JP2001330945A

JP2001330945A - 直描型水なし平版印刷版原版

Info

Publication number: JP2001330945A
Application number: JP2000146763A
Authority: JP
Inventors: Kazuoki Goto; 一起後藤; Kunitaka Fujiyoshi; 国孝藤吉; Koichi Nagase; 公一長瀬
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2000-05-18
Filing date: 2000-05-18
Publication date: 2001-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】水だけで現像できる直描型水なし平版印刷版を
提供する。【解決手段】基板上に、少なくとも感熱層、シリコーン
ゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版で
あって、シリコーンゴム層中に、水に不溶であり、水存
在下での滑り特性を向上させる成分を有することを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光で直接
製版できる直描型水なし平版印刷版原版に関するもので
あり、特に有機溶媒を用いた処理を全く必要とせずに、
水を主成分とする液体だけで現像できる直描型水なし平
版印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆる直描型製
版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷版が
得られる迅速性、多様なシステムから品質とコストに応
じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、軽印
刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、フレキソ印刷
の分野にも進出し始めている。特に最近では、プリプレ
スシステムやイメージセッター、レーザープリンタなど
の出力システムの急激な進歩によって新しいタイプの各
種直描型平版印刷版が開発されている。これらの直描型
平版印刷版を製版方法から分類すると、レーザー光を照
射する方法、サーマルヘッドで書き込む方法、ピン電極
で電圧を部分的に印加する方法、インクジェットでイン
キ反撥層またはインキ着肉層を形成する方法などが挙げ
られる。なかでも、レーザー光を用いる方法は解像度、
および製版速度の面で他の方式よりも優れており、その
種類も多い。

【０００３】このレーザー光を用いる印刷版はさらに、
光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を行っ
て熱反応を起こさせるヒートモードの２つのタイプに分
けられる。特にヒートモードの方式は、明室で取り扱え
るといった利点があり、また光源となる半導体レーザー
の急激な進歩によって、最近非常に注目を集めており、
今後の主流になると言われている。

【０００４】ヒートモードにおける平版印刷版として
は、湿し水を用いずに印刷が出来る直描型水なし平版、
湿し水を用いて印刷を行う直描型水ありＰＳ版などが開
発されている。直描型水なし平版は、高品質な印刷物が
得られる、印刷の立ち上がりが早いという長所に加え、
有機溶媒による前処理と水存在下でのブラシ擦り現像と
いうシステムで現像できるため、ＰＳ版を処理したとき
に生じるアルカリ現像廃液が出ないという長所を持って
いる。

【０００５】この前処理／水現像システムは実用上、非
常に優れたシステムであるが、近年の環境意識の更なる
向上から、有機溶媒を全く使用しない現像システムにつ
いてもその開発が望まれるようになってきた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題はかかる
従来技術ではなし得なかった技術、すなわち有機溶媒を
全く用いずに、水を主成分とする液体だけを用いて現像
できる直描型水なし平版印刷版原版を提供するものであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の直描型水なし平
版印刷版原版は、上記課題を解決するために主として特
徴を有する。すなわち、「基板上に、少なくとも感熱層
およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし
平版印刷版原版であって、前記シリコーンゴム層が、水
に不溶であり、水存在下での滑り特性を向上させる成分
を含むことを特徴とする直描型水なし平版印刷版原
版」、である。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。

【０００９】本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、
基板上に少なくとも感熱層、シリコーンゴム層をこの順
に有する直描型水なし平版印刷版原版であり、そのシリ
コーンゴム層が、水に不溶であり、水存在下での滑り特
性を向上させる成分を含むことを特徴とする。

【００１０】本発明でにおける「水存在下での滑り特性
を向上させる成分」とは、現像時、水を主成分とする液
体だけを印刷版面上に供給しながら、シリコーンゴム層
をブラシで擦る際に、シリコーンゴム層表面もしくはブ
ラシに付着することによって、シリコーンゴム層とブラ
シの摩擦力を小さくする成分である。滑り特性の向上度
合い、すなわちシリコーンゴム層とブラシの摩擦力の低
下度合いとしては、水存在下での滑り特性を向上させる
成分を含んでいない場合の、０．２〜０．９５倍になる
ものが好ましい。摩擦力の低下度合いがこの範囲であれ
ば、優れた画像再現性を保ちながら、現像時にシリコー
ンゴム層が傷つきにくい印刷版が得られる。

【００１１】このような成分としては、下記一般式
（Ｉ）で表される構造を有する化合物が好ましい。

【００１２】

【化２】（式中、Ｒ¹、およびＲ²は水素原子または炭素数１〜２
０の置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、
アリール基を表す。Ｒ³は、水素原子またはメチル基を
表す。また、ｎは１〜１００の整数を表す。）好ましい形態としては、Ｒ¹、もしくはＲ²の一方が水素
原子であり、他方が炭素数１〜２０の非置換のアルキル
基、さらには炭素数３〜１０、最も好ましくは炭素数
４、５、６のアルキル基である。さらに、Ｒ³は、水素
原子であることが好ましく、好ましいｎの数としては５
〜５０、さらには１０〜３０である。

【００１３】好ましい化合物の具体例としては、ポリオ
キシプロピレンモノアルキルエーテルであり、ポリオキ
シプロピレンモノブチルエーテル、ポリオキシプロピレ
ンモノペンチルエーテル、ポリオキシプロピレンモノヘ
キシルエーテルがさらに好ましい。

【００１４】さらに、分子量としては、３００〜５００
０のものが好ましく、さらには１０００〜２０００の範
囲にあるものが好ましい。

【００１５】また、これら化合物は単独で用いてもよい
し、アルキル基の炭素数、ｎの数など異なったものを混
合して用いてもよい。

【００１６】このようにシリコーンゴム層中に、水に不
溶であり、水存在下での滑り特性を向上させる成分を含
有することによって、水を主成分とする液体を用いて現
像する際に、シリコーンゴム層に傷が入るのを防ぐこと
が出来る。これは、水に不溶であり、水存在下での滑り
特性を向上させる成分が、水存在下での滑り特性を向上
させるため、シリコーンゴム層表面と現像ブラシとの摩
擦力を軽減し、その結果、シリコーンゴム層に必要以上
の力が加わるのを防ぎ、傷の発生を予防することが出来
ると考えられる。

【００１７】本発明に用いられる、水に不溶であり、水
存在下での滑り特性を向上させる成分の含有量は、シリ
コーンゴム層の固形分中の０．１〜１０重量％が好まし
く、より好ましくは０．５〜５重量％である。添加量が
０．１重量％以上であれば添加の効果が十分に発現し、
一方、添加量が１０重量％以下であればシリコーンゴム
層の硬化性に悪影響をもたらしたり、インキ反発性に悪
影響を与えることがない。

【００１８】本発明の直描型水なし平版印刷版原版のシ
リコーンゴム層としては、付加重合型のもの、縮合重合
型のものいずれでも用いられる。

【００１９】付加重合型のシリコーンゴム層を構成する
成分としては、ビニル基含有ポリジメチルシロキサン、
ＳｉＨ基含有ポリシロキサン、さらには硬化速度を制御
する目的で反応抑制剤、および硬化触媒を含む。

【００２０】ビニル基含有ポリジメチルシロキサンは、
分子末端および／もしくは主鎖中にビニル基を有するも
のである。分子量としては数千〜数十万のものが使用で
きるが、その取扱い性や得られた印刷版のインキ反発
性、耐傷性などの観点から重量平均分子量１万〜２０
万、さらには３万〜１５万のものを用いることが好まし
い。

【００２１】ＳｉＨ基含有ポリシロキサンとしては、分
子鎖中、または末端にＳｉＨ基を有する化合物を挙げる
ことができる。

【００２２】ＳｉＨ基含有ポリシロキサン中におけるＳ
ｉＨ基の量としては、１分子中２個以上、さらには３個
以上であることが好ましい。ＳｉＨ基含有ポリシロキサ
ンの添加量としては、シリコーンゴム層全組成物の３〜
２０重量％であることが好ましく、５〜１５重量％がさ
らに好ましい。ポリジメチルシロキサンとの量比という
ことで言えば、ＳｉＨ基／ポリジメチルシロキサンのビ
ニル基のモル比が１．５〜３０であることが好ましく、
１０〜２０がさらに好ましい。このモル比が１．５以上
であれば、シリコーンゴム層の硬化が不足することもな
く、３０以下であればゴムの物性がもろくなり、印刷版
の耐傷性などに悪影響を与えることがない。

【００２３】反応抑制剤としては、含窒素化合物、リン
系化合物、不飽和アルコールなどが挙げられるが、アセ
チレン基含有のアルコールなどが好ましく用いられる。
反応抑制剤の好ましい添加量としては、シリコーンゴム
組成物中の０．０１〜１０重量％、さらに好ましくは１
〜５重量％である。

【００２４】硬化触媒としては、ＩＩＩ族遷移金属化合
物、好ましくは、白金化合物であり、具体的には白金単
体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金、白金
のアルコール変性錯体、白金のメチルビニルポリシロキ
サン錯体などを一例として挙げることができる。このよ
うな硬化触媒の量は、シリコーンゴム層中に固形分とし
て０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量
％である。添加する触媒量が０．０１重量％以上の場合
にはシリコーンゴム層の硬化が十分となり、さらに感熱
層との接着性に問題を生じることもない。他方２０重量
％以下の場合にはシリコーンゴム層溶液のポットライフ
に悪影響をもたらすこともない。シリコーンゴム層組成
物中における白金などの金属の量で言えば、１０〜１０
００ｐｐｍ、好ましくは１００〜５００ｐｐｍであるこ
とが好ましい。

【００２５】また、これらの組成物の他に、加水分解性
官能基含有シランもしくはシロキサン、接着性を向上さ
せる目的で公知のシランカップリング剤、チタネート系
カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤などを
含有してもよい。シランカップリング剤としては、アル
コキシシラン類、アセトキシシラン類、ケトキシミンシ
ラン類等が好ましく、特にビニル基を有するものや、ケ
トキシミンシラン類が好ましい。

【００２６】縮合重合型のシリコーンゴム層を構成する
成分としては、水酸基含有ポリジメチルシロキサン、架
橋剤（脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱ア
ミン型、脱アセトン型、脱アミド型、脱アミノキシ型な
ど）、および硬化触媒を含む。

【００２７】水酸基含有ポリジメチルシロキサンの水酸
基は分子末端および／もしくは主鎖中に位置することが
できるが、好ましく用いられるものは分子量末端に水酸
基を有するものである。分子量としては数千〜数十万の
ものが使用できるが、その取扱い性や得られた印刷版の
インキ反発性、耐傷性などの観点から重量平均分子量１
万〜２０万、さらには３万〜１５万のものを用いること
が好ましい。

【００２８】縮合重合型のシリコーンゴム層で用いられ
る架橋剤としては、下記一般式（II）で表される、アセ
トキシシラン類、アルコキシシラン類、ケトキシミンシ
ラン類、アリロキシシラン類などを挙げることができ
る。

【００２９】（Ｒ⁴）_4-nＳｉＸ_n （II）（式中、ｎは２〜４の整数を示し、Ｒ⁴は炭素数１以上
の置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、ア
リール基、またはこれらの組み合わされた基を示す。Ｘ
はハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケト
キシミン基、アミノオキシ基、アミド基、アルケニルオ
キシ基から選ばれる官能基を示す。）上記式において、
加水分解性基の数ｎは３または４であることが好まし
い。

【００３０】具体的な好ましい化合物としては、メチル
トリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、
ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリ（メチルエチ
ルケトキシミン）シラン、テトラ（メチルエチルケトキ
シミン）シランなどが挙げられるが、これらに限定され
るものではない。

【００３１】一般式（II）で表される架橋剤の添加量と
しては、シリコーンゴム層全組成物の１．５〜２０重量
％であることが好ましく、３〜１０重量％がさらに好ま
しい。ポリジメチルシロキサンとの量比ということで言
えば、官能基Ｘ／ポリジメチルシロキサンの水酸基のモ
ル比が１．５〜１０．０であることが好ましい。このモ
ル比が１．５以上である場合には、シリコーンゴム層溶
液のゲル化の心配もなく、逆に１０．０以下の場合には
ゴムの物性の脆化、印刷版の耐傷性などへの悪影響も生
じない。

【００３２】硬化触媒としては、酸類、アルカリ、アミ
ン、および金属アルコキシド、金属ジケテネート、金属
の有機酸塩などを挙げることが出来る。これらの中で
は、金属の有機酸塩を添加することが好ましく、特に
錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、カルシウム、マンガンか
ら選ばれる金属の有機酸塩であることが好ましい。この
ような化合物の具体例の一部としては、ジブチル錫ジア
セテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジラウ
レートなどを挙げることが出来る。このような硬化触媒
の量は、シリコーンゴム層中に固形分として０．０１〜
２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％であること
が好ましい。添加する触媒量が０．０１重量％以上とす
ればシリコーンゴム層の硬化が不十分となることはな
く、さらに感熱層との接着性に問題を生じることもな
い。他方２０重量％以下とすればシリコーンゴム層溶液
のポットライフに悪影響をもたらすこともない。

【００３３】これらシリコーンゴム層の膜厚は０．５〜
２０ｇ／ｍ²が好ましく、１〜４ｇ／ｍ²がさらに好まし
い。膜厚が０．５ｇ／ｍ²以上とすることにより印刷版
のインキ反撥性や耐傷性、耐刷性を安定して発現させる
ことが出来、２０ｇ／ｍ²以下とすることで、現像性、
インキマイレージを良好に維持することが出来る。

【００３４】次に、本発明に好ましく使用しうる直描型
平版印刷版原版の感熱層は、レーザー光を吸収し熱を発
生する化合物、および熱により反応し溶解性または膨潤
率を向上させる化合物および化合物群を含む。

【００３５】レーザー光を吸収し熱を発生する化合物と
しては、カーボンブラック、チタンブラック、アニリン
ブラック、シアニンブラックなどの黒色顔料、フタロシ
アニン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、カーボングラ
ファイト、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯
体、フェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノ
ール系金属錯体、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、硫化
クロム、珪酸塩化合物や、酸化チタン、酸化バナジウ
ム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化タング
ステンなどの金属酸化物、これらの金属の水酸化物、硫
酸塩などを挙げることができる。

【００３６】また、赤外線または近赤外線を吸収する色
素、特に染料が好ましく使用される。特に好ましい色素
としては、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシ
アニン系、ジチオール金属錯体系、ピアズレニウム系、
スクアリリウム系、クロコニウム系、アゾ系分散色素、
ビスアゾ系、ビスアゾスチルベン系、ナフトキノン系、
アントラキノン系、ペリレン系、ポリメチン系、インド
アニリン金属錯体染料、分子間型ＣＴ系、ベンゾチオピ
ラン系、スピロピラン系、ニグロシン系、チオインジゴ
系、ニトロソ系、キノリン系、フルギド系の色素、特に
染料などが挙げられる。

【００３７】これらの中では、レーザー光の吸収率など
の点から、シアニン系、ポリメチン系、ナフタロシアニ
ン系の染料が特に好ましい。

【００３８】これら化合物の含有量は、全感熱層組成物
に対して１〜４０重量％が好ましく、５〜２５重量％が
より好ましい。１重量％以上とすることでレーザー光の
吸収を効率的に行うことが出来、４０重量％以下とする
ことで感熱層の物性に悪影響を及ぼすこともなくなる。

【００３９】レーザー光照射で生じた熱により反応し、
溶解性または膨潤率を向上させる化合物あるいは化合物
群としては、フェノール、クレゾール、キシレノールな
どのフェノール類とホルムアルデヒドの縮合反応により
得られるノボラック樹脂やレゾール樹脂、フェノール・
フルフラール樹脂、フラン樹脂などと、多官能ブロック
ドイソシアネート、多官能エポキシ化合物、多官能アク
リレート化合物、金属キレート化合物、多官能アルデヒ
ド、多官能メルカプト化合物、多官能アルコキシシリル
化合物、多官能アミン化合物、多官能カルボン酸、多官
能ビニル化合物、多官能ジアゾニウム塩、多官能アジド
化合物、ヒドラジンなどの組み合わせが挙げられるが、
フェノール樹脂と金属キレート化合物の組み合わせが特
に好ましい。

【００４０】このような化合物あるいは化合物群の感熱
層中に占める割合としては、感熱層の全固形分の２０〜
９５重量％、さらには３０〜７０重量％であることが好
ましい。２０重量％以上とすることで、感熱層表層の変
化による溶解性あるいは膨潤率変化を維持することが出
来、一方、９５重量％以下とすることで、相対的にレー
ザー光を吸収し熱を発生する化合物の量を維持すること
によりレーザー照射による熱発生に問題を生じることも
ない。

【００４１】その他、感熱層中にはバインダーポリマー
や界面活性剤、各種添加剤を含有してもよい。これらの
バインダーの含有量は、全感熱層組成物に対して５〜７
０重量％が好ましく、１０〜５０重量％がより好まし
い。含有量が５重量％以上とすれば耐刷性や塗液の塗工
性に問題が生じることもなく、７０重量％以下とすれば
画像再現性に悪影響もない。

【００４２】感熱層の厚さは、被覆層にして０．１〜１
０ｇ／ｍ²であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を揮
散し易く生産性に優れる点で好ましく、１〜５ｇ／ｍ²
がより好ましい。

【００４３】本発明における直描型水なし平版印刷版原
版の製造方法について説明する。

【００４４】アルミおよびアルミ合金などの金属基板、
あるいはポリエチレンテレフタレートなどプラスチック
フィルムなどの基板上に、リバースロールコーター、エ
アーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコータ
ー、メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいは
ホエラーのような回転塗布装置を用い、必要に応じてプ
ライマー層組成物を塗布し１００〜３００℃で数分間加
熱あるいは活性光線照射により硬化させた後、感熱層組
成物を塗布し５０〜１８０℃で数十秒から数分間加熱乾
燥させる。

【００４５】この後、親水性成分を含有したシリコーン
ゴム組成物を塗布し５０〜２００℃の温度で数分間熱処
理してシリコーンゴム層を得る。

【００４６】次に直描型水なし平版印刷版の製版方法に
ついて詳しく説明する。

【００４７】本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、
レーザー照射の後、有機溶媒を用いた処理を全く行わず
に、水を主成分とする液体だけで現像を行う。

【００４８】レーザー照射に用いられる光源としては、
発光波長領域が３００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲にある
ものが用いられるが、明室での版材の取扱い性などの観
点から近赤外領域付近に発光波長領域が存在する半導体
レーザーやＹＡＧレーザーが好ましく用いられる。具体
的には、８３０ｎｍ、１０６４ｎｍの波長のレーザー光
が製版に好ましく用いられる。レーザー照射の好ましい
エネルギーは５０〜５００ｍＪ／ｃｍ²、さらに好まし
くは２５０〜４００ｍＪ／ｃｍ²ある。

【００４９】水を主成分とする液体としては、水もしく
は界面活性剤を含む水を挙げることが出来、好ましくは
水である。酸やアルカリ、揮発性の有機溶媒などを含む
ものは本発明に含まない。

【００５０】レーザー照射後の印刷版は、水を主成分と
する液体の存在下でブラシ、パッドなどで物理的に擦る
ことによって現像を行う。

【００５１】現像は、手による方法でもよいが、東レ
（株）製“ＴＷＬ−１１６０”や“ＴＷＬ−６５０”、
“ＴＷＬ−８６０”などの水なし平版用自動現像機、あ
るいは“ＴＷＵ−１１６０”、“ＴＷＵ−８６０”など
の水なし平版用水洗機を利用することが好ましい。

【００５２】ブラシとしては、直径２０〜５００μｍの
ブラシ素材を溝型あるいはブロック型の金属あるいはプ
ラスチックなどに列状に植え込んだものを芯に取り付け
たものが一般的であるが、上記ブラシ素材を金属あるい
はプラスチックなどの芯に放射状に植え込んだものでも
よく、上記ブラシ素材をプラスチックシートあるいは布
などの基材に植え込んだものを芯に巻いたものでもよ
い。

【００５３】ブラシ材質としては、ポリ塩化ビニル、ポ
リアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレン
テレフタレートおよびポリプロピレンの群から選ばれる
少なくとも１種とすることにより、ブラシによる印刷版
のインキ反発層を傷つけることなく、またブラシの力不
足によるレーザー照射部のインキ反発層の除去不良を防
止できる。

【００５４】さらにブラシローラの回転数は１０〜２０
００ｒｐｍ、好ましくは２００〜１０００ｒｐｍであ
る。また、ブラシローラを回転すると共に、軸方向へ往
復運動させることにより、レーザー照射部のシリコーン
ゴム層除去効果が向上する。ブラシローラの回転方向と
しては、印刷版の搬送方向と同方向でも逆方向でもよ
い。

【００５５】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版については、画線部となるレーザー照射部の感熱
層を染色し、画線部と非画線部のコントラストをつけ、
画像視認性を高めることも好ましく行われる。染色に用
いられる染料としては、特に水溶性の塩基性染料、酸性
染料が好ましく用いられる。具体例としては、エチルバ
イオレット、ビクトリアピュアブルー、ビクトリアブル
ー、メチルバイオレット、ブリリアントベーシックシア
ニン（Brilliant Basic Cyanine）６ＧＨなどが挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。

【００５６】このように染色を行った直描型水なし平版
印刷版は、さらに水を用いて洗浄してもよい。

【００５７】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明する。

【００５８】［実施例１］直描型水なし平版印刷版原版１の作製厚さ０．２４ｍｍの脱脂したアルミ板上に下記の組成よ
りなる溶液をスリットダイコーターにより塗布し、１４
０℃×９０秒間乾燥し、１．５ｇ／ｍ²の感熱層を設け
た。＜感熱層１＞（ａ）“ＰＲＯＪＥＴ”８２５ＬＤＩ（（株）Ａｖｅｃ
ｉａ製）：１１重量部（ｂ）“ナーセムチタン”（日本化学産業（株）製、チ
タンジ−ｎ−ブトキサイド(ビス−２，４−ペンタンジ
オネート)のアセチルアセトン溶液）：９重量部（固形
分濃度４０重量％として計算。固形分として９重量部）（ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２（フェノー
ルノボラック樹脂、住友デュレズ（株）製）：６０重量
部（ｄ）“サンプレン”Ｔ１３３１Ｄ（ポリウレタン、三
洋化成工業（株）製）：１０重量部（固形分として１０
重量部）（ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン：
１／３／１モル比付加物：１０重量部（ｆ）テトラヒドロフラン：８００重量部（ｇ）ジメチルホルムアミド：１００重量部

【００５９】次いで、下記組成の溶液をスリットダイコ
ーターにより塗設し、乾燥条件は１３０℃×２分間とし
て乾燥膜厚２．０μｍのシリコーンゴム層を設け、直描
型水なし平版印刷版原版１を得た。＜シリコーンゴム層１＞（ａ）“ニューポール”ＬＢ−２８５（ポリオキシプロ
ピレンモノブチルエーテル、分子量約１２００、三洋化
成工業（株）製）：５重量部（ｂ）“ＤＭＳ−Ｖ３３”（α，ω−ジビニルポリジメ
チルシロキサン、分子量約４３，０００、Ｇｅｌｅｓｔ
Ｉｎｃ．製：１００重量部（ｃ）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製両末端メチル
（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキ
サン）共重合体ＳｉＨ基数／分子量＝０．６９mol/
g）：７重量部（ｄ）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン：３重量部（ｅ）“ＳＲＸ−２１２”（東レダウコーニングシリコ
ーン（株）製、白金触媒）：５重量部（ｆ）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製）：９０
０重量部（ｇ）テトラヒドロフラン：１００重量部

【００６０】直描型水なし平版印刷版の現像上記のようにして得られた直描型水なし平版印刷版原版
１を、「ＧＸ−３６００」（製版機、東レ（株））に装
着し、半導体レーザー（波長８３０ｎｍ）を用いてレー
ザー照射を行った（照射エネルギー２５０ｍＪ／ｃ
ｍ²、２４００ｄｐｉ、１７５ｌｐｉ）。

【００６１】その後、水なし平版印刷版用自動現像機用
水洗機“ＴＷＵ−１１６０”（東レ（株）製）を用い
て、水だけで現像を行った。

【００６２】この結果、レーザー光が照射された部分の
シリコーンゴム層が除去された直描型水なし平版印刷版
が得られた。

【００６３】画像再現性の評価得られた印刷版を、印刷版を枚葉オフセット印刷機「ス
プリント２５」（小森コーポレーション（株）製）に取
り付け、水なし平版用インキ“ドライオカラーＮＳ
Ｉ”、藍（大日本インキ化学工業（株）製）を使用して
上質紙（62.5kg／菊）に印刷し、印刷物としての画像再
現性を評価したところ、２〜９８％の再現性であった。

【００６４】［比較例１］実施例１におけるシリコーン
ゴム層の成分（ａ）を抜いた以外は全く同様にして直描
型水なし平版印刷版原版２を作製し、全く同様に評価し
たところ、画像再現性は４〜９６％であった。また、印
刷版の非画線部に相当する部分に無数の細かい筋状の汚
れが観察された。印刷機から印刷版を取り外し、印刷版
を観察したところ、無数の細かい傷が確認された。

【００６５】

【表１】

【００６６】

【発明の効果】本発明によれば、画像再現性が良好で、
現像時にシリコーンゴム層が傷つきにくい、有機溶媒を
全く用いずに水だけで現像できる直描型水なし平版印刷
版原版が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H025 AA04 AB04 AC08 AD01 CA41 CB28 CB33 CC12 CC13 CC20 DA03 DA37 FA17 2H096 AA07 AA13 BA16 CA20 EA04 EA23 GA08 2H114 AA05 AA22 AA24 BA01 DA04 DA38 DA52 DA59 DA60 DA62 DA73 EA01 EA02 EA05 FA16 GA34 GA38

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、少なくとも感熱層、シリコーン
ゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版で
あって、前記シリコーンゴム層が、水に不溶であり、水
存在下での滑り特性を向上させる成分を含むことを特徴
とする直描型水なし平版印刷版原版。
【請求項２】水に不溶であり、水存在下での滑り特性を
向上させる成分が下記一般式（Ｉ）で表される構造を有
する化合物であることを特徴とする請求項１記載の直描
型水なし平版印刷版原版。【化１】（式中、Ｒ¹、およびＲ²は水素原子または炭素数１〜２
０の置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、
アリール基を表す。Ｒ³は、水素原子またはメチル基を
表す。また、ｎは１〜１００の整数を表す。）