JP2001039951A - 4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造法 - Google Patents

4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造法

Info

Publication number
JP2001039951A
JP2001039951A JP11218650A JP21865099A JP2001039951A JP 2001039951 A JP2001039951 A JP 2001039951A JP 11218650 A JP11218650 A JP 11218650A JP 21865099 A JP21865099 A JP 21865099A JP 2001039951 A JP2001039951 A JP 2001039951A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
strong base
methylpyridine
pyridyl
butanediol
represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11218650A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Nishiyama
章 西山
Kazumi Oguro
一美 大黒
Kenji Inoue
健二 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP11218650A priority Critical patent/JP2001039951A/ja
Priority to CA002314458A priority patent/CA2314458A1/en
Priority to DE60004747T priority patent/DE60004747T2/de
Priority to EP00402196A priority patent/EP1074544B1/en
Priority to AT00402196T priority patent/ATE248149T1/de
Priority to US09/631,678 priority patent/US6388086B1/en
Publication of JP2001039951A publication Critical patent/JP2001039951A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬品中間体として有用な4−(3−ピリジ
ル)−1,2−ブタンジオールを、安価で入手容易な原
料から簡便に製造できる方法を提供する。 【解決手段】 3−メチルピリジンに強塩基を作用させ
ることにより調製される3−メチルピリジン金属塩とO
−保護グリシドールを反応させることにより、1−O−
保護−4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオール
を製造し、更に脱保護することからなる4−(3−ピリ
ジル)−1,2−ブタンジオールの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品中間体、特
にトリプターゼ阻害剤中間体等として有用な4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来、4−(3−ピリジル)−1,2−
ブタンジオールの製造法として、3−ピリジルメチルト
リフェニルホスフォニウムクロライド塩酸塩を出発物質
として、2,3−O−イソプロピリデングリセルアルデ
ヒドとカップリングさせ、4−(3−ピリジル)−1,
2−O−イソプロピリデンブト−3−エン−1,2−ジ
オールを合成し、オレフィンの水素化、脱アセトニド化
工程を経て製造する方法(WO98/42669)が知
られているが、高価な原料が出発物質であり、多工程を
経て製造されるなどの理由から、工業的な生産を行う上
で効率的な方法ではない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記に鑑み、本発明の
目的は、医薬品中間体として有用な下記式 ( IV );
【0004】
【化9】
【0005】で表される4−(3−ピリジル)−1,2
−ブタンジオールを、安価な原料から簡便に製造できる
方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記現状
に鑑み鋭意検討を行った結果、安価で入手容易な原料か
ら下記式 ( IV );
【0007】
【化10】
【0008】で表される4−(3−ピリジル)−1,2
−ブタンジオールの簡便な製造法を開発するに至った。
即ち、本発明は、3−メチルピリジンに強塩基を作用さ
せることにより調製される下記式(I);
【0009】
【化11】
【0010】(式中、Mは、リチウム、ナトリウム、カ
リウム、又はマグネシウムハライドを表し、ハライドは
クロライド又はブロマイドを表す。)で表される3−メ
チルピリジン金属塩と下記式(II);
【0011】
【化12】
【0012】(式中、R1は、Oの保護基を表す)で表
されるO−保護グリシドールを反応させることにより、
下記式(III);
【0013】
【化13】
【0014】で表される1−O−保護−4−(3−ピリ
ジル)−1,2−ブタンジオールとし、更に脱保護する
ことを特徴とする下記式(IV)
【0015】
【化14】
【0016】で表される4−(3−ピリジル)−1,2
−ブタンジオールの製造法である。なおこれまで、3−
メチルピリジンから発生させた金属塩とエピクロロヒド
リンを反応させた例(WO97/20815)が知られ
ているが、収率に課題があり、また3−メチルピリジン
から発生させた金属塩とアリールオキシグリシドール誘
導体を反応させることが表記されているが、具体的な実
施例が開示されておらず、3−メチルピリジンから発生
させた金属塩とO−保護グリシドールを効率的、且つ実
用的な収率で反応させた具体例は知られていない。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳述する。
上記式(I)において、Mはリチウム、ナトリウム、カ
リウム、又はマグネシウムハライドを表し、ハライドは
クロライド又はブロマイドを表す。好ましくは、リチウ
ムである。
【0018】上記式(II)及び(III)において、
はOの保護基を表し、一般的にOの保護基であれば
特に限定されず、例えば、プロテクティング・グループ
ス・イン・オーガニック・シンセシス第2版(Prot
ective Groupsin Organic S
ynthesis、2nd.Ed.)、テオドラ・ダブ
リュウ・グリーン(Theodora W.Green
e)著、ジョン・ウイリー・アンド・サンズ(JOHN
WILLY & SONS)出版、1990年の14
−118頁に記載されているように、メトキシメチル
基、tert−ブチル基、テトラヒドロピラニル基、テ
トラヒドロフラニル基、2−(トリメチルシリル)エト
キシメチル基、1−メチル−1−メトキシエチル基、1
−メチル−1−ベンジロキシエチル基、2−(トリメチ
ルシリル)エチル基、アリル基、ベンジル基、p−メト
キシベンジル基、p−ニトトロベンジル基、ジフェニル
メチル基、フェネチル基、トリフェニルメチル基、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチ
ルジメチルシリル基、 tert−ブチルジフェニルシ
リル基、アセチル基、ベンゾイル基、ピバロイル基、メ
チルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシ
カルボニル基等が挙げられる。好ましくは、例えばベン
ジル基、p−メトキシベンジル基、p−ニトトロベンジ
ル基等の置換基を有してもよいベンジル型保護基であ
る。さらに好ましくは、ベンジル基である。
【0019】次に、本発明における1−O−保護−4−
(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造方法
について説明する。即ち、3−メチルピリジンに強塩基
を作用させることにより、式(I)で表される3−メチ
ルピリジン金属塩を調製し、式(II)で表されるO−
保護グリシドールを反応させることにより、式(II
I)で表される1−O−保護−4−(3−ピリジル)−
1,2−ブタンジオールを製造する。
【0020】式(II)で表されるO−保護グリシドー
ルとしては、例えば、ベンジルグリシジルエーテル、t
ert−ブチルグリシジルエーテル、テトラヒドロピラ
ニルグリシジルエーテル、トリメチルシリルグリシジル
エーテル、tert−ブチルジメチルシリルグリシジル
エーテル、O−tert−ブチルオキシカルボニルグリ
シドール等であり、好ましくはベンジルグリシジルエー
テルである。また本発明は、光学活性なO−保護グリシ
ドールを出発原料に用いても、光学純度を低下させるこ
となく目的化合物を製造することができる。従って、よ
り好ましくは、光学活性ベンジルグリシジルエーテルで
ある。
【0021】上記強塩基としては特に限定されず、例え
ば、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブ
チルリチウム、tert−ブチルリチウム等のアルキル
リチウム類、塩化n−ブチルマグネシウム、臭化n−ブ
チルマグネシウム、塩化tert−ブチルマグネシウ
ム、ヨウ化エチルマグネシウム等のグリニャール試薬
類、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミ
ド等の金属アミド類、リチウムジイソプロピルアミド、
ジシクロヘキシルアミド等のリチウムジアルキルアミド
類、リチウムヘキサメチルジシラジド等のリチウムジシ
リルアミド類、ナトリウムジイソプロピルアミド等のナ
トリウムジアルキルアミド類、カリウムジイソプロピル
アミド等のカリウムジアルキルアミド類、又はグリニヤ
ール試薬と2級アミンから調製される塩化マグネシウム
ジイソプロピルアミド、臭化マグネシウムジイソプロピ
ルアミド、塩化マグネシウムジシクロヘキシルアミド等
のハロマグネシウムジアルキルアミド類を挙げることが
できる。好ましくは、例えばリチウムジイソプロピルア
ミド、リチウムジシクロヘキシルアミド等のリチウムジ
アルキルアミド類、リチウムヘキサメチルジシラジド等
のリチウムジシリルアミド類、又は塩化マグネシウムジ
イソプロピルアミド、臭化マグネシウムジイソプロピル
アミド、塩化マグネシウムジシクロヘキシルアミド等の
ハロマグネシウムジアルキルアミド類であり、より好ま
しくは、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシ
クロヘキシルアミド等のリチウムジアルキルアミド類、
さらに好ましくはリチウムジイソプロピルアミドであ
る。これらは単独で用いてもよく、2種以上併用しても
よい。強塩基の使用量としては、式(II)で表される
O−保護グリシドールに対して、1〜5倍モル量であ
り、好ましくは、1〜2倍モル量である。
【0022】3−メチルピリジンの使用量としては、強
塩基に対し1〜10倍モル量であり、特に1.5倍モル
量以上使用する場合、式(III)で表される1−O−
保護−4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオール
の生成収率が飛躍的に向上する。従って、より好ましく
は、強塩基に対し1.5〜5倍モル量である。
【0023】本反応は、アミン類を共存させることによ
り、目的化合物の収率を向上させることができる。この
アミン類としては特に限定されず、例えば、アンモニ
ア、又はメチルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリ
ン等の1級アミン類、又はジメチルアミン、ピペリジ
ン、 モルホリン、ジイソプロピルアミン等の2級アミ
ン類、又はN−メチルモルホリン、ピリジン、N,N,
N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン、トリエ
チルアミン、 N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジ
アザビシクロ−[5,4,0]−ウンデク−7−エン
(DBU)、N,N−ジメチルアミノピリジン等の3級
アミン類等を挙げることができる。中でも特に、N−メ
チルモルホリン、ピリジン、N,N,N’,N’,−テ
トラメチルエチレンジアミン、トリエチルアミン、
N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ−
[5,4,0]−ウンデク−7−エン(DBU)、N,
N−ジメチルアミノピリジン等の3級アミン類が収率向
上のために好ましい。さらに好ましくは、ピリジン又は
トリエチルアミンである。これらは単独で用いてもよ
く、2種以上を併用してもよい。このアミン類の使用量
としては、好ましくは、強塩基に対して1〜20倍モル
量、さらに好ましくは、1〜5倍モル量である。
【0024】本反応に用いられる反応溶媒としては特に
限定されず、例えば、ジエチルエーテル、1,2−ジメ
トキシエタン、tert−ブチルメチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶
媒、ヘキサン、ペンタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒
等、N、N−ジメチルプロピレンウレア、N,N−ジメ
チルエチレンウレア等の尿素系溶媒、ヘキサメチルリン
酸トリアミド等のリン酸アミド系溶媒を挙げることがで
きる。好ましくは、例えば、ジエチルエーテル、1,2
−ジメトキシエタン、tert−ブチルメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエー
テル系溶媒であり、さらに好ましくは、テトラヒドロフ
ランである。これらは単独で用いてもよく、2種以上を
併用してもよい。
【0025】本反応の反応温度は、好ましくは−20℃
〜80℃、さらに好ましくは−10℃〜40℃である。
本反応の試剤の添加順序については任意であるが、例え
ば、強塩基の溶液に3−メチルピリジンを加え、好まし
くは0.5〜24時間、さらに好ましくは0.5〜3時
間反応させ、アミン類を添加して、好ましくは0.5〜
24時間、さらに好ましくは0.5〜3時間攪拌し、式
(II)で表されるO−保護グリシドールを加えて、好
ましくは0.5〜24時間、さらに好ましくは0.5〜
3時間反応させることにより行うことができる。
【0026】本反応の後処理としては、反応液から生成
物を取得するための一般的な後処理を行えばよい。例え
ば、反応終了後の反応液と水を混合し、一般的な抽出溶
媒、例えば、酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチ
レン、トルエン、ヘキサン、テトラヒドロフラン等を用
いて、抽出操作を行う。得られた抽出液から、減圧加熱
等の操作により反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると、目
的物が得られる。このようにして得られる目的物は、晶
析精製、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般
的な手法により精製を行い、さらに純度を高めてもよ
い。
【0027】なお、この反応で得られる式(V)で表さ
れる1−O−ベンジル−4−(3−ピリジル)−1,2
−ブタンジオール及び(2R)−1−O−ベンジル−4
−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールは、文献
に未記載の新規化合物である。次に、式(V)で表され
る4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製
造方法について説明する。
【0028】即ち、1−O−保護−4−(3−ピリジ
ル)−1,2−ブタンジオールを、脱保護することによ
り4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールを製
造する。脱保護の方法については、保護基の種類に応じ
て、例えば、プロテクティング・グループス・イン・オ
ーガニック・シンセシス第2版(Protective
Groups in Organic Synthes
is、2nd.Ed.)、テオドラ・ダブリュウ・グリ
ーン(Theodora W.Greene)著、ジョ
ン・ウイリー・アンド・サンズ(JOHN WILLY
& SONS)出版、1990年の14−118頁に
記載されているような一般的な方法で行うことができ
る。具体的には、例えば、式(III)で表される化合
物において、Rがベンジル基である場合、パラジウム
触媒存在下、水素により脱保護させることができる。
【0029】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
【0030】実施例1:1−O−ベンジル−4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(2.794
g、30mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、ベンジルグ
リシジルエーテル(3.284g、20mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で加え、2時間
反応させた。反応液に、水20mLを加えて水解し、酢
酸エチル30mLを加えて抽出した。有機層を水20m
Lで2回洗浄し、減圧下に溶媒を留去すると、濃赤色の
油状物が6.248g得られた。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(Merck製Kieselge16
0、ヘキサン/酢酸エチル=1/2)にて精製し、1−
O−ベンジル−4−(3−ピリジル)−1、2−ブタン
ジオール(黄色油状物)を1.50g(単離収率26
%)で得た。 H−NMR(400MHz、CDCl)δ:1.6
3−1.83(m、2H)、2.53−2.92(m、
2H)、3.38(dd、1H)、3.49(dd、1
H)、3.80(m、1H)、4.57(s、2H)、
7.21(m、1H)、7.25−7.40(m、5
H)、7.53(d、1H)、8.43(m、1H)、
8.47(s、1H)
【0031】実施例2:1−O−ベンジル−4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(4.191
g、45mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、ベンジルグ
リシジルエーテル(3.284g、20mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で加え、2時間
反応させた。反応液に、水20mLを加えて水解し、酢
酸エチル30mLを加えて抽出した。有機層を水20m
Lで2回洗浄し、減圧下に溶媒を留去すると、黄色の油
状物が7.189g得られた。この油状物を、高速液体
クロマトグラフィー(カラム:ナカライテスク社製コス
モシル5CN−R(4.6mm×250mm)、溶離
液:アセトニトリル/リン酸バッファー(pH=2.
4)=1/100、流速:0.5mL/min.、検
出:UV210nm、カラム温度:40℃)で定量分析
した結果、1−O−ベンジル−4−(3−ピリジル)−
1、2−ブタンジオールの生成収率は73%であった。
【0032】実施例3:1−O−ベンジル−4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(5.588
g、60mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、ベンジルグ
リシジルエーテル(3.284g、20mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で加え、2時間
反応させた。反応液に、水20mLを加えて水解し、酢
酸エチル30mLを加えて抽出した。有機層を水20m
Lで2回洗浄し、減圧下に溶媒を留去すると、黄色の油
状物が8.587g得られた。この油状物を、高速液体
クロマトグラフィー(カラム:ナカライテスク社製コス
モシル5CN−R(4.6mm×250mm)、溶離
液:アセトニトリル/リン酸バッファー(pH=2.
4)=1/100、流速:0.5mL/min.、検
出:UV210nm、カラム温度:40℃)で定量分析
した結果、1−O−ベンジル−4−(3−ピリジル)−
1、2−ブタンジオールの生成収率は93%であった。
【0033】実施例4:1−O−ベンジル−4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(2.794
g、30mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、ピリジン
(2.370g、30mmol)を加え、さらに5℃、
30分攪拌した。ここに、ベンジルグリシジルエーテル
(3.284g、20mmol)のテトラヒドロフラン
(5mL)溶液を5℃で加え、2時間反応させた。反応
液に、水20mLを加えて水解し、酢酸エチル30mL
を加えて抽出した。有機層を水20mLで2回洗浄し、
減圧下に溶媒を留去すると、黄色の油状物が8.100
g得られた。この油状物を、高速液体クロマトグラフィ
ー(カラム:ナカライテスク社製コスモシル5CN−R
(4.6mm×250mm)、溶離液:アセトニトリル
/リン酸バッファー(pH=2.4)=1/100、流
速:0.5mL/min.、検出:UV210nm、カ
ラム温度:40℃)で定量分析した結果、1−O−ベン
ジル−4−(3−ピリジル)−1、2−ブタンジオール
の製造の生成収率は59%であった。
【0034】実施例5:1−O−ベンジル−4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(2.794
g、30mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、N,N,
N,N−テトラメチルエチレンジアミン(2.794
g、30mmol)を加え、さらに5℃、30分攪拌し
た。ここに、ベンジルグリシジルエーテル(3.284
g、20mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で加え、2時間反応させた。反応液に、水20
mLを加えて水解し、酢酸エチル30mLを加えて抽出
した。有機層を水20mLで2回洗浄し、減圧下に溶媒
を留去すると、黄色の油状物が7.512g得られた。
この油状物を、高速液体クロマトグラフィー(カラム:
ナカライテスク社製コスモシル5CN−R(4.6mm
×250mm)、溶離液:アセトニトリル/リン酸バッ
ファー(pH=2.4)=1/100、流速:0.5m
L/min.、検出:UV210nm、カラム温度:4
0℃)で定量分析した結果、1−O−ベンジル−4−
(3−ピリジル)−1、2−ブタンジオールの生成収率
42%であった。
【0035】実施例6:1−O−ベンジル−4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(2.794
g、30mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、トリエチル
アミン(3.040g、30mmol)を加え、さらに
5℃、30分攪拌した。ここに、ベンジルグリシジルエ
ーテル(3.284g、20mmol)のテトラヒドロ
フラン(5mL)溶液を5℃で加え、2時間反応させ
た。反応液に、水20mLを加えて水解し、酢酸エチル
30mLを加えて抽出した。有機層を水20mLで2回
洗浄し、減圧下に溶媒を留去すると、黄色の油状物が
7.266g得られた。この油状物を、高速液体クロマ
トグラフィー(カラム:ナカライテスク社製コスモシル
5CN−R(4.6mm×250mm)、溶離液:アセ
トニトリル/リン酸バッファー(pH=2.4)=1/
100、流速:0.5mL/min.、検出:UV21
0nm、カラム温度:40℃)で定量分析した結果、1
−O−ベンジル−4−(3−ピリジル)−1、2−ブタ
ンジオールの製造の生成収率55%であった。
【0036】実施例7:1−O−ベンジル−4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(2.794
g、30mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、1,8−ジ
アザビシクロ−[5,4,0]−ウンデク−7−エン
(DBU)(4.56g、30mmol)を加え、さら
に5℃、30分攪拌した。ここに、ベンジルグリシジル
エーテル(3.284g、20mmol)のテトラヒド
ロフラン(5mL)溶液を5℃で加え、2時間反応させ
た。反応液に、水20mLを加えて水解し、酢酸エチル
30mLを加えて抽出した。有機層を水20mLで2回
洗浄し、減圧下に溶媒を留去すると、黄色の油状物が
7.266g得られた。この油状物を、高速液体クロマ
トグラフィー(カラム:ナカライテスク社製コスモシル
5CN−R(4.6mm×250mm)、溶離液:アセ
トニトリル/リン酸バッファー(pH=2.4)=1/
100、流速:0.5mL/min.、検出:UV21
0nm、カラム温度:40℃)で定量分析した結果、1
−O−ベンジル−4−(3−ピリジル)−1、2−ブタ
ンジオールの製造の生成収率52%であった。
【0037】実施例8:1−O−ベンジル−4−(3−
ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(2.794
g、30mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、N,N−ジ
メチルアニリン(3.64g、30mmol)を加え、
さらに5℃、30分攪拌した。ここに、ベンジルグリシ
ジルエーテル(3.284g、20mmol)のテトラ
ヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で加え、2時間反応
させた。反応液に、水20mLを加えて水解し、酢酸エ
チル30mLを加えて抽出した。有機層を水20mLで
2回洗浄し、減圧下に溶媒を留去すると、黄色の油状物
が7.266g得られた。この油状物を、高速液体クロ
マトグラフィー(カラム:ナカライテスク社製コスモシ
ル5CN−R(4.6mm×250mm)、溶離液:ア
セトニトリル/リン酸バッファー(pH=2.4)=1
/100、流速:0.5mL/min.、検出:UV2
10nm、カラム温度:40℃)で定量分析した結果、
1−O−ベンジル−4−(3−ピリジル)−1、2−ブ
タンジオールの製造の生成収率42%であった。
【0038】実施例9:(2R)−1−O−ベンジル−
4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、147mL、225mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(25.04g、247.5mmo
l)のテトラヒドロフラン(30mL)溶液を10℃で
滴下し、30分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン
(41.85g、300mmol)のテトラヒドロフラ
ン(30mL)溶液を5℃で滴下し、30分攪拌した。
次に、(R)−ベンジルグリシジルエーテル(25.1
1g、150mmol、98.8%ee)のテトラヒド
ロフラン(30mL)溶液を10℃,30分で滴下し、
5℃、1.5時間後反応させた。反応液に、水225m
Lを加えて水解し、酢酸エチル225mLを加えて抽出
した。有機層を水100mLで2回洗浄し、減圧下に溶
媒を留去すると、黄色の油状物が74.00g得られ
た。この油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(Merck製Kieselge160、ヘキサン/酢
酸エチル=1/2)にて精製し、(2R)−1−O−ベ
ンジル−4−(3−ピリジル)−1、2−ブタンジオー
ル(黄色油状物)を35.15g(純度91.1wt
%、単離収率83%)で得た。
【0039】実施例10:(2R)−4−(3−ピリジ
ル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、10%パラジウム活性炭素
(1.0g)にMeOH(70mL)を加えた。ここ
に、実施例9にて製造した(2R)−1−O−ベンジル
−4−(3−ピリジル)−1、2−ブタンジオール(2
8.25g、100mmol)、硫酸19.6g(20
0mmol)を加えた。減圧脱気後、水素雰囲気下とし
た後、3気圧まで加圧、室温、16時間攪拌した。濾過
により、パラジウム活性炭素を除去し、減圧下に溶媒を
留去すると淡黄色の油状物が得られた。この油状物に、
飽和重曹水を加えて中和し、減圧下に濃縮、残査を酢エ
チ(200mL)で2回抽出し、有機層を合わせて無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過した後、減圧下に
溶媒を留去、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー( Merck製Kieselge16
0、MeOH/酢酸エチル=1/9)にて精製し、(2
R)−4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオール
(黄色油状物)10.52g(単離収率63%)を得
た。 H−NMR(400MHz、CDCl)δ:1.6
5−1.88(m、2H)、2.63−2.78(m、
2H)、2.79−2.95(m、2H)、3.50
(dd、1H)、3.62−3.73(m、2H)、
7.22(dd、1H)、7.54(d、1H)、8.
38−8.50(m、2H)
【0040】実施例11:1−O−tert−ブチル−
4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、19.6mL、30mmol)に、ジ
イソプロピルアミン(3.34g、33mmol)のテ
トラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で滴下し、30
分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン(5.588
g、60mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶
液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次に、tert−
ブチルグリシジルエーテル(2.60g、20mmo
l)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で加
え、2時間反応させた。反応液に、水20mLを加えて
水解し、酢酸エチル30mLを加えて抽出した。有機層
を水20mLで2回洗浄し、減圧下に溶媒を留去する
と、濃赤色の油状物が9.375g得られた。シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(Merck製Kiese
lge160、ヘキサン/酢酸エチル=1/2)にて精
製し、1−O−tert−ブチル−4−(3−ピリジ
ル)−1、2−ブタンジオール(黄色油状物)を3.4
73g(単離収率78%)で得た。 H−NMR(400MHz、CDCl)δ:1.1
9(s、9H)、1.69−1.81(m、2H)、
2.58(bs、1H)、2.67−2.75(m、1
H)、2.81−2.88(m、1H)、3.20(d
d、1H)、3.37(dd、1H)、3.67−3.
71(bs、1H)、7.20−7.27(m、1
H),7.52−7.55(m、1H)、8.43−
8.48(m、2H)
【0041】実施例12:1−O−(tert−ブチル
ジメチルシリル)−4−(3−ピリジル)−1,2−ブ
タンジオールの製造 アルゴンガス雰囲気下、n−ブチルリチウム(1.53
Mヘキサン溶液、14.71mL、22.5mmol)
に、ジイソプロピルアミン(2.51g、24.75m
mol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液を5℃で
滴下し、30分攪拌した。ここに、3−メチルピリジン
(4.19g、45mmol)のテトラヒドロフラン
(5mL)溶液を5℃で滴下し、30分攪拌した。次
に、tert−ブチルジメチルシリルグリシジルエーテ
ル(2.82g、15mmol)のテトラヒドロフラン
(5mL)溶液を5℃で加え、2時間反応させた。反応
液に、水20mLを加えて水解し、酢酸エチル30mL
を加えて抽出した。有機層を水20mLで2回洗浄し、
減圧下に溶媒を留去すると、濃赤色の油状物が6.16
4g得られた。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(Merck製Kieselge160、ヘキサン/酢
酸エチル=1/2)にて精製し、1−O−(tert−
ブチルジメチルシリル)−4−(3−ピリジル)−1、
2−ブタンジオール(黄色油状物)を2.39g(単離
収率66%)で得た。 H−NMR(400MHz、CDCl)δ:0.0
7(s、6H)、0.90(s、9H)、1.65−
1.98(m、2H)、2.63−2.74(m、3
H)、3.36−3.57(m、3H)、7.19−
7.22(m、1H)、7.50−7.55(m、1
H)、8.43−8.44(m、2H)
【0042】
【発明の効果】本発明は、上述の構成よりなるもので、
医薬品中間体、特にトリプターゼ阻害剤中間体として有
用な4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオール
を、安価で入手容易な原料から製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C055 AA01 BA01 CA02 CA16 CB04 DA01 FA03 FA32 FA37 FA42 4H006 AA02 AC81 4H049 VN01 VP01 VQ59 VR22 VR41 VS57 VT49 VU36 VW01

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】3−メチルピリジンに強塩基を作用させる
    ことにより調製される下記式(I); 【化1】 (式中、Mは、リチウム、ナトリウム、カリウム、又は
    マグネシウムハライドを表し、ハライドはクロライド又
    はブロマイドを表す。)で表される3−メチルピリジン
    金属塩と下記式(II); 【化2】 (式中、R1は、Oの保護基を表す)で表されるO−保
    護グリシドールを反応させることにより、下記式(II
    I); 【化3】 で表される1−O−保護−4−(3−ピリジル)−1,
    2−ブタンジオールとし、更に脱保護することを特徴と
    する下記式(IV) 【化4】 で表される4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオ
    ールの製造法。
  2. 【請求項2】R1がエーテル型保護基、又はシリル保護
    基である請求項1記載の製造法。
  3. 【請求項3】R1がベンジル基である請求項1又は2記
    載の製造法。
  4. 【請求項4】強塩基がリチウムジアルキルアミド、リチ
    ウムジシリルアミド又はハロマグネシウムジアルキルア
    ミドである請求項1〜3記載の製造法。
  5. 【請求項5】強塩基がリチウムジアルキルアミドである
    請求項1〜4記載の製造法。
  6. 【請求項6】強塩基がリチウムジイソプロピルアミドで
    ある請求項1〜5記載の製造法。
  7. 【請求項7】3−メチルピリジンを強塩基に対して過剰
    モル量用いる請求項1〜6記載の製造法。
  8. 【請求項8】3−メチルピリジンを強塩基に対して1.
    5倍モル量以上用いる請求項1〜7記載の製造法。
  9. 【請求項9】有機アミンの共存下に反応を行う請求項1
    〜8記載の製造法。
  10. 【請求項10】有機アミンが3級アミンである請求項9
    記載の製造法。
  11. 【請求項11】3級アミンがピリジン又はトリエチルア
    ミンである請求項10記載の製造法。
  12. 【請求項12】3−メチルピリジンを強塩基に対し当量
    以上用い、有機アミンを強塩基に対し当量以上用いる請
    求項1〜6、及び9〜11記載の製造法。
  13. 【請求項13】反応温度が−20℃以上である請求項1
    〜12記載の製造法。
  14. 【請求項14】式(II)の化合物が光学活性な(R)−
    ベンジルグリシジルエーテルであり、式(IV)の化合
    物が光学活性な(2R)−4−(3−ピリジル)−1,
    2−ブタンジオールである請求項1〜13記載の製造
    法。
  15. 【請求項15】3−メチルピリジンに強塩基を作用させ
    ることにより調製される下記式(I); 【化5】 (式中、Mは、リチウム、ナトリウム、カリウム、又は
    マグネシウムハライドを表し、ハライドはクロライド又
    はブロマイドを表す。)で表される3−メチルピリジン
    金属塩と下記式(II); 【化6】 (式中、R1は、Oの保護基を表す)で表されるO−保
    護グリシドールを反応させることによる、下記式(II
    I); 【化7】 で表される1−O−保護−4−(3−ピリジル)−1,
    2−ブタンジオールの製造法。
  16. 【請求項16】R1がエーテル型保護基、又はシリル保
    護基である請求項15記載の製造法。
  17. 【請求項17】R1がベンジル基である請求項15又は
    16記載の製造法。
  18. 【請求項18】強塩基がリチウムジアルキルアミド、リ
    チウムジシリルアミド又はハロマグネシウムジアルキル
    アミドである請求項15〜17記載の製造法。
  19. 【請求項19】強塩基がリチウムジアルキルアミドであ
    る請求項15〜18記載の製造法。
  20. 【請求項20】強塩基がリチウムジイソプロピルアミド
    である請求項15〜19記載の製造法。
  21. 【請求項21】3−メチルピリジンを強塩基に対して過
    剰モル量用いる請求項15〜20記載の製造法。
  22. 【請求項22】3−メチルピリジンを強塩基に対して
    1.5倍モル量以上用いる請求項15〜21記載の製造
    法。
  23. 【請求項23】有機アミンの共存下に反応を行う請求項
    15〜22記載の製造法。
  24. 【請求項24】有機アミンが3級アミン類である請求項
    23記載の製造法。
  25. 【請求項25】3級アミンがピリジン又はトリエチルア
    ミンである請求項24記載の製造法。
  26. 【請求項26】3−メチルピリジンを強塩基に対し当量
    以上用い、有機アミンを強塩基に対し当量以上用いる請
    求項15〜20、及び23〜25記載の製造法。
  27. 【請求項27】反応温度が−20℃以上である請求項1
    5〜26記載の製造法。
  28. 【請求項28】式(II)の化合物が光学活性な(R)−
    ベンジルグリシジルエーテルであり、式(III)の化
    合物が光学活性な(2R)−1−O−ベンジル−4−
    (3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールである請求
    項15〜27記載の製造法。
  29. 【請求項29】下記式(V) 【化8】 で表される1−O−ベンジル−4−(3−ピリジル)−
    1,2−ブタンジオール。
  30. 【請求項30】式(V)で表される化合物が光学活性
    (2R)−1−O−ベンジル−4− (3−ピリジル)
    −1,2−ブタンジオールである請求項29記載の化合
    物。
JP11218650A 1999-08-02 1999-08-02 4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造法 Pending JP2001039951A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11218650A JP2001039951A (ja) 1999-08-02 1999-08-02 4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造法
CA002314458A CA2314458A1 (en) 1999-08-02 2000-07-21 Process for production of 3-(3-pyridyl)-1-propanol derivatives
DE60004747T DE60004747T2 (de) 1999-08-02 2000-07-31 Verfahren zur Herstellung von 3-(3-Pyridyl)-1-Propanol Derivaten
EP00402196A EP1074544B1 (en) 1999-08-02 2000-07-31 Process for production of 3-(3-pyridyl)-1-propanol derivatives
AT00402196T ATE248149T1 (de) 1999-08-02 2000-07-31 Verfahren zur herstellung von 3-(3-pyridyl)-1- propanol derivaten
US09/631,678 US6388086B1 (en) 1999-08-02 2000-08-02 Process for production of 3-(3-pyridyl)-1-propanol derivatives

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11218650A JP2001039951A (ja) 1999-08-02 1999-08-02 4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001039951A true JP2001039951A (ja) 2001-02-13

Family

ID=16723282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11218650A Pending JP2001039951A (ja) 1999-08-02 1999-08-02 4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001039951A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010100629A (ja) プロスタグランジン誘導体の製造方法及びその出発物質
JP5301676B2 (ja) (3s,4s)−4−((r)−2−(ベンジルオキシ)トリデシル)−3−ヘキシル−2−オキセタノンの製造方法及びそれに用いられる新規な中間体
WO2008040669A2 (en) Novel intermediates for the preparation of a glyt1 inhibitor
JP2001039951A (ja) 4−(3−ピリジル)−1,2−ブタンジオールの製造法
JP2003221369A (ja) スフィンゴシンの合成方法
JP2710688B2 (ja) 4―ブロモ―3―ヒドロキシ酪酸エステル誘導体の製造法
JP2667135B2 (ja) ジイソピノカンフェイルクロロボランのインシトゥー製造
JPS5936914B2 (ja) セフアロスポリン類縁体
JP2001048863A (ja) 3−(3−ピリジル)−1−プロパノール誘導体の製造法
JP2003146957A (ja) バリオールアミン製造法およびその中間体
JPH0558638B2 (ja)
KR100502833B1 (ko) 심바스타틴 및 이의 중간체 화합물들의 개선된 제조방법
JP2805155B2 (ja) オキサゾリジン―2―オン誘導体の製造法
JPH11279104A (ja) 芳香族アルデヒドの製造法
JP2517743B2 (ja) 光学活性アルコ―ルの製造法
JP4729752B2 (ja) アセタールの選択的脱保護法
JP3794093B2 (ja) 光学活性オキサゾリジノン類及びその製造法
JP2831358B2 (ja) trans−又はcis−構造のヘミカロン酸アルデヒト誘導体のエナンチオ選択的製造法
JP2743198B2 (ja) シクロペンタン類
JP2652248B2 (ja) アルコキシニトリル化合物の製法
JP2002308864A (ja) 5−プロパルギルフルフリルアルコールの製造法
JP2737214B2 (ja) 4―ヒドロキシ―2―シクロペンテノン誘導体の製造法
KR20050071800A (ko) 아마이드 유도체의 새로운 제조방법
JP2652047B2 (ja) 4−ベンゾイルオキシ−3−ヒドロキシエチルアゼチジン−2−オン誘導体の製造方法
JP3050104B2 (ja) 1−ブチン−3,4−ジオールの新規な製造法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040318