JP2001161575A - カウンター天板 - Google Patents
カウンター天板Info
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- JP2001161575A JP2001161575A JP35205799A JP35205799A JP2001161575A JP 2001161575 A JP2001161575 A JP 2001161575A JP 35205799 A JP35205799 A JP 35205799A JP 35205799 A JP35205799 A JP 35205799A JP 2001161575 A JP2001161575 A JP 2001161575A
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- Japan
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- counter top
- top plate
- fluoride
- coating
- film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 油性の汚れ及び水垢の汚れが容易に除去可能
なカウンター天板、及びそれを備えたシステムキッチン
及び流し台を提供すること。 【解決手段】 ステンレス基材表面に、防汚性被膜のシ
リコーン樹脂が形成されていることを特徴とするカウン
ター天板、及びそれを備えたシステムキッチン及び流し
台。
なカウンター天板、及びそれを備えたシステムキッチン
及び流し台を提供すること。 【解決手段】 ステンレス基材表面に、防汚性被膜のシ
リコーン樹脂が形成されていることを特徴とするカウン
ター天板、及びそれを備えたシステムキッチン及び流し
台。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カウンター天板及
びそれを備えたシステムキッチン及び流し台に関する。
びそれを備えたシステムキッチン及び流し台に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のステンレス製のカウンター天板で
は、天板表面に油性汚れが強固につきやすかった。ま
た、ステンレス表面には水滴が乾燥していわゆる水垢が
固着し、その除去が難しかった。
は、天板表面に油性汚れが強固につきやすかった。ま
た、ステンレス表面には水滴が乾燥していわゆる水垢が
固着し、その除去が難しかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明では、カウンタ
ー天板の油性の汚れが容易に拭き取り除去可能であり、
水垢が付着しにくいシステムキッチン天板、及びそれを
備えたシステムキッチン及び流し台を提供することを目
的とする。
ー天板の油性の汚れが容易に拭き取り除去可能であり、
水垢が付着しにくいシステムキッチン天板、及びそれを
備えたシステムキッチン及び流し台を提供することを目
的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決すべく、ステンレス基材表面に防汚性被膜が形成さ
れていることを特徴とするカウンター天板を提供する。
防汚性被膜が形成されていることにより、油汚れや水垢
が直接ステンレス基材と結合することがない。それによ
り、油性の汚れや水垢が容易に除去可能となる。
解決すべく、ステンレス基材表面に防汚性被膜が形成さ
れていることを特徴とするカウンター天板を提供する。
防汚性被膜が形成されていることにより、油汚れや水垢
が直接ステンレス基材と結合することがない。それによ
り、油性の汚れや水垢が容易に除去可能となる。
【０００５】本発明の好ましい態様においては、前記防
汚性被膜には、抗菌剤及び／又は抗黴剤が含有されてい
る。そうすることにより、菌や黴に基づく汚れも防止可
能となる。
汚性被膜には、抗菌剤及び／又は抗黴剤が含有されてい
る。そうすることにより、菌や黴に基づく汚れも防止可
能となる。
【０００６】本発明の好ましい態様においては、前記基
材と前記防汚性被膜の間には、着色性被膜が形成されて
いるようにする。そうすることにより、表面の防汚性を
維持しつつ、自由にカラーコーディネート可能になる。
材と前記防汚性被膜の間には、着色性被膜が形成されて
いるようにする。そうすることにより、表面の防汚性を
維持しつつ、自由にカラーコーディネート可能になる。
【０００７】本発明の好ましい態様においては、前記基
材と前記防汚性被膜の間には、無機酸化物被膜が形成さ
れているようにする。そうすることで、被膜の基材への
密着性が向上する。
材と前記防汚性被膜の間には、無機酸化物被膜が形成さ
れているようにする。そうすることで、被膜の基材への
密着性が向上する。
【０００８】本発明の好ましい態様においては、前記基
材と前記防汚性被膜の間には、プライマー層が形成され
ているようにする。そうすることで、被膜の基材への密
着性が向上する。
材と前記防汚性被膜の間には、プライマー層が形成され
ているようにする。そうすることで、被膜の基材への密
着性が向上する。
【０００９】本発明の好ましい態様においては、水との
接触角９０°以上の撥水性被膜であるようにする。そう
することで、表面エネルギーが小さくなり、汚れが被膜
表面に付着しにくくなる。
接触角９０°以上の撥水性被膜であるようにする。そう
することで、表面エネルギーが小さくなり、汚れが被膜
表面に付着しにくくなる。
【００１０】本発明の好ましい態様においては、前記撥
水性被膜は、シリコーン被膜であるようにする。そうす
ることで、基材表面に共有結合又は静電力による結合と
いう強い結合力で固着させることが可能となり、耐摩耗
性が良好となる。
水性被膜は、シリコーン被膜であるようにする。そうす
ることで、基材表面に共有結合又は静電力による結合と
いう強い結合力で固着させることが可能となり、耐摩耗
性が良好となる。
【００１１】本発明の好ましい態様においては、前記撥
水性被膜は、フルオロ基を含有するようにする。そうす
ることで、表面エネルギーがより小さくなり、汚れが被
膜表面により付着しにくくなる。
水性被膜は、フルオロ基を含有するようにする。そうす
ることで、表面エネルギーがより小さくなり、汚れが被
膜表面により付着しにくくなる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る用語につい
て説明する。
て説明する。
【００１３】「抗菌剤」には、以下に限定されないが、
銀、銅、亜鉛等の抗菌性金属及びその化合物、それらの
担持物（担持物には、シリカ、ゼオライト、アパタイ
ト、リン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸ア
ルミニウム、リン酸亜鉛等が利用可能）、第四級アンモ
ニウム塩、ニトリル誘導体、イミダゾール誘導体、ベン
ゾチアゾール誘導体、イソチアゾール誘導体、チアジチ
アゾール誘導体、トリアジン誘導体、スルホン誘導体、
フェノール誘導体、フェノールエステル誘導体、ピロー
ル誘導体等が好適に利用できる。
銀、銅、亜鉛等の抗菌性金属及びその化合物、それらの
担持物（担持物には、シリカ、ゼオライト、アパタイ
ト、リン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸ア
ルミニウム、リン酸亜鉛等が利用可能）、第四級アンモ
ニウム塩、ニトリル誘導体、イミダゾール誘導体、ベン
ゾチアゾール誘導体、イソチアゾール誘導体、チアジチ
アゾール誘導体、トリアジン誘導体、スルホン誘導体、
フェノール誘導体、フェノールエステル誘導体、ピロー
ル誘導体等が好適に利用できる。
【００１４】「抗黴剤」には、以下に限定されないが、
テプコナゾール、２−ピリジンチオール−１−オキサイ
ド亜鉛、２，４，４’−トリクロロ−２’−ヒドロオキ
シジフェニルエーテル、１０−１０’オキシビスフェノ
キシアルシン、銅、銀、亜鉛、銅化合物、銀化合物、亜
鉛化合物、銅担持物、亜鉛担持物、銀担持物（担持物に
は、シリカ、ゼオライト、アパタイト、リン酸カルシウ
ム、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、リン酸
亜鉛等が利用可能）等が好適に利用できる。
テプコナゾール、２−ピリジンチオール−１−オキサイ
ド亜鉛、２，４，４’−トリクロロ−２’−ヒドロオキ
シジフェニルエーテル、１０−１０’オキシビスフェノ
キシアルシン、銅、銀、亜鉛、銅化合物、銀化合物、亜
鉛化合物、銅担持物、亜鉛担持物、銀担持物（担持物に
は、シリカ、ゼオライト、アパタイト、リン酸カルシウ
ム、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、リン酸
亜鉛等が利用可能）等が好適に利用できる。
【００１５】「撥水性被膜」とは、被膜表面の水との接
触角が９０°以上の被膜をいう。具体的には、シリコー
ン被膜、フッ素樹脂被膜、フッ素化合物被膜が好適に利
用できる。フッ素樹脂としては、例えば、ポリフッ化ビ
ニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化三フッ化エチレ
ン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ四フッ化エチレンー六
フッ化プロピレンコポリマー、エチレンーポリ四フッ化
エチレンコポリマー、エチレンーポリ塩化三フッ化エチ
レンコポリマー、四フッ化エチレンーパーフルオロアル
キルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロシクロポ
リマー、ビニルエーテルーフルオロオレフィンコポリマ
ー、ビニルエステルーフルオロオレフィンコポリマー等
が好適に利用できる。フッ素化合物には、フッ化リチウ
ム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ス
トロンチウム、フッ化バリウム、フッ化スカンジウム、
フッ化イットリウム、フッ化ジルコニウム、フッ化ハフ
ニウム、フッ化マンガン、フッ化鉄、フッ化コバルト、
フッ化ニッケル、フッ化銅、フッ化アルミニウム、フッ
化ガリウム、フッ化インジウム、フッ化ビスマス、フッ
化ランタン、フッ化セリウム、フッ化プラセオジウム、
フッ化ネオジウム、フッ化サマリウム、フッ化ユーロピ
ウム、フッ化テルビウム、フッ化ジスプロシウム、フッ
化ホルミウム、フッ化エルビウム、フッ化ツリウム、フ
ッ化イッテルビウム、フッ化ルテチウム等が好適に利用
できる。
触角が９０°以上の被膜をいう。具体的には、シリコー
ン被膜、フッ素樹脂被膜、フッ素化合物被膜が好適に利
用できる。フッ素樹脂としては、例えば、ポリフッ化ビ
ニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化三フッ化エチレ
ン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ四フッ化エチレンー六
フッ化プロピレンコポリマー、エチレンーポリ四フッ化
エチレンコポリマー、エチレンーポリ塩化三フッ化エチ
レンコポリマー、四フッ化エチレンーパーフルオロアル
キルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロシクロポ
リマー、ビニルエーテルーフルオロオレフィンコポリマ
ー、ビニルエステルーフルオロオレフィンコポリマー等
が好適に利用できる。フッ素化合物には、フッ化リチウ
ム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ス
トロンチウム、フッ化バリウム、フッ化スカンジウム、
フッ化イットリウム、フッ化ジルコニウム、フッ化ハフ
ニウム、フッ化マンガン、フッ化鉄、フッ化コバルト、
フッ化ニッケル、フッ化銅、フッ化アルミニウム、フッ
化ガリウム、フッ化インジウム、フッ化ビスマス、フッ
化ランタン、フッ化セリウム、フッ化プラセオジウム、
フッ化ネオジウム、フッ化サマリウム、フッ化ユーロピ
ウム、フッ化テルビウム、フッ化ジスプロシウム、フッ
化ホルミウム、フッ化エルビウム、フッ化ツリウム、フ
ッ化イッテルビウム、フッ化ルテチウム等が好適に利用
できる。
【００１６】「シリコーン被膜」とは、シリコーン中の
ケイ素原子に１つ以上の有機基が結合されているシリコ
ーン、すなわち、平均組成式ＲｐＳｉＸｑＯ（４−ｐ−
ｑ）／２（式中、Ｒは、炭素数１〜１８の一価の有機
基、Ｘは炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｐ及びｑ
は、０＜ｐ＜２、０＜ｑ＜４、０＜ｐ＋ｑ＜４を満足す
る数である）で表される未硬化のシリコーンを硬化させ
て得た被膜である。上記未硬化のシリコーンは、２官能
シラン誘導体モノマー（分子当り２個の加水分解性基を
有し、各ケイ素原子に２つの酸素原子が結合した２官能
シロキサン結合を形成するモノマー）及び／又は３官能
シラン誘導体モノマー（分子当り３個の加水分解性基を
有し、各ケイ素原子に３つの酸素原子が結合した３官能
シロキサン結合を形成するモノマー）を必須成分とし、
必要に応じて４官能シラン誘導体モノマー（分子当り４
個の加水分解性基を有し、各ケイ素原子に４つの酸素原
子が結合した４官能シロキサン結合を形成するモノマ
ー）を配合させた組成物を、加水分解、縮重合させるこ
とにより得られる。ここで、２官能シラン誘導体として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニ
ルメチルジエトキシシラン、γーグリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γーグリシドキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、γー（メタ）アクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γー（メタ）アクリロキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γーアミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γーアミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルメチル
ジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルメチル
ジエトキシシラン等が好適に利用できる。３官能シラン
誘導体としては、メチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、
メチルトリｔーブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロ
ポキシシラン、エチルトリｔーブトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔーブトキシ
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、ｎ−プロピルトリｔーブトキシシラン、ｎ−
ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキ
シシラン、ｎ−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、ｎ
−ヘキシルトリｔーブトキシシラン、ｎ−デシルトリメ
トキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デ
シルトリイソプロポキシシラン、ｎ−デシルトリｔーブ
トキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、
ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシ
ルトリイソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ
ーブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェ
ニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシ
シラン、フェニルトリｔーブトキシシラン、γーグリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γーグリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリイソプロポキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリｔーブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リイソプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリｔーブトキシシラン、γー（メ
タ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γー
（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ
ー（メタ）アクリロキシプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γー（メタ）アクリロキシプロピルトリｔーブト
キシシラン、γーアミノプロピルトリメトキシシラン、
γーアミノプロピルトリエトキシシラン、γーアミノプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、γーアミノプロピル
トリｔーブトキシシラン、γーメルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γーメルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、γーメルカプトプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γーメルカプトプロピルトリｔーブトキシシラ
ン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフ
ルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピル
トリｔーブトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチル
トリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリ
エトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリイソ
プロポキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリｔ
ーブトキシシラン等が好適に利用できる。４官能シラン
誘導体としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｔーブ
トキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等が好適に
利用できる。上記未硬化のシリコーンのうち、γーグリ
シドキシプロピル基、β−（３、４−エポキシシクロヘ
キシル）基、γー（メタ）アクリロキシ基等を有するも
のは、シロキサン架橋以外の有機架橋が形成可能であ
り、常温硬化性を得る上で好ましい。また、上記未硬化
のシリコーンにおいて、常温硬化性を高めるために、硬
化剤を添加してもよい。硬化剤としては、例えば、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナト
リウムメチラート、酢酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム、
酢酸カリウム、ギ酸カリウム、プロピオン酸カリウム、
テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド等の塩基性化合物類；ｎ−ヘキ
シルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデ
セン、エチレンジアミン、ヘキサンジアミン、ジエチレ
ントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレ
ンベンタミン、エタノールアミン類、γーアミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γーアミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、γー（２ーアミノメチル）ーアミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γー（２ーアミノメチル）ー
アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミン化合
物；テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタ
ネート等のチタン化合物；アルミニウムトリイソブトキ
シド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウ
ムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩化
アルミニウム等のアルミニウム化合物；錫アセチルアセ
トナート、ジブチル錫オクチレート等の錫化合物；コバ
ルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、鉄
アセチルアセトナート等の含金属化合物類；リン酸、硝
酸、フタル酸、ｐートルエンスルホン酸、トリクロル酢
酸等の酸性化合物類などが好適に利用できる。更に、硬
化被膜の硬度、耐擦傷性を向上させるために、或いは、
高屈折率化させて光沢性を向上させるために、金属酸化
物微粒子を添加してもよい。金属酸化物としては、シリ
カ、アルミナ、酸化セリウム、酸化錫、酸化ジルコニウ
ム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、酸化鉄、酸化チ
タン、希土類酸化物等が利用できる。
ケイ素原子に１つ以上の有機基が結合されているシリコ
ーン、すなわち、平均組成式ＲｐＳｉＸｑＯ（４−ｐ−
ｑ）／２（式中、Ｒは、炭素数１〜１８の一価の有機
基、Ｘは炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｐ及びｑ
は、０＜ｐ＜２、０＜ｑ＜４、０＜ｐ＋ｑ＜４を満足す
る数である）で表される未硬化のシリコーンを硬化させ
て得た被膜である。上記未硬化のシリコーンは、２官能
シラン誘導体モノマー（分子当り２個の加水分解性基を
有し、各ケイ素原子に２つの酸素原子が結合した２官能
シロキサン結合を形成するモノマー）及び／又は３官能
シラン誘導体モノマー（分子当り３個の加水分解性基を
有し、各ケイ素原子に３つの酸素原子が結合した３官能
シロキサン結合を形成するモノマー）を必須成分とし、
必要に応じて４官能シラン誘導体モノマー（分子当り４
個の加水分解性基を有し、各ケイ素原子に４つの酸素原
子が結合した４官能シロキサン結合を形成するモノマ
ー）を配合させた組成物を、加水分解、縮重合させるこ
とにより得られる。ここで、２官能シラン誘導体として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニ
ルメチルジエトキシシラン、γーグリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γーグリシドキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、γー（メタ）アクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γー（メタ）アクリロキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γーアミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γーアミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルメチル
ジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルメチル
ジエトキシシラン等が好適に利用できる。３官能シラン
誘導体としては、メチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、
メチルトリｔーブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロ
ポキシシラン、エチルトリｔーブトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔーブトキシ
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、ｎ−プロピルトリｔーブトキシシラン、ｎ−
ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキ
シシラン、ｎ−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、ｎ
−ヘキシルトリｔーブトキシシラン、ｎ−デシルトリメ
トキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デ
シルトリイソプロポキシシラン、ｎ−デシルトリｔーブ
トキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、
ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシ
ルトリイソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ
ーブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェ
ニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシ
シラン、フェニルトリｔーブトキシシラン、γーグリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γーグリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリイソプロポキシシラン、γーグリシドキシプロピ
ルトリｔーブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リイソプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリｔーブトキシシラン、γー（メ
タ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γー
（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ
ー（メタ）アクリロキシプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γー（メタ）アクリロキシプロピルトリｔーブト
キシシラン、γーアミノプロピルトリメトキシシラン、
γーアミノプロピルトリエトキシシラン、γーアミノプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、γーアミノプロピル
トリｔーブトキシシラン、γーメルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γーメルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、γーメルカプトプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γーメルカプトプロピルトリｔーブトキシシラ
ン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフ
ルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピル
トリｔーブトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチル
トリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリ
エトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリイソ
プロポキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルトリｔ
ーブトキシシラン等が好適に利用できる。４官能シラン
誘導体としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｔーブ
トキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等が好適に
利用できる。上記未硬化のシリコーンのうち、γーグリ
シドキシプロピル基、β−（３、４−エポキシシクロヘ
キシル）基、γー（メタ）アクリロキシ基等を有するも
のは、シロキサン架橋以外の有機架橋が形成可能であ
り、常温硬化性を得る上で好ましい。また、上記未硬化
のシリコーンにおいて、常温硬化性を高めるために、硬
化剤を添加してもよい。硬化剤としては、例えば、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナト
リウムメチラート、酢酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム、
酢酸カリウム、ギ酸カリウム、プロピオン酸カリウム、
テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド等の塩基性化合物類；ｎ−ヘキ
シルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデ
セン、エチレンジアミン、ヘキサンジアミン、ジエチレ
ントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレ
ンベンタミン、エタノールアミン類、γーアミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γーアミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、γー（２ーアミノメチル）ーアミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γー（２ーアミノメチル）ー
アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミン化合
物；テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタ
ネート等のチタン化合物；アルミニウムトリイソブトキ
シド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウ
ムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩化
アルミニウム等のアルミニウム化合物；錫アセチルアセ
トナート、ジブチル錫オクチレート等の錫化合物；コバ
ルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、鉄
アセチルアセトナート等の含金属化合物類；リン酸、硝
酸、フタル酸、ｐートルエンスルホン酸、トリクロル酢
酸等の酸性化合物類などが好適に利用できる。更に、硬
化被膜の硬度、耐擦傷性を向上させるために、或いは、
高屈折率化させて光沢性を向上させるために、金属酸化
物微粒子を添加してもよい。金属酸化物としては、シリ
カ、アルミナ、酸化セリウム、酸化錫、酸化ジルコニウ
ム、酸化ハフニウム、酸化アンチモン、酸化鉄、酸化チ
タン、希土類酸化物等が利用できる。
【００１７】以下に、本発明の好ましい構成について説
明する。本発明のシステムキッチン天板の一実施態様に
おいては、ステンレス基材表面に、フルオロ基含有シリ
コーン樹脂からなる撥水性被膜が形成されている。撥水
性被膜は、その表面が水との接触角９０°以上である。
尚、ステンレス基材と撥水性被膜との間に無機酸化物被
膜やプライマー層や着色性被膜や無機酸化物を含む着色
性被膜や無機酸化物を含むプライマー層が設けられるよ
うにしてもよい。また、被膜表面の撥油性については、
オレイン酸との接触角で６０°以上が好ましい。また、
被膜表面の水の転落角は５０°以下が好ましい。上記実
施態様のシンクの製造方法は、例えば、フルオロアルキ
ルシロキサン塗料を、シンクの形状に予め加工したステ
ンレス基材上に塗布することにより形成する。
明する。本発明のシステムキッチン天板の一実施態様に
おいては、ステンレス基材表面に、フルオロ基含有シリ
コーン樹脂からなる撥水性被膜が形成されている。撥水
性被膜は、その表面が水との接触角９０°以上である。
尚、ステンレス基材と撥水性被膜との間に無機酸化物被
膜やプライマー層や着色性被膜や無機酸化物を含む着色
性被膜や無機酸化物を含むプライマー層が設けられるよ
うにしてもよい。また、被膜表面の撥油性については、
オレイン酸との接触角で６０°以上が好ましい。また、
被膜表面の水の転落角は５０°以下が好ましい。上記実
施態様のシンクの製造方法は、例えば、フルオロアルキ
ルシロキサン塗料を、シンクの形状に予め加工したステ
ンレス基材上に塗布することにより形成する。
【００１８】
【実施例】システムキッチン天板の部材として使用され
ているステンレス板を用意し、有機溶媒で洗浄後、たと
えば撥水性シリコーン皮膜となるヘプタデカフルオロデ
シルトリメトキシシランを含む撥水剤を調合し、ディッ
ピングした。撥水剤の調合はヘプタデカフルオロデシル
トリメトキシシラン ３２ｇ、水４．２ｇ、硝酸２．６
ｇ、イソプロピルアルコール１６００ｇとした。撥水剤
中にサンプルを３０分間浸漬すると、サンプル膜表面に
は水酸基が多数含まれているので、ヘプタデカフルオロ
デシルトリメトキシシランのメトキシ基と前期水酸基が
反応し、脱メトキシ反応が生じる。その後、サンプルを
取り出し、自然乾燥後に約２００℃の温度で焼き付け
る。サンプル表面にはヘプタデカフルオロデシルシラン
の結合が生成され、膜厚約２ｎｍ、水接触角は１１０°
であった。
ているステンレス板を用意し、有機溶媒で洗浄後、たと
えば撥水性シリコーン皮膜となるヘプタデカフルオロデ
シルトリメトキシシランを含む撥水剤を調合し、ディッ
ピングした。撥水剤の調合はヘプタデカフルオロデシル
トリメトキシシラン ３２ｇ、水４．２ｇ、硝酸２．６
ｇ、イソプロピルアルコール１６００ｇとした。撥水剤
中にサンプルを３０分間浸漬すると、サンプル膜表面に
は水酸基が多数含まれているので、ヘプタデカフルオロ
デシルトリメトキシシランのメトキシ基と前期水酸基が
反応し、脱メトキシ反応が生じる。その後、サンプルを
取り出し、自然乾燥後に約２００℃の温度で焼き付け
る。サンプル表面にはヘプタデカフルオロデシルシラン
の結合が生成され、膜厚約２ｎｍ、水接触角は１１０°
であった。
【００１９】製膜膜特性を評価するため、表面に食用油
または水垢を付着させてその拭き取りのし易さを実験し
た。食用油を１滴、約０．２ｃｃサンプル板表面に滴下
し、食用油の拭き取りのし易さを比較した。実施例のサ
ンプル表面の油はきれいに拭き取りされたが、従来のス
テンレス板ではその表面に薄く油膜が残り拭き取りが難
しい結果であった。
または水垢を付着させてその拭き取りのし易さを実験し
た。食用油を１滴、約０．２ｃｃサンプル板表面に滴下
し、食用油の拭き取りのし易さを比較した。実施例のサ
ンプル表面の油はきれいに拭き取りされたが、従来のス
テンレス板ではその表面に薄く油膜が残り拭き取りが難
しい結果であった。
【００２０】一方、水垢除去試験は水道水をサンプル板
上に１０滴、約２ｃｃ滴下して、１００℃乾燥を２０回
繰り返した。サンプル板表面にスケールを付着させ、そ
の水垢の拭き取りし易さを比較した。実施例のサンプル
表面は水垢が少しの力できれいに拭き取りできたが、従
来のステンレス板では水垢が一部除去されない結果であ
った。
上に１０滴、約２ｃｃ滴下して、１００℃乾燥を２０回
繰り返した。サンプル板表面にスケールを付着させ、そ
の水垢の拭き取りし易さを比較した。実施例のサンプル
表面は水垢が少しの力できれいに拭き取りできたが、従
来のステンレス板では水垢が一部除去されない結果であ
った。
【発明の効果】本発明によれば、油性の汚れ及び水垢の
汚れが容易に除去可能なカウンター天板、及びそれを備
えたシステムキッチン及び流し台を提供することが可能
となる。
汚れが容易に除去可能なカウンター天板、及びそれを備
えたシステムキッチン及び流し台を提供することが可能
となる。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2D032 GA04 2D061 BA04 BE10
Claims (10)
- 【請求項１】 ステンレス基材表面に防汚性被膜が形成
されていることを特徴とするカウンター天板。 - 【請求項２】 前記防汚性被膜には、抗菌剤及び／又は
抗黴剤が含有されていることを特徴とする請求項１に記
載のカウンター天板。 - 【請求項３】 前記基材と前記防汚性被膜の間には、着
色性被膜が形成されていることを特徴とする請求項１〜
２に記載のカウンター天板。 - 【請求項４】 前記基材と前記防汚性被膜の間には、無
機酸化物被膜が形成されていることを特徴とする請求項
１〜３に記載のカウンター天板。 - 【請求項５】 前記基材と前記防汚性被膜の間には、プ
ライマー層が形成されていることを特徴とする請求項１
〜４に記載のカウンター天板。 - 【請求項６】 前記防汚性被膜はシリコーン被膜である
ことを特徴とする請求項１〜５に記載のカウンター天
板。 - 【請求項７】 前記撥水性被膜は、フルオロ基を含有す
る被膜であることを特徴とする請求項６に記載のカウン
ター天板。 - 【請求項８】 前記防汚性被膜は、水との接触角９０°
以上の撥水性被膜であることを特徴とする請求項１〜７
に記載のカウンター天板。 - 【請求項９】 請求項１〜８に記載のカウンター天板を
備えていることを特徴とするシステムキッチン。 - 【請求項１０】 請求項１〜８に記載のカウンター天板
を備えていることを特徴とする流し台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35205799A JP2001161575A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | カウンター天板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35205799A JP2001161575A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | カウンター天板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001161575A true JP2001161575A (ja) | 2001-06-19 |
Family
ID=18421500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35205799A Pending JP2001161575A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | カウンター天板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001161575A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008087850A1 (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Toray Industries, Inc. | 浄水器 |
| JP2008173538A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Toray Ind Inc | 浄水器 |
| JP2009030333A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | ヘアキャッチャー |
| JP2013022030A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-02-04 | Lixil Corp | 洗面ボウル付きカウンター |
-
1999
- 1999-12-10 JP JP35205799A patent/JP2001161575A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008087850A1 (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Toray Industries, Inc. | 浄水器 |
| JP2008173538A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Toray Ind Inc | 浄水器 |
| JP2009030333A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | ヘアキャッチャー |
| JP2013022030A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-02-04 | Lixil Corp | 洗面ボウル付きカウンター |
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