JPH11100562A - 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔 - Google Patents
多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔Info
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- JPH11100562A JPH11100562A JP26242597A JP26242597A JPH11100562A JP H11100562 A JPH11100562 A JP H11100562A JP 26242597 A JP26242597 A JP 26242597A JP 26242597 A JP26242597 A JP 26242597A JP H11100562 A JPH11100562 A JP H11100562A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ノンハロゲンで難燃性を示し、耐熱性、保存
安定性に優れ、かつ１００℃以上の高温で速やかに硬化
しうるエポキシ樹脂系層間絶縁接着剤を得ること。 【解決手段】 下記の各成分を必須成分として含有する
多層プリント配線板用層間絶縁接着剤。 （１）重量平均分子量１０３〜１０５の硫黄成分含有熱
可塑性樹脂、（２）無機充填材、（３）エポキシ当量５
００以下のエポキシ樹脂、及び（４）エポキシ樹脂硬化
剤
安定性に優れ、かつ１００℃以上の高温で速やかに硬化
しうるエポキシ樹脂系層間絶縁接着剤を得ること。 【解決手段】 下記の各成分を必須成分として含有する
多層プリント配線板用層間絶縁接着剤。 （１）重量平均分子量１０３〜１０５の硫黄成分含有熱
可塑性樹脂、（２）無機充填材、（３）エポキシ当量５
００以下のエポキシ樹脂、及び（４）エポキシ樹脂硬化
剤
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂系多
層プリント配線板用層間絶縁接着剤及びそれをコーティ
ングした銅箔に関するものである。
層プリント配線板用層間絶縁接着剤及びそれをコーティ
ングした銅箔に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、多層プリント配線板を製造する場
合、回路が形成された内層回路基板上にガラスクロス基
材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグシ
ートを１枚以上重ね、更にその上に銅箔を重ね熱板プレ
スにて加圧一体成形するという工程を経ている。しか
し、この工程ではプリプレグ中の含浸樹脂を熱により再
流動させ一定圧力下で硬化させるため、均一に硬化成形
させるためには１〜１．５時間は必要である。このよう
に製造工程が長くかかる上に、多層積層プレス及びガラ
スクロスプリプレグのコスト等により高コストとなって
いる。加えてガラスクロスに樹脂を含浸させる方法のた
め、回路層間の厚みがガラスクロスにより制限され多層
プリント配線板全体の極薄化も困難であった。
合、回路が形成された内層回路基板上にガラスクロス基
材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグシ
ートを１枚以上重ね、更にその上に銅箔を重ね熱板プレ
スにて加圧一体成形するという工程を経ている。しか
し、この工程ではプリプレグ中の含浸樹脂を熱により再
流動させ一定圧力下で硬化させるため、均一に硬化成形
させるためには１〜１．５時間は必要である。このよう
に製造工程が長くかかる上に、多層積層プレス及びガラ
スクロスプリプレグのコスト等により高コストとなって
いる。加えてガラスクロスに樹脂を含浸させる方法のた
め、回路層間の厚みがガラスクロスにより制限され多層
プリント配線板全体の極薄化も困難であった。
【０００３】近年、これらの問題を解決するため、熱板
プレスによる加熱加圧成形を行わず、層間絶縁材にガラ
スクロスを用いない、ビルドアップ方式による多層プリ
ント配線板の技術が改めて注目されている。ビルドアッ
プ方式による多層プリント配線板において、フィルム状
の層間絶縁樹脂層を用いた場合、内層回路板の絶縁基板
と回路と段差を無くし、その表面を平滑化するために、
内層回路板にアンダーコート剤を塗布することが一般化
してきた。この代表的な例として、内層回路板に塗布さ
れたアンダーコート剤が未硬化、半硬化または硬化した
状態において、層間絶縁接着剤をコートした銅箔をラミ
ネートし、一体硬化することにより多層プリント配線板
を得る。このような方法により、内層回路板の回路によ
る段差が小さくなるため、層間絶縁接着剤をコートした
銅箔のラミネートが容易であり、また内層回路板の銅箔
残存率を考慮する必要も少なくなる。
プレスによる加熱加圧成形を行わず、層間絶縁材にガラ
スクロスを用いない、ビルドアップ方式による多層プリ
ント配線板の技術が改めて注目されている。ビルドアッ
プ方式による多層プリント配線板において、フィルム状
の層間絶縁樹脂層を用いた場合、内層回路板の絶縁基板
と回路と段差を無くし、その表面を平滑化するために、
内層回路板にアンダーコート剤を塗布することが一般化
してきた。この代表的な例として、内層回路板に塗布さ
れたアンダーコート剤が未硬化、半硬化または硬化した
状態において、層間絶縁接着剤をコートした銅箔をラミ
ネートし、一体硬化することにより多層プリント配線板
を得る。このような方法により、内層回路板の回路によ
る段差が小さくなるため、層間絶縁接着剤をコートした
銅箔のラミネートが容易であり、また内層回路板の銅箔
残存率を考慮する必要も少なくなる。
【０００４】このようなプロセスにおいて、銅箔にコー
トされた層間絶縁接着剤がラミネート成形時に軟化し過
ぎて層間絶縁厚みを確保できない。熱硬化時に溶融粘度
が下がり過ぎて皺が発生する。また、その保存時に硬化
反応が進行して、アンダーコート剤が塗布された内層回
路板にラミネートしたとき一体成形が良好に行われない
と言う問題が生じている。更に、層間絶縁接着剤にガラ
ス繊維基材が使用されていないため、難燃化が困難であ
り、多層プリント配線板の高密度化に伴う、ビルドアッ
プ方式の多層プリント回路板に要求される耐熱性を満足
しないという問題点もあるが、これらの点の解決策とし
ては既に特願平０７−２２５２３５号明細書、特願平０
９−１９４２２１号明細書で開示されている。しかし、
以前の発明では難燃化のためにハロゲン化物を使用して
おり、環境面における安全性を満足するものではなく、
また環境衛生上、ハロゲン化物を用いない物質が要求さ
れつつある。
トされた層間絶縁接着剤がラミネート成形時に軟化し過
ぎて層間絶縁厚みを確保できない。熱硬化時に溶融粘度
が下がり過ぎて皺が発生する。また、その保存時に硬化
反応が進行して、アンダーコート剤が塗布された内層回
路板にラミネートしたとき一体成形が良好に行われない
と言う問題が生じている。更に、層間絶縁接着剤にガラ
ス繊維基材が使用されていないため、難燃化が困難であ
り、多層プリント配線板の高密度化に伴う、ビルドアッ
プ方式の多層プリント回路板に要求される耐熱性を満足
しないという問題点もあるが、これらの点の解決策とし
ては既に特願平０７−２２５２３５号明細書、特願平０
９−１９４２２１号明細書で開示されている。しかし、
以前の発明では難燃化のためにハロゲン化物を使用して
おり、環境面における安全性を満足するものではなく、
また環境衛生上、ハロゲン化物を用いない物質が要求さ
れつつある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記熱板プ
レスで成形する方法に対して、簡素化されたビルドアッ
プ方式による問題を改善するために検討し、完成された
ものであり、特にノンハロゲンで難燃性、高耐熱性、高
電気特性、保存安定性に優れ、かつ１００℃以上の高温
で速やかに硬化し得るエポキシ樹脂系多層プリント配線
板用層間絶縁接着剤及びそれをコーティングした銅箔を
提供するものである。
レスで成形する方法に対して、簡素化されたビルドアッ
プ方式による問題を改善するために検討し、完成された
ものであり、特にノンハロゲンで難燃性、高耐熱性、高
電気特性、保存安定性に優れ、かつ１００℃以上の高温
で速やかに硬化し得るエポキシ樹脂系多層プリント配線
板用層間絶縁接着剤及びそれをコーティングした銅箔を
提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の各成分
を必須成分として含有することを特徴とする多層プリン
ト配線板用層間絶縁接着剤及びそれをコーティングして
なる銅箔である。 （イ）重量平均分子量１０３〜１０５の硫黄成分含有熱
可塑性樹脂、（ロ）無機充填材 （ハ）エポキシ当量５００以下のエポキシ樹脂、及び
（ニ）エポキシ樹脂硬化剤、
を必須成分として含有することを特徴とする多層プリン
ト配線板用層間絶縁接着剤及びそれをコーティングして
なる銅箔である。 （イ）重量平均分子量１０３〜１０５の硫黄成分含有熱
可塑性樹脂、（ロ）無機充填材 （ハ）エポキシ当量５００以下のエポキシ樹脂、及び
（ニ）エポキシ樹脂硬化剤、
【０００７】本発明において、（イ）成分の重量平均分
子量１０３〜１０５の硫黄成分含有熱可塑性樹脂は、エ
ポキシ樹脂組成物のノンハロゲンでの難燃化、成形時の
樹脂軟化を小さくし、絶縁層の厚みを維持すること、エ
ポキシ樹脂組成物に可撓性を付与すること、絶縁樹脂の
高耐熱化の目的で配合されているが、更に、電気特性を
も向上させると考えられる。（イ）成分の重量平均分子
量１０３〜１０５の硫黄成分含有熱可塑性樹脂として
は、ポリフェニレンサルファイド、ポリサルフォン、ポ
リエーテルサルフォン、ビスフェノールＳ型フェノキシ
樹脂である。この高分子量硫黄成分含有熱可塑性樹脂の
添加割合は（ハ）成分のエポキシ樹脂との合計重量であ
る樹脂全体に対して３０〜９０重量％である。添加量が
３０重量％より少ないと、難燃化を十分に発現できず、
一方、９０重量％より多いと、難燃化は発現できるが、
接着剤組成物が堅く弾力性に欠けるため、ラミネート成
形時の基材の凹凸への追従性、密着性が悪く、成形ボイ
ド発生の原因となる。また、この硫黄成分含有熱可塑性
樹脂の末端が水酸基、カルボキシル基、あるいはアミノ
基変性が行われておれば、エポキシ樹脂との反応性も良
いことから熱硬化後に硫黄成分含有熱可塑性樹脂とエポ
キシ樹脂との相分離を抑えるとともに、硬化物の耐熱性
も向上するため上記変性が行われていることが望まし
い。
子量１０３〜１０５の硫黄成分含有熱可塑性樹脂は、エ
ポキシ樹脂組成物のノンハロゲンでの難燃化、成形時の
樹脂軟化を小さくし、絶縁層の厚みを維持すること、エ
ポキシ樹脂組成物に可撓性を付与すること、絶縁樹脂の
高耐熱化の目的で配合されているが、更に、電気特性を
も向上させると考えられる。（イ）成分の重量平均分子
量１０３〜１０５の硫黄成分含有熱可塑性樹脂として
は、ポリフェニレンサルファイド、ポリサルフォン、ポ
リエーテルサルフォン、ビスフェノールＳ型フェノキシ
樹脂である。この高分子量硫黄成分含有熱可塑性樹脂の
添加割合は（ハ）成分のエポキシ樹脂との合計重量であ
る樹脂全体に対して３０〜９０重量％である。添加量が
３０重量％より少ないと、難燃化を十分に発現できず、
一方、９０重量％より多いと、難燃化は発現できるが、
接着剤組成物が堅く弾力性に欠けるため、ラミネート成
形時の基材の凹凸への追従性、密着性が悪く、成形ボイ
ド発生の原因となる。また、この硫黄成分含有熱可塑性
樹脂の末端が水酸基、カルボキシル基、あるいはアミノ
基変性が行われておれば、エポキシ樹脂との反応性も良
いことから熱硬化後に硫黄成分含有熱可塑性樹脂とエポ
キシ樹脂との相分離を抑えるとともに、硬化物の耐熱性
も向上するため上記変性が行われていることが望まし
い。
【０００８】上記硫黄成分含有熱可塑性樹脂単独では、
ロールラミネート時の塗れ性、密着性に欠けること、ラ
ミネート後の接着性が十分でないこと、及び銅箔にコー
トするために溶剤に溶解して所定温度のワニスとしたと
きに、粘度が高く、コート時の塗れ性、作業性が良くな
い。このような欠点を改善するために（ハ）成分である
エポキシ当量５００以下のエポキシ樹脂を配合する。こ
の配合割合は樹脂全体の１０〜７０重量％である。１０
重量％未満では上記の効果が期待できず、また、７０重
量％を越えると前記高分子量硫黄成分含有熱可塑性樹脂
の効果が期待できなくなる。
ロールラミネート時の塗れ性、密着性に欠けること、ラ
ミネート後の接着性が十分でないこと、及び銅箔にコー
トするために溶剤に溶解して所定温度のワニスとしたと
きに、粘度が高く、コート時の塗れ性、作業性が良くな
い。このような欠点を改善するために（ハ）成分である
エポキシ当量５００以下のエポキシ樹脂を配合する。こ
の配合割合は樹脂全体の１０〜７０重量％である。１０
重量％未満では上記の効果が期待できず、また、７０重
量％を越えると前記高分子量硫黄成分含有熱可塑性樹脂
の効果が期待できなくなる。
【０００９】（ハ）成分のエポキシ樹脂としてはビスフ
ェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂、アミノフェノール型エ
ポキシ樹脂があるが、難燃性付与のためにはノボラック
型エポキシ樹脂、硫黄、窒素などのヘテロ原子を含むも
のを使用すれば、多層プリント配線板の難燃化がより効
果的に行われる。
ェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂、アミノフェノール型エ
ポキシ樹脂があるが、難燃性付与のためにはノボラック
型エポキシ樹脂、硫黄、窒素などのヘテロ原子を含むも
のを使用すれば、多層プリント配線板の難燃化がより効
果的に行われる。
【００１０】（ロ）成分の無機充填材としては、溶融シ
リカ、結晶性シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニ
ウム、アルミナ、水酸化マグネシウム、クレー、硫酸バ
リウム、マイカ、タルク、ホワイトカーボン、Ｅガラス
微粉末などであり、（ハ）成分に対して５〜５０重量％
配合する。５０重量％より多く配合すると、接着剤の粘
性が高くなり、内層回路間への埋込性が低下するように
なる。これらの配合により低線膨張率化、耐熱性向上が
期待される。
リカ、結晶性シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニ
ウム、アルミナ、水酸化マグネシウム、クレー、硫酸バ
リウム、マイカ、タルク、ホワイトカーボン、Ｅガラス
微粉末などであり、（ハ）成分に対して５〜５０重量％
配合する。５０重量％より多く配合すると、接着剤の粘
性が高くなり、内層回路間への埋込性が低下するように
なる。これらの配合により低線膨張率化、耐熱性向上が
期待される。
【００１１】次に、（ニ）エポキシ樹脂硬化剤はアミン
化合物、イミダゾール化合物、酸無水物など、特に限定
されるものではないが、イミダゾール化合物は配合量が
少なくてもエポキシ樹脂を十分に硬化させることができ
るので好ましいものである。イミダゾール化合物は、融
点１３０℃以上の常温で固形であり、エポキシ樹脂への
溶解性が小さく、１５０℃以上の高温になって、エポキ
シ樹脂と速やかに反応するものが特に好ましい。具体的
には２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾー
ル、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、ビス（２
−エチル−４−メチル−イミダゾール）、２−フェニル
−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２
−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾー
ル、あるいは、トリアジン付加型イミダゾール等があ
る。これらのイミダゾールは微粉末としてエポキシ樹脂
ワニス中に均一に分散される。エポキシ樹脂との相溶性
が小さいので、常温〜１００℃では反応が進行せず、従
って保存安定性を良好に保つことができる。そしてラミ
ネート硬化時に１５０℃以上に加熱すると、エポキシ樹
脂と反応し、均一な硬化物が得られる。
化合物、イミダゾール化合物、酸無水物など、特に限定
されるものではないが、イミダゾール化合物は配合量が
少なくてもエポキシ樹脂を十分に硬化させることができ
るので好ましいものである。イミダゾール化合物は、融
点１３０℃以上の常温で固形であり、エポキシ樹脂への
溶解性が小さく、１５０℃以上の高温になって、エポキ
シ樹脂と速やかに反応するものが特に好ましい。具体的
には２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾー
ル、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、ビス（２
−エチル−４−メチル−イミダゾール）、２−フェニル
−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２
−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾー
ル、あるいは、トリアジン付加型イミダゾール等があ
る。これらのイミダゾールは微粉末としてエポキシ樹脂
ワニス中に均一に分散される。エポキシ樹脂との相溶性
が小さいので、常温〜１００℃では反応が進行せず、従
って保存安定性を良好に保つことができる。そしてラミ
ネート硬化時に１５０℃以上に加熱すると、エポキシ樹
脂と反応し、均一な硬化物が得られる。
【００１２】その他硬化剤として、無水フタル酸、無水
テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル
酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、
無水メチルブテニルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサ
ヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無
水ヘキサヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピ
ロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等
の酸無水物、三フッ化ホウ素のアミン錯体、ジシアンジ
アミド又はその誘導体などが挙げられ、これらをエポキ
シアダクト化したものやマイクロカプセル化したものも
使用できる。しかし、これら硬化剤を用いる際は、短時
間のうちに、より完全硬化したものを得るために、通常
使用される塩基性の硬化促進剤の添加を必要とする。
テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル
酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、
無水メチルブテニルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサ
ヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無
水ヘキサヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピ
ロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等
の酸無水物、三フッ化ホウ素のアミン錯体、ジシアンジ
アミド又はその誘導体などが挙げられ、これらをエポキ
シアダクト化したものやマイクロカプセル化したものも
使用できる。しかし、これら硬化剤を用いる際は、短時
間のうちに、より完全硬化したものを得るために、通常
使用される塩基性の硬化促進剤の添加を必要とする。
【００１３】上記エポキシ樹脂及び硬化剤の他に、エポ
キシ樹脂や硬化剤と反応する成分を配合することができ
る。例えば、エポキシ反応性希釈剤（一官能型としてフ
ェニルグリシジルエーテルなど、二官能型としてレゾル
シンジグリシジルエーテル、エチレングリコールグリシ
ジルエーテルなど、三官能型としてグリセロールトリグ
リシジルエーテルなど）、レゾール型又はノボラック型
フェノール系樹脂、イソシアネート化合物などである。
更に、銅箔や内層回路基板との密着力を高めたり、耐湿
性を向上させるためにエポキシシラン等のシランカップ
リング剤あるいはチタネート系カップリング剤、ボイド
を防ぐための消泡剤、あるいは液状又は微粉末タイプの
難燃剤の添加も可能である。
キシ樹脂や硬化剤と反応する成分を配合することができ
る。例えば、エポキシ反応性希釈剤（一官能型としてフ
ェニルグリシジルエーテルなど、二官能型としてレゾル
シンジグリシジルエーテル、エチレングリコールグリシ
ジルエーテルなど、三官能型としてグリセロールトリグ
リシジルエーテルなど）、レゾール型又はノボラック型
フェノール系樹脂、イソシアネート化合物などである。
更に、銅箔や内層回路基板との密着力を高めたり、耐湿
性を向上させるためにエポキシシラン等のシランカップ
リング剤あるいはチタネート系カップリング剤、ボイド
を防ぐための消泡剤、あるいは液状又は微粉末タイプの
難燃剤の添加も可能である。
【００１４】使用する溶剤としては、接着剤を銅箔に塗
布し乾燥した後において、接着剤中に残らないものを選
択しなければならない。例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン（ＭＥＫ）、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサ
ン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、エチ
ルセルソルブ、シクロヘキサノン、ジメチルフォルムア
ミド（ＤＭＦ）などが用いられる。
布し乾燥した後において、接着剤中に残らないものを選
択しなければならない。例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン（ＭＥＫ）、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサ
ン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、エチ
ルセルソルブ、シクロヘキサノン、ジメチルフォルムア
ミド（ＤＭＦ）などが用いられる。
【００１５】層間絶縁接着剤付き銅箔は、接着剤成分を
所定の溶剤に所定の濃度で溶解した接着剤ワニスを銅箔
のアンカー面に塗工し、その後８０℃〜１３０℃の乾燥
を行って接着剤中に溶剤が残らないようにして作製す
る。その接着剤層の厚みは１５μｍ〜１２０μｍが好ま
しい。１５μｍより薄いと層間絶縁性が不十分となるこ
とがあり、１２０μｍより厚いと層間絶縁性は問題ない
が、作製が容易でなく、また多層板の厚みを薄くすると
いう本発明の目的に合わなくなる。この層間絶縁接着剤
付き銅箔は、通常ドライフィルムラミネーターにより内
層回路基板にラミネートし硬化させて、容易に外層回路
を有する多層プリント配線板を形成することができる。
所定の溶剤に所定の濃度で溶解した接着剤ワニスを銅箔
のアンカー面に塗工し、その後８０℃〜１３０℃の乾燥
を行って接着剤中に溶剤が残らないようにして作製す
る。その接着剤層の厚みは１５μｍ〜１２０μｍが好ま
しい。１５μｍより薄いと層間絶縁性が不十分となるこ
とがあり、１２０μｍより厚いと層間絶縁性は問題ない
が、作製が容易でなく、また多層板の厚みを薄くすると
いう本発明の目的に合わなくなる。この層間絶縁接着剤
付き銅箔は、通常ドライフィルムラミネーターにより内
層回路基板にラミネートし硬化させて、容易に外層回路
を有する多層プリント配線板を形成することができる。
【００１６】次に、内層回路基板の回路による段差を無
くすために用いられるアンダーコート剤について述べ
る。アンダーコート剤は通常層間絶縁接着剤と一体硬化
させるために、これと同種の材料が使用される。従っ
て、本発明においてはエポキシ樹脂を主成分とするもの
が使用される。ただし、溶剤に溶解したワニスでもよ
く、熱又は光により反応する反応性希釈剤に溶解したワ
ニスでもよい。かかるアンダーコート剤ワニスを内層回
路板に塗布し、次いで加熱して溶剤の蒸発あるいは反応
によりタックフリー化ないしプレポリマー化、又は光照
射して反応によるタックフリー化ないしプレポリマー化
する。
くすために用いられるアンダーコート剤について述べ
る。アンダーコート剤は通常層間絶縁接着剤と一体硬化
させるために、これと同種の材料が使用される。従っ
て、本発明においてはエポキシ樹脂を主成分とするもの
が使用される。ただし、溶剤に溶解したワニスでもよ
く、熱又は光により反応する反応性希釈剤に溶解したワ
ニスでもよい。かかるアンダーコート剤ワニスを内層回
路板に塗布し、次いで加熱して溶剤の蒸発あるいは反応
によりタックフリー化ないしプレポリマー化、又は光照
射して反応によるタックフリー化ないしプレポリマー化
する。
【００１７】
《実施例１》末端水酸基変性ポリエーテルサルフォン
［平均分子量２４０００、住友化学工業（株）製 ５０
０３Ｐ］１００重量部、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂［エポキシ当量１９０、大日本インキ化学（株）
製 エピクロンＮ−７７０］３０重量部、ビスフェノー
ルＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１７５、大日本イン
キ化学（株）製 エピクロン８３０−Ｓ］１５重量部と
をＭＥＫ、ＤＭＦ混合溶媒に攪拌・溶解し、そこへ硬化
剤として２−メチルイミダゾール５重量部、チタネート
系カップリング剤［味の素（株）製 ＫＲ−４６Ｂ］
０．２重量部、硫酸バリウム２０重量部を添加して接着
剤ワニスを作製した。以下、図１に示す工程にて多層プ
リント配線板を作製した。前記接着剤ワニスを厚さ１８
μｍの銅箔（１）のアンカー面に乾燥後の厚みが５０μ
ｍとなるようにローラーコーターにて塗布、乾燥して接
着剤付き銅箔（３）を得た（ａ）。次に、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂（エポキシ当量４７０、重量平均分
子量約９００）１００重量部をグリシジルメタクリレー
ト４０重量部に溶解し、これに硬化剤として２−メチル
イミダゾール３重量部と光重合開始剤（チバガイギー製
イルガキュア６５１）１．２重量部を添加し、ホモミキ
サーにて十分攪拌してアンダーコート剤とした。更に、
基材厚０．１ｍｍ、銅箔厚３５μｍのガラスエポキシ両
面銅張積層板をパターン加工して内層回路板を得た。銅
箔表面を黒化処理した後、上記アンダーコート剤をカー
テンコーターにより厚さ約４０μｍに塗工した。その
後、ＵＶコンベア機にて８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯２本で
約２Ｊ／ｃｍ２ の条件で紫外線照射し、アンダーコー
ト剤をタックフリー化した。かかるアンダーコート剤の
層を有する内層回路板上に上記層間絶縁接着剤付き銅箔
を、温度１００℃、圧力４Ｋｇ／ｃｍ２ 、ラミネート
スピード０．８ｍ／分の条件より、硬質ロールを用いて
上記熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔をラミネートし、１
５０℃、３０分間加熱硬化させ多層プリント配線板を作
製した。
［平均分子量２４０００、住友化学工業（株）製 ５０
０３Ｐ］１００重量部、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂［エポキシ当量１９０、大日本インキ化学（株）
製 エピクロンＮ−７７０］３０重量部、ビスフェノー
ルＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１７５、大日本イン
キ化学（株）製 エピクロン８３０−Ｓ］１５重量部と
をＭＥＫ、ＤＭＦ混合溶媒に攪拌・溶解し、そこへ硬化
剤として２−メチルイミダゾール５重量部、チタネート
系カップリング剤［味の素（株）製 ＫＲ−４６Ｂ］
０．２重量部、硫酸バリウム２０重量部を添加して接着
剤ワニスを作製した。以下、図１に示す工程にて多層プ
リント配線板を作製した。前記接着剤ワニスを厚さ１８
μｍの銅箔（１）のアンカー面に乾燥後の厚みが５０μ
ｍとなるようにローラーコーターにて塗布、乾燥して接
着剤付き銅箔（３）を得た（ａ）。次に、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂（エポキシ当量４７０、重量平均分
子量約９００）１００重量部をグリシジルメタクリレー
ト４０重量部に溶解し、これに硬化剤として２−メチル
イミダゾール３重量部と光重合開始剤（チバガイギー製
イルガキュア６５１）１．２重量部を添加し、ホモミキ
サーにて十分攪拌してアンダーコート剤とした。更に、
基材厚０．１ｍｍ、銅箔厚３５μｍのガラスエポキシ両
面銅張積層板をパターン加工して内層回路板を得た。銅
箔表面を黒化処理した後、上記アンダーコート剤をカー
テンコーターにより厚さ約４０μｍに塗工した。その
後、ＵＶコンベア機にて８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯２本で
約２Ｊ／ｃｍ２ の条件で紫外線照射し、アンダーコー
ト剤をタックフリー化した。かかるアンダーコート剤の
層を有する内層回路板上に上記層間絶縁接着剤付き銅箔
を、温度１００℃、圧力４Ｋｇ／ｃｍ２ 、ラミネート
スピード０．８ｍ／分の条件より、硬質ロールを用いて
上記熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔をラミネートし、１
５０℃、３０分間加熱硬化させ多層プリント配線板を作
製した。
【００１８】《実施例２》末端水酸基変性ポリエーテル
サルフォン［平均分子量２４０００、住友化学工業
（株）製 ５００３Ｐ］１００重量部、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂［エポキシ当量１９０、大日本イ
ンキ化学（株）製 エピクロンＮ−７７０］７０重量
部、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１
７５、大日本インキ化学（株）製 エピクロン８３０］
３０重量部とをＭＥＫ、ＤＭＦ混合溶媒に攪拌・溶解
し、そこへ硬化剤として２−メチルイミダゾール５重量
部、チタネート系カップリング剤［味の素（株）製 Ｋ
Ｒ−４６Ｂ］０．２重量部、硫酸バリウム２０重量部を
添加して接着剤ワニスを作製した。多層プリント配線板
作製については実施例１と同様にして行った。
サルフォン［平均分子量２４０００、住友化学工業
（株）製 ５００３Ｐ］１００重量部、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂［エポキシ当量１９０、大日本イ
ンキ化学（株）製 エピクロンＮ−７７０］７０重量
部、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１
７５、大日本インキ化学（株）製 エピクロン８３０］
３０重量部とをＭＥＫ、ＤＭＦ混合溶媒に攪拌・溶解
し、そこへ硬化剤として２−メチルイミダゾール５重量
部、チタネート系カップリング剤［味の素（株）製 Ｋ
Ｒ−４６Ｂ］０．２重量部、硫酸バリウム２０重量部を
添加して接着剤ワニスを作製した。多層プリント配線板
作製については実施例１と同様にして行った。
【００１９】《実施例３》ポリサルフォン［帝人アモコ
エンジニアリングプラスチックス（株）製、ユーデルＰ
−１７００］１００重量部、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂［エポキシ当量２８５、日本化薬（株）製
ＢＲＥＮ−Ｓ］４０重量部、ビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂［エポキシ当量１７５、大日本インキ化学（株）
製 エピクロン８３０］２０重量部とをＭＥＫに攪拌・
溶解し、そこへ硬化剤としてメチルテトラヒドロ無水フ
タル酸３５重量部、硬化促進剤として２−フェニル−４
−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール０．５重
量部、チタネート系カップリング剤［味の素（株）製
ＫＲ−４６Ｂ］０．２重量部、硫酸バリウム２０重量部
を添加して接着剤ワニスを作製し、実施例１と同様にし
て多層プリント配線板を作製した。
エンジニアリングプラスチックス（株）製、ユーデルＰ
−１７００］１００重量部、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂［エポキシ当量２８５、日本化薬（株）製
ＢＲＥＮ−Ｓ］４０重量部、ビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂［エポキシ当量１７５、大日本インキ化学（株）
製 エピクロン８３０］２０重量部とをＭＥＫに攪拌・
溶解し、そこへ硬化剤としてメチルテトラヒドロ無水フ
タル酸３５重量部、硬化促進剤として２−フェニル−４
−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール０．５重
量部、チタネート系カップリング剤［味の素（株）製
ＫＲ−４６Ｂ］０．２重量部、硫酸バリウム２０重量部
を添加して接着剤ワニスを作製し、実施例１と同様にし
て多層プリント配線板を作製した。
【００２０】《実施例４》末端水酸基変性ポリエーテル
サルフォン［平均分子量２４０００、住友化学工業
（株）製 ５００３Ｐ］１００重量部、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂［エポキシ当量１９０、大日本イ
ンキ化学（株）製 エピクロンＮ−７７０］３０重量
部、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１
７５、大日本インキ化学（株）製 エピクロン８３０−
Ｓ］１５重量部とをＭＥＫ、ＤＭＦ混合溶媒に攪拌・溶
解し、そこへ硬化剤として２−メチルイミダゾール５重
量部、水酸化マグネシウム３０重量部を添加して接着剤
ワニスを作製し、実施例１と同様にして多層プリント配
線板を作製した。
サルフォン［平均分子量２４０００、住友化学工業
（株）製 ５００３Ｐ］１００重量部、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂［エポキシ当量１９０、大日本イ
ンキ化学（株）製 エピクロンＮ−７７０］３０重量
部、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１
７５、大日本インキ化学（株）製 エピクロン８３０−
Ｓ］１５重量部とをＭＥＫ、ＤＭＦ混合溶媒に攪拌・溶
解し、そこへ硬化剤として２−メチルイミダゾール５重
量部、水酸化マグネシウム３０重量部を添加して接着剤
ワニスを作製し、実施例１と同様にして多層プリント配
線板を作製した。
【００２１】《比較例１》ビスフェノールＡ型フェノキ
シ樹脂［平均分子量３００００］１００重量部とビスフ
ェノールＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１７５、大日
本インキ化学（株）製 エピクロン８３０］４０重量部
を使用した以外は実施例１と同様にして多層プリント配
線板を得た。 《比較例２》末端水酸基変性ポリエーテルサルフォン
［平均分子量２４０００、住友化学工業（株）製 ５０
０３Ｐ］１００重量部、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂［エポキシ当量１９０、大日本インキ化学（株）
製 エピクロンＮ−７７０］８０重量部、ビスフェノー
ルＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１７５、大日本イン
キ化学（株）製 エピクロン８３０］４０重量部とを使
用し、チタネート系カップリング剤［味の素（株）製
ＫＲ−４６Ｂ］及び、硫酸バリウムを除いた以外は実施
例１と同様にして多層プリント配線板を作製した。
シ樹脂［平均分子量３００００］１００重量部とビスフ
ェノールＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１７５、大日
本インキ化学（株）製 エピクロン８３０］４０重量部
を使用した以外は実施例１と同様にして多層プリント配
線板を得た。 《比較例２》末端水酸基変性ポリエーテルサルフォン
［平均分子量２４０００、住友化学工業（株）製 ５０
０３Ｐ］１００重量部、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂［エポキシ当量１９０、大日本インキ化学（株）
製 エピクロンＮ−７７０］８０重量部、ビスフェノー
ルＦ型エポキシ樹脂［エポキシ当量１７５、大日本イン
キ化学（株）製 エピクロン８３０］４０重量部とを使
用し、チタネート系カップリング剤［味の素（株）製
ＫＲ−４６Ｂ］及び、硫酸バリウムを除いた以外は実施
例１と同様にして多層プリント配線板を作製した。
【００２２】以上得られた多層プリント配線板につい
て、表面平滑性、吸湿半田耐熱性、ピール強度及び難燃
性を測定し、表１に示す結果を得た。 《測定方法》 内層回路板試験片：線間１５０μｍピッチ、クリアラン
スホール１．０ｍｍφ １．表面平滑性：ＪＩＳ Ｂ ０６０１ Ｒ（ｍａｘ） ２．吸湿半田耐熱性 吸湿条件：プレッシャークッカー処理、１２５℃、２．
３気圧、３０分 試験条件：ｎ＝５で、５個の試験片が２８０℃、１２０
秒間で膨れた個数をみた。 ３．ピール強度：ＪＩＳ Ｃ ６４８６による ４．難燃性： ＪＩＳ Ｃ ６４８１による
て、表面平滑性、吸湿半田耐熱性、ピール強度及び難燃
性を測定し、表１に示す結果を得た。 《測定方法》 内層回路板試験片：線間１５０μｍピッチ、クリアラン
スホール１．０ｍｍφ １．表面平滑性：ＪＩＳ Ｂ ０６０１ Ｒ（ｍａｘ） ２．吸湿半田耐熱性 吸湿条件：プレッシャークッカー処理、１２５℃、２．
３気圧、３０分 試験条件：ｎ＝５で、５個の試験片が２８０℃、１２０
秒間で膨れた個数をみた。 ３．ピール強度：ＪＩＳ Ｃ ６４８６による ４．難燃性： ＪＩＳ Ｃ ６４８１による
【００２３】 表 １ 表面平滑性 吸湿半田 ピール強度 難燃性 （μｍ） 耐熱性 （kg／cm） 実施例１ ５ ０ １.４ Ｖ−０ 実施例２ ３ ０ １.３ Ｖ−０ 実施例３ ５ ０ １.３ Ｖ−０ 実施例４ ５ ０ １.３ Ｖ−０ 比較例１ ５ ０ １.３ 燃焼 比較例２ ３ ３ １.４ 燃焼
【００２４】
【発明の効果】本発明の多層プリント配線板用層間絶縁
接着剤は、ワニスの状態あるいは銅箔にコートした状態
において、保存性にすぐれ、アンダーコート剤が塗工さ
れた内層回路基板にラミネートしたとき一体硬化が良好
に行われるので、得られた多層プリント配線板は特に難
燃性、環境面、耐熱性に優れ、電気特性はもちろんのこ
と、耐湿性等においても優れた特性を有している。
接着剤は、ワニスの状態あるいは銅箔にコートした状態
において、保存性にすぐれ、アンダーコート剤が塗工さ
れた内層回路基板にラミネートしたとき一体硬化が良好
に行われるので、得られた多層プリント配線板は特に難
燃性、環境面、耐熱性に優れ、電気特性はもちろんのこ
と、耐湿性等においても優れた特性を有している。
【図１】本発明の層間絶縁接着剤を用いて多層プリント
配線板を作製する工程の一例を示す概略断面図
配線板を作製する工程の一例を示す概略断面図
１ 内層回路板 ２ 内層回路 ３ アンダーコート剤 ４ 熱硬化型絶縁接着剤 ５ 銅箔 ６ 硬質ロール ７ 多層プリント配線板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｃ０８Ｌ 63/00 Ａ
Claims (6)
- 【請求項１】 下記の各成分を必須成分として含有する
ことを特徴とする多層プリント配線板用層間絶縁接着
剤。 （イ）重量平均分子量１０3〜１０5の硫黄成分含有熱可
塑性樹脂、（ロ）無機充填材、（ハ）エポキシ当量５０
０以下のエポキシ樹脂、及び（ニ）エポキシ樹脂硬化
剤、 - 【請求項２】 （イ）成分が、（イ）成分及び（ハ）成
分の合計重量の３０〜９０重量％である請求項１記載の
多層プリント配線板用層間絶縁接着剤。 - 【請求項３】 （ロ）成分が、（ハ）成分の５〜５０重
量％である請求項１又は２記載の多層プリント配線板用
層間絶縁接着剤。 - 【請求項４】 （イ）成分の重量平均分子量１０3〜１
０5の硫黄成分含有熱可塑性樹脂が、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォ
ン、ビスフェノールＳ型フェノキシ樹脂である請求項
１、２又は３記載の多層プリント配線板用層間絶縁接着
剤。 - 【請求項５】 （ハ）成分が、ビスフェノール型エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、及びアミノフェノ
ール型エポキシ樹脂から選ばれた１種又は２種以上であ
る請求項１、２、３又は４記載の多層プリント配線板用
層間絶縁接着剤。 - 【請求項６】 請求項１、２、３、４又は５記載の層間
絶縁接着剤を銅箔にコーティングしてなる多層プリント
配線板用銅箔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26242597A JPH11100562A (ja) | 1997-09-26 | 1997-09-26 | 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26242597A JPH11100562A (ja) | 1997-09-26 | 1997-09-26 | 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002074368A Division JP2002327161A (ja) | 2002-03-18 | 2002-03-18 | 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11100562A true JPH11100562A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=17375612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26242597A Pending JPH11100562A (ja) | 1997-09-26 | 1997-09-26 | 多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11100562A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002131508A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ロッドレンズアレイおよびその製造方法 |
| US6410145B1 (en) | 1999-07-02 | 2002-06-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Thermosetting resin composition for build-up |
| JP2002198659A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
| WO2003029189A1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-10 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for producing (2-nitrophenyl)acetonitrile derivative and intermediate therefor |
| WO2003099952A1 (fr) * | 2002-05-27 | 2003-12-04 | Ajinomoto Co., Inc. | Pellicule adhesive et preimpregne |
| US7047634B2 (en) * | 2002-02-25 | 2006-05-23 | Fujitsu Limited | Method of making a multilayer wiring board |
| US7087664B2 (en) * | 2003-01-31 | 2006-08-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin film and multilayer printed wiring board using thereof |
| KR100691103B1 (ko) | 2004-11-30 | 2007-03-09 | 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 | 동장 적층판 |
| WO2009072497A1 (ja) * | 2007-12-03 | 2009-06-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 回路部材接続用接着剤及び半導体装置 |
| EA025441B1 (ru) * | 2008-12-24 | 2016-12-30 | МЬЮЖН АйПи ЛИМИТЕД | Система и способ создания призрачной иллюзии пеппера |
-
1997
- 1997-09-26 JP JP26242597A patent/JPH11100562A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2009072497A1 (ja) * | 2007-12-03 | 2009-06-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 回路部材接続用接着剤及び半導体装置 |
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| EA025441B1 (ru) * | 2008-12-24 | 2016-12-30 | МЬЮЖН АйПи ЛИМИТЕД | Система и способ создания призрачной иллюзии пеппера |
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