JP2001240658A - 開環メタセシス重合体水素化物の製造方法 - Google Patents
開環メタセシス重合体水素化物の製造方法Info
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Abstract
重合体の水素化を連続的に行うに際し、工業的に有利
で、しかも高い水素化率を示す開環メタセシス重合体水
素化物の製造方法を提供する。 【解決手段】 環状オレフィンを開環メタセシス重合し
た後、生成した開環メタセシス重合体の炭素−炭素二重
結合の少なくとも一部を水素化する開環メタセシス重合
体水素化物の製造方法において、ルテニウムに少なくと
も1つのヘテロ原子含有カルベン化合物が配位してなる
錯体を用いて開環メタセシス重合を行い、次いで新たに
水素化触媒を反応系内に加えることなく、重合体を水素
化する。
Description
シス重合体水素化物の製造方法に関し、さらに詳しく
は、環状オレフィンを開環メタセシス重合した後、水素
化して開環メタセシス重合体水素化物を製造する方法に
関する。
用いる環状オレフィンのメタセシス開環重合方法がよく
知られている。かかるメタセシス触媒の中心金属として
は、周期表第6族のWやMoのほか、Nb、Ta、R
e、Zr、Ti、Ru、Os、Irなどが知られてい
る。そのなかでもルテニウムを含む触媒系は、水やアル
コールなどの触媒失活成分の影響を受けにくいという特
長を有している。
系触媒の改良が行われており、ホスフィン配位子を有す
るルテニウムカルベン化合物が環状オレフィンの重合触
媒として優れた活性を示すことが報告されている(特表
平9−512828号公報)。さらに、N−ヘテロ環カ
ルベン配位子を有するルテニウムカルベン化合物も環状
オレフィンに高い重合活性を示すことが報告されている
(WO99/51344号公報)。
状オレフィンをメタセシス重合した後、反応系内にルテ
ニウム化合物を添加し、これを水素化触媒として水素雰
囲気下において重合体中の炭素−炭素二重結合を水素化
する開環メタセシス重合体水素化物の製造方法が報告さ
れている(特開平7−149823号公報、特開平11
−158256号公報、特開平11−209460号公
報など)。かかる環状オレフィンの重合工程と重合体の
水素化工程を連続的に行う方法は、従来の開環メタセシ
ス重合体水素化物の製造プロセスを簡略化する方法とし
て注目されているが、重合工程と水素化工程では別種の
金属触媒を用いる点で未だ改良の余地があった。
−195182号公報には、重合触媒としてルテニウム
化合物を用いて環状オレフィンを重合した後、あらたに
水素化触媒を添加することなく、単一の触媒で炭素−炭
素二重結合を水素化する方法が報告されている。該公報
によれば、配位子としてトリメチルホスフィン、トリエ
チルホスフィン、トリフェニルホスフィンまたはトリシ
クロヘキシルホスフィンのような中性電子供与体が2つ
配位したルテニウム−ベンジリデン化合物を重合および
水素化の触媒として使用している。すなわち、2つのホ
スフィン類が配位したルテニウム−ベンジリデン化合物
を用いて環状オレフィンを重合した後、エチルビニルエ
ーテルに代表される改質剤を添加して重合停止し、次い
で水素圧力下で重合体を水素化している。
82号公報に開示されるルテニウム−ベンジリデン化合
物は、重合中及び重合後の溶媒中において、特に高温条
件下では不安定であるため、十分満足のいく水素化活性
を示さなかったり、改質剤を添加するタイミングによっ
ては水素化活性が大きく変動してしまうという問題点が
あった。また、比較的多量の触媒を使用するために、触
媒コストの上昇を招き工業的に有利な方法とは言えなか
った。
を解決し、少量で高活性な単一触媒で、環状オレフィン
の開環メタセシス重合および重合物の水素化を行い、工
業的有利に開環メタセシス重合体水素化物を製造する方
法を提供することにある。
を達成するために鋭意研究を行った結果、特定な配位子
を有するルテニウムカルベン化合物を重合触媒として使
用すると、重合後も溶液中で安定なため、水素化触媒と
しても高い活性を保ったままで重合体を水素化できるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
を開環メタセシス重合した後、生成した開環メタセシス
重合体の炭素−炭素二重結合の少なくとも一部を水素化
する開環メタセシス重合体水素化物の製造方法におい
て、重合段階の触媒として、ルテニウムに少なくとも1
つのヘテロ原子含有カルベン化合物が配位してなる錯体
を用いて開環メタセシス重合を行い、次いで新たに水素
化触媒を反応系内に加えることなく、水素化することを
特徴とする開環メタセシス重合体水素化物の製造方法が
提供される。本発明の製造方法は、開環メタセシス重合
体の炭素−炭素二重結合の少なくとも98%を飽和させ
るのに好ましく適用される。
いて、項目に分けて以下に説明する。
は、ルテニウムに少なくとも1つのヘテロ原子含有カル
ベン化合物が配位してなる錯体であれば特に限定されな
いが、通常、下記一般式[1]または[2]で表わされ
るルテニウムカルベン錯体である。
立に水素、またはハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、
硫黄原子、リン原子、けい素原子を含んでもよいC1〜
C20の炭化水素基を示す。X1およびX2は、互いに
独立に任意のアニオン性配位子を示す。L1はヘテロ原
子含有カルベン化合物を示し、L2はヘテロ原子含有カ
ルベン化合物または任意の中性の電子供与性化合物を示
す。R1、R2、X1、X2、L1、L2の2個、3
個、4個、5個、6個は互いに結合して多座キレート化
配位子を形成してもよい。)
は、周期律表第15族および第16族の原子のことで、
具体的には、N、O、P、S、As、Se原子などを挙
げることができる。なかでもN、O,P,S原子が安定
なカルベン化合物を得るためには好ましく、N原子が特
に好ましい。
基を有する化合物の総称であり、(>C:)で表される
ような電荷のない2価の炭素原子を持つ化合物のことで
ある。一般的にカルベンは、反応中に生じる不安定な中
間体として存在するが、ヘテロ原子を有すると比較的安
定なカルベン化合物として単離することができる。
は、下記式[3]または[4]で示される化合物が挙げ
られる。
水素、またはハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄
原子、リン原子、けい素原子を含んでもよいC1〜C
20の炭化水素基を示す。)
ジイソプロピルイミダゾリジン−2−イリデン、1,3
−ジシクロヘキシルイミダゾリジン−2−イリデン、
1,3−ジ(メチルフェニル)イミダゾリジン−2−イ
リデン、1,3−ジ(メチルナフチル)イミダゾリジン
−2−イリデン、1,3−ジメシチルイミダゾリジン−
2−イリデン、1,3−ジアダマンチルイミダゾリジン
−2−イリデン、1,3−ジフェニルイミダゾリジン−
2−イリデン、1,3,4,5−テトラメチルイミダゾ
リジン−2−イリデンなどが挙げられる。
イソプロピル−4−イミダゾリン−2−イリデン、1,
3−ジシクロヘキシル−4−イミダゾリン−2−イリデ
ン、1,3−ジ(メチルフェニル)−4−イミダゾリン
−2−イリデン、1,3−ジ(メチルナフチル)−4−
イミダゾリン−2−イリデン、1,3−ジメシチル−4
−イミダゾリン−2−イリデン、1,3−ジアダマンチ
ル−4−イミダゾリン−2−イリデン、1,3−ジフェ
ニル−4−イミダゾリン−2−イリデン、1,3,4,
5−テトラメチル−4−イミダゾリン−2−イリデン、
1,3,4,5−テトラフェニル−4−イミダゾリン−
2−イリデンなどが挙げられる。
る化合物のほかに、1,3,4−トリフェニル−2,
3,4,5−テトラヒドロ−1H−1,2,4−トリア
ゾール−5−イリデン、3−(2,6−ジイソプロピル
フェニル)−2,3,4,5−テトラヒドロチアゾール
−2−イリデン、1,3−ジシクロヘキシルヘキサヒド
ロピリミジン−2−イリデン、N,N,N’,N’−テ
トライソプロピルホルムアミジニリデン、1,3,4−
トリフェニル−4,5−ジヒドロ−1H−1,2,4−
トリアゾール−5−イリデン、3−(2,6−ジイソプ
ロピルフェニル)−2,3−ジヒドロチアゾール−2−
イリデンなどのヘテロ原子含有カルベン化合物も挙げる
ことができる。
カルベンに隣接するヘテロ原子が嵩高い置換基を有する
飽和環状化合物、具体的には1,3−ジイソプロピルイ
ミダゾリジン−2−イリデン、1,3−ジシクロヘキシ
ルイミダゾリジン−2−イリデン、1,3−ジ(メチル
フェニル)イミダゾリジン−2−イリデン、1,3−ジ
(メチルナフチル)イミダゾリジン−2−イリデン、
1,3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン、
1,3−ジアダマンチルイミダゾリジン−2−イリデ
ン、1,3−ジフェニルイミダゾリジン−2−イリデ
ン、1,3,4,5−テトラフェニルイミダゾリジン−
2−イリデン、1,3,4−トリフェニル−2,3,
4,5−テトラヒドロ−1H−1,2,4−トリアゾー
ル−5−イリデン、3−(2,6−ジイソプロピルフェ
ニル)−2,3,4,5−テトラヒドロチアゾール−2
−イリデン、1,3−ジシクロヘキシルヘキサヒドロピ
リミジン−2−イリデンが特に好ましい。
オン)性配位子X1、X2は、中心金属から引き離され
たときに負の電荷を持つ配位子であればいかなるもので
もよい。例えば、F、Br、Cl、Iなどのハロゲン原
子、水素、アセチルアセトナト基、ジケトネート基、置
換シクロペンタジエニル基、置換アリル基、アルケニル
基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、
アルキルまたはアリールスルフォネート基、アルキルチ
オ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アルキルス
ルホニル基、アルキルスルフィニル基などを挙げること
ができる。好ましくはハロゲン原子であり、より好まし
くは塩素原子である。
属から引き離されたときに中性の電荷を持つ配位子、す
なわちルイス塩基であればいかなるものでもよい。その
具体例としては、酸素、水、カルボニル、アミン類、ピ
リジン類、エ−テル類、ニトリル類、エステル類、ホス
フィン類、ホスフィナイト類、ホスファイト類、スチビ
ン類、スルホキシド類、チオエーテル類、アミド類、芳
香族化合物、環状ジオレフィン類、オレフィン類、イソ
シアニド類、チオシアネ−ト類などが挙げられる。好ま
しくはホスフィン類であり、特にトリアルキルホスフィ
ンであって、そのアルキル基の少なくとも一つが第2級
アルキル基あるいはシクロアルキル基であるものが好ま
しい。
ては、水素、C2〜C20アルケニル基、C2〜C20ア
ルキニル基、C1〜C20アルキル基、アリール基、カ
ルボキシル基、C2〜C20アルケニルオキシ基、C2
〜C20アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、C2
〜C20アルコキシカルボニル基、C1〜C20アルキル
チオ基、アリールチオ基、C1〜C20アルキルスルホ
ニル基、C1〜C20アルキルスルフィニル基などが挙
げられる。
ては、例えば、(1,3−ジシクロヘキシルイミダゾリ
ジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィ
ン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、(1,3−ジ
シクロヘキシル−4−イミダゾリン−2−イリデン)
(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニ
ウムジクロリド、[1,3−ジメシチルイミダゾリジン
−2−イリデン](トリシクロヘキシルホスフィン)ベ
ンジリデンルテニウムジクロリド、[1,3−ジメシチ
ルイミダゾリジン−2−イリデン](トリフェニルホス
フィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、[1,3
−ジメシチル−4−イミダゾリン−2−イリデン](ト
リシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウム
ジクロリド、[1,3−ジメシチル−4−イミダゾリン
−2−イリデン](トリフェニルホスフィン)ベンジリ
デンルテニウムジクロリド、[1,3−ジ(メチルフェ
ニル)イミダゾリジン−2−イリデン](トリシクロヘ
キシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリ
ド、[1,3−ジ(メチルナフチル)イミダゾリジン−
2−イリデン](トリシクロヘキシルホスフィン)ベン
ジリデンルテニウムジクロリド、[1,3,4,5−テ
トラフェニルイミダゾリジン−2−イリデン](トリシ
クロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジク
ロリド、[1,3−ジシクロヘキシルヘキサヒドロピリ
ミジン−2−イリデン](トリシクロヘキシルホスフィ
ン)ベンジリデンルテニウムジクロリドなどのヘテロ原
子含有カルベン化合物と中性の電子供与性化合物が配位
したルテニウム錯体化合物;
ジン−2−イリデン)ベンジリデンルテニウムジクロリ
ド、ビス(1,3−ジシクロヘキシルイミダゾリジン−
2−イリデン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビ
ス(1,3−ジイソプロピル−4−イミダゾリン−2−
イリデン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス
(1,3−ジシクロヘキシル−4−イミダゾリン−2−
イリデン)ベンジリデンルテニウムジクロリドなどの2
つのヘテロ原子含有カルベン化合物が配位したルテニウ
ム錯体化合物などが挙げられる。
ては、例えば、(1,3−ジシクロヘキシルイミダゾリ
ジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィ
ン)フェニルビニリデンルテニウムジクロリド、[1,
3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン](トリ
シクロヘキシルホスフィン)t−ブチルビニリデンルテ
ニウムジクロリド、[1,3−ジメシチル−4−イミダ
ゾリン−2−イリデン](トリシクロヘキシルホスフィ
ン)フェニルビニリデンルテニウムジクロリド、[1,
3−ジ(メチルフェニル)イミダゾリジン−2−イリデ
ン](トリシクロヘキシルホスフィン)t−ブチルビニ
リデンルテニウムジクロリド、[1,3−ジ(メチルナ
フチル)イミダゾリジン−2−イリデン](トリシクロ
ヘキシルホスフィン)フェニルビニリデンルテニウムジ
クロリド、[1,3,4,5−テトラフェニルイミダゾ
リジン−2−イリデン](トリシクロヘキシルホスフィ
ン)t−ブチルビニリデンルテニウムジクロリド、
[1,3−ジシクロヘキシルヘキサヒドロピリミジン−
2−イリデン](トリシクロヘキシルホスフィン)フェ
ニルビニリデンルテニウムジクロリドなどのヘテロ原子
含有カルベン化合物と中性の電子供与性化合物が配位し
たルテニウム錯体化合物;
ジン−2−イリデン)フェニルビニリデンルテニウムジ
クロリド、ビス(1,3−ジシクロヘキシルイミダゾリ
ジン−2−イリデン)t−ブチルビニリデンルテニウム
ジクロリド、ビス(1,3−ジイソプロピル−4−イミ
ダゾリン−2−イリデン)t−ブチルビニリデンルテニ
ウムジクロリド、ビス(1,3−ジシクロヘキシル−4
−イミダゾリン−2−イリデン)フェニルビニリデンル
テニウムジクロリドなどの2つのヘテロ原子含有カルベ
ン化合物が配位したルテニウム錯体化合物などが挙げら
れる。
される錯体化合物を、ジ−μ−クロロビス[(p−シメ
ン)クロロルテニウム]、ジ−μ−クロロビス[(p−
シメン)クロロオスミウム]、ジクロロ(ペンタメチル
シクロペンタジエニル)ロジウムダイマーなどの複核金
属錯体と反応させて得られる複核ルテニウム−カルベン
錯体化合物を用いてもよい。
おいて開環メタセシス重合に供されるモノマーは、環状
オレフィン類である。かかる環状オレフィン類として
は、(1)ノルボルネン類、ジシクロペンタジエン類、
テトラシクロドデセン類等のノルボルネン環を有する多
環の環状オレフィン類、(2)単環の環状オレフィン
類、などを使用することができ、これらの環状オレフィ
ン類は、アルキル基やアルケニル基、アルキリデン基な
どの置換基を有していてもよく、極性基を有していても
よい。また、ノルボルネン環の二重結合以外に、二重結
合をさらに有していてもよい。
性や溶解性に優れる開環メタセシス重合体の水素化物を
得るためには、ノルボルネン環を有する3環体〜6環体
の環状オレフィン類を使用するのが好ましく、ジシクロ
ペンタジエン類などの3環体の環状オレフィン類、また
はテトラシクロドデセン類などの4環体の環状オレフィ
ン類が特に好ましい。環状オレフィン類は単独でもニ種
以上を使用してもよい。
3環体の環状オレフィン類のことをいい、アルキル基や
アルケニル基、アルキリデン基などの置換基を有してい
てもよい。このようなジシクロペンタジエン類の具体例
としては、例えばジシクロペンタジエンやメチル−ジシ
クロペンタジエン等が挙げられ、ジシクロペンタジエン
の5員環部分の二重結合を飽和させたトリシクロ[4.
3.12,5.0]−デカ−3−エン等も挙げることが
できる。
る。
1〜3の炭化水素基またはハロゲン原子を示し、R13
〜R16は水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基また
はハロゲン原子、ケイ素原子、酸素原子もしくは窒素原
子を含む置換基を示し、R13とR16が結合して環を
形成してもよい。)
は、(a)ノルボルネン環以外に二重結合を有しないも
のとして、テトラシクロドデセン、8−メチルテトラシ
クロドデセン、8−エチルテトラシクロドデセン、8−
シクロヘキシルテトラシクロドデセン、8−シクロペン
チルテトラシクロドデセンなどのテトラシクロドデセン
および、これらのテトラシクドデセン類に置換基を有す
るものなどが挙げられ;
するものとして、8−メチリデンテトラシクロドデセ
ン、8−エチリデンテトラシクロドデセン、8−ビニル
テトラシクロドデセン、8−プロペニルテトラシクロド
デセン、8−シクロヘキセニルテトラシクロドデセン、
8−シクロペンテニルテトラシクロドデセンなどの環外
に二重結合を有するテトラシクロドデセン類などが挙げ
られ; (c)芳香環を有するものとして、8−フェニルテトラ
シクロドデセンなどが挙げられ;
メトキシカルボニルテトラシクロドデセン、8−メチル
−8−メトキシカルボニルテトラシクロドデセン、8−
ヒドロキシメチルテトラシクロドデセン、8−カルボキ
シテトラシクロドデセン、テトラシクロドデセン−8,
9−ジカルボン酸、テトラシクロドデセン−8,9−ジ
カルボン酸無水物などの酸素原子を含む置換基を有する
テトラシクロドデセン類;8−シアノテトラシクロドデ
セン、テトラシクロドデセン−8,9−ジカルボン酸イ
ミドなどの窒素原子を含む置換基を有するテトラシクロ
ドデセン類;8−クロロテトラシクロドデセンなどのハ
ロゲン原子を含む置換基を有するテトラシクロドデセン
類;8−トリメトキシシリルテトラシクロドデセンなど
のけい素原子を含む置換基を有するテトラシクロドデセ
ンが挙げられる。
フィン類 本発明においては、上記の環状オレフィン類以外に、そ
の他のノルボルネン環を有する環状オレフィン類を用い
ることもできる。
フィン類の具体例としては、ノルボルネン環を一つ有す
る2環体のものとしては、ノルボルネン、5−メチルノ
ルボルネン、5−エチルノルボルネン、5−n−ブチル
ノルボルネン、5−n−ヘキシルノルボルネン、5−n
−デシルノルボルネン、5−シクロヘキシルノルボルネ
ン、5−シクロペンチルノルボルネンなどのノルボルネ
ン類、およびこれらに対応するオキサノルボルネン類;
5−エチリデンノルボルネン、5−ビニルノルボルネ
ン、5−プロペニルノルボルネン、5−シクロヘキセニ
ルノルボルネン、5−シクロペンテニルノルボルネンな
どの環外に二重結合を有するノルボルネン類、およびこ
れらに対応するオキサノルボルネン類が挙げられ;
るものとして、ヘキサシクロヘプタデセン、12−メチ
ルヘキサシクロヘプタデセン、12−エチルヘキサシク
ロヘプタデセン、12−n−ブチルヘキサシクロヘプタ
デセン、12−n−ヘキシルヘキサシクロヘプタデセ
ン、12−n−デシルヘキサシクロヘプタデセン、12
−シクロヘキシルヘキサシクロヘプタデセン、12−シ
クロペンチルヘキサシクロヘプタデセン、12−エチリ
デンヘキサシクロヘプタデセン、12−ビニルヘキサシ
クロヘプタデセン、12−プロペニルヘキサシクロヘプ
タデセン、12−シクロへキセニルヘキサシクロヘプタ
デセン、12−シクロペンテニルヘキサシクロヘプタデ
センなどのヘキサシクロヘプタデセン類などが挙げられ
る。
して、5−フェニルノルボルネン、5−フェニルオキサ
ノルボルネン、1,4−メタノ−1,4,4a,9a−
テトラヒドロフルオレン、1,4−メタノ−1,4,4
a,5,10,10a−ヘキサヒドロアントラセンなど
が挙げられる。
−メトキシカルボニルノルボルネン、5−エトキシカル
ボニルノルボルネン、5−メチル−5−メトキシカルボ
ニルノルボルネン、5−メチル−5−エトキシカルボニ
ルノルボルネン、ノルボルネニル−2−メチルプロピオ
ネイト、ノルボルネニル−2−メチルオクタネイト、ノ
ルボルネン−5,6−ジカルボン酸無水物、5−ヒドロ
キシメチルノルボルネン、5,6−ジ(ヒドロキシメチ
ル)ノルボルネン、5,5−ジ(ヒドロキシメチル)ノ
ルボルネン、5−ヒドロキシ−イソプロピルノルボルネ
ン、5,6−ジカルボキシノルボルネン、5−メトキシ
カルボニル−6−カルボキシノルボルネンなどの酸素原
子を含む極性基を有するノルボルネン類;
ン、5−エトキシカルボニルオキサノルボルネン、5−
メチル−5−メトキシカルボニルオキサノルボルネン、
5−メチル−5−エトキシカルボニルオキサノルボルネ
ン、オキサノルボルネニル−2−メチルプロピオネイ
ト、オキサノルボルネニル−2−メチルオクタネイト、
オキサノルボルネン−5,6−ジカルボン酸無水物、5
−ヒドロキシメチルオキサノルボルネン、5,6−ジ
(ヒドロキシメチル)オキサノルボルネン、5,5−ジ
(ヒドロキシメチル)オキサノルボルネン、5−ヒドロ
キシ−イソプロピルオキサノルボルネン、5,6−ジカ
ルボキシオキサノルボルネン、5−メトキシカルボニル
−6−カルボキシオキサノルボルネンなどの酸素含有極
性基を有するオキサノルボルネン類;5−シアノノルボ
ルネン、ノルボルネン−5,6−ジカルボン酸イミドな
どの窒素含有極性基を有するノルボルネン類;5−シア
ノオキサノルボルネン、オキサノルボルネン−5,6−
ジカルボン酸イミドなどの窒素含有極性基を有するオキ
サノルボルネン類などが挙げられる。
オレフィン類を用いる場合は、中でも、耐熱性、溶解性
の観点から、ノルボルネン環と芳香環を有するものが好
ましく、前述のシクロペンタジエンやテトラシクロドデ
センなどに共重合させてもよい。
類 単環の環状オレフィン類又はジオレフィン類としては、
C4〜C20、好ましくはC4〜C10の環状オレフィ
ンまたはジオレフィンとこれらの誘導体が挙げられ、そ
れらの具体例としては、シクロブテン、シクロペンテ
ン、メチルシクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシ
クロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどの
特開昭64−66216号公報などに記載されている単
環の環状オレフィン系単量体;シクロヘキサジエン、メ
チルシクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、メチル
シクロオクタジエン、フェニルシクロオクタジエンなど
の特開平7−258318号公報などに記載されている
環状ジオレフィン系単量体を挙げることができる。
で、または2種以上を組み合わせて用いることができ
る。また、ジシクロペンタジエン類またはテトラシクロ
ドデセン類と、これらと共重合可能な環状オレフィンを
共重合することが好ましく、この場合ジシクロペンタジ
エン類またはテトラシクロドデセン類を、全単量体重量
に基づき、通常1〜100重量%用いればよいが、重合
体水素化物の耐熱性と、単量体の入手し易さの点から、
好ましくは10〜100重量%、より好ましくは20〜
100重量%用いられる。
よび重合体水素化物が所定の条件で溶解し、重合反応お
よび水素化反応に影響しないものであれば、特に限定さ
れない。本発明においては、重合反応を無溶媒で行うこ
ともできるが、重合後、連続して水素化反応を行うの
で、溶媒を使用するのが好ましい。
ヘキサン、ヘプタンなどの鎖状脂肪族炭化水素;シクロ
ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジ
メチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エ
チルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒ
ドロナフタレン、ビシクロヘプタン、トリシクロデカ
ン、ヘキサヒドロインデンシクロヘキサン、シクロオク
タンなどの脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素;ニトロメタン、ニトロベン
ゼン、アセトニトリルなどの含窒素炭化水素;ジエチル
エ−テル、テトラヒドロフランなどのエ−テルなどの溶
媒を使用することができる。これらの中では、工業的に
汎用な芳香族炭化水素や脂肪族炭化水素、脂環式炭化水
素が好ましい。重合および水素化反応時に不活性である
こと、重合体の溶解性に優れることなどの観点からは、
シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素系溶媒を使用する
ことが推奨される。
オレフィンに対する重合触媒の割合は、重合触媒中の金
属ルテニウム/環状オレフィンのモル比として、通常
1:100〜1:2,000,000、好ましくは1:
500〜1,000,000、より好ましくは1:1,
000〜1:500,000である。触媒量が多すぎる
と触媒除去が困難となり、少なすぎると十分な重合活性
が得られない。
定されないが、反応溶液中の環状オレフィンの濃度は、
通常1〜50重量%である。好ましくは2〜45重量
%、より好ましくは5〜40重量%である。環状オレフ
ィンの濃度が1重量%以下の場合は生産性が悪く、50
重量%以上の場合は重合後の溶液粘度が高すぎて、その
後の水素化反応が困難となる。
を混合することにより開始される。重合温度は特に制限
はないが、一般には、−30℃〜200℃、好ましくは
0℃〜180℃である。重合時間は、通常1分間〜10
0時間であり、特に制限はない。
節するために、ビニル基を有する化合物などの分子量調
節剤を反応溶液に予め添加する方法を採用することがで
きる。分子量調節に用いるビニル基を有する化合物は、
特に限定されないが、1−ブテン、1−ペンテン、1−
ヘキセン、1−オクテンなどのα−オレフィン類;スチ
レン、ビニルトルエンなどのスチレン類;エチルビニル
エーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジ
ルエーテルなどのエーテル類;アリルクロライドなどの
ハロゲン含有ビニル化合物;酢酸アリル、アリルアルコ
ール、グリシジルメタクリレートなど酸素含有ビニル化
合物、アクリルアミドなどの窒素含有ビニル化合物など
が挙げられる。ビニル化合物の使用量は、目的とする重
合体の分子量に応じて適宜選択することができる。通常
の使用量は、環状オレフィン類に対して0.1〜10モ
ル%の範囲である。
より上記のビニル化合物を再度添加して、ルテニウムカ
ルベン錯体を重合体末端からを遊離させることで、重合
停止させることができる。この重合停止法は、水素化工
程の触媒活性を向上させるために有用である。
量は、水素化工程を考慮すると、ゲルパーミエーション
・クロマトグラフィーによる測定(ポリスチレン換算)
で得られる数平均分子量(Mn)が、好ましくは1,0
00〜500,000であり、より好ましくは5,00
0〜200,000である。
タセシス重合体は、主鎖に炭素−炭素二重結合を有して
いるので、耐熱性、耐候性の観点から炭素−炭素二重結
合を水素化して飽和させる。この水素化反応では、重合
触媒として利用したルテニウムカルベン化合物をそのま
ま水素化触媒とし、新たに触媒を添加する必要はない。
また、反応溶媒も重合反応溶媒と同じで良く、重合反応
液を水素雰囲気にして反応させればよい。
ン化合物によって適する条件範囲が異なるが、反応温度
は通常−20℃〜250℃、好ましくは−10〜220
℃、より好ましくは0〜200℃である。水素圧力は、
通常0.1〜50kg/cm 2、好ましくは0.5〜4
0kg/cm2、より好ましくは1.0〜30kg/c
m2である。反応温度が低すぎると反応速度が遅く、高
すぎると副反応が起こる。また、水素圧力が低すぎると
水素化速度が遅くなり、高すぎると高耐圧反応装置が必
要となる。反応時間は特に限定されないが、通常0.1
〜10時間である。
されないが、重合体中の主鎖の炭素−炭素二重結合の6
0%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95
%以上、さらに好ましくは98%以上、特に好ましくは
99%以上を水素化することができる。
微量であるため、水素化反応後に触媒を除去する工程は
必要としないが、反応溶液を多量の貧溶媒に開けて固形
分を回収する方法、有機酸または無機酸の水溶液で洗浄
する方法、またはシリカゲル、アルミナ、活性炭などの
固体吸着剤に反応溶液を接触させる方法等の一般によく
知られている方法で、触媒残さを除去してもよい。
合体水素化物は、優れた光学特性、電気特性、機械特
性、耐熱特性および耐光性を有する樹脂として注目され
ている。
明をさらに具体的に説明する。実施例中の分子量は、開
環重合体の場合はテトラヒドロフランを溶媒とするゲル
パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によ
るポリスチレン換算値として測定した。開環重合体水素
化物の場合はシクロヘキサンを溶媒とするゲル・パーミ
エーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリ
イソプレン換算値として測定した。水素化率は、1H−
NMRスペクトルにより測定した。
1.0重量部、エチルテトラシクロドデセン9.0重量
部、1−ヘキセン0.26重量部およびシクロヘキサン
90.0重量部を加えた。続いて、テトラヒドロフラン
30.0重量部に溶解したビス(1,3−ジイソプロピ
ルイミダゾリン−2−イリデン)ベンジリデンルテニウ
ムジクロリド0.012重量部を添加して、80℃で重
合を行った。1時間後、エチルビニルエーテル1.0重
量部を添加して、15分間攪拌後、1.0MPaの水素
圧下、150℃で5時間水素化反応を行った。反応液を
室温に戻した後、多量のイソプロパノールに滴下してポ
リマーを析出させた。濾別洗浄後、40℃で40時間減
圧乾燥した。得られた開環重合体水素化物の収量は2
9.5重量部で、分子量(ポリイソプレン換算)は、数
平均分子量(Mn)=11,500、重量平均分子量
(Mw)=25,500で、NMRにより測定した水素
化率は92%であった。
デン)ベンジリデンルテニウムジクロリド0.012重
量部に代えてビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベ
ンジリデンルテニウムジクロリド0.017重量部を用
いた以外は、実施例1と同様にして重合した。得られた
開環重合体水素化物の収量は29.0重量部で、分子量
(ポリイソプレン換算)は、数平均分子量(Mn)=1
2,300、重量平均分子量(Mw)=36,800
で、水素化率は43%であった。
デン)ベンジリデンルテニウムジクロリド0.012重
量部に代えて(1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−
イリデン](トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリ
デンルテニウムジクロリド0.0012重量部を用いた
以外は、実施例1と同様にして重合した。得られた開環
重合体水素化物の収量は29.6重量部で、分子量(ポ
リイソプレン換算)は、数平均分子量(Mn)=10,
300、重量平均分子量(Mw)=27,200で、水
素化率は99%以上であった。
のヘテロ原子含有カルベン化合物が配位した錯体からな
る触媒を用いて、環状オレフィンの開環メタセシス重合
および重合体の水素化を連続的に行うと、従来のルテニ
ウム錯体触媒と比較して、一段と高い水素化触媒活性が
得られ、しかも水素化物は高い水素化率を示すという効
果を奏する。
Claims (2)
- 【請求項1】 環状オレフィンを開環メタセシス重合し
た後、生成した開環メタセシス重合体の炭素−炭素二重
結合の少なくとも一部を水素化する開環メタセシス重合
体水素化物の製造方法において、 重合段階の触媒として、ルテニウムに少なくとも1つの
ヘテロ原子含有カルベン化合物が配位してなる錯体を用
いて開環メタセシス重合を行い、次いで新たに水素化触
媒を反応系内に加えることなく、水素化することを特徴
とする開環メタセシス重合体水素化物の製造方法。 - 【請求項2】 開環メタセシス重合体の炭素−炭素二重
結合の少なくとも98%を飽和させる請求項1記載の製
造方法。
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