JP2001302652A - 分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物の製造方法 - Google Patents
分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物の製造方法Info
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- JP2001302652A JP2001302652A JP2000132881A JP2000132881A JP2001302652A JP 2001302652 A JP2001302652 A JP 2001302652A JP 2000132881 A JP2000132881 A JP 2000132881A JP 2000132881 A JP2000132881 A JP 2000132881A JP 2001302652 A JP2001302652 A JP 2001302652A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化
合物を一段階で簡便に収率よく合成可能な製造方法を提
供する。 【解決手段】 非フェノール性水酸基またはメルカプト
基を有するオキセタン類（Ａ）の水酸基またはメルカプ
ト基とオキシラン類（Ｂ）を反応させる分子中にオキセ
タニル基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法。
合物を一段階で簡便に収率よく合成可能な製造方法を提
供する。 【解決手段】 非フェノール性水酸基またはメルカプト
基を有するオキセタン類（Ａ）の水酸基またはメルカプ
ト基とオキシラン類（Ｂ）を反応させる分子中にオキセ
タニル基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、開環重合および付
加反応などに有用な、オキセタニル基と水酸基を有する
化合物に関するものであり、該オキセタニル基と水酸基
を有する化合物を用いた硬化物は、優れた機械的性質
（引張強さなど）、電気的性質（電気絶縁性、低誘電率
など）、接着性、耐熱性、耐湿性、耐薬品性などを示す
ものであり、エポキシ樹脂の代替品として、例えば、接
着剤組成物、塗料組成物、加熱により硬化する熱硬化型
組成物、または紫外線の照射により硬化する紫外線硬化
型組成物などへ応用することができる。
加反応などに有用な、オキセタニル基と水酸基を有する
化合物に関するものであり、該オキセタニル基と水酸基
を有する化合物を用いた硬化物は、優れた機械的性質
（引張強さなど）、電気的性質（電気絶縁性、低誘電率
など）、接着性、耐熱性、耐湿性、耐薬品性などを示す
ものであり、エポキシ樹脂の代替品として、例えば、接
着剤組成物、塗料組成物、加熱により硬化する熱硬化型
組成物、または紫外線の照射により硬化する紫外線硬化
型組成物などへ応用することができる。
【０００２】
【従来の技術】４員環の環状エーテル化合物であるオキ
セタンは、炭素−酸素間の結合が分極していることから
高い反応性を示し、ルイス酸などを反応開始剤に用いた
オキセタンの開環重合（Ｓ．Ｉｎｏｕｅ ａｎｄ Ｔ．
Ａｉｄａ,“Ｒｉｎｇ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｐｏｌｙｍｅ
ｒｉｚａｔｉｏｎ” ，Ｋ．Ｊ．Ｉｖｉｎ ａｎｄ
Ｔ．Ｓａｅｇｕｓａ，Ｅｄｓ．，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ｌ
ｏｎｄｏｎ,１９８４，Ｖｏｌ．１，ｐｐ．１８５〜２
９８など参照）や、トリアルキルアルミニウム−水反応
生成物を触媒として用いたオキセタニルメチル トリメ
チルシリル エーテルの開環重合（特開平２−２９４２
９号公報参照）などが報告されている。
セタンは、炭素−酸素間の結合が分極していることから
高い反応性を示し、ルイス酸などを反応開始剤に用いた
オキセタンの開環重合（Ｓ．Ｉｎｏｕｅ ａｎｄ Ｔ．
Ａｉｄａ,“Ｒｉｎｇ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｐｏｌｙｍｅ
ｒｉｚａｔｉｏｎ” ，Ｋ．Ｊ．Ｉｖｉｎ ａｎｄ
Ｔ．Ｓａｅｇｕｓａ，Ｅｄｓ．，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ｌ
ｏｎｄｏｎ,１９８４，Ｖｏｌ．１，ｐｐ．１８５〜２
９８など参照）や、トリアルキルアルミニウム−水反応
生成物を触媒として用いたオキセタニルメチル トリメ
チルシリル エーテルの開環重合（特開平２−２９４２
９号公報参照）などが報告されている。
【０００３】ここで、オキセタニルメチル トリメチル
シリル エーテルの合成原料となるヒドロキシメチルオ
キセタンは、トリメチロールアルカンとジエチルカーボ
ナートを水酸化カリウム存在下で反応させ、得られた炭
酸エステルを脱炭酸させることによって得られる（Ｊ．
Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７９，３４５５（１９５
７）参照）。
シリル エーテルの合成原料となるヒドロキシメチルオ
キセタンは、トリメチロールアルカンとジエチルカーボ
ナートを水酸化カリウム存在下で反応させ、得られた炭
酸エステルを脱炭酸させることによって得られる（Ｊ．
Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７９，３４５５（１９５
７）参照）。
【０００４】また、カチオン重合におけるオキセタンの
高い反応性を利用し、光酸発生剤存在下での光カチオン
重合が報告されている（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，
Ａ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，３３，１８０７（１９９
５）参照）。
高い反応性を利用し、光酸発生剤存在下での光カチオン
重合が報告されている（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，
Ａ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，３３，１８０７（１９９
５）参照）。
【０００５】オキセタン化合物として、特開平１１−１
３０７６６号公報に一般式（２）で示される、分子中に
オキセタニル基と水酸基を有している化合物が報告され
ている。該化合物を用いた活性エネルギー線硬化型組成
物は、短時間の光照射により、重合度が高くかつ密着性
に優れた硬化物を与える。
３０７６６号公報に一般式（２）で示される、分子中に
オキセタニル基と水酸基を有している化合物が報告され
ている。該化合物を用いた活性エネルギー線硬化型組成
物は、短時間の光照射により、重合度が高くかつ密着性
に優れた硬化物を与える。
【化２】 （式中、Ｒ2はメチル基またはエチル基を示し、Ｒ3、Ｒ
4は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フェニル基又
はトリハロゲノメチル基を示す。）
4は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フェニル基又
はトリハロゲノメチル基を示す。）
【０００６】最近、光酸発生剤存在下でのオキシラン化
合物の光カチオン重合において、アルコール類を添加す
ると、光硬化反応がより高速に進行する結果が相次いで
報告されている（例えば、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ
他，Ｊ．Ｒａｄｉａｔ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３，３（１９
８６）、特開平１１−２２８６１０号公報参照）。アル
コール類の水酸基が連鎖移動反応に関与しているため、
このような現象が起こると説明されている（Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ＆ＥＢ
Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，
Ｉｎｋｓ＆Ｐｉｇｍｅｎｔｓ，Ｅｄ．ｂｙ Ｋ．Ｄｉｅ
ｔｌｉｋｅｒ，ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｔ
ｄ，Ｌｏｎｄｏｎ，１９９１，ｐｐ．３５２−３５８参
照）。
合物の光カチオン重合において、アルコール類を添加す
ると、光硬化反応がより高速に進行する結果が相次いで
報告されている（例えば、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ
他，Ｊ．Ｒａｄｉａｔ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３，３（１９
８６）、特開平１１−２２８６１０号公報参照）。アル
コール類の水酸基が連鎖移動反応に関与しているため、
このような現象が起こると説明されている（Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ＆ＥＢ
Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，
Ｉｎｋｓ＆Ｐｉｇｍｅｎｔｓ，Ｅｄ．ｂｙ Ｋ．Ｄｉｅ
ｔｌｉｋｅｒ，ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｔ
ｄ，Ｌｏｎｄｏｎ，１９９１，ｐｐ．３５２−３５８参
照）。
【０００７】上記一般式（２）に示す化合物は分子中に
オキセタニル基と水酸基を有しているため、光酸発生剤
存在下でオキセタン化合物の光カチオン重合が高速で進
行したものと考えられる。
オキセタニル基と水酸基を有しているため、光酸発生剤
存在下でオキセタン化合物の光カチオン重合が高速で進
行したものと考えられる。
【０００８】一般式（２）に示すオキセタン化合物は、
下記一般式（３）で表される［｛（オキセタン−３−イ
ル）メトキシ｝メチル］オキシランのオキシラン環を、
下記一般式（４）で表されるビスフェノール化合物のフ
ェノール性水酸基で開環させることによって得られる。
下記一般式（３）で表される［｛（オキセタン−３−イ
ル）メトキシ｝メチル］オキシランのオキシラン環を、
下記一般式（４）で表されるビスフェノール化合物のフ
ェノール性水酸基で開環させることによって得られる。
【化３】 （式中、Ｒ2はメチル基またはエチル基を示す。）
【化４】 （式中、Ｒ3、Ｒ4は水素原子、ハロゲン原子、メチル
基、フェニル基又はトリハロゲノメチル基を示す。）
基、フェニル基又はトリハロゲノメチル基を示す。）
【０００９】しかし、特開平１１−１３０７６６号公報
には、一般式（４）に示されるようなフェノール類以外
のアルコール類を用いて、分子中にオキセタニル基と水
酸基を有する化合物を得る方法の記載はなく、芳香環を
持たない分子中にオキセタニル基と水酸基を有している
化合物を合成することは困難であった。
には、一般式（４）に示されるようなフェノール類以外
のアルコール類を用いて、分子中にオキセタニル基と水
酸基を有する化合物を得る方法の記載はなく、芳香環を
持たない分子中にオキセタニル基と水酸基を有している
化合物を合成することは困難であった。
【００１０】また、一般式（３）の化合物はエピクロロ
ヒドリンとヒドロキシメチルオキセタンを反応させて合
成している。したがって、ヒドロキシメチルオキセタン
を出発原料とすると、一般式（２）の化合物を合成する
までには２回以上の反応が必要であり、操作が煩雑にな
るとともに総収率が低下するという問題点があった。本
発明は、分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合
物を一段階で簡便に収率よく合成可能な製造方法を提供
するものである。
ヒドリンとヒドロキシメチルオキセタンを反応させて合
成している。したがって、ヒドロキシメチルオキセタン
を出発原料とすると、一般式（２）の化合物を合成する
までには２回以上の反応が必要であり、操作が煩雑にな
るとともに総収率が低下するという問題点があった。本
発明は、分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合
物を一段階で簡便に収率よく合成可能な製造方法を提供
するものである。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは鋭意検討
した結果、非フェノール性水酸基またはメルカプト基を
有するオキセタン誘導体の水酸基またはメルカプト基
と、入手容易なオキシラン類を反応させることによっ
て、様々な骨格を有する分子中に水酸基とオキセタニル
基を有する化合物が容易に得られることを見出し、本発
明を完成するに至った。請求項１に記載の発明は、非フ
ェノール性水酸基またはメルカプト基を有するオキセタ
ン類（Ａ）の水酸基またはメルカプト基とオキシラン類
（Ｂ）を反応させることを特徴とする、分子中にオキセ
タニル基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法であ
る。速い硬化性と密着性に優れた、芳香環をはじめ、脂
肪族基や脂環式基等の様々な骨格を有する、分子中にオ
キセタニル基と水酸基を有する化合物を合成する製造方
法を提供するものである。請求項２に記載の発明は、オ
キセタン類（Ａ）として、下記一般式（１）で表される
オキセタン類を用いることを特徴とする請求項１に記載
の分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物
（Ｃ）の製造方法である。
した結果、非フェノール性水酸基またはメルカプト基を
有するオキセタン誘導体の水酸基またはメルカプト基
と、入手容易なオキシラン類を反応させることによっ
て、様々な骨格を有する分子中に水酸基とオキセタニル
基を有する化合物が容易に得られることを見出し、本発
明を完成するに至った。請求項１に記載の発明は、非フ
ェノール性水酸基またはメルカプト基を有するオキセタ
ン類（Ａ）の水酸基またはメルカプト基とオキシラン類
（Ｂ）を反応させることを特徴とする、分子中にオキセ
タニル基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法であ
る。速い硬化性と密着性に優れた、芳香環をはじめ、脂
肪族基や脂環式基等の様々な骨格を有する、分子中にオ
キセタニル基と水酸基を有する化合物を合成する製造方
法を提供するものである。請求項２に記載の発明は、オ
キセタン類（Ａ）として、下記一般式（１）で表される
オキセタン類を用いることを特徴とする請求項１に記載
の分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物
（Ｃ）の製造方法である。
【化５】 （式中Ｑは、酸素または硫黄原子を示し、Ｒ1は水素原
子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のパーフ
ルオルアルキル基、アリル基を示し、ｎは０〜６の整数
を示す。）速い硬化性と密着性に優れた、分子中にオキ
セタニル基と水酸基を有する化合物をヒドロキシメチル
オキセタンから一段階で簡便に収率よく合成可能な製造
方法を提供するものである。請求項３に記載の発明は、
塩基の存在下で反応させることを特徴とする請求項１ま
たは請求項２に記載の分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物（Ｃ）の製造方法である。塩基の存在下
で、様々な骨格を持つ分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物を収率よく合成する製造方法を提供する
ものである。請求項４に記載の発明は、オキシラン類
（Ｂ）として分子中に１〜４個のオキシラン環を有する
オキシラン類を用いることを特徴とする請求項１ないし
請求項３のいずれかに記載の分子中にオキセタニル基と
水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法である。請求項
１〜３記載の発明に加えて、適度な架橋密度を持つ硬化
物を与える、分子中にオキセタニル基と水酸基を有する
化合物を簡便に収率よく合成する製造方法を提供するも
のである。請求項５に記載の発明は、オキシラン類
（Ｂ）として、エポキシ当量が４３から１０００のオキ
シラン化合物を用いることを特徴とする請求項１ないし
請求項４のいずれかに記載の分子中にオキセタニル基と
水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法である。請求項
１〜４記載の発明に加えて、保存安定性の高い組成物お
よび硬化物を与える、分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物を簡便に収率よく合成する製造方法を提
供するものである。請求項６に記載の発明は、反応温度
が１００℃以下であることを特徴とする請求項１ないし
請求項５のいずれかに記載の分子中にオキセタニル基と
水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法である。副反応
を抑制し、水での加熱を可能にし、危険が少なく、汎用
の設備で合成でき、エネルギー消費量が低減できる分子
中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物を簡便に収
率よく合成する製造方法を提供するものである。
子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のパーフ
ルオルアルキル基、アリル基を示し、ｎは０〜６の整数
を示す。）速い硬化性と密着性に優れた、分子中にオキ
セタニル基と水酸基を有する化合物をヒドロキシメチル
オキセタンから一段階で簡便に収率よく合成可能な製造
方法を提供するものである。請求項３に記載の発明は、
塩基の存在下で反応させることを特徴とする請求項１ま
たは請求項２に記載の分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物（Ｃ）の製造方法である。塩基の存在下
で、様々な骨格を持つ分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物を収率よく合成する製造方法を提供する
ものである。請求項４に記載の発明は、オキシラン類
（Ｂ）として分子中に１〜４個のオキシラン環を有する
オキシラン類を用いることを特徴とする請求項１ないし
請求項３のいずれかに記載の分子中にオキセタニル基と
水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法である。請求項
１〜３記載の発明に加えて、適度な架橋密度を持つ硬化
物を与える、分子中にオキセタニル基と水酸基を有する
化合物を簡便に収率よく合成する製造方法を提供するも
のである。請求項５に記載の発明は、オキシラン類
（Ｂ）として、エポキシ当量が４３から１０００のオキ
シラン化合物を用いることを特徴とする請求項１ないし
請求項４のいずれかに記載の分子中にオキセタニル基と
水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法である。請求項
１〜４記載の発明に加えて、保存安定性の高い組成物お
よび硬化物を与える、分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物を簡便に収率よく合成する製造方法を提
供するものである。請求項６に記載の発明は、反応温度
が１００℃以下であることを特徴とする請求項１ないし
請求項５のいずれかに記載の分子中にオキセタニル基と
水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法である。副反応
を抑制し、水での加熱を可能にし、危険が少なく、汎用
の設備で合成でき、エネルギー消費量が低減できる分子
中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物を簡便に収
率よく合成する製造方法を提供するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明で用いられるオキセタン類
（Ａ）は分子中にオキセタニル基と非フェノール性水酸
基またはメルカプト基を有していれば、いかなる化合物
でもかまわない。
（Ａ）は分子中にオキセタニル基と非フェノール性水酸
基またはメルカプト基を有していれば、いかなる化合物
でもかまわない。
【００１３】本発明で用いられるオキセタン類（Ａ）と
しては、具体的には一般式（１）で示される化合物であ
る。式（１）中Ｑは酸素または硫黄原子を示すが、合成
の容易さから酸素原子が好ましい。また、一般式（１）
中ｎは０〜６までの整数を示すが、入手の容易さからｎ
＝１が好ましい。
しては、具体的には一般式（１）で示される化合物であ
る。式（１）中Ｑは酸素または硫黄原子を示すが、合成
の容易さから酸素原子が好ましい。また、一般式（１）
中ｎは０〜６までの整数を示すが、入手の容易さからｎ
＝１が好ましい。
【化６】
【００１４】一般式（１）中Ｒ1としては一価の基であ
る。具体的には水素原子、未置換または脂肪族系または
脂環系または芳香族系有機基で置換されたメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、シクロ
ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素
数１から６までのアルキル基、トリフルオロメチル基、
ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パ
ーフルオロイソプロピル基、パーフルオロブチル基、２
−（パーフルオロブチル）エチル基、パーフルオロヘキ
シル基などの炭素数１から６までのパーフルオロアルキ
ル基、フェニル基、アリル基、ビニル基などが挙げられ
る。これらの中で、Ｒ1として水素原子、メチル基、エ
チル基のものはオキセタン含有率が高く、好ましい。
る。具体的には水素原子、未置換または脂肪族系または
脂環系または芳香族系有機基で置換されたメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、シクロ
ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素
数１から６までのアルキル基、トリフルオロメチル基、
ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パ
ーフルオロイソプロピル基、パーフルオロブチル基、２
−（パーフルオロブチル）エチル基、パーフルオロヘキ
シル基などの炭素数１から６までのパーフルオロアルキ
ル基、フェニル基、アリル基、ビニル基などが挙げられ
る。これらの中で、Ｒ1として水素原子、メチル基、エ
チル基のものはオキセタン含有率が高く、好ましい。
【００１５】本発明で使用されるオキシラン類（Ｂ）
は、その分子中にオキシラン環を有していれば特に制限
はなく使用しうる。このようなオキシラン類のうち、１
分子中に１つのオキシラン環を有する化合物としては、
以下に示す化合物が挙げられる（ＭｅＯはメトキシ基を
示す）。
は、その分子中にオキシラン環を有していれば特に制限
はなく使用しうる。このようなオキシラン類のうち、１
分子中に１つのオキシラン環を有する化合物としては、
以下に示す化合物が挙げられる（ＭｅＯはメトキシ基を
示す）。
【化７】
【００１６】また、本発明で使用されるオキシラン類
（Ｂ）のうち、１分子中に２つのオキシラン環を有する
化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる（Ｍｅ
はメチル基を示す）。
（Ｂ）のうち、１分子中に２つのオキシラン環を有する
化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる（Ｍｅ
はメチル基を示す）。
【化８】
【化９】
【００１７】また、本発明で使用されるオキシラン類
（Ｂ）のうち、１分子中に三つのオキシラン環を有する
化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる（Ｍｅ
はメチル基、Ｅｔはエチル基を示す）。
（Ｂ）のうち、１分子中に三つのオキシラン環を有する
化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる（Ｍｅ
はメチル基、Ｅｔはエチル基を示す）。
【化１０】
【００１８】さらに、本発明で使用されるオキシラン類
（Ｂ）のうち、１分子中に四つのオキシラン環を有する
化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる
（Ｂ）のうち、１分子中に四つのオキシラン環を有する
化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる
【化１１】
【００１９】本発明で用いられるオキシラン類（Ｂ）と
して、一般式（６）で表される化合物も用いることがで
きる。
して、一般式（６）で表される化合物も用いることがで
きる。
【化１２】 一般式（６）中、Ｒ15〜Ｒ18は各々独立に水素原子の
他、フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子、また
は一価の基が挙げられる。一価の基として、例えば、ア
ミノ基、カルボメトキシ基等のエステル基、カルボアミ
ノメチル基等のアミド基、アミノカルボキシメチル基等
のカルバミノ基、置換もしくは未置換のメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基
などのアルキル基もしくは置換または未置換のフェニル
基、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基など
のアルケニル基、シリル基などが挙げられる。
他、フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子、また
は一価の基が挙げられる。一価の基として、例えば、ア
ミノ基、カルボメトキシ基等のエステル基、カルボアミ
ノメチル基等のアミド基、アミノカルボキシメチル基等
のカルバミノ基、置換もしくは未置換のメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基
などのアルキル基もしくは置換または未置換のフェニル
基、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基など
のアルケニル基、シリル基などが挙げられる。
【００２０】本発明で用いられるオキシラン類（Ｂ）の
なかで、分子内にオキシラン環を１〜４個含むものが、
重合物が適度な架橋密度を持つため好ましい。オキシラ
ン環が５個を超えた場合、重合物の架橋密度が高すぎる
ため取り扱いにくく、また分子内反応も併発する傾向が
ある。
なかで、分子内にオキシラン環を１〜４個含むものが、
重合物が適度な架橋密度を持つため好ましい。オキシラ
ン環が５個を超えた場合、重合物の架橋密度が高すぎる
ため取り扱いにくく、また分子内反応も併発する傾向が
ある。
【００２１】また、本発明に用いるオキシラン類（Ｂ）
として、エポキシ当量４３から１０００のオキシラン類
を用いることが好ましい。エポキシ当量が４３以下では
オキシラン化合物を形成できず、また１０００を超えて
大きい場合は反応速度が低下する傾向がある。また、こ
の際単一分子だけでなく、以下に示すような、繰り返し
単位数（ｚ）に分布を持つオリゴマーを用いると、組成
物の結晶性が低下し、保存安定性に優れる。したがっ
て、０＜ｚが好ましく、０．５≦ｚがさらに好ましく、
１≦ｚが最も好ましい。
として、エポキシ当量４３から１０００のオキシラン類
を用いることが好ましい。エポキシ当量が４３以下では
オキシラン化合物を形成できず、また１０００を超えて
大きい場合は反応速度が低下する傾向がある。また、こ
の際単一分子だけでなく、以下に示すような、繰り返し
単位数（ｚ）に分布を持つオリゴマーを用いると、組成
物の結晶性が低下し、保存安定性に優れる。したがっ
て、０＜ｚが好ましく、０．５≦ｚがさらに好ましく、
１≦ｚが最も好ましい。
【化１３】
【００２２】本発明におけるオキシラン類（Ｂ）のエポ
キシ当量はＪＩＳ Ｋ ７２３６−１９８６、ＡＳＴＭ
Ｄ １６５２−７３またはＩＳＯ ３００１−１９７
８に示す方法に従って測定できる。
キシ当量はＪＩＳ Ｋ ７２３６−１９８６、ＡＳＴＭ
Ｄ １６５２−７３またはＩＳＯ ３００１−１９７
８に示す方法に従って測定できる。
【００２３】本発明で使用するオキセタン類（Ａ）の水
酸基１モル当量に対して、オキシラン環０．１モル当量
から２．０モル当量のオキシラン類（Ｂ）を用いること
ができるが、望ましくは０．５モル当量から１．５モル
当量の範囲で使用される。
酸基１モル当量に対して、オキシラン環０．１モル当量
から２．０モル当量のオキシラン類（Ｂ）を用いること
ができるが、望ましくは０．５モル当量から１．５モル
当量の範囲で使用される。
【００２４】本発明では塩基を用いても用いなくてもよ
いが、塩基を加えると反応が促進される。本発明で用い
られる塩基としては、塩基として働く化合物であればい
かなる化合物も用いることができる。本発明で用いられ
る塩基として具体的には、ピリジン、ジアルキルアミ
ン、トリアルキルアミン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデカ−７−エン、アンモニア等のア
ミン系塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、苛性カリ、
苛性ソーダ等の金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、リチウム
ジイソプロピルアミド、ナトリウムアミド等の金属アミ
ド、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム等の金属水素化物、メチルリチウム、ブチルリチウ
ム、フェニルリチウム、臭化メチルマグネシウム、臭化
エチルマグネシウム等の有機金属化合物が挙げられる。
このうち、反応性が優れている点や副生成物が反応不活
性である金属水素化物、有機リチウム化合物、リチウム
ジイソプロピルアミド、グリニアル反応剤がより好まし
く、副生成物が水素ガスとして容易に反応系外へ放出さ
れる点で金属水素化物がさらに好ましい。これらの塩基
は単独で、または２種類以上を組み合わせて使用するこ
とができる。
いが、塩基を加えると反応が促進される。本発明で用い
られる塩基としては、塩基として働く化合物であればい
かなる化合物も用いることができる。本発明で用いられ
る塩基として具体的には、ピリジン、ジアルキルアミ
ン、トリアルキルアミン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデカ−７−エン、アンモニア等のア
ミン系塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、苛性カリ、
苛性ソーダ等の金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、リチウム
ジイソプロピルアミド、ナトリウムアミド等の金属アミ
ド、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム等の金属水素化物、メチルリチウム、ブチルリチウ
ム、フェニルリチウム、臭化メチルマグネシウム、臭化
エチルマグネシウム等の有機金属化合物が挙げられる。
このうち、反応性が優れている点や副生成物が反応不活
性である金属水素化物、有機リチウム化合物、リチウム
ジイソプロピルアミド、グリニアル反応剤がより好まし
く、副生成物が水素ガスとして容易に反応系外へ放出さ
れる点で金属水素化物がさらに好ましい。これらの塩基
は単独で、または２種類以上を組み合わせて使用するこ
とができる。
【００２５】本発明で使用する塩基は、オキセタン類１
モル当量に対して０．０１モル当量から１０モル当量用
いることが好ましく、０．１モル当量から１．２モル当
量用いることがより好ましい。塩基の量が、オキセタン
類１モル当量に対して０．０１モル当量未満の場合は反
応時間が長くなり、生産性が低下する傾向があり、１０
モルを超えると副反応が進行する傾向がある。
モル当量に対して０．０１モル当量から１０モル当量用
いることが好ましく、０．１モル当量から１．２モル当
量用いることがより好ましい。塩基の量が、オキセタン
類１モル当量に対して０．０１モル当量未満の場合は反
応時間が長くなり、生産性が低下する傾向があり、１０
モルを超えると副反応が進行する傾向がある。
【００２６】本発明の反応は、溶媒を用いないで行うこ
ともできるが、反応液の流動性を保つために、溶媒を用
いて行うこともできる。溶媒を用いる場合、反応を阻害
したり、副反応を進行させたりする溶媒以外ならば、い
かなる溶媒を用いることができる。例えば、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオ
キサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、ト
ルエン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホル
ムなどが好ましい。これらの溶媒は単独で、又は２種類
以上を組み合わせて使用することができる。
ともできるが、反応液の流動性を保つために、溶媒を用
いて行うこともできる。溶媒を用いる場合、反応を阻害
したり、副反応を進行させたりする溶媒以外ならば、い
かなる溶媒を用いることができる。例えば、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオ
キサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、ト
ルエン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホル
ムなどが好ましい。これらの溶媒は単独で、又は２種類
以上を組み合わせて使用することができる。
【００２７】本発明の反応に溶媒を用いる場合、溶媒の
添加量は原料オキセタン類（Ａ）１００重量部に対し
て、５〜１００００重量部とすることが好ましく、２０
〜１００００重量部とすることがより好ましく、５０〜
５０００重量部とすることが最も好ましい。この配合量
が５重量部未満では、実質的な溶媒の添加効果が観察さ
れない傾向があり、１００００重量部を超えると反応速
度が遅くなり、生産性が低下する傾向がある。
添加量は原料オキセタン類（Ａ）１００重量部に対し
て、５〜１００００重量部とすることが好ましく、２０
〜１００００重量部とすることがより好ましく、５０〜
５０００重量部とすることが最も好ましい。この配合量
が５重量部未満では、実質的な溶媒の添加効果が観察さ
れない傾向があり、１００００重量部を超えると反応速
度が遅くなり、生産性が低下する傾向がある。
【００２８】本発明の反応において、オキセタン類
（Ａ）、オキシラン類（Ｂ）、塩基、溶媒はいかなる順
序で加えてもよいが、塩基性の強い塩基を用いた場合、
オキセタン類、塩基、溶媒の混合物にオキシラン類を加
えると、副生成物が生じにくい傾向がある。
（Ａ）、オキシラン類（Ｂ）、塩基、溶媒はいかなる順
序で加えてもよいが、塩基性の強い塩基を用いた場合、
オキセタン類、塩基、溶媒の混合物にオキシラン類を加
えると、副生成物が生じにくい傾向がある。
【００２９】本発明の反応は、加圧、減圧または大気圧
いずれの圧力下でも行うことができるが、操作の簡便性
から、大気圧雰囲気下で行うことが望ましい。また、乾
燥気流下で行うと水分由来の副反応が抑えられより好ま
しく、乾燥窒素、乾燥アルゴン下で行うことが最も好ま
しい。また、本発明の反応は必要に応じてかく拌混合す
ることによって進行する。
いずれの圧力下でも行うことができるが、操作の簡便性
から、大気圧雰囲気下で行うことが望ましい。また、乾
燥気流下で行うと水分由来の副反応が抑えられより好ま
しく、乾燥窒素、乾燥アルゴン下で行うことが最も好ま
しい。また、本発明の反応は必要に応じてかく拌混合す
ることによって進行する。
【００３０】本発明の反応温度は−１００℃から溶媒還
流温度または２００℃の範囲で行えるが、好ましくは−
３０℃から１５０℃の範囲であり、０℃から１００℃が
特に好ましい。この反応温度が−１００℃未満では反応
速度が遅くなり、生産性が低下する傾向がある。また、
２００℃以上では副生成物が生じ、オキセタニル基と水
酸基を有する化合物（Ｃ）の収率が低下する傾向があ
る。反応温度が０℃から１００℃の範囲であれば水での
加熱または冷却が可能であり、危険が少なく、汎用の設
備で合成でき、エネルギー消費量が低減できる。
流温度または２００℃の範囲で行えるが、好ましくは−
３０℃から１５０℃の範囲であり、０℃から１００℃が
特に好ましい。この反応温度が−１００℃未満では反応
速度が遅くなり、生産性が低下する傾向がある。また、
２００℃以上では副生成物が生じ、オキセタニル基と水
酸基を有する化合物（Ｃ）の収率が低下する傾向があ
る。反応温度が０℃から１００℃の範囲であれば水での
加熱または冷却が可能であり、危険が少なく、汎用の設
備で合成でき、エネルギー消費量が低減できる。
【００３１】本発明の反応時間は５分〜７２時間とする
ことが好ましく、１時間から２４時間がより好ましく、
１時間から１２時間がさらに好ましい。この反応時間
が、５分未満であると反応は十分には進行せず、オキセ
タニル基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の収率が低下す
る傾向がある。また、７２時間を超えてもオキセタニル
基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の収率はあまり向上し
ない傾向がある。
ことが好ましく、１時間から２４時間がより好ましく、
１時間から１２時間がさらに好ましい。この反応時間
が、５分未満であると反応は十分には進行せず、オキセ
タニル基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の収率が低下す
る傾向がある。また、７２時間を超えてもオキセタニル
基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の収率はあまり向上し
ない傾向がある。
【００３２】本発明の反応において反応率および反応の
終点は、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグ
ラフィー、薄相クロマトグラフィー、核磁気共鳴スペク
トル、および赤外吸収スペクトル等によって確認でき
る。本発明の反応の反応率は１０〜１００％が好まし
い。オキシラン類（Ｂ）の反応率が１０％以上、１００
％未満の場合、分子中にオキセタニル基と水酸基、およ
び未反応のオキシランを有する混合物が得られるが、該
混合物中のオキシラン残基も反応性モノマーとして用い
ることができる。
終点は、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグ
ラフィー、薄相クロマトグラフィー、核磁気共鳴スペク
トル、および赤外吸収スペクトル等によって確認でき
る。本発明の反応の反応率は１０〜１００％が好まし
い。オキシラン類（Ｂ）の反応率が１０％以上、１００
％未満の場合、分子中にオキセタニル基と水酸基、およ
び未反応のオキシランを有する混合物が得られるが、該
混合物中のオキシラン残基も反応性モノマーとして用い
ることができる。
【００３３】反応終了後、生成物を反応容器から取り出
すことにより、目的の分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物（Ｃ）が得られる。さらに、反応終了
後、反応液を蒸留、再結晶し、反応に用いた塩基と溶媒
を除去すると、目的の分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物（Ｃ）が純度よく得られ好ましい。また
は、反応液を水中に分散させ、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、酢酸
エチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホル
ム、ブタノール等の有機溶媒で抽出し、抽出液は硫酸ナ
トリウム、硫酸マグネシウム、塩化カルシウム等で乾燥
した後、濃縮して反応に用いた塩基と溶媒を除去する
と、目的の分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化
合物（Ｃ）が純度よく得られ好ましい。
すことにより、目的の分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物（Ｃ）が得られる。さらに、反応終了
後、反応液を蒸留、再結晶し、反応に用いた塩基と溶媒
を除去すると、目的の分子中にオキセタニル基と水酸基
を有する化合物（Ｃ）が純度よく得られ好ましい。また
は、反応液を水中に分散させ、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、酢酸
エチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホル
ム、ブタノール等の有機溶媒で抽出し、抽出液は硫酸ナ
トリウム、硫酸マグネシウム、塩化カルシウム等で乾燥
した後、濃縮して反応に用いた塩基と溶媒を除去する
と、目的の分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化
合物（Ｃ）が純度よく得られ好ましい。
【００３４】以上の操作によって得られた化合物（Ｃ）
中に、副生するオリゴマーなどが含まれている場合があ
るが、硬化特性に大きな影響はなく、特に分離精製する
必要はない。しかし、必要に応じて、蒸留、再結晶、再
沈殿、カラムクロマトグラフィー等、生成物の物性に合
わせた方法を用いて精製してもよい。
中に、副生するオリゴマーなどが含まれている場合があ
るが、硬化特性に大きな影響はなく、特に分離精製する
必要はない。しかし、必要に応じて、蒸留、再結晶、再
沈殿、カラムクロマトグラフィー等、生成物の物性に合
わせた方法を用いて精製してもよい。
【００３５】本発明で製造される個々の化合物は、赤外
吸収スペクトル（ＩＲ）、核磁気共鳴スペクトル（ＮＭ
Ｒ）、質量スペクトル（ＭＳ）などの手段により確認す
ることができる。
吸収スペクトル（ＩＲ）、核磁気共鳴スペクトル（ＮＭ
Ｒ）、質量スペクトル（ＭＳ）などの手段により確認す
ることができる。
【００３６】このようにして、分子中にオキセタニル基
と水酸基を有する化合物（Ｃ）を簡便に、効率よく製造
することができる。
と水酸基を有する化合物（Ｃ）を簡便に、効率よく製造
することができる。
【００３７】本発明で製造される分子中にオキセタニル
基と水酸基を有する化合物は、熱硬化性組成物あるいは
光硬化性組成物を構成する反応性化合物として応用する
ことができる。また、塗料、接着剤、電気・電子材料、
半導体材料、光学材料、光ファイバー、光導波路、単層
および多層配線板材料、レジスト、ドライフィルムレジ
スト等、多種多様な用途に応用することができる。
基と水酸基を有する化合物は、熱硬化性組成物あるいは
光硬化性組成物を構成する反応性化合物として応用する
ことができる。また、塗料、接着剤、電気・電子材料、
半導体材料、光学材料、光ファイバー、光導波路、単層
および多層配線板材料、レジスト、ドライフィルムレジ
スト等、多種多様な用途に応用することができる。
【００３８】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 （実施例１） １−｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝
−２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロパン（I）の合
成
る。 （実施例１） １−｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝
−２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロパン（I）の合
成
【化１４】
【００３９】１Ｌ反応容器を乾燥窒素で置換し、水素化
ナトリウム（６０％油性）８．０ｇ（０．２ｍｏｌ）お
よびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｍｌを加え、
この溶液を１０℃に冷却した。そこへ、３−エチル−３
−（ヒドロキシメチル）オキセタン２３ｇ（０．２ｍｏ
ｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液を
ゆっくりと加えた後、反応混合物を１０℃で３０分間か
く拌した。その後、フェニルグリシジルエーテル３０ｇ
（０．２ｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０
０ｍｌ溶液を滴下し、反応液を３０℃に昇温しながら乾
燥窒素気流下４時間撹拌した。反応液を水中に投じ、ク
ロロホルムで抽出した。抽出液は無水硫酸ナトリウム上
で乾燥し、濃縮した。残渣を蒸留することによって、１
−｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝−
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロパン（I）（沸点
１８０℃／１．３×１０2Ｐａ）４８ｇを得た（収率９
１％）。
ナトリウム（６０％油性）８．０ｇ（０．２ｍｏｌ）お
よびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｍｌを加え、
この溶液を１０℃に冷却した。そこへ、３−エチル−３
−（ヒドロキシメチル）オキセタン２３ｇ（０．２ｍｏ
ｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液を
ゆっくりと加えた後、反応混合物を１０℃で３０分間か
く拌した。その後、フェニルグリシジルエーテル３０ｇ
（０．２ｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０
０ｍｌ溶液を滴下し、反応液を３０℃に昇温しながら乾
燥窒素気流下４時間撹拌した。反応液を水中に投じ、ク
ロロホルムで抽出した。抽出液は無水硫酸ナトリウム上
で乾燥し、濃縮した。残渣を蒸留することによって、１
−｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝−
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロパン（I）（沸点
１８０℃／１．３×１０2Ｐａ）４８ｇを得た（収率９
１％）。
【００４０】（実施例２） ３，３，１８，１８−ビス（３−オキサシクロブチリデ
ン）−７，１４−ジヒドロキシ−５，９，１２，１６−
テトラオキサイコサン（II）の合成
ン）−７，１４−ジヒドロキシ−５，９，１２，１６−
テトラオキサイコサン（II）の合成
【００４１】
【化１５】
【００４２】５００ｍｌ反応容器を乾燥窒素で置換し、
水素化ナトリウム（６０％油性）０．８８ｇ（２２ｍｍ
ｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌを加
え、この懸濁液を１０℃に冷却した。そこへ、３−エチ
ル−３−（ヒドロキシメチル）オキセタン２．６ｇ（２
２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ
溶液をゆっくりと加えた後、反応混合物を１０℃で３０
分間かく拌した。その後、エチレングリコールジグリシ
ジルエーテル１．７ｇ（１０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５０ｍｌ溶液を滴下し、反応液を４０
℃に昇温しながら乾燥窒素気流下４時間撹拌した。反応
液を水中に投じ、クロロホルムで抽出した。抽出液は無
水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、３，
３，１８，１８−ビス（３−オキサシクロブチリデン）
−７，１４−ジヒドロキシ−５，９，１２，１６−テト
ラオキサイコサン（II）２．８ｇを得た（収率７０
％）。得られた化合物の赤外線吸収スペクトルを図１
に、ＮＭＲスペクトルを図２に、13ＣＮＭＲスペクトル
を図３にそれぞれ示した。図１の（ａ）で示す部分にＯ
Ｈ伸縮振動に基づく吸収、（ｂ）で示す部分にオキセタ
ン環のＣ−Ｏ−Ｃ変角振動に基づく吸収が観察された。
また、図２、３に示したＮＭＲスペクトルにおいて、図
中に示す化合物の位置に対応した位置にスペクトルが見
られ、上記の化合物であると同定される。
水素化ナトリウム（６０％油性）０．８８ｇ（２２ｍｍ
ｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌを加
え、この懸濁液を１０℃に冷却した。そこへ、３−エチ
ル−３−（ヒドロキシメチル）オキセタン２．６ｇ（２
２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ
溶液をゆっくりと加えた後、反応混合物を１０℃で３０
分間かく拌した。その後、エチレングリコールジグリシ
ジルエーテル１．７ｇ（１０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５０ｍｌ溶液を滴下し、反応液を４０
℃に昇温しながら乾燥窒素気流下４時間撹拌した。反応
液を水中に投じ、クロロホルムで抽出した。抽出液は無
水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、３，
３，１８，１８−ビス（３−オキサシクロブチリデン）
−７，１４−ジヒドロキシ−５，９，１２，１６−テト
ラオキサイコサン（II）２．８ｇを得た（収率７０
％）。得られた化合物の赤外線吸収スペクトルを図１
に、ＮＭＲスペクトルを図２に、13ＣＮＭＲスペクトル
を図３にそれぞれ示した。図１の（ａ）で示す部分にＯ
Ｈ伸縮振動に基づく吸収、（ｂ）で示す部分にオキセタ
ン環のＣ−Ｏ−Ｃ変角振動に基づく吸収が観察された。
また、図２、３に示したＮＭＲスペクトルにおいて、図
中に示す化合物の位置に対応した位置にスペクトルが見
られ、上記の化合物であると同定される。
【００４３】
【発明の効果】１−｛（３−エチルオキセタン−３−イ
ル）メトキシ｝−２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロ
パン（I）は、下記式（３）で表される［｛（オキセタ
ン−３−イル）メトキシ｝メチル］オキシランと、フェ
ノールを反応させることによっても得られる（特開平１
０−２０４０７２号公報参照）。この報告には化合物
（I）が収率８７％で得られると記載されている。しか
し、この報告の方法では、予め式（３）に示される
［｛（オキセタン−３−イル）メトキシ｝メチル］オキ
シランを調製する必要があり、本発明の合成法と比較し
て、工程数が一段多いため操作が煩雑になり、また、総
収率も低くなる。また、反応温度も本発明の製造方法を
用いれば、低く抑えることができる。
ル）メトキシ｝−２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロ
パン（I）は、下記式（３）で表される［｛（オキセタ
ン−３−イル）メトキシ｝メチル］オキシランと、フェ
ノールを反応させることによっても得られる（特開平１
０−２０４０７２号公報参照）。この報告には化合物
（I）が収率８７％で得られると記載されている。しか
し、この報告の方法では、予め式（３）に示される
［｛（オキセタン−３−イル）メトキシ｝メチル］オキ
シランを調製する必要があり、本発明の合成法と比較し
て、工程数が一段多いため操作が煩雑になり、また、総
収率も低くなる。また、反応温度も本発明の製造方法を
用いれば、低く抑えることができる。
【化１６】
【００４４】請求項１記載の発明は、速い硬化性と密着
性に優れた、様々な骨格を持つ分子中にオキセタニル基
と水酸基を有する化合物を合成する製造方法を提供する
ものである。請求項２記載の発明は、速い硬化性と密着
性に優れた、分子中にオキセタニル基と水酸基を有する
化合物を簡便に収率よく合成する製造方法を提供するも
のである。請求項３記載の発明は、塩基の存在下で、様
々な骨格を持つ分子中にオキセタニル基と水酸基を有す
る化合物を収率よく合成する製造方法を提供するもので
ある。請求項４記載の発明は、請求項１〜３記載の発明
に加えて、適度な架橋密度を持つ硬化物を与える、分子
中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物を簡便に収
率よく合成する製造方法を提供するものである。請求項
５記載の発明は、請求項１〜４記載の発明に加えて、保
存安定性の高い組成物および硬化物を与える、分子中に
オキセタニル基と水酸基を有する化合物を簡便に収率よ
く合成する製造方法を提供するものである。請求項６記
載の発明は副反応を抑制し、水での加熱を可能にし、危
険が少なく、汎用の設備で合成でき、エネルギー消費量
が低減できる分子中にオキセタニル基と水酸基を有する
化合物を簡便に収率よく合成する製造方法を提供するも
のである。
性に優れた、様々な骨格を持つ分子中にオキセタニル基
と水酸基を有する化合物を合成する製造方法を提供する
ものである。請求項２記載の発明は、速い硬化性と密着
性に優れた、分子中にオキセタニル基と水酸基を有する
化合物を簡便に収率よく合成する製造方法を提供するも
のである。請求項３記載の発明は、塩基の存在下で、様
々な骨格を持つ分子中にオキセタニル基と水酸基を有す
る化合物を収率よく合成する製造方法を提供するもので
ある。請求項４記載の発明は、請求項１〜３記載の発明
に加えて、適度な架橋密度を持つ硬化物を与える、分子
中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物を簡便に収
率よく合成する製造方法を提供するものである。請求項
５記載の発明は、請求項１〜４記載の発明に加えて、保
存安定性の高い組成物および硬化物を与える、分子中に
オキセタニル基と水酸基を有する化合物を簡便に収率よ
く合成する製造方法を提供するものである。請求項６記
載の発明は副反応を抑制し、水での加熱を可能にし、危
険が少なく、汎用の設備で合成でき、エネルギー消費量
が低減できる分子中にオキセタニル基と水酸基を有する
化合物を簡便に収率よく合成する製造方法を提供するも
のである。
【図１】 実施例２で得られた化合物の赤外線吸収スペ
クトル。
クトル。
【図２】 実施例２で得られた化合物のＮＭＲスペクト
ル。
ル。
【図３】 実施例２で得られた化合物の13ＣＮＭＲスペ
クトル。
クトル。
フロントページの続き (72)発明者 西山 信乃 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 4C048 TT02 UU03 XX02 4J036 AA01 AA02 AB01 AB02 AB03 AB09 AB10 AB15 AB20 AC01 AC08 AD01 AD08 AD09 AD12 AD15 AD21 AE05 AF06 AG04 AG07 AH01 AH06 AJ01 AJ09 CA02 CA28 JA00 JA01 JA06
Claims (6)
- 【請求項１】 非フェノール性水酸基またはメルカプト
基を有するオキセタン類（Ａ）の水酸基またはメルカプ
ト基とオキシラン類（Ｂ）を反応させることを特徴とす
る分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物
（Ｃ）の製造方法。 - 【請求項２】 オキセタン類（Ａ）として、下記一般式
（１）で表されるオキセタン類を用いることを特徴とす
る請求項１に記載の分子中にオキセタニル基と水酸基を
有する化合物（Ｃ）の製造方法。 【化１】 （式中Ｑは、酸素または硫黄原子を示し、Ｒ1は水素原
子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のパーフ
ルオルアルキル基、アリル基を示し、ｎは０〜６の整数
を示す。） - 【請求項３】 塩基の存在下で反応させることを特徴と
する請求項１または請求項２に記載の分子中にオキセタ
ニル基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の製造方法。 - 【請求項４】 オキシラン類（Ｂ）として分子中に１〜
４個のオキシラン環を有するオキシラン類を用いること
を特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載
の分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物
（Ｃ）の製造方法。 - 【請求項５】 オキシラン類（Ｂ）として、エポキシ当
量が４３から１０００のオキシラン化合物を用いること
を特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載
の分子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物
（Ｃ）の製造方法。 - 【請求項６】 反応温度が１００℃以下であることを特
徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の分
子中にオキセタニル基と水酸基を有する化合物（Ｃ）の
製造方法。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008019384A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Dainippon Ink & Chem Inc | ウレタン系床材 |
| WO2019019924A1 (zh) * | 2017-07-27 | 2019-01-31 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种氧杂环丁烷类单体化合物及其制备方法 |
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| WO2022206516A1 (zh) * | 2021-04-02 | 2022-10-06 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 氧杂环丁烷类聚合物、制备方法、应用及能量固化组合物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1036077A (en) * | 1963-07-24 | 1966-07-13 | Dow Corning | Silanes and siloxanes |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59144737A (ja) * | 1983-02-08 | 1984-08-18 | Taiho Yakuhin Kogyo Kk | グリセロ−ル誘導体 |
| JPH04282335A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | Nippon Paint Co Ltd | β−ヒドロキシエーテル化合物の製造法 |
| JP3307260B2 (ja) * | 1997-01-21 | 2002-07-24 | 東亞合成株式会社 | オキセタニル基を有する化合物およびその製造方法 |
| JP4003264B2 (ja) * | 1997-10-23 | 2007-11-07 | 東亞合成株式会社 | オキセタニル基を有する化合物およびその製造方法ならびに該化合物からなる活性エネルギー線硬化型組成物 |
| JPH11315043A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-16 | Lion Corp | ヒドロキシエーテル化合物の製造方法及び洗浄剤組成物 |
-
2000
- 2000-04-27 JP JP2000132881A patent/JP4655173B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1036077A (en) * | 1963-07-24 | 1966-07-13 | Dow Corning | Silanes and siloxanes |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008019384A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Dainippon Ink & Chem Inc | ウレタン系床材 |
| US10906882B2 (en) | 2016-07-13 | 2021-02-02 | Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. | Polyfunctional oxetane-based compound and production method thereof |
| WO2019019924A1 (zh) * | 2017-07-27 | 2019-01-31 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种氧杂环丁烷类单体化合物及其制备方法 |
| CN109305947A (zh) * | 2017-07-27 | 2019-02-05 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种氧杂环丁烷类单体化合物及其制备方法 |
| WO2022206516A1 (zh) * | 2021-04-02 | 2022-10-06 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 氧杂环丁烷类聚合物、制备方法、应用及能量固化组合物 |
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