JP2001320103A - 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 - Google Patents
圧電/電歪デバイス及びその製造方法Info
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Abstract
軽量化及び可動部の変位の増大化と高速化(高共振周波
数化)を達成させると共に、デバイスのハンドリング性
並びに可動部への部品の取付性又はデバイスの固定性を
向上させる。 【解決手段】相対向する一対の薄板部12a及び12b
と、これら薄板部12a及び12bを支持する固定部1
4を具備し、一対の薄板部12a及び12bにそれぞれ
圧電/電歪素子18a及び18bが配設された圧電/電
歪デバイス10において、可動部20a及び20bは、
互いに対向する端面34a及び34bを有し、端面34
a及び34b間の距離Lcを可動部20a及び20bの
長さDf以上にして構成する。
Description
変位動作に基づいて作動する可動部を備えた圧電/電歪
デバイス、もしくは可動部の変位を圧電/電歪素子によ
り検出できる圧電/電歪デバイス及びその製造方法に関
し、詳しくは、強度、耐衝撃性、耐湿性に優れ、効率よ
く可動部を大きく作動させることができる圧電/電歪デ
バイス及びその製造方法に関する。
野において、サブミクロンオーダーで光路長や位置を調
整可能な変位素子が必要とされており、圧電/電歪材料
(例えば強誘電体等)に電圧を印加したときに惹起され
る逆圧電効果や電歪効果による変位を利用した変位素子
の開発が進められている。
ば図41に示すように、圧電/電歪材料からなる板状体
200に孔部202を設けることにより、固定部204
と可動部206とこれらを支持する梁部208とを一体
に形成し、更に、梁部208に電極層210を設けた圧
電アクチュエータが開示されている(例えば特開平10
−136665号公報参照)。
層210に電圧を印加すると、逆圧電効果や電歪効果に
より、梁部208が固定部204と可動部206とを結
ぶ方向に伸縮するため、可動部206を板状体200の
面内において弧状変位又は回転変位させることが可能で
ある。
は、バイモルフを用いたアクチュエータに関して、その
バイモルフの電極を分割して設け、分割された電極を選
択して駆動することにより、高精度な位置決めを高速に
行う技術が開示され、この公報(特に第4図)には、例
えば2枚のバイモルフを対向させて使用する構造が示さ
れている。
電アクチュエータにおいては、圧電/電歪材料の伸縮方
向(即ち、板状体200の面内方向)の変位をそのまま
可動部206に伝達していたため、可動部206の作動
量が小さいという問題があった。
分を脆弱で比較的重い材料である圧電/電歪材料によっ
て構成しているため、機械的強度が低く、ハンドリング
性、耐衝撃性、耐湿性に劣ることに加え、圧電アクチュ
エータ自体が重く、動作上、有害な振動(例えば、高速
作動時の残留振動やノイズ振動)の影響を受けやすいと
いう問題点があった。
に柔軟性を有する充填材を充填することが提案されてい
るが、単に充填材を使用しただけでは、逆圧電効果や電
歪効果による変位の量が低下することは明らかである。
に記載されたアクチュエータは、固定部材ないしは中継
部材に対してバイモルフを貼り付けたものであることに
加え、バイモルフ自身2枚の圧電子を貼り合わせてなる
構造のものであることから、それらの貼り付け、貼り合
わせにかかる加熱処理や接着剤の硬化収縮等に起因した
応力を残留しやすく、その内部残留応力によって、変位
動作が妨げられ、設計通りの変位、共振周波数を実現で
きないおそれがある。特に、アクチュエータがサイズ的
に小さい場合、接着剤の影響は自ずから大きくなってし
まう。
排除する方法として、アクチュエータを例えばセラミッ
クスの一体焼成物で構成し、接着剤を使用しない構造と
することが考えられる。しかしながら、この場合におい
ても、焼成時の各部材の熱収縮挙動の違いによって、内
部残留応力が発生するおそれは免れ得ない。
さい場合には、そのアクチュエータの固定性及びアクチ
ュエータへの他の部品の取付性が低下するという問題を
内在していた。
たものであり、デバイスの軽量化、中でも可動部又は固
定部の軽量化、デバイスのハンドリング性並びに可動部
への部品の取付性又はデバイスの固定性を向上させるこ
とができ、これにより、相対的に低電圧で可動部を大き
く変位することができると共に、デバイス、特に、可動
部の変位動作の高速化(高共振周波数化)を達成させる
ことができ、しかも、有害な振動の影響を受け難く、高
速応答が可能で、機械的強度が高く、ハンドリング性、
耐衝撃性、耐湿性に優れた変位素子、並びに可動部の振
動を精度よく検出することが可能なセンサ素子を得るこ
とができる圧電/電歪デバイス及びその製造方法を提供
することを目的とする。
対の薄板部と、これら薄板部を支持する固定部とを具備
し、前記一対の薄板部の先端部分に可動部を有し、前記
一対の薄板部のうち、少なくとも1つの薄板部に1以上
の圧電/電歪素子が配設された圧電/電歪デバイスであ
って、前記可動部又は固定部のいずれか一方は、互いに
対向する端面を有し、前記端面間の距離が前記可動部の
長さ以上であることを特徴とする。
クスもしくは金属を用いて構成されていてもよく、ま
た、各部をセラミック材料同士で構成することもできる
し、あるいは金属材料同士で構成することもできる。更
には、セラミックスと金属の材料とから製造されたもの
を組み合わせたハイブリッド構造として構成することも
できる。
一方に切除部を設け、前記切除部の一部が前記互いに対
向する端面を構成するようにしてもよい。更に、前記薄
板部と前記可動部と前記固定部は、セラミックグリーン
積層体を同時焼成することによって一体化し、更に不要
な部分を切除してなるセラミック基体で構成するように
してもよい。また、前記圧電/電歪素子を膜状とし、焼
成によって前記セラミック基体に一体化するようにして
もよい。
電歪層と、該圧電/電歪層に形成された一対の電極とを
有して構成することができる。また、前記圧電/電歪素
子は、圧電/電歪層と、該圧電/電歪層の両側に形成さ
れた一対の電極とを有し、該一対の電極のうち、一方の
電極を少なくとも前記薄板部に形成するようにしてもよ
い。この場合、圧電/電歪素子による振動を薄板部を通
じて効率よく可動部又は固定部に伝達することができ、
応答性の向上を図ることができる。特に、前記圧電/電
歪素子は、前記圧電/電歪層と前記一対の電極の複数が
積層形態で構成されていることが好ましい。
電歪素子の発生力が増大し、もって大変位が図られると
共に、デバイス自体の剛性が増すことで、高共振周波数
化が図られ、変位動作の高速化を容易に達成できるとい
う特徴がある。
隙としてもよいし、前記互いに対向する端面の間に前記
可動部又は固定部のいずれか一方の構成部材と同じ部材
あるいは異なる複数の部材、例えばガラス、セメント、
有機樹脂などが挙げられ、好ましくは有機樹脂、例えば
エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、フェノール
系、シリコーン系、テルペン系、キシレン系、スチレン
系、メラミン系、メタクリル系、ゴム系等もしくはこれ
らの混合物、共重合体を介在させるようにしてもよい。
中でも接合性、取り扱い性、硬さ等の点から、エポキシ
系、アクリル系、メタクリル系の有機樹脂などを介在さ
せることが好ましい。また、更に硬度を上げる目的で無
機材料等のフィラーを混入させることも好ましい。
とした場合や、前記互いに対向する端面の間に前記可動
部又は固定部の構成部材よりも軽い部材を介在させる、
あるいは前記部材でも小さなものにより端面間を接合さ
せることで、可動部又は固定部の軽量化を有効に図るこ
とができるため、可動部又は固定部の変位量を低下させ
ることなく、共振周波数を高めることが可能となる。
とした場合は、一方の端面を含む可動部又は固定部の一
部と、他方の端面を含む可動部又は固定部の別の一部と
が撓みやすくなり、変形に強くなる。そのため、圧電/
電歪デバイスのハンドリング性に優れることとなる。
上であるため、可動部に他の部品を取り付ける場合に、
その取付面積を大きくとることができ、部品の取付性を
向上させることができる。ここで、部品を例えば接着剤
等によって固着する場合を考えると、物品を両側から挟
んで保持することができるため、部品を確実に固着する
ことができる。
で、物品の高さと可動部の高さが単純に加算されなくな
り、物品を含めた全体の高さを低く保つことができる。
また、更に、可動部の長さを端面側の距離よりも小さく
できることから、部品を接着する接着剤等の物性が有効
に作用し、変位を大きくすることができる。
とした場合は、この発明に係る圧電/電歪デバイスを所
定の固定部分に強固に固定することが可能となり、信頼
性の向上を図ることができる。
の軽量化、中でも可動部又は固定部の軽量化、デバイス
のハンドリング性、並びに可動部への部品の取付性、小
型化、デバイスの固定性を向上させることができ、これ
により、可動部を大きく変位させることができると共
に、可動部の変位動作の高速化(高共振周波数化)を達
成させることができ、しかも、有害な振動の影響を受け
難く、高速応答が可能で、機械的強度が高く、ハンドリ
ング性、耐衝撃性、耐湿性に優れた変位素子、並びに可
動部の振動を精度よく検出することが可能なセンサ素子
を得ることができる。
いては、例えば貼り合わせや後述する膜形成法を用いた
一体焼成等によって、例えばセラミック積層体(セラミ
ックグリーンシートを積層し、一体焼成したもの)に圧
電/電歪素子を形成したとき、圧電/電歪素子及び/又
は薄板部となる部分に内部残留応力が発生することにな
る。特に、一体焼成によって圧電/電歪素子をセラミッ
ク積層体に形成する場合は、焼成時に生じる構成部材の
収縮や熱膨張率の違いによって圧電/電歪素子及び/又
は薄板部となる部分に内部残留応力が発生しやすくな
る。
し、使用すると、圧電/電歪素子を構成する圧電/電歪
層に所定電界を与えても、可動部において所望の変位を
示さない場合がある。これは、圧電/電歪層の材料特性
及び可動部の変位動作が、圧電/電歪素子及び/又は前
記薄板部に発生している内部残留応力によって阻害され
ているからである。
か一方に互いに対向する端面を設けるようにしているた
め、端面間の距離が、前記圧電/電歪素子及び/又は薄
板部に発生している内部残留応力によって、例えば縮ま
ることになる。即ち、圧電/電歪素子及び/又は薄板部
に生じていた内部残留応力が端面の移動によって解放さ
れることとなる。
とるようにしているため、内部残留応力によって端面間
の距離が狭まっても、該端面間に他の部品を取り付ける
だけの余裕を持たせることができる。
作が前記内部残留応力によって阻害されることがなくな
り、ほぼ設計通りの可動部の変位動作を得ることができ
る。加えて、この内部残留応力の解放によって、デバイ
スの機械強度の向上も図ることができる。
動部の内壁と前記複数の部材の内壁と前記固定部の内壁
とにより孔部が形成される場合に、該孔部内に、ゲル状
の材料を充填するようにしてもよい。この場合、通常
は、充填材の存在によって、可動部の変位動作が制限を
受けることになるが、上述の発明は、可動部又は固定部
への端面の形成に伴う軽量化や可動部の変位量の増大化
を図るようにしているため、前記充填材による可動部の
変位動作の制限が打ち消され、充填材の存在による効
果、即ち、高共振周波数化や剛性の確保を実現させるこ
とができる。
と、これら薄板部を支持する固定部とを具備し、前記一
対の薄板部の先端部分に可動部を有し、前記一対の薄板
部のうち、少なくとも1つの薄板部に1以上の圧電/電
歪素子が配設された圧電/電歪デバイスの製造方法であ
って、少なくとも前記薄板上に前記圧電/電歪素子を作
製した後に、前記可動部となる部分又は固定部となる部
分のいずれか一方の所定部位を切除して、互いに対向す
る端面を有し、かつ、前記端面間の距離が前記可動部の
長さ以上とされた前記可動部又は固定部を形成する工程
を有することを特徴とする。
定部が設けられることとなるため、製造時に圧電/電歪
素子及び/又は薄板部に発生していた内部残留応力が、
端面間の距離が例えば縮まることによって解放されるこ
とになり、可動部の変位動作が前記内部残留応力によっ
て阻害されることがない。
は、少なくとも圧電/電歪層が形成された状態を示し、
圧電/電歪層の形成後に形成される電極に対しては、互
いに対向する端面を有する可動部又は固定部を形成する
ための切除を行った後に形成するようにしてもかまわな
い。
又は固定部を設けることによって、可動部又は固定部が
軽量化されるため、可動部の変位量を低下させることな
く、共振周波数を高めることが可能となる圧電/電歪デ
バイスを効率よく、かつ、容易に製造することができ、
高性能の圧電/電歪デバイスの量産化を実現させること
ができる。
り、変形に強くなるため、圧電/電歪デバイスのハンド
リング性に優れることとなり、また、前記互いに対向す
る端面の存在と、該端面間の距離を広くするようにして
いるため、可動部に他の部品を取り付ける場合に、その
取付面積を大きくとることができ、部品の取付性を向上
させることができる。また、部品を挟んで接着する際、
変位を向上させることができる。
と、これら薄板部を支持する固定部とを具備し、前記一
対の薄板部の先端部分に可動部を有し、前記一対の薄板
部のうち、少なくとも1つの薄板部に1以上の圧電/電
歪素子が配設された圧電/電歪デバイスの製造方法であ
って、少なくとも窓部を有するセラミックグリーンシー
トと、後に前記薄板部となるセラミックグリーンシート
とを含むセラミックグリーン積層体を一体焼成して、セ
ラミック積層体を作製するセラミック積層体作製工程
と、前記セラミック積層体のうち、前記薄板部となる部
分の外表面に前記圧電/電歪素子を形成する工程と、前
記圧電/電歪素子が形成されたセラミック積層体に対す
る少なくとも1回の切除処理によって、少なくとも前記
互いに対向する端面を有し、かつ、前記端面間の距離が
前記可動部の長さ以上とされた前記可動部又は固定部を
形成する切除工程とを含むことを特徴とする。
おいて、特に、焼成によって、セラミック積層体に圧電
/電歪素子を形成したときに、圧電/電歪素子及び/又
は薄板部に発生する内部残留応力を効果的に解放するこ
とができるため、セラミックグリーンシート積層法を用
いて圧電/電歪デバイスを作製する場合において、デバ
イスの軽量化、中でも可動部又は固定部の軽量化、デバ
イスのハンドリング性、並びに可動部への部品の取付
性、デバイスの固定性を向上させることができ、これに
より、可動部を大きく変位することができる。
は、少なくとも互いに対向する端面を有する前記可動部
又は固定部を形成するための窓部を有する複数のセラミ
ックグリーンシートと、後に前記薄板部となるセラミッ
クグリーンシートとを含むセラミックグリーン積層体を
一体焼成して、前記セラミック積層体を作製し、前記切
除工程は、前記圧電/電歪素子が形成されたセラミック
積層体に対する切除処理によって、少なくとも前記互い
に対向する端面を有し、かつ、前記端面間の距離が前記
可動部の長さ以上とされた前記可動部又は固定部を形成
するようにしてもよい。
少なくとも互いに対向する端面が一部連結された前記可
動部となる部分又は前記固定部となる部分を形成するた
めの窓部を有する複数のセラミックグリーンシートと、
後に前記薄板部となるセラミックグリーンシートとを含
むセラミックグリーン積層体を一体焼成して、前記セラ
ミック積層体を作製し、前記切除工程は、前記圧電/電
歪素子が形成された前記セラミック積層体に対する切除
処理によって、少なくとも互いに対向する端面が一部連
結された前記可動部となる部分又は固定部となる部分を
形成し、更に、前記連結部分を切除して互いに対向する
端面を有し、かつ、前記端面間の距離が前記可動部の長
さ以上とされた前記可動部又は固定部を形成するように
してもよい。
記可動部又は固定部の構成部材と異なる複数の部材を介
在させる工程を含めるようにしてもよい。この場合、前
記複数の部材のうち、少なくとも1つの部材として有機
樹脂を用いることができる。
及びその製造方法によれば、各種トランスデューサ、各
種アクチュエータ、周波数領域機能部品(フィルタ)、
トランス、通信用や動力用の振動子や共振子、発振子、
ディスクリミネータ等の能動素子のほか、超音波センサ
や加速度センサ、角速度センサや衝撃センサ、質量セン
サ等の各種センサ用のセンサ素子として利用することが
でき、特に、光学機器、精密機器等の各種精密部品等の
変位や位置決め調整、角度調整の機構に用いられる各種
アクチュエータに好適に利用することができる。
バイス及びその製造方法の実施の形態例を図1〜図40
を参照しながら説明する。
歪素子により電気的エネルギと機械的エネルギとを相互
に変換する素子を包含する概念である。従って、各種ア
クチュエータや振動子等の能動素子、特に、逆圧電効果
や電歪効果による変位を利用した変位素子として最も好
適に用いられるほか、加速度センサ素子や衝撃センサ素
子等の受動素子としても好適に使用され得る。
10は、図1に示すように、相対向する一対の薄板部1
2a及び12bと、これら薄板部12a及び12bを支
持する固定部14とが一体に形成された基体16を具備
し、一対の薄板部12a及び12bの各一部にそれぞれ
圧電/電歪素子18a及び18bが形成されて構成され
ている。
前記圧電/電歪素子18a及び/又は18bの駆動によ
って一対の薄板部12a及び12bが変位し、あるいは
薄板部12a及び12bの変位を圧電/電歪素子18a
及び/又は18bにより検出する構成を有する。従っ
て、図1の例では、薄板部12a及び12bと圧電/電
歪素子18a及び18bにてアクチュエータ部19a及
び19bが構成されることになる。
各先端部分が内方に向かって肉厚とされ、該肉厚部分
は、薄板部12a及び12bの変位動作に伴って変位す
る可動部20a及び20bとして機能することになる。
以下、一対の薄板部12a及び12bの先端部分を可動
部20a及び20bと記す。
ラミックスもしくは金属を用いて構成されたもののほ
か、セラミックスと金属の材料で製造されたものを組み
合わせたハイブリッド構造としてもよい。
ス等の接着剤で接着してなる構造、セラミックグリーン
積層体を焼成により一体化してなるセラミック一体構
造、ロウ付け、半田付け、共晶接合もしくは溶接等で一
体化した金属一体構造等の構成を採用することができ、
好ましくはセラミックグリーン積層体を焼成により一体
化したセラミック積層体で基体16を構成することが望
ましい。
部の接合部に接着剤が介在しないことから、経時的な状
態変化がほとんど生じないため、接合部位の信頼性が高
く、かつ、剛性確保に有利な構造であることに加え、後
述するセラミックグリーンシート積層法により、容易に
製造することが可能である。
は、後述のとおり別体として圧電/電歪素子18a及び
18bを準備して、基体16に有機樹脂、ガラス等の接
着剤や、ロウ付け、半田付け、共晶接合等で貼り付けら
れるほか、膜形成法を用いることにより、前記貼り付け
ではなく直接基体16に形成されることとなる。
/電歪層22と、該圧電/電歪層22の両側に形成され
た一対の電極24及び26とを有して構成され、該一対
の電極24及び26のうち、一方の電極24が少なくと
も一対の薄板部12a及び12bに形成されている。
に一対の電極24及び26をそれぞれ多層構造とし、一
方の電極24と他方の電極26を断面ほぼ櫛歯状となる
ようにそれぞれ互い違いに積層し、これら一方の電極2
4と他方の電極26が圧電/電歪層22を間に挟んで重
なる部分が多段構成とされた圧電/電歪素子18a及び
18bとした場合を主体に説明するが、多層構造に限ら
ず単層構造であってもよい。この場合、多層の数は特に
限定しないが、10層以下が好ましく、更に好ましくは
5層以下である。
し、一方の電極24が1層目の下面(薄板部12a及び
12bの側面)と2層目の上面に位置するように櫛歯状
に形成し、他方の電極26が1層目の上面と3層目の上
面に位置するように櫛歯状に形成した例を示している。
この構成の場合、一方の電極24同士並びに他方の電極
26同士をそれぞれつなぎ共通化することで、端子28
及び30の数を減らすことができるため、圧電/電歪素
子18a及び18bの多層化に伴うサイズの大型化を抑
えることができる。
印加は、各電極24及び26のうち、それぞれ固定部1
4の両側面(素子形成面)上に形成された端子(パッ
ド)28及び30を通じて行われるようになっている。
各端子28及び30の位置は、一方の電極24に対応す
る端子28が固定部14の後端寄りに形成され、外部空
間側の他方の電極26に対応する端子30が固定部14
の内壁寄りに形成されている。
を、端子28及び30が配置された面とは別の面を利用
してそれぞれ別個に行うことができ、結果として、圧電
/電歪デバイス10の固定と、回路と端子28及び30
間の電気的接続の双方に高い信頼性を得ることができ
る。この構成においては、フレキシブルプリント回路
(FPCとも称される)、フレキシブルフラットケーブ
ル(FFCとも称される)、ワイヤボンディング等によ
って端子28及び30と回路との電気的接続が行われ
る。
a及び18bを用いることにより、アクチュエータ部1
9a及び19bの駆動力が増大し、もって大変位が図ら
れると共に、圧電/電歪デバイス10自体の剛性が増す
ことで、高共振周波数化が図られ、変位動作の高速化が
容易に達成できる。
部19a及び19bの駆動力の増大は図られるが、それ
に伴い消費電力も増えるため、実施する場合には、用
途、使用状態に応じて適宜段数等を決めればよい。ま
た、この実施の形態に係る圧電/電歪デバイス10で
は、圧電/電歪素子18a及び18bを用いることによ
って、アクチュエータ部19a及び19bの駆動力を上
げても、基本的に薄板部12a及び12bの幅(Y軸方
向の距離)は不変であるため、例えば非常に狭い間隙に
おいて使用されるハードディスク用磁気ヘッドの位置決
め、リンギング制御等のアクチュエータに適用する上で
非常に好ましいデバイスとなる。
としては、例えば図2に示すように、圧電/電歪層22
を5層構造とし、一方の電極24を1層目の上面と3層
目の上面と5層目の上面に位置するように櫛歯状に形成
し、他方の電極26を2層目の上面と4層目の上面に位
置するように櫛歯状に形成した例を示してもよい。
2を同じく5層構造とし、一方の電極24を1層目の上
面と3層目の上面と5層目の上面に位置するように櫛歯
状に形成し、他方の電極26を1層目の下面と2層目の
上面と4層目の上面に位置するように櫛歯状に形成する
ようにしてもよい。
印加は、5層目の圧電/電歪層22上に形成された各電
極24及び26の端部(以下、端子部24a及び26a
と記す)を通じて行われるようになっている。各端子部
24a及び26aは電気的に絶縁できる程度に離間して
形成されている。
おいては、一対の電極24及び26間に圧電/電歪層2
2を介在させたいわゆるサンドイッチ構造で構成した場
合を示したが、その他、図4に示すように、少なくとも
薄板部12a及び12bの側面に形成された圧電/電歪
層22の一主面に櫛型の一対の電極24及び26を形成
するようにしてもよいし、図5に示すように、少なくと
も薄板部12a及び12bの側面に形成された圧電/電
歪層22に櫛型の一対の電極24及び26を埋め込んで
形成するようにしてもよい。
抑えることができるという利点があり、図5に示す構造
の場合は、歪み、発生力の大きな電界方向の逆圧電効果
を有効に利用できる構造であることから、大変位の発生
に有利になる。
8a及び18bは、圧電/電歪層22の一主面に櫛型構
造の一対の電極24及び26が形成されてなり、一方の
電極24及び他方の電極26が互い違いに一定の幅の間
隙32をもって相互に対向する構造を有する。図4で
は、一対の電極24及び26を圧電/電歪層22の一主
面に形成した例を示したが、その他、薄板部12a及び
12bと圧電/電歪層22との間に一対の電極24及び
26を形成するようにしてもよいし、圧電/電歪層22
の一主面並びに薄板部12a及び12bと圧電/電歪層
22との間にそれぞれ櫛型の一対の電極24及び26を
形成するようにしてもよい。
び18bは、圧電/電歪層22に埋め込まれるように、
櫛型構造の一対の電極24及び26が形成され、一方の
電極24及び他方の電極26が互い違いに一定の幅の間
隙32をもって相互に対向する構造を有する。
/電歪素子18a及び18bも本実施の形態に係る圧電
/電歪デバイス10に好適に用いることができる。図4
及び図5に示す圧電/電歪素子18a及び18bのよう
に、櫛型の一対の電極24及び26を用いる場合は、各
電極24及び26の櫛歯のピッチDを小さくすること
で、圧電/電歪素子18a及び18bの変位を大きくす
ることが可能である。
対向する端面34a及び34b間の距離Lcは、可動部
20a及び20bの長さ(正確には可動部20a及び2
0bのZ軸方向の長さ)Df以上とされ、これら端面3
4a及び34b間に例えば図1に示すように、空隙(空
気)36を介在させるようにしてもよいし、図6及び図
7に示す第1及び第2の変形例に係る圧電/電歪デバイ
ス10a及び10bのように、これら端面34a及び3
4bの間に可動部20a及び20bの構成部材と同じ材
質あるいは異なる材質からなる複数の部材を介在させる
ようにしてもよい。この場合、各可動部20a及び20
bの互いに対向する端面34a及び34bは取付面34
a及び34bとして機能することになる。
デバイス10aでは、取付面34a及び34b間の距離
Lcを可動部20a及び20bの長さDfの約1.5倍
に設定し、かつ、取付面34a及び34b間にそれぞれ
ほぼ同じ厚みの3つのスペーサ部材37A、37B及び
37Cを介在させた場合を示す。
デバイス10bでは、取付面34a及び34b間の距離
Lcを可動部20a及び20bの長さDfの約1.5倍
に設定し、かつ、1つの大きなスペーサ部材37を接着
剤38を介して取付面34a及び34b間に接着させた
場合を示す。
歪デバイス10bにおいては、例えば図8に示すよう
に、スペーサ部材37の中心軸nから各端面34a及び
34bまでの距離La及びLbをほぼ等しくすることが
好ましい。
電歪デバイス10a及び10bでは、3つのスペーサ部
材37A〜37C(図6参照)並びにスペーサ部材37
(図7参照)は、ほぼ直方体の形状を呈し、各側面(薄
板部12a及び12bの可動部20a及び20bに対向
する面)の面積は、薄板部12a及び12bの可動部2
0a及び20bにおける取付面34a及び34bの面積
とほぼ同じに設定されている。
電歪デバイス10bの動作について説明する。まず、例
えば2つの圧電/電歪素子18a及び18bが自然状
態、即ち、圧電/電歪素子18a及び18bが共に変位
動作を行っていない場合は、図8に示すように、圧電/
電歪デバイス10bの長軸(固定部14の中心軸)mと
スペーサ部材37の中心軸nとがほぼ一致している。
すように、一方の圧電/電歪素子18aにおける一対の
電極24及び26に所定のバイアス電位Vbを有するサ
イン波Waをかけ、図9Bに示すように、他方の圧電/
電歪素子18bにおける一対の電極24及び26に前記
サイン波Waとはほぼ180°位相の異なるサイン波W
bをかける。
ける一対の電極24及び26に対して例えば最大値の電
圧が印加された段階においては、一方の圧電/電歪素子
18aにおける圧電/電歪層22はその主面方向に収縮
変位する。これにより、例えば図10に示すように、一
方の薄板部12aに対し、矢印Aに示すように、該薄板
部12aを例えば右方向に撓ませる方向の応力が発生す
ることから、該一方の薄板部12aは、右方向に撓み、
このとき、他方の圧電/電歪素子18bにおける一対の
電極24及び26には、電圧は印加されていない状態と
なるため、他方の薄板部12bは一方の薄板部12aの
撓みに追従して右方向に撓む。その結果、可動部20a
及び20b並びにスペーサ部材37は、圧電/電歪デバ
イス10bの長軸mに対して例えば右方向に変位する。
なお、変位量は、各圧電/電歪素子18a及び18bに
印加される電圧の最大値に応じて変化し、例えば最大値
が大きくなるほど変位量も大きくなる。
て、高い抗電界を有する圧電/電歪材料を適用した場合
には、図9A及び図9Bの二点鎖線の波形に示すよう
に、最小値のレベルが僅かに負のレベルとなるように、
前記バイアス電位を調整するようにしてもよい。この場
合、該負のレベルが印加されている圧電/電歪素子(例
えば他方の圧電/電歪素子18b)の駆動によって、例
えば他方の薄板部12bに一方の薄板部12aの撓み方
向と同じ方向の応力が発生し、可動部20a及び20b
並びにスペーサ部材37の変位量をより大きくすること
が可能となる。つまり、図9A及び図9Bにおける二点
鎖線に示すような波形を使用することで、負のレベルが
印加されている圧電/電歪素子18b又は18aが、変
位動作の主体となっている圧電/電歪素子18a又は1
8bをサポートとするという機能を持たせることができ
る。
歪デバイス10においては、圧電/電歪素子18a及び
18bの微小な変位が薄板部12a及び12bの撓みを
利用して大きな変位動作に増幅されて、可動部20a及
び20bに伝達することになるため、可動部20a及び
20bを、圧電/電歪デバイス10bの長軸mに対して
大きく変位させることが可能となる。
及び20bに互いに対向する取付面34a及び34bを
設けるようにしている。この場合、互いに対向する取付
面34a及び34bの間を空隙36にしたり、前記互い
に対向する取付面34a及び34bの間に可動部20a
及び20bの構成部材よりも軽い部材を介在させること
で、可動部20a及び20bの軽量化を有効に図ること
ができ、可動部20a及び20bの変位量を低下させる
ことなく、共振周波数を高めることが可能となる。
26に印加する電圧を交番的に切り換えて、可動部20
a及び20bを左右に変位させたときの電圧波形の周波
数を示し、共振周波数とは、可動部20a及び20bの
変位動作が所定の振動モードで追従できる最大の周波数
を示す。
バイス10においては、可動部20a及び20b、薄板
部12a及び12b並びに固定部14が一体化されてお
り、すべての部分を脆弱で比較的重い材料である圧電/
電歪材料によって構成する必要がないため、機械的強度
が高く、ハンドリング性、耐衝撃性、耐湿性に優れ、動
作上、有害な振動(例えば、高速作動時の残留振動やノ
イズ振動)の影響を受け難いという利点を有する。
対向する取付面34a及び34bの間を空隙36とした
場合、一方の取付面34aを含む可動部20aと、他方
の取付面34bを含む可動部20bとが撓みやすくな
り、変形に強くなる。そのため、圧電/電歪デバイス1
0のハンドリング性に優れることとなる。
び34bの存在により、可動部20a及び20bの表面
積が大きくなる。従って、可動部20a及び20bに他
の部品を取り付ける場合に、その取付面積を大きくとる
ことができ、部品の取付性を向上させることができる。
ここで、部品を例えば接着剤等によって固着する場合を
考えると、物品は、可動部20a及び20bの主面(前
面及び/又は背面)だけでなく、互いに対向する取付面
34a及び34bを通じて接着されることになり、部品
を確実に固着することができる。
電歪素子18a及び18bを、圧電/電歪層22と、該
圧電/電歪層22の両側に形成された一対の電極24及
び26とを有して構成し、一対の電極24及び26のう
ち、一方の電極24を少なくとも薄板部12a及び12
bの側面に直接形成するようにしたので、圧電/電歪素
子18a及び18bによる振動を薄板部12a及び12
bを通じて効率よく可動部20a及び20bに伝達する
ことができ、応答性の向上を図ることができる。
図1に示すように、一対の電極24及び26が圧電/電
歪層22を間に挟んで重なる部分(実質的駆動部分4
0)を固定部14の一部から薄板部12a及び12bの
一部にかけて連続的に形成するようにしている。実質的
駆動部分40を更に可動部20a及び20bの一部にか
けて形成した場合、可動部20a及び20bの変位動作
が前記実質的駆動部分40の変形と薄板部12a及び1
2bの変形とが相反し、大きな変位を得ることができな
くなるおそれがあるが、この実施の形態では、前記実質
的駆動部分40を可動部20a及び20bと固定部14
の両方にかけないように形成しているため、可動部20
a及び20bの変位動作が制限されるという不都合が回
避され、可動部20a及び20bの変位量を大きくする
ことができる。
電/電歪素子18a及び18bを形成する場合は、前記
実質的駆動部分40が可動部20a及び20bの一部か
ら薄板部12a及び12bの一部にかけて位置させるよ
うに形成することが好ましい。これは、実質的駆動部分
40が固定部14の一部にまでわたって形成されると、
上述したように、可動部20a及び20bの変位動作が
制限されるからである。
取付面34a及び34bを設けた例を示したが、その
他、図11に示す第3の変形例に係る圧電/電歪デバイ
ス10cのように、固定部14に端面34a及び34b
を設けるようにしてもよい。この場合、例えば一対の薄
板部12a及び12bの先端部分に設けられる可動部2
0a及び20bは一体に連結された形状を有し、固定部
14に互いに対向する端面34a及び34bが設けられ
ることとなる。
0bに互いに対向する取付面34a及び34bを有する
場合の効果に加え、この第3の変形例に係る圧電/電歪
デバイス10cを所定の固定部分に強固に固定すること
が可能となり、信頼性の向上を図ることができる。実質
的駆動部分40の長さは、薄板部12a及び12bの長
さの20%〜95%とすることが好ましく、40%〜8
0%とすることが更に好ましい。
イス10の好ましい構成例について説明する。
を確実なものとするために、圧電/電歪素子18a及び
18bの実質的駆動部分40が固定部14もしくは可動
部20a及び20bにかかる距離Dgを薄板部12a及
び12bの厚みDdの1/2以上とすることが好まし
い。
の距離(X軸方向の距離)Daと薄板部12a及び12
bの幅(Y軸方向の距離)Dbとの比Da/Dbが0.
5〜20となるように構成する。前記比Da/Dbは、
好ましくは1〜15とされ、更に好ましくは1〜10と
される。この比Da/Dbの規定値は、可動部20a及
び20bの変位量を大きくし、X−Z平面内での変位を
支配的に得られることの発見に基づく規定である。
軸方向の距離)Deと薄板部12a及び12bの内壁間
の距離Daとの比De/Daにおいては、好ましくは
0.5〜10とされ、更に好ましくは0.5〜5とする
ことが望ましい。この比De/Daの規定値は、スペー
サ部材(37A〜37Cや37)が介在された可動部2
0a及び20bの変位量を大きくでき、かつ、高い共振
周波数で変位動作を行うことができる(高い応答速度を
達成できる)という発見に基づく規定である。
デバイス10をY軸方向への煽り変位、あるいは振動を
抑制し、かつ、高速応答性に優れ、相対的に低電圧で大
きな変位を併せ持つ構造とするには、比Da/Dbを
0.5〜20とし、かつ、比De/Daを0.5〜10
にすることが好ましく、更に好ましくは比Da/Dbを
1〜10とし、かつ、比De/Daを0.5〜5にする
ことである。
歪デバイス10bにおいては、一対の薄板部12a及び
12bの両内壁と可動部20a及び20bの内壁とスペ
ーサ部材37の内壁(及び接着剤38の内壁)と固定部
14の内壁とにより孔部42が形成されることになる
が、この孔部42にゲル状の材料、例えばシリコンゲル
を充填することが好ましい。通常は、充填材の存在によ
って、可動部20a及び20bの変位動作が制限を受け
ることになるが、この第2の変形例では、可動部20a
及び20bへの端面34a及び34bの形成に伴う軽量
化や可動部20a及び20bの変位量の増大化を図るよ
うにしているため、前記充填材による可動部20a及び
20bの変位動作の制限が打ち消され、充填材の存在に
よる効果、即ち、高共振周波数化や剛性の確保を実現さ
せることができる。
軸方向の距離)Dfは、短いことが好ましい。短くする
ことで軽量化と共振周波数の増大が図られるからであ
る。更に、物品を挟持する際、変位を向上させることが
できる。しかしながら、可動部20a及び20bのX軸
方向の剛性を確保し、その変位を確実なものとするため
には、薄板部12a及び12bの厚みDdとの比Df/
Ddを2以上、好ましくは5以上とすることが望まし
い。
20bへの部品の取り付けのための接合面積、固定部1
4を他の部材に取り付けるための接合面積、電極用端子
などの取り付けのための接合面積、圧電/電歪デバイス
10全体の強度、耐久度、必要な変位量並びに共振周波
数、そして、駆動電圧等を考慮して定められることにな
る。
bの内壁間の距離Daは、100μm〜2000μmが
好ましく、更に好ましくは200μm〜1600μmで
ある。薄板部12a及び12bの幅Dbは、50μm〜
2000μmが好ましく、更に好ましくは100μm〜
500μmである。薄板部12a及び12bの厚みDd
は、Y軸方向への変位成分である煽り変位が効果的に抑
制できるように、薄板部12a及び12bの幅Dbとの
関係においてDb>Ddとされ、かつ、2μm〜100
μmが好ましく、更に好ましくは10μm〜80μmで
ある。
00μm〜3000μmが好ましく、更に好ましくは3
00μm〜2000μmである。可動部20a及び20
bの長さDfは、50μm〜2000μmが好ましく、
更に好ましくは100μm〜1000μmであり、より
好ましくは200μm〜600μmである。
向の変位に対してY軸方向の変位が10%を超えない
が、上述の寸法比率と実寸法の範囲で適宜調整を行うこ
とで低電圧駆動が可能で、Y軸方向への変位成分を5%
以下に抑制できるというきわめて優れた効果を示す。つ
まり、可動部20a及び20bは、実質的にX軸方向と
いう1軸方向に変位することになり、しかも、高速応答
性に優れ、相対的に低電圧で大きな変位を得ることがで
きる。
ては、デバイスの形状が従来のような板状(変位方向に
直交する方向の厚みが小さい)ではなく、可動部20a
及び20bと固定部14が直方体の形状(変位方向に直
交する方向の厚みが大きい)を呈しており、可動部20
a及び20bと固定部14の側面が連続するように一対
の薄板部12a及び12bが設けられているため、圧電
/電歪デバイス10のY軸方向の剛性を選択的に高くす
ることができる。
平面内(XZ平面内)における可動部20a及び20b
の動作のみを選択的に発生させることができ、可動部2
0a及び20bのYZ面内の動作(いわゆる煽り方向の
動作)を抑制することができる。
バイス10の各構成要素について説明する。
に、薄板部12a及び12bの駆動量に基づいて作動す
る部分であり、圧電/電歪デバイス10の使用目的に応
じて種々の部材が取り付けられる。例えば、圧電/電歪
デバイス10を変位素子として使用する場合であれば、
光シャッタの遮蔽板等が取り付けられ、特に、ハードデ
ィスクドライブの磁気ヘッドの位置決めやリンギング抑
制機構に使用するのであれば、磁気ヘッド、磁気ヘッド
を有するスライダ、スライダを有するサスペンション等
の位置決めを必要とする部材が取り付けられる。
2a及び12b並びに可動部20a及び20bを支持す
る部分であり、例えば前記ハードディスクドライブの磁
気ヘッドの位置決めに利用する場合には、VCM(ボイ
スコイルモータ)に取り付けられたキャリッジアーム、
該キャリッジアームに取り付けられた固定プレート又は
サスペンション等に固定部14を支持固定することによ
り、圧電/電歪デバイス10の全体が固定される。ま
た、この固定部14には、図1に示すように、圧電/電
歪素子18a及び18bを駆動するための端子28及び
30その他の部材が配置される場合もある。
を構成する材料としては、剛性を有する限りにおいて特
に限定されないが、後述するセラミックグリーンシート
積層法を適用できるセラミックスを好適に用いることが
できる。具体的には、安定化ジルコニア、部分安定化ジ
ルコニアをはじめとするジルコニア、アルミナ、マグネ
シア、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化チタンを主成
分とする材料等が挙げられるほか、これらの混合物を主
成分とした材料が挙げられるが、機械的強度や靱性が高
い点において、ジルコニア、特に安定化ジルコニアを主
成分とする材料と部分安定化ジルコニアを主成分とする
材料が好ましい。また、金属材料においては、剛性を有
する限り、限定されないが、ステンレス鋼、ニッケル等
が挙げられる。
に、圧電/電歪素子18a及び18bの変位により駆動
する部分である。薄板部12a及び12bは、可撓性を
有する薄板状の部材であって、表面に配設された圧電/
電歪素子18a及び18bの伸縮変位を屈曲変位として
増幅して、可動部20a及び20bに伝達する機能を有
する。従って、薄板部12a及び12bの形状や材質
は、可撓性を有し、屈曲変形によって破損しない程度の
機械的強度を有するものであれば足り、可動部20a及
び20bの応答性、操作性を考慮して適宜選択すること
ができる。
μm〜100μm程度とすることが好ましく、薄板部1
2a及び12bと圧電/電歪素子18a及び18bとを
合わせた厚みは7μm〜500μmとすることが好まし
い。電極24及び26の厚みは0.1μm〜50μm、
圧電/電歪層22の厚みは3μm〜300μmとするこ
とが好ましい。
しては、可動部20a及び20bや固定部14と同様の
セラミックスを好適に用いることができ、ジルコニア、
中でも安定化ジルコニアを主成分とする材料と部分安定
化ジルコニアを主成分とする材料は、薄肉であっても機
械的強度が大きいこと、靱性が高いこと、圧電/電歪層
や電極材との反応性が小さいことから最も好適に用いら
れる。
のとおり、可撓性を有し、屈曲変形が可能な金属材料で
あればよいが、好ましくは、鉄系材料としては、各種ス
テンレス鋼、各種バネ鋼鋼材で構成することが望まし
く、非鉄系材料としては、ベリリウム銅、リン青銅、ニ
ッケル、ニッケル鉄合金で構成することが望ましい。
ルコニアにおいては、次のように安定化並びに部分安定
化されたものが好ましい。即ち、ジルコニアを安定化並
びに部分安定化させる化合物としては、酸化イットリウ
ム、酸化イッテルビウム、酸化セリウム、酸化カルシウ
ム、及び酸化マグネシウムがあり、少なくともそのうち
の1つの化合物を添加、含有させることにより、あるい
は1種類の化合物の添加のみならず、それら化合物を組
み合わせて添加することによっても、目的とするジルコ
ニアの安定化は可能である。
は、酸化イットリウムや酸化イッテルビウムの場合にあ
っては、1〜30モル%、好ましくは1.5〜10モル
%、酸化セリウムの場合にあっては、6〜50モル%、
好ましくは8〜20モル%、酸化カルシウムや酸化マグ
ネシウムの場合にあっては、5〜40モル%、好ましく
は5〜20モル%とすることが望ましいが、その中でも
特に酸化イットリウムを安定化剤として用いることが好
ましく、その場合においては、1.5〜10モル%、更
に好ましくは2〜4モル%とすることが望ましい。ま
た、焼結助剤等の添加物としてアルミナ、シリカ、遷移
金属酸化物等を0.05〜20wt%の範囲で添加する
ことが可能であるが、圧電/電歪素子18a及び18b
の形成手法として、膜形成法による焼成一体化を採用す
る場合は、アルミナ、マグネシア、遷移金属酸化物等を
添加物として添加することも好ましい。
れるように、ジルコニアの平均結晶粒子径を0.05〜
3μm、好ましくは0.05〜1μmとすることが望ま
しい。また、上述のように、薄板部12a及び12bに
ついては、可動部20a及び20b並びに固定部14と
同様のセラミックスを用いることができるが、好ましく
は、実質的に同一の材料を用いて構成することが、接合
部分の信頼性、圧電/電歪デバイス10の強度、製造の
煩雑さの低減を図る上で有利である。
くとも圧電/電歪層22と、該圧電/電歪層22に電界
をかけるための一対の電極24及び26を有するもので
あり、ユニモルフ型、バイモルフ型等の圧電/電歪素子
を用いることができるが、薄板部12a及び12bと組
み合わせたユニモルフ型の方が、発生する変位量の安定
性に優れ、軽量化に有利であるため、このような圧電/
電歪デバイス10に適している。
図1に示すように、薄板部12a及び12bの側面に形
成する方が薄板部12a及び12bをより大きく駆動さ
せることができる点で好ましい。
が好適に用いられるが、電歪セラミックスや強誘電体セ
ラミックス、あるいは反強誘電体セラミックスを用いる
ことも可能である。但し、この圧電/電歪デバイス10
をハードディスクドライブの磁気ヘッドの位置決め等に
用いる場合は、可動部20a及び20bの変位量と駆動
電圧又は出力電圧とのリニアリティが重要とされるた
め、歪み履歴の小さい材料を用いることが好ましく、抗
電界が10kV/mm以下の材料を用いることが好まし
い。
タン酸鉛、マグネシウムニオブ酸鉛、ニッケルニオブ酸
鉛、亜鉛ニオブ酸鉛、マンガンニオブ酸鉛、アンチモン
スズ酸鉛、マンガンタングステン酸鉛、コバルトニオブ
酸鉛、チタン酸バリウム、チタン酸ナトリウムビスマ
ス、ニオブ酸カリウムナトリウム、タンタル酸ストロン
チウムビスマス等を単独であるいは混合物として含有す
るセラミックスが挙げられる。
有し、圧電/電歪層22の焼結時における薄板部(セラ
ミックス)12a及び12bとの反応性が小さく、安定
した組成のものが得られる点において、ジルコン酸鉛、
チタン酸鉛、及びマグネシウムニオブ酸鉛を主成分とす
る材料、もしくはチタン酸ナトリウムビスマスを主成分
とする材料が好適に用いられる。
ム、ストロンチウム、モリブデン、タングステン、バリ
ウム、ニオブ、亜鉛、ニッケル、マンガン、セリウム、
カドミウム、クロム、コバルト、アンチモン、鉄、イッ
トリウム、タンタル、リチウム、ビスマス、スズ等の酸
化物等を単独で、もしくは混合したセラミックスを用い
てもよい。
ン酸鉛及びマグネシウムニオブ酸鉛に、ランタンやスト
ロンチウムを含有させることにより、抗電界や圧電特性
を調整可能となる等の利点を得られる場合がある。
加は避けることが望ましい。なぜならば、シリカ等の材
料は、圧電/電歪層22の熱処理時に、圧電/電歪材料
と反応し易く、その組成を変動させ、圧電特性を劣化さ
せるからである。
一対の電極24及び26は、室温で固体であり、導電性
に優れた金属で構成されていることが好ましく、例えば
アルミニウム、チタン、クロム、鉄、コバルト、ニッケ
ル、銅、亜鉛、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、パラ
ジウム、ロジウム、銀、スズ、タンタル、タングステ
ン、イリジウム、白金、金、鉛等の金属単体、もしくは
これらの合金が用いられ、更に、これらに圧電/電歪層
22あるいは薄板部12a及び12bと同じ材料を分散
させたサーメット材料を用いてもよい。
電極24及び26の材料選定は、圧電/電歪層22の形
成方法に依存して決定される。例えば薄板部12a及び
12b上に一方の電極24を形成した後、該一方の電極
24上に圧電/電歪層22を焼成により形成する場合
は、一方の電極24には、圧電/電歪層22の焼成温度
においても変化しない白金、パラジウム、白金−パラジ
ウム合金、銀−パラジウム合金等の高融点金属を使用す
る必要があるが、圧電/電歪層22を形成した後に、該
圧電/電歪層22上に形成される最外層の他方の電極2
6は、低温で電極形成を行うことができるため、アルミ
ニウム、金、銀等の低融点金属を主成分として使用する
ことができる。
らず圧電/電歪素子18a及び18bの変位を低下させ
る要因ともなるため、特に圧電/電歪層22の焼成後に
形成される電極には、焼成後に緻密でより薄い膜が得ら
れる有機金属ペースト、例えば金レジネートペースト、
白金レジネートペースト、銀レジネートペースト等の材
料を用いることが好ましい。
先端部分に一体に形成される可動部20a及び20bの
厚みを薄板部12a及び12bの厚みDdよりも厚くし
た場合を示したが、その他、図12に示す第4の変形例
に係る圧電/電歪デバイス10dのように、可動部20
a及び20bの厚みを薄板部12a及び12bの厚みD
dとほぼ同じにしてもよい。これにより、可動部20a
及び20bに物品を取り付ける場合に、可動部20a及
び20b間に薄板部12a及び12b間の距離に相当す
る大きさの物品を挟み込むように取り付けることが可能
となる。この場合、物品を取り付けるための接着剤領域
(例えば図7の接着剤38)が可動部20a及び20b
に対応することになる。
波センサや加速度センサ、角速度センサや衝撃センサ、
質量センサ等の各種センサに好適に利用でき、端面34
a及び34bないし薄板部12a及び12b間に取り付
けられる物体のサイズを適宜調整することにより、セン
サの感度調整が容易に行えるという更なる利点がある。
しての第5〜第7の変形例に係る圧電/電歪デバイス1
0e〜10gについて図13〜図15を参照しながら説
明する。
イス10eは、図13に示すように、これまでに説明し
た圧電/電歪デバイス10とほぼ同様の構成を有する
が、圧電/電歪素子18a及び18bの構成等が以下の
点で異なる。
は、圧電/電歪層22が4層構造とされ、一方の電極2
4が1層目の上面と3層目の上面に位置するように櫛歯
状に形成され、他方の電極26が1層目の下面と2層目
の上面と4層目の上面に位置するように櫛歯状に形成さ
れている。
26は、薄板部12a及び12b、可動部20a及び2
0b、固定部14の各側面にかけてほぼ連続して形成さ
れ、更に、固定部14の側面において一部分離されてス
リット70を構成している。
電/電歪素子18a及び18bの後端部72(スリット
70の後端側端部から固定部14の後端までの部分)に
おけるアクチュエータを駆動させないこと、:一方の
端子28の端部で短絡が生じにくくすること、:圧電
/電歪素子18a及び18bの後端部における圧電/電
歪層22の下面に電極材料を配置することである。
好ましくない場合は、スリット70は必ずしも設ける必
要はなく、省略してもかまわない。
及び12bの厚みDdは0.05mm、一方の薄板部1
2aの側面から他方の薄板部12bの側面までの距離D
hは1.3mm、固定部14の長さDi(圧電/電歪デ
バイス10fの軸方向に沿った固定部14の長さ)は
0.4mm、可動部20a及び20bの長さDfは0.
3mm、可動部20a及び20bの幅Djは0.25m
m、可動部20a及び20bの突出量Dkは0.05m
m、圧電/電歪デバイス10fの全体の長さDm(可動
部20a及び20bの先端から固定部14の後端までの
距離)は1.9mmであり、端面34aおよび34b間
の最小距離(図1の距離Lcに相当する)が1.04m
mである場合を示している。
%の範囲で制御され、この場合、端面34a及び34b
間に、図7に示すような構成部材と同じ材質のスペーサ
部材37で可動部20a及び20bを接続すると、共振
周波数45±10kHz、変位0.5μm以上(30V
pp)の圧電/電歪デバイスが得られる。
の各端面を揃えるように示しているが、圧電/電歪層2
2の端面を上層になるにつれて徐々に内方に向かうよう
にし、段差を設けることが好ましい。
イス10fは、図14に示すように、第5の変形例に係
る圧電/電歪デバイス10eとほぼ同様の構成を有する
が、圧電/電歪素子18a及び18bの構成が以下の点
で異なる。
は、圧電/電歪層22が3層構造とされ、一方の電極2
4が1層目の下面の一部と2層目の上面に位置するよう
に櫛歯状に形成され、他方の電極26が1層目の下面の
一部と1層目の上面と3層目の上面に位置するように櫛
歯状に形成されている。
24及び他方の電極26は、薄板部12a及び12bの
一部においてスリット70を介して分離されており、1
層目の下面に位置する他方の電極は、スリット70から
可動部20a及び20bの上端にかけて連続して形成さ
れ、1層目の下面に位置する一方の電極24は、スリッ
ト70から固定部14の後端にかけて連続して形成され
ている。
イス10gは、図15に示すように、第6の変形例に係
る圧電/電歪デバイス10fとほぼ同様の構成を有する
が、一対の電極24及び26の形成パターンが以下の点
で異なる。
電歪層22の下面と2層目の上面に位置するように櫛歯
状に形成され、他方の電極26は、1層目の圧電/電歪
層22の上面と3層目の上面に位置するように櫛歯状に
形成されている。
24は、薄板部12a及び12b、可動部20a及び2
0b、固定部14の各側面にかけて連続して形成されて
いる。
バイス10fとの違いを説明すると、第6の変形例に係
る圧電/電歪デバイス10fは、図14に示すように、
薄板部12a上において一方の電極24と他方の電極2
6が共に形成されていることから、圧電/電歪素子18
a及び18bの両端(可動部20a及び20bの先端に
対応した端部と固定部14の後端に対応した端部)にお
いて、極性が互いに逆とされた電極24及び26が位置
することになる。
電歪デバイス10gでは、図15に示すように、薄板部
12a及び12b上において一方の電極24のみが形成
されているため、圧電/電歪素子18a及び18bの両
端において、極性が互いに同一とされた電極24が位置
することになる。これら端部の極性の特徴は、圧電/電
歪デバイス10gが利用される回路と適宜組み合わせて
利用されることになる。
実質的駆動部分は、一対の電極24及び26が重なる部
分であるが、第6の変形例に係る圧電/電歪デバイス1
0fでは、図14に示すように、圧電/電歪層22の各
層に形成された電極24及び26が重なる部分であっ
て、範囲Cで示す部分の一種である。
電歪デバイス10gの実質的駆動部分は、圧電/電歪層
22の各層に形成された電極24及び26が重なる部分
(範囲Cで示す部分)と、2層目の圧電/電歪層22の
上面に形成された一方の電極24の端部よりも可動部2
0a及び20b側に位置し、1層目の圧電/電歪層22
を介して一対の電極24及び26が重なる部分(範囲D
で示す部分)の2種であり、範囲Dで示す部分も駆動源
となっているところに特徴がある。
バイス10のいくつかの製造方法を図16〜図40を参
照しながら説明する。
10は、各部材の構成材料をセラミックスとし、圧電/
電歪デバイス10の構成要素として、圧電/電歪素子1
8a及び18bを除く基体16、即ち、薄板部12a及
び12b、固定部14並びに可動部20a及び20bに
ついてはセラミックグリーンシート積層法を用いて製造
することが好ましく、一方、圧電/電歪素子18a及び
18bをはじめとして、各端子28及び30について
は、薄膜や厚膜等の膜形成手法を用いて製造することが
好ましい。
る各部材を一体的に成形することが可能なセラミックグ
リーンシート積層法によれば、各部材の接合部の経時的
な状態変化がほとんど生じないため、接合部位の信頼性
が高く、かつ、剛性確保に有利な方法である。
10では、薄板部12a及び12bと固定部14との境
界部分(接合部分)並びに薄板部12a及び12bと可
動部20a及び20bとの境界部分(接合部分)は、変
位発現の支点となるため、接合部分の信頼性は圧電/電
歪デバイス10の特性を左右する重要なポイントであ
る。
形性に優れるため、所定形状の圧電/電歪デバイス10
を短時間に、かつ、再現性よく得ることができる。
電歪デバイス10の第1の製造方法について説明する。
ここで、定義付けをしておく。セラミックグリーンシー
トを積層して得られた積層体をセラミックグリーン積層
体58(例えば図17参照)と定義し、このセラミック
グリーン積層体58を焼成して一体化したものをセラミ
ック積層体60(例えば図18参照)と定義し、このセ
ラミック積層体60から不要な部分を切除して可動部2
0a及び20b、薄板部12a及び12b並びに固定部
14が一体化されたものをセラミック基体16C(図1
9参照)と定義する。
電/電歪デバイス10を同一基板内に縦方向及び横方向
にそれぞれ複数個配置した形態で、最終的にセラミック
積層体60をチップ単位に切断して、圧電/電歪デバイ
ス10を同一工程で多数個取りするものであるが、説明
を簡単にするために、圧電/電歪デバイス10の1個取
りを主体にして説明する。
インダ、溶剤、分散剤、可塑剤等を添加混合してスラリ
ーを作製し、これを脱泡処理後、リバースロールコータ
ー法、ドクターブレード法等の方法により、所定の厚み
を有するセラミックグリーンシートを作製する。
等の方法により、セラミックグリーンシートを図16の
ような種々の形状に加工して、複数枚の基体形成用のセ
ラミックグリーンシート50A〜50I、52A及び5
2Bを得る。
50I、52A及び52Bは、少なくとも薄板部12a
及び12b間に空間を形成するための窓部54が形成さ
れた複数枚(例えば9枚)のセラミックグリーンシート
50A〜50Iと、後に薄板部12a及び12bとなる
複数枚(例えば2枚)のセラミックグリーンシート52
A及び52Bとを有する。なお、セラミックグリーンシ
ートの枚数は、あくまでも一例である。
グリーンシート52A及び52Bでセラミックグリーン
シート50A〜50Iを挟み込むようにして、これらセ
ラミックグリーンシート50A〜50I、52A及び5
2Bを積層・圧着して、セラミックグリーン積層体58
とした後、該セラミックグリーン積層体58を焼成して
セラミック積層体60(図18参照)を得る。
は限定されない。構造に応じて、例えば窓部54の形
状、セラミックグリーンシートの枚数等により所望の構
造を得るように適宜決めることができる。
はなく、所望の機能に応じて決定することができる。ま
た、セラミックグリーンシートの枚数、各セラミックグ
リーンシートの厚みも特に限定されない。
向上させることができる。また、セラミック粉末(セラ
ミックグリーンシートに使用されたセラミックスと同一
又は類似した組成であると、信頼性確保の点で好まし
い)、バインダを主体としたペースト、スラリー等をセ
ラミックグリーンシート上に塗布、印刷して、接合補助
層とすることで、セラミックグリーンシート界面の積層
性を向上させることができる。なお、セラミックグリー
ンシート52A及び52Bが薄い場合には、プラスチッ
クフィルム、中でも表面にシリコーン系の離型剤をコー
ティングしたポリエチレンテレフタレートフィルムを用
いて取り扱うことが好ましい。
ク積層体60の両表面、即ち、セラミックグリーンシー
ト52A及び52Bが積層された表面に相当する表面に
それぞれ圧電/電歪素子18a及び18bを形成する。
圧電/電歪素子18a及び18bの形成法としては、ス
クリーン印刷法、ディッピング法、塗布法、電気泳動法
等の厚膜形成法や、イオンビーム法、スパッタリング
法、真空蒸着、イオンプレーティング法、化学気相成長
法(CVD)、めっき等の薄膜形成法を用いることがで
きる。
子18a及び18bを形成することにより、接着剤を用
いることなく、圧電/電歪素子18a及び18bと薄板
部12a及び12bとを一体的に接合、配設することが
でき、信頼性、再現性を確保できると共に、集積化を容
易にすることができる。
子18a及び18bを形成することが好ましい。特に、
圧電/電歪層22の形成において厚膜形成法を用いれ
ば、平均粒径0.01〜5μm、好ましくは0.05〜
3μmの圧電セラミックスの粒子、粉末を主成分とする
ペーストやスラリー、又はサスペンションやエマルジョ
ン、ゾル等を用いて膜化することができ、それを焼成す
ることによって良好な圧電/電歪特性を得ることができ
るからである。
つ、高い形状精度で形成できるという利点がある。ま
た、スクリーン印刷法は、膜形成とパターン形成とを同
時にできるため、製造工程の簡略化に有利である。
bの形成について説明する。まず、セラミックグリーン
積層体58を1200℃〜1600℃の温度で焼成、一
体化してセラミック積層体60を得た後、該セラミック
積層体60の両表面の所定位置に薄板部12a及び12
bの第1の一方の電極24を印刷、焼成し、次いで、圧
電/電歪層22を印刷、焼成し、更に、前記第1の一方
の電極24と対をなす他方の電極26を印刷、焼成し、
これらを所定回数繰り返して(圧電/電歪素子18a及
び18bが多層の圧電/電歪層22から構成される場
合)、圧電/電歪素子18a及び18bを形成する。そ
の後、各電極24及び26を駆動回路に電気的に接続す
るための端子28及び30を印刷、焼成する。
刷、焼成し、圧電/電歪層22と第1の一方の電極24
と対をなす第1の他方の電極26を印刷、焼成し、この
単位で所定回数だけ印刷、焼成を繰り返して、圧電/電
歪素子18a及び18bを形成してもよい。
t)、圧電/電歪層22としてジルコン酸チタン酸鉛
(PZT)、他方の電極26として金(Au)、更に、
端子28及び30として銀(Ag)というように、各部
材の焼成温度が積層順に従って低くなるように材料を選
定すると、ある焼成段階において、それより以前に焼成
された材料の再焼結が起こらず、電極材等の剥離や凝集
といった不具合の発生を回避することができる。
圧電/電歪素子18a及び18bの各部材と端子28及
び30を逐次印刷して、1回で一体焼成することも可能
であり、最外層の圧電/電歪層22を形成した後に低温
で最外層の電極26等を設けることもできる。
各部材と端子28及び30は、スパッタ法や蒸着法等の
薄膜形成法によって形成してもよく、この場合には、必
ずしも熱処理を必要としない。
おいては、セラミックグリーン積層体58の両表面、即
ち、セラミックグリーンシート52A及び52Bの各表
面に予め圧電/電歪素子18a及び18bを形成してお
き、該セラミックグリーン積層体58と圧電/電歪素子
18a及び18bとを同時に焼成することも好ましく行
われる。同時焼成にあたっては、セラミックグリーン積
層体58と圧電/電歪素子18a及び18bのすべての
構成膜に対して焼成を行うようにしてもよく、一方の電
極24とセラミックグリーン積層体58とを同時焼成し
たり、他方の電極26を除く他の構成膜とセラミックグ
リーン積層体58とを同時焼成する方法等が挙げられ
る。
ックグリーン積層体58とを同時焼成する方法として
は、スラリー原料を用いたテープ成形法等によって圧電
/電歪層22の前駆体を成形し、この焼成前の圧電/電
歪層22の前駆体をセラミックグリーン積層体58の表
面上に熱圧着等で積層し、同時に焼成して可動部20a
及び20b、薄板部12a及び12b、圧電/電歪層2
2、固定部14とを同時に作製する方法が挙げられる。
但し、この方法では、上述した膜形成法を用いて、セラ
ミックグリーン積層体58の表面及び/又は圧電/電歪
層22に予め電極24を形成しておく必要がある。
ン積層体58の少なくとも最終的に薄板部12a及び1
2bとなる部分にスクリーン印刷により圧電/電歪素子
18a及び18bの各構成層である電極24及び26、
圧電/電歪層22を形成し、同時に焼成することが挙げ
られる。
の焼成温度は、これを構成する材料によって適宜決定さ
れるが、一般には、500℃〜1500℃であり、圧電
/電歪層22に対しては、好ましくは1000℃〜14
00℃である。この場合、圧電/電歪層22の組成を制
御するためには、圧電/電歪層22の材料の蒸発源の存
在下に焼結することが好ましい。なお、圧電/電歪層2
2とセラミックグリーン積層体58を同時焼成する場合
には、両者の焼成条件を合わせることが必要である。圧
電/電歪素子18a及び18bは、必ずしもセラミック
積層体60もしくはセラミックグリーン積層体58の両
面に形成されるものではなく、片面のみでももちろんよ
い。
18a及び18bが形成されたセラミック積層体60の
うち、不要な部分を切除する。切除する位置は、セラミ
ック積層体60の側部、特に、該切除によってセラミッ
ク積層体60の側面に窓部54による孔部42が形成さ
れる箇所(切断線C1及びC2参照)である。
a及び20bとなる部分の中心部分20cを切断線C3
及びC4に沿って切断して除去して、可動部20a及び
20b、薄板部12a及び12b並びに固定部14が一
体化されたセラミック基体16Cに圧電/電歪素子18
a及び18bが形成された圧電/電歪デバイス10を作
製する。切除の方法としては、ダイシング加工、ワイヤ
ソー加工等の機械加工のほか、YAGレーザ、エキシマ
レーザ等のレーザ加工や電子ビーム加工を適用すること
が可能である。
は、これらの加工方法を組み合わせて加工することにな
る。例えば切断線C1及びC2(図18参照)は、ワイ
ヤソー加工とし、切断線C1及びC2に直交する固定部
14、可動部20a及び20bの端面34a及び34b
をダイシング加工とすることが好ましい。
の第1の製造方法においては、一体焼成によって薄板部
12a及び12b上に圧電/電歪素子18a及び18b
を形成するようにしているため、図20Aに示すよう
に、焼成時に生じる圧電/電歪層22の収縮や一対の電
極24及び26と圧電/電歪層22並びに薄板部12a
及び12bとの熱膨張率の違い等によって、例えば、薄
板部12a及び12b並びに圧電/電歪素子18a及び
18bは、孔部42に向かって凸となるようにわずかに
変位し、形状的に歪みが生じた状態となり、圧電/電歪
素子18a及び18b(特に圧電/電歪層22)や薄板
部12a及び12bに内部残留応力が発生しやすくな
る。
層22での内部残留応力の発生は、上述した一体焼成の
ほか、薄板部12a及び12bに別体の圧電/電歪素子
18a及び18bを例えば接着剤で貼り合わせる場合に
も生じる。即ち、接着剤を固定化もしくは硬化する際
に、接着剤等の硬化収縮によって薄板部12a及び12
bや圧電/電歪層22に内部残留応力が発生することと
なる。更に、その固定化もしくは硬化に加熱が必要な場
合には、内部残留応力が大きなものとなる。
すると、圧電/電歪層22に所定電界を与えても、可動
部20a及び20bにおいて所望の変位を示さない場合
がある。これは、圧電/電歪層22の材料特性及び可動
部20a及び20bの変位動作が、前記薄板部12a及
び12bや圧電/電歪層22に発生している内部残留応
力によって阻害されているからである。
Aに示すように、可動部20a及び20bの中心部分2
0cを所定幅W1(例えば100μm)だけ切除するよ
うにしている。この中心部分20cの切除によって、図
20Bに示すように、可動部20a及び20bに互いに
対向する端面34a及び34bが形成されるが、薄板部
12a及び12bや圧電/電歪層22に発生していた内
部残留応力によって、これら端面34a及び34bが互
いに近づく方向に移動し、移動後の各端面34a及び3
4bの幅は、前記所定幅W1よりも短い例えば第2の所
定幅W2(例えば30μm)となる。より詳述すると、
第2の所定幅W2は、先端の方がより短くなる。
板部12a及び12bや圧電/電歪層22に発生してい
た内部残留応力の解放に伴うものである。内部残留応力
を解放した状態で圧電/電歪デバイス10を使用する
と、可動部20a及び20bは、ほぼ設計通りの変位動
作を示し、良好なデバイス特性を示すこととなる。この
効果は、固定部14となる部分の一部を切除して、例え
ば図11に示すように、固定部14に互いに対向する端
面34a及び34bを形成した場合においても同様であ
り、この場合は、薄板部12a及び12bや圧電/電歪
層22に発生していた内部残留応力が、固定部14に形
成された互いに対向する端面34a及び34bの移動に
よって解放されることとなる。なお、対向する端面34
a及び34bについては、必ずしも可動部20a及び2
0bもしくは固定部14の中心部分の切除のみならず、
中心からそれた部分を切除して形成することによっても
同様の効果が得られる。
たっては、切除後に300℃〜800℃で加熱処理する
ことが好ましい。これは、加工により圧電/電歪デバイ
ス10内にマイクロクラック等の欠陥が生じやすいが、
前記熱処理によって前記欠陥を取り除くことができ、信
頼性が向上するからである。更に、前記熱処理後に80
℃程度の温度で少なくとも10時間程度放置し、エージ
ング処理を施すことが好ましい。このエージング処理
で、製造過程の中で受けた種々の応力等を更に緩和で
き、特性の向上に寄与するからである。
24を参照しながら説明する。まず、図21に示すよう
に、少なくとも薄板部12a及び12b間に空間を形成
するための窓部54が形成された複数枚(例えば4枚)
のセラミックグリーンシート50A〜50Dと、薄板部
12a及び12b間に空間を形成するための窓部54と
互いに対向する端面34a及び34bを有する可動部2
0a及び20bを形成するための窓部100とが連続形
成された複数枚(例えば7枚)のセラミックグリーンシ
ート102A〜102Gと、後に薄板部12a及び12
bとなる複数枚(例えば2枚)のセラミックグリーンシ
ート52A及び52Bとを用意する。
グリーンシート52A及び52Bでセラミックグリーン
シート50A〜50D並びに102A〜102Gを挟み
込むようにして、これらセラミックグリーンシート50
A〜50D、52A及び52B並びに102A〜102
Gを積層・圧着して、セラミックグリーン積層体58と
する。この積層にあたってはセラミックグリーンシート
102A〜102Gを中央に位置させて積層する。この
とき、窓部100の存在により、圧着時に圧力がかから
ない部位が発生するため、積層、圧着の順番等を変更
し、そのような部位が生じないようにする必要がある。
これは、後述する第3及び第4の製造方法でも同様であ
る。その後、セラミックグリーン積層体58を焼成して
セラミック積層体60(図23参照)を得る。
ク積層体60の両表面、即ち、セラミックグリーンシー
ト52A及び52Bが積層された表面に相当する表面に
それぞれ多層構造の圧電/電歪素子18a及び18bを
形成し、焼成によって圧電/電歪素子18a及び18b
をセラミック積層体60に一体化させる。もちろん、圧
電/電歪素子10は片側の表面のみに形成してもよい。
これは、後述する第3及び第4の製造方法でも同様であ
る。
形成されたセラミック積層体60のうち、切断線C1、
C2、C5に沿って切断することにより、セラミック積
層体60の側部と先端部を切除する。この切除によっ
て、図24に示すように、セラミック基体16Cに圧電
/電歪素子18a及び18bが形成され、かつ、互いに
対向する端面34a及び34bを有する可動部20a及
び20bが形成された圧電/電歪デバイス10を得る。
切断のタイミングは、切断線C1及びC2に沿って切断
した後に切断線C5に沿って切断してもよく、切断線C
5に沿って切断した後に切断線C1及びC2に沿って切
断してもよい。もちろん、これらの切断を同時に行うよ
うにしてもよい。また、切断線C5と対向する固定部1
4の端面も適宜切断するようにしてもよい。
ク積層体60から不要な部分を切除したと同時に、セラ
ミック基体16Cに圧電/電歪素子18a及び18bが
形成され、かつ、互いに対向する端面34a及び34b
を有する可動部20a及び20bが形成された圧電/電
歪デバイス10を得ることができるため、製造工程の簡
略化を図ることができると共に、圧電/電歪デバイス1
0の歩留まりを向上させることができる。この場合、同
一基板内に圧電/電歪デバイス10を縦方向及び横方向
にそれぞれ複数個配置して、同一工程で多数個取りする
際に特に好ましい。第1の製造方法に比べ、端面34a
および34bの形成を同一工程で多数個処理しやすいか
らである。
28を参照しながら説明する。まず、図25に示すよう
に、少なくとも薄板部12a及び12b間に空間を形成
するための窓部54が形成された複数枚(例えば4枚)
のセラミックグリーンシート50A〜50Dと、薄板部
12a及び12b間に空間を形成するための窓部54と
互いに対向する端面34a及び34bが一部連結された
可動部20a及び20bとなる部分20D(図28参
照)を形成するための窓部104とが連続形成され、窓
部54に向かって一部張り出した張出し部106が形成
された複数枚(例えば7枚)のセラミックグリーンシー
ト108A〜108Gと、後に薄板部12a及び12b
となる複数枚(例えば2枚)のセラミックグリーンシー
ト52A及び52Bとを用意する。
グリーンシート52A及び52Bでセラミックグリーン
シート50A〜50D、108A〜108Gを挟み込む
ようにして、これらセラミックグリーンシート50A〜
50D、52A及び52B、108A〜108Gを積層
・圧着して、セラミックグリーン積層体58とする。こ
の積層にあたってはセラミックグリーンシート108A
〜108Gを中央に位置させて積層する。その後、セラ
ミックグリーン積層体58を焼成してセラミック積層体
60(図27参照)を得る。
ク積層体60の両表面、即ち、セラミックグリーンシー
ト52A及び52Bが積層された表面に相当する表面に
それぞれ多層構造の圧電/電歪素子18a及び18bを
形成し、焼成によって圧電/電歪素子18a及び18b
をセラミック積層体60に一体化させる。
形成されたセラミック積層体60のうち、切断線C1、
C2、C5に沿って切断することにより、セラミック積
層体60の側部と先端部を切除する。この切除によっ
て、図28に示すように、固定部14と薄板部12a及
び12b並びに圧電/電歪素子18a及び18bは形作
られるが、可動部20a及び20bとなる部分20Dは
互いに対向する端面34a及び34bが張出し部106
によって一部連結された状態となっている。
bを一部連結している前記張出し部106を切除して、
可動部20a及び20b、薄板部12a及び12b並び
に固定部14が一体化されたセラミック基体16Cに圧
電/電歪素子18a及び18bが形成された圧電/電歪
デバイス10を作製する。
において、互いに対向する端面34a及び34bを一部
連結している細い張出し部106を切除すればよいた
め、簡単に、かつ、確実に切除することができ、製造工
程の簡略化を図ることができると共に、圧電/電歪デバ
イス10の歩留まりを向上させることができる。
32を参照しながら説明する。まず、図29に示すよう
に、少なくとも薄板部12a及び12b間に空間を形成
するための窓部54が形成された複数枚(例えば4枚)
のセラミックグリーンシート50A〜50Dと、薄板部
12a及び12b間に空間を形成するための窓部54と
互いに対向する端面34a及び34bが一部連結された
可動部20a及び20bとなる部分20D(図32参
照)を形成するための窓部104とが形成され、窓部5
4と窓部104を分離するように桟部112が形成され
た複数枚(例えば7枚)のセラミックグリーンシート1
14A〜114Gと、後に薄板部12a及び12bとな
る複数枚(例えば2枚)のセラミックグリーンシート5
2A及び52Bとを用意する。
グリーンシート52A及び52Bでセラミックグリーン
シート50A〜50D、114A〜114Gを挟み込む
ようにして、これらセラミックグリーンシート50A〜
50D、52A及び52B、114A〜114Gを積層
・圧着して、セラミックグリーン積層体58とする。こ
の積層にあたってはセラミックグリーンシート114A
〜114Gを中央に位置させて積層する。その後、セラ
ミックグリーン積層体58を焼成してセラミック積層体
60(図31参照)を得る。
ク積層体60の両表面、即ち、セラミックグリーンシー
ト52A及び52Bが積層された表面に相当する表面に
それぞれ多層構造の圧電/電歪素子18a及び18bを
形成し、焼成によって圧電/電歪素子18a及び18b
をセラミック積層体60に一体化させる。
形成されたセラミック積層体60のうち、切断線C1、
C2、C5に沿って切断することにより、セラミック積
層体60の側部と先端部を切除する。この切除によっ
て、図32に示すように、固定部14と薄板部12a及
び12b並びに圧電/電歪素子18a及び18bは形作
られるが、可動部20a及び20bとなる部分20Dは
互いに対向する端面34a及び34bが桟部112によ
って一部連結された状態となっている。
bを一部連結している前記桟部112を切除して、可動
部20a及び20b、薄板部12a及び12b並びに固
定部14が一体化されたセラミック基体16Cに圧電/
電歪素子18a及び18bが形成された圧電/電歪デバ
イス10を作製する。
において、互いに対向する端面34a及び34bを一部
連結している桟部112を切除すればよいため、簡単
に、かつ、確実に切除することができ、製造工程の簡略
化を図ることができると共に、圧電/電歪デバイス10
の歩留まりを向上させることができる。
b、固定部14、薄板部12a及び12bをセラミック
基体16Cにて構成した例を示したが、その他、各部を
金属材料同士で構成することもできる。更には、セラミ
ックスと金属の材料とから製造されたものを組み合わせ
たハイブリッド構造として構成することもできる。この
場合、金属材料間の接合、セラミックスと金属材料間の
接合においては、有機樹脂、ガラス等での接着、ロウ付
け、半田付け、共晶接合、溶接等を用いることができ
る。
14をセラミックスとし、薄板部12a及び12bを金
属としたハイブリッド構造の圧電/電歪デバイス(第8
の変形例に係る圧電/電歪デバイス10h)の製造方法
(第5及び第6の製造方法)について図33〜図40を
参照しながら説明する。従って、この第5及び第6の製
造方法で形成される金属とセラミックスを含む基体を基
体16Dと記す。
うに、少なくとも薄板部12a及び12b間に空間を形
成するための窓部54が形成された複数枚(例えば4
枚)のセラミックグリーンシート50A〜50Dと、薄
板部12a及び12b間に空間を形成するための窓部5
4と互いに対向する端面34a及び34bを有する可動
部20a及び20bを形成するための窓部100とが連
続形成された複数枚(例えば7枚)のセラミックグリー
ンシート102A〜102Gとを用意する。
グリーンシート50A〜50D、102A〜102Gを
積層・圧着して、セラミックグリーン積層体158とす
る。この積層にあたってはセラミックグリーンシート1
02A〜102Gを中央に位置させて積層する。その
後、セラミックグリーン積層体158を焼成して、図3
5に示すように、セラミック積層体160を得る。この
とき、セラミック積層体160には、窓部54及び10
0により孔部130が形成されたかたちとなる。
成した圧電/電歪素子18a及び18bをそれぞれ薄板
部12a及び12bとなる金属板152A及び152B
の表面にエポキシ系接着剤で接着する。別体の圧電/電
歪素子18a及び18bは、例えばセラミックグリーン
シート積層法により形成することができる。
ミック積層体160を挟み込むように、かつ、孔部13
0を塞ぐようにして、これら金属板152A及び152
Bをセラミック積層体160にエポキシ系接着剤で接着
し、ハイブリッド積層体162(図37参照)とする。
子18a及び18bが形成されたハイブリッド積層体1
62のうち、切断線C1、C2、C5に沿って切断する
ことにより、ハイブリッド積層体162の側部と先端部
を切除する。この切除によって、図38に示すように、
基体16Dのうち、金属板で構成された薄板部12a及
び12bに圧電/電歪素子18a及び18bが形成さ
れ、かつ、互いに対向する端面34a及び34bを有す
る可動部20a及び20bが形成された第8の変形例に
係る圧電/電歪デバイス10hを得る。
示すように、セラミックグリーンシート50A〜50
D、102A〜102Gを積層・圧着して、セラミック
グリーン積層体158とする。その後、セラミックグリ
ーン積層体158を焼成して、図39に示すように、セ
ラミック積層体160を得る。このとき、セラミック積
層体160には、窓部54及び100による孔部130
が形成されたかたちとなる。
A及び152Bでセラミック積層体160を挟み込むよ
うに、かつ、孔部130を塞ぐようにして、これら金属
板152A及び152Bをセラミック積層体160にエ
ポキシ系接着剤で接着し、ハイブリッド積層体162と
する。このとき、接着した金属板152A及び152B
の表面に圧電/電歪素子18a及び18bを貼り合わせ
る際に、十分な接着圧力がかけられるように、図39に
示すように、必要に応じて、孔部130に充填材164
を充填する。
があるため、溶剤等に溶解しやすく、また、硬い材料で
あることが好ましく、例えば有機樹脂やワックス、ロウ
などが挙げられる。また、アクリル等の有機樹脂にセラ
ミック粉末をフィラーとして混合した材料を採用するこ
ともできる。
積層体162における金属板152A及び152Bの表
面に、別体として形成した圧電/電歪素子18a及び1
8bをエポキシ系接着剤で接着する。別体の圧電/電歪
素子18a及び18bは、例えばセラミックグリーンシ
ート積層法により形成することができる。
と同様の工程を経て、基体16Dのうち、金属板152
A及び152Bで構成された薄板部12a及び12bに
圧電/電歪素子18a及び18bが形成され、かつ、互
いに対向する端面34a及び34bを有する可動部20
a及び20bが形成された第8の変形例に係る圧電/電
歪デバイス10hを得る。
には、例えば図35におけるセラミック積層体160に
相当する部位を鋳造により形成するほか、薄状の金属を
積層し、クラッディング法により形成すればよい。
種トランスデューサ、各種アクチュエータ、周波数領域
機能部品(フィルタ)、トランス、通信用や動力用の振
動子や共振子、発振子、ディスクリミネータ等の能動素
子のほか、超音波センサや加速度センサ、角速度センサ
や衝撃センサ、質量センサ等の各種センサ用のセンサ素
子として利用することができ、特に、光学機器、精密機
器等の各種精密部品等の変位や位置決め調整、角度調整
の機構に用いられる各種アクチュエータに好適に利用す
ることができる。
及びその製造方法は、上述の実施の形態に限らず、この
発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得る
ことはもちろんである。
/電歪デバイス及びその製造方法によれば、デバイスの
軽量化、中でも固定部もしくは可動部の軽量化、デバイ
スのハンドリング性並びにデバイスの固定性もしくは可
動部への部品の取付性を向上させることができ、これに
より、可動部を大きく変位することができると共に、可
動部の変位動作の高速化(高共振周波数化)を達成させ
ることができ、しかも、有害な振動の影響を受け難く、
高速応答が可能で、機械的強度が高く、ハンドリング
性、耐衝撃性、耐湿性に優れた変位素子、並びに可動部
の振動を精度よく検出することができるセンサ素子を得
ることができる。
を示す斜視図である。
ある。
ある。
示す斜視図である。
示す斜視図である。
の変形例を示す斜視図である。
の変形例を示す斜視図である。
て、圧電/電歪素子が共に変位動作を行っていない場合
を示す説明図である。
圧波形を示す波形図であり、図9Bは他方の圧電/電歪
素子に印加される電圧波形を示す波形図である。
いて、圧電/電歪素子が変位動作を行った場合を示す説
明図である。
3の変形例を示す斜視図である。
4の変形例を示す斜視図である。
す斜視図である。
す斜視図である。
す斜視図である。
グリーンシートの積層過程を示す説明図である。
ン積層体とした状態を示す説明図である。
ン積層体を焼成したセラミック積層体とした後、該セラ
ミック積層体に圧電/電歪素子を形成した状態を示す説
明図である。
を所定の切断線に沿って切断して、本実施の形態に係る
圧電/電歪デバイスとする途中過程を示す説明図であ
る。
応力が発生している状態を示す説明図であり、図20B
は可動部の中心部分を切除した状態を示す説明図であ
る。
グリーンシートの積層過程を示す説明図である。
ン積層体とした状態を示す説明図である。
ン積層体を焼成したセラミック積層体とした後、該セラ
ミック積層体に圧電/電歪素子を形成した状態を示す説
明図である。
を所定の切断線に沿って切断して、本実施の形態に係る
圧電/電歪デバイスとした状態を示す説明図である。
グリーンシートの積層過程を示す説明図である。
ン積層体とした状態を示す説明図である。
ン積層体を焼成したセラミック積層体とした後、該セラ
ミック積層体に圧電/電歪素子を形成した状態を示す説
明図である。
を所定の切断線に沿って切断して、本実施の形態に係る
圧電/電歪デバイスとする途中過程を示す説明図であ
る。
グリーンシートの積層過程を示す説明図である。
ン積層体とした状態を示す説明図である。
ン積層体を焼成したセラミック積層体とした後、該セラ
ミック積層体に圧電/電歪素子を形成した状態を示す説
明図である。
を所定の切断線に沿って切断して、本実施の形態に係る
圧電/電歪デバイスとする途中過程を示す説明図であ
る。
グリーンシートの積層過程を示す説明図である。
ン積層体とした状態を示す説明図である。
ン積層体を焼成してセラミック積層体とした状態を示す
説明図である。
た圧電/電歪素子をそれぞれ薄板部となる金属板の表面
に接着した状態を示す説明図である。
ク積層体に接着してハイブリッド積層体とした状態を示
す説明図である。
体を所定の切断線に沿って切断して、第8の変形例に係
る圧電/電歪デバイスを作製した状態を示す説明図であ
る。
ン積層体を焼成してセラミック積層体とした後、孔部に
充填材を充填した状態を示す説明図である。
なる金属板をセラミック積層体に接着してハイブリッド
積層体とした状態を示す説明図である。
図である。
…アクチュエータ部 20a、20b…可動部 22…圧電/電
歪層 24、26…一対の電極 36…空隙 37、37A〜37C…スペーサ部材 38…接着剤 50A〜50I、52A、52B、102A〜102
G、108A〜108G、114A〜114G…セラミ
ックグリーンシート 58、158…セラミックグリーン積層体 60、160…セラミック積層体 106…張出し
部 112…桟部 152A、15
2B…金属板 162…ハイブリッド積層体
Claims (17)
- 【請求項1】相対向する一対の薄板部と、これら薄板部
を支持する固定部とを具備し、 前記一対の薄板部の先端部分に可動部を有し、 前記一対の薄板部のうち、少なくとも1つの薄板部に1
以上の圧電/電歪素子が配設された圧電/電歪デバイス
であって、 前記可動部又は固定部のいずれか一方は、互いに対向す
る端面を有し、 前記端面間の距離が前記可動部の長さ以上であることを
特徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項2】請求項1記載の圧電/電歪デバイスにおい
て、 前記可動部又は固定部のいずれか一方に切除部を有し、 前記切除部の一部が前記互いに対向する端面を構成する
ことを特徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項3】請求項1又は2記載の圧電/電歪デバイス
において、 前記薄板部と前記可動部と前記固定部は、セラミックグ
リーン積層体を同時焼成することによって一体化し、更
に不要な部分を切除してなるセラミック基体で構成され
ていることを特徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項4】請求項3記載の圧電/電歪デバイスにおい
て、 前記圧電/電歪素子は膜状であって、焼成によって前記
セラミック基体に一体化されていることを特徴とする圧
電/電歪デバイス。 - 【請求項5】請求項1〜4のいずれか1項に記載の圧電
/電歪デバイスにおいて、 前記互いに対向する端面の間に空隙が形成されているこ
とを特徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項6】請求項1〜5のいずれか1項に記載の圧電
/電歪デバイスにおいて、 前記互いに対向する端面の間に前記可動部又は固定部の
いずれか一方の構成部材と同じ部材あるいは異なる複数
の部材が介在され、 前記部材における前記端面と対向する面の面積が前記端
面の面積とほぼ同じであることを特徴とする圧電/電歪
デバイス。 - 【請求項7】請求項6記載の圧電/電歪デバイスにおい
て、 前記複数の部材のうち、少なくとも1つの部材が有機樹
脂であることを特徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項8】請求項6又は7記載の圧電/電歪デバイス
において、 前記一対の薄板部の両内壁と前記可動部の内壁と前記複
数の部材の内壁と前記固定部の内壁とにより形成された
孔部内に、ゲル状の材料が充填されていることを特徴と
する圧電/電歪デバイス。 - 【請求項9】請求項1〜8のいずれか1項に記載の圧電
/電歪デバイスにおいて、 製造時に前記薄板部及び/又は前記圧電/電歪素子に生
じていた内部残留応力が、前記互いに対向する端面が形
成されることによって解放された構造を有することを特
徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項10】請求項1〜9のいずれか1項に記載の圧
電/電歪デバイスにおいて、 前記圧電/電歪素子は、 圧電/電歪層と、該圧電/電歪層に形成された一対の電
極とを有することを特徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項11】請求項10記載の圧電/電歪デバイスに
おいて、 前記圧電/電歪素子は、 前記圧電/電歪層と前記一対の電極の複数が積層形態で
構成されていることを特徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項12】相対向する一対の薄板部と、これら薄板
部を支持する固定部とを具備し、 前記一対の薄板部の先端部分に可動部を有し、 前記一対の薄板部のうち、少なくとも1つの薄板部に1
以上の圧電/電歪素子が配設された圧電/電歪デバイス
の製造方法であって、 少なくとも前記薄板上に前記圧電/電歪素子を作製した
後に、前記可動部となる部分又は固定部となる部分のい
ずれか一方の所定部位を切除して、互いに対向する端面
を有し、かつ、前記端面間の距離が前記可動部の長さ以
上とされた前記可動部又は固定部を形成する工程を有す
ることを特徴とする圧電/電歪デバイスの製造方法。 - 【請求項13】相対向する一対の薄板部と、これら薄板
部を支持する固定部とを具備し、 前記一対の薄板部の先端部分に可動部を有し、 前記一対の薄板部のうち、少なくとも1つの薄板部に1
以上の圧電/電歪素子が配設された圧電/電歪デバイス
の製造方法であって、 少なくとも窓部を有するセラミックグリーンシートと、
後に前記薄板部となるセラミックグリーンシートとを含
むセラミックグリーン積層体を一体焼成して、セラミッ
ク積層体を作製するセラミック積層体作製工程と、 前記セラミック積層体のうち、前記薄板部となる部分の
外表面に前記圧電/電歪素子を形成する工程と、 前記圧電/電歪素子が形成されたセラミック積層体に対
する少なくとも1回の切除処理によって、少なくとも前
記互いに対向する端面を有し、かつ、前記端面間の距離
が前記可動部の長さ以上とされた前記可動部又は固定部
を形成する切除工程とを含むことを特徴とする圧電/電
歪デバイスの製造方法。 - 【請求項14】請求項13記載の圧電/電歪デバイスの
製造方法において、 前記セラミック積層体作製工程は、少なくとも互いに対
向する端面を有する前記可動部又は固定部を形成するた
めの窓部を有する複数のセラミックグリーンシートと、
後に前記薄板部となるセラミックグリーンシートとを含
むセラミックグリーン積層体を一体焼成して、前記セラ
ミック積層体を作製し、 前記切除工程は、前記圧電/電歪素子が形成されたセラ
ミック積層体に対する切除処理によって、少なくとも前
記互いに対向する端面を有し、かつ、前記端面間の距離
が前記可動部の長さ以上とされた前記可動部又は固定部
を形成することを特徴とする圧電/電歪デバイスの製造
方法。 - 【請求項15】請求項13又は14記載の圧電/電歪デ
バイスの製造方法において、 前記セラミック積層体作製工程は、少なくとも互いに対
向する端面が一部連結された前記可動部となる部分又は
前記固定部となる部分を形成するための窓部を有する複
数のセラミックグリーンシートと、後に前記薄板部とな
るセラミックグリーンシートとを含むセラミックグリー
ン積層体を一体焼成して、前記セラミック積層体を作製
し、 前記切除工程は、前記圧電/電歪素子が形成された前記
セラミック積層体に対する切除処理によって、少なくと
も互いに対向する端面が一部連結された前記可動部とな
る部分又は固定部となる部分を形成し、更に、前記連結
部分を切除して互いに対向する端面を有し、かつ、前記
端面間の距離が前記可動部の長さ以上とされた前記可動
部又は固定部を形成することを特徴とする圧電/電歪デ
バイスの製造方法。 - 【請求項16】請求項12〜15のいずれか1項に記載
の圧電/電歪デバイスの製造方法において、 前記互いに対向する端面の間に、前記可動部又は固定部
の構成部材と異なる複数の部材を介在させる工程を有す
ることを特徴とする圧電/電歪デバイスの製造方法。 - 【請求項17】請求項16記載の圧電/電歪デバイスの
製造方法において、 前記複数の部材のうち、少なくとも1つの部材として有
機樹脂を用いることを特徴とする圧電/電歪デバイスの
製造方法。
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---|---|---|---|
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US09/671,669 US6534898B1 (en) | 1999-10-01 | 2000-09-27 | Piezoelectric/electrostrictive device having mutually opposing thin plate section |
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US10/448,984 US20040017133A1 (en) | 1999-10-01 | 2003-05-30 | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
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---|---|
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---|---|
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DE (1) | DE60036993T2 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004193574A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-07-08 | Tdk Corp | アクチュエータ及びその製造方法 |
US6809459B2 (en) | 2002-01-11 | 2004-10-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
US6858971B2 (en) | 2001-09-11 | 2005-02-22 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US6956317B2 (en) | 2002-06-05 | 2005-10-18 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and piezoelectric/electrostrictive element |
US7007355B2 (en) | 2001-09-11 | 2006-03-07 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of manufacturing a piezoelectric/electrostrictive device |
US7050271B2 (en) | 2002-11-28 | 2006-05-23 | Tdk Corporation | Actuator having doped silicon arms and method of making the same |
US7122091B2 (en) | 2002-02-06 | 2006-10-17 | Ngk Insulators, Ltd. | Structure of retaining cut-processed components, method of fabricating cut-processed components, tray for housing cut-processed components, and method of cleaning cut-processed components |
JP2007534172A (ja) * | 2004-04-23 | 2007-11-22 | エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ | 微小電気機械装置 |
US7402936B2 (en) | 2004-10-25 | 2008-07-22 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US8375538B2 (en) | 2009-03-27 | 2013-02-19 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for manufacturing piezoelectric actuator |
WO2015026437A1 (en) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Multi-layered thin film piezoelectric devices & methods of making the same |
US9475093B2 (en) | 2013-10-03 | 2016-10-25 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Piezoelectric ultrasonic transducer array with switched operational modes |
US9525119B2 (en) | 2013-12-11 | 2016-12-20 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Flexible micromachined transducer device and method for fabricating same |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6915547B2 (en) | 1999-10-01 | 2005-07-12 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
JP4058223B2 (ja) | 1999-10-01 | 2008-03-05 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
WO2001026168A1 (fr) | 1999-10-01 | 2001-04-12 | Ngk Insulators, Ltd. | Dispositif piezo-electrique / electrostrictif |
JP3436735B2 (ja) | 1999-10-01 | 2003-08-18 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
US6404109B1 (en) | 1999-10-01 | 2002-06-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device having increased strength |
US6525448B1 (en) | 1999-10-01 | 2003-02-25 | Ngk Insulators Ltd | Piezoelectric/electrostrictive device |
US7164221B1 (en) * | 1999-10-01 | 2007-01-16 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
JP3436727B2 (ja) * | 1999-10-01 | 2003-08-18 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
JP3845543B2 (ja) * | 1999-10-01 | 2006-11-15 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
JP3845544B2 (ja) | 1999-10-01 | 2006-11-15 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
EP1148560B1 (en) | 1999-10-01 | 2010-07-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric / electrostrictive device and method of manufacture thereof |
EP1306908A4 (en) * | 2000-06-16 | 2006-10-04 | Ngk Insulators Ltd | PIEZOELECTRIC / ELECTROSTRICTIVE COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
US7345406B2 (en) * | 2001-01-18 | 2008-03-18 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
JP4007767B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2007-11-14 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイスおよびその製造方法 |
US6624549B2 (en) * | 2001-03-02 | 2003-09-23 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of fabricating the same |
JP4015820B2 (ja) * | 2001-04-11 | 2007-11-28 | 日本碍子株式会社 | 配線基板及びその製造方法 |
JP4033643B2 (ja) * | 2001-06-18 | 2008-01-16 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイスおよびその製造方法 |
JP4434537B2 (ja) * | 2001-08-27 | 2010-03-17 | パナソニック株式会社 | 圧電機能部品 |
US20050035688A1 (en) * | 2002-01-11 | 2005-02-17 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
WO2003105131A1 (en) * | 2002-06-05 | 2003-12-18 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | A system and method for preventing operational and manufacturing imperfections in piezoelectric micro-actuators |
WO2004015370A1 (ja) * | 2002-08-07 | 2004-02-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 角速度センサ |
US7466513B2 (en) * | 2003-08-19 | 2008-12-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Airflow shroud for HDD tracking microactuator |
DE20313727U1 (de) * | 2003-09-04 | 2005-01-13 | Thinxxs Gmbh | Piezoaktor |
US8035293B2 (en) * | 2004-12-16 | 2011-10-11 | Vu1 Corporation | Cold-cathode light-emitting device with defocusing grid and associated methods of manufacturing |
KR100759521B1 (ko) * | 2006-04-06 | 2007-09-18 | 삼성전기주식회사 | 압전 진동자 |
US7834553B2 (en) * | 2007-02-05 | 2010-11-16 | Vu1 Corporation | System and apparatus for cathodoluminescent lighting |
US8294367B2 (en) * | 2007-02-05 | 2012-10-23 | Vu1 Corporation | System and apparatus for cathodoluminescent lighting |
US8085508B2 (en) | 2008-03-28 | 2011-12-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System, method and apparatus for flexure-integrated microactuator |
US9117468B1 (en) | 2013-03-18 | 2015-08-25 | Magnecomp Corporation | Hard drive suspension microactuator with restraining layer for control of bending |
US11205449B2 (en) | 2013-03-18 | 2021-12-21 | Magnecomp Corporation | Multi-layer PZT microacuator with active PZT constraining layers for a DSA suspension |
US10607642B2 (en) | 2013-03-18 | 2020-03-31 | Magnecomp Corporation | Multi-layer PZT microactuator with active PZT constraining layers for a DSA suspension |
US9330698B1 (en) | 2013-03-18 | 2016-05-03 | Magnecomp Corporation | DSA suspension having multi-layer PZT microactuator with active PZT constraining layers |
US9741376B1 (en) | 2013-03-18 | 2017-08-22 | Magnecomp Corporation | Multi-layer PZT microactuator having a poled but inactive PZT constraining layer |
US10128431B1 (en) | 2015-06-20 | 2018-11-13 | Magnecomp Corporation | Method of manufacturing a multi-layer PZT microactuator using wafer-level processing |
US20170130372A1 (en) * | 2015-11-05 | 2017-05-11 | International Textile Group, Inc. | Woven fabric with intricate design |
US10585480B1 (en) | 2016-05-10 | 2020-03-10 | Apple Inc. | Electronic device with an input device having a haptic engine |
US10768747B2 (en) | 2017-08-31 | 2020-09-08 | Apple Inc. | Haptic realignment cues for touch-input displays |
US11054932B2 (en) * | 2017-09-06 | 2021-07-06 | Apple Inc. | Electronic device having a touch sensor, force sensor, and haptic actuator in an integrated module |
US10768738B1 (en) | 2017-09-27 | 2020-09-08 | Apple Inc. | Electronic device having a haptic actuator with magnetic augmentation |
US10942571B2 (en) | 2018-06-29 | 2021-03-09 | Apple Inc. | Laptop computing device with discrete haptic regions |
US10936071B2 (en) | 2018-08-30 | 2021-03-02 | Apple Inc. | Wearable electronic device with haptic rotatable input |
US10966007B1 (en) | 2018-09-25 | 2021-03-30 | Apple Inc. | Haptic output system |
US11024135B1 (en) | 2020-06-17 | 2021-06-01 | Apple Inc. | Portable electronic device having a haptic button assembly |
Family Cites Families (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB789336A (en) * | 1954-12-27 | 1958-01-22 | Erie Resistor Corp | Method of making thin flat electroded ceramic elements |
US3597642A (en) * | 1968-12-13 | 1971-08-03 | Suwa Seikosha Kk | Electrostrictively driven tuning fork |
US3614485A (en) * | 1969-08-05 | 1971-10-19 | Austron Inc | Electromechanical reed system |
JPS5823921B2 (ja) * | 1978-02-10 | 1983-05-18 | 日本電気株式会社 | 電圧非直線抵抗器 |
DE3332949A1 (de) | 1983-09-13 | 1985-04-04 | Finnigan MAT GmbH, 2800 Bremen | Vorrichtung zur einstellung von spaltweiten bei spektrometern |
CA1234705A (en) * | 1984-03-22 | 1988-04-05 | Suzushi Kimura | Angular velocity sensor |
DE3424005A1 (de) * | 1984-06-29 | 1986-01-02 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Ausloesevorrichtung fuer rueckhaltsysteme in kraftfahrzeugen |
JPS61205100A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電発音体 |
JPS62250681A (ja) | 1986-04-23 | 1987-10-31 | Murata Mfg Co Ltd | 磁気ヘツドが一端側に、他端側に支持部材が取付けられた積層バイモルフ |
JPS62259485A (ja) | 1986-05-02 | 1987-11-11 | Hiroshi Shimizu | 圧電駆動装置 |
JPS6364640A (ja) | 1986-09-06 | 1988-03-23 | Olympus Optical Co Ltd | アクチユエ−タ |
US5166571A (en) * | 1987-08-28 | 1992-11-24 | Nec Home Electronics, Ltd. | Vibration gyro having an H-shaped vibrator |
JPS6489358A (en) | 1987-09-29 | 1989-04-03 | Nec Corp | Compound semiconductor device |
US5049775A (en) * | 1988-09-30 | 1991-09-17 | Boston University | Integrated micromechanical piezoelectric motor |
DE69223096T2 (de) * | 1991-07-18 | 1998-05-28 | Ngk Insulators Ltd | Piezoelektrischer/elektrostriktiver Element mit einem keramischen Substrat aus stabilisiertem Zirkoniumdioxid |
US5745319A (en) | 1992-08-12 | 1998-04-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Recording/reproducing apparatus with coarse and fine head positioning actuators and an elastic head gimbal |
DE69416989T2 (de) * | 1993-12-27 | 1999-08-26 | Canon Kk | Vibrationswellenantrieb |
US6049158A (en) | 1994-02-14 | 2000-04-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive film element having convex diaphragm portions and method of producing the same |
JP3162584B2 (ja) * | 1994-02-14 | 2001-05-08 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法 |
US5708320A (en) * | 1994-10-28 | 1998-01-13 | Alps Electric Co., Ltd | Vibratory gyroscope |
JP3235099B2 (ja) | 1994-11-07 | 2001-12-04 | 松下電器産業株式会社 | 圧電アクチュエータおよびそれを用いた焦電型赤外線センサ |
WO1996031754A1 (fr) * | 1995-04-04 | 1996-10-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Capteur de vitesse angulaire |
US6732586B2 (en) * | 1995-05-30 | 2004-05-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Angular velocity sensor |
JP3512968B2 (ja) * | 1996-04-11 | 2004-03-31 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | 半導体装置の製造方法 |
CN1145957C (zh) | 1996-10-31 | 2004-04-14 | Tdk株式会社 | 读/写头、读/写头定位机构和读/写系统 |
JPH10136665A (ja) | 1996-10-31 | 1998-05-22 | Tdk Corp | 圧電アクチュエータ |
US6018212A (en) * | 1996-11-26 | 2000-01-25 | Ngk Insulators, Ltd. | Vibrator, vibratory gyroscope, and vibration adjusting method |
TW374885B (en) * | 1997-06-06 | 1999-11-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | The arithmetic unit |
JPH10339637A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Nippon Soken Inc | 振動型角速度検出装置 |
JPH1126834A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-01-29 | Toshio Fukuda | Pzt薄膜バイモルフ形の平行平板構造体、及びその製造方法 |
JP3973742B2 (ja) * | 1997-07-04 | 2007-09-12 | 日本碍子株式会社 | 振動型ジャイロスコープ |
US6186003B1 (en) * | 1997-10-06 | 2001-02-13 | Ngk Insulators, Ltd. | Vibratory gyroscope, vibrator used in this gyroscope, method for analyzing vibration of the vibrator, method for supporting the vibrator, and method for manufacturing the vibratory gyroscope |
JPH11344341A (ja) | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Tokai Rika Co Ltd | 平行平板型振動ジャイロ及び平行平板型振動ジャイロ装置 |
JP2000002539A (ja) | 1998-06-15 | 2000-01-07 | Tokai Rika Co Ltd | 平行平板型振動ジャイロ及び平行平板型振動ジャイロ装置 |
US6342751B1 (en) | 1998-12-28 | 2002-01-29 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and production method thereof |
US6335586B1 (en) | 1998-12-28 | 2002-01-01 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and production method thereof |
US6715192B2 (en) | 1998-12-28 | 2004-04-06 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for manufacturing a piezoelectric/electrostrictive device |
US6329740B1 (en) | 1998-12-28 | 2001-12-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and production method thereof |
US6476539B1 (en) * | 1999-10-01 | 2002-11-05 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US6525448B1 (en) * | 1999-10-01 | 2003-02-25 | Ngk Insulators Ltd | Piezoelectric/electrostrictive device |
US6351056B1 (en) | 1999-10-01 | 2002-02-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device having mutually opposing thin plate portions |
JP4058223B2 (ja) | 1999-10-01 | 2008-03-05 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
US6452309B1 (en) | 1999-10-01 | 2002-09-17 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US6570297B1 (en) * | 1999-10-01 | 2003-05-27 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US6323582B1 (en) | 1999-10-01 | 2001-11-27 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/Electrostrictive device |
US6455981B1 (en) * | 1999-10-01 | 2002-09-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
JP3845543B2 (ja) | 1999-10-01 | 2006-11-15 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
US6404109B1 (en) | 1999-10-01 | 2002-06-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device having increased strength |
JP3436727B2 (ja) | 1999-10-01 | 2003-08-18 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
US6396193B1 (en) | 1999-10-01 | 2002-05-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device having mutually opposing thin plate portions |
US6498419B1 (en) * | 1999-10-01 | 2002-12-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device having mutually opposing end surfaces and method of manufacturing the same |
EP1148560B1 (en) * | 1999-10-01 | 2010-07-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric / electrostrictive device and method of manufacture thereof |
WO2001026168A1 (fr) * | 1999-10-01 | 2001-04-12 | Ngk Insulators, Ltd. | Dispositif piezo-electrique / electrostrictif |
JP3436735B2 (ja) | 1999-10-01 | 2003-08-18 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
US6333681B1 (en) | 1999-10-01 | 2001-12-25 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
JP3845544B2 (ja) | 1999-10-01 | 2006-11-15 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
JP3466550B2 (ja) | 1999-10-01 | 2003-11-10 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス |
EP1306908A4 (en) | 2000-06-16 | 2006-10-04 | Ngk Insulators Ltd | PIEZOELECTRIC / ELECTROSTRICTIVE COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
JP4007767B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2007-11-14 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイスおよびその製造方法 |
JP4015820B2 (ja) * | 2001-04-11 | 2007-11-28 | 日本碍子株式会社 | 配線基板及びその製造方法 |
JP4038400B2 (ja) * | 2001-09-11 | 2008-01-23 | 日本碍子株式会社 | セラミック積層体、セラミック積層体の製造方法、圧電/電歪デバイス、圧電/電歪デバイスの製造方法及びセラミック焼結体 |
JP3790523B2 (ja) * | 2003-06-19 | 2006-06-28 | 志豐電子股▲分▼有限公司 | 圧電軸プッシュ・プル式超音波モータ |
-
2000
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2003
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2004
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-
2007
- 2007-10-15 US US11/872,208 patent/US20080054761A1/en not_active Abandoned
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7180226B2 (en) | 2001-09-11 | 2007-02-20 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US6858971B2 (en) | 2001-09-11 | 2005-02-22 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US6897600B2 (en) | 2001-09-11 | 2005-05-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US7007355B2 (en) | 2001-09-11 | 2006-03-07 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of manufacturing a piezoelectric/electrostrictive device |
US7015626B2 (en) | 2001-09-11 | 2006-03-21 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US6809459B2 (en) | 2002-01-11 | 2004-10-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
US7336020B2 (en) | 2002-01-11 | 2008-02-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
US6992421B2 (en) | 2002-01-11 | 2006-01-31 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
US7122091B2 (en) | 2002-02-06 | 2006-10-17 | Ngk Insulators, Ltd. | Structure of retaining cut-processed components, method of fabricating cut-processed components, tray for housing cut-processed components, and method of cleaning cut-processed components |
US6956317B2 (en) | 2002-06-05 | 2005-10-18 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and piezoelectric/electrostrictive element |
JP2004193574A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-07-08 | Tdk Corp | アクチュエータ及びその製造方法 |
US7050271B2 (en) | 2002-11-28 | 2006-05-23 | Tdk Corporation | Actuator having doped silicon arms and method of making the same |
US7119994B2 (en) | 2002-11-28 | 2006-10-10 | Tdk Corporation | Actuator having a pair of arms with piezoelectric devices attached thereto and methods of making the same |
US7596841B2 (en) | 2004-04-23 | 2009-10-06 | Agency For Science Technology And Research | Micro-electromechanical devices and methods of fabricating thereof |
JP2007534172A (ja) * | 2004-04-23 | 2007-11-22 | エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ | 微小電気機械装置 |
US7402936B2 (en) | 2004-10-25 | 2008-07-22 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device |
US8375538B2 (en) | 2009-03-27 | 2013-02-19 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for manufacturing piezoelectric actuator |
WO2015026437A1 (en) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Multi-layered thin film piezoelectric devices & methods of making the same |
US9437802B2 (en) | 2013-08-21 | 2016-09-06 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Multi-layered thin film piezoelectric devices and methods of making the same |
US9475093B2 (en) | 2013-10-03 | 2016-10-25 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Piezoelectric ultrasonic transducer array with switched operational modes |
US9525119B2 (en) | 2013-12-11 | 2016-12-20 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Flexible micromachined transducer device and method for fabricating same |
US10586912B2 (en) | 2013-12-11 | 2020-03-10 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Method for fabricating flexible micromachined transducer device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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