JP5301676B2 - （３ｓ，４ｓ）−４−（（ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンの製造方法及びそれに用いられる新規な中間体 - Google Patents
（３ｓ，４ｓ）−４−（（ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンの製造方法及びそれに用いられる新規な中間体 Download PDFInfo
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Description
本発明は（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンの製造方法及びそれに用いられる新規な中間体に関する。
下記式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンはテトラヒドロリプスタチン（オルリスタット）の合成に用いられる中間体として知られている（米国特許第５，２４５，０５６ 号、 米国特許第５，３９９，７２０号、及び文献［Mark A. Schwindt. et. al., Org. Process Research, Dec. 2007, 524］）。
下記式ＩＶの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシルテトラヒドロピラン−２−オンは、光学的に純粋な式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンまたは容易に脱保護化できるアルキル保護基を有するその誘導体の製造において鍵出発物質として用いられてきた。
このような製造過程は米国特許第５，２４５，０５６号に開示された通りであり、反応式Ｉに示されたような段階を含む：
前記のように、式ＩＶの化合物のヒドロキシ基を保護するためにテトラヒドロピラニル基を導入することで式Ｖの化合物を製造する。次いで、前記式Ｖの化合物を加水分解することにより式ＶＩの化合物を得、これをベンジル化試薬と反応させて式ＶＩＩの化合物を得る。式ＶＩＩの化合物を酸を用いて脱保護反応を行った後、製造された化合物を光学分割することで光学的に純粋な式ＩＩの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸を製造する。最後に、式ＩＩの化合物の環化反応を行うことによって式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンを製造する。
しかし、この方法は複雑な反応段階を用いて低い収率を示すという問題を有する。
また、他の方法として、韓国特許第１９１，３６５号には式ＩＶの化合物を出発物質として下記式ＩＩの化合物を製造する方法が開示されており、これは下記反応式ＩＩに示した通りである：
前記方法は式ＩＶの化合物にベンゾイル基を導入してヒドロキシ基を保護することによって式ＶＩＩＩの化合物を製造し、式ＶＩＩＩの化合物を加水分解して式ＩＸの化合物を製造し、製造された化合物をベンジル化反応を行うことによって式Ｘの化合物を製造した後、式Ｘの化合物を加水分解することで式ＩＩの化合物を製造する段階を含む。前記方法も収率が低い。
しかし、この方法は式ＩＶのヒドロキシ基の保護化及び置換基の脱保護化を行わなければならず；５位のヒドロキシ基に隣接した立体的に大きなベンゾイル基を含む式ＶＩＩＩの化合物の構造によって立体障害効果が生じ、強いベンジル化反応条件が必要となり；全収率も４１．２％と低いという問題を有する。
米国特許第５，３９９，７２０号では式ＩＶの化合物を出発物質として用いて下記式ＩＩａの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−ヒドロキシヘキサデカン酸ベンジルアミン塩を製造する方法を開示しており、これは下記反応式ＩＩＩに示した通りである：
しかし、この方法も強いベンジル化反応条件が必要となり、ベンジル化反応後にも脱保護及び加水分解段階を経なければならないため、全収率（４３％）が低いという問題点を有する。
本発明者らは前記従来の製造方法の問題点を解決すべく鋭意努力した結果、式ＩＶの化合物のヒドロキシ基を保護せずに加水分解して製造された化合物を選択的にベンジル化及び環化反応させることによって目的化合物を高収率及び高純度で製造できることを見出した。
本発明者らは前記従来の製造方法の問題点を解決すべく鋭意努力した結果、式ＩＶの化合物のヒドロキシ基を保護せずに加水分解して製造された化合物を選択的にベンジル化及び環化反応させることによって目的化合物を高収率及び高純度で製造できることを見出した。
Mark A. Schwindt. et. al.,Org. Process Research, Dec. 2007, 524
したがって、本発明の目的は新規な中間体を用いた式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンの改善された製造方法を提供することである。
本発明は、
１）下記式ＩＶの化合物を溶媒中で金属水酸化物と反応させて下記式ＩＩＩの化合物を製造する段階；
２）式ＩＩＩの化合物を溶媒中で塩基の存在下でベンジル化試薬と反応させて下記式ＩＩの化合物を製造する段階；及び
３）式ＩＩの化合物を環化反応させて下記式Ｉの化合物を製造する段階
を含む、式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンを高純度及び高収率で製造する方法を提供する：
１）下記式ＩＶの化合物を溶媒中で金属水酸化物と反応させて下記式ＩＩＩの化合物を製造する段階；
２）式ＩＩＩの化合物を溶媒中で塩基の存在下でベンジル化試薬と反応させて下記式ＩＩの化合物を製造する段階；及び
３）式ＩＩの化合物を環化反応させて下記式Ｉの化合物を製造する段階
を含む、式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンを高純度及び高収率で製造する方法を提供する：
前記式中、
Ｍはナトリウム、カリウムまたはリチウムである。
Ｍはナトリウム、カリウムまたはリチウムである。
本発明の他の目的によれば、本発明は前記製造方法に中間体として有効な（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−２−ヘキシル−３，５−ヒドロキシヘキサデカン酸金属塩を提供する。
本発明の式ＩＩＩの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−２−ヘキシル−３，５−ヒドロキシヘキサデカン酸金属塩を中間体として用いれば、（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンを高収率及び高純度で製造することができる。
本発明による式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンは下記反応式ＩＶに示される合成経路によって製造することができる：
前記式中、
Ｍはナトリウム、カリウムまたはリチウムである。
Ｍはナトリウム、カリウムまたはリチウムである。
前記反応式ＩＶに示されたように、本発明の方法を段階別により具体的に説明すれば次の通りである。
段階１
式ＩＶの（３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシルテトラヒドロピラン−２−オンは韓国特許公開公報第２００９−００４４８１７号に記載された方法によって製造できる。反応式ＩＶの段階１では、式ＩＶの化合物を溶媒中で水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは水酸化リチウムのような金属水酸化物と反応させて加水分解することにより（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−２−ヘキシル−３，５−ジヒドロキシヘキサデカン酸金属塩（式ＩＩＩ）を製造することができる。
式ＩＶの（３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシルテトラヒドロピラン−２−オンは韓国特許公開公報第２００９−００４４８１７号に記載された方法によって製造できる。反応式ＩＶの段階１では、式ＩＶの化合物を溶媒中で水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは水酸化リチウムのような金属水酸化物と反応させて加水分解することにより（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−２−ヘキシル−３，５−ジヒドロキシヘキサデカン酸金属塩（式ＩＩＩ）を製造することができる。
前記反応で用いられる溶媒としてはジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、アセトニトリル、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン及びその混合物からなる群から選ばれた非プロトン性溶媒、または前記非プロトン性溶媒と水の混合溶媒が挙げられる。
前記水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムのような金属水酸化物はカルシウムまたはマグネシウムの塩の形態に変換することができる。前記金属水酸化物は式ＩＶの化合物に対して１〜５０モル当量、好ましくは１〜３モル当量、より好ましくは１．０５〜１．２モル当量の量で用いることができる。
段階１の反応は０℃〜溶媒の沸点、好ましくは３０℃〜８０℃の温度で行う。
前記過程を経て得た式ＩＩＩの化合物は追加精製過程なしに下記段階２で直接用いられ得、式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンの製造に有効な中間体として用いることができる。
段階２
段階２では、前記段階１で得た式ＩＩＩの化合物を保護基の導入なしに溶媒中で塩基の存在下でベンジル化反応させて、５位に選択的にベンジル基が導入された式ＩＩの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸を製造することができる。
段階２では、前記段階１で得た式ＩＩＩの化合物を保護基の導入なしに溶媒中で塩基の存在下でベンジル化反応させて、５位に選択的にベンジル基が導入された式ＩＩの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸を製造することができる。
前記反応で用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、アセトニトリル、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムイミド、ジメチルスルホキシド及びその混合物からなる群から選ばれた非プロトン性溶媒、または前記非プロトン性溶媒と水の混合溶媒が挙げられる。前記反応で用いられる好ましい溶媒はテトラヒドロフラン、メチルｔ−ブチルエーテルまたは１，２−ジメトキシエタンである。
一方、前記反応で用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リチウムｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドまたはカリウムｔ−ブトキシドが挙げられ、式ＩＩＩの化合物に対して１〜５モル当量、好ましくは１〜３モル当量、より好ましくは１．０５〜２．０モル当量の量で用いることができる。
前記ベンジル化反応で用いられるベンジル化試薬としては、塩化ベンジル、臭化ベンジル及びヨウ化ベンジルのような選択的に置換されたハロゲン化ベンジルが挙げられ、反応性を考慮すれば、臭化ベンジルが好ましい。前記ベンジル化試薬は式ＩＩＩの化合物に対して１〜５モル当量、好ましくは１〜３モル当量、より好ましくは１．０５〜２．０モル当量の量で用いることができる。
段階２の反応は０℃〜溶媒の沸点、好ましくは１０℃〜１００℃の温度で行うことができる。この時、反応速度を増加させるためにヨウ化テトラブチルアンモニウムのような添加剤を使用してもよい。
また、式ＩＩの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸を精製し結晶として容易に得るためにアミン塩基を添加することにより（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸をそのアミン塩に変換することができる。
段階３
段階３では、式ＩＩの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸を環化試薬と反応させて環化反応を行うことによって式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンを製造することができる。前記５位に保護基を有する３−ヒドロキシヘキサデカン酸は、米国特許第４，９８３，７４６号及び第５，２４５，０５６号に開示されたようにピリジン中でベンゼンスルホニルクロリドを用いてオキセタノンに変換することができる。
段階３では、式ＩＩの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸を環化試薬と反応させて環化反応を行うことによって式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンを製造することができる。前記５位に保護基を有する３−ヒドロキシヘキサデカン酸は、米国特許第４，９８３，７４６号及び第５，２４５，０５６号に開示されたようにピリジン中でベンゼンスルホニルクロリドを用いてオキセタノンに変換することができる。
前記３つの段階を経て製造された式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンは追加的な脱ベンジル化反応を行って（３Ｓ，４Ｓ）−３−ヘキシル−４−（（Ｒ）−２−ヒドロキシトリデシル）−２−オキセタノンを製造しオルリスタットの製造に利用することができる。
以下、本発明を下記実施例によってさらに詳細に説明する。但し、本発明は下記特定の実施例にのみ制限されない。
実施例１：（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３，５−ジヒドロキシ−２−ヘキシル−ヘキサデカン酸ナトリウム（式ＩＩＩの化合物）の製造−（１）
（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシルテトラヒドロピラン−２−オン２５．５ｇをメチルｔ−ブチルエーテル１７８．５ｍＬの中に溶解させ、２Ｎ水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）溶液９０ｍＬを添加した後、混合液の温度を５０℃に維持しながら３時間攪拌した。次いで、相分離が起こるまで反応液を放置させた後、その水溶液層を除去し残りの有機層を塩水１００ｍＬで２回洗浄した。得られた有機溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させて濾過した後、減圧蒸留して溶媒を除去し、オイル状の標題化合物２８．４ｇ（収率：１００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ，３００ＭＨｚ（ＣＤ３ＯＤ，ｐｐｍ）：δ０．８９（ｄｄ，６Ｈ，Ｊ＝５．８，１．２Ｈｚ），１．２４〜１．８０（ｍ，３２Ｈ），２．１０ ２．４９（ｍ，２Ｈ），３．７２〜３．８７（ｍ，１Ｈ）
実施例２：（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸のメチルベンジルアミン塩（式ＩＩの化合物）の製造−（１）
実施例２：（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸のメチルベンジルアミン塩（式ＩＩの化合物）の製造−（１）
前記実施例１で得た（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３，５−ジヒドロキシ−２−ヘキシル−ヘキサデカン酸ナトリウム９８ｍＬをテトラヒドロフラン９８ｍＬとメチルｔ−ブチルエーテル３２８ｍＬに溶解させた。反応液を０℃に冷却した後、水素化ナトリウム７．１９ｇと臭化ベンジル３０．７ｇを順次添加した。次いで、反応液の温度を６０℃に上げて５日間還流させた（段階（ａ））。反応液を室温に冷却してから、ｐＨを１に調節した後、室温で３時間攪拌した。その後、反応液のｐＨを４に調節してから、相分離が起こるまで放置した。水溶液層を除去し残りの有機層を塩水１２０ｍＬで２回洗浄した。前記で得た有機溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、減圧蒸留して溶媒を除去した。酢酸メチル４３８ｍＬを添加し混合液を攪拌しながら（Ｓ）−α−メチルベンジルアミン８．７ｇを徐々に添加した。３時間攪拌した後、混合液を５℃に冷却し、さらに１時間攪拌した（段階（ｂ））。生成された固体を乾燥濾過し、白色固体の標題化合物３１．１ｇ（収率：７４％）を得た。
ｍ．ｐ．１０４−１０６℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：０．８５−０．９１（ｍ，６Ｈ），１．２４（ｍ，２６Ｈ），１．５４（ｄ，３Ｈ），１．７１−１．３９（ｍ，６Ｈ），２．０９−２．１６（ｍ，１Ｈ），３．７０−３．７２（ｍ，１Ｈ），３．８５−３．９０（ｍ，１Ｈ），４．１８（ｑ，１Ｈ），４．５２（ｄ，２Ｈ），６．１０（ｂｓ，５．０），７．３６−７．２２（ｍ，１０Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：０．８５−０．９１（ｍ，６Ｈ），１．２４（ｍ，２６Ｈ），１．５４（ｄ，３Ｈ），１．７１−１．３９（ｍ，６Ｈ），２．０９−２．１６（ｍ，１Ｈ），３．７０−３．７２（ｍ，１Ｈ），３．８５−３．９０（ｍ，１Ｈ），４．１８（ｑ，１Ｈ），４．５２（ｄ，２Ｈ），６．１０（ｂｓ，５．０），７．３６−７．２２（ｍ，１０Ｈ）。
実施例３：（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３，５−ジヒドロキシ−２−ヘキシル−ヘキサデカン酸ナトリウム（式ＩＩＩの化合物）の製造−（２）
（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシルテトラヒドロピラン−２−オン３００ｇをメチルｔ−ブチルエーテル１．８Ｌに溶解させた。２ＮＮａＯＨ溶液９Ｌを添加した後、反応液の温度を徐々に上げて反応液から水溶液層を分離除去した。残りの反応液から有機層を分離した後、飽和塩水４５０ｍＬで洗浄し、減圧下で溶媒を除去した。残渣にトルエン９００ｍＬを添加した後、減圧下で共沸蒸留させて溶媒及び水を除去した。残渣にヘプタン１．８Ｌとメチルｔ−ブチルエーテル１．８Ｌを添加して反応液の温度を４０℃に上げた。次いで、反応液を室温で冷却しメタノール５０ｍＬを添加した。結晶が析出し始めれば、反応液を２時間室温で攪拌した。それから、反応液を１０℃に冷却させて３０分間攪拌した。その後、反応液を濾過し熱風乾燥して標題化合物５３４ｇ（収率：９６％）を得た。
（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシルテトラヒドロピラン−２−オン３００ｇをメチルｔ−ブチルエーテル１．８Ｌに溶解させた。２ＮＮａＯＨ溶液９Ｌを添加した後、反応液の温度を徐々に上げて反応液から水溶液層を分離除去した。残りの反応液から有機層を分離した後、飽和塩水４５０ｍＬで洗浄し、減圧下で溶媒を除去した。残渣にトルエン９００ｍＬを添加した後、減圧下で共沸蒸留させて溶媒及び水を除去した。残渣にヘプタン１．８Ｌとメチルｔ−ブチルエーテル１．８Ｌを添加して反応液の温度を４０℃に上げた。次いで、反応液を室温で冷却しメタノール５０ｍＬを添加した。結晶が析出し始めれば、反応液を２時間室温で攪拌した。それから、反応液を１０℃に冷却させて３０分間攪拌した。その後、反応液を濾過し熱風乾燥して標題化合物５３４ｇ（収率：９６％）を得た。
示差走査熱量計（ＤＳＣ）：１０９．２９−１１７．３０℃
１Ｈ−ＮＭＲ，３００ＭＨｚ（ＣＤ３ＯＤ，ｐｐｍ）：δ０．８９（ｄｄ，６Ｈ，Ｊ＝５．８，１．２Ｈｚ），１．２４〜１．８０（ｍ，３２Ｈ），２．１０ ２．４９（ｍ，２Ｈ），３．７２〜３．８７（ｍ，１Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ，３００ＭＨｚ（ＣＤ３ＯＤ，ｐｐｍ）：δ０．８９（ｄｄ，６Ｈ，Ｊ＝５．８，１．２Ｈｚ），１．２４〜１．８０（ｍ，３２Ｈ），２．１０ ２．４９（ｍ，２Ｈ），３．７２〜３．８７（ｍ，１Ｈ）。
実施例４：（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸のメチルベンジルアミン塩（式ＩＩの化合物）の製造−（２）
前記実施例３で得た（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３，５−ジヒドロキシ−２−ヘキシル−ヘキサデカン酸ナトリウム３００ｇをトルエン４０５ｍＬとジメチルスルホキシド４５ｍＬの混合溶媒に溶解させた。前記反応液を５℃に冷却した後、５５％水素化ナトリウム４９．８ｇ（１．５当量）を添加し同一温度で３０分間攪拌した。次いで、臭化ベンジル３２５ｇを反応液に添加した。反応液の温度を１５℃に調節し、１８時間攪拌した。その後、実施例２の段階（ｂ）と同一反応を行い、前記反応から生成された固体を濾過乾燥して白色固体の標題化合物３３２．９ｇ（収率：７５％）を得た。
実施例２と同じ分析結果を得た。
前記実施例３で得た（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３，５−ジヒドロキシ−２−ヘキシル−ヘキサデカン酸ナトリウム３００ｇをトルエン４０５ｍＬとジメチルスルホキシド４５ｍＬの混合溶媒に溶解させた。前記反応液を５℃に冷却した後、５５％水素化ナトリウム４９．８ｇ（１．５当量）を添加し同一温度で３０分間攪拌した。次いで、臭化ベンジル３２５ｇを反応液に添加した。反応液の温度を１５℃に調節し、１８時間攪拌した。その後、実施例２の段階（ｂ）と同一反応を行い、前記反応から生成された固体を濾過乾燥して白色固体の標題化合物３３２．９ｇ（収率：７５％）を得た。
実施例２と同じ分析結果を得た。
実施例５：（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸のメチルベンジルアミン塩（式ＩＩの化合物）の製造−（３）
前記実施例３で得た（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３，５−ジヒドロキシ−２−ヘキシル−ヘキサデカン酸ナトリウム１００ｇをトルエン１．５Ｌに溶解させた。前記反応液に臭化ベンジル１０８．４ｇ及びカリウムｔ−ブトキシド４８．３ｇを順次添加した。次いで、反応液の温度を徐々に６０℃〜７５℃に上げて１２時間加熱した。その後、実施例２の段階（ｂ）と同一反応を行い、前記反応から生成された固体を濾過乾燥して白色固体の標題化合物１０６ｇ（収率：７２％）を得た。
実施例２と同じ分析結果を得た。
前記実施例３で得た（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３，５−ジヒドロキシ−２−ヘキシル−ヘキサデカン酸ナトリウム１００ｇをトルエン１．５Ｌに溶解させた。前記反応液に臭化ベンジル１０８．４ｇ及びカリウムｔ−ブトキシド４８．３ｇを順次添加した。次いで、反応液の温度を徐々に６０℃〜７５℃に上げて１２時間加熱した。その後、実施例２の段階（ｂ）と同一反応を行い、前記反応から生成された固体を濾過乾燥して白色固体の標題化合物１０６ｇ（収率：７２％）を得た。
実施例２と同じ分析結果を得た。
実施例６：（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノン（式Ｉの化合物）の製造
前記実施例４で得た（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−５−ベンジルオキシ−２−ヘキシル−３−ヒドロキシヘキサデカン酸のメチルベンジルアミン塩３３０ｇをヘキサン１．６５Ｌと２Ｎ塩酸水溶液１．６５Ｌの混合溶媒に溶解させた。２時間攪拌した後、水溶液層を除去し残りの有機層を蒸留水１．６５Ｌで２回洗浄した。前記で得た有機溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過した後、減圧蒸留した。次いで、ピリジン２．６１Ｌを添加した後、反応液を０℃に冷却させて攪拌した。ベンゼンスルホニルクロリド１．４４Ｌを２時間に亘って徐々に添加した後、同一温度で２０時間さらに攪拌した。蒸留水２．６１Ｌとヘキサン２．６１Ｌを添加し反応液を強く攪拌した。その後、相分離が起こるまで反応液を放置し、反応液から水溶液層を除去した。前記で得た有機溶液を２Ｎ塩酸２．６１Ｌで２回洗浄し、さらに蒸留水２．６１Ｌで洗浄した。前記で得た有機溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、減圧下で溶媒を除去し白色固体の標題化合物２７０．１ｇ（収率：１０１．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：０．８０ ０．９５（ｍ，６Ｈ），１．１５−１．８５（ｍ，３０Ｈ），１．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝Ｈｚ），３．１５−３．２６（ｍ，１Ｈ），３．５５−３．６５（ｍ，１Ｈ），４．３５−４．６３（ｍ，３Ｈ），７．２５−７．４０（ｍ，５Ｈ）。
参考例１：（３Ｓ，４Ｓ）−３−ヘキシル−４−（（Ｒ）−２−ヒドロキシトリデシル）−２−オキセタノンの製造
前記実施例６で得た（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノン２７０ｇを酢酸エチル１．８９Ｌに溶解させた。５％Ｐｄ／Ｃ（パラジウム／カーボン）１９ｇを添加し、水素圧力を６バールに上げながら、反応液を３時間攪拌した。パラジウム（Ｐｄ）をセライト（登録商標）濾過により除去し減圧下で溶媒を除去した。ヘキサン２．１５Ｌを添加した後、反応液の温度を４０℃まで上げて前記で得た固体を溶かした。次いで、反応液を室温に冷却し、約２０℃で反応液で結晶が生成されることを確認した。８時間攪拌した後、反応液を５℃に冷却させて２時間攪拌してから濾過し、白色固体の標題化合物１６６．３ｇ（収率：８３％）を得た。
ｍ．ｐ．６０−６１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：４．５４−４．４４（ｍ，１Ｈ），３．８７−３．７４（ｍ，１Ｈ），３．３−３．１６（ｍ，１Ｈ），１．９５−１．１２（ｍ，３２Ｈ），０．８８（ｔ−ｌｉｋｅ，６Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：４．５４−４．４４（ｍ，１Ｈ），３．８７−３．７４（ｍ，１Ｈ），３．３−３．１６（ｍ，１Ｈ），１．９５−１．１２（ｍ，３２Ｈ），０．８８（ｔ−ｌｉｋｅ，６Ｈ）。
参考例２：オルリスタットの合成
前記参考例１で得た（３Ｓ，４Ｓ）−３−ヘキシル−４−（（Ｒ）−２−ヒドロキシトリデシル）−２−オキセタノン１６６ｇをテトラヒドロフラン８３０ｍＬに溶解させた。トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）１６０ｇとＮ−ホルミル−Ｌ−ロイシン８６ｇを添加した後、反応液を０℃に冷却させた。これにアゾジカルボン酸ジイソプロピル（ＤＩＡＤ）１２０ｍＬをテトラヒドロフラン３３２ｍＬで希釈した混合溶液を約１．５時間に亘って徐々に滴加した。さらに約３０分間攪拌した後、反応液の温度を徐々に上げながら４時間攪拌した。溶媒を除去した後、ヘキサン８３２ｍＬを添加して５時間攪拌した。生成された固体を濾過して除去し、ヘキサン層を５５％メタノール／蒸留水４９９ｍＬで３回洗浄した。残りの有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥してから濾過し、減圧下で蒸留して溶媒を除去した。これにヘキサン２．５Ｌを添加して反応液を１０℃に冷却し、オルリスタット固体を少量添加した後、１時間攪拌した。反応液を０℃まで徐々に冷却し一晩攪拌した。生成された固体を濾過し、冷ヘキサン５００ｍＬで洗浄してから乾燥し、白色の標題化合物１９２．５ｇ（収率：８３％）を得た。
ｍ．ｐ．４２．４−４４．５
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：８．２２（ｓ，１Ｈ），５．９９（ｄ，１Ｈ），５．０６−４．９８（ｍ，１Ｈ），４．７７−４．６０（ｍ，１Ｈ），４．３２−４．２２（ｍ，１Ｈ），３．２７−３．１６（ｍ，１Ｈ），２．２８−１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９０−１．１５（ｍ，３０Ｈ），１．０３−０．８２（ｍ，１２Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：８．２２（ｓ，１Ｈ），５．９９（ｄ，１Ｈ），５．０６−４．９８（ｍ，１Ｈ），４．７７−４．６０（ｍ，１Ｈ），４．３２−４．２２（ｍ，１Ｈ），３．２７−３．１６（ｍ，１Ｈ），２．２８−１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９０−１．１５（ｍ，３０Ｈ），１．０３−０．８２（ｍ，１２Ｈ）。
以上、本発明は特定実施態様に関連付けて説明したが、添付した特許請求の範囲によって定義される本発明の範囲内で当該分野の熟練者は本発明を多様に変形及び変化させることができる。
Claims (11)
- １）下記式ＩＶの化合物を溶媒中で金属水酸化物と反応させて下記式ＩＩＩの化合物を製造する段階；
２）式ＩＩＩの化合物を溶媒中で塩基の存在下でベンジル化試薬と反応させて下記式ＩＩの化合物を製造する段階；及び
３）式ＩＩの化合物を環化反応させて下記式Ｉの化合物を製造する段階
を含む、式Ｉの（３Ｓ，４Ｓ）−４−（（Ｒ）−２−（ベンジルオキシ）トリデシル）−３−ヘキシル−２−オキセタノンの製造方法：
Ｍはナトリウム、カリウムまたはリチウムである。 - 前記段階１）で用いられる溶媒がジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、アセトニトリル、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン及びその混合物からなる群から選ばれた非プロトン性溶媒、または前記非プロトン性溶媒と水の混合溶媒である、請求項１に記載の製造方法。
- 前記段階１）において金属水酸化物が式ＩＶの化合物に対して１〜５０モル当量の量で用いられる、請求項１に記載の製造方法。
- 前記段階２）で用いられる溶媒がテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、アセトニトリル、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムイミド、ジメチルスルホキシド及びその混合物からなる群から選ばれた非プロトン性溶媒、または前記非プロトン性溶媒と水の混合溶媒である、請求項１に記載の製造方法。
- 前記段階２）で用いられる塩基が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リチウムｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、及びカリウムｔ−ブトキシドからなる群から選ばれる、請求項１に記載の製造方法。
- 前記塩基が式ＩＩＩの化合物に対して１〜５モル当量の量で用いられる、請求項５に記載の製造方法。
- 前記段階２）で用いられるベンジル化試薬が塩化ベンジル、臭化ベンジル、及びヨウ化ベンジルからなる群から選ばれたハロゲン化ベンジルである、請求項１に記載の製造方法。
- 前記段階２）においてベンジル化試薬が式ＩＩＩの化合物に対して１〜５モル当量の量で用いられる、請求項１に記載の製造方法。
- 下記式ＩＩＩの化合物：
Ｍはナトリウム、カリウムまたはリチウムである。 - 下記式ＩＶの（３Ｓ，４Ｓ，６Ｒ）−３−ヘキシル−４−ヒドロキシ−６−ウンデシルテトラヒドロピラン−２−オンを溶媒中で金属水酸化物と反応させて下記式ＩＩＩの化合物を製造する方法：
Ｍはナトリウム、カリウムまたはリチウムである。 - 下記式ＩＩＩの（２Ｓ，３Ｓ，５Ｒ）−３，５−ジヒドロキシ−２−ヘキシル−ヘキサデカン酸金属塩を溶媒中で塩基の存在下でベンジル化試薬と反応させて下記式ＩＩの化合物を製造する方法：
Ｍはナトリウム、カリウムまたはリチウムである。
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