コーティング層、ワニスコーティング層、反射防止コ
ーティング層、反射コーティング層、干渉コーティング層、剥離コーティング層
、誘電性コーティング層、フォトレジストコーティング層、導電性コーティング
層、非線形光学コーティング層、エレクトロクロミック/エレクトロルミネセン
トコーティング層、バリアーコーティング層、生物学的活性コーティング層、生
物学的不活性コーティング層などの形成に効果的であるものを使用することがで
きる。
との接触によって気化が起こる程度に高い蒸気を有する少なくとも1種類の流体
成分を含む。より好ましくは、流体組成物18のすべての流体成分がこのような
蒸気圧を有する。一般に、実質的にすべての流体成分が気化してキャリアーガス
24と混合物を形成し、なお得られる気体混合物の分圧がその成分の飽和蒸気圧
より低くなる場合に、流体成分はこの目的のための十分に高い蒸気圧を有する。
代表的なコーティング作業では、好ましい流体成分は、標準温度および標準圧力
における蒸気圧が0.13mPa〜13kPa(1×10-6Torr〜100T
orr)の範囲内である。
非水性などであってよい。相の特性に関しては、流体組成物18は均一でも複数
の成分の多相混合物でもよいし、溶液、スラリー、多相流体組成物などの形態で
あってもよい。ポリマーコーティング層を形成するために、流体組成物18はモ
ノマー、オリゴマー、またはポリマーである1種類以上の成分を含むことができ
るが、通常比較的定分子量のポリマー、例えば、10,000未満、好ましくは
約7500未満、より好ましくは約4500未満の数平均分子量を有するポリマ
ーのみが、本発明の実施において気化させるための十分な蒸気圧を有するであろ
う。ここで使用する用語「モノマー」は、それ自身あるいは他のモノマーとの結
合によってオリゴマーまたはポリマーを生成することができる単独の1単位の分
子を意味する。用語「オリゴマー」は、2〜10個のモノマーが結合した化合物
を意味する。用語「ポリマー」は、11個以上のモノマーが結合した化合物を意
味する。
−炭素二重結合官能基を有する放射線硬化性モノマーおよびオリゴマー(この中
で、アルケン、(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド類、スチレン
類、およびアリルエーテル材料が代表的である)、フルオロポリエーテルモノマ
ー、オリゴマー、およびポリマー、フッ素化(メタ)アクリレート類、蝋、シリ
コーン類、シランカップリング剤、ジシラザン類、アルコール類、エポキシ類、
イソシアネート類、カルボン酸類、カルボン酸誘導体、カルボン酸とアルコール
とのエステル、カルボン酸無水物、芳香族化合物、芳香族ハロゲン化物、フェノ
ール類、フェニルエーテル類、キノン類、多環式芳香族化合物、非芳香族複素環
、アズラクトン類、フラン、ピロール、チオフェン、アゾール類、ピリジン、ア
ニリン、キノリン、イソキノリン、ジアジン類、ピロン類、ピリリウム塩類、テ
ルペン類、ステロイド類、アルカロイド類、アミン類、カルバメート類、尿素類
、アジド類、ジアゾ化合物、ジアゾニウム類、チオール類、スルフィド類、硫酸
エステル類、無水物、アルカン、ハロゲン化アルキル、エーテル類、アルケン、
アルキン、アルデヒド類、ケトン類、有機金属種、チタン酸塩、ジルコン酸塩、
アルミン酸塩、スルホン酸塩、ホスフィン類、ホスホニウム塩、ホスホン酸塩、
ホスホン酸エステル類、硫黄安定化カルボアニオン類、リン安定化カルボアニオ
ンル、炭水化物、アミノ酸類、ペプチド類、およびこれらの材料から誘導され必
要な蒸気圧を有する流体であるかまたは必要な蒸気圧を有する流体に転化するこ
とができる(例えば、溶融、溶解など)反応生成物、およびこれらの混合物など
の化学種が挙げられる。これらの材料の中で、パラフィン蝋などの周囲条件で固
体であるものは、本発明の原理を使用して処理するために、溶融させるか別の流
体成分に溶解することができる。
な成分が冷却されることが実質的に部分的な理由で、基材16上に固体のコーテ
ィング層を形成することができる。例えば通常、蝋の蒸気は基材表面14上に液
体として凝縮するが、その後コーティング層の温度が蝋の融点よりも低温に冷却
されるために固化する。この相変化挙動を示す他の有用なコーティング材料の例
としては、ナフタレンやアントラセンなどの多環式芳香族化合物が挙げられる。
であって、互いに反応してそれらの成分を含む反応物から誘導される反応生成物
のコーティング層が形成される流体成分を含むことができる。これらの成分はモ
ノマー、オリゴマー、および/または低分子量ポリマー(ここでは一括して「ポ
リマー前躯物質」と呼ぶ)であってもよく、これによって成分間の反応によりポ
リマーコーティング層を形成することができる。例えば、流体組成物18は、ジ
オールおよび/またはトリオールなどのポリオール成分、、ジイソシアネートお
よび/またはトリイソシアネートなどのポリイソシアネート、および任意に適当
な触媒を含むことができる(または、別の方法として、基材表面14を触媒で予
備処理して、基材表面14と接触するまでは反応成分が反応しないようにするこ
とができる)。コーティングが起こることで、次に成分が互いに反応してポリウ
レタンコーティング層を基材16上に形成することができる。
上の有機官能基を有するシランまたはチタン酸エステルモノマーを含むことがで
きる。このような有機官能基を有するシランまたはチタン酸エステルモノマーは
、一般に乾燥および加熱によって架橋させて、ポリマーシロキサン型またはチタ
ン酸エステル型マトリックスを形成することができる。多種多様な有機官能基含
有シランまたはチタン酸エステルモノマーを、本発明の実施に使用することがで
きる。代表例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン
、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、(メタ)アクリ
ロキシアルキルトリメトキシシラン、イソシアナトプロピルトリエトキシシラン
、メルカプトプロピルトリエトキシシラン、(メタ)アクリロキシトリクロロシ
ラン、フェニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、グリ
シドキシアルキルトリメトキシシラン、グリシドキシアルキルトリエトキシシラ
ン、グリシドキシアルキルトリクロロシラン、ペルフルオロアルキルトリアルコ
キシシラン、ペルフルオロメチルアルキルトリアルコキシシラン、ペルフルオロ
アルキルトリクロロシラン、ペルフロオロオクチルスルホンアミド−プロピルメ
トキシシラン、チタンイソプロポキシド、イソプロピルジメタクリル−イソステ
アロイルチタネート、トリ(N−エチレンジアミン)エチルチタン酸イソプロピ
ル、およびこれらの組み合わせなどが挙げられる。
体コーティング層を形成することができる少なくとも1つのポリマー前駆物質成
分を含むことができ、ここでこの成分はコーティング層を硬化および固化(すな
わち重合および/または架橋)させるための放射硬化エネルギーにさらすことで
液体コーティング層が硬化可能となるような放射線架橋性官能基を含む。放射硬
化エネルギーの代表例としては、電磁エネルギー(例えば、赤外エネルギー、マ
イクロ波エネルギー、可視光、紫外光など)、加速粒子(例えば、電子線エネル
ギー)、および/または放電によるエネルギー(例えば、コロナ、プラズマ、グ
ロー放電、または無声放電)が挙げられる。
供給源にさらすことによる架橋および/または重合反応に関係するモノマー、オ
リゴマーまたはポリマー主鎖(場合に応じて)に直接または間接的に結合する官
能基を意味する。一般にこのような官能基は、放射線に曝露することでカチオン
機構によって架橋する基だけではなく、フリーラジカル機構によって架橋する基
も含まれる。本発明の実施に適した放射線架橋性基の代表例としては、エポキシ
基、(メタ)アクリレート基、オレフィン系炭素−炭素二重結合、アリルエーテ
ル基、スチレン基、(メタ)アクリルアミド基、およびこれらの組み合わせなど
が挙げられる。
ーのそれぞれは、1つ以上のフリーラジカル重合性炭素−炭素二重結合を含むた
め、このような材料の平均官能基数が1分子当り少なくとも1つのフリーラジカ
ル性炭素−炭素二重結合である。このような部分を有する材料は、これらの炭素
−炭素二重結合官能基を介して互いに共重合および/または架橋することができ
る。本発明の実施に適したフリーラジカル硬化性モノマーは、1種類以上の1、
2、3および4官能性のフリーラジカル硬化性モノマーから選択されることが好
ましい。最終コーティング層に希望する性質に応じて、様々な量の1、2、3お
よび4官能性フリーラジカル硬化性モノマーを本発明に取り入れることができる
。例えば、耐摩耗性および耐衝撃性の高いコーティング層を得るためには、組成
物は、組成物に含まれるフリーラジカル硬化性モノマーの1分子当りの平均フリ
ーラジカル硬化性官能基数が1を超えるように、1種類以上の多官能性フリーラ
ジカル硬化性モノマー、好ましくは少なくとも2官能性と3官能性の両方のフリ
ーラジカル硬化性モノマーを含むことが望ましい。
1を超える、好ましくは1.1〜4、より好ましくは1.5〜3となる条件にお
いて、1〜100重量部の1官能性フリーラジカル硬化性モノマー、0〜75重
量部の2官能性フリーラジカル硬化性モノマー、0〜75重量部の3官能性フリ
ーラジカル硬化性モノマー、および0〜75重量部の4官能性フリーラジカル硬
化性モノマーを含むことができる。
には、炭素−炭素二重結合が直接または間接的に芳香環と結合した化合物が含ま
れる。このような化合物の例としては、スチレン、アルキル化スチレン、アルコ
キシスチレン、ハロゲン化スチレン、フリーラジカル硬化性ナフタレン、ビニル
ナフタレン、アルキル化ビニルナフタレン、アルコキシビニルナフタレン、およ
びこれらの組み合わせなどが挙げられる。1官能性フリーラジカル硬化性モノマ
ーの他の代表的な種類としては、炭素−炭素二重結合が脂環式、複素環式、およ
び/または脂肪族部分に結合した化合物、例えば5−ビニル−2−ノルボルネン
、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、1−ビニル−2−ピロリジノン、
1−ビニルカプロラクタム、1−ビニルイミダゾール、N−ビニルホルムアミド
などが挙げられる。
は、式:
は水素、ハロゲン、メチルなどの1価部分である。このような部分を含むモノマ
ーの代表例としては、(メタ)アクリルアミド類、クロロ(メタ)アクリルアミ
ド、1〜10個、好ましくは1〜8個の炭素原子を含む(メタ)アクリル酸の線
状、分岐、または脂環式エステル、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸エ
チル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシ
ル、およびアクリル酸イソオクチル;アルカン酸のアルキル部分が2〜10個、
好ましくは2〜4個の炭素原子を含み線状、分岐、環状のいずれでもよいアルカ
ン酸のビニルエーテル;(メタ)アクリル酸イソボルニル;酢酸ビニル;(メタ
)アクリル酸アリルなどが挙げられる。
トリル官能基、エポキシ官能基、カルボキシル官能基、チオール官能基、アミン
官能基、イソシアネート官能基、スルホニル官能基、ペルフルオロ官能基、スル
ホンアミド、フェニル官能基、およびこれらの組み合わせなどの他種官能基も含
むことができる。このようなフリーラジカル硬化性化合物の代表例としては、(
メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリロニトリル、β−シアノエチル−
(メタ)アクリレート、2−シアノエトキシエチル(メタ)アクリレート、p−
シアノスチレン、p−(シアノメチル)スチレン、α,β−不飽和カルボン酸と
ジオールとのエステル、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、ま
たは(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル;1,3−ジヒドロキシプロピ
ル−2−(メタ)アクリレート;2,3−ジヒドロキシプロピル−1−(メタ)
アクリレート;α,β−不飽和カルボン酸とカプロラクトンとの付加生成物;2
−ヒドロキシエチルビニルエーテルなどのアルカノールビニルエーテル;4−ビ
ニルベンジルアルコール;アリルアルコール;p−メチロールスチレン、N,N
−ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無
水マレイン酸、(メタ)アクリル酸トリフルオロエチル、(メタ)アクリル酸テ
トラフルオロプロピル、(メタ)アクリル酸ヘキサフルオロブチル、ブチルペル
フルオロオクチルスルホンアミドエチル(メタ)アクリレート、エチルペルフル
オロオクチルスルホンアミドエチル(メタ)アクリレート、およびそれらの混合
物などが挙げられる。
ては、1種類以上のN,N−二置換(メタ)アクリルアミドが挙げられる。N,
N−二置換(メタ)アクリルアミドを使用すると、多くの利点が得られる。例え
ば、この種類のモノマーの使用によって、ポリカーボネート基材への接着力が向
上した帯電防止コーティング層が得られる。さらに、この種類のモノマーを使用
することで、耐候性および靭性の向上したコーティング層も得られる。好ましく
は、N,N−二置換(メタ)アクリルアミドは99〜約500、好ましくは約9
9〜約200の範囲内の分子量を有する。
ボニル基、およびアミド基を任意に有する(C1−C8)アルキル基(線状、分岐
、または環状)、カルボニル基およびアミド基を任意に有する(C1−C8)アル
キレン基、(C1−C4)アルコキシメチル基、(C4−C10)アリール基、(C1 −C3)アルク(C4−C10)アリール基、または(C4−C10)ヘテロアリール 基であり;ただしR1とR2のうち一方のみが水素であり;R3は水素、ハロゲン 、またはメチル基。好ましくは、R1が(C1−C4)アルキル基であり;R2が(
C1−C4)アルキル基であり;R3が水素、またはメチル基である。R1とR2は 同種でも異種でもよい。より好ましくは、R1とR2がそれぞれCH3であり、R3 が水素である。
クリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルア
ミド、N−(5,5−ジメチルヘキシル)アクリルアミド、N−(1,1−ジメ
チル−3−オキソブチル)アクリルアミド、N−(ヒドロキシメチル)アクリル
アミド、N−(イソブトキシメチル)アクリルアミド、N−イソプロピルアクリ
ルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−メチル
−N−エチルアクリルアミド、およびN,N’−メチレン−ビスアクリルアミド
が挙げられる。特に好ましい(メタ)アクリルアミドはN,N−ジメチル(メタ
)アクリルアミドである。
エテン、1−プロペン、1−ブテン、2−ブテン(シスまたはトランス)化合物
などのアルケンなどが挙げられる。
、2、3、および/または4個のフリーラジカル硬化性官能基を有することが好
ましいあらゆる種類の多官能性フリーラジカル硬化性モノマーも本発明で使用す
ることができる。このような多官能性(メタ)アクリレート化合物は、多くの種
類の供給元より市販されている。あるいは、このような化合物は、種々の公知の
反応機構を用いて調製することができる。例えば、ある方法によると、(メタ)
アクリル酸またはハロゲン化アシルなどを少なくとも2個、好ましくは2〜4個
の水酸基を有するポリオールと反応させる。この方法は、以下の概略的反応図式
で表すことができ、説明の目的でアクリル酸とトリオールの間の反応で示してい
る:
官能性化合物を得るために、それぞれ対応するジオールおよびテトロールをトリ
オールの代わりに使用することができる。
物等を、2〜4個のNCO基またはこれに相当するものを有するポリイソシアネ
ートまたはイソシアヌレート等と反応させる。この方法は以下の概略的反応図式
によって表すことができ、説明のためアクリル酸ヒドロキシエチルとジイソシア
ネートの間の反応で示しており:
る。3または4官能性化合物を得るために、それぞれ対応する3または4官能性
イソシアネートをジイソシアネートの代わりに使用することができる。
ては、1種類以上の多官能性エチレン系不飽和の(メタ)アクリル酸エステルが
挙げられ、次式で表すことができ:
mの多価有機基であり、炭素原子、水素原子、窒素原子、非ペルオキシ酸素原子
、硫黄原子、またはリン原子を有する、環式、分岐、または線状の、脂肪族、芳
香族または複素環であることができ;mはエステル中のアクリル基またはメタク
リル基の数を表す整数であり、2〜4の値である。好ましくは、R4は水素、メ チル、またはエチルであり、R5は約14〜100の分子量を有し、mは2〜4 の値である。多官能性アクリレートおよび/またはメタクリレートの混合物を使
用する場合は、mの平均値が約1.05〜3であることが好ましい。
価アルコール類のポリアクリル酸またはポリメタクリル酸エステルであり、例え
ば、エチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2−ジメチル−1,3
−プロパンジオール、1,3−シクロペンタンジオール、1−エトキシ−2,3
−プロパンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、1,4−シクロ
ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジオー
ル、1,6−シクロヘキサンジメタノール;ヘキサフルオロデカンジオール、オ
クタフルオロヘキサンジオール、ペルフルオロポリエーテルジオールなどの脂肪
族ジオールのジアクリル酸およびジメタクリル酸エステル、グリセリン、1,2
,3−プロパントリメタノール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,5−
ペンタントリオール、1,3,6−ヘキサントリオール、および1,5,10−
デカントリオールなどの脂肪族トリオールのトリアクリル酸およびトリメタクリ
ル酸エステル;トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリアクリル酸
およびトリメタクリル酸エステル;1,2,3,4ブタンテトロール、1,1,
2,2,−テトラメチロールエタン、および1,1,3,3−テトラメチロール
プロパンなどの脂肪族トリオールのテトラアクリル酸およびテトラメタクリル酸
エステル;ピロカテコール、およびビスフェノールAなどの法王族ジオールのジ
アクリル酸およびジメタクリル酸エステル;およびそれらの混合物などが挙げら
れる。
ガスの組み合わせであってよく、希望であれば流体組成物18の全部または一部
に関して不活性でも反応性であってもよい。しかし、多くの用途においては、キ
ャリアーガス24が流体組成物18のすべての成分に関して不活性であることが
好ましい。特に、流体組成物18が有機液体を含む場合には、キャリアーガス2
4は酸素などの酸化性ガスを含まないことが好ましい。不活性ガスの代表例とし
ては、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素、およびこれらの組み合わせなど
が挙げられる。酸化が問題とはならない流体組成物18の場合は、希望であれば
通常の周囲空気をキャリアーガス24として使用することもできる。
相としてキャリアーガス24中に分散していく。蒸気30は本当の蒸気であるこ
とが好ましいが、分散した液滴が例えば、平均サイズが約30nm未満で可視光
および/または630nm〜670nmの波長を有するレーザー光で散乱されな
い程度に小さい分散相であってもよい。従って、図1aでは蒸気30を複数の液
滴として図示しているが、実際には蒸気30は目に見えない。
いということは、実質的にすべての流体組成物18が効率的に気化する条件で衝
突が起こったことを示している。霧化した液滴28の気化が完全に起こる実際の
距離dは、流体組成物18やキャリアーガス24の性質、流体組成物18とキャ
リアーガス24のそれぞれの温度、衝突時の流れ22および20の速度、霧化お
よび気化が起こるチャンバー17内の温度などを含めた種々の要因次第で変動す
る。通常、以下の実施態様で説明する装置規模において、dは2cm〜200c
mの範囲内である。従って、他種多様のコーティング材料を扱うことができるよ
うにするためには、チャンバー17を使用する場合には通常その長さは少なくと
もdである。
のに役立ち、また蒸気30の形状を整えてコーティング性能を向上させるのにも
役立つ。使用する場合は、チャンバー17は、霧化の領域から蒸気30が基材1
6と接触する領域まで延びる長さに沿った直線状にすることができるが、これは
必要なものではない。実際、チャンバー17に複数のねじれや曲がりがある場合
でさえ、蒸気30はなお基材16に向かって流動する傾向にある。例えば、図3
は直線上のチャンバーの蒸気移送管を示しているが、図4は90°で折れ曲がっ
たチャンバーを示している。
りも高温で十分なキャリアーガス24が使用される限り、蒸気30は真の気相と
してキャリアーガス24との混合物として存在することができる。キャリアーガ
ス24と流体組成物の接触は、蒸気30の分圧が飽和蒸気圧より低くなる条件下
で行われるため、より高温、例えば、流体成分の沸点以上の温度は気化を実現し
維持するためには必要ではない。より高温に頼ることなく成分を気化させるこの
能力は、成分の1種類以上が高温において破壊されたりその他の劣化を起こした
りする可能性のある流体組成物18を使用する場合に特に好都合である。
4を流体成分の沸点よりも高温で供給することができる。実際、このようなより
高温の使用は、ある用途においては有用となりうる。例えば、キャリアーガス2
4によって気化熱エネルギーが運ばれてくるので、ある程度液体を気化させるた
めに十分な熱エネルギーを、特により速い液体の流速において供給するために、
より高いガス温度が必要および/または望ましくなることもある。このような場
合、得られるキャリアーガス24と蒸気30の混合物は、キャリアーガス24の
初期温度流体組成物18の初期温度、およびこれら2つの材料の相対的な流速な
どの要因に依存して、1種類以上の気相成分の沸点よりも高温あるいは低温とな
る。
くなるような凝縮温度を有する。逆に凝縮温度より低温では、蒸気30は凝縮し
て液相になりやすくなる。従って、キャリアーガス24の流れ22は、蒸気30
の凝縮点よりも高温でチャンバー17に供給されることが好ましい。好ましくは
、キャリアーガス24を凝縮点よりも高温に加熱するが、それでもなお流体組成
物の少なくとも1つの成分の沸点より低温、より好ましくは流体組成物18のす
べての流体成分の沸点よりも低温である。
蒸気30の混合物が蒸気30の凝縮温度より低い温度になると、蒸気30の少な
くとも一部が予定より早く凝縮することがあることが分かる。これを避けるため
に、蒸気の凝縮温度より高温に気体混合物を維持できるようにチャンバー17が
加熱可能であることが好ましい。任意の希望する手段によってチャンバー17に
熱を与えることができる。例えば、チャンバー17の内容に、赤外線、マイクロ
波、RFエネルギー、またはレーザーエネルギーを照射することができる。別の
例としては、チャンバー17の壁19を、電熱コイルまたは熱いガスまたは液体
、例えば液流を循環させる加熱ジャケットによって、壁19の周囲あるいは内部
から加熱することができる。
れ、蒸気30の凝縮温度よりも低温に冷却される。その結果、蒸気30は表面1
4上で凝縮して、薄く実質的に均一なコーティング層12を形成する。基材16
は、任意の従来の冷却手段を用いて冷却することができる。図においては、基材
16は、冷却支持部材32と熱的に接触させて配置することで冷却される。支持
部材32の使用は、冷却効果が、キャリアーガス24と蒸気30の混合物などの
システム10の他の部分ではなく、最初に基材16へと熱的に移動するので特に
好都合である。これによって、基材16に到達する前に凝縮する蒸気30の量が
最小限になる。支持部材32は、任意の希望する冷却方法を用いて冷却すること
ができる。図においては、支持部材32は、冷却媒体供給ライン34から支持部
材32中に冷却水などの適当な冷却媒体を循環させることで冷却している。冷却
媒体は、排出ライン36を通して支持部材32から回収される。
ことができるし、様々な異なる形状であってもよい。例えば、材料に関しては、
基材は、金属、木材、布、ポリマー、セラミック、紙、鉱物、ガラス、複合材料
などであってよい。形状に関しては、基材は、平坦、湾曲、波形、ねじれ、微細
構造、平滑、粗面、多孔質、粒子状、繊維状、中空形状、三次元、規則的または
不規則的表面などであってよい。本発明の蒸気流の近傍に基材を配置する方法は
、希望するコーティングおよび基材に依存する。好適な方法としては、例えば、
可撓性ウェブ様基材および繊維における移送技術、粒子状基材における振動また
は懸濁技術、三次元基材における可動性蒸気源または基材が挙げられる。
しない。従って、図1aに示す実施態様はバッチ式コーティング作業の実施に適
している。しかし、1つの選択として、コーティング作業を定常状態で行うこと
ができる。例えば、図3および4では、定常状態のコーティング作業において、
移動する基材の長い距離をコーティングする本発明の実施態様を示している。
コーティング層の形成に使用することができる。好ましい実施態様では、0.0
1μm〜5μmの範囲の均一な厚さを有するコーティング層が1回で容易に形成
される。より厚い皮膜、または異なる材料からなる多層皮膜は、複数回のコーテ
ィング工程にかけるか、あるいは1回の工程で複数の層を付着させて基材16を
コーティングすることで形成することができる。好都合なことには、本発明は実
質的にピンホールのないコーティング層を形成することもできる。コーティング
層は、別々の蒸気および/または蒸気混合物が共凝集するときに相分離が起こら
ないとも考えられている。
コーティング層12に希望する性質次第でコーティング層12をさらなる任意工
程に任意にかけることができる。例えば、放射硬化エネルギーにさらすことで硬
化または架橋および固化が可能な成分からコーティング層12が形成されている
場合は、コーティング層を硬化させるためにコーティング層12を適切な線量の
放射硬化エネルギーで照射することができる。加熱によって熱硬化および固化が
起こる成分でコーティング層が形成されている場合は、硬化させるために好適な
条件下でコーティング層12を加熱することができる。さらに冷却することによ
る相変化によって固化する成分からコーティング層12が形成されている場合は
、 成分の固化が起こる温度までコーティング層12を冷却することができる。
図1Aに排出ガス39として一括して示している過剰のキャリアーガス24およ
び蒸気30は、排出口38を介してチャンバー17から排出することができる。
場合衝突エネルギーが流体組成物18を微細な液滴28のミストに分解している
。液滴および後の蒸気の体積濃度が時間経過に伴って変動しうる振動が生じずに
円滑に流体組成物18を気化させることができるので、層流条件下の衝突による
霧化は好都合である。霧化は他の手段によって行うことも可能であるが、他の霧
化手段は霧化中に振動が発生する性質を有する傾向にある。例えば、流体組成物
18に従来の霧化手段を使用して霧化し、液滴28を気化させることができるよ
うに、霧化した液滴28をキャリアーガス24中に放出あるいは噴霧することが
できる。このような他の霧化方法としては、超音波霧化、スピニングディスク霧
化などが挙げられる。図1bはこれを概略的に示している。図1bは、流れの衝
突の代わりに霧化装置構成要素21を使用して流体流20を霧化していることを
除けば図1aとほぼ同様である。霧化装置構成要素21としての使用に適した様
々な種類の代表的霧化装置構造は、Lefebvre,A.H.,Atomiz
ation and Sprays,Hemisphere Publishi
ng Corp.,U.S.A.(1989);Harari et al.,
Atomization and Sprays,vol.7,pp.97−1
13(1997)に記載されている。
の霧化手段を使用して流体組成物18を霧化することができる。この方法では、
得られる霧化された液滴28は、霧化の際にキャリアーガス24と十分に混合さ
れる。有利な点は、予備混合した流体流20およびキャリアーガス流24では、
図1aの衝突法よりもキャリアーガス24の使用量が少ないことである。しかし
、衝突で形成された液滴28は、予備混合方法で形成された液滴28よりも小さ
く早く気化する傾向にある。別の代替法として、結果として得られる霧化した液
滴28がキャリアーガス24と接触できるような方法で、流体組成物18の2つ
以上の流れを衝突させることより霧化を行うことができる。
れ図である。この方法の流れ図の操作100の方式の考察は、図2bの流れ図に
示す本発明の操作100’の別の方式を評価するために特に有用である。まず図
2aを参照すると、流体組成物104の流れ102とキャリアーガス108の流
れ106は、ステップ110において流体組成物104の霧化および気化に効率
的な条件下で合流し、キャリアーガス108と気化した流体組成物とを含む気相
混合物を形成する。ステップ112では、蒸気が冷却した基材の表面に向かって
流動し、ここでステップ114において蒸気が液体に凝縮して基材上にコーティ
ング層を形成する。ステップ116では、コーティング層は任意の凝縮後工程に
かけられる。
されるおよび/または含有する流体組成物104を扱えるように容易に適合させ
ることができる。例えば、蝋などの融解して気化可能な流体が容易に生成する材
料を、溶融させた後で溶融形態の流体組成物104に混入することができる。他
の固体は、流体組成物104の別の流体成分と混合した場合に容易に溶解するこ
とができる溶解性を有する場合がある。例として、多くの固体の光開始剤は、光
開始剤の存在下で重合が有利に促進される放射線硬化性モノマーを含む流体に溶
解性である。他の固体材料は、担体108と接触させた場合に溶融するか、ある
いはコーティング蒸気と共にコーティング位置に移動できるほど小さいかのいず
れかの微細粒子として供給することができる。
数の流体流102a’、102b’等を、対応する複数のキャリアーガス流10
6a’、106b’等とを、流体流102a’、102b’等を効率的に霧化お
よび気化する方法で連結することができることを除けば、図2aの操作100の
方式とほぼ同じである。このような蒸気の発生は、同じチャンバー内で実質的に
同時に行って混合された蒸気を発生することができる。同時に蒸気を発生させる
ことは、通常は互いに非混和性である流体から均一なコーティング層を形成する
ためには特に好ましい。あるいは、蒸気の発生を、同じチャンバー内で連続的に
行って、多層のコーティング層を形成することができる。あるいは、このような
蒸気の発生を別々のチャンバーで行った後、別々のチャンバーから各蒸気を同時
に基材上に吹き付けることができる。別々のチャンバーから各蒸気を同時に基材
上に吹き付けることは、互いに反応性である蒸気からコーティング層を形成する
場合に好ましい。
却支持部材206を通過し巻取りロール210まで移動する可撓性ウェブ204
上にコーティング層(分かりやすくするため図示していない)を形成するために
有用である。通常、コーティング作業は、広い速度範囲の希望する任意の速度で
可撓性ウェブ204を移動させながら行うことができる。例えば、可撓性ウェブ
204は約1cm/s〜1000cm/sの範囲内の速度で移動させることがで
きる。可撓性ウェブ204は、ポリマー、紙、天然および/または合成繊維から
製造された繊維状材料および布、金属、セラミック組成物などの種々の材料から
可撓性製造することができる。ガイドローラー212は、支持部材206の表面
214を横断するように可撓性ウェブ204を誘導する働きをする。支持部材2
06は、供給ライン216から支持部材206に入り排出ライン218から排出
される冷却媒体によって冷却される。冷却媒体の冷却効果は、支持部材206と
熱的に接触する可撓性ウェブ204の一部に伝達される。
は、可撓性ウェブ204に蒸気を移動させる働きをし、より良好なコーティング
性能を得るために蒸気流を整えるのにも役立つ。蒸気移送管224は2つの半体
203および205で構成される。各半体203および205は、接合する端部
においてそれぞれフランジ207および209を含み、この部分でねじ、ボルト
、ねじのかみ合いなどの適当な固定手段によって互いに取り外し可能に両半体を
固定することができる。2つの半体203および205は開放することができ、
保守点検のためチャンバー222に到達することができる。
は、流体コーティング材料およびキャリアーガスの流れが蒸気移送管224のチ
ャンバー222の放出および衝突が行われるノズル230が取り付けられる。こ
のような衝突によって、コーティング材料の霧化および気化が起こる。コーティ
ング材料は、供給ライン232を通ってノズル230に供給される。供給ライン
232からの材料の移送は、定量ポンプ236を使用して行われる。キャリアー
ガスは供給ライン234を通ってノズル230に供給される。供給ライン234
には、流量調節器235とキャリアーガスが蒸気移送管224に流入する前にキ
ャリアーガスを予備加熱するための任意の熱交換器238とが取り付けられる。
蒸気移送管224の壁242を加熱するための加熱要素240などの加熱手段を
使用して、チャンバー222に熱を供給することができる。図3に示す加熱要素
240は、希望する熱量を与えるための、壁242と熱的に接触するように蒸気
移送管224周囲にらせん状に巻き付けられた電気抵抗加熱要素の形態である。
撓性ウェブ204上に向けるオリフィス244を有するエンドキャップ246を
備える。エンドキャップ246は、保守点検のためチャンバー222に通じるこ
とができるように任意に着脱自在であってもよい。蒸気の凝縮温度より低温に維
持された冷却ウェブ204と蒸気が接触すると、蒸気が凝縮してウェブ204上
でコーティング層を形成する。移動するウェブ204にコーティング層が適用さ
れた後、このコーティング層を硬化ユニット250として図示する好適な硬化処
理にかけることができる。例えば、1つの選択として、コーティング層が放射線
架橋性官能基を含む場合、硬化ユニット250は放射硬化エネルギー源であって
もよい。もう1つの選択として、コーティング層が熱硬化性官能基を含む場合、
硬化ユニット250はオーブンであってもよい。
した本発明の特に好ましいシステム300を示しており、コーティング層は1種
類以上の流体の放射線架橋性コーティング材料から形成される。システム300
は、内壁306と外壁308を含む二重壁カバー304を備える。内壁306に
よってコーティングチャンバー310が定められる。内部隔壁312は、コーテ
ィングチャンバー310を上部チャンバー314と下部チャンバー316に分割
する。ウェブ302上のコーティング層の形成に使用される放射線架橋性コーテ
ィング材料の反応性のためと、清浄なコーティング環境を維持するために役立つ
ようにするため、下部チャンバー316は不活性雰囲気に維持される。
である任意のガスおよび複数のガスの組み合わせであってよい。好適な不活性ガ
スの例としては、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素、およびこれらの組み
合わせなどが挙げられる。不活性雰囲気は、コーティング作業を行うために効率
的な任意の好都合な温度で供給することができる。しかし、不活性雰囲気が熱す
ぎるまたは冷たすぎる場合には、ウェブ温度および/または蒸気温度を調節する
ことがより困難になるおそれがある。従って、一般に0℃〜100℃の範囲の温
度の不活性雰囲気を供給することが好適である。不活性雰囲気はガス流入口32
0から下部チャンバー316に供給され、ガス排出口322から排出される。周
囲のガス、粒子、および他の汚染物質を下部チャンバー316から排出できるよ
うにするため、下部チャンバー316はわずかな正圧、例えば、0.04psi
g(250Pa)に維持される。
位置する)から、ドラム324(下部チャンバースペース316に位置する)へ
、そして巻取りロール328(これも上部チャンバー314に位置する)へと案
内される。ガイドローラー325はウェブ302のこのような移動中に案内を補
助する。好ましくは、ドラム324は、ラム324の周囲でウェブ302を移動
させるための、矢印330の方向に回転することができる水冷式回転可能ドラム
である。本発明を使用して形成することができる非常に薄いコーティング層厚さ
のため、ドラム324の表面332は正確(すなわちドラムの軸に対して平行)
で滑らかであるべきである。水冷式ドラム324の特に好ましい実施態様は、表
面332の内部だが表面と隣接する位置にある二重らせん状に巻かれた冷却管に
流される循環冷却水によって冷却される。
グ材料の凝固温度より低い温度に維持される。ドラム324と熱的に接触するウ
ェブ204の熱容量はドラム324と比べると比較的小さいので、ドラム324
と熱的に接触するウェブ部分は支持部材温度に実質的に対応する温度まで冷却さ
れる。このためウェブ302上への蒸気状コーティング材料の凝縮が促進される
。冷却温度はコーティングする材料の性質次第で変動する。通常、ドラム324
を0℃〜80℃の範囲の温度に維持すると好都合である。
最適化することができるように調節することが好ましい。一般に、好適な速度範
囲では、ウェブ速度が0.001cm/s〜2000cm/s、好ましくは1c
m/s〜1000cm/s、より好ましくは1cm/s〜300cm/sの範囲
でコーティングすることができる。
、ドラム324の送り込み側に任意に備えることができる。このような処理は、
必ずしも必要ではないが、適切な条件でコーティング層のウェブ302に対する
接着力を向上させるために行うことができる。行うプライマー処理の種類は重要
ではなく、ウェブ302表面を十分にプライマー処理することが可能な任意の方
法を使用することができる。一例として、プライマー処理ユニット336は、コ
ロナ放電をウェブ表面に向けることでウェブ302のプライマー処理が可能なコ
ロナ処理ユニットであってもよい。コロナ処理ユニットは、多数の販売元から市
販されている。例えば、Pillar Technologies社(Milw
aukee,Wisconsin)より市販されるコロナ処理装置が好適である
ことを確認している。
気移送管340は、主管部分341とコーティングヘッド部分343を備える。
任意に、コーティングヘッド部分343は、主管部分と一体的に形成されていて
もよいし、あるいは主管部分341と取り外し自在に固定することができる分離
した部品として形成されてもよい。あるいは、主管部分341とコーティングヘ
ッド部分343のそれぞれは、使用されるコーティング材料に関して不活性であ
る任意の種々の材料から別々に作製してもよい。このような材料の例としては、
ガラス、ステンレス鋼、アルミニウム、銅、およびこれらの組み合わせなどが挙
げられる。主管部分341は、気化の状態を視覚的に評価できるようにガラス製
壁を含むことが好ましい。コーティングヘッド部分343も、希望するのであれ
ばガラスまたは他の好適な材料から作製してもよい。
、放射線硬化性コーティング材料とキャリアーガスのそれぞれの流れが通過して
蒸気移送管340のチャンバー348内に放出され衝突するノズル346が取り
付けられる。このような衝突によって、コーティング材料の霧化および気化が起
こる。コーティング材料は供給ライン350を通ってノズル346に供給され、
キャリアーガスは供給ライン352を通ってノズル346に供給される。供給ラ
イン350は容積式ポンプまたは定量ポンプ354を備える。供給ライン352
にはガスを加熱するための熱交換器356が取り付けられる。前述したような任
意の好適な加熱手段(図示していない)を使用してチャンバー348に熱を供給
することができる。
ィング性能に影響する要因の1つである。一般に、キャリアーガスが蒸気で飽和
せずにすべてのコーティング材料が気化できるようにするため、キャリアーガス
の流速はコーティング材料の流速よりも速い。通常のコーティング操作では、コ
ーティング材料は0.01ml/min〜50ml/minの範囲の流速で供給
することができ、キャリアーガスは4l/min〜400l/minの流速で供
給することができる。キャリアーガス流速のコーティング材料流速に対する比は
通常103〜106の範囲内である。
ここを通過してチャンバー348で発生した蒸気がウェブ302に向けられる。
蒸気の凝縮温度より低温に維持された冷却ウェブ302と蒸気が接触すると、蒸
気が凝縮してウェブ302上にコーティング層を形成する。凝縮したコーティン
グ層が移動するウェブ302に適用された後で、放射線硬化ユニット362とし
て図示される適当な硬化条件にコーティング層をかけることができる。次に、コ
ーティングされたウェブは、必要であればさらに加工することができ、あるいは
図示するように巻取りロール328に巻取って保管することができる。
ル400の実施態様を示している。ノズル400は、上述の任意の実施態様を含
めた本発明の任意の実施態様に取り入れることができる。ノズル400は、主要
構成要素として、主バレル402、エンドキャップ404、アダプター406、
および出口カバー408を備える。これらの主要構成要素は、保守点検のため必
要となるノズル400の分解および再組立が容易となるように、螺合により組み
立てられるようになっている。
する円錐形ヘッド405を含む。ボディ407の反対側の端では、ボディ407
の外周412から外部円筒形壁410が長手方向に延びている。ボディ407の
内側部分416から内部円筒形壁414が長手方向に延びている。内部円筒形壁
414の長さは外部円筒形壁410よりも長いため、エンドキャップ404が内
部円筒形壁414周囲に螺合して連結部418で外部円筒形壁410と密封状に
係合することができる。内部円筒形壁414と外部円筒形壁410は互いに間隔
があけられ、このため主バレル402とエンドキャップ404をボディ407と
合わせて組み合わせた場合に、環状チャンバー422の一部を形成する間隙42
0(図5c参照)が定められる。ボディ407の外面424にはねじ山が付けら
れ、アダプター406と螺合する大きさとなっている。内部円筒形壁414の外
面426にもねじ山が付けられ、エンドキャップ404と螺合する大きさとなっ
ている。
るようにするため、ボディ407に少なくとも1つの貫通した開口部428が設
けられる。図に示す好ましい実施態様では、4つの開口部428が設けられ、段
面409の周囲において間隔が等距離になっている。主バレル402は、主バレ
ル402の軸に沿った長手方向に内部円筒形壁414の入口端421から円錐形
ヘッド405の放出端423まで延びる貫通した開口部429をさらに含む。貫
通開口部429は通常円筒形であるが、放出端423において先細りして直径が
減少する。貫通開口部429は、層流を実現するために、端421および423
において十分なランド長さとオリフィス直径を有することが好ましい。
430の中心には、主バレル402の内部円筒形壁414の外部に取り付けられ
螺合するよう適合した開口部434が配置している。図5cに最も良く示される
ようにエンドキャップ404と主バレル402を螺合させることによって組み立
てると、側壁432は連結部418において主バレル402の外部円筒形壁41
0と密封状に係合するが、内部円筒形壁414とは間隔があけられる。従って側
壁432は、入口端421近傍の内部円筒形壁414の始まりの部分の周囲の環
状チャンバー422を定める。側壁412は、ノノズル400が組み立てられた
場合にズル400外部と環状チャンバー422の間を連絡する開口部435を含
む。ノズル400の組立および分解の時にエンドキャップ404をつかみやすく
するために、エンドキャップ404の外面436にはローレットが切られている
。
し平端面442を有する円錐形ヘッド440を備える。ボディ444の反対の端
部では、ボディ444の外周450から円筒形壁448が長手方向に延びている
。ボディ444の外面452にはねじ山が付けられており出口カバー408と螺
合する大きさとなっている。円筒形壁448の内面453にはねじ山が付けられ
ており、主バレル402のボディ407と螺合する大きさとなっている。円筒形
壁448の外面454にはローレットが切られており、ノズル400の組立およ
び分解の際にアダプター406をつかみやすいようになっている。
02の円錐形ヘッド405を受け入れるようにテーパーが付けられている。内部
段面455の距離は、貫通開口部456の端457から円筒形壁448の内面4
52まで及んでいる。端面442からちょうど円錐形ヘッド405の放出端42
3が突出するように、円錐形ヘッド405はテーパー貫通開口部456に密封状
に受けられる。さらに、貫通開口部456に円錐形ヘッド405が十分に挿入さ
れると、主バレル402の段面409は内部段面455から間隔があき、これに
よって第2環状チャンバー458が定められる。ボディ444は、内部段面45
5と外部段面446の間で流体が連絡する複数の弓形貫通くぼみ460を含む。
弓形貫通くぼみ460は、第2環状チャンバー458を経由して主バレル402
の貫通開口部428と連絡する。弓形貫通くぼみ460は、開口部428から現
れた実質的な線状流線流を、弓形くぼみ460からほぼ環状の流動形式となって
現われるように分散させる。
74荷はねじ山が付けられ、アダプター406のボディ444と螺合する大きさ
となっている。側壁472の外面476にはローレットが切られており、ノズル
400の組立および分解の際に出口カバーを握りやすいようになっている。末端
部分470はテーパー貫通開口部478を定める内壁480を有し、この開口部
478はアダプター406のテーパーヘッド440と間隙があいて受け入れるよ
うに適合しており、これによって内壁480とテーパーヘッド440の間に延び
る円錐形流路482が定められる。従って流路482は、弓形貫通くぼみ460
近傍の入口484と端面442近傍の出口485とを有する。出口485は円環
形であり、貫通開口部429の放出端423を囲んでいる。
29入口端421に入り、次に放出端423まで流れていき、ここでコーティン
グ材料の流れはノズル400の縦軸に沿って放出され、好ましくは層流状態で衝
突点490に向かう。その間、供給キャリアーガスは開口部435から環状チャ
ンバー422に入る。次にキャリアーガス流が環状チャンバー422から流路4
28を通って第2環状チャンバー458へと進む間にキャリアーガス流が圧縮さ
れる。第2環状チャンバー458から、キャリアーガス流が弓形流路460に入
り、これによって流路428からの圧縮された流れが再分配され、実質的に円環
形の流れが形成される。弓形流路460から、キャリアーガス流はテーパー流路
482内に再び制限され、次に円錐形で中空の流れとなって衝突点490に向か
って放出される。衝突点490では、コーティング材料とキャリアーがすの流れ
が衝突し、コーティング材料の霧化および気化が起こる。
400を使用して発生した衝突流とガス流の幾何学的配置をより詳細に示してい
る。内部領域504を有する中空で実質的に円錐形であるキャリアーガス流50
0は、ノズル400の環状オリフィス485から現れ、頂点502の方に集束す
る。環状オリフィス485のほぼ中央に位置するオリフィス425は、流体の円
柱形の流れ506を内部領域504から頂点502に向けて放出し、ここで流れ
500および506が衝突する。従って流体流506は大きな力で霧化される。
00の構造によって、粘着性または比較的粘稠な流体材料を含む流体流の霧化が
より容易になる。ノズル400からこのような流体成分を移動させるためには比
較的低い圧力が要求され、他のノズル構造を使用した霧化構成と比較すると驚く
べきことにこのような成分がノズル400が詰まらせる傾向が減少する。理論と
むすび付けて考察しようとするものではないが、この性能の向上を説明できると
思われる根拠を提案することはできる。迅速に移動する中空で円錐形のキャリア
ーガス流500によって内部領域504が減圧状態となり、これによって流体組
成物がノズル400から引き出されやすくなると考えられる。この引き出される
力が、他の方法ではノズルのつまりの原因となりうる粘稠および粘着性の影響を
克服する助けとなる。別の利点としては、この方法で、キャリアーガス流500
が流体流506の実質的すべての周辺部を囲む流体流506と大きな力で衝突す
るので、非常に良好に流体流506の霧化が起こる。
均一な蒸気を発生させることが望ましいことがあるので、ノズル400の使用は
このような組成物の均一な霧化および/または気化混合物を生成するためにはあ
まり適していない。工程で使用する液体材料が、ノズル10から均一に流れ出す
ことができない2種類以上の非混和性成分を含む場合などでは、ノズル400の
使用はあまり適していない。あるいは、液体状態で互いに反応性である2種類以
上の成分を含む液体材料の場合、ノズル400から1つの流れとしてこのような
材料を移送するとノズル400がつまる可能性があるので、ノズル400の使用
はあまり適していない。
気化混合物を形成するために特に有用である本発明の特に好ましい実施態様であ
るノズル400’を示している。ノズル400’は、主バレル402がただ1つ
の貫通開口部429ではなく同時に複数の流体流を扱うための複数の貫通開口部
429’を含むことを除けばノズル10とほぼ同じである。説明のため、3つの
貫通開口部429’を示しているが、扱うべき流体流の数次第でこれより多いあ
るいは少ない数を使用することができる。例えば、他の実施態様では、主バレル
402’は2〜5個のこのような貫通開口部429’を含むことができる。ノズ
ル400’は、それぞれのこのような貫通開口部429’からそれぞれの流体流
を供給するための管状材料431’も含む。このように、ノズル400’によっ
て、実質的に同時で内破的で高エネルギーで複数の流体流の霧化および気化が可
能となる。この方法では、複数のノズルから多成分蒸気を発生させ混合しようと
試みた場合よりも、実質的により均一な蒸気が得られる。
材上で重合させた:標準圧力で沸点が295℃である1,6−ヘキサンジオール
ジアクリレート(UCB Chemicals社より入手できる)5.3重量部
と、10mmHg(1400Pa)で沸点が100℃であるペルフルオロオクチ
ルアクリレート(FC 5165としてMinnesota Mining a
nd Manufacturing Company社より入手できる)94.
7重量部との溶液で構成される液流を、シリンジポンプ(Harvard Ap
paratus社より入手できるModel 55−2222)を用いて図5a
、5b、および5cに示される霧化ノズルに通して移送した。0.35mPa(
34psi)のガス流(低温等級の窒素、Praxair社より入手できる)を
127℃に加熱し、ノズルに通した。液流は速度0.5ml/minで移動し、
ガス流は速度27l/minで移動した(標準温度および標準圧力すなわちST
P)。液流とガス流の両方は、図5a、5b、および5cの前述の説明のように
別々の流路を通ってノズルを通過した。ガス流は環状オリフィスから放出され、
ノズル端から3.2mm(0.125インチ)に位置する中央の先端に向かった
。この位置で、ガス流が中央の液流と衝突した。液流が霧化して、ガス流中で液
滴のミストを形成した。次に、ガス流中の霧化した液滴は、蒸気移送チャンバー
を通って移動する流れと急速に気化した。蒸気移送チャンバーは、直径10cm
長さ5cmのガラス管と、直径10cm長さ25cmのアルミニウム管の2つの
部品を含んでいた。ノズルの出口端はガラス管の一端の内部に約16mm(0.
64インチ)延びており、アルミニウム管はガラス管の反対側の端と連結した。
蒸気移送チャンバーの壁に蒸気が凝縮するのを防止するために、アルミニウム管
を管の外側に巻き付けた加熱テープで加熱した。
、第2の方法はレーザー光散乱を含むものであった。肉眼で観察する場合、霧化
した液滴を、ノズル出口から2cm未満で延びる狭い円錐形領域に限られた微細
なミストとして見ることができた。この後、このミストは見ることができなくな
ったが、これはこの領域を越えて完全に気化が進行したことを示している。液体
の霧化および気化は、波長630〜670nmの「ペンライト」レーザー(Ly
te Optronics,Inc.社製のOptiTM)のレーザー光を蒸気移
送チャンバーのガラス部分に照射することによっても観察した。レーザー光は、
ノズル出口から2cm未満に存在する液滴からの散乱光として見ることができた
。蒸気移送チャンバーの残りの部分は透明であったが、これは液体の気化が完全
に進行したか、あるいは少なくとも液滴が30nm未満の検出限界未満の直径ま
で縮小したことを示している。
ャンバー出口から排出した。このスロットは長さ50mm幅1.3mm(2イン
チ×0.05インチ)であった。蒸気とガスの混合物の温度は蒸気移送チャンバ
ー出口の3cm前の位置で136℃であった。厚さ100μm幅23cmの二軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの基材を、フィルム移動速度を1.0
cm/sに調節した機械的駆動システムによって蒸気移送出口を通過させた。水
冷式プレート上でフィルムを通過させながら、蒸気とガスの混合物をフィルムと
接触させた。蒸気出口と冷却プレートとの間隔は約2mmであった。ガスと蒸気
の混合物中の蒸気はフィルム上に凝縮し、幅50mm(2インチ)の未乾燥コー
ティング層の条片が形成された。
eraeus社より入手できるNoblelight Excimer Lab
orSystem 222)にコーティングしたフィルムを通過させることで、
コーティング層をフリーラジカル重合させた。このランプは放射度30mW/c
m2であり、フィルム速度は約2.1m/分(7fpm)であった。
温度が150℃であり、蒸気移送チャンバーの出口の3cm前の位置での蒸気と
ガスの混合物の温度が142℃であることを除けば、実施例1と同様にして基材
のコーティングおよび硬化を行った。
温度が122℃であり、蒸気移送チャンバーの出口の3cm前の位置での蒸気と
ガスの混合物の温度が127℃であることを除けば、実施例1と同様にして基材
のコーティングおよび硬化を行った。
かに見ることができた。しかし、それぞれのコーティングにある角度で光を当て
ると虹色の模様が観察され、一般にこれは1μm未満の厚さで空隙のあまりない
実施的に完全なコーティング層に対応するものである。実施例3の重合させたコ
ーティング層は肉眼で見ることができなかった。各コーティング層をX線光電子
分光法と減衰全反射赤外分光法によって分析し、コーティング層中にフルオロカ
ーボンアクリレートと架橋剤の両方が存在することを確認し、これより液流の両
方の成分が気化し凝縮したことが確認できた。
方法で基材のコーティングを行った。蒸気移送チャンバーと出口スロットも異な
り、コーティング層は硬化させなかった。液流は、大気圧での沸点が174℃で
あるフルオロカーボン液体(Minnesota Mining and Ma
nufacturing Co.社より入手できるFluorinertTM F
C−43)で構成された。液体の流速は1.0ml/minで、窒素の流速は2
5l/min(STP)であった。ノズルに入る時の窒素温度はほぼ100℃で
あった。蒸気移送チャンバーは、直径10cmで長さ23cmのガラス管で構成
され、蒸気移送チャンバーの壁に蒸気が凝縮するのを防止するために管の外側に
加熱テープを巻き付けて加熱した。レーザー光は出口から1cm未満で散乱した
が、1cmより離れた位置では散乱しなかった。蒸気とガスの混合物は蒸気移送
チャンバーの3cm前の位置で90℃であった。アルミニウム管の端のスロット
は長さ9cmで幅1cm(3.5インチ×0.4インチ)であった。基材は、蒸
気移送出口スロットから約5mmの位置に約2秒間置いた。
前の位置における蒸気とガスの混合物の温度が94℃であり、ミストを目視でき
ノズル出口から3cm未満の領域でレーザー光を散乱したことを除けば実施例4
と同様にして基材にコーティングした。
m前の位置における蒸気とガスの混合物の温度が99℃であり、ミストを目視で
きノズル出口から22cm未満の領域でレーザー光を散乱したことを除けば実施
例4と同様にして基材にコーティングした。
ング層にある角度で光を当てると、一般に1μm未満の厚さで空隙のあまりない
実施的に完全なコーティング層に対応する虹色の模様が観察できた。実施例6の
コーティング層ははるかに厚いように思われ、虹色の模様は見られなかった。
にして基材にコーティングを行った。ガスは圧縮空気であり、移動速度は4l/
min(STP)とした。ノズルはIVEK Corp.社(Vermont)
のSonicairTMノズルを入手した。液流とガス流をノズル内で混合して、
ノズルの直径0.05cm(0.020インチ)のオリフィスから放出した。ノ
ズルから混合物が放出された時に液体が霧化した。ガス流と接触する霧化した液
滴は、直径11cmで長さ30mであり外面に加熱テープを巻き付けたアルミニ
ウム管で構成される蒸気移送チャンバーにこれらが流入する時に急速に気化した
。ノズルの出口端は、アルミニウム管の内部に約13mm(0.5インチ)延び
た。霧化および気化は、出口スロットから蒸気移送チャンバーに通過する際に見
ることができた。霧化した液滴およびレーザー光は、ノズル出口付近の限定され
た領域でそれぞれ微細なミストおよび光の散乱として観察できた。蒸気とガスの
混合物の温度は、蒸気移送チャンバーの出口の5cm前の位置で85℃であった
。
た基材に照射すると、虹色の模様を観察できた。
類のランプを使用したことを除けば、実施例1と同様の方法で基材にコーティン
グを行った。光開始剤はAldrich Chemical Co.社より入手
したアセトフェノンであり、STPにおいて295℃の沸点を有する2官能性モ
ノマーの1,6−ヘキサンジオールアクリレート100部当りに約1部含まれる
ものであった。次に、図4に示すシステムを用いて蒸気を基材上に凝縮させた。
蒸気とガスの混合物を、長さ25cmのスロットを通過させてコーティングヘッ
ドの出口から放出させた。幅30cmの基材を窒素雰囲気中でコロナ電極アセン
ブリに通し、次に直径41cm(16インチ)で幅36cm(14インチ)の金
属製冷却ロールと接触させながらコーティングヘッド出口を通過させた。冷却ロ
ールは冷却機からの水によって冷却した。コロナ電極アセンブリは、3つのセラ
ミック管電極(Sherman Treater,Ltd.社(UK)より入手
できる)を有し、それぞれ有効長30cm(12インチ)でありフィルムから2
mmの間隔をあけた。放電は、コロナ発生装置(ENI Power Syst
ems社(Rochester,New York)より入手できるモデルRS
−48B)によって電力を供給した。コロナ放電で使用する窒素は、電極アセン
ブリの後方から導入し、電極を通過し放電領域まで流れるようにした。蒸気出口
と冷却プレートとの間隙は約2mmであった。ガスと蒸気との混合物中の蒸気は
フィルム上に凝縮し、幅約25cmの未乾燥コーティング層の条片を形成した。
紫外線ランプシステムには、高強度水銀アークランプを使用した。
て見ることができたが、反射光によって虹色の模様を形成した。
ものであり、紫外光源および条件が実施例1と同様であることを除けば、実施例
8と同様の方法で基材にコーティングを行うことができた。液流には、大気圧で
の沸点が139℃であるアクリル酸(Sigma−Aldrich Corp.
社(Milwaukee,Wisconsin)より入手できる)2重量部と、
標準圧力での沸点が216℃であるイソオクチルアクリレート(Sartome
r社(Exton,PA)より入手できるSR440)98重量部からなる溶液
を使用した。基材は厚さ約50μmの二軸延伸ポリプロピレンであった。
て見ることができたが、反射光によって虹色の模様を形成した。
ものであり、異なる重合機構を使用したことを除けば、実施例8と同様の方法で
基材にコーティングを行うことができた。液流は、標準圧力での沸点が212℃
である縮重合性材料のメルカプトプロピルトリメトキシシラン(Sigma−A
ldrich Corp.社より入手できる)99重量部と、大気圧での沸点が
290℃であるアミン触媒(Huntsman社より入手できるJeffcat
ZR−50)1重量部とから構成される溶液であった。基材は厚さ約50μm
のシリカ下塗り二軸延伸ポリプロピレンであった。このシリカ下塗りフィルムは
米国特許第5,576,076号(Slootmanらに付与された)に記載さ
れるようにして作製した。コーティング層は空気中に数日間放置することで重合
させた。
に見えるものであった。
本発明の実施によって明らかとなるであろう。当業者であれば、特許請求の範囲
に示される本発明の真の範囲および精神から逸脱することなしに、本明細書に記
載される原理および実施態様の種々の省略、修正、および変更を行うことができ
るであろう。
ングシステムの略図である。
グシステムの略図である。
料を使用する場合の本発明の別のコーティングシステムの流れ図である。
明のコーティングシステムの実施例の略図である。
解組立斜視図である。
発生する流体流およびキャリアーガスの斜視図である。
の実施例の部品を取り外した分解組立斜視図である。
グ材料の凝固温度より低い温度に維持される。ドラム324と熱的に接触するウ
ェブ302の熱容量はドラム324と比べると比較的小さいので、ドラム324
と熱的に接触するウェブ部分は支持部材温度に実質的に対応する温度まで冷却さ
れる。このためウェブ302上への蒸気状コーティング材料の凝縮が促進される
。冷却温度はコーティングする材料の性質次第で変動する。通常、ドラム324
を0℃〜80℃の範囲の温度に維持すると好都合である。
Claims (17)
- 【請求項1】 基材の少なくとも一部の表面上にコーティング層を形成する
方法であって、 (a)キャリアーガスの流れを流体組成物の流れと衝突させ、実質的にすべて
の流体組成物が気化して凝縮温度を有する蒸気が発生するような条件下で前記衝
突が行われる工程と、 (b)前記蒸気を前記基材の前記表面まで流動させ、前記表面が前記蒸気の前
記凝縮温度より低温である工程と、 (c)前記表面上で前記蒸気が液体として凝縮して前記コーティング層を形成
する工程とを含む方法。 - 【請求項2】 前記流体組成物が前記キャリアーガスに対して実質的に非反
応性である請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記蒸気が第1蒸気であって、前記方法が、 (1)第2キャリアーガスの流れを第2流体組成物の流れと衝突させ、実質的
にすべての前記第2流体組成物が気化して第2凝縮温度を有する第2蒸気が発生
するような条件下で前記衝突が行われる工程と、 (2)前記蒸気を表面が前記蒸気の前記凝縮温度よりも低温である前記基材の
前記表面まで流動させる工程と、 (3)前記表面上で前記第2蒸気が凝集してコーティング層の一部を形成する
工程とをさらに含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 前記流体組成物が、互いに反応することができる第1および
第2成分を少なくとも含み、それによって前記基材上に形成された前記コーティ
ング層が、前記第1および第2成分から誘導される反応生成物を含む請求項1に
記載の方法。 - 【請求項5】 前記キャリアーガスが前記流体組成物の少なくとも1つの成
分の沸点よりも低い温度に加熱される請求項1に記載の方法。 - 【請求項6】 工程(b)における前記蒸気が、前記衝突が起こる入口端と
、前記蒸気を前記基材の前記表面上に向けるオリフィスを有する放出端とを有す
るチャンバー中を流動し、前記チャンバーが前記蒸気の前記凝縮温度より高温に
維持される請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】 工程(a)が、キャリアーガスと流体組成物の前記流れのそ
れぞれを少なくともノズルの第1および第2オリフィスから前記流れが衝突する
ように放出することを含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 (a)前記第1オリフィスが、円環形であり、前記キャリア
ーガスの流れが前記第1オリフィスから移動する際に、頂点に向かって内側に先
細りする中空で実施的に円錐形のキャリアーガスの流れを放出するように適合し
ており、前記キャリアーガスの流れは内部領域を有し、 (b)前記第2オリフィスが、前記キャリアーガスの流れの前記内部領域を通
って前記キャリアーガスの流れと実質的に前記頂点において衝突するように前記
流体組成物の流れを放出するように適合している請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 基材の少なくとも一部の表面にコーティング層を形成する方
法であって、 (a)流体組成物を霧化する工程と、 (b)前記霧化流体組成物をキャリアーガスと接触させ、実質的にすべての前
記霧化流体組成物の気化が起こって凝縮温度を有する蒸気が発生するような条件
下で前記接触が行われる工程と、 (c)前記蒸気を前記基材の前記表面まで流動させ、前記表面が前記蒸気の前
記凝縮温度より低温である工程と、 (d)前記表面上に前記蒸気を液体として凝縮させて前記コーティング層を形
成する工程とを含む方法。 - 【請求項10】 前記流体組成物が実質的に溶剤を含まない請求項9に記載
の方法。 - 【請求項11】 前記蒸気が第1蒸気であって、前記方法が、 (1)第2流体組成物を霧化する工程と、 (2)前記霧化第2流体組成物を第2キャリアーガスと接触させ、実質的にす
べての前記霧化第2流体組成物の気化が起こって第2凝縮温度を有する第2蒸気
が発生するような条件下で前記接触が行われる工程と、 (3)前記第2蒸気を前記基材の前記表面まで流動させ、前記表面が前記第2
蒸気の前記凝縮温度より低温である工程と、 (4)前記表面上に前記第2蒸気を凝縮させて前記コーティング層の一部を形
成する工程とをさらに含む請求項9に記載の方法。 - 【請求項12】 前記流体組成物が少なくとも1種類の放射線硬化性成分を
含み、前記方法が、前記凝縮した蒸気に前記コーティング層の固化に有効な線量
の放射硬化エネルギーを照射する工程をさらに含む請求項9に記載の方法。 - 【請求項13】 前記流体組成物が硬化性ポリマーコーティング前駆体と、
前記ポリマーコーティング前駆物質の硬化を促進するために有効な量の硬化剤と
を含む請求項9に記載の方法。 - 【請求項14】 工程(b)が前記キャリアーガスがノズルの第1オリフィ
スから放出され、前記流体組成物が同じノズルの第2オリフィスから放出される
ことを含み、 (a)前記第1オリフィスが、円環形であり、前記キャリアーガスの流れが前
記第1オリフィスから移動する際に、頂点に向かって内側に先細りする中空で実
施的に円錐形のキャリアーガスの流れを放出するように適合しており、前記キャ
リアーガスの流れが内部領域を有し、 (b)前記第2オリフィスが、前記キャリアーガスの流れの前記内部領域を通
って前記キャリアーガスの流れと実質的に前記頂点において衝突するように前記
流体組成物の流れを放出するように適合している請求項9に記載の方法 - 【請求項15】 (a)キャリアーガスを第1液体組成物の複数の気化した
液滴と、実質的にすべての前記第1液体組成物が気化して凝縮温度を有する蒸気
を発生するような条件下で接触させる入口領域を有するチャンバーと、 (b)前記第1液体組成物と前記キャリアーガスとが通過して前記チャンバー
に入る入口端と、 (c)前記第1液体組成物のミストを前記チャンバ−内で発生させるための前
記入口端の近傍に位置する霧化手段であって、前記霧化手段が、前記流体組成物
を気化させるために前記第1流体組成物の少なくとも1つの流れと前記キャリア
ーガスの少なくとも1つの流れとを放出して前記流れがノズル前方で衝突するよ
うに適合させたノズルを含む霧化手段と、 (d)コーティングを行う基材を支持し冷却面を有する基材支持体であって、
前記冷却面が前記蒸気の前記凝縮温度より低温に到達可能であり、前記冷却面は
前記蒸気が前記冷却面まで流れることができる位置にある基材支持体とを含むコ
ーティング装置。 - 【請求項16】 前記蒸気の前記凝縮温度よりも高温に前記チャンバーを維
持するための加熱手段をさらに含む請求項15に記載のコーティング装置。 - 【請求項17】 前記ノズルが、 (a)前記ノズルに前記ガスが流入するためのガス流入口と、 (b)前記ガス流入口とは分離しており前記第1液体組成物が前記ノズルに流
入するための第1液体流入口と、 (c)(i)前記第1液体組成物の少なくとも1つの流れをノズルから放出す
るための少なくとも1つの第1液体放出口と、 (ii)ガスの少なくとも1つの流れを前記ノズルから放出して、前記第1液
体組成物の前記放出した流れと衝突させてそれによって霧化するための少なくと
も1つのガス放出口とを含む放出端と、 (d)前記第1液体流入口と前記第1液体放出口とを相互連絡する第1液体流
路と、 (e)前記第1液体流路とは分離しており前記ガス流入口と少なくとも1つの
ガス放出口とを相互連絡するガス流路とを含み、前記ガス流路が前記ガス流路の
下流端よりも単位ノズル長当りの体積が大きいガスチャンバーを有し前記チャン
バー内の前記ガスから前記第1組成物に熱が伝達できるように位置している請求
項15に記載のコーティング装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US08/980,947 US6045864A (en) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | Vapor coating method |
US08/980,947 | 1997-12-01 | ||
PCT/US1998/024230 WO1999028051A1 (en) | 1997-12-01 | 1998-11-12 | Vapor coating apparatus and method |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2001524386A true JP2001524386A (ja) | 2001-12-04 |
JP2001524386A5 JP2001524386A5 (ja) | 2006-01-05 |
JP4526704B2 JP4526704B2 (ja) | 2010-08-18 |
Family
ID=25527985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000523021A Expired - Fee Related JP4526704B2 (ja) | 1997-12-01 | 1998-11-12 | 蒸気コーティング装置および方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
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US (2) | US6045864A (ja) |
EP (1) | EP1035927B1 (ja) |
JP (1) | JP4526704B2 (ja) |
KR (1) | KR100571893B1 (ja) |
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WO (1) | WO1999028051A1 (ja) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP1035927B1 (en) | 2005-04-13 |
DE69829774T2 (de) | 2006-03-09 |
JP4526704B2 (ja) | 2010-08-18 |
US6045864A (en) | 2000-04-04 |
DE69829774D1 (de) | 2005-05-19 |
US6245150B1 (en) | 2001-06-12 |
KR20010032621A (ko) | 2001-04-25 |
EP1035927A1 (en) | 2000-09-20 |
KR100571893B1 (ko) | 2006-04-18 |
WO1999028051A1 (en) | 1999-06-10 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090115 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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