JP2001214147A - 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤 - Google Patents

多層プリント配線板用層間絶縁接着剤

Info

Publication number
JP2001214147A
JP2001214147A JP2000021376A JP2000021376A JP2001214147A JP 2001214147 A JP2001214147 A JP 2001214147A JP 2000021376 A JP2000021376 A JP 2000021376A JP 2000021376 A JP2000021376 A JP 2000021376A JP 2001214147 A JP2001214147 A JP 2001214147A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin
interlayer insulating
molecular weight
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000021376A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4337204B2 (ja
Inventor
Toshiro Komiyakoku
寿郎 小宮谷
Masao Kamisaka
政夫 上坂
Masataka Arai
政貴 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2000021376A priority Critical patent/JP4337204B2/ja
Publication of JP2001214147A publication Critical patent/JP2001214147A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4337204B2 publication Critical patent/JP4337204B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ファインピッチ回路に対応するためには回路
加工時、部品実装時の精度を維持するために耐熱性、低
熱膨張率化が必要であり、回路層間の絶縁樹脂厚のバラ
ツキが小さくい多層プリント配線板を提供すること。 【解決手段】 下記の各成分を必須成分として含有する
ことを特徴とする多層プリント配線板用層間絶縁接着
剤。(イ)重量平均分子量103〜105の硫黄成分含有
熱可塑性樹脂、(ロ)重量平均分子量103〜105のビ
スフェノールS骨格とビフェニル骨格を有するエポキシ
樹脂またはフェノキシ樹脂、(ハ)重量平均分子量10
00以下の多官能エポキシ樹脂、及び(ニ)エポキシ硬
化剤

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は層間絶縁樹脂接着剤
に関し、特に熱特性に優れ、層間絶縁層厚を一定に確保
でき、難燃性のエポキシ樹脂系層間絶縁接着剤に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、多層プリント配線板を製造する場
合、回路が形成された内層回路基板上のガラスクロスに
エポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグを1枚
以上重ね、更にその上に銅箔を重ね熱板プレスにて加圧
一体成形するという工程を経ている。かかる方法では、
多層積層におけるプリプレグと銅箔をセットする工程、
及びプリプレグのコスト等により高コストとなってい
る。また、成形時、加熱加圧により樹脂をフローさせて
内層回路を埋め込み、さらに樹脂のフローによりボイド
を追い出すため、回路層間の絶縁樹脂厚みを一定に保つ
のが難しい。加えて、回路層間にガラスクロスが存在す
る場合、ガラスクロスへの樹脂の含浸性が良くないと吸
湿性、銅のマイグレーション等の悪影響がでる場合があ
る。
【0003】近年、これらの問題を解決するため、既存
のプレス設備を用い回路層間の絶縁層にガラスクロスを
用いないで多層プリント配線板を製造する技術が改めて
注目されている。また、最近は携帯電話基板やパソコン
のマザーボード基板でさえフリップチップ実装が行われ
たり、また搭載チップの高機能化により端子数が増大す
ることによりファインピッチの回路とするために耐熱性
が求められている。これに加えて、ハロゲン化合物を使
用しない等、環境対応型材料であることが求められてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ビルドアップ方式によ
る多層プリント配線板において、ファインピッチ回路に
対応するためには回路加工時、部品実装時の精度を維持
するために、層間絶縁剤の耐熱性、低熱膨張率化が必要
である。従来タイプのものでは、ガラス転位点が120
℃程度のものが多く絶縁層でのデラミネーションなどが
起こる問題がある。
【0005】さらにはエポキシ樹脂等に代表される熱硬
化性樹脂はその優れた特性から、プリント配線板をはじ
めとする電気・電子機器部品に広く使用されており、火
災に対する安全性を確保するために難燃性が付与されて
いる場合が多い。これらの樹脂の難燃化は従来、臭素化
エポキシ樹脂等のハロゲン含有化合物を用いることが一
般的であった。これらのハロゲン含有化合物は高度な難
燃性を有するが、芳香族臭素化合物は熱分解すると腐食
性の臭素、臭化水素を分離するだけでなく、酸素存在下
で分解した場合に毒性の高いポリブロムジベンゾフラ
ン、及びポリジブロモベンゾオキシンといったいわゆる
ダイオキシン類を形成する可能性がある。また、臭素を
含有する老朽廃材の処分は困難である。このような理由
から臭素含有難燃剤に代わる難燃剤として最近ではリン
化合物や窒素化合物などが検討されている。しかしなが
らリン化合物も埋め立て廃棄の際に溶出による河川、土
壌の汚染が懸念されている。また、リン成分を樹脂骨格
に組み込むとその性質上、固くて脆い硬化物が得られる
が、本発明が使用されるような数10μmという厚みに
おいては強度や耐衝撃性(落下時の衝撃)等で問題とな
ることが多い。さらにはリン化合物を含む樹脂組成物は
吸水率が高くなり絶縁信頼性に不利となり好ましくな
い。
【0006】本発明は、ハロゲン、アンチモンはもとよ
りリンも含まずに優れた難燃性を有し、かつ上記のよう
な種々の問題を改善した材料を検討し、完成されたもの
であり、ガラスクロスのない絶縁層を有する多層プリン
ト配線板において、難燃性であり、熱時特性に優れ、熱
膨張率が小さく、従って、ファインパターン形成が容易
な多層プリント配線板を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の各成分
を必須成分として含有することを特徴とする多層プリン
ト配線板用層間絶縁接着剤に関するものである。 (イ)重量平均分子量103〜105の硫黄成分含有熱可
塑性樹脂、(ロ)重量平均分子量103〜105の硫黄含
有骨格とビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂またはフ
ェノキシ樹脂、(ハ)重量平均分子量1000以下の多
官能エポキシ樹脂、及び(ニ)エポキシ硬化剤
【0008】本発明において、(イ)成分の重量平均分
子量103〜105の硫黄成分含有熱可塑性樹脂は、プレ
ス成形時の樹脂流れを小さくし、絶縁層の厚みを維持す
ること、および組成物に可とう性を付与すると共に、絶
縁樹脂の耐熱性の向上、熱履歴の低減を目的として配合
されている。重量平均分子量が103 未満では成形時に
流動性が良すぎて絶縁層の厚みを維持することが困難と
なる。重量平均分子量が105 を越えるとエポキシ樹脂
との相溶性が低下すること及び流動性が必要以上に悪く
なることにより好ましくない。流動性の点から、重量平
均分子量5×103〜105がより好ましい。(イ)成分
の硫黄成分含有熱可塑性樹脂は非晶性のものが、加熱冷
却の熱履歴により結晶が生成することがないので、好ま
しい。
【0009】(イ)成分としては、ポリサルフォン及び
ポリエーテルサルフォンがあり、この硫黄成分含有熱可
塑性樹脂の末端が水酸基、カルボキシル基、あるいはア
ミノ基で変性されていれば、エポキシ樹脂との反応性も
良いことから、熱硬化後に硫黄成分含有熱可塑樹脂とエ
ポキシ樹脂との相分離を抑えるとともに、硬化物の耐熱
性が向上する。このため上記変性がなされた硫黄成分含
有熱可塑性樹脂が望ましい。この(イ)成分の硫黄成分
含有熱可塑性樹脂の割合は、樹脂全体に対して20〜7
0重量%であることが好ましい。20重量%より少ない
と、粘度が高くならず厚みを保つことが不十分となり、
従ってプレスした後の絶縁層間厚みの確保が困難とな
り、外層回路の平滑性が劣るようになると共に、耐熱性
が不十分となりやすい。一方、70重量%より多いと、
接着剤組成物が堅く弾力性に欠けるため、プレス成形時
の基材の凹凸への追従性、密着性が悪く、成形ボイド発
生の原因となることがある。
【0010】(イ)成分のみでは通常のプレス条件(2
00℃以下)で成形可能な程度の流動性は期待出来ない
ため、フローの調整及びハンドリング、硬化物の靱性付
与を目的として(ロ)成分の重量平均分子量103〜1
5の硫黄含有骨格とビフェニル骨格を有するエポキシ
樹脂またはフェノキシ樹脂を配合する。硫黄含有骨格の
代表的なものはビスフェノールS骨格である。流動性の
点から重量平均分子量104〜105であることが好まし
い。また、硫黄成分を有することにより、(イ)成分と
の相溶性も良くなり、ワニスとしたときの安定性、硬化
物の均一性及び熱時特性を維持することができる。配合
割合は、樹脂全体に対して、通常10〜40重量%であ
る。10重量%より少ないと、プレス成形時のフローが
充分でなく、密着性の低下、成形ボイドの原因となりや
すく、一方、40重量%より多いと、耐熱性が不十分と
なりやすい。
【0011】上記(イ)及び(ロ)成分の硫黄成分含有
樹脂のみでは、密着性に欠けること、半田による部品実
装時の耐熱性が充分でないこと、及び銅箔にコートする
ために溶剤に溶解してワニスとしたときに、粘度が高
く、コート時の塗れ性、作業性が良くない。このような
欠点を改善するために(ハ)成分である重量平均分子量
1000以下の多官能エポキシ樹脂を用いる。この配合
割合は樹脂全体の10〜70重量%である。10重量%
未満では上記の効果が十分に期待できず、また、70重
量%を越えると前記硫黄成分含有熱可塑樹脂の効果が小
さくなる。(ハ)成分のエポキシ樹脂としてはビスフェ
ノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビ
フェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポ
キシ樹脂、アルコール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ
樹脂、アミノフェノール型エポキシ樹脂等があるが、難
燃性付与のためには、ナフタレンエポキシ樹脂、ビフェ
ニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、インデン変性フェノールノボラック型エポキシ樹
脂、インデン変性クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、フェニルエーテル型エポキシ樹脂、フェニルスルフ
ィド型エポキシ樹脂などがある。これらは芳香族環の割
合が高く、難燃性、耐熱性の優れたものである。
【0012】次に、エポキシ樹脂硬化剤はアミン化合
物、イミダゾール化合物、酸無水物など、特に限定され
るものではないが、サルフォン基を有するアミン系硬化
剤が好ましい。硬化剤中にサルフォン基を有することに
より、(イ)のサルフォン基を有する熱可塑性樹脂と
(ロ)成分及び(ハ)成分との相溶性を良くし、均一な
硬化物が得られ安定した絶縁樹脂層が得られる。また、
相溶性が良くなることにより、誘電特性、特に誘電損失
を小さくすることが可能となり、保存安定性を良好に
し、20℃で3ヶ月以上の保存性を得ることができる。
硬化剤の配合量は、当量比で、(ロ)成分及び(ハ)成
分の合計量に対して0.9〜1.1が好ましい。この範
囲を外れると、耐熱性や電気特性が低下するようにな
る。
【0013】また、イミダゾール化合物は配合量が少な
くてもエポキシ樹脂を十分に硬化させることができ、臭
素化等により難燃化したエポキシ樹脂を使用する場合、
難燃性を効果的に発揮できるので好ましいものである。
イミダゾール化合物は、融点130℃以上の常温で固形
であり、エポキシ樹脂への溶解性が小さく、150℃以
上の高温になって、エポキシ樹脂と速やかに反応するも
のが特に好ましく、具体的には2−メチルイミダゾー
ル、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メ
チルイミダゾール、ビス(2−エチル−4−メチル−イ
ミダゾール)、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロ
キシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒ
ドロキシメチルイミダゾール、トリアジン付加型イミダ
ゾール等がある。これらのイミダゾールは微粉末として
エポキシ樹脂ワニス中に均一に分散される。エポキシ樹
脂との相溶性が小さいので、常温〜100℃では反応が
進行せず、従って保存安定性を良好に保つことができ
る。そして加熱加圧成形時に150℃以上に加熱する
と、エポキシ樹脂と反応し、均一な硬化物が得られる。
【0014】その他硬化剤として、無水フタル酸、無水
テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル
酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、
無水メチルブテニルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサ
ヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無
水ヘキサヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピ
ロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等
の酸無水物、三フッ化ホウ素のアミン錯体、ジシアンジ
アミド又はその誘導体などが挙げられ、これらをエポキ
シアダクト化したものやマイクロカプセル化したものも
使用できる。上記エポキシ樹脂及び硬化剤の他に、エポ
キシ樹脂や硬化剤と反応する成分を配合することができ
る。例えば、エポキシ反応性希釈剤(一官能型としてフ
ェニルグリシジルエーテルなど、二官能型としてレゾル
シンジグリシジルエーテル、エチレングリコールグリシ
ジルエーテルなど、三官能型としてグリセロールトリグ
リシジルエーテルなど)、レゾール型又はノボラック型
フェノール系樹脂、イソシアネート化合物などである。
【0015】上記成分の他に、線膨張率、耐熱性、耐燃
性などの向上のために、溶融シリカ、結晶性シリカ、炭
酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、クレ
ー、硫酸バリウム、マイカ、タルク、ホワイトカーボ
ン、Eガラス微粉末などの無機充填材を配合することが
好ましい。配合割合は、通常樹脂分に対して40重量%
以下である。40重量%より多く配合すると、層間絶縁
樹脂の粘性が高くなり、内層回路間への埋込性が低下す
るようになる。
【0016】さらに、銅箔や内層回路基板との密着力を
高めたり、耐湿性を向上させるためにエポキシシラン等
のシランカップリング剤あるいはチタネート系カップリ
ング剤、ボイドを防ぐための消泡剤、あるいは液状又は
微粉末タイプの難燃剤の添加も可能である。溶剤として
は、接着剤を銅箔に塗布し80℃〜130℃で乾燥した
後において、接着剤中に残らないものを選択しなければ
ならない。例えば、アセトン、メチルエチルケトン(M
EK)、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノー
ル、エタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、ジメチ
ルホルムアミド(DMF)などが用いられる。
【0017】層間絶縁接着剤付き銅箔は、接着剤成分を
所定の溶剤に所定の濃度で溶解した接着剤ワニスを銅箔
のアンカー面に塗工後80℃〜130℃の乾燥を行って
接着剤中に揮発成分が樹脂に対して4.0%以下になる
ように作製する。その揮発成分は3.0〜1.5%が好
ましい。接着剤厚みについては100μm以下が好まし
く、100μmを越えると厚みのバラツキを生じ、均一
な絶縁層を確保できなくなる。
【0018】この層間絶縁接着剤付き銅箔は、通常の真
空プレス又はラミネーターにより内層回路基板にラミネ
ートし硬化させて、容易に外層回路を有する多層プリン
ト配線板を成形することができる。
【0019】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。
「部」は全て「重量部」を表す。
【0020】<実施例1>末端水酸基変性非晶性ポリエ
ーテルサルフォン(平均分子量24000)40部、ビ
スフェノールS型及びビフェニル型共重合エポキシ樹脂
(重量平均分子量34000、ビスフェノールS:ビフ
ェニル(モル比)=5:4)30部、ビフェニル骨格型エ
ポキシ樹脂(重量平均分子量800、エポキシ当量27
5)25部、ノボラック型エポキシ樹脂(重量平均分子
量320、エポキシ当量175)25部、ジアミノジフ
ェニルサルフォン9.5部、硬化促進剤として2−メチ
ルイミダゾール0.5部をMEK、DMF混合溶媒に攪
拌・溶解した。このワニス中の樹脂固形分100部に対
してチタネート系カップリング剤0.2部、硫酸バリウ
ム20部の割合で添加し、均一に分散するまで攪拌して
接着剤ワニスを作製した。この接着剤ワニスを厚さ18
μmの銅箔のアンカー面にコンマコーターにて塗工し、
乾燥全樹脂厚80μmの絶縁接着剤付き銅箔を得た。
【0021】更に、基材厚0.1mm、銅箔厚35μm
のガラスエポキシ両面銅張積層板をパターン加工して内
層回路板を得た。銅箔表面を黒化処理した後、上記接着
剤付き銅箔を両面にセットし、各積層体間に1.6mm
ステンレス製鏡面板を挟み、1段に15セット投入し、
真空プレスを用い、昇温速度3〜10℃/分、圧力10
〜30Kg/cm2 、真空度−760〜−730mmH
gの条件で加熱加圧し、積層体の温度170℃を15分
以上確保して多層プリント配線板を作製した。
【0022】<実施例2>末端水酸基変性非晶性ポリエ
ーテルサルフォン(平均分子量24000)60部、ビ
スフェノールS型及びビフェニル型共重合エポキシ樹脂
(重量平均分子量34000、ビスフェノールS:ビフ
ェニル(モル比)=5:4)20部、ナフタレン型エポキ
シ樹脂(重量平均分子量500、エポキシ当量175)
15部、ノボラック型エポキシ樹脂(重量平均分子量3
20、エポキシ当量175)15部、ジアミノジフェニ
ルサルフォン6.5部、硬化促進剤として2−メチルイ
ミダゾール0.5部をMEK、DMF混合溶媒に攪拌・
溶解した。このワニス中の樹脂固形分100部に対して
チタネート系カップリング剤0.2部、平均粒径0.5
μmの溶融シリカ20部の割合で添加し、均一に分散す
るまで攪拌して接着剤ワニスを作製し、実施例1と同様
にして多層プリント配線板を得た。
【0023】<実施例3>末端水酸基変性非晶性ポリエ
ーテルサルフォン(平均分子量24000)20部、ビ
スフェノールS型及びビスフェノールA型共重合エポキ
シ樹脂(重量平均分子量34000、ビスフェノール
S:ビスフェノールA(モル比)=3:8)30部、ビフ
ェニル型エポキシ樹脂(重量平均分子量500、エポキ
シ当量275)35部、ノボラック型エポキシ樹脂(重
量平均分子量320、エポキシ当量175)30部、ジ
アミノジフェニルサルフォン14.5部、硬化促進剤と
して2−メチルイミダゾール0.5部をMEK、DMF
混合溶媒に攪拌・溶解した。このワニス中の樹脂固形分
100部に対してチタネート系カップリング剤0.2
部、平均粒径0.5μmの溶融シリカ30部の割合で添
加し、均一に分散するまで攪拌して接着剤ワニスを作製
し、実施例1と同様にして多層プリント配線板を得た。
【0024】<実施例4>サルフォン基を有する熱可塑
性樹脂を非変性非晶性ポリサルフォン(重量平均分子量
26000)とした以外は実施例3と同様にして多層プ
リント配線板を得た。
【0025】<比較例1>ビスフェノールS型及びビフ
ェニル型共重合エポキシ樹脂を除き、末端水酸基変性非
晶性ポリエーテルサルフォン(重量平均分子量2400
0)を80部とした以外は実施例1と同様にして多層プ
リント配線板を得た。
【0026】<比較例2>末端水酸基変性非晶性ポリエ
ーテルサルフォンを除き、ビスフェノールS型及びビフ
ェニル型共重合エポキシ樹脂(重量平均分子量3400
0)を80部とした以外は実施例1と同様にして多層プ
リント配線板を得た。
【0027】得られた多層プリント配線板について、難
燃性、ガラス転移温度、プレス成形性、吸湿半田耐熱性
を測定し、その結果を以下の表に示す。
【0028】
【表1】
【0029】(測定方法) 内層回路板試験片:ライン幅(L)/ライン間隔(S)=1
20μm/180μmの細線回路、クリアランスホール
(1mmφ及び3mmφ)、及び周辺部に2mm幅の2
本のスリット間にライン幅3mmの銅箔部有り。 1.難燃性:UL−94規格に従い垂直法により評価し
た。 2.ガラス転移温度(Tg):熱膨張率の測定による。
熱膨張計はセイコー電子製TMA120C使用した。 3.成形性:上記回路間部およびクリアランスホール部
におけるボイドの有無を目視にて観察した。 4.熱膨張率:熱膨張計(セイコー電子製TMA120
C)により、35〜85℃での熱膨張率を測定した。 5.吸湿半田耐熱性 吸湿条件:プレッシャークッカー処理、125℃、2.
3気圧、1時間 試験条件:n=5で、全てが260℃半田浴、180秒
間にて膨れが無かったものを○とした。
【0030】
【発明の効果】本発明の多層プリント配線板用層間絶縁
接着剤は、ガラスクロスのない絶縁層を有するにもかか
わらず、耐熱性に優れ、熱膨張率の小さい、従って、フ
ァインパターンの形成に好適な多層プリント配線板を提
供するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J040 EC052 EC062 EC072 EJ031 KA16 LA01 LA09 NA20 5E346 CC04 CC08 CC09 CC32 CC41 EE13 EE29 GG08 GG09 GG28 HH18 HH31

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記の各成分を必須成分として含有する
    ことを特徴とする多層プリント配線板用層間絶縁接着
    剤。 (イ)重量平均分子量103〜105の硫黄成分含有熱可
    塑性樹脂、(ロ)重量平均分子量103〜105の硫黄含
    有骨格とビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂またはフ
    ェノキシ樹脂、(ハ)重量平均分子量1000以下の多
    官能エポキシ樹脂、及び(ニ)エポキシ硬化剤
  2. 【請求項2】 (イ)成分が、ポリサルフォン及び又は
    ポリエーテルサルフォンである請求項1記載の多層プリ
    ント配線板用層間絶縁接着剤。
  3. 【請求項3】 (ロ)成分が、ビスフェノールS骨格と
    ビフェニル骨格を持つエポキシ樹脂またはフェノキシ樹
    脂である請求項1又は2記載の多層プリント配線板用層
    間絶縁接着剤。
  4. 【請求項4】 (ハ)成分がナフタレン骨格型エポキシ
    樹脂、ビフェニル骨格型エポキシ樹脂、ビスフェノール
    S型エポキシ樹脂、インデン変性フェノールノボラック
    型エポキシ樹脂、インデン変性クレゾールノボラック型
    エポキシ樹脂、フェニルエーテル型エポキシ樹脂、フェ
    ニルスルフィド型エポキシ樹脂から選ばれた1種又は2
    種以上である請求項1、2又は3記載の多層プリント配
    線板用層間絶縁接着剤。
  5. 【請求項5】 請求項1、2、3又は4記載の層間絶縁
    接着剤を銅箔にコートしてなる多層プリント配線板用層
    間絶縁接着剤付き銅箔。
JP2000021376A 2000-01-31 2000-01-31 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤 Expired - Fee Related JP4337204B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000021376A JP4337204B2 (ja) 2000-01-31 2000-01-31 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000021376A JP4337204B2 (ja) 2000-01-31 2000-01-31 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001214147A true JP2001214147A (ja) 2001-08-07
JP4337204B2 JP4337204B2 (ja) 2009-09-30

Family

ID=18547792

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000021376A Expired - Fee Related JP4337204B2 (ja) 2000-01-31 2000-01-31 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4337204B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007224065A (ja) * 2006-02-21 2007-09-06 Toray Ind Inc エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料
JP4828427B2 (ja) * 2004-09-10 2011-11-30 三井金属鉱業株式会社 プライマー樹脂層を備えたキャリア箔付電解銅箔及びその製造方法
JP2013239701A (ja) * 2007-02-14 2013-11-28 Sumitomo Bakelite Co Ltd キャリア材料付き層間絶縁膜およびこれを用いる多層プリント回路板
WO2023103323A1 (zh) * 2021-12-09 2023-06-15 武汉市三选科技有限公司 一种粘接剂、芯片键合膜及其制备方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4828427B2 (ja) * 2004-09-10 2011-11-30 三井金属鉱業株式会社 プライマー樹脂層を備えたキャリア箔付電解銅箔及びその製造方法
JP2007224065A (ja) * 2006-02-21 2007-09-06 Toray Ind Inc エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料
JP2013239701A (ja) * 2007-02-14 2013-11-28 Sumitomo Bakelite Co Ltd キャリア材料付き層間絶縁膜およびこれを用いる多層プリント回路板
WO2023103323A1 (zh) * 2021-12-09 2023-06-15 武汉市三选科技有限公司 一种粘接剂、芯片键合膜及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4337204B2 (ja) 2009-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6447915B1 (en) Interlaminar insulating adhesive for multilayer printed circuit board
JP2007308640A (ja) 積層板用樹脂組成物、有機基材プリプレグ、金属張積層板およびプリント配線板
JP2003286390A (ja) エポキシ樹脂組成物、ワニス、このエポキシ樹脂組成物を用いたフィルム状接着剤及びその硬化物
JP5245526B2 (ja) 絶縁樹脂組成物、及び支持体付絶縁フィルム
JPH11100562A (ja) 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔
JP3669663B2 (ja) 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤
JP3485169B2 (ja) シアネート・エポキシ樹脂組成物並びにそれを用いたプリプレグ、金属箔張り積層板及び印刷配線板
JP4337204B2 (ja) 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤
JP4070926B2 (ja) 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤
JP2833433B2 (ja) 積層板用エポキシ樹脂組成物および積層板の製造法
JPH08323916A (ja) 銅張樹脂複合材料
JP2003201332A (ja) 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物及びこれを用いた印刷配線板用積層板
JP3703143B2 (ja) 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤および多層プリント配線板用層間絶縁接着剤付き銅箔
JPH11181124A (ja) プリプレグ
JPH08104737A (ja) エポキシ樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ
JPH104270A (ja) 多層プリント配線板の製造方法
JP2003283142A (ja) 樹脂組成物および樹脂組成物の製造方法
JP2001089733A (ja) 多層プリント配線板用絶縁樹脂接着剤
JP3632823B2 (ja) 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤
JP2000273429A (ja) 多層プリント配線板用絶縁樹脂接着剤
JP2001089734A (ja) 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤
JP2826091B2 (ja) 多層プリント配線板用絶縁接着剤
JP2000212538A (ja) 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤
JP2002012760A (ja) 熱硬化性樹脂組成物
JP2000277925A (ja) 多層プリント配線板用絶縁樹脂接着剤

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061124

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20090106

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090305

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090609

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090622

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4337204

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120710

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130710

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140710

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees