JP2007260895A - マイクロ構造および/またはナノ構造の構造基板をコーティングするための装置および方法 - Google Patents
マイクロ構造および/またはナノ構造の構造基板をコーティングするための装置および方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明は、マイクロ構造および/またはナノ構造の構造基板(8)を
コーティングするための装置(1)と方法に関連する。本発明によれば、コーティングは真空チャンバ(3)で行なわれる。真空チャンバ(3)の圧力レベルは、コーティング物質による真空チャンバ(3)の充填の際にまたはその後に高められる。
【選択図】図2
Description
ロボットを使って開にしたフラップ7を介して構造基板8が運搬要素9上に置かれる。構造基板8が固定され、真空グルーブ10に真空が適用された後、真空チャンバ3がフラップ7を使って閉じられる。その時、遮断弁6も閉じられる。さて、構造基板8に、霧化スプレーノズル14によってコーティング物質、好ましくは表面活性剤、溶剤、またはフォトレジストがスプレーされる。使われるコーティング物質は構造基板8の表面組成とピットまたはホールの構造に応じて工程に特定される。さらなる手順において、運搬ユニット9を、加熱冷却要素11を使って、ここで加熱することができる。運搬ユニット9、従って構造基板8の加熱の際にさえも、真空チャンバ3は真空ライン13を介して真空引きされる。所定時間後、運搬ユニット9は加熱冷却要素11を使って冷却される。その後、遮断弁6が開かれ、それを通じて余分の圧力が真空チャンバ3内へとすぐに流れ、霧化コーティング物質を構造基板8のくぼみに押し込め、それにより均一なコーティングを確実にする。
半導体基板またはモールドされたプラスチックまたはガラス基板から作られた構造基板8、ここではシリコンから作られたウェハが、フラップ7を介して運搬ユニット9上に置かれ、そして真空グルーブ10を使って固定される。ここで構造基板8には、任意選択で、スプレーノズル14により化学物質、好ましくはコーティング物質をスプレーすることができる。好ましくは、構造基板8は、表面活性化物質、溶剤、またはフォトレジストをスプレーされる。任意選択によるスプレー手順の後、真空チャンバ3が真空引きされる。構造基板8は加熱冷却要素11を使って第1加熱され、そして、好ましくは真空チャンバ3がコーティング物質により充填される前に再冷却される。この間、または後に、霧化チャンバ2が好ましくは加熱要素15によって加熱され、スプレーノズル20によりコーティング物質ミストで充填される。霧化チャンバ2内の圧力レベルは、好ましくは大気圧に対応するが、どんな場合でも真空引きした真空チャンバ3の圧力レベルよりは高い。霧化チャンバ2のコーティング物質による装填の後、その濃度が光学または化学センサ(図示せず)によって監視され、接続ライン5の遮断弁6が開けられ、それを通して真空チャンバ3がすぐにコーティング物質を満たし、さらに同時に圧力が与えられる。急激な圧力の増加、特に真空から大気圧までの増加により、また場合によっては異なる運搬ユニット9の温度プロフィールおよび/または曲線に起因して、約300μm深さで約100μm幅の空洞(キャビティ)、ピット、または深さに比較して小さな開口を上部に持つような他の形態学的な形状のものに対する、均一なライニング(lining:内塗り)が、一様な保護層、好ましくはフォトレジスト層によって得られる。
2 霧化チャンバ
3 真空チャンバ
4 中間チャンバ
5 接続ライン
6 遮断弁
7 フラップ
8 構造基板
9 運搬ユニット
10 真空グルーブ
11 加熱冷却要素
12 モーター
13 真空ライン
14 (霧化)スプレーノズル
15 加熱要素
16 ステップ
17 ベローズ
18 床板
19 アクチュエータ
20 スプレーノズル
21 フレキシブル接続ライン
22 アダプター
23 フレキシブル排液ライン
Claims (20)
- マイクロ構造および/またはナノ構造の構造基板(8)をコーティングするための装置であって、
前記構造基板(8)のための真空チャンバ(3)内に位置する運搬ユニット(9)を持ち、真空チャンバ(3)にコーティング物質を導入するための導入手段(14,5)を持ち、また真空チャンバ(3)の圧力レベルを変えるための手段(5,6,2)を持つことを特徴とする装置。 - 前記導入手段(14)は、入口ラインおよび/またはスプレーノズルおよび/またはアトマイザーノズルおよび/または超音波アトマイザーとして実装されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記運搬ユニット(9)は、前記構造基板(8)を加熱および/または冷却するための加熱および/または冷却要素(11)を持つことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記構造基板(8)は前記運搬ユニット(9)を使って回転できることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 遮断弁(6)を持った少なくとも1つの接続ライン(5)を介して真空チャンバ(3)に接続され、前記コーティング物質を霧化するための霧化手段(20)を持つ霧化チャンバ(2)が、併合された導入および圧力変更手段として提供されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 少なくとも1つの加熱素子(15)が前記霧化チャンバ(2)を加熱するために提供されることを特徴とする請求項5に記載の装置。
- 前記霧化チャンバ(2)は体積が可変なように実装されることを特徴とする請求項5または6に記載の装置。
- 少なくとも1つの検出器が、前記コーティング物質の濃度を検出するために、前記霧化チャンバ(2)内に提供されることを特徴とする請求項5に記載の装置。
- マイクロ構造および/またはナノ構造の構造基板(8)を、特に請求項1に記載の装置(1)を使ってコーティングするための方法であって、
・構造基板(8)を真空チャンバ(3)に装填する段階と、
・前記真空チャンバ(3)を真空引きする段階と、
・前記真空チャンバ(3)が真空引きされる前、および/または、その間、および/または、その後に、前記真空チャンバ(3)にコーティング物質を導入する段階と、
・前記コーティング物質が導入される間、および/または、その後に、前記真空チャンバ(3)内の圧力を高める段階と、
を有することを特徴とする方法。 - 前記コーティング物質は、特に前記真空チャンバ(3)の真空引きの後に、前記真空チャンバに液体の形態で導入されるか、および/または、霧化されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記構造基板(8)は、好ましく所定の時間間隔で、真空チャンバ(3)内で加熱されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記構造基板(8)は、好ましくは前記コーティング物質が導入される前、特に前記構造基板(8)を加熱した後に、冷却されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記コーティング物質は、前記霧化チャンバ(2)内で霧化され、かつ前記コーティング物質は、好ましくは霧化チャンバ(3)内の好ましいコーティング物質濃度に到達した後に、少なくとも1つの遮断弁(6)、および前記霧化チャンバ(2)と前記真空チャンバ(3)との間の少なくとも1つの接続ライン(5)を開くことにより、前記真空チャンバ(3)に導入されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 遮断弁(6)が開かれる前の霧化チャンバ(2)内の圧力レベルは、真空引きされた前記真空チャンバ(3)の圧力レベルよりも高く、前記霧化チャンバ(2)の圧力レベルは、好ましくは大気圧に対応することを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記霧化チャンバ(2)は、前記コーティング物質が霧化される前、および/または、その間に加熱されることを特徴とする請求項13または14に記載の方法。
- 約10nmから約400μmの深さを持つくぼみ、好ましくはピットまたはホールを有する半導体基板、または浮き彫り加工(emboss:エンボス加工)された、またはモールドされたプラスチック材料、またはガラスの基板、好ましくはウェハから作られた構造基板(8)が使用されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記くぼみの幅または直径はその深さより小さいことを特徴とする請求項16に記載の方法。
- フォトレジスト、および/または表面活性剤、および/または溶剤、および/または付着力促進剤が、コーティング基材として使用されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記構造基板(8)を前記真空チャンバ(3)に装填した後の方法段階は、好ましくは異なったコーティング物質を使って、複数回繰り返されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- コーティング物質により、マイクロ構造および/またはナノ構造の構造基板(8)をコーティングするための請求項1に記載の装置の用途。
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141006 |
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A521 | Written amendment |
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