JP2001181862A - 基材への防汚性付与方法及び防汚性部材 - Google Patents
基材への防汚性付与方法及び防汚性部材Info
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- JP2001181862A JP2001181862A JP36079199A JP36079199A JP2001181862A JP 2001181862 A JP2001181862 A JP 2001181862A JP 36079199 A JP36079199 A JP 36079199A JP 36079199 A JP36079199 A JP 36079199A JP 2001181862 A JP2001181862 A JP 2001181862A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材が複雑形状品の場合にも対応可能であ
り、基材全体に熱をかけることなく被覆可能な基材表面
への防汚性付与方法及び防汚性部材を提供すること。 【解決手段】 基材表面に、溶射法により無機酸化物層
を形成する工程、前記無機酸化物層上に撥水性被膜を形
成する工程を含むことを特徴とする基材への防汚性付与
方法。
り、基材全体に熱をかけることなく被覆可能な基材表面
への防汚性付与方法及び防汚性部材を提供すること。 【解決手段】 基材表面に、溶射法により無機酸化物層
を形成する工程、前記無機酸化物層上に撥水性被膜を形
成する工程を含むことを特徴とする基材への防汚性付与
方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、防汚性部材に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、基材上にフッ素樹脂やシリコ
ーン樹脂等を被覆して基材表面を撥水性にすることによ
り、基材表面の汚れを落としやすくする方法が提案され
ている。しかしながら、従来の上記方法では、基材全体
に熱をかけることなく被覆すると、耐摩耗性が充分では
なかった。また、基材表面をコロナ放電等の方法で親水
性にした後に、シリコーン樹脂等を被覆する方法も提案
されているが、基材が複雑形状品の場合には対応できな
かった。
ーン樹脂等を被覆して基材表面を撥水性にすることによ
り、基材表面の汚れを落としやすくする方法が提案され
ている。しかしながら、従来の上記方法では、基材全体
に熱をかけることなく被覆すると、耐摩耗性が充分では
なかった。また、基材表面をコロナ放電等の方法で親水
性にした後に、シリコーン樹脂等を被覆する方法も提案
されているが、基材が複雑形状品の場合には対応できな
かった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明では、
基材が複雑形状品の場合にも対応可能であり、基材全体
に熱をかけることなく被覆可能な基材表面への防汚性付
与方法及び防汚性部材を提供することにある。
基材が複雑形状品の場合にも対応可能であり、基材全体
に熱をかけることなく被覆可能な基材表面への防汚性付
与方法及び防汚性部材を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、基材表面に、溶射法により無機酸化物層を
形成する工程、前記無機酸化物層上に撥水性被膜を形成
する工程を含むことを特徴とする基材への防汚性付与方
法、及び基材表面に、溶射法により形成された無機酸化
物層を介して撥水性被膜が形成されていることを特徴と
する防汚性部材を提供する。撥水性被膜を表面に形成す
ることで、基材表面の汚れが落としやすくなる。また、
無機酸化物層を介することで、耐摩耗性が向上する。さ
らに、無機酸化物層を形成するのに溶射法を用いること
により、基材が複雑形状品の場合にも対応可能となり、
基材全体に熱をかけることなく被覆可能となる。
解決すべく、基材表面に、溶射法により無機酸化物層を
形成する工程、前記無機酸化物層上に撥水性被膜を形成
する工程を含むことを特徴とする基材への防汚性付与方
法、及び基材表面に、溶射法により形成された無機酸化
物層を介して撥水性被膜が形成されていることを特徴と
する防汚性部材を提供する。撥水性被膜を表面に形成す
ることで、基材表面の汚れが落としやすくなる。また、
無機酸化物層を介することで、耐摩耗性が向上する。さ
らに、無機酸化物層を形成するのに溶射法を用いること
により、基材が複雑形状品の場合にも対応可能となり、
基材全体に熱をかけることなく被覆可能となる。
【０００５】本発明の好ましい基材への防汚性付与方
法、及び防汚性部材においては、前記撥水性被膜には、
抗菌剤及び／又は抗黴剤が含有されているようにする。
そうすることにより、菌や黴に基づく汚れも防止可能と
なる。
法、及び防汚性部材においては、前記撥水性被膜には、
抗菌剤及び／又は抗黴剤が含有されているようにする。
そうすることにより、菌や黴に基づく汚れも防止可能と
なる。
【０００６】本発明の好ましい基材への防汚性付与方法
においては、前記無機酸化物層を形成する工程と、前記
撥水性被膜を形成する工程との間に、プライマー層を形
成する工程を行うようにする。また、本発明の好ましい
防汚性部材においては、前記基材と前記無機酸化物層の
間には、プライマー層が形成されているようにする。そ
うすることにより、防汚性被膜の基材への固着性が向上
する。
においては、前記無機酸化物層を形成する工程と、前記
撥水性被膜を形成する工程との間に、プライマー層を形
成する工程を行うようにする。また、本発明の好ましい
防汚性部材においては、前記基材と前記無機酸化物層の
間には、プライマー層が形成されているようにする。そ
うすることにより、防汚性被膜の基材への固着性が向上
する。
【０００７】本発明の好ましい基材への防汚性付与方
法、及び防汚性部材においては、前記撥水性被膜は、水
との接触角９０°以上であるようにする。そうすること
で、表面エネルギーが小さくなり、汚れが被膜表面に付
着しにくくなる。
法、及び防汚性部材においては、前記撥水性被膜は、水
との接触角９０°以上であるようにする。そうすること
で、表面エネルギーが小さくなり、汚れが被膜表面に付
着しにくくなる。
【０００８】本発明の好ましい基材への防汚性付与方
法、及び防汚性部材においては、前記撥水性被膜は、シ
リコーン被膜であるようにする。そうすることで、基材
表面に共有結合又は静電力による結合という強い結合力
で固着させることが可能となり、耐摩耗性が良好とな
る。
法、及び防汚性部材においては、前記撥水性被膜は、シ
リコーン被膜であるようにする。そうすることで、基材
表面に共有結合又は静電力による結合という強い結合力
で固着させることが可能となり、耐摩耗性が良好とな
る。
【０００９】本発明の好ましい基材への防汚性付与方
法、及び防汚性部材においては、前記撥水性被膜は、フ
ルオロ基を含有するようにする。そうすることで、表面
エネルギーがより小さくなり、汚れが被膜表面により付
着しにくくなる。
法、及び防汚性部材においては、前記撥水性被膜は、フ
ルオロ基を含有するようにする。そうすることで、表面
エネルギーがより小さくなり、汚れが被膜表面により付
着しにくくなる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の具体的構成につ
いて図に基づき説明する。本発明の一実施態様において
は、図１に示すように、基材１上に溶射法により形成さ
れた無機酸化物層２を介して撥水性被膜３が形成されて
いる。
いて図に基づき説明する。本発明の一実施態様において
は、図１に示すように、基材１上に溶射法により形成さ
れた無機酸化物層２を介して撥水性被膜３が形成されて
いる。
【００１１】基材１の材質は、金属、プラスチック、ゴ
ム、木材、繊維、布帛、陶磁器、セラミック、ガラス、
コンクリート、石材又はそれらの複合材のいずれでもよ
い。基材１の用途は、以下に限定されるものではない
が、例えば、キッチンシンク、浴槽、便器、局部洗浄器
のノズル、便座、便蓋、洗面器、洗面キャビネット、水
栓金具、パネル、つまみ、電話機等に利用可能である。
ム、木材、繊維、布帛、陶磁器、セラミック、ガラス、
コンクリート、石材又はそれらの複合材のいずれでもよ
い。基材１の用途は、以下に限定されるものではない
が、例えば、キッチンシンク、浴槽、便器、局部洗浄器
のノズル、便座、便蓋、洗面器、洗面キャビネット、水
栓金具、パネル、つまみ、電話機等に利用可能である。
【００１２】無機酸化物層２には、以下に限定されない
が、シリカ、アルミナ、アルカリシリケート、ボロニ
ア、チタニア、ジルコニア、ハフニア、アルミノシリケ
ート、ホウケイ酸塩等を１種以上含む被膜が好適に利用
可能である。
が、シリカ、アルミナ、アルカリシリケート、ボロニ
ア、チタニア、ジルコニア、ハフニア、アルミノシリケ
ート、ホウケイ酸塩等を１種以上含む被膜が好適に利用
可能である。
【００１３】撥水性被膜３には、被膜表面の水との接触
角が９０°以上の被膜が利用可能である。具体的には、
シリコーン被膜、フッ素樹脂被膜、フッ素化合物被膜が
好適に利用できる。フッ素樹脂としては、例えば、ポリ
フッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化三フッ
化エチレン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ四フッ化エチ
レンー六フッ化プロピレンコポリマー、エチレンーポリ
四フッ化エチレンコポリマー、エチレンーポリ塩化三フ
ッ化エチレンコポリマー、四フッ化エチレンーパーフル
オロアルキルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロ
シクロポリマー、ビニルエーテルーフルオロオレフィン
コポリマー、ビニルエステルーフルオロオレフィンコポ
リマー等が好適に利用できる。フッ素化合物には、フッ
化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、
フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、フッ化スカン
ジウム、フッ化イットリウム、フッ化ジルコニウム、フ
ッ化ハフニウム、フッ化マンガン、フッ化鉄、フッ化コ
バルト、フッ化ニッケル、フッ化銅、フッ化アルミニウ
ム、フッ化ガリウム、フッ化インジウム、フッ化ビスマ
ス、フッ化ランタン、フッ化セリウム、フッ化プラセオ
ジウム、フッ化ネオジウム、フッ化サマリウム、フッ化
ユーロピウム、フッ化テルビウム、フッ化ジスプロシウ
ム、フッ化ホルミウム、フッ化エルビウム、フッ化ツリ
ウム、フッ化イッテルビウム、フッ化ルテチウム等が好
適に利用できる。
角が９０°以上の被膜が利用可能である。具体的には、
シリコーン被膜、フッ素樹脂被膜、フッ素化合物被膜が
好適に利用できる。フッ素樹脂としては、例えば、ポリ
フッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化三フッ
化エチレン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ四フッ化エチ
レンー六フッ化プロピレンコポリマー、エチレンーポリ
四フッ化エチレンコポリマー、エチレンーポリ塩化三フ
ッ化エチレンコポリマー、四フッ化エチレンーパーフル
オロアルキルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロ
シクロポリマー、ビニルエーテルーフルオロオレフィン
コポリマー、ビニルエステルーフルオロオレフィンコポ
リマー等が好適に利用できる。フッ素化合物には、フッ
化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、
フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、フッ化スカン
ジウム、フッ化イットリウム、フッ化ジルコニウム、フ
ッ化ハフニウム、フッ化マンガン、フッ化鉄、フッ化コ
バルト、フッ化ニッケル、フッ化銅、フッ化アルミニウ
ム、フッ化ガリウム、フッ化インジウム、フッ化ビスマ
ス、フッ化ランタン、フッ化セリウム、フッ化プラセオ
ジウム、フッ化ネオジウム、フッ化サマリウム、フッ化
ユーロピウム、フッ化テルビウム、フッ化ジスプロシウ
ム、フッ化ホルミウム、フッ化エルビウム、フッ化ツリ
ウム、フッ化イッテルビウム、フッ化ルテチウム等が好
適に利用できる。
【００１４】「シリコーン被膜」とは、シリコーン中の
ケイ素原子に１つ以上の有機基が結合されているシリコ
ーン、すなわち、平均組成式ＲｐＳｉＸｑＯ（４−ｐ−
ｑ）／２（式中、Ｒは、炭素数１〜１８の一価の有機
基、Ｘは炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｐ及びｑ
は、０＜ｐ＜２、０＜ｑ＜４、０＜ｐ＋ｑ＜４を満足す
る数である）で表される未硬化のシリコーンを硬化させ
て得た被膜である。上記未硬化のシリコーンは、２官能
シラン誘導体モノマー（分子当り２個の加水分解性基を
有し、各ケイ素原子に２つの酸素原子が結合した２官能
シロキサン結合を形成するモノマー）及び／又は３官能
シラン誘導体モノマー（分子当り３個の加水分解性基を
有し、各ケイ素原子に３つの酸素原子が結合した３官能
シロキサン結合を形成するモノマー）を必須成分とし、
必要に応じて４官能シラン誘導体モノマー（分子当り４
個の加水分解性基を有し、各ケイ素原子に４つの酸素原
子が結合した４官能シロキサン結合を形成するモノマ
ー）を配合させた組成物を、加水分解、縮重合させるこ
とにより得られる。ここで、２官能シラン誘導体として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニ
ルメチルジエトキシシラン、γーグリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γーグリシドキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、γー（メタ）アクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γー（メタ）アクリロキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γーアミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γーアミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルメチル
ジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルメチル
ジエトキシシラン等が好適に利用できる。３官能シラン
誘導体としては、メチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、
メチルトリｔーブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロ
ポキシシラン、エチルトリｔーブトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔーブトキシ
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、ｎ−プロピルトリｔーブトキシシラン、ｎ−
ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキ
シシラン、ｎ−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、ｎ
−ヘキシルトリｔーブトキシシラン、ｎ−デシルトリメ
トキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デ
シルトリイソプロポキシシラン、ｎ−デシルトリｔーブ
トキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、
ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシ
ルトリイソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ
ーブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェ
ニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシ
シラン、フェニルトリｔーブトキシシラン、γーグリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γーグリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリイソプロポキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリｔーブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リイソプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリｔーブトキシシラン、γー（メ
タ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γー
（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ
ー（メタ）アクリロキシプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γー（メタ）アクリロキシプロピルトリｔーブト
キシシラン、γーアミノプロピルトリメトキシシラン、
γーアミノプロピルトリエトキシシラン、γーアミノプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、γーアミノプロピル
トリｔーブトキシシラン、γーメルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γーメルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、γーメルカプトプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γーメルカプトプロピルトリｔーブトキシシラ
ン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフ
ルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピル
トリｔーブトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチル
トリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリ
エトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリイソ
プロポキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリｔ
ーブトキシシラン等が好適に利用できる。４官能シラン
誘導体としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｔーブ
トキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等が好適に
利用できる。上記未硬化のシリコーンのうち、γーグリ
シドキシプロピル基、β−（３、４−エポキシシクロヘ
キシル）基、γー（メタ）アクリロキシ基等を有するも
のは、シロキサン架橋以外の有機架橋が形成可能であ
り、常温硬化性を得る上で好ましい。また、上記未硬化
のシリコーンにおいて、常温硬化性を高めるために、硬
化剤を添加してもよい。硬化剤としては、例えば、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナト
リウムメチラート、酢酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム、
酢酸カリウム、ギ酸カリウム、プロピオン酸カリウム、
テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド等の塩基性化合物類；ｎ−ヘキ
シルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデ
セン、エチレンジアミン、ヘキサンジアミン、ジエチレ
ントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレ
ンベンタミン、エタノールアミン類、γーアミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γーアミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、γー（２ーアミノメチル）ーアミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γー（２ーアミノメチル）ー
アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミン化合
物；テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタ
ネート等のチタン化合物；アルミニウムトリイソブトキ
シド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウ
ムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩化
アルミニウム等のアルミニウム化合物；錫アセチルアセ
トナート、ジブチル錫オクチレート等の錫化合物；コバ
ルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、鉄
アセチルアセトナート等の含金属化合物類；リン酸、硝
酸、フタル酸、ｐートルエンスルホン酸、トリクロル酢
酸等の酸性化合物類などが好適に利用できる。更に、硬
化被膜の硬度、耐擦傷性を向上させるために、或いは、
高屈折率化させて光沢性を向上させるために、金属酸化
物微粒子を添加してもよい。金属酸化物としては、シリ
カ、アルミナ、酸化セリウム、酸化錫、酸化ジルコニウ
ム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、酸化鉄、酸化チ
タン、希土類酸化物等が利用できる。
ケイ素原子に１つ以上の有機基が結合されているシリコ
ーン、すなわち、平均組成式ＲｐＳｉＸｑＯ（４−ｐ−
ｑ）／２（式中、Ｒは、炭素数１〜１８の一価の有機
基、Ｘは炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｐ及びｑ
は、０＜ｐ＜２、０＜ｑ＜４、０＜ｐ＋ｑ＜４を満足す
る数である）で表される未硬化のシリコーンを硬化させ
て得た被膜である。上記未硬化のシリコーンは、２官能
シラン誘導体モノマー（分子当り２個の加水分解性基を
有し、各ケイ素原子に２つの酸素原子が結合した２官能
シロキサン結合を形成するモノマー）及び／又は３官能
シラン誘導体モノマー（分子当り３個の加水分解性基を
有し、各ケイ素原子に３つの酸素原子が結合した３官能
シロキサン結合を形成するモノマー）を必須成分とし、
必要に応じて４官能シラン誘導体モノマー（分子当り４
個の加水分解性基を有し、各ケイ素原子に４つの酸素原
子が結合した４官能シロキサン結合を形成するモノマ
ー）を配合させた組成物を、加水分解、縮重合させるこ
とにより得られる。ここで、２官能シラン誘導体として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニ
ルメチルジエトキシシラン、γーグリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γーグリシドキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、γー（メタ）アクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γー（メタ）アクリロキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γーアミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γーアミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルメチル
ジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルメチル
ジエトキシシラン等が好適に利用できる。３官能シラン
誘導体としては、メチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、
メチルトリｔーブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロ
ポキシシラン、エチルトリｔーブトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔーブトキシ
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、ｎ−プロピルトリｔーブトキシシラン、ｎ−
ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキ
シシラン、ｎ−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、ｎ
−ヘキシルトリｔーブトキシシラン、ｎ−デシルトリメ
トキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デ
シルトリイソプロポキシシラン、ｎ−デシルトリｔーブ
トキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、
ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシ
ルトリイソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ
ーブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェ
ニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシ
シラン、フェニルトリｔーブトキシシラン、γーグリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γーグリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリイソプロポキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリｔーブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リイソプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリｔーブトキシシラン、γー（メ
タ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γー
（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ
ー（メタ）アクリロキシプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γー（メタ）アクリロキシプロピルトリｔーブト
キシシラン、γーアミノプロピルトリメトキシシラン、
γーアミノプロピルトリエトキシシラン、γーアミノプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、γーアミノプロピル
トリｔーブトキシシラン、γーメルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γーメルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、γーメルカプトプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γーメルカプトプロピルトリｔーブトキシシラ
ン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフ
ルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピル
トリｔーブトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチル
トリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリ
エトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリイソ
プロポキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリｔ
ーブトキシシラン等が好適に利用できる。４官能シラン
誘導体としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｔーブ
トキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等が好適に
利用できる。上記未硬化のシリコーンのうち、γーグリ
シドキシプロピル基、β−（３、４−エポキシシクロヘ
キシル）基、γー（メタ）アクリロキシ基等を有するも
のは、シロキサン架橋以外の有機架橋が形成可能であ
り、常温硬化性を得る上で好ましい。また、上記未硬化
のシリコーンにおいて、常温硬化性を高めるために、硬
化剤を添加してもよい。硬化剤としては、例えば、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナト
リウムメチラート、酢酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム、
酢酸カリウム、ギ酸カリウム、プロピオン酸カリウム、
テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド等の塩基性化合物類；ｎ−ヘキ
シルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデ
セン、エチレンジアミン、ヘキサンジアミン、ジエチレ
ントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレ
ンベンタミン、エタノールアミン類、γーアミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γーアミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、γー（２ーアミノメチル）ーアミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γー（２ーアミノメチル）ー
アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミン化合
物；テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタ
ネート等のチタン化合物；アルミニウムトリイソブトキ
シド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウ
ムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩化
アルミニウム等のアルミニウム化合物；錫アセチルアセ
トナート、ジブチル錫オクチレート等の錫化合物；コバ
ルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、鉄
アセチルアセトナート等の含金属化合物類；リン酸、硝
酸、フタル酸、ｐートルエンスルホン酸、トリクロル酢
酸等の酸性化合物類などが好適に利用できる。更に、硬
化被膜の硬度、耐擦傷性を向上させるために、或いは、
高屈折率化させて光沢性を向上させるために、金属酸化
物微粒子を添加してもよい。金属酸化物としては、シリ
カ、アルミナ、酸化セリウム、酸化錫、酸化ジルコニウ
ム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、酸化鉄、酸化チ
タン、希土類酸化物等が利用できる。
【００１５】「抗菌剤」には、以下に限定されないが、
銀、銅、亜鉛等の抗菌性金属及びその化合物、それらの
担持物（担持物には、シリカ、ゼオライト、アパタイ
ト、リン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸ア
ルミニウム、リン酸亜鉛等が利用可能）、第四級アンモ
ニウム塩、ニトリル誘導体、イミダゾール誘導体、ベン
ゾチアゾール誘導体、イソチアゾール誘導体、チアジチ
アゾール誘導体、トリアジン誘導体、スルホン誘導体、
フェノール誘導体、フェノールエステル誘導体、ピロー
ル誘導体等が好適に利用できる。
銀、銅、亜鉛等の抗菌性金属及びその化合物、それらの
担持物（担持物には、シリカ、ゼオライト、アパタイ
ト、リン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸ア
ルミニウム、リン酸亜鉛等が利用可能）、第四級アンモ
ニウム塩、ニトリル誘導体、イミダゾール誘導体、ベン
ゾチアゾール誘導体、イソチアゾール誘導体、チアジチ
アゾール誘導体、トリアジン誘導体、スルホン誘導体、
フェノール誘導体、フェノールエステル誘導体、ピロー
ル誘導体等が好適に利用できる。
【００１６】「抗黴剤」には、以下に限定されないが、
テプコナゾール、２−ピリジンチオール−１−オキサイ
ド亜鉛、２，４，４’−トリクロロ−２’−ヒドロオキ
シジフェニルエーテル、１０−１０’オキシビスフェノ
キシアルシン、銅、銀、亜鉛、銅化合物、銀化合物、亜
鉛化合物、銅担持物、亜鉛担持物、銀担持物（担持物に
は、シリカ、ゼオライト、アパタイト、リン酸カルシウ
ム、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、リン酸
亜鉛等が利用可能）等が好適に利用できる。
テプコナゾール、２−ピリジンチオール−１−オキサイ
ド亜鉛、２，４，４’−トリクロロ−２’−ヒドロオキ
シジフェニルエーテル、１０−１０’オキシビスフェノ
キシアルシン、銅、銀、亜鉛、銅化合物、銀化合物、亜
鉛化合物、銅担持物、亜鉛担持物、銀担持物（担持物に
は、シリカ、ゼオライト、アパタイト、リン酸カルシウ
ム、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、リン酸
亜鉛等が利用可能）等が好適に利用できる。
【００１７】上記実施態様の防汚性部材の製造方法は、
例えば、基材１表面に、溶射法により無機酸化物層２を
形成する工程、前記無機酸化物層上に撥水性被膜３を形
成する工程により行う。尚、基材１と無機酸化物層２と
の間にプライマー層や着色性被膜が設けられるようにし
てもよい。また、被膜表面の撥油性については、オレイ
ン酸との接触角で６０°以上が好ましい。また、被膜表
面の水の転落角は５０°以下が好ましい。
例えば、基材１表面に、溶射法により無機酸化物層２を
形成する工程、前記無機酸化物層上に撥水性被膜３を形
成する工程により行う。尚、基材１と無機酸化物層２と
の間にプライマー層や着色性被膜が設けられるようにし
てもよい。また、被膜表面の撥油性については、オレイ
ン酸との接触角で６０°以上が好ましい。また、被膜表
面の水の転落角は５０°以下が好ましい。
【００１８】
【実施例】キッチンシンクの部材として使用されている
ステンレス板を用意し、ブラスト処理を行い表面をあら
す。次に、たとえばＳｉＯ２−ＴｉＯ２−Ｎａ２Ｏ−Ｋ
２Ｏ−ＣａＯから成る原料粉末を１２００℃で加熱溶解
し、冷却後ガラス化したものを５〜２５μｍ程度の粒度
分布になるように粉砕した後、フレーム溶射装置を用い
てステンレス板上に製膜する。膜厚は１００μｍであっ
た。その後、有機溶媒で洗浄後、たとえば撥水性シリコ
ーン皮膜となるヘプタデカフルオロデシルトリメトキシ
シランを含む撥水剤を調合し、ディッピングした。撥水
剤の調合はヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラ
ン ３２ｇ、水４．２ｇ、硝酸２．６ｇ、有機錫系硬化
剤０．６４ｇ、イソプロピルアルコール１６００ｇとし
た。撥水剤中にサンプルを３０分間浸漬すると、サンプ
ル膜表面には水酸基が多数含まれているので、ヘプタデ
カフルオロデシルトリメトキシシランのメトキシ基と前
期水酸基が反応し、脱メトキシ反応が生じる。その後、
サンプルを取り出し、常温で約１週間放置し硬化させ
た。サンプル表面にはヘプタデカフルオロデシルシラン
の結合が生成され、膜厚約２ｎｍ、水接触角は１１０°
であった。製膜膜特性を評価するため、表面に食用油を
１滴、約０．２ｃｃ滴下しその拭き取りのし易さを比較
した。実施例のサンプル表面の油はきれいに拭き取りさ
れたが、従来のステンレス板ではその表面に薄く油膜が
残り拭き取りが難しい結果であった。また、耐久性試験
として、表面を布で擦る試験を行った所、摩擦回数３０
０００回後も接触角は１０５°を維持した。なお、耐久
試験後のサンプル表面の食用油拭き取り試験でもきれい
にふき取ることができた。
ステンレス板を用意し、ブラスト処理を行い表面をあら
す。次に、たとえばＳｉＯ２−ＴｉＯ２−Ｎａ２Ｏ−Ｋ
２Ｏ−ＣａＯから成る原料粉末を１２００℃で加熱溶解
し、冷却後ガラス化したものを５〜２５μｍ程度の粒度
分布になるように粉砕した後、フレーム溶射装置を用い
てステンレス板上に製膜する。膜厚は１００μｍであっ
た。その後、有機溶媒で洗浄後、たとえば撥水性シリコ
ーン皮膜となるヘプタデカフルオロデシルトリメトキシ
シランを含む撥水剤を調合し、ディッピングした。撥水
剤の調合はヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラ
ン ３２ｇ、水４．２ｇ、硝酸２．６ｇ、有機錫系硬化
剤０．６４ｇ、イソプロピルアルコール１６００ｇとし
た。撥水剤中にサンプルを３０分間浸漬すると、サンプ
ル膜表面には水酸基が多数含まれているので、ヘプタデ
カフルオロデシルトリメトキシシランのメトキシ基と前
期水酸基が反応し、脱メトキシ反応が生じる。その後、
サンプルを取り出し、常温で約１週間放置し硬化させ
た。サンプル表面にはヘプタデカフルオロデシルシラン
の結合が生成され、膜厚約２ｎｍ、水接触角は１１０°
であった。製膜膜特性を評価するため、表面に食用油を
１滴、約０．２ｃｃ滴下しその拭き取りのし易さを比較
した。実施例のサンプル表面の油はきれいに拭き取りさ
れたが、従来のステンレス板ではその表面に薄く油膜が
残り拭き取りが難しい結果であった。また、耐久性試験
として、表面を布で擦る試験を行った所、摩擦回数３０
０００回後も接触角は１０５°を維持した。なお、耐久
試験後のサンプル表面の食用油拭き取り試験でもきれい
にふき取ることができた。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、基材が複雑形状品の場
合にも対応可能であり、基材全体に熱をかけることなく
被覆可能な基材表面への防汚性付与方法及び防汚性部材
を提供することが可能となる。
合にも対応可能であり、基材全体に熱をかけることなく
被覆可能な基材表面への防汚性付与方法及び防汚性部材
を提供することが可能となる。
【図１】 本発明の一実施態様を示す図。
１…基材、２…溶射法により形成された無機酸化物層、
３…撥水性被膜
３…撥水性被膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ３２Ｂ 9/00 Ｂ３２Ｂ 9/00 Ａ Ｃ０９Ｄ 1/00 Ｃ０９Ｄ 1/00 5/00 5/00 Ｚ 5/14 5/14 5/16 5/16 127/12 127/12 183/04 183/04 Ｃ２３Ｃ 4/10 Ｃ２３Ｃ 4/10 Ｆターム(参考） 4D075 AA19 CA34 CA36 CA45 EB01 EB16 EB42 4F100 AA17B AB04A AK52C AT00A BA03 BA07 BA10A BA10C CA30C CB00 EH56B GB07 GB71 JB06C JL06 YY00C 4J038 AA011 CD091 CD101 CD111 CD121 CE041 DL021 DL031 DL051 DL101 GA12 HA066 HA106 HA116 HA126 HA161 HA406 HA446 HA456 JA25 JA64 JB01 JB32 JB35 JC12 JC18 JC38 NA02 NA05 PB02 PC02 PC03 PC04 PC06 PC07 PC08 PC10 4K031 AB02 BA01 CB09 CB10 CB14 CB15 CB42 CB43 CB44 CB47 CB48 DA01 FA09 4K044 AA01 AA11 AA12 AA13 AA16 BA12 BA13 BA14 BA21 BB03 BB04 CA11 CA53
Claims (12)
- 【請求項１】 基材表面に、溶射法により無機酸化物層
を形成する工程、前記無機酸化物層上に撥水性被膜を形
成する工程を含むことを特徴とする基材への防汚性付与
方法。 - 【請求項２】 前記撥水性被膜には、抗菌剤及び／又は
抗黴剤が含有されていることを特徴とする請求項１に記
載の基材への防汚性付与方法。 - 【請求項３】 前記無機酸化物層を形成する工程と、前
記撥水性被膜を形成する工程との間に、プライマー層を
形成する工程を行うことを特徴とする請求項１又は２に
記載の基材への防汚性付与方法。 - 【請求項４】 前記撥水性被膜は、水との接触角９０°
以上であることを特徴とする請求項１〜３に記載の基材
への防汚性付与方法。 - 【請求項５】 前記撥水性被膜は、シリコーン被膜であ
ることを特徴とする請求項１〜４に記載の基材への防汚
性付与方法。 - 【請求項６】 前記撥水性被膜は、フルオロ基を含有す
る被膜であることを特徴とする請求項１〜５に記載の基
材への防汚性付与方法。 - 【請求項７】 基材表面に、溶射法により形成された無
機酸化物層を介して撥水性被膜が形成されていることを
特徴とする防汚性部材。 - 【請求項８】 前記撥水性被膜には、抗菌剤及び／又は
抗黴剤が含有されていることを特徴とする請求項７に記
載の防汚性部材。 - 【請求項９】 前記基材と前記無機酸化物層の間には、
プライマー層が形成されていることを特徴とする請求項
７又は８に記載の防汚性部材。 - 【請求項１０】 前記撥水性被膜は、水との接触角９０
°以上であることを特徴とする請求項７〜９に記載の防
汚性部材。 - 【請求項１１】 前記撥水性被膜は、シリコーン被膜で
あることを特徴とする請求項７〜１０に記載の防汚性部
材。 - 【請求項１２】 前記撥水性被膜は、フルオロ基を含有
する被膜であることを特徴とする請求項７〜１１に記載
の防汚性部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36079199A JP2001181862A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 基材への防汚性付与方法及び防汚性部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36079199A JP2001181862A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 基材への防汚性付与方法及び防汚性部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001181862A true JP2001181862A (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=18470938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36079199A Pending JP2001181862A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 基材への防汚性付与方法及び防汚性部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001181862A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006083211A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 防汚性縮合硬化型オルガノポリシロキサン組成物及び水中構造物 |
| JP2010174168A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hiroshima Univ | 抗菌性塗料組成物、物品表面のガラス化抗菌処理方法、ガラス化抗菌処理物 |
| US7799432B2 (en) | 2002-04-29 | 2010-09-21 | Leibniz-Institut Fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige Gmbh | Substrates having a biofilm-inhibiting coating |
| US10619070B2 (en) | 2014-08-26 | 2020-04-14 | Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd. | Coating liquid, coating film, and composite material |
| JP2020180377A (ja) * | 2017-04-14 | 2020-11-05 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | シンク |
-
1999
- 1999-12-20 JP JP36079199A patent/JP2001181862A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7799432B2 (en) | 2002-04-29 | 2010-09-21 | Leibniz-Institut Fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige Gmbh | Substrates having a biofilm-inhibiting coating |
| KR101004558B1 (ko) * | 2002-04-29 | 2011-01-03 | 라이브니츠-인스티투트 퓌어 노이에 마테리알리엔 게마인누찌게 게엠베하 | 생물막-저해 코팅을 갖는 기재들 |
| JP2006083211A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 防汚性縮合硬化型オルガノポリシロキサン組成物及び水中構造物 |
| JP4508794B2 (ja) * | 2004-09-14 | 2010-07-21 | 信越化学工業株式会社 | 防汚性縮合硬化型オルガノポリシロキサン組成物及び水中構造物 |
| JP2010174168A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hiroshima Univ | 抗菌性塗料組成物、物品表面のガラス化抗菌処理方法、ガラス化抗菌処理物 |
| US10619070B2 (en) | 2014-08-26 | 2020-04-14 | Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd. | Coating liquid, coating film, and composite material |
| JP2020180377A (ja) * | 2017-04-14 | 2020-11-05 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | シンク |
| JP6998555B2 (ja) | 2017-04-14 | 2022-01-18 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | シンク |
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