JP2001520803A - 一貫生産型のベイ内バッファ・デリベリ・ストッカシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ポッドをＸ−Ｚ平面内で、ベイ間搬送システムと、種々のプロセスツール（102）のＩ／Ｏポート（104）と、ツールベイの壁に沿って設けられた複数の保管棚（106）との間で独力で搬送できる一対のシャットル（116）を含む一貫生産型（統合型）ベイ内バッファ・デリベリ・ストッカシステム。有利には、本発明により、各プロセスツール（102）が単一の搬送機構を共用すると共に各プロセスツール（102）がポッド用の単一の大型保管兼一時収納領域を共用するようにすることによりプロセスツール（102）がツールベイ内にひとまとめに組み込まれる。これにより、信頼性及び融通性が向上し、しかもハードウエア及びソフトウエアによる制御が簡単になる。さらに、保管棚（106）をツールベイ内でプロセスツール（102）のうち幾つか又は全ての上方に設けるのがよい。このように配置することにより、従来型ツールベイと比較して実質的に多数のポッド保管スペースが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】 一貫生産型のベイ内バッファ・デリベリ・ストッカシステム 発明の背景 発明の分野 本発明は、半導体ウェーハの搬送及び保管に関し、特にウェーハ運搬ポッドを 半導体ウェーハ製造施設のベイ内の種々の処理ツール相互間で移送したり保管す る一貫生産型のシステム（統合型システム、インテグレイテッド・システム）で あって、最小量のハードウエア及びソフトウエア制御で且つスペース利用効率の よい仕方で作動するかかるシステムに関する。関連技術の説明 ヒューレット・パッカード・カンパニイにより提案されたＳＭＩＦシステムは 、米国特許第４，５３２，９７０号及び第４，５３４，３８９号に開示されてい る。ＳＭＩＦシステムの目的は、半導体製造工程中のウェーハの保管及び搬送の 際における半導体ウェーハ上への粒子の飛散を減少させることにある。この目的 は、機械的な手段により、保管及び搬送中、ウェーハの周りのガス状媒体（例え ば、空気又は窒素）がウェーハに対して本質的に静止しているようにすることに より、そして周囲環境からの粒子がすぐ近くのウェーハ環境中へ侵入しないよう にすることによって或る程度は達成されている。 ＳＭＩＦシステムは、粒子を含んでいない少量のガスを運動状態、ガスの流れ 方向及び外部汚染要因物に関して制御して用いることにより物品のためのクリー ンな環境を提供する。提案された一システムの一層の詳細は、１９８４年７月発 行の『ソリッドステート・テクノロジー（Solid State Technology）』（第１１ １〜１１５頁）に所収されているミヒール・パリキ（Mihir Pariki）氏及び ウルリッヒ・カエンプ（Ulrich Kaempf）氏の論文“ＳＭＩＦ：ＶＬＳＩの製造 におけるウェーハカセット移送のテクノロジー（A TECHNOLOGY FOR WAFER CASSE TTE TRANSFER IN VLSI MANUFACTURING）”に記載されている。 上述のタイプのシステムは、０．０２ミクロン（μｍ）以下〜２００μｍ以上 の範囲にわたる料子サイズに関心を持っている。これらのサイズの粒子は、半導 体デバイスを製造する際に用いられる寸法形状が小さいので半導体処理において 非常に大きなダメージを与える場合がある。代表的な最新式の半導体処理におい て取り扱う大きさは、今日では０．５μｍ以下である。測定して０．１μｍ以上 の大きさの望ましくない汚染粒子は実質的に、１μｍの大きさの半導体デバイス の妨げとなる。技術動向としては、当然のことながら、半導体処理に関する寸法 形状は更に更に小さくなっており、研究開発現場では今日では０．２μｍ以下に なっている。将来、寸法形状は一層小さくなり、従って一層小さな汚染粒子が関 心の対象になることであろう。 ＳＭＩＦシステムは、ウェーハを保管したり搬送するのに用いられる容量が最 小限に抑えられた密閉ポッドを有する。ウェーハファブ（ウェーハ製造施設）内 では、ＳＭＩＦポッドを或る一つの処理ツールベイから別のツールベイ（ベイ間 デリベリ（配送）システム）に移送する第１の自動化搬送システムが設けられ、 ポッドを特定の各ベイ（ベイ内デリベリシステム）内であちこちに移送する第２ の自動化搬送システムが設けられている。代表的には長さ約８０フィート（約２ ４ｍ）台の各ツールベイは一般に、種々のウェーハ製造機能を実行する多数の処 理ツール（以下、「プロセスツール」という場合もある）と、処理の前後でポッ ドを保管できる少なくとも１つのストッカとから成る。さらに、一般にポッドを 特定のベイ内で数個の処理ツールに移送するときに、ポッドを処理相互間でスト ッカ内に保管する場合がある。ストッカは代表的には、ポッドを載置状態で保管 すできる複数の棚及びポッドをストッカから出し入れすると共にポッドをストッ カ内であちこちに移動させる搬送システムを有する大型ユニットである。 ツールベイ内に設けられた処理ツールの中には、一般に、処理能力の高いツー ルがあり、かかるツールは、他の処理ツールよりも比較的高い速度でそれらの特 定のウェーハ処理を行うことができる。さらに、ベイ内のツールの中には計測用 途のツールがあり、かかるツールは、一般に、ウェーハ収納ポッド内から単一の ウェーハをモニターし又は検査する。ポッドは、例えば、２５個のウェーハを保 管できる。もし通常の処理能力のツールが１時間で５０個のウェーハを処理でき るとすれば、搬送システムがそのツールに供給する必要のあるポッドは１時間当 たり２個に過ぎない。しかしながら、同様に１時間あたり５０個のウェーハを処 理できるが、ポッド１個当たり一つのウェーハしか扱わない計測用ツールの場合 、ツールを遊ばせておかないようにするためには１時間あたり５０個のポッドを 計測用ツールに供給しなければならない。 高処理能力ツール及び計測用ツールに対応するために、ローカルツールバッフ ァを高処理能力ツールポート及び計測用ツールに隣接して設け、それによりポッ ドを遠隔に設置されたストッカからポッドを取り出す必要なく、ポッドをかかる ツールに隣接して局所的に保管し、これらツールに迅速に移送できるようにする ことが知られている。かかるローカルツールバッファは一般に、高処理能力ツー ル及び計測用ツールに隣接して設けられており、これらローカルツールバッファ は、ポッドを保管する棚及びポッドをローカルツールバッファに、これらローカ ルツールバッファから、そしてローカルツールバッファ内で移送する搬送システ ムを有している。 図１及び図２はそれぞれ、ストッカ２０及び複数の処理ツール２２，４０を有 する典型的なツールベイの概略平面図及び概略正面図である。さらに、図１及び 図２は、ツールベイ相互間におけるポッドの自動搬送を行うベイ間デリベリシス テム（インターベイ・デリベリシステム）２５及びベイ内でポッドの自動搬送を 行うベイ内デリベリシステム（イントラベイ・デリベリシステム）を示しており 、かかるベイ内デリベリシステムについては、以下に説明する。従来型のベイ内 デリベリシステムは、多数の搬送インタフェースを有し、これら搬送インタフェ ースのところで、ポッドを或る一つの搬送機構から別の搬送機構に渡し又は移送 す必要がある。次に、従来型ツールベイ内の搬送インタフェースについて図１、 図２及び図３に示されたフローチャートを参照して説明する。図面には概略的に 示されているが、各インタフェースは、ポッドを第１の搬送機構から取り出し又 は外し、そしてこれを第２の搬送機構に係合するよう位置決めする機構を必要と す る。先ず最初にポッドをツールベイ内でベイ間デリベリシステム２５から受け取 ると、ポッドをステップ５０においてストッカ２０に移送するか、或いはステッ プ５２においてベイ内搬送機構３０に直接配送するのがよい。 ポッドを先ず最初にストッカ２０内に保管すべき場合、ポッドをベイ間デリベ リシステム２５からインタフェース２７のところでストッカの入力／出力（Ｉ／ Ｏ）部２３に渡す。ストッカのＩ／Ｏ部はポッドをインタフェース２９のところ でストッカ内のストッカ搬送機構２６に渡す（ステップ５４）。しかる後、ポッ ドをストッカからツールベイ（以下に説明する）に移送し、或いはベイ間デリベ リシステムに戻すことができる。ポッドをストッカからベイ間デリベリシステム に送り戻すべき場合、ステップ５５においてポッドを搬送機構２６からストッカ のＩ／Ｏ部２３に移送し、次にステップ５９においてポッドをストッカＩ／Ｏ部 からベイ間デリベリシステム２５に移送する。 理解できるように、別法として、ポッドをステップ５２において機械的インタ フェース３２のところでベイ間デリベリシステム２５から、直接、ベイ内搬送機 構３０に移送してもよい。ベイ内搬送機構３０から、ポッドを複数のプロセスツ ール２２，４０に移送しても、或いはストッカ２０に移送してもよい（これは、 プロセスツール２２，４０への移送の前又は後の何れであってもよい）。ポッド をベイ内搬送機構３０からストッカに移送するために、ポッドをステップ５７に おいて先ず最初にインタフェース２４のところでストッカＩ／Ｏ部２１に移送し 、次にステップ６１においてインタフェース２８のところでストッカ搬送機構２ ６に移送する。ベイ内搬送機構３０からポッドを受け取るストッカＩ／Ｏ部２１ は、ベイ間搬送機構からポッドを受け取るストッカＩ／Ｏ部２３と類似しており 、ストッカ搬送機構２６は、ポッドをストッカＩ／Ｏ部２１とストッカＩ／Ｏ部 ２３の両方から受け取ることができる。 ポッドをベイ内搬送機構３０から処理ツールに移送すべき場合、ポッドをイン タフェース３８のところでツールデリベリ機構３４に移送する（ステップ６０） 。別法として、高処理能力ツール及び計測用ツール、例えばツール４０の場合、 ポッドをステップ６２において、先ず最初に、インタフェース４４のところでロ ーカルバッファデリベリ機構４２に移送し、次にインタフェース４８のところで ツ ール内デリベリ機構４６に移送する。次に、デリベリ機構４６は、ポッドをロー カルツールバッファ内の所望位置に位置決めする。最後に、ツールデリベリ機構 ３４（通常の処理能力のプロセスツールのツールデリベリ機構）は、ステップ６ ３においてポッドを各ツールのＩ／Ｏポート５０に送るか、或いは、ローカルバ ッファデリベリ機構４２（高処理能力ツール又は計測用ツール）は、ステップ６ ５においてポッドをＩ／Ｏポート５０に送る。 上述のデリベリ機構及びインタフェースは又、通常処理能力プロセスツールに ついてはステップ６４，６６において、又は、高処理能力及び計測用ツールにつ いてはステップ６８，７０において、ベイ内搬送機構３０に戻すのに利用される 。次に、ベイ内搬送機構は、上述したようにポッドをストッカに移送し、又はス テップ６７においてベイ間デリベリシステムに戻すことができる。 各ツールベイは約１５〜２０個程度のプロセスツールを有しているので、ベイ 内デリベリシステムは全体で、ポッドを物理的に一搬送システムから別の搬送シ ステムに移送する必要のある場合に用いられるインタフェースを１００個以上有 する場合がある。多数の構成要素及び複雑なハードウエアを有するかかる従来型 システムは幾つかの欠点を備えている。第１に、ストッカとローカルツールバッ ファの両方又は何れか一方は、高価であり、場合によってはこれらが用いられる プロセスツールと同じほど高価である。また、ストッカ、ローカルツールバッフ ァ及び専用搬送機構及びインタフェースは、ツールベイ内の貴重なスペースを占 有する。第２に、各ツールが、ポッドをそのツールに出し入れする唯一の機構と して専用搬送機構を有している場合、搬送機構が誤動作をした場合、そのツール は切離し状態になり、手動操作による移送以外にはポッドをツールに供給したり 、ポッドをツールから取り出す術が無くなる。第３に、ポッドを一搬送機構から 別の搬送機構に渡さなければならない場合に用いられる各インタフェースは、移 送の際にポッドの取扱いを誤る恐れを潜在的に備えている。従来型システムのイ ンタフェースが多数なのでポッドの取扱いの誤りの恐れは何倍にもなる。 従来型配送及び保管システムにおけるハードウエアに関する問題に加えて、従 来技術は、かかるシステムのソフトウエア制御に関して幾つかの欠点を有してい る。第１に、可動であって相互作用する各構成要素は、或るレベルのソフトウエ ア制御を必要とする。かくして、ベイの周りに位置した多くの搬送機構、ストッ カ内の搬送機構、及びローカルツールバッファ内の搬送システムはそれぞれ、そ の動作及び相互作用又は対話のためのソフトウエアルーチンを必要とし、その結 果、ソフトウエア制御システムが複雑になる。第２に、ソフトウエア制御システ ムは、インタフェースの一方の側の搬送機構が移送のためにポッドを提供すると 、インタフェースの他方の側の搬送機構がこれを受け取るためにそこに存在しな ければならないようにインタフェースを制御する必要がある。上述したように、 ベイ内には１００個を越えるインタフェースが存在する場合があるので、各イン タフェースのところでの手渡しの適正なタイミングをとって移送機構又は受取り 機構がインタフェースのところで待機しなくてもよいようにするためには極めて 複雑なアルゴリズムが必要である。第３に、ツールが誤動作をした場合、ソフト ウエア制御はそのツールに関してスケジュール設定されたポッドを送りなおし、 そのツールのためのローカルツールバッファ内に存在しているポッドを取り除き 、ツールのローカルバッファから取り除かれたポッドのための別のツール、バッ ファ又は保管場所を見つけなければならず、これらは全てベイ内におけるたのプ ロセスツールへのポッドの出し入れを中断させないで行われる必要がある。従来 型ソフトウエア制御プログラムは、このような事態を効果的にこなすのは極めて 困難である。 図１及び図２に示すベイ内デリベリシステムの代替例として、ベイ内搬送機構 ３０をモノレールケーブルホイストを含むオーバーヘッド形搬送システムで置き 換えることが知られている。かかるオーバーヘッド形搬送システムは、ポッドを ツールベイの長手方向に沿って水平方向に搬送でき、そして所望のＩ／Ｏポート ５０上に位置したときにケーブルがポッドを搬送機構からＩ／Ｏポート５０上に 下降させる。かかるシステムを用いると、図１及び図２に示すインタフェース３ ８，４４を不要にすることができる。しかしながら、かかるオーバーヘッド形搬 送システムに関する問題、並びに、図１及び図２に示す従来型システムに関する 別の欠点は、ツールデリベリ機構３４（図１及び図２）、又は、オーバーヘッド 形搬送システムのケーブルリフトが、ポッドをＩ／Ｏポート上に下降させること ができるようＩ／Ｏポート５０上に障害物のない経路を設けなければならない ことである。オーバーヘッド形搬送システムのもう一つの欠点は、ポッドをＩ／ Ｏポート５０上に正確な位置及び正確な向きをなした状態で位置決めし、その後 にウェーハが自動的にプロセスツール内へ引き入れられるようにすることが肝要 であるということにある。しかしながら、ポッドの下降中、ケーブルは揺れやす く、重力の作用とは異なる横方向位置決め支持手段を備えていない。かくして、 ケーブルシステムは、ポッドをプロセスツールのＩ／Ｏポートの頂部の上に正確 な位置で位置決めする際に誤差を生じがちである。 発明の概要 したがって、本発明の利点は、ポッドを処理ツールに出し入れする構成が非常 に簡単で且つ効率的なシステムを提供したことにある。 本発明の別の利点は、ポッドの手渡し及び移送インタフェースを最小限にして ポッドをベイ間デリベリシステムから処理ツールに配送するシステムを提供した ことにある。 本発明の別の利点は、複雑ではない材料制御ソフトウエアシステムを必要とし 、ツールが不調であったり故障した場合でも動作できるポッド保管及び配送シス テムを提供したことにある。 本発明の別の利点は、従来型ストッカ及びローカルツールバッファを不要にし 、それによりツール処理ベイ内に追加のスペースをつくり、ハードウエア及びソ フトウエア制御システムを単純化し、これらユニットと関連した費用を削ったこ とにある。 本発明の別の利点は、ツールベイ内に多数の一時収納及び保管スペースを提供 したことにある。 本発明の更に別な利点は、従来型ツールベイ内に現在利用できる未使用スペー ス内に一時収納及び保管場所を提供してツールベイのサイズを大きくしないで保 管及び一時収納スペースを増大させたことにある。 本発明の別の利点は、一時収納及び保管スペースをツールベイ内で各処理ツー ルに隣接して配置し、それにより特定の処理ツールへのポッドの配送速度を増大 させたことにある。 本発明の更に別の利点は、ツールベイの設計及び改装に関する融通性を高めた ことにある。 上記利点及び他の利点は，好ましい実施形態では、一貫生産型（統合型）バッ ファ（一時収納）・デリベリ（配送）・ストッカ（保管）システムに関する本発 明によって得られる。本発明の実施形態では、ウェーハファブ内の各ベイの各側 は、好ましくは、ツールベイ内でポッドをベイ間搬送システムと、種々のプロセ スツールのＩ／Ｏポートと、保管棚との間で独力で搬送できる一対のシャットル を含む。各シャットルは好ましくは、ツールベイ内で上下に並進（なお、並進又 は並進運動とは、回転運動と対比される物理学的用語であることに注意されたい ）できるよう軌道ユニット内に並進可能に設けられたグリッパを有する。さらに 、軌道ユニットはツールベイに沿って水平方向運動自在に並進可能に設けられて いる。したがって、各シャットルのグリッパはツールベイの鉛直面内でＸ−Ｚ方 向の並進運動を行うことができる。かかるシャットルを２つ設けることにより、 ポッドを例えばＩ／Ｏポートから持ち上げて別のポッドをこの上に配置でき、こ の場合、第１のポッドをどこか別の場所に下ろすために待機する必要はない。 本発明は、ツールの前且つＩ／Ｏポートの上方でツールベイの長手方向に沿っ て取り付け可能なモジュール式パネルに取り付けられた複数の保管棚を更に有し ている。有利には、保管棚をツールベイ内でプロセスツールのうち幾つか又は全 ての上方に配置される。かかる構成により、従来型ツールベイと比較してポッド を保管するスペースが実質的に多くなる。さらに、一つには従来型システムでは 処理ツールのＩ／Ｏポート上の障害物のない経路が利用可能でなければならない という理由で処理ツール上のスペースが現行方式では未使用なので、本発明によ れば、従来型ツールベイの設置面積を増大させないで保管能力を増大させること ができる。 作用を説明すると、シャットルのうち一方がポッドをベイ間デリベリシステム から取り出し、次に、このポッドを特定の処理ツールのＩ／Ｏポートに送るか、 或いは、好ましくは、ポッドを次に移送する処理ツールに隣接した利用可能な棚 上に保管する。しかる後、ポッド内のウェーハの処理がそのベイについて完了す るまでいずれかのシャットルを用いてポッドをツールベイ内であちこちに移動さ せ、その後、ポッドを棚のうち一つの上に保管し、或いはベイ間搬送システムに 戻すのがよい。 本発明は、ベイの設計及び改装に関し、従来型システムと比べて高い融通性を もたらす。第１に、シャットルは、ポッドをＩ／Ｏポートに配送するのに辿らな ければならない専用経路を必要とせず、本発明のデリベリシステムは、Ｉ／Ｏポ ートの位置に依存しない。かくして、たとえば、処理ツールに代えてＩ／Ｏポー トを備えた別のツールを、交換したツールとは異なる場所に配置する場合、シャ ットルを改造する必要はない。同様に、保管棚の位置は、Ｉ／Ｏポートの位置に 依存しない。シャットルがツールベイの側部上の任意の２つの点の間にポッドを 移動できるので、ツールのＩ／Ｏポート上に障害物のない経路を維持しておく必 要はない。 有利には、本発明により、各プロセスツールが単一の搬送機構を共用すると共 に各プロセスツールがポッド用の単一の大型保管兼一時収納領域を共用するよう にすることにより、プロセスツールがツールベイ内にひとまとめに組み込まれる 。更に、本発明により、従来技術のポッドの手渡し、ストッカ及びローカルツー ルバッファと関連した複雑なハードウエア及びソフトウエア制御の大部分を本発 明では不要にできるという点において、一層信頼性の高いポッド用一時収納・配 送・保管システムが得られる。 図面の簡単な説明 次に、本発明の内容につき図面を参照して説明する。 図１は、ストッカ、複数のプロセスツール、及びポッドデリベリシステムを含 む従来型のツールベイの平面図である。 図２は、ストッカ、複数のプロセスツール、及びポッドデリベリシステムを含 む従来型のツールベイの一方の側から見た正面図である。 図３は、従来型ベイ内ポッドデリベリシステムで必要とされたインタフェース のフローチャートである。 図４は、本発明のベイ内バッファ・デリベリ・ストッカシステムを有するツー ルベイの正面図である。 図５は、本発明のベイ内バッファ・デリベリ・ストッカシステムを有するツー ルベイの平面図である。 図６は、本発明のベイ内バッファ・デリベリ・ストッカシステムを有するツー ルベイの端面図である。 図７は、本発明のシャットルの正面図である。 図８は、図７に示すシャットルの側面図である。 図９は、本発明の変形実施形態のシャットルの正面図である。 図１０は、図９の変形実施形態のシャットルの側面図である。 図１１は、本発明の把持機構の拡大側面図である。 図１２は、本発明のプロセスツールベイ内でポッドをあちこちに移動させるソ フトウエア制御の好ましい実施形態のフローチャートである。 図１３は、本発明の変形実施形態のシャットル及び保管棚の斜視図である。 詳細な説明 次に、一般にプロセスツールベイ内でＳＭＩＦポッドを一時収納し、配送し、 そして保管する統合型ベイ内システムに関する本発明を、図４〜図１３を参照し て説明する。本発明の好ましい実施形態はＳＭＩＦポッドに利用されるが、利用 されるポッドのタイプは本発明にとっては重要ではなく、本発明では半導体ウェ ーハが収納される種々の容器のうち任意のものが使用可能であることは理解され よう。これとしては、ウェーハが収納される底開放ポッド、前開放ポッド、カセ ットレスポッド及びオープンカセットが挙げられるが、これらには限定されない 。さらに、半導体ウェーハ以外の被処理又は加工物（かかる加工物としては、ポ ッド内で保管されると共に、或いは搬送できるレチクル、フラットパネルディス プレイ及び他の基板が挙げられる）がポッド内に使用できることが意図されてい る。 図４及び図５は、それぞれ半導体プロセスツールベイ１００の一方の側から見 た正面図及び平面図である。ベイ１００は、複数のプロセスツール１０２を有し ている。本発明は、特定のツールベイ内で任意の数のプロセスツールを用いて利 用できることは理解されよう。各プロセスツール１０２は、ＳＭＩＦポッドを受 け入れ、ウェーハをポッドとプロセスツールの内部との間で搬送する少なくとも １つのＩ／Ｏポート１０４を有している。当該技術分野で公知のように、プロセ スツール１０２は主として、「チェイス」と呼ばれるスペース内に配置され、Ｉ ／Ｏポート１０４を有するツールの前面は、ベイ１００内へ突出している。チェ イスは、プロセスツールを取り出したり交換すると共に、或いはプロセスツール に接近するために用いられる。 図４〜図６に示すように、ベイ１００は、複数の棚１０６を更に有し、各棚は 、ポッド１０８を支持できる上面を有している。棚１０６を、ポッドをこの上に 支持すると共にグリッパがポッドの頂部と隣の上の棚との間のスペース内に入り 、以下に説明するようにポッドを把持して搬送するのに充分な距離互いに垂直方 向に間隔を置いて配置するのがよい。図４に示すように、本発明の一実施形態で は、棚は複数の行及び列をなした状態で並べられている。しかしながら、本発明 の棚をベイ内に種々の形態で設けてもよいことは理解されよう。本発明の好まし い実施形態では、スペース１１０（図４及び図６）が、行をなした棚１０６の上 、下、及び／又は、棚の相互間に設けられている。ポッド１０８がシャットル１ １６（以下に説明する）によってベイに沿って水平方向に移送されるのはこのス ペース内である。水平方向のスペース１１０に加えて、棚１０６は好ましくは、 垂直方向のスペース１１２もまた構成するようグループ分けされている。スペー ス１１２は、ポッドをシャットルによってベイ１００内で垂直方向に移送できる と共にシャットルによってベイ内で各ポッドに接近できるよう設けられている。 図４に示す実施形態では、１つの水平方向スペース１１０が示されており、３列 目ごとの棚１０６がスペース１１２を構成するよう開かれたままになっている。 しかしながら、棚１０６のグループ分けによって構成されるスペース１１０，１ １２の位置及び数は変形実施形態では様々であってよいことは理解されよう。 各棚１０６は好ましくは、粒状化特性及びガス発生特性の低い剛性材料、例え ば陽極酸化処理表面仕上げのアルミニウムで作られる。さらに、当業者には理解 されるように、各棚は、その上面に設けられていて、各ポッドの下面に設けられ た溝と嵌合してポッドを棚上に位置決めすると共に保持する自動運動式取付けピ ンを有するのがよい。 棚１０６を１又は２以上のパネル１１４（図６）に取り付けるのがよく、これ らのパネルをベイ１００内にモジュール部分の状態で設けるのがよい。パネルを 、フロアに取り付けられた脚上に支持されると共にベイの天井に固定されるのが よい。変形例として、パネルを全体としてベイの天井に取り付けてもよい。従来 型ウェーハファブでは、クリーンルームの壁は各プロセスツールの周りに切断形 成され、それによりクリーンルームの環境をツールベイ内に構成している。この 結果として、ツールを取り出して、互いに異なる寸法の新しいツールに置き換え る度に、高価なクリーンルームの壁を破棄しなければならず、新しいクリーンル ームの壁を新しいツールの外形に合わせて切断して据え付けなければならなくな る。しかしながら、本発明によれば、この手順はパネル１１４を用いることによ り大部分回避できる。パネルは、ツールベイ内で天井からツールＩ／Ｏポートよ りも上方に僅か約１５００mmの高さまで下げた状態で設けられている。１５００ mmの下では、プロセスツール自体は、ツール相互間の切欠き状態のクリーンルー ム部分と一緒になってベイを封止する。したがって、ツールを交換する場合、修 正を必要とする可能性のあるのは、ツール相互間で且つ１５００mm下のクリーン ルーム部分の幅だけである（これは、従来型ベイの場合のように壁の１２〜１５ フィート（約３．６〜４．６ｍ）の高さ部分を完全に交換しなければならないの とは対照的である）。 棚１０６は有利には、ベイ内でＩ／Ｏポート１０４の上方に設けられる。発明 の背景の項で説明したように、従来型システムでは、Ｉ／Ｏポートの上方のスペ ースは開かれたままにしておかなければならなかった。その目的は、ツールデリ ベリ機構がポッドをＩ／Ｏポート上に下降させる障害物のない経路が得られるよ うにすることにあった。しかしながら、以下に説明するように、本発明のシャッ トルはＸ−Ｚ方向並進運動を行うことができる。かかるシステムによって得られ る利点は、ポッドをシャットルによって貯蔵棚から調達でき、そして必要に応じ て水平方向と垂直方向の両方又はいずれか一方に移動させてポッドを所望のＩ／ Ｏポート上に配置できることにある。Ｉ／Ｏポート等の上には、シャットルによ って利用されなければならない特定の経路はない。その目的は、シャットルがポ ッドを特定のＩ／Ｏポート上に移送できるようにすることにある。この結果、棚 をＩ／Ｏポートとは独立して且つＩ／Ｏポートの位置とは無関係にツールベイ内 に位置決めできる。 シャットルのＸ−Ｚ方向並進運動及び貯蔵棚の独立位置決めにより、幾つかの 利点が得られる。第１の利点として、ツールベイの設計及び改装の融通性が大幅 に向上する。上述したように、貯蔵棚の位置は、Ｉ／Ｏポートの位置で左右され ない。かくして、例えば、棚１０６を有するパネル１１４を、ベイ内におけるプ ロセスツールのレイアウトが分かる前でも製作できる。さらに、Ｉ／Ｏポートの 位置は、例えばプロセスツールの交換の際に、貯蔵棚の位置を代える必要なく変 更できる。 機械的移送機構及びインタフェースに代えて本発明のシャットルを用いると、 融通性が一段と向上する。発明の背景の項において図１及び図２を参照して説明 したように、例えばツールデリベリ機構３４及びこのためのインタフェース３８ の位置設定は、Ｉ／Ｏポートの位置によって完全に規定され、即ちデリベリ機構 ３４及びインタフェース３８はＩ／Ｏポートの上方に垂直方向に配置されなけれ ばならなかった。この結果として、ツールを交換する場合、新型機械のＩ／Ｏポ ートのいずれをも旧式機械のＩ／Ｏポートと同一の位置に配置しなければならず 、それにより融通性が制限され、或いは既存のツールデリベリ機構及びインタフ ェースを交換しなければならなかった。しかしながら、シャットル１１６は、こ れらがポッドをＩ／Ｏポートに配送するのに辿らなければならない専用経路を必 要としないので、本発明のデリベリシステムは、もはやＩ／Ｏポートの位置に依 存しない。 本発明の一時収納・配送・保管システムはまた、従来型システムと比べてポッ ド貯蔵能力が高い。発明の背景の項で説明したように、従来型システムは、ツー ル内における処理の前又はその後でポッドを保管するストッカを用いていた。 ３００mmのウェーハを扱うツールベイの場合、従来型ストッカは、平均で約１０ ０個のポッドを保持していた。しかしながら、従来型ツールベイと同一サイズの 約８０フィート（約２４ｍ）のツールベイでは、本発明は２倍以上の量のポ ッドを保管できる。その上、本発明では、ポッドは従来型ツールベイでは用いら れなかったツールの上方のスペースに保管されるので、ツールベイの設置面積を 増大させないで追加の貯蔵スペースが得られる。さらに、ポッドを次に移送され るべきプロセスツールに近接して位置した棚上に保管でき、また従来型システム において何回も行われる手渡しとは対照的に、移送が一段階で行われるので、本 発明は従来型システムよりも非常に迅速にポッドとプロセスツールに配送するこ とができる。 本発明において貯蔵スペースの増大により得られるもう１つの利点は、ストッ カを本発明のシステムから省略できることである。ストッカは高価であり、これ らを省くことによりファブ機械設備費を減少させることができる。また、材料制 御ソフトウェアシステム（以下に説明する）を、ストッカを動作させるための別 個の制御手段を不要にできるという点において単純化できる。さらに、ストッカ を省くことにより、ツールベイ内の貴重なスペースが自由に使え、この中に１又 は２以上の追加のプロセスツールを配置することができ、それにより生産性が向 上する。 ストッカの省略に加えて、複数の棚１０６を各プロセスツールのＩ／Ｏポート に隣接して配置できるので、従来、高処理能力ツール及び計測用ツールに隣接し て設けられていたローカルツールバッファを省略することができる。本質的に、 棚は、あらゆるプロセスツールのローカルバッファとなり、通常の高い処理能力 を従来と同様に発揮することができる。ストッカの省略の場合と同様に、ローカ ルツールバッファを省略することにより、少なくとも、ローカルツールバッファ の利用と関連した費用が節約でき、材料制御ソフトウェアを単純化できるという 利点が得られる。ストッカ及びローカルツールバッファを不要にしたことによっ て得られるさらにもう１つの利点は、これら構成要素と関連したデリバリ機構及 び機械的インタフェースもまた不要にすることができ、それにより、誤動作及び ポッドの誤った取扱いの潜在的な原因が除かれ、さらにソフトウェア制御システ ムが一段と単純化されるということにある。 また本発明により、従来ツールに設けられていたマニュアルロードポートを省 くことにより、プロセスツールの幅を減少させることができる。Ｉ／Ｏポートに 加えて、プロセスツール、最も典型的には処理能力の高いプロセスツールは、マ ニュアルロードポートと通称されているＩ／Ｏポートの隣の追加の設置場所をも つことができる。マニュアルロードポートは、プロセスツールに取り付けられて いて、ポッドがツールのＩ／Ｏポート上に手作業か自動的かのいずれかで移送準 備ができるまでにポッドを配置できるバッファ又は保管場所となる棚又は支持面 に過ぎない。かかるマニュアルロードポートの例が、図２において符号５１のと ころに示されている。ポッドをマニュアルロードポート上に配置するための専用 搬送機構及びインタフェースを必要とすることに加えて、Ｉ／Ｏポートの次にロ ードポートを設けることにより、プロセスツールの全幅が増大する。２つのＩ／ Ｏポート及びマニュアルロードポートを有するプロセスツールの幅は代表的には 、３００mmのウェハを扱うシステムの場合、約６０インチ（約１．５ｍ）である 。 上述したように、複数の棚をツールベイに沿って各Ｉ／Ｏポートに隣接して配 置することが本発明の特徴である。棚はプロセスツールの各々について十分過ぎ るほどの一時収納を行うことができるので、従来のプロセスツールに設けられて いたマニュアルロードポートを省くことができる。マニュアルロードポートを省 くことにより、ツールの幅は、３００mmのウェーハを用いるシステムの場合、約 １８インチ（約４６cm）減少させることができることが見込まれる。プロセスツ ールの幅の減少により、クリーンルーム環境内に貴重なスペースが自由に使える ことになり、潜在的に追加のプロセスツールを使用できる余地が生じる。 本発明は、ポッドをベイ間搬送手段１１８から受け取って、これらポッドをツ ールベイ内であちこちに搬送する一対のシャットル１１６を更に有している。図 ７の正面図及び図８の側面図に示すように、シャットル１１６は、キャリジ１２ １ａ，１２１ｂに取り付けられたグリッパ１２０を有している。キャリジ１２１ ａ，１２１ｂは、レール１２２ａ，１２２ｂに沿って垂直方向運動自在に並進で きるよう取り付けられている。レール１２２ａ，１２２ｂは、第２の組をなすキ ャリジ１２４ａ，１２４ｂに取り付けられ、これらキャリジは、ツールベイ１０ ０の長さにまたがるレール１２６ａ，１２６ｂに沿って水平方向運動自在に並進 できるよう取り付けられている。当業者には理解されるように、一対の駆動機構 （図示せず）を設けるのがよく、第１の駆動機構は、グリッパ１２０及び キャリジ１２１ａ，１２１ｂをレール１２２ａ，１２２ｂに沿って駆動し、第２ の駆動機構はキャリジ１２４ａ，１２４ｂ及びこれらに取り付けられた構成部品 をレール１２６ａ，１２６ｂに沿って駆動する。駆動機構は、好ましくは、それ ぞれのキャリジを駆動するモータ、例えばサーボモータ又はステッピングモータ を有する場合がある。動力伝達機構、例えば歯車組立体、無端チェーン又はケー ブルをモータとそれぞれのキャリジとの間に作動的に連結してモータの動力をキ ャリジに伝えるようにするのがよい。駆動機構は、好ましくは、以下に説明する 材料制御ソフトウェアによって制御される。動力信号及び制御信号は、シャット ル１１６内で種々の公知の方法、例えば水平方向レール１２６ａ又は１２６ｂの いずれかに沿って且つ垂直方向レール１２２ａ又は１２２ｂのいずれかに沿って 設けられた電気リード線によって受けとられるのがよい。 当業者には理解されるように、グリッパ１２０の水平方向及び垂直方向の並進 運動を達成するために、種々の他の移動及び並進運動システムを図７及び図８に 示すものに代えて用いてもよい。多くの変形実施形態のうちの１つが、図９及び 図１０に示されており、かかる実施形態では、レール１２２ａ，１２２ｂは一対 のキャリジ１２８ａ，１２８ｂに取り付けられ、これらキャリジはツールベイの 頂部に沿って設けられた一対のレール１３０ａ，１３０ｂ上に載っている。変形 例として、種々の他の公知の移動システムを用いてもよい。これは、第１の並進 運動機構を第２の直交方向に動く並進運動機構上に敷設するシステム、又は、Ｘ −Ｚ方向並進運動が可能な単一の機構を備えたシステムを含む。 グリッパ１２０に関する細部が図１１の側面図に示されている。ブラケット１ ３２が、キャリジ１２１ａ，１２１ｂ相互間に延びている。グリッパは、ブラケ ットに取り付けられており、グリッパの端部からはピン３４が上方に突出してい る。シャットル１１６の水平の並進運動方向から見て、グリッパ１２０の横断面 は実質的に“Ｃ”字形の形をしている。このような形になっているので、グリッ パは、従来ポッド１０８に設けられているハンドル１３８上に水平方向に且つこ の周りにぐるりと移動することができる。ハンドルは、ピン１３４と嵌合する戻 止め１３６を有している。 次に、図４、図６、図７及び図１１を参照すると、特定のポッド、例えば図６ のポッド１０８₁を把持してこれを移送するために、シャットルはベイに沿って 水平方向に動かされ、次にスペース１１２のうちの１つの中で上又は下に垂直方 向に動かされ、ついにはグリッパ１２０がポッド１０８₁の隣に位置するように する。グリッパ１２０は、次にシャットルを水平方向に移動させ、ピン１３４が 戻止め１３６と実質的に垂直方向に整列するまで“Ｃ”字形グリッパがハンドル １３８の上方に且つこの周りに動くようにする高さ位置でポッド１０８₁の隣に 位置決めされる。この位置では、グリッパ１２０とポッド１０８₁とは好ましく は依然として接触していない。次の段階において、キャリジ１２１ａ，１２１ｂ はレール１２２ａ，１２２ｂに沿って上方に移動し、したがってピン１３４は戻 止め１３６に嵌入し、グリッパ及びハンドルのそれぞれの表面が互いに接触する ようになる。キャリジ１２１ａ，１２１ｂをレール１２２ａ，１２２ｂに沿って 引き続き上方に移動させると、ポッド１０８₁がその棚１０６又はＩ／Ｏポート １０４から持ち上げられ、しかるのちポッドを所望通りに移送してグリッパ１２ ０によってしっかりと保持できる。 当該技術分野で公知のように、シャットルは、シャットルがすでにポッドが載 せられている棚又はＩ／Ｏポート上にポッドを置かないようにするためのセンサ （図示せず）（これはスクワットセンサ（squat sensor）と呼ばれることがある ）を有するのがよい。種々の公知の形態を採用することができるが、一実施形態 ではスクワットセンサは、グリッパとハンドル１３８との位置関係を検知するた めにグリッパ１２０に取り付けられている。もしポッドがグリッパから離れてい ると考えられる時点よりも前に、例えばあたかも一つのポッドが、既にポッドの 置かれている棚の上に降ろされているかのようにハンドルがグリッパ１２０との 係合状態から分離し始めると、センサはこの初期分離を検出できる。しかるのち 、この潜在的な問題に関してコントローラには警告が出され、シャットルの動作 が停止する。 ポッドがその次の棚、Ｉ／Ｏポート又はベイ間デリバリシステムのところに配 置されると、キャリジ１２１ａ，１２１ｂは、ポッドが支持面上に載るまでグリ ッパ１２０及びポッドを下降させる。キャリジ１２１ａ，１２１ｂを引き続き下 方に運動させると、ピン１３４は戻止め１３６から外れ、それによりグリッパは ポッドのハンドルから外れる。しかるのち、シャットルは、グリッパがハンドル １３８の周りにもはや垂直方向に整列しないようになるまで水平方向に並進し、 そして再びハンドル又はポッドに接触しないように自由に垂直方向に並進できる 。 シャットル及びグリッパは、ベイ間デリバリシステムからポッドを受け入れる のと実質的に同一の方法で動作する。本発明のベイ間デリバリシステムとベイ内 デリバリシステムとの間のインタフェースは、従来型ベイで用いられているもの であるのがよい。かかるインタフェースとしては、例えばポッドの底部又は側部 を支持された状態でポッドをベイ間デリバリシステムから受け取る種々のコンベ ヤが挙げられる。ポッドがベイ間デリバリシステムとベイ内デリバリシステムと の間でインタフェース上に配置された状態で、シャットルはグリッパをポッドの ハンドル１３８の回りに位置決めし、しかるのち、ポッドを上述したように把持 するために上昇する。 当業者には理解されるように、グリッパ１２０に代えて、ポッド１０８に係合 し、移送し、そして離す種々の他の公知の機構を用いてもよい。例えば、上述し たシステムは受動式グリッパであるが（グリッパ自体が固定構造のものであると いう意味において）、開閉可能なジョーを有する能動式グリッパを用いてポッド を把持したり離したりしてもよい。さらに、種々の把持機構の構造及び作用は、 把持して移送されるべきポッドの形状に応じて様々であることは理解されよう。 シャットル１１６のグリッパ１２０がポッドを搬送している時、グリッパは、 ツールベイに沿って水平方向に移動するためにスペース１１０内に位置決めされ なければならない。しかしながら、シャットル１１６がポッドを搬送していない 時、シャットルはグリッパが任意の水平方向の行内でポッドハンドルの高さ位置 にある状態で水平方向に移動することができる。この高さ位置では、シャットル は水平方向に移動しているので、グリッパ１２０はポッドのハンドル又はポッド 自体に接触することなくポッドのハンドルの周りを通る。 グリッパがベイ内で移動している時にシャットルのグリッパの位置を突き止め るための種々のシステムを用いるのがよく、かくして、グリッパを棚又はＩ／Ｏ ポート上のポッドに対してベイ内の所望の位置に位置決めすることができる。グ リッパの水平方向位置を突き止めるために、水平方向レール１２６ａ，１２６ｂ の一方又は両方は、標識マークを有するのがよく、これら標識マークはシャット ルがこれらの上を通過している時にシャットルに設けられているセンサによって 読み取られ、したがってシャットルはベイ内におけるその水平方向位置を知るよ うになる。かかる標識マークとしては、ＲＦエミッタ、光学的基準点及び機械的 フラグが挙げられるが、これらには限定されない。ベイ内におけるグリッパの垂 直方向位置を突き止めるために、グリッパはシャットルの駆動機構と協働して、 グリッパが垂直方向レール１２２ａ，１２２ｂに沿って上又は下にどれほど移動 したかを測定するサーボ機構を有するのがよい。当初、グリッパについて、ベイ 内の既知の高さ位置にあるレール１２２ａ，１２２ｂ上のその上方又は最も下の 位置を基準にするのがよい。しかる後、サーボ機構は、基準位置に対するシャッ トルの上方運動量及び下方運動量を識別してこれを測定することができる。当業 者には理解されるように、他の公知の構成を用いてベイ内におけるグリッパのＸ −Ｚ位置を突き止めてもよい。 図６を参照すると最も良く分かると共に上述したように、棚１０６は、パネル １１４に取り付けられており、ツール１０２に隣接してこれから遠ざかって延び ている。シャットル１１６は、ツールの前部から棚の長さよりも僅かに長い距離 離れて位置した垂直方向レール１２６ａ，１２６ｂに取り付けられている。かく して、シャットル１６がツールベイに沿って並進すると、グリッパ１２０がシャ ットル１１６から遠ざかって棚のスペース内へ延びている状態で垂直方向レール は棚１０６及びポッド１０８の前を通る。かくして、本発明ではグリッパと棚が ベイの壁に沿って同一深さを共有し、ポッドは同様にこの同一深さで移送される 。これは、機構全体が棚及び／又は移送されるべき物品を貯蔵した瓶の前に配置 されなければならない従来型自動化保管・取出しシステム（ＡＳＲＳ）及び自動 化案内ビークル（ＡＧＶ）とは対照的である。 本発明の変形実施形態（図示せず）では、棚とシャットルの相対的位置は交換 可能である。この実施形態では、パネル１１４は天井とフロアの両方又はいずれ か一方から支持されるのがよく、棚１０６はパネルに取り付けられ、ツール１０ ２の方向に延びる。この実施形態におけるシャットル１１６を、グリッパ１２０ がパネル１１４の方向に延びた状態でツール１０２に隣接して位置決めさ れる。棚及びシャットルの上述の配向状態の何れにおいても、本発明の好ましい 実施形態は、棚及びシャットルを包囲する外側パネル１１５を更に有している。 以下に説明するように、このバリヤは、ベイ内の作業者と本発明のシャットル及 び棚との接触を防止する。パネル１１５は、ベイの頂部からグリッパの最も低い 高さ位置まで（約１５００mm）延びている。パネル１１５はまた好ましくは、透 明な材料、例えばプレキシグラスで作られ、したがってオペレータは、ポッドを Ｉ／Ｏポート又は棚上にその深さ位置で手作業で置きながらパネル１１５を通し て見ることができるようになっている。 本発明の一実施形態では、シャットルは同一の水平方向レールに沿って動き、 互いに交差することはない。しかしながら、図１３に示す本発明の実施形態では 、シャットルは互いにすれ違うことができる。この実施形態では、第１のシャッ トル２５０はベイの壁に隣接したレール２５２ａ，２５２ｂに沿って動き、第２ のシャットル２５４は、ベイの壁から離れて位置したレール２５６ａ，２５６ｂ に沿って動く。支柱２５８が、ベイ壁に実質的に垂直な平面内に位置した状態で 、ベイの天井に取り付けられると共にこれから下方に吊り下げられている。複数 の棚２６０が、支柱の各側で支柱に取り付けられている。支柱は、シャットル２ ５０，２５４が水平方向に隣合った棚の列相互間で昇降することができるほど十 分な距離互いに水平方向に間隔を置いた状態でベイに沿って設けられるのがよい 。支柱の両側の棚は、図１３に示すように互いに整列してもよく、或いは互い違 いになっていてもよい。棚２６０の列は、シャットル２５０，２５４相互間に位 置している。シャットル２５０，２５４は各々、例えば図１１に示すグリッパ１ ２０と構造及び作用が同一のグリッパ２６２を有している。各シャットル２５０ ，２５４のグリッパは、棚２６０に向かって延びている。 図１３の実施形態では、シャットルは、図７及び図８に関連して説明したシャ ットル１１６と同一の仕方で垂直方向及び水平方向に並進するよう動作する。し かしながら、シャットル２５０，２５４は有利には、一方のシャットルは棚２６ ０の一方の側に、第２のシャットルは棚の他方の側に位置した状態で互いにすれ 違うことができる。シャットル２５０，２５４は、ベイに沿って水平方向に並進 するために、棚２６０の下に位置すると共にＩ／Ｏポート１０４の上に位置 する水平方向スペース２６４内に位置決めされなければならない。このスペース は図１３において矢印Ａ−Ａで示されている。シャットルは、棚２６０の高さ位 置にある限り、隣合うコラム相互間で水平方向に移動してシャットルのすぐ左側 及び右側のコラムのポッドを入手できるに過ぎない。シャットルが互いにすれ違 うためには、各シャットルのグリッパ２６２を互いに異なる高さ位置でスペース ２６４内に配置しなければならない。さらに、各シャットルがポッド１０８を搬 送している間にシャットル２５０，２５４の位置を切り替えることが望ましい場 合、スペース２６４の高さが、グリッパ及びポッドの高さの２倍よりも僅かに大 きくなければならない。 上述の実施形態のうち任意のもののポッドをツールベイに出し入れすると共に その周りに搬送する際、プロセスツールを遊ばせないようにしておくことが搬送 システムの主要な目的である。従来型システムでは、ウェーハに対する処理を特 定のポッド内で完了すると、搬送手段は、ポッドをツールポートから持ち上げ、 これを移送し、新しいポッドを持ってきてこれをポート上に降ろして置く必要が ある。プロセスツールは、このポッド切替え作業が行われている間は遊んだまま になる場合がある。これは、ポッド内におけるウェーハの処理が完了するたびに 生じ、そして、これはベイ内の各プロセスツールごとに生じる。 第１及び第２のシャットル（図４では１１６、図１３では２５０，２５４）を ツールベイ１００の各側に設けることによりツールの空き時間を減少させること が本発明の特徴である。作用を説明すると、各プロセスツールにつき、特定のポ ッド内のウェーハについて処理が完了すると、シャットルうち一方はポッドをＩ ／Ｏポートから取り出し、これに対し他方のシャットルは新しいポッドをＩ／Ｏ ポート上に置く。２つのシャットルは、タンデム状態で動き、したがって一方の シャットルは、第２のシャットルがＩ／Ｏポートから完成品としてのポッドを取 り出す前であってもポッドをそのＩ／Ｏポートに向かって移動させているように なる。かくして、ベイ内における各プロセスツールの空き時間が最小限に抑えら れる。ベイが多数の処理能力の高いツール及び／又は計測用ツールを有する場合 、３以上のシャットル１１６をベイの一方の側又は両側に設けるのがよいことは 理解されよう。さらに、本発明のシステムはたった１つのシャットル１１６を用 い ても動作できることは理解されよう。 本発明の好ましい実施形態では、ツールベイ１００の各側は、ベイ１００の両 端部に位置していて、シャットル１１６をそれぞれ受け入れるシャットル保管又 は貯蔵スペース１３９（図４）を有している。シャットル１１６のうち１つが点 検整備中又は他の理由で使用されていない場合、これをその対応関係にあるシャ ットル保管スペース１３９に収納するのがよく、残りのシャットルは、オフライ ン状態にあるシャットルから邪魔されることなく、引続きポッドを通常の仕方で ツールベイの周りに搬送することができる。 本発明のシャットルを用いると、極めて信頼性が高く且つ融通性のある搬送シ ステムが得られる。例えば、シャットルを交換する場合、新しいシャットルは、 この新しいシャットルを用いて動作するよう制御ソフトウェアを再構成する必要 なく、制御ソフトウェアと連絡することができる。第２に、シャットルは自己較 正式である。即ち、シャットルを、まず最初に、オンライン状態にすると、この シャットルは、ベイ内に置けるグリッパの垂直方向及び水平方向位置を決定する ことができる。これは種々の方法で達成できるが、一実施形態では、グリッパに 関して上述したようにベイ内の既知の上方又は最も下方の位置を基準にしてグリ ッパの垂直方向位置を突き止めるのがよい。同様に、シャットルを水平方向レー ルの標識マークのうちの１つの上を通過させるのがよく、これら標識マークは、 シャットルの水平方向位置を上述したようにシャットルのセンサに中継すること ができる。これらの特徴により、もし、シャットルが誤動作すると、これはシャ ットル保管スペース１３９内へ移動し、搬送経路から離れ、そして新しいシャッ トルがオンライン状態になるという点において、従来型搬送システムと比べて本 発明の信頼性及び融通性が向上している。新しいシャットルは、オンライン状態 になると、ほぼ即座に、ベイ内に置けるその位置を較正することができ、そして 制御ソフトウェアと連絡してこれから制御信号を受け取ることができ、この場合 新しいシャットルで動作するよう制御ソフトウェアを再構成する必要はない。か くして、作動の停止時間が最小限に抑えられ、搬送時における誤動作が生じた場 合に従来技術で見受けられるポッドデリバリに関する問題が避けられる。 従来型ベイ間デリバリシステムの中には、ポッドをウェーハファブの一方の側 を下って搬送し、ポッドをベイの一方の側からツールベイに配送するものがある 。この種のシステムは、例えば従来技術を示す図１及び図５に示されている。か かるシステムの場合、ポッドをベイの一方の側から他方の側へ搬送するのにコン ベヤが必要となる。図５は、この目的のためのコンベヤ２７０を更に示している 。コンベヤ２７０は、ポッドをベイの一方の側のシャットルから受け取り、好ま しくは、ポッドをその底部又は側部から把持し、そして、ポッドをベイの下方の 側のシャットルに移送することができるベルト、車又は他形式の公知のコンベヤ であるのがよい。当然のことながら、追加のインタフェースを設けてコンベヤ２ ７０が頂部把持式機構であるようにしてもよい。コンベヤ２７０はベイ１００の 端に示されているが、かかるコンベヤはポッドをベイの一方の側から他方の側に 移送するようベイ１００の長さ方向に沿う１又は２以上の位置に設けてもよいこ とは理解されよう。ポッドは、好ましくは、ベイの各側からベイ間搬送手段に戻 される。他のウェーハファブは、ツールベイの両端を下って延びるベイ間デリベ リシステムを有し、したがってポッドをベイの各端部からベイ間デリベリシステ ムに移送したりこれから移送することができるようになっている。かかる構成は 、依然としてポッドをベイの一方の側からベイの長手方向に沿って他方の側へ移 送する１又は２以上のコンベヤ２７０を利用することができる。 従来技術のハードウェアに関する問題のうち多くは、本発明の配送・一時収納・ 保管システムによって解決されることが理解されよう。第１に、上述したように 、各ベイ内におけるストッカ及びローカルツールバッファと関連したスペース及 び費用が節約できる。第２に、ツールは専用デリバリ機構を持たないので、本発 明は、従来技術において見受けられるツールがポッドデリバリから切断され、そ のツールにもっぱら用いられる搬送システムが誤動作を起こすと遊んだままにな るという問題が生じない。第３に、ポッドを或るデリバリ機構から別のデリバリ 機構に手渡しする場合に用いられるインタフェースの数が本発明のシャットルに よって大幅に減じられ、それにより信頼性が大幅に向上すると共にポッドの取扱 い上の誤りの恐れが最小限に抑えられる。第４に、従来型システムの各ツールは 、各ツールがそれ自身の専用デリバリシステムを有し、専用ローカルツールバッ ファがこれらを必要とする各ツールについて設けられているので互いのツールか ら 効果的に隔離されている。しかしながら、本発明は、各ツールが共通のデリバリ システムを共用し、各ツールが共通の保管システムを共用するのでプロセスツー ルの各々をベイ内にひとまとめに統合する。 本発明の別の特徴は、一貫生産型（統合型）ベイ内一時収納・配送・保管シス テムがスケーラブルである（規模やサイズを拡大縮小できる）ということである 。即ち、棚１０６を含むパネル１１４の高さ及び長さ、半導体製造業者のツール ベイの特定の寸法上の要件に応じて任意所望のサイズに合わせて構成できる。さ らに、棚の位置はツールのＩ／Ｏポートの位置によって左右されないので、パネ ル１１４をベイ内のプロセスツールのレイアウトを知らなくても製作及び据付け が可能である。同様に、シャットル１１６は、あらゆるサイズのツールベイ内で 役に立つことができる。ツールベイ周りのシャットルの移動は、材料制御ソフト ウェアによって制御され、この材料制御ソフトウェアは、種々の寸法のツールベ イの回りにおける移動を行うことができるようたやすく構成できる。 半導体製造装置材料協会（ＳＥＭＩ：セミ）によって定められた幾つかの基準 は、ウェーハファブ内のオートメーションとファブ内における作業者との札轢を 回避することに関しており、即ち、自動化機械が作業者を潜在的に傷つけたり又 は妨害する領域に係わっている。本発明は、棚及びシャットルがパネル１１５の 後に作業者から離れて完全にツールベイ１００の壁に設置されている結果、作業 者とオートメーションとの札轢の発生の恐れを最小限に抑えている。本発明の装 置と作業者が同一スペース内に集まる唯一の場所は、Ｉ／Ｏポートのところであ る。これは、従来型の自動保管・取出しシステム及び自動案内イークルとは対照 的であり、かかるシステムは、これらシステムと作業者との接触の可能性が大き いので作業者が存在している場合に使用することが困難であり且つ危険である。 かくして、本発明を、シャットルがポッドをポッドの頂部から把持し、次に、 ポッドをその底面から支持する棚の上に降ろして載置する一時収納・配送・保管 システムとして説明した。しかしながら、本発明の変形実施形態では、棚及びグ リッパの構成を逆にしてもよいことは理解されよう。即ち、シャットル１１６上 の上述のグリッパ１２０に代えて、ポッドをベイ間デリベリシステムから受け取 り、ポッドをその底部から支持する水平方向支持プラットホームを用いてもよい 。 この実施形態では、上述の棚に代えて図１１を参照して上述したグリッパ１２０ と構成が類似した同じ数の把持機構を用いるのがよい。この実施形態では、シャ ットルは、ポッドを底部から支持されたベイ間デリベリシステムから受け取り、 これらポッドを、ベイ全体を通じてベイの壁に設けられた把持機構に移送する。 この変形実施形態では、ポッドを把持機構上に積み込んだり積み下ろすためにシ ャットル及び把持機構に関する支持プラットホームの相対的相互作用は、図４〜 図１１に示す実施形態の棚及びグリッパのかかる相互作用と類似している。この 実施形態についても、ポッドをシャットルの支持プラットホームからＩ／Ｏポー ト上に移送するための追加の機械的インタフェースが必要である。変形例として 、作業者が、ポッドを手作業で支持プラットホームからＩ／Ｏポート上に移送し てもよい。 別の変形実施形態では、シャットルは、ポッドの側部を把持してこのポッドを 降ろして棚１０６上に載置できる把持機構を備えてもよく（図４〜図１１の実施 形態の場合）、或いはシャットルを上記段落で説明した実施形態の把持機構内に 設けてもよい。ポッドは従来通り、ポッドの側部に設けられてかかる側部把持機 構を受け入れる戻止めを有するのがよい。 次に、図１２に示すフローチャートを参照して一貫生産型（統合型）ベイ内バ ッファ・デリベリ・ストッカシステムの作用及びソフトウェアによる制御につい て説明する。材料制御ソフトウェアは一般に、ファブ全体にわたるスケジューリ ングルーチン及びベイ内スケジューリングルーチンを含む。ファブ全体にわたる スケジューリングルーチンは全体としては、本発明の影響を受けない。ただし、 従来型のファブ全体にわたるスケジューリングルーチンがポッドを特定のベイの ストッカに移送するか、或いはポッドをベイ内搬送機構に直接移送できなければ ならず、そして一方の経路を他方と比較して選択する判定基準を提供しなければ ならないという点に鑑みて単純化される範囲については例外とする。本発明に用 いられるファブ全体にわたるスケジューリングルーチンは、上述したようにベイ 間デリベリシステムとシャットル１１６との間におけるポッドの移送を扱う必要 があるに過ぎない。 ベイ内スケージュリングルーチンは、ベイ１００内における各処理ツールに対 する本発明の搬送システムの動作状態を制御する。ベイ内の各ツールは、ベイ内 スケージュリングルーチンに報告を出し、どれほどすぐにそのツール内で現在実 行中の処理が完了するようになるかを指示する。このように、スケージュリング ルーチンは、処理ツールのうちどれがその処理を完了しようとしているかについ て計画し、そのツールの処理が完了する前であってもポッドをそのツールのＩ／ Ｏポートから取り出し、そしてその代わりのポッドをＩ／Ｏポート上に置くよう シャットルを位置決めできる。 図１２のフローチャートを参照すると、スケージュリングルーチンは、どのツ ールが特定のポッドからの一群のウェーハ（これは、通常「ウェーハロット」と 呼ばれている）に対するその処理を完了しようとしているかを判定する。ルーチ ンがあるツールがウェーハロットに対するその処理をまさに完了しようとしてい ることを判定した場合、ルーチンは１つのシャットルをそのツールのＩ／Ｏポー トに移動させ、処理済みのウェーハロットがそのポッドにいったん戻されると、 これがステップ２０２においてポッドを運び去るようになっている。ルーチンは またそれと同時に、第２のシャットルを移動させて、完了間近の処理に関してス ケージュル設定されている次のポッドを取り出し、このスケージュル設定された 次のポッドをその処理ツールのＩ／Ｏポートに隣接したところに移し、したがっ ていったん第１のシャットルが処理の完了したロット及びポッドをＩ／Ｏポート から運び去ると、これがＩ／Ｏポート上に位置するようになる。どのポッドが特 定の処理ツールに関して次にスケジュール設定されているかどうかの判定基準に ついて以下に説明する。 米国特許第５，１６６，８８４号、米国特許第４，９７４，１６６号及び米国 特許第５，０９７，４２１号（これらは本発明の出願人に譲渡されている）は各 々、いわゆる“ＳＭＡＲＴタグ”システムに関しており、かかるシステムでは、 ウェーハロットをウェーハファブの周りの種々の位置で追跡し、どれどれの処理 がそのロットに対して行わるかに関して制御が行われる。上述の３つの米国特許 の開示内容全体を本明細書に援用する。特に、各ポッドは、ポッド内の特定のウ ェーハロット及びロットに対して行われるべき特定の処理を識別する情報を記憶 した電子タグを有している。グリッパは、この情報をＳＭＡＲＴタグから取り出 し、この情報をベイ内スケジューリングルーチンに連絡することができるセンサ を含む。ＳＭＡＲＴタグシステムに代えて、或いは、これに加えて、バーコード リーダ又はＲＦ受信機をシャットル１１６に、例えばグリッパ１２０に設けるの がよい。かかる実施形態では、シャットル１１６が行に沿って水平方向に、且つ 、或いは、列に沿って垂直方向に移動すると、バーコードリーダは、行、及び／ 又は、列内の各ポッドに付けられているバーコードを読み取り、或いは、ＲＦ受 信機は、行及び／又は列内の各ポッドに付けられている標識情報を受信する。こ の情報を用いると、ポッドを追跡してどれどれの処理がポッドに対して行われる かを制御することができる。特定のウェーハロットに関する情報を記憶し、この 情報を取り出して伝送する種々の他の手順又は方式を使用できることは理解され よう。例えば、本発明の変形実施形態では、ポッドは、ＳＭＡＲＴタグ、バーコ ード又は他の標識マークを含まなくてもよい。かかる実施形態では、特定のロッ トに関する識別情報を、ベイ間スケジューリングルーチン及びベイ内スケジュー リングルーチン内に直接記憶させることができ、これらルーチンは任意の時点に おいてロットの既知の位置によってロットを識別する。 場合によっては、ポッド内のウェーハロットは、優先ロットとして指示される 。種々の理由で、特定のロットに対する半導体処理シーケンスを短時間で完了さ せることが望ましい場合がある。したがって、特定の処理のＩ／Ｏポートがステ ップ２００でまもなく使える予定であるということがいったん判定されると、ス ケジューリングルーチンは次に、利用可能な処理ツールに関して優先ロットがス ケジュール設定されているかどうかをステップ２０４で調べる。もしあれば、ス テップ２０６において、優先ロットが第２のシャットルによって獲得され利用可 能になっている処理ツール上にロードされる。ロットが優先的であることを指示 する情報をポッドＳＭＡＲＴタグ内に含ませてもよく、バーコード又はＲＦ送信 機で符号化してもよく、或いは他の幾つかの公知の標識方式によって指示しても よい。次に、スケジューリングルーチンはステップ２００に戻って次に利用可能 な処理ツールがあるかどうかを調べる。 スケジューリングルーチンにより優先ロットがないことが判定されると、次に 、ステップ２０８において利用可能なツールに関してスケジュール設定されたベ イ 内における通常のウェーハ製造ロットがあるかどうかを調べる。好ましい実施形 態では、スケジューリングルーチンは、先入れ先出し（ＦＩＦＯ）論理を利用し 、したがって２以上の通常の製造ロットが特定のオープン処理に関してスケジュ ール設定されている場合、プログラムにより、シャットルは最長時間にわたって ベイ内に保管されているロットを選択し、そしてそのロットをステップ２１０に おいて処理ツール上に移す。ルーチンは次にステップ２００に戻り、次に利用可 能な処理ツールがあるかどうかを調べる。 場合によっては、ロットは、ウェーハ上の種々のパラメータ、及び／又は、処 理ツール内の種々のパラメータを検査する処理に送られる。これらのロットは、 エンジニアリングロットと呼ばれている。変形例として、作業者は、スケジュー リングルーチンを中断させて手動でポッドを取り出して特定のＩ／Ｏポート等に 再配置することを望む場合がある。スケジューリングルーチンがステップ２０８ においてすぐに利用できる処理ツールについてスケジュール設定された通常の製 造ロットがないことを判定すると、ルーチンは次にステップ２１２においてエン ジニアリングロット又は中断ロットがあるかどうかを調べる。もしあれば、ステ ップ２１４において、これらのロットをツール上に移送して、再びＦＩＦＯ論理 を適用する。ロットはエンジニアリングロット又は中断ロットであることを指示 する情報を、ポッドＳＭＡＲＴタグ内に含ませてもよく、バーコード又はＲＦ送 信機で符号化してもよく、或いは、他の幾つかの公知の標識方式で指示してもよ い。ルーチンは次にステップ２００に戻って次の利用可能なロットがあるかどう かを調べる。処理ツールが間もなく利用可能であり、ベイ１００内の利用可能な 処理ツールに関してスケジュール設定された優先順位のない通常の製造ロット又 はエンジニアリング／中断ロットがなければ、ベイ内スケジューリングルーチン は、ファブ全体にわたるスケジューリングルーチンで動作し、利用可能な処理ツ ールに関してスケジュール設定されたロットを獲得し、そのロットはステップ２ １６において利用可能な処理ツールに移送される。 上述したように、ベイ１００内の処理ツールを遊ばせないようにしておくこと が重要である。したがって、好ましい実施形態においてはベイ内スケジューリン グルーチンの最も高い優先順位は、処理の完了時に、ポッドを素早く取り出し、 これらをステップ２０２〜２１６においてツール上に戻すようにする。しかしな がら、スケジューリングルーチンがまもなく（例えば、次の１、２分以内に）利 用可能な処理ツールが無いことを判定した場合、ベイ内スケジューリングルーチ ンの次の優先順位で行われることは、より多くのポッドをベイ１００内へ移すこ とである。したがって、スケジューリングルーチンがステップ２００においてま もなく利用可能な処理ツールがないことを判定すると、ベイ内スケジューリング ルーチンはシャットル１１６を差し向けて、ステップ２１８において新しいポッ ドをベイ間デリベリシステムから取り出し、そのポッドをステップ２２０におい て棚１０６上に保管する。ベイ内スケジューリングルーチンはポッドを載置状態 で保管すべき棚、例えばポッドが次に移送されるべき処理に最も近い利用可能な 棚を選択する種々の基準を用いることができる。ステップ２２１では、スケジュ ーリングルーチンはまた、そのロットに関して行われるべき１又は複数の処理に 関するロットのＳＭＡＲＴタグ、バーコード又はＲＦ送信機内に含まれる情報、 ロットが優先ロットであるかエンジニアリング／中断ロットであるかどうか、ポ ッドが保管されている棚のアドレス及びポッドの保管時間を記憶する。この情報 は、ポッドが利用可能な処理ツールに移送される優先順位を決定するのにステッ プ２０４〜２１２において用いられる。 ロットは特定のベイ１００内で単一の処理のみを受けることが可能である。し かしながら、場合によっては２以上の処理を同一のベイ内でウェーハロットに対 して行われる。したがって、ロットに対する処理の完了時にロットを処理ツール からいったん取り出すと、ステップ２２２においてスケジューリングルーチンは ロットがベイ内で追加の処理を受けるべきかどうかを調べる。もしそうであれば 、ロットはステップ２２０において保管棚１０６に戻され、もしその特定のベイ 内においてそのロットに対して行われるべき追加の処理がなければ、ステップ２ ２４においてポッドは好ましくはベイ間デリベリシステムに戻される。有利には 、ポッドをポート上に移動させるステップ２０４〜２１６は、ポッドをポートか ら取り出してこれを別の保管棚に再配置するか、或いはベイ間デリベリシステム に戻すステップ２０２，２２２，２２４と同時に行われる。これは、タンデム状 態で一緒に動作する２つのシャットルによって達成される。 従来技術のソフトウエア制御に関する問題の多くは、本発明の配送・一時収納 ・保管システムにより解決されることは理解されよう。第１に、ソフトウエア制 御は、ストッカ、ローカルツールバッファ及び各ツールについての多数の搬送機 構及びインタフェースのための別々の制御が本発明では不要なので従来技術のシ ステムと比べて構成が大幅に簡単になる。第２に、ツールがもし誤動作し、又は オフライン化してもスケジューリングルーチンはそのツールをスケジュールから 外すだけである。ポッドをローカルツールバッファから送りなおし又は取り出す のに複雑精巧なアルゴリズムは不要である。第３に、一搬送機構がポッドを別の 搬送機構に渡すところで用いられるインタフェースの数は本発明では大幅に少な くなっているので、従来技術における各インタフェースのところでのそれぞれの 搬送機構の合致のタイミングに関する問題が大幅に軽減される。 当業者であれば理解できるように、図１２に示すと共に上述した動作原理のシ ステムは、本発明の一貫生産型（統合型）ベイ内一時収納・配送・保管システム の制御に関する多くの実施形態の一つに過ぎない。システムの動作状態を判定す るための上記基準に加えて、或いはこれに代えて幾つかの他の優先羽幅及び不測 事態の際の手順をルーチンに組み込んでもよい。さらに、上記システムは、プル 方式のシステム（pull based system）である。即ち、アルゴリズムは、ベイ内 のプロセスツールが開いているかどうかに関心を注ぎ、もし開いていれば、ポッ ドを利用可能なツールに移送し、又は引っ張ってくる。別法として、本発明では プッシュ方式のシステム（push based system）を使用できることは理解されよ う。かかるシステムは、ウェーハのロット、特にウェーハロットのためのスケジ ュール設定済の処理シーケンスに関心を注ぐ。一つのスケジュール設定された処 理が完了すると、ロットを次のスケジュール設定されている処理に移送し、又は 押し出す。これはファブ全体にわたるスケジューリングルーチンによって達成で きる。 シャットルは、シャットルがベイを通って移動しているときにポッドの位置を 検知する種々の位置センサ（図示せず）を更に有するのがよい。当業者には理解 されるように、かかるセンサは、ポッドが棚の上に正しく載置されるようにする ために使用できる。センサシステムは、種々の検知システム、例えば光学的ビー ム遮断又は反射センサ、ＩＲセンサ、レーザ又はビデオカメラ、例えば電荷結合 ディスプレイ（ＣＣＤ）カメラのうち任意のものであるのがよい。 本発明を細部にわたって説明したが、本発明は開示した実施形態に限定されな いことは理解されるべきである。当業者であれば、請求の範囲に記載された本発 明の精神又は範囲から逸脱することなく、開示した実施形態に対する種々の改造 例、置換例及び設計変更例を想到できる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．半導体ツールベイ内で複数のポッドを複数の半導体プロセスツールの入力／ 出力（Ｉ／Ｏ）ポートに供給するシステムであって、 プロセスツールを収納したツールベイの壁に沿って設けられた複数の保管場所 を有し、 前記複数の保管場所は各々、ポッドをツールベイ内の任意のプロセスツールに 供給できることを特徴とするシステム。 ２．半導体ツールベイ内で複数のポッドを複数の半導体プロセスツールの入力／ 出力（Ｉ／Ｏ）ポートに供給するシステムであって、プロセスツールを収納した ツールベイの壁に沿って設けられた搬送機構を有し、前記搬送機構は、ポッドを ツールベイ内の任意のプロセスツールに供給できることを特徴とするシステム。 ３．複数のポッドを複数の半導体プロセスツールの入力／出力（Ｉ／Ｏ）ポート に配送し、ポッドを半導体プロセスツールを収納したツールベイ内に保管するシ ステムであって、 ポッドをツールベイ内のあちこちに搬送する搬送システムと、 ツールベイ内に設けられていて、複数のポッドを載置状態で保管できる複数の 棚とを有し、 前記搬送システム及び前記複数の棚は、プロセスツールのＩ／Ｏポートの位置 とは無関係にツールベイ内に設置されていることを特徴とするシステム。 ４．ツールベイは、ストッカを備えていないことを特徴とする請求項３に記載の 複数のポッドの配送保管システム。 ５．ツールベイは、処理能力の高いプロセスツールに取り付けられるローカルツ ールバッファを備えていないことを特徴とする請求項３に記載の複数のポッドの 配送保管システム。 ６．少なくとも第１の処理ツールベイ及び第２の処理ツールベイを含む半導体製 造施設内に設置された搬送システムであって、第１及び第２の処理ツールベイが 、複数の半導体処理ツール及び複数の保管場所を有し、 前記搬送システムは、 第１の処理ツールベイと連携していて、基板運搬容器を第２の処理ツールベイ から受け取り、該容器を第１の処理ツールベイ内の複数の処理ツールまで移送し 、前記容器を第１の処理ツールベイ内の複数の保管場所まで移送する搬送機構を 有し、 前記搬送機構は、前記容器を手渡しすることなく第１の処理ツールベイ内の複 数の処理ツール及び保管場所まで移送できることを特徴とするシステム。 ７．前記搬送機構は更に、前記容器を第１の処理ツールベイ内で複数の処理ツー ルと保管場所との間で移送できることを特徴とする請求項６に記載の搬送システ ム。 ８．前記搬送システムは、鉛直面内で並進できるシャットルを有することを特徴 とする請求項６記載の搬送システム。 ９．半導体製造施設内に設けられた処理ツールベイであって、 半導体ウェーハを処理する複数の処理ツールを有し、該複数の処理ツールは各 々、基板運搬容器を前記処理ツールの各々に出し入れするための入力／出力ポー トを備え、 前記処理ツールベイは更に、基板運搬容器を保管する複数の保管場所を有し、 前記複数の処理ツールの入力／出力ポート及び前記複数の保管場所は、共通平 面内に配置され、 前記複数の保管場所の位置は、前記複数の処理ツールの入力／出力ポートの位 置とは無関係に前記共通平面内にあることを特徴とする処理ツールベイ。 10．処理ツールベイは、ストッカを備えていないことを特徴とする請求項９に記 載の半導体製造施設内に設けられた処理ツールベイ。 11．処理ツールベイは、ローカルツールバッファを備えていないことを特徴とす る請求項９に記載の半導体製造施設内に設けられた処理ツールベイ。 12．前記共通平面は、鉛直面であることを特徴とする請求項９に記載の半導体製 造施設内に設けられた処理ツールベイ。 13．複数のツールベイ及び基板運搬容器を複数の処理ツールベイ相互間で移送す るベイ間搬送システムを含む半導体製造施設内に設けられた搬送システムであっ て、前記複数の処理ツールベイは各々、複数の半導体処理ツール及び複数の保管 場所を有し、 前記搬送システムは、 処理ツールベイと連携した少なくとも１つのシャットルを有し、前記少なくと も１つのシャットルは、前記容器を把持し、垂直方向及び水平方向に並進できる 手段を有し、前記少なくとも１つのシャットルは、前記容器をベイ間搬送システ ムと前記複数の処理ツールと前記複数の保管場所との間で移送できることを特徴 とする搬送システム。 14．前記少なくとも１つのシャットルは、２つのシャットルから成ることを特徴 とする請求項１３に記載の半導体製造施設内の搬送システム。